JP2001200374A - 金属表面の反応性保持方法 - Google Patents
金属表面の反応性保持方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属表面が酸化されるのを防ぎ、金属表面の
反応性を長期間保持させることを図る。 【解決手段】 トリアジントリチオール金属塩をマイナ
スに帯電可能な反応化合物である１，１０−ジアミノデ
カンをエタノール溶液とし、トリアジントリチオール金
属塩を、１，１０−ジアミノデカンのエタノール溶液に
浸漬させてトリアジントリチオール金属塩に１，１０−
ジアミノデカンを反応させたので、金属表面はマイナス
に帯電され、酸化を抑制し反応性を保持する。
反応性を長期間保持させることを図る。 【解決手段】 トリアジントリチオール金属塩をマイナ
スに帯電可能な反応化合物である１，１０−ジアミノデ
カンをエタノール溶液とし、トリアジントリチオール金
属塩を、１，１０−ジアミノデカンのエタノール溶液に
浸漬させてトリアジントリチオール金属塩に１，１０−
ジアミノデカンを反応させたので、金属表面はマイナス
に帯電され、酸化を抑制し反応性を保持する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属表面の反応性
保持方法に関し、詳しくは、トリアジン処理がなされた
金属表面の反応性を維持させる金属表面の反応性保持方
法に関する。
保持方法に関し、詳しくは、トリアジン処理がなされた
金属表面の反応性を維持させる金属表面の反応性保持方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属表面に反応性を与えるための
方法として、洗浄した金属を１，３，５−トリアジン−
２，４，６−トリチオンのモノ、ジまたはトリアルカリ
金属塩溶液に浸漬処理する方法、または、該金属を１，
３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオンのモノ、
ジまたはトリアミン塩溶液に浸漬処理する方法が知られ
ている。この方法によれば、金属表面の反応性が向上さ
れ、金属表面にトリアジントリチオール金属塩の皮膜が
形成される。反応性が向上された金属表面には、形成さ
れた皮膜を介して種々の樹脂等を結合させることができ
る。
方法として、洗浄した金属を１，３，５−トリアジン−
２，４，６−トリチオンのモノ、ジまたはトリアルカリ
金属塩溶液に浸漬処理する方法、または、該金属を１，
３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオンのモノ、
ジまたはトリアミン塩溶液に浸漬処理する方法が知られ
ている。この方法によれば、金属表面の反応性が向上さ
れ、金属表面にトリアジントリチオール金属塩の皮膜が
形成される。反応性が向上された金属表面には、形成さ
れた皮膜を介して種々の樹脂等を結合させることができ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の方法
では、浸漬処理後、時間と共に金属表面における反応性
が失活していき、そのため、浸漬処理した金属を早急に
利用しなければならず、長期間保存することが困難にな
っているという問題があった。その理由としては、例え
ば、図６に示すように、金属として銅の表面に１，３，
５−トリアジン−２，４，６−トリチオンのモノナトリ
ウム塩を作用させた金属表面の場合で説明すると、浸漬
処理後空気中において時間と共に、金属表面が酸素や炭
酸ガスにより酸化が進むことに起因するものと考えられ
る。
では、浸漬処理後、時間と共に金属表面における反応性
が失活していき、そのため、浸漬処理した金属を早急に
利用しなければならず、長期間保存することが困難にな
っているという問題があった。その理由としては、例え
ば、図６に示すように、金属として銅の表面に１，３，
５−トリアジン−２，４，６−トリチオンのモノナトリ
ウム塩を作用させた金属表面の場合で説明すると、浸漬
処理後空気中において時間と共に、金属表面が酸素や炭
酸ガスにより酸化が進むことに起因するものと考えられ
る。
【０００４】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、金属表面の反応性を長期間保持させる金属
表面の反応性保持方法を提供することを目的とする。
れたもので、金属表面の反応性を長期間保持させる金属
表面の反応性保持方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るための本発明の技術的手段は、金属表面に皮膜として
形成された当該金属のトリアジントリチオール金属塩の
反応性を保持する金属表面の反応性保持方法において、
トリアジントリチオール金属塩をマイナスに帯電可能な
反応化合物をトリアジントリチオール金属塩に反応若し
くは吸着させた方法とした。また、必要に応じ、反応化
合物は、下記に示される化合物とした。 一般式 ＮＨＲ2 −Ｒ1 −ＮＨＲ3 ．．．（１） ( 式中、Ｒ1 は、置換または無置換のフェニレン基、キ
シリレン基、アゾ基、アゾ基を有する有機基、２価のベ
ンゾフェノン残基、２価のフェニルエーテル残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、エステ
ル残基、または、カルボニル基を表す。また、Ｒ2 、Ｒ
3 は、水素またはアルキル基を表し、それぞれ同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。)で示される化合
物とした。 一般式 Ｒ4 −ＮＨ2 ．．．（２） ( 式中、Ｒ4 は、フェニル基、ビフェニリル基、置換ま
たは無置換のベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベン
ゾイルフェニル基、置換または無置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アセタール残基、ピリジル基、アルコ
キシカルボニル基、または、アルデヒド基を有する有機
基を表す。)で示される化合物とした。
るための本発明の技術的手段は、金属表面に皮膜として
形成された当該金属のトリアジントリチオール金属塩の
反応性を保持する金属表面の反応性保持方法において、
トリアジントリチオール金属塩をマイナスに帯電可能な
反応化合物をトリアジントリチオール金属塩に反応若し
くは吸着させた方法とした。また、必要に応じ、反応化
合物は、下記に示される化合物とした。 一般式 ＮＨＲ2 −Ｒ1 −ＮＨＲ3 ．．．（１） ( 式中、Ｒ1 は、置換または無置換のフェニレン基、キ
シリレン基、アゾ基、アゾ基を有する有機基、２価のベ
ンゾフェノン残基、２価のフェニルエーテル残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、エステ
ル残基、または、カルボニル基を表す。また、Ｒ2 、Ｒ
3 は、水素またはアルキル基を表し、それぞれ同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。)で示される化合
物とした。 一般式 Ｒ4 −ＮＨ2 ．．．（２） ( 式中、Ｒ4 は、フェニル基、ビフェニリル基、置換ま
たは無置換のベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベン
ゾイルフェニル基、置換または無置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アセタール残基、ピリジル基、アルコ
キシカルボニル基、または、アルデヒド基を有する有機
基を表す。)で示される化合物とした。
【０００６】一般式 Ｒ5 −ＮＨ−Ｒ6 ．．．（３） ( 式中、Ｒ5 、Ｒ6 は、フェニル基、アゾ基を有する有
機基、ベンゾイルフェニル基、アルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ベンジル
基、または、不飽和基を表し、それぞれ同一であっても
よいし、異なっていてもよい。)で示される化合物とし
た。 一般式
機基、ベンゾイルフェニル基、アルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ベンジル
基、または、不飽和基を表し、それぞれ同一であっても
よいし、異なっていてもよい。)で示される化合物とし
た。 一般式
【０００７】
【化５】
【０００８】（式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 は、フェニル
基、ベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベンゾイルフ
ェニル基、置換または無置換のアルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ニトロソ
基を表し、それぞれ同一であってもよいし、異なってい
てもよい。)で示される化合物とした。
基、ベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベンゾイルフ
ェニル基、置換または無置換のアルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ニトロソ
基を表し、それぞれ同一であってもよいし、異なってい
てもよい。)で示される化合物とした。
【０００９】一般式 ＯＨ−Ｒ10−ＯＨ ．．．（５） ( 式中、Ｒ10は、置換または無置換のフェニレン基、ア
ゾ基を有する有機基、２価のベンゾフェノン残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、また
は、アルコキシカルボニル基を表す。)で示される化合
物とした。 一般式 Ｒ11−Ｘ1 −Ｒ12 ．．．（６） （式中、Ｒ11、Ｒ12は、不飽和基を表し、それぞれ同一
であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｘ1
は、２価のマレイン酸残基、２価のフタル酸残基、また
は、２価のアジピン酸残基を表す。)で示される化合物
とした。
ゾ基を有する有機基、２価のベンゾフェノン残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、また
は、アルコキシカルボニル基を表す。)で示される化合
物とした。 一般式 Ｒ11−Ｘ1 −Ｒ12 ．．．（６） （式中、Ｒ11、Ｒ12は、不飽和基を表し、それぞれ同一
であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｘ1
は、２価のマレイン酸残基、２価のフタル酸残基、また
は、２価のアジピン酸残基を表す。)で示される化合物
とした。
【００１０】一般式 Ｒ13−Ｘ2 ．．．（７） （式中、Ｒ13は不飽和基を表わし、Ｘ2 は置換または無
置換のフェニル基、アルキル基、アミノ酸残基、水酸基
を有する有機基、シアヌル酸残基、またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。）で示される化合物とした。 一般式 Ｒ14−Ｎ＝ＣＯ ．．．（８） （式中、Ｒ14は置換または無置換のフェニル基、ナフチ
ル基、置換または無置換のアルキル基、ベンジル基、ピ
リジル基、または、アルコキシカルボニル基を示す。）
で示される化合物とした。 一般式 Ｒ15−Ｘ3 ．．．（９） （式中、Ｒ15はフェニル基、置換または無置換のアルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、またはビニ
ル基、Ｘ3 はアクリル酸残基を示す。）で示される化合
物とした。一般式
置換のフェニル基、アルキル基、アミノ酸残基、水酸基
を有する有機基、シアヌル酸残基、またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。）で示される化合物とした。 一般式 Ｒ14−Ｎ＝ＣＯ ．．．（８） （式中、Ｒ14は置換または無置換のフェニル基、ナフチ
ル基、置換または無置換のアルキル基、ベンジル基、ピ
リジル基、または、アルコキシカルボニル基を示す。）
で示される化合物とした。 一般式 Ｒ15−Ｘ3 ．．．（９） （式中、Ｒ15はフェニル基、置換または無置換のアルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、またはビニ
ル基、Ｘ3 はアクリル酸残基を示す。）で示される化合
物とした。一般式
【００１１】
【化６】
【００１２】（式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 は、Ｈ、Ｌｉ、
ＮａまたはＫを表し、それぞれ同一であってもよく、異
なっていてもよい。) 、一般式
ＮａまたはＫを表し、それぞれ同一であってもよく、異
なっていてもよい。) 、一般式
【００１３】
【化７】
【００１４】（式中、Ａ4 、Ａ5 は、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａま
たはＫを表し、それぞれ同一であってもよく、異なって
いてもよい。）、または、一般式
たはＫを表し、それぞれ同一であってもよく、異なって
いてもよい。）、または、一般式
【００１５】
【化８】
【００１６】（式中、Ａ6 は、Ｈ、Ｌｉ、ＮａまたはＫ
を表し、それぞれ同一であってもよく、異なっていても
よい。）で表されるトリアジン化合物と反応または吸着
可能なカルボニル基を有する化合物とした。ビニル基含
有化合物とした。エポキシ基含有化合物とした。シラン
系カップリング剤とした。チタネート系カップリング剤
とした。アルミニウム系カップリング剤とした。これら
化合物は、電子リッチであるために反応若しくは吸着し
た後もマイナスに帯電する性質を有している。そのた
め、化合物が反応若しくは吸着したトリアジントリチオ
ール金属塩の皮膜はプラスに帯電され、金属表面はマイ
ナスに帯電すると推察される。
を表し、それぞれ同一であってもよく、異なっていても
よい。）で表されるトリアジン化合物と反応または吸着
可能なカルボニル基を有する化合物とした。ビニル基含
有化合物とした。エポキシ基含有化合物とした。シラン
系カップリング剤とした。チタネート系カップリング剤
とした。アルミニウム系カップリング剤とした。これら
化合物は、電子リッチであるために反応若しくは吸着し
た後もマイナスに帯電する性質を有している。そのた
め、化合物が反応若しくは吸着したトリアジントリチオ
ール金属塩の皮膜はプラスに帯電され、金属表面はマイ
ナスに帯電すると推察される。
【００１７】更に、必要に応じ、トリアジントリチオー
ル金属塩を１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリ
チオールアルカリ塩を用いて生成した。硫黄が局在しな
い１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール
アルカリ塩を用いたので、反応若しくは吸着する化合物
の反応基を容易に銅表面に表出させることができ、反応
性度合いを向上している。更にまた、必要に応じ、１，
３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールアルカ
リ塩は、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチ
オールナトリウム塩とした。アルカリ金属であるナトリ
ウムは、入手容易であり、安定な塩を形成する。また、
上記トリアジントリチオール金属塩を１，３，５−トリ
アジン−２，４，６−トリチオールアミン塩を用いて生
成した。硫黄が局在しない１，３，５−トリアジン−
２，４，６−トリチオールアミン塩を用いたので、反応
若しくは吸着する化合物の反応基を容易に銅表面に表出
させることができ、反応性度合いを向上している。更
に、上記１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチ
オールアミン塩は、１，３，５−トリアジン−２，４，
６−トリチオールエタノールアミン塩とした。アミンで
あるエタノールアミンは、入手容易であり、安定な塩を
形成する。また、必要に応じ、上記トリアジントリチオ
ール金属塩が形成された金属を、上記反応化合物の溶液
に浸漬し、上記トリアジントリチオール金属塩に上記反
応化合物を反応若しくは吸着させた。特別な機材を必要
としないので、反応若しくは吸着処理を容易にすること
ができる。
ル金属塩を１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリ
チオールアルカリ塩を用いて生成した。硫黄が局在しな
い１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオール
アルカリ塩を用いたので、反応若しくは吸着する化合物
の反応基を容易に銅表面に表出させることができ、反応
性度合いを向上している。更にまた、必要に応じ、１，
３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールアルカ
リ塩は、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチ
オールナトリウム塩とした。アルカリ金属であるナトリ
ウムは、入手容易であり、安定な塩を形成する。また、
上記トリアジントリチオール金属塩を１，３，５−トリ
アジン−２，４，６−トリチオールアミン塩を用いて生
成した。硫黄が局在しない１，３，５−トリアジン−
２，４，６−トリチオールアミン塩を用いたので、反応
若しくは吸着する化合物の反応基を容易に銅表面に表出
させることができ、反応性度合いを向上している。更
に、上記１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチ
オールアミン塩は、１，３，５−トリアジン−２，４，
６−トリチオールエタノールアミン塩とした。アミンで
あるエタノールアミンは、入手容易であり、安定な塩を
形成する。また、必要に応じ、上記トリアジントリチオ
ール金属塩が形成された金属を、上記反応化合物の溶液
に浸漬し、上記トリアジントリチオール金属塩に上記反
応化合物を反応若しくは吸着させた。特別な機材を必要
としないので、反応若しくは吸着処理を容易にすること
ができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
金属表面の反応性保持方法を説明する。金属表面の反応
性保持方法は、前処理として、金属表面の洗浄処理及び
トリアジントリチオン塩溶液の調整を行なう。用いる金
属としては、純銅，脱酸素銅，リン青銅，黄銅等の銅系
金属、キュプロニッケル，ニッケル等のニッケル系金属
が挙げられ、表面の酸化物層が薄いもの程好ましく用い
られる。ここでは純銅板を用いた。 （金属表面の洗浄処理）銅板（３０ｍｍ×５０ｍｍ×
０．２ｍｍ）をアセトンにて脱脂した後、１％濃度の塩
酸で銅板表面を洗浄し、メタノールで洗浄乾燥させた。
得られた銅板は、以下の実施例及び比較例で共通に用い
た。
金属表面の反応性保持方法を説明する。金属表面の反応
性保持方法は、前処理として、金属表面の洗浄処理及び
トリアジントリチオン塩溶液の調整を行なう。用いる金
属としては、純銅，脱酸素銅，リン青銅，黄銅等の銅系
金属、キュプロニッケル，ニッケル等のニッケル系金属
が挙げられ、表面の酸化物層が薄いもの程好ましく用い
られる。ここでは純銅板を用いた。 （金属表面の洗浄処理）銅板（３０ｍｍ×５０ｍｍ×
０．２ｍｍ）をアセトンにて脱脂した後、１％濃度の塩
酸で銅板表面を洗浄し、メタノールで洗浄乾燥させた。
得られた銅板は、以下の実施例及び比較例で共通に用い
た。
【００１９】（トリアジントリチオン塩溶液の調整）ト
リアジントリチオン塩溶液は、トリアジントリチオンと
水酸化アルカリ金属またはアルカリ金属ボロンハイドラ
イドとを水または有機溶媒に溶解して、または、トリア
ジントリチオンとアミンとを水または有機溶媒に溶解し
て調整する。ここでは、トリアジントリチオンとして、
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオンを用
いた。また、水酸化アルカリ金属またはアルカリ金属ボ
ロンハイドライドのアルカリ金属としては、Ｌｉ，Ｎ
ａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｆｒが挙げられるが、ここでは入
手容易で安定した塩を形成するＮａを用いた。また、ア
ミンとしては、モノエタノールアミン，ジエタノールア
ミン，トリエタノールアミン，メチルヒドラジン，ヒド
ロジン等のトリアジントリチオンを溶解するものが挙げ
られる。
リアジントリチオン塩溶液は、トリアジントリチオンと
水酸化アルカリ金属またはアルカリ金属ボロンハイドラ
イドとを水または有機溶媒に溶解して、または、トリア
ジントリチオンとアミンとを水または有機溶媒に溶解し
て調整する。ここでは、トリアジントリチオンとして、
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオンを用
いた。また、水酸化アルカリ金属またはアルカリ金属ボ
ロンハイドライドのアルカリ金属としては、Ｌｉ，Ｎ
ａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｆｒが挙げられるが、ここでは入
手容易で安定した塩を形成するＮａを用いた。また、ア
ミンとしては、モノエタノールアミン，ジエタノールア
ミン，トリエタノールアミン，メチルヒドラジン，ヒド
ロジン等のトリアジントリチオンを溶解するものが挙げ
られる。
【００２０】ここで用いるトリアジントリチオン塩溶液
の具体的な調整方法は、以下のようである。 （トリアジントリチオンと水酸化アルカリ金属またはア
ルカリ金属ボロンハイドライドを用いた場合）水酸化ナ
トリウム０．１ｍｏｌを２００ｍｌのメタノールに溶解
し、更に１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチ
オン０．１ｍｏｌを添加し、４０℃で撹拌して溶解しモ
ノナトリウム塩溶液を得た。得られたモノナトリウム塩
溶液からメタノールを除去して得られる固形物を、ジエ
チルエーテルで洗浄，乾燥することにより高純度のモノ
ナトリウム塩を得た。得られたモノナトリウム塩を水ま
たは有機溶媒に溶解し、所定濃度のトリアジントリチオ
ン塩溶液を調整した。なお、上記調整方法において、水
酸化ナトリウムの使用量を２倍または３倍にすれば、ジ
ナトリウム塩またはトリナトリウム塩によるトリアジン
トリチオン塩溶液を得ることができる。得られるナトリ
ウム塩は、
の具体的な調整方法は、以下のようである。 （トリアジントリチオンと水酸化アルカリ金属またはア
ルカリ金属ボロンハイドライドを用いた場合）水酸化ナ
トリウム０．１ｍｏｌを２００ｍｌのメタノールに溶解
し、更に１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチ
オン０．１ｍｏｌを添加し、４０℃で撹拌して溶解しモ
ノナトリウム塩溶液を得た。得られたモノナトリウム塩
溶液からメタノールを除去して得られる固形物を、ジエ
チルエーテルで洗浄，乾燥することにより高純度のモノ
ナトリウム塩を得た。得られたモノナトリウム塩を水ま
たは有機溶媒に溶解し、所定濃度のトリアジントリチオ
ン塩溶液を調整した。なお、上記調整方法において、水
酸化ナトリウムの使用量を２倍または３倍にすれば、ジ
ナトリウム塩またはトリナトリウム塩によるトリアジン
トリチオン塩溶液を得ることができる。得られるナトリ
ウム塩は、
【００２１】
【化９】
【００２２】である。左から、モノナトリウム塩，ジナ
トリウム塩，トリナトリウム塩を示す。 （トリアジントリチオンとアミンを用いた場合）モノエ
タノールアミン０．１ｍｏｌを２００ｍｌのメタノール
に溶解し、更に１，３，５−トリアジン−２，４，６−
トリチオン０．１ｍｏｌを添加し、４０℃で撹拌して溶
解しモノエタノールアミン塩溶液を得た。得られたモノ
エタノールアミン塩溶液からメタノールを除去して得ら
れる固形物を、ジエチルエーテルで洗浄，乾燥すること
により高純度のモノエタノールアミン塩を得た。得られ
たモノエタノールアミン塩を水または有機溶媒に溶解
し、所定濃度のトリアジントリチオン塩溶液を調整し
た。なお、上記調整方法において、モノエタノールアミ
ンの使用量を２倍または３倍にすれば、ジエタノールア
ミン塩またはトリエタノールアミン塩によるトリアジン
トリチオン塩溶液を得ることができる。 （トリアジントリチオール金属塩の生成）トリアジント
リチオール金属塩は、洗浄した金属をトリアジントリチ
オン塩溶液に浸漬することによって得ることができる。
その際の条件は、反応温度，反応時間，溶液濃度等に応
じて定められるが、一般的な処理条件として、溶液濃度
を０．００１ｍｍｏｌ／Ｌ〜１０ｍｍｏｌ／Ｌ、反応温
度を１０℃〜９０℃、反応時間を１秒〜１２０分として
いる。図５には、１，３，５−トリアジン−２，４，６
−トリチオンモノナトリウム塩が銅表面に結合して皮膜
を形成する状態が示されている。銅表面の反応性の度合
いに応じて、硫黄と銅とは酸化還元反応により結合して
いる。
トリウム塩，トリナトリウム塩を示す。 （トリアジントリチオンとアミンを用いた場合）モノエ
タノールアミン０．１ｍｏｌを２００ｍｌのメタノール
に溶解し、更に１，３，５−トリアジン−２，４，６−
トリチオン０．１ｍｏｌを添加し、４０℃で撹拌して溶
解しモノエタノールアミン塩溶液を得た。得られたモノ
エタノールアミン塩溶液からメタノールを除去して得ら
れる固形物を、ジエチルエーテルで洗浄，乾燥すること
により高純度のモノエタノールアミン塩を得た。得られ
たモノエタノールアミン塩を水または有機溶媒に溶解
し、所定濃度のトリアジントリチオン塩溶液を調整し
た。なお、上記調整方法において、モノエタノールアミ
ンの使用量を２倍または３倍にすれば、ジエタノールア
ミン塩またはトリエタノールアミン塩によるトリアジン
トリチオン塩溶液を得ることができる。 （トリアジントリチオール金属塩の生成）トリアジント
リチオール金属塩は、洗浄した金属をトリアジントリチ
オン塩溶液に浸漬することによって得ることができる。
その際の条件は、反応温度，反応時間，溶液濃度等に応
じて定められるが、一般的な処理条件として、溶液濃度
を０．００１ｍｍｏｌ／Ｌ〜１０ｍｍｏｌ／Ｌ、反応温
度を１０℃〜９０℃、反応時間を１秒〜１２０分として
いる。図５には、１，３，５−トリアジン−２，４，６
−トリチオンモノナトリウム塩が銅表面に結合して皮膜
を形成する状態が示されている。銅表面の反応性の度合
いに応じて、硫黄と銅とは酸化還元反応により結合して
いる。
【００２３】（金属表面の反応性保持処理）金属表面
は、マイナスに帯電可能な反応化合物である、一般式
（１）〜（１０）で示される化合物，ビニル基含有化合
物，エポキシ基含有化合物，シラン系カップリング剤，
チタネート系カップリング剤，またはアルミニウム系カ
ップリング剤の１または２以上をトリアジントリチオー
ル金属塩に吸着若しくは反応させることにより反応性が
保持される。トリアジントリチオール金属塩に１または
２以上反応若しくは吸着させる反応化合物としては、以
下に示すものが挙げられる。 一般式 ＮＨＲ2 −Ｒ1 −ＮＨＲ3 ．．．（１） ( 式中、Ｒ1 は、置換または無置換のフェニレン基、キ
シリレン基、アゾ基、アゾ基を有する有機基、２価のベ
ンゾフェノン残基、２価のフェニルエーテル残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、エステ
ル残基、または、カルボニル基を表す。また、Ｒ2 、Ｒ
3 は、水素またはアルキル基を表し、それぞれ同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。) で示される反応
化合物であり、具体例としては、ジアミノベンゼン、ジ
アミノアゾベンゼン、ジアミノ安息香酸、ジアミノベン
ゾフェノン、ヘキサメチレンジアミン、フェニレンジア
ミン、キシリレンジアミン、１，２−ジアミノエタン、
１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、
１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノペンタ
ン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナ
ン、１，１０−ジアミノデカン、１，１２−ジアミノド
デカン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ジアミノジ
フェニルエーテル、Ｎ，Ｎ’−ジメチルテトラメチレン
ジアミン、ジアミノピリジン、ジエチレントリアミン、
トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、
ｍ−ヘキサメチレン−トリアミン、エポメート、ベンジ
ジン、３，３−ジメチル−４，４−ジアミノ−ジシクロ
ヘキシルメタン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルホン、メタアミノベンジルアミン等が挙
げられる。
は、マイナスに帯電可能な反応化合物である、一般式
（１）〜（１０）で示される化合物，ビニル基含有化合
物，エポキシ基含有化合物，シラン系カップリング剤，
チタネート系カップリング剤，またはアルミニウム系カ
ップリング剤の１または２以上をトリアジントリチオー
ル金属塩に吸着若しくは反応させることにより反応性が
保持される。トリアジントリチオール金属塩に１または
２以上反応若しくは吸着させる反応化合物としては、以
下に示すものが挙げられる。 一般式 ＮＨＲ2 −Ｒ1 −ＮＨＲ3 ．．．（１） ( 式中、Ｒ1 は、置換または無置換のフェニレン基、キ
シリレン基、アゾ基、アゾ基を有する有機基、２価のベ
ンゾフェノン残基、２価のフェニルエーテル残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、エステ
ル残基、または、カルボニル基を表す。また、Ｒ2 、Ｒ
3 は、水素またはアルキル基を表し、それぞれ同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。) で示される反応
化合物であり、具体例としては、ジアミノベンゼン、ジ
アミノアゾベンゼン、ジアミノ安息香酸、ジアミノベン
ゾフェノン、ヘキサメチレンジアミン、フェニレンジア
ミン、キシリレンジアミン、１，２−ジアミノエタン、
１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、
１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノペンタ
ン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナ
ン、１，１０−ジアミノデカン、１，１２−ジアミノド
デカン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ジアミノジ
フェニルエーテル、Ｎ，Ｎ’−ジメチルテトラメチレン
ジアミン、ジアミノピリジン、ジエチレントリアミン、
トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、
ｍ−ヘキサメチレン−トリアミン、エポメート、ベンジ
ジン、３，３−ジメチル−４，４−ジアミノ−ジシクロ
ヘキシルメタン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルホン、メタアミノベンジルアミン等が挙
げられる。
【００２４】一般式 Ｒ4 −ＮＨ2 ．．．（２） ( 式中、Ｒ4 は、フェニル基、ビフェニリル基、置換ま
たは無置換のベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベン
ゾイルフェニル基、置換または無置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アセタール残基、ピリジル基、アルコ
キシカルボニル基、または、アルデヒド基を有する有機
基を表す。) で示される反応化合物であり、具体例とし
ては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、
ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オク
チルアミン、ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウ
ンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−ヘプチルア
ミン、ｎ−ノニルアミン、ステアリルアミン、シクロプ
ロピルアミン、シクロヘキシルアミン、ｏ−アミノジフ
ェニル、１−メチルプロピルアミン、２−メチルブチル
アミン、２−エチルヘキシルアミン、２−フェニルエチ
ルアミン、ベンジルアミン、ｏ−メトキシベンジルアミ
ン、２−アミノエタノール、アミノアセトアルデヒドジ
メチルアセタール、アミノアセトアルデヒドジエチルア
セタール、アミノフェノール等が挙げられる。
たは無置換のベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベン
ゾイルフェニル基、置換または無置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アセタール残基、ピリジル基、アルコ
キシカルボニル基、または、アルデヒド基を有する有機
基を表す。) で示される反応化合物であり、具体例とし
ては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、
ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オク
チルアミン、ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウ
ンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−ヘプチルア
ミン、ｎ−ノニルアミン、ステアリルアミン、シクロプ
ロピルアミン、シクロヘキシルアミン、ｏ−アミノジフ
ェニル、１−メチルプロピルアミン、２−メチルブチル
アミン、２−エチルヘキシルアミン、２−フェニルエチ
ルアミン、ベンジルアミン、ｏ−メトキシベンジルアミ
ン、２−アミノエタノール、アミノアセトアルデヒドジ
メチルアセタール、アミノアセトアルデヒドジエチルア
セタール、アミノフェノール等が挙げられる。
【００２５】一般式 Ｒ5 −ＮＨ−Ｒ6 ．．．（３） ( 式中、Ｒ5 、Ｒ6 は、フェニル基、アゾ基を有する有
機基、ベンゾイルフェニル基、アルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ベンジル
基、または、不飽和基を表し、それぞれ同一であっても
よいし、異なっていてもよい。) で示される反応化合物
であり、具体例としては、ジメチルアミン、ジエチルア
ミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジオクチルアミン、ジデシルアミン、ジラウ
リルアミン、ジヘキシルアミン、ジベンジルアミン、ジ
アリルアミン、Ｎ−メチルプロピルアミン、Ｎ−エチル
アニリン、Ｎ−エチルイソプロピルアミン、Ｎ−エチル
ヘキシルアミン、Ｎ−イソプロピルシクロヘキシルアミ
ン、Ｎ−メチルブチルアミン、Ｎ−メチルアリルアミ
ン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキ
シルアミン、ピペリジン、２−メチルイミダゾール、２
−エチル−４−メチルイミダゾール、２−エチルイミダ
ゾール、２，４−ジメチルイミダゾール等が挙げられ
る。一般式
機基、ベンゾイルフェニル基、アルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ベンジル
基、または、不飽和基を表し、それぞれ同一であっても
よいし、異なっていてもよい。) で示される反応化合物
であり、具体例としては、ジメチルアミン、ジエチルア
ミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジオクチルアミン、ジデシルアミン、ジラウ
リルアミン、ジヘキシルアミン、ジベンジルアミン、ジ
アリルアミン、Ｎ−メチルプロピルアミン、Ｎ−エチル
アニリン、Ｎ−エチルイソプロピルアミン、Ｎ−エチル
ヘキシルアミン、Ｎ−イソプロピルシクロヘキシルアミ
ン、Ｎ−メチルブチルアミン、Ｎ−メチルアリルアミ
ン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキ
シルアミン、ピペリジン、２−メチルイミダゾール、２
−エチル−４−メチルイミダゾール、２−エチルイミダ
ゾール、２，４−ジメチルイミダゾール等が挙げられ
る。一般式
【００２６】
【化１０】
【００２７】（式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 は、フェニル
基、ベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベンゾイルフ
ェニル基、置換または無置換のアルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ニトロソ
基を表し、それぞれ同一であってもよいし、異なってい
てもよい。) で示される反応化合物であり、具体例とし
ては、１，１−ジメトキシトリメチルアミン、１，１−
ジエトキシトリメチルアミン、Ｎ−エチルジイソピルア
ミン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソジエ
チルアミン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−フェ
ニルジベンジルアミン、トリエチルアミン、ベンジルジ
メチルアミン、アミノエチルピペラジン、２，４，６−
トリス（ジメチルアミンメチル）フェノール、テトラメ
チルグアニジン、２−メチルアミノメチルフェノール等
が挙げられる。
基、ベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベンゾイルフ
ェニル基、置換または無置換のアルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ニトロソ
基を表し、それぞれ同一であってもよいし、異なってい
てもよい。) で示される反応化合物であり、具体例とし
ては、１，１−ジメトキシトリメチルアミン、１，１−
ジエトキシトリメチルアミン、Ｎ−エチルジイソピルア
ミン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソジエ
チルアミン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−フェ
ニルジベンジルアミン、トリエチルアミン、ベンジルジ
メチルアミン、アミノエチルピペラジン、２，４，６−
トリス（ジメチルアミンメチル）フェノール、テトラメ
チルグアニジン、２−メチルアミノメチルフェノール等
が挙げられる。
【００２８】一般式 ＯＨ−Ｒ10−ＯＨ ．．．（５） ( 式中、Ｒ10は、置換または無置換のフェニレン基、ア
ゾ基を有する有機基、２価のベンゾフェノン残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、また
は、アルコキシカルボニル基を表す。) で示される反応
化合物であり、具体例としては、ジヒドロキシベンゼ
ン、ジヒドロキシアゾベンゼン、ジヒドロキシ安息香
酸、ジヒドロキシベンゾフェノン、１，２−ジヒドロキ
シエタン、１，４−ジヒドロキシブタン、１，５−ジヒ
ドロキシプロパン、１，６−ジヒドロキシヘキサン、
１，７−ジヒドロキシペンタン、１，８−ジヒドロキシ
オクタン、１，９−ジヒドロキシノナン、１，１０−ジ
ヒドロキシデカン、１，１２−ジヒドロキシドデカン、
１，２−ジヒドロキシシクロヘキサン等が挙げられる。
ゾ基を有する有機基、２価のベンゾフェノン残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、また
は、アルコキシカルボニル基を表す。) で示される反応
化合物であり、具体例としては、ジヒドロキシベンゼ
ン、ジヒドロキシアゾベンゼン、ジヒドロキシ安息香
酸、ジヒドロキシベンゾフェノン、１，２−ジヒドロキ
シエタン、１，４−ジヒドロキシブタン、１，５−ジヒ
ドロキシプロパン、１，６−ジヒドロキシヘキサン、
１，７−ジヒドロキシペンタン、１，８−ジヒドロキシ
オクタン、１，９−ジヒドロキシノナン、１，１０−ジ
ヒドロキシデカン、１，１２−ジヒドロキシドデカン、
１，２−ジヒドロキシシクロヘキサン等が挙げられる。
【００２９】一般式 Ｒ11−Ｘ1 −Ｒ12 ．．．（６） （式中、Ｒ11、Ｒ12は、不飽和基を表し、それぞれ同一
であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｘ1
は、２価のマレイン酸残基、２価のフタル酸残基、また
は、２価のアジピン酸残基を表す。) で示される反応化
合物であり、具体例としては、マレイン酸ジアリル、フ
タル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル等が挙げられる。
であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｘ1
は、２価のマレイン酸残基、２価のフタル酸残基、また
は、２価のアジピン酸残基を表す。) で示される反応化
合物であり、具体例としては、マレイン酸ジアリル、フ
タル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル等が挙げられる。
【００３０】一般式 Ｒ13−Ｘ2 ．．．（７） （式中、Ｒ13は不飽和基を表わし、Ｘ2 は置換または無
置換のフェニル基、アルキル基、アミノ酸残基、水酸基
を有する有機基、シアヌル酸残基、またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。）で示される反応化合物であり、具
体例としては、アリルメタクリレート、１−アリル−２
−メトキシベンゼン、２−アリルオキシ−エタノール、
３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、４−ア
リル−１，２−ジメトキシベンゼン、酢酸アリル、アリ
ルアルコール、アリルグリシジルエーテル、ヘプタン酸
アリル、イソフタル酸アリル、イソ吉草酸アリル、アリ
ルメタクリレート、ｎ−酪酸アリル、ｎ−カプリン酸ア
リル、フェノキシ酢酸アリル、プロピオン酸アリル、ア
リルベンゼン、ｏ−アリルフェノール、シアヌル酸トリ
アリル、トリアリルアミン等が挙げられる。
置換のフェニル基、アルキル基、アミノ酸残基、水酸基
を有する有機基、シアヌル酸残基、またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。）で示される反応化合物であり、具
体例としては、アリルメタクリレート、１−アリル−２
−メトキシベンゼン、２−アリルオキシ−エタノール、
３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、４−ア
リル−１，２−ジメトキシベンゼン、酢酸アリル、アリ
ルアルコール、アリルグリシジルエーテル、ヘプタン酸
アリル、イソフタル酸アリル、イソ吉草酸アリル、アリ
ルメタクリレート、ｎ−酪酸アリル、ｎ−カプリン酸ア
リル、フェノキシ酢酸アリル、プロピオン酸アリル、ア
リルベンゼン、ｏ−アリルフェノール、シアヌル酸トリ
アリル、トリアリルアミン等が挙げられる。
【００３１】一般式 Ｒ14−Ｎ＝ＣＯ ．．．（８） （式中、Ｒ14は置換または無置換のフェニル基、ナフチ
ル基、ピリジル基、置換または無置換のアルキル基、ベ
ンジル基、ピリジル基、または、アルコキシカルボニル
基を示す。）で示される反応化合物であり、具体例とし
ては、イソシアン酸−１−ナフチル、イソシアン酸−
４，４’−ジフェニルメタン、イソシアン酸ベンジル、
ジイソシアン酸ヘキサメチレン、イソシアン酸イソプロ
ピル、イソシアン酸−ｎ−ブチル、イソシアン酸フェニ
ル、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアネレー
ト等が挙げられる。
ル基、ピリジル基、置換または無置換のアルキル基、ベ
ンジル基、ピリジル基、または、アルコキシカルボニル
基を示す。）で示される反応化合物であり、具体例とし
ては、イソシアン酸−１−ナフチル、イソシアン酸−
４，４’−ジフェニルメタン、イソシアン酸ベンジル、
ジイソシアン酸ヘキサメチレン、イソシアン酸イソプロ
ピル、イソシアン酸−ｎ−ブチル、イソシアン酸フェニ
ル、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアネレー
ト等が挙げられる。
【００３２】一般式 Ｒ15−Ｘ3 ．．．（９） （式中、Ｒ15はフェニル基、置換または無置換のアルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、またはビニ
ル基、Ｘ3 はアクリル酸残基を示す。）で示される反応
化合物であり、具体例としては、アクリル酸２−（ジメ
チル）アミノエチル、２−アセトアミドアクリル酸、ア
クリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒド
ロキシエチル、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸イソブチル、メタクリル酸、３−メトキシアクリ
ル酸メチル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ビニ
ル、３−アクリルアミド−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルア
ミン等が挙げられる。
ル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、またはビニ
ル基、Ｘ3 はアクリル酸残基を示す。）で示される反応
化合物であり、具体例としては、アクリル酸２−（ジメ
チル）アミノエチル、２−アセトアミドアクリル酸、ア
クリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒド
ロキシエチル、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸イソブチル、メタクリル酸、３−メトキシアクリ
ル酸メチル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ビニ
ル、３−アクリルアミド−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルア
ミン等が挙げられる。
【００３３】一般式（ｔ１），（ｔ２），（ｔ３）で表
されるトリアジン化合物と反応または吸着可能な化合物
としては、一般式 Ｒ16−ＣＯ−Ｒ17 ．．．（１０） （式中、Ｒ16、Ｒ17は、フェニル基、アルキル基、アル
コキシカルボニル基、アミド基、または、ビニル基を表
し、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）
で示されるカルボニル基を含有する反応化合物であり、
具体例としては、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸
無水物、２−クロロマレイン酸無水物、４−メチルフタ
ル酸無水物、安息香酸無水物、酪酸無水物、シュウ酸、
無水フタル酸、無水マレイン酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、ピロメット酸無水物、トリメット酸無水物、トリ
メット酸無水物グリコール、メチルナジック酸無水物、
クロレン酸無水物、ドデシルコハク酸無水物、ジクロル
マレイン無水物、ポリアゼライン無水物、ポレセバチン
無水物等が挙げられる。
されるトリアジン化合物と反応または吸着可能な化合物
としては、一般式 Ｒ16−ＣＯ−Ｒ17 ．．．（１０） （式中、Ｒ16、Ｒ17は、フェニル基、アルキル基、アル
コキシカルボニル基、アミド基、または、ビニル基を表
し、それぞれ同一であっても、異なっていてもよい。）
で示されるカルボニル基を含有する反応化合物であり、
具体例としては、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸
無水物、２−クロロマレイン酸無水物、４−メチルフタ
ル酸無水物、安息香酸無水物、酪酸無水物、シュウ酸、
無水フタル酸、無水マレイン酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、ピロメット酸無水物、トリメット酸無水物、トリ
メット酸無水物グリコール、メチルナジック酸無水物、
クロレン酸無水物、ドデシルコハク酸無水物、ジクロル
マレイン無水物、ポリアゼライン無水物、ポレセバチン
無水物等が挙げられる。
【００３４】ビニル基含有化合物であり、具体例として
は、２−ビニル−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリ
アジン、２−ビニルピリジン、３−ブテン−２−オン、
４−ペンテン酸、アクリル酸、ブチルビニルエーテル、
エチルビニルケトン、酢酸イソプロペニル、ｐ−メチル
スチレン、ヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、酪酸
ビニル、デカン酸ビニル、メタクリル酸ビニル、オクタ
ン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、
アジピン酸ビニル等が挙げられる。エポキシ基含有化合
物であり、具体例としては、１，２−エポキシ−ブタ
ン、１，２−エポキシエチルベンゼン、２，３−エポキ
シ−１−プロパノール、２，３−エポキシプロピルメチ
ルエーテル、メタクリル酸グリシジル、ジグリシドキシ
フェニルプロパン，アリルグリシジルエーテル、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエー
テル等が挙げられる。シラン系カップリング剤であり、
具体例としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
ス（２−メトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−アミ
ノエチル−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェ
ニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。
は、２−ビニル−４，６−ジアミノ−１，３，５−トリ
アジン、２−ビニルピリジン、３−ブテン−２−オン、
４−ペンテン酸、アクリル酸、ブチルビニルエーテル、
エチルビニルケトン、酢酸イソプロペニル、ｐ−メチル
スチレン、ヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、酪酸
ビニル、デカン酸ビニル、メタクリル酸ビニル、オクタ
ン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、
アジピン酸ビニル等が挙げられる。エポキシ基含有化合
物であり、具体例としては、１，２−エポキシ−ブタ
ン、１，２−エポキシエチルベンゼン、２，３−エポキ
シ−１−プロパノール、２，３−エポキシプロピルメチ
ルエーテル、メタクリル酸グリシジル、ジグリシドキシ
フェニルプロパン，アリルグリシジルエーテル、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジ
ルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエー
テル等が挙げられる。シラン系カップリング剤であり、
具体例としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
ス（２−メトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−アミ
ノエチル−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェ
ニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。
【００３５】チタネート系カップリング剤であり、具体
例としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート、イソプロピルトリ−ｎ−ドデシルベンゼンスルホ
ニルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルピロホ
スフェート）チタネート、テトライソプロピルトリ（ジ
オクチルピロホスフェート）チタネート、テトラオクチ
ルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テト
ラ（２，２−ジアリルオキシ−１−ブチル）ビス（ジト
リデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチル
バイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビ
ス（ジオクチルバイロホスフェート）エチレンチタネー
ト、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプ
ロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソ
プロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソ
プロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、
イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロ
ピルトリ（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート
等が挙げられる。アルミニウム系カップリング剤であ
り、具体例としては、アセトメトキシアルミニウムジイ
ソプロピレート、アセトエトキシアルミニウムジイソプ
ロピレート等が挙げられる。
例としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート、イソプロピルトリ−ｎ−ドデシルベンゼンスルホ
ニルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルピロホ
スフェート）チタネート、テトライソプロピルトリ（ジ
オクチルピロホスフェート）チタネート、テトラオクチ
ルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テト
ラ（２，２−ジアリルオキシ−１−ブチル）ビス（ジト
リデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチル
バイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビ
ス（ジオクチルバイロホスフェート）エチレンチタネー
ト、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプ
ロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソ
プロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソ
プロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、
イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロ
ピルトリ（Ｎ−アミノエチルアミノエチル）チタネート
等が挙げられる。アルミニウム系カップリング剤であ
り、具体例としては、アセトメトキシアルミニウムジイ
ソプロピレート、アセトエトキシアルミニウムジイソプ
ロピレート等が挙げられる。
【００３６】反応化合物をトリアジントリチオール金属
塩に吸着若しくは反応させるための条件は、調整する溶
液の種類，反応温度，反応時間，溶液濃度等に応じて定
められる。一般的な処理条件として、例えば溶媒とし
て、水，エタノール，メタノール，ブチルエーテル，メ
チルエチルケトン，メチルブチルケトン，ジエチレング
リコール，アセトン，テトラヒドロフラン等が挙げら
れ、溶液濃度は０．００１ｍｍｏｌ／Ｌから１００ｍｍ
ｏｌ／Ｌ好ましくは０．０１ｍｍｏｌ／Ｌから１０ｍｍ
ｏｌ／Ｌ、反応温度は５℃から１２０℃好ましくは３０
℃から７０℃、反応時間は１秒から１２０分好ましくは
３０秒から１５分とされる。これらの反応化合物は、ト
リアジントリチオール金属塩に吸着若しくは反応した場
合においても電子リッチであるため化合物全体がマイナ
スに帯電している。そのため、金属表面に形成されてい
る皮膜は金属に電子を供給しプラスに帯電し、電子が供
給された金属表面はマイナスに帯電すると推察される。
塩に吸着若しくは反応させるための条件は、調整する溶
液の種類，反応温度，反応時間，溶液濃度等に応じて定
められる。一般的な処理条件として、例えば溶媒とし
て、水，エタノール，メタノール，ブチルエーテル，メ
チルエチルケトン，メチルブチルケトン，ジエチレング
リコール，アセトン，テトラヒドロフラン等が挙げら
れ、溶液濃度は０．００１ｍｍｏｌ／Ｌから１００ｍｍ
ｏｌ／Ｌ好ましくは０．０１ｍｍｏｌ／Ｌから１０ｍｍ
ｏｌ／Ｌ、反応温度は５℃から１２０℃好ましくは３０
℃から７０℃、反応時間は１秒から１２０分好ましくは
３０秒から１５分とされる。これらの反応化合物は、ト
リアジントリチオール金属塩に吸着若しくは反応した場
合においても電子リッチであるため化合物全体がマイナ
スに帯電している。そのため、金属表面に形成されてい
る皮膜は金属に電子を供給しプラスに帯電し、電子が供
給された金属表面はマイナスに帯電すると推察される。
【００３７】
【実施例１】洗浄処理を施した銅板を５０℃のトリアジ
ントリチオン塩水溶液（モノナトリウム塩を用いて調整
した溶液：以下同様）濃度１ｍｍｏｌ／Ｌに３０秒間浸
漬した。浸漬した銅板は、蒸留水とメタノールで５回、
さらにエーテルで２回洗浄され、次いでドライヤで乾燥
されて、銅板表面にトリアジントリチオール金属塩を形
成したトリアジントリチオン処理銅板とされた。得られ
たトリアジントリチオン処理銅板を、１，１０−ジアミ
ノデカンの２０％濃度エタノール溶液に７０℃で１０分
間浸漬させ、トリアジントリチオール金属塩に１，１０
−ジアミノデカンを反応させ、銅板表面の反応性保持処
理を施した。反応性保持処理直後（５分以内）の銅板表
面と反応性保持処理３月後の銅板表面のＩＲスペクトル
の測定結果を表１に示す。測定結果から、反応性保持処
理直後、反応性保持処理３月後ともにトリアジントリチ
オール金属塩の骨格を示すスペクトル（１４５４ｃ
ｍ-1，１２４０ｃｍ-1，８６１ｃｍ-1）と１，１０−ジ
アミノデカンの構造の一部を示すスペクトル（２９５０
ｃｍ-1，１５８２ｃｍ-1）を得ることができた。一方、
銅板表面の反応性低下の原因とされる酸化銅及び炭酸銅
の構造を示すスペクトルは、反応性保持処理３月後にお
いても検出されなかった。また、図１には、１，１０−
ジアミノデカンとトリアジントリチオール金属塩との結
合状態が示されている。以上から、銅板表面を反応性保
持処理し、トリアジントリチオール金属塩に１，１０−
ジアミノデカンが結合することによって、酸素及び炭酸
ガスによる銅板表面の酸化を防いでいることが推察され
る。
ントリチオン塩水溶液（モノナトリウム塩を用いて調整
した溶液：以下同様）濃度１ｍｍｏｌ／Ｌに３０秒間浸
漬した。浸漬した銅板は、蒸留水とメタノールで５回、
さらにエーテルで２回洗浄され、次いでドライヤで乾燥
されて、銅板表面にトリアジントリチオール金属塩を形
成したトリアジントリチオン処理銅板とされた。得られ
たトリアジントリチオン処理銅板を、１，１０−ジアミ
ノデカンの２０％濃度エタノール溶液に７０℃で１０分
間浸漬させ、トリアジントリチオール金属塩に１，１０
−ジアミノデカンを反応させ、銅板表面の反応性保持処
理を施した。反応性保持処理直後（５分以内）の銅板表
面と反応性保持処理３月後の銅板表面のＩＲスペクトル
の測定結果を表１に示す。測定結果から、反応性保持処
理直後、反応性保持処理３月後ともにトリアジントリチ
オール金属塩の骨格を示すスペクトル（１４５４ｃ
ｍ-1，１２４０ｃｍ-1，８６１ｃｍ-1）と１，１０−ジ
アミノデカンの構造の一部を示すスペクトル（２９５０
ｃｍ-1，１５８２ｃｍ-1）を得ることができた。一方、
銅板表面の反応性低下の原因とされる酸化銅及び炭酸銅
の構造を示すスペクトルは、反応性保持処理３月後にお
いても検出されなかった。また、図１には、１，１０−
ジアミノデカンとトリアジントリチオール金属塩との結
合状態が示されている。以上から、銅板表面を反応性保
持処理し、トリアジントリチオール金属塩に１，１０−
ジアミノデカンが結合することによって、酸素及び炭酸
ガスによる銅板表面の酸化を防いでいることが推察され
る。
【００３８】
【実施例２】実施例１と同様に処理して得られたトリア
ジントリチオン処理銅板を、Ｎ−メチロールアクリルア
ミドの２０％濃度ブチルエーテル溶液に７０℃で１０分
間浸漬させ、トリアジントリチオール金属塩にＮ−メチ
ロールアクリルアミドを反応させ、銅板表面の反応性保
持処理を施した。反応性保持処理直後（５分以内）の銅
板表面と反応性保持処理３月後の銅板表面のＩＲスペク
トルの測定結果を表１に示す。測定結果から、反応性保
持処理直後、反応性保持処理３月後ともにトリアジント
リチオール金属塩の骨格を示すスペクトル（１４５４ｃ
ｍ-1，１２４０ｃｍ-1，８６１ｃｍ-1）とＮ−メチロー
ルアクリルアミドの構造の一部を示すスペクトル（３１
７０ｃｍ-1，１６７０ｃｍ-1）を得ることができた。一
方、銅板表面の反応性低下の原因とされる酸化銅及び炭
酸銅の構造を示すスペクトルは、反応性保持処理３月後
においても検出されなかった。また、図２には、Ｎ−メ
チロールアクリルアミドとトリアジントリチオール金属
塩との結合状態が示されている。以上から、銅板表面を
反応性保持処理し、トリアジントリチオール金属塩にＮ
−メチロールアクリルアミドが結合することによって、
酸素及び炭酸ガスによる銅板表面の酸化を防いでいるこ
とが推察される。
ジントリチオン処理銅板を、Ｎ−メチロールアクリルア
ミドの２０％濃度ブチルエーテル溶液に７０℃で１０分
間浸漬させ、トリアジントリチオール金属塩にＮ−メチ
ロールアクリルアミドを反応させ、銅板表面の反応性保
持処理を施した。反応性保持処理直後（５分以内）の銅
板表面と反応性保持処理３月後の銅板表面のＩＲスペク
トルの測定結果を表１に示す。測定結果から、反応性保
持処理直後、反応性保持処理３月後ともにトリアジント
リチオール金属塩の骨格を示すスペクトル（１４５４ｃ
ｍ-1，１２４０ｃｍ-1，８６１ｃｍ-1）とＮ−メチロー
ルアクリルアミドの構造の一部を示すスペクトル（３１
７０ｃｍ-1，１６７０ｃｍ-1）を得ることができた。一
方、銅板表面の反応性低下の原因とされる酸化銅及び炭
酸銅の構造を示すスペクトルは、反応性保持処理３月後
においても検出されなかった。また、図２には、Ｎ−メ
チロールアクリルアミドとトリアジントリチオール金属
塩との結合状態が示されている。以上から、銅板表面を
反応性保持処理し、トリアジントリチオール金属塩にＮ
−メチロールアクリルアミドが結合することによって、
酸素及び炭酸ガスによる銅板表面の酸化を防いでいるこ
とが推察される。
【００３９】
【実施例３】実施例２において、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミドの代わりにジグリシドキシフェニルプロパンの
２０％濃度ブチルエーテル溶液を用いたこと以外は実施
例２と同様に銅板表面の反応性保持処理を施した。反応
性保持処理直後（５分以内）の銅板表面と反応性保持処
理３月後の銅板表面のＩＲスペクトルの測定結果を表１
に示す。測定結果から、反応性保持処理直後、反応性保
持処理３月後ともにトリアジントリチオール金属塩の骨
格を示すスペクトル（１４５４ｃｍ-1，１２４０ｃ
ｍ-1，８６１ｃｍ-1）とジグリシドキシフェニルプロパ
ンの構造の一部を示すスペクトル（２９６０ｃｍ-1，２
９２５ｃｍ-1，１６２０ｃｍ-1）を得ることができた。
一方、銅板表面の反応性低下の原因とされる酸化銅及び
炭酸銅の構造を示すスペクトルは、反応性保持処理３月
後においても検出されなかった。また、図３には、ジグ
リシドキシフェニルプロパンとトリアジントリチオール
金属塩との結合状態が示されている。以上から、銅板表
面を反応性保持処理し、トリアジントリチオール金属塩
にジグリシドキシフェニルプロパンが結合することによ
って、酸素及び炭酸ガスによる銅板表面の酸化を防いで
いることが推察される。
ルアミドの代わりにジグリシドキシフェニルプロパンの
２０％濃度ブチルエーテル溶液を用いたこと以外は実施
例２と同様に銅板表面の反応性保持処理を施した。反応
性保持処理直後（５分以内）の銅板表面と反応性保持処
理３月後の銅板表面のＩＲスペクトルの測定結果を表１
に示す。測定結果から、反応性保持処理直後、反応性保
持処理３月後ともにトリアジントリチオール金属塩の骨
格を示すスペクトル（１４５４ｃｍ-1，１２４０ｃ
ｍ-1，８６１ｃｍ-1）とジグリシドキシフェニルプロパ
ンの構造の一部を示すスペクトル（２９６０ｃｍ-1，２
９２５ｃｍ-1，１６２０ｃｍ-1）を得ることができた。
一方、銅板表面の反応性低下の原因とされる酸化銅及び
炭酸銅の構造を示すスペクトルは、反応性保持処理３月
後においても検出されなかった。また、図３には、ジグ
リシドキシフェニルプロパンとトリアジントリチオール
金属塩との結合状態が示されている。以上から、銅板表
面を反応性保持処理し、トリアジントリチオール金属塩
にジグリシドキシフェニルプロパンが結合することによ
って、酸素及び炭酸ガスによる銅板表面の酸化を防いで
いることが推察される。
【００４０】
【実施例４】実施例１と同様に処理して得られたトリア
ジントリチオン処理銅板を、アリルメタクリレートの２
０％濃度ブチルエーテル溶液に７０℃で１０分間浸漬さ
せ、トリアジントリチオール金属塩にアリルメタクリレ
ートを反応させ、銅板表面の反応性保持処理を施した。
反応性保持処理直後（５分以内）の銅板表面と反応性保
持処理３月後の銅板表面のＩＲスペクトルの測定結果を
表１に示す。測定結果から、反応性保持処理直後、反応
性保持処理３月後ともにトリアジントリチオール金属塩
の骨格を示すスペクトル（１４５４ｃｍ-1，１２４０ｃ
ｍ-1，８６１ｃｍ-1）とアリルメタクリレートの構造の
一部を示すスペクトル（１７２０ｃｍ-1，１６３０ｃｍ
-1）を得ることができた。一方、銅板表面の反応性低下
の原因とされる酸化銅及び炭酸銅の構造を示すスペクト
ルは、反応性保持処理３月後においても検出されなかっ
た。また、図４には、アリルメタクリレートとトリアジ
ントリチオール金属塩との結合状態が示されている。以
上から、銅板表面を反応性保持処理し、トリアジントリ
チオール金属塩にアリルメタクリレートが結合すること
によって、酸素及び炭酸ガスによる銅板表面の酸化を防
いでいることが推察される。
ジントリチオン処理銅板を、アリルメタクリレートの２
０％濃度ブチルエーテル溶液に７０℃で１０分間浸漬さ
せ、トリアジントリチオール金属塩にアリルメタクリレ
ートを反応させ、銅板表面の反応性保持処理を施した。
反応性保持処理直後（５分以内）の銅板表面と反応性保
持処理３月後の銅板表面のＩＲスペクトルの測定結果を
表１に示す。測定結果から、反応性保持処理直後、反応
性保持処理３月後ともにトリアジントリチオール金属塩
の骨格を示すスペクトル（１４５４ｃｍ-1，１２４０ｃ
ｍ-1，８６１ｃｍ-1）とアリルメタクリレートの構造の
一部を示すスペクトル（１７２０ｃｍ-1，１６３０ｃｍ
-1）を得ることができた。一方、銅板表面の反応性低下
の原因とされる酸化銅及び炭酸銅の構造を示すスペクト
ルは、反応性保持処理３月後においても検出されなかっ
た。また、図４には、アリルメタクリレートとトリアジ
ントリチオール金属塩との結合状態が示されている。以
上から、銅板表面を反応性保持処理し、トリアジントリ
チオール金属塩にアリルメタクリレートが結合すること
によって、酸素及び炭酸ガスによる銅板表面の酸化を防
いでいることが推察される。
【００４１】
【比較例】銅板表面の反応性保持処理を施すことなく、
実施例１と同様に処理して得られたトリアジントリチオ
ン処理銅板を得た。処理直後（５分以内）の銅板表面と
処理３月後の銅板表面のＩＲスペクトルの測定結果を表
１に示す。測定結果から、処理３月後のスペクトルに
は、処理直後に測定されなかった炭酸銅と酸化銅を示す
スペクトル（１５８０ｃｍ-1，６４０ｃｍ-1）が得られ
た。このことから、トリアジントリチオン処理銅板を空
気中に放置することにより、銅板表面の反応性低下の原
因とされる酸化銅及び炭酸銅が銅板表面に生成すること
がわかる。以上、実施例１〜４及び比較例から、比較例
で得られるトリアジントリチオール金属塩に電子リッチ
（マイナスに帯電する）な反応化合物を反応若しくは吸
着させることによって、銅表面の酸化が防止されること
が判明した。
実施例１と同様に処理して得られたトリアジントリチオ
ン処理銅板を得た。処理直後（５分以内）の銅板表面と
処理３月後の銅板表面のＩＲスペクトルの測定結果を表
１に示す。測定結果から、処理３月後のスペクトルに
は、処理直後に測定されなかった炭酸銅と酸化銅を示す
スペクトル（１５８０ｃｍ-1，６４０ｃｍ-1）が得られ
た。このことから、トリアジントリチオン処理銅板を空
気中に放置することにより、銅板表面の反応性低下の原
因とされる酸化銅及び炭酸銅が銅板表面に生成すること
がわかる。以上、実施例１〜４及び比較例から、比較例
で得られるトリアジントリチオール金属塩に電子リッチ
（マイナスに帯電する）な反応化合物を反応若しくは吸
着させることによって、銅表面の酸化が防止されること
が判明した。
【００４２】
【表１】
【００４３】従って、この実施の形態に係る金属表面の
反応性保持方法によれば、トリアジントリチオール金属
塩に、マイナスに帯電可能な反応化合物である１，１０
−ジアミノデカン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジ
グリシドキシフェニルプロパン、またはアリルメタクリ
レートを反応若しくは吸着させることにより、反応性の
失活の原因とされる酸素や炭酸ガスによる銅表面の酸化
が防止されるため、銅表面の活性を長期間保持すること
ができる。
反応性保持方法によれば、トリアジントリチオール金属
塩に、マイナスに帯電可能な反応化合物である１，１０
−ジアミノデカン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジ
グリシドキシフェニルプロパン、またはアリルメタクリ
レートを反応若しくは吸着させることにより、反応性の
失活の原因とされる酸素や炭酸ガスによる銅表面の酸化
が防止されるため、銅表面の活性を長期間保持すること
ができる。
【００４４】尚、上記実施の形態に係る金属表面の反応
性保持方法において、トリアジントリチオン塩溶液は、
ジナトリウム塩，トリナトリウム塩，モノエタノールア
ミン塩，ジエタノールアミン塩，トリエタノールアミン
塩を用いて調整することができる。
性保持方法において、トリアジントリチオン塩溶液は、
ジナトリウム塩，トリナトリウム塩，モノエタノールア
ミン塩，ジエタノールアミン塩，トリエタノールアミン
塩を用いて調整することができる。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の金属表面
の反応性保持方法によれば、マイナスに帯電可能な反応
可能物である、一般式（１）〜（１０）で示される化合
物，ビニル基含有化合物，エポキシ基含有化合物，シラ
ン系カップリング剤，チタネート系カップリング剤，ま
たはアルミニウム系カップリング剤の化合物を上記トリ
アジントリチオール金属塩に反応若しくは吸着させたの
で、空気中において時間と共に金属表面が酸素や炭酸ガ
スにより酸化されるのを防ぎ、金属表面の反応性を長期
間保持させる。また、トリアジントリチオール金属塩を
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールア
ルカリ金属を用いて生成した場合は、得られるトリアジ
ントリチオール金属塩の構造上、反応基が金属表面に表
出しやすいので、反応度合いを向上することができる。
の反応性保持方法によれば、マイナスに帯電可能な反応
可能物である、一般式（１）〜（１０）で示される化合
物，ビニル基含有化合物，エポキシ基含有化合物，シラ
ン系カップリング剤，チタネート系カップリング剤，ま
たはアルミニウム系カップリング剤の化合物を上記トリ
アジントリチオール金属塩に反応若しくは吸着させたの
で、空気中において時間と共に金属表面が酸素や炭酸ガ
スにより酸化されるのを防ぎ、金属表面の反応性を長期
間保持させる。また、トリアジントリチオール金属塩を
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールア
ルカリ金属を用いて生成した場合は、得られるトリアジ
ントリチオール金属塩の構造上、反応基が金属表面に表
出しやすいので、反応度合いを向上することができる。
【００４６】更に、１，３，５−トリアジン−２，４，
６−トリチオールアルカリ金属塩に１，３，５−トリア
ジン−２，４，６−トリチオールナトリウム塩を用いた
場合は、容易に安定した塩を生成することができる。ま
た、トリアジントリチオール金属塩を１，３，５−トリ
アジン−２，４，６−トリチオールアミン塩を用いて生
成した場合は、得られるトリアジントリチオール金属塩
の構造上、反応基が金属表面に表出しやすいので、反応
度合いを向上することができる。更に、１，３，５−ト
リアジン−２，４，６−トリチオールアミン塩に１，
３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールエタノ
ールアミン塩を用いた場合は、容易に安定した塩を生成
することができる。更にまた、トリアジントリチオール
金属塩を反応化合物の溶液に浸漬して反応若しくは吸着
させた場合は、特別な機材を必要とせず、容易に金属表
面の反応性保持処理を可能にする。
６−トリチオールアルカリ金属塩に１，３，５−トリア
ジン−２，４，６−トリチオールナトリウム塩を用いた
場合は、容易に安定した塩を生成することができる。ま
た、トリアジントリチオール金属塩を１，３，５−トリ
アジン−２，４，６−トリチオールアミン塩を用いて生
成した場合は、得られるトリアジントリチオール金属塩
の構造上、反応基が金属表面に表出しやすいので、反応
度合いを向上することができる。更に、１，３，５−ト
リアジン−２，４，６−トリチオールアミン塩に１，
３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールエタノ
ールアミン塩を用いた場合は、容易に安定した塩を生成
することができる。更にまた、トリアジントリチオール
金属塩を反応化合物の溶液に浸漬して反応若しくは吸着
させた場合は、特別な機材を必要とせず、容易に金属表
面の反応性保持処理を可能にする。
【図１】銅表面に形成された反応化合物の皮膜の状態を
示す図である。
示す図である。
【図２】銅表面に形成された反応化合物の皮膜の状態を
示す図である。
示す図である。
【図３】銅表面に形成された反応化合物の皮膜の状態を
示す図である。
示す図である。
【図４】銅表面に形成された反応化合物の皮膜の状態を
示す図である。
示す図である。
【図５】前処理における銅表面に形成された皮膜の状態
を示す図である。
を示す図である。
【図６】銅表面の酸化状態を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 八重子 岩手県岩手郡玉山村大字渋民字岩鼻20番地 の７ 株式会社東亜電化内 (72)発明者 平原 英俊 岩手県盛岡市小鳥沢１丁目27番地の６ Ｆターム(参考） 4K044 AA06 BA18 BA19 BA21 BC02 CA16 CA53 CA62
Claims (21)
- 【請求項１】 金属表面に皮膜として形成された当該金
属のトリアジントリチオール金属塩の反応性を保持する
金属表面の反応性保持方法において、 上記トリアジントリチオール金属塩をマイナスに帯電可
能な反応化合物を上記トリアジントリチオール金属塩に
反応若しくは吸着させたことを特徴とする金属表面の反
応性保持方法。 - 【請求項２】 上記反応化合物は、一般式 ＮＨＲ2 −Ｒ1 −ＮＨＲ3 ．．．（１） ( 式中、Ｒ1 は、置換または無置換のフェニレン基、キ
シリレン基、アゾ基、アゾ基を有する有機基、２価のベ
ンゾフェノン残基、２価のフェニルエーテル残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、エステ
ル残基、または、カルボニル基を表す。また、Ｒ2 、Ｒ
3 は、水素またはアルキル基を表し、それぞれ同一であ
ってもよいし、異なっていてもよい。)で示される化合
物であることを特徴とする請求項１記載の金属表面の反
応性保持方法。 - 【請求項３】 上記反応化合物は、一般式 Ｒ4 −ＮＨ2 ．．．（２） ( 式中、Ｒ4 は、フェニル基、ビフェニリル基、置換ま
たは無置換のベンジル基、アゾ基を有する有機基、ベン
ゾイルフェニル基、置換または無置換のアルキル基、シ
クロアルキル基、アセタール残基、ピリジル基、アルコ
キシカルボニル基、または、アルデヒド基を有する有機
基を表す。)で示される化合物であることを特徴とする
請求項１記載の金属表面の反応性保持方法。 - 【請求項４】 上記反応化合物は、一般式 Ｒ5 −ＮＨ−Ｒ6 ．．．（３） ( 式中、Ｒ5 、Ｒ6 は、フェニル基、アゾ基を有する有
機基、ベンゾイルフェニル基、アルキル基、ピリジル
基、アルコキシカルボニル基、アルデヒド基、ベンジル
基、または、不飽和基を表し、それぞれ同一であっても
よいし、異なっていてもよい。)で示される化合物であ
ることを特徴とする請求項１記載の金属表面の反応性保
持方法。 - 【請求項５】 上記反応化合物は、一般式 【化１】 （式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 は、フェニル基、ベンジル
基、アゾ基を有する有機基、ベンゾイルフェニル基、置
換または無置換のアルキル基、ピリジル基、アルコキシ
カルボニル基、アルデヒド基、ニトロソ基を表し、それ
ぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。)で
示される化合物であることを特徴とする請求項１記載の
金属表面の反応性保持方法。 - 【請求項６】 上記反応化合物は、一般式 ＯＨ−Ｒ10−ＯＨ ．．．（５） ( 式中、Ｒ10は、置換または無置換のフェニレン基、ア
ゾ基を有する有機基、２価のベンゾフェノン残基、アル
キレン基、シクロアルキレン基、ピリジレン基、また
は、アルコキシカルボニル基を表す。)で示される化合
物であることを特徴とする請求項１記載の金属表面の反
応性保持方法。 - 【請求項７】 上記反応化合物は、一般式 Ｒ11−Ｘ1 −Ｒ12 ．．．（６） （式中、Ｒ11、Ｒ12は、不飽和基を表し、それぞれ同一
であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｘ1
は、２価のマレイン酸残基、２価のフタル酸残基、また
は、２価のアジピン酸残基を表す。)で示される化合物
であることを特徴とする請求項１記載の金属表面の反応
性保持方法。 - 【請求項８】 上記反応化合物は、一般式 Ｒ13−Ｘ2 ．．．（７） （式中、Ｒ13は不飽和基を表わし、Ｘ2 は置換または無
置換のフェニル基、アルキル基、アミノ酸残基、水酸基
を有する有機基、シアヌル酸残基、またはアルコキシカ
ルボニル基を示す。）で示される化合物であることを特
徴とする請求項１記載の金属表面の反応性保持方法。 - 【請求項９】 上記反応化合物は、一般式 Ｒ14−Ｎ＝ＣＯ ．．．（８） （式中、Ｒ14は置換または無置換のフェニル基、ナフチ
ル基、置換または無置換のアルキル基、ベンジル基、ピ
リジル基、または、アルコキシカルボニル基を示す。）
で示される化合物であることを特徴とする請求項１記載
の金属表面の反応性保持方法。 - 【請求項１０】 上記反応化合物は、一般式 Ｒ15−Ｘ3 ．．．（９） （式中、Ｒ15はフェニル基、置換または無置換のアルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、またはビニ
ル基、Ｘ3 はアクリル酸残基を示す。）で示される化合
物であることを特徴とする請求項１記載の金属表面の反
応性保持方法。 - 【請求項１１】 上記反応化合物は、一般式 【化２】 （式中、Ａ1 、Ａ2 、Ａ3 は、Ｈ、Ｌｉ、ＮａまたはＫ
を表し、それぞれ同一であってもよく、異なっていても
よい。) 、一般式 【化３】 （式中、Ａ4 、Ａ5 は、Ｈ、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表
し、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよ
い。）、または、一般式 【化４】 （式中、Ａ6 は、Ｈ、Ｌｉ、ＮａまたはＫを表し、それ
ぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。）で表
されるトリアジン化合物と反応または吸着可能なカルボ
ニル基を有する化合物であることを特徴とする請求項１
記載の金属表面の反応性保持方法。 - 【請求項１２】 上記反応化合物は、ビニル基含有化合
物であることを特徴とする請求項１記載の金属表面の反
応性保持方法。 - 【請求項１３】 上記反応化合物は、エポキシ基含有化
合物であることを特徴とする請求項１記載の金属表面の
反応性保持方法。 - 【請求項１４】 上記反応化合物は、シラン系カップリ
ング剤であることを特徴とする請求項１記載の金属表面
の反応性保持方法。 - 【請求項１５】 上記反応化合物は、チタネート系カッ
プリング剤であることを特徴とする請求項１記載の金属
表面の反応性保持方法。 - 【請求項１６】 上記反応化合物は、アルミニウム系カ
ップリング剤であることを特徴とする請求項１記載の金
属表面の反応性保持方法。 - 【請求項１７】 上記トリアジントリチオール金属塩を
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールア
ルカリ金属塩を用いて生成したことを特徴とする請求項
１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１
２，１３，１４，１５または１６記載の金属表面の反応
性保持方法。 - 【請求項１８】 上記１，３，５−トリアジン−２，
４，６−トリチオールアルカリ塩は、１，３，５−トリ
アジン−２，４，６−トリチオールナトリウム塩である
ことを特徴とする請求項１７記載の金属表面の反応性保
持方法。 - 【請求項１９】 上記トリアジントリチオール金属塩を
１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリチオールア
ミン塩を用いて生成したことを特徴とする請求項１，
２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，
１３，１４，１５または１６記載の金属表面の反応性保
持方法。 - 【請求項２０】 上記１，３，５−トリアジン−２，
４，６−トリチオールアミン塩は、１，３，５−トリア
ジン−２，４，６−トリチオールエタノールアミン塩で
あることを特徴とする請求項１９記載の金属表面の反応
性保持方法。 - 【請求項２１】 上記トリアジントリチオール金属塩が
形成された金属を、上記反応化合物の溶液に浸漬し、上
記トリアジントリチオール金属塩に上記反応化合物を反
応若しくは吸着させたことを特徴とする請求項１，２，
３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１
３，１４，１５，１６，１７，１８，１９または２０記
載の金属表面の反応性保持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000008822A JP3823189B2 (ja) | 2000-01-18 | 2000-01-18 | 金属表面皮膜の反応性保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000008822A JP3823189B2 (ja) | 2000-01-18 | 2000-01-18 | 金属表面皮膜の反応性保持方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001200374A true JP2001200374A (ja) | 2001-07-24 |
| JP3823189B2 JP3823189B2 (ja) | 2006-09-20 |
Family
ID=18537039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000008822A Expired - Lifetime JP3823189B2 (ja) | 2000-01-18 | 2000-01-18 | 金属表面皮膜の反応性保持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3823189B2 (ja) |
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| JP3823189B2 (ja) | 2006-09-20 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060110 |
|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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