JP2001192810A

JP2001192810A - ２波長の光線透過率による膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜の形成方法および装置

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Publication number: JP2001192810A
Application number: JP2000007867A
Authority: JP
Inventors: Naoki Hibino; 直樹日比野; Toshihiro Zenitani; 利宏銭谷; Konosuke Inagawa; 幸之助稲川
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 2000-01-17
Filing date: 2000-01-17
Publication date: 2001-07-17
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Abstract

(57)【要約】【課題】真空成膜室内で、ＡｌＯｘ膜の膜特性
（水蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率）を同時
に、成膜時に制御可能とし、膜特性の制御されたＡｌＯ
ｘ膜を形成する方法および装置の提供。【解決手段】真空成膜室内で、誘電体からなる透明基
板上に形成されたＡｌＯｘ膜の光線透過率を、２５０〜
４００ｎｍから選ばれた１波長と５００〜６００ｎｍの
波長から選ばれた１波長との２波長にてそれぞれ測定
し、モニタしながら、７７〜８０％の光線透過率になる
ように反応ガスの導入量を調整し、この段階で酸素導入
量を固定し、該光線透過率を保つようにしてＡｌＯｘ膜
の形成を行い、成膜中に該光線透過率が変化した場合に
は、上記特定の２波長でのモニタにより随時Ａｌ蒸発量
を調整し、該光線透過率を保つようにしてＡｌＯｘ膜の
形成を続ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に、膜特性
の制御されたＡｌＯｘ膜を形成する方法および装置に関
し、特に、基板上に、特定の２波長のそれぞれの光線透
過率を利用して膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜を形成す
る方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜を
形成するには、例えば、電子ビーム加熱式の場合、Ａｌ
Ｏｘ膜の成膜条件を一定の電子ビーム出力と一定の反応
ガス（酸素ガス）導入量になるように管理することによ
ってのみ成膜を行って、得られた膜の特性を制御してい
た。この場合、成膜後に、得られたＡｌＯｘ膜を大気中
に取出し、水蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率等
の膜特性の測定を行って初めて、膜特性が制御されてい
たかどうかを確認し、膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜を
提供していたに過ぎなかった。

【０００３】また、成膜中における簡易的なガスバリヤ
特性の制御方法として、可視光域の単一波長（例えば、
５５０ｎｍ）による光線透過率を一定に保って膜特性を
制御する方法もある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記したような成膜条
件を管理して成膜する従来方法では、プラスチックのよ
うな誘電体からなる基板上にＡｌＯｘ膜を形成する場
合、透明ガスバリヤ膜としてのＡｌＯｘ膜の膜特性であ
る水蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率を同時に、
且つ成膜時に真空成膜室内において制御することは不可
能であった。

【０００５】また、上記したような可視光域の単一波長
による光線透過率を利用して膜特性を制御する従来方法
では、透明度の高い酸化膜の場合、酸化膜の干渉作用の
ために、成膜された基板と非成膜基板との間の光線透過
率の差異を認織することができず、有効な膜特性の制御
は困難であった。

【０００６】本発明は、真空成膜室内で、誘電体からな
る基板上へＡｌＯｘ膜を形成しながら、ガスバリヤ膜と
してのＡｌＯｘ膜の膜特性（水蒸気透湿度、酸素透過
率、全光線透過率）を同時に、成膜時に制御可能とし、
膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜を形成する方法および装
置を提供することを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、同一装置
内で、ＡｌＯｘ膜を成膜しながら、膜の水蒸気透湿度、
酸素透過率、光線透過率を同時に、成膜時に制御するた
めの技術について、鋭意研究を続けた結果、特定の２波
長における光線透過率を制御することによって上記課題
を解決することができることを見出し、本発明を完成す
るに至った。

【０００８】本発明の膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜の
形成方法は、真空成膜室内で、Ａｌおよび反応ガスとし
ての酸素ガスまたは酸素含有ガスを用いて、誘電体から
なる透明基板上に透明ガスバリヤ膜としてのＡｌＯｘ膜
を形成する方法において、該真空成膜室内で、該基板上
に形成されたＡｌＯｘ膜の光線透過率を、紫外線域と可
視光域との境界領域の波長およびその領域の近傍の波長
から選ばれた１波長と、可視光域の１波長との特定の２
波長にてそれぞれ測定し、両方の測定値をモニタしなが
ら、測定された光線透過率が所定の光線透過率になるよ
うに該反応ガスの導入量を調整し、その後、該所定の光
線透過率を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を行い、水
蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率の制御されたＡ
ｌＯｘ膜を形成することからなる。これにより、水蒸気
透湿度、酸素透過率、全光線透過率が同時に、成膜時に
制御されたＡｌＯｘ膜が得られる。

【０００９】上記したように反応ガスの導入量を調整し
て、紫外線域と可視光域との境界領域の波長およびその
領域の近傍の波長から選ばれた１波長で測定された光線
透過率を所定の光線透過率(Ａ)に設定した後、この段階
で反応ガスの導入量を固定し、該所定の光線透過率(Ａ)
を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を行い、成膜中の測
定透過率が該所定の光線透過率(Ａ)の設定透過率より低
くなった場合には、該所定の光線透過率(Ａ)をモニタし
てＡｌ蒸発量を調整することにより、該所定の光線透過
率(Ａ)を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を続け、ま
た、成膜中の測定透過率が可視光域の１波長に基づいて
設定された所定の光線透過率(Ｂ)の設定透過率より高く
なった場合には、該所定の光線透過率(Ｂ)をモニタして
Ａｌ蒸発量を調整することにより、該所定の光線透過率
(Ｂ)を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を続け、水蒸気
透湿度、酸素透過率、全光線透過率の制御されたＡｌＯ
ｘ膜を形成することができる。これにより、水蒸気透湿
度、酸素透過率、全光線透過率が同時に、成膜時に制御
されたＡｌＯｘ膜が効率的に得られる。

【００１０】Ａｌの蒸発量および反応ガス（酸素ガスま
たは酸素含有ガス）の導入量を上記したように制御する
ことが好ましいが、成膜中に所定の光線透過率を制御で
きるならば、その制御方法には特に制限はない。

【００１１】上記紫外線域と可視光域との境界領域の波
長およびその領域の近傍の波長から選ばれた１波長とし
て、２５０〜４００ｎｍの範囲内の波長を用いることが
好ましい。２５０ｎｍ未満の波長では、ほとんどの誘電
体製透明基板の光線透過率の測定ができないからであ
り、４００ｎｍを超える波長では、非成膜基板と成膜さ
れた基板との間の光線透過率の差異が識別困難であり、
光線透過率の微調整が難しいからである。また、可視光
域の１波長として５００〜６００ｎｍの範囲内の波長を
用いることが好ましい。５００ｎｍ未満の波長では、色
調の変化の識別が難しく、また、６００ｎｍを超える波
長では、振動が大きくなり、測定の正確性に欠けるから
である。このような２波長を用い、この２波長にてそれ
ぞれ測定した各光線透過率を制御することにより成膜を
行う。すなわち、所定の光線透過率の下限域では、紫外
線域と可視光域との境界領域の波長およびその領域の近
傍の波長から選ばれた１波長に基づいて設定された光線
透過率をモニタし、また、所定の光線透過率の上限域で
は、可視光域の１波長に基づいて設定された光線透過率
をモニタして、成膜を行えば、良好なガスバリア特性を
有するＡｌＯｘ膜が得られる。低い方の波長では、高い
方の波長に比べて光線透過率の変化に対する応答性が敏
感であり、光線透過率の微調整が可能であるが、設定さ
れた光線透過率が高いと識別が困難になる傾向にある。
従って、成膜中の測定光線透過率が設定された光線透過
率の上限を超える場合には、低い方の波長だけで制御す
ると、酸素の供給過剰になり、膜質の低下を生じるとい
う問題がある。そこで、高い方の波長で測定された光線
透過率に変化があらわれるまでを酸素導入量の限界とし
て制御する。

【００１２】上記所定の光線透過率としては、７７〜８
０％に設定することが好ましい。７７％未満に設定する
と、得られる膜の全光線透過率が低くなり、８０％を超
えると非成膜基板と成膜された基板との間の光線透過率
の差異の識別が困難になり、光線透過率の微調整が難し
いからである。

【００１３】上記基板はプラスチックまたはガラスであ
ってもよく、また、上記ＡｌＯｘ膜は金属またはセラミ
ックスである。ＡｌＯｘ膜の成膜に際し、基板を固定ま
たは移動しながら成膜することができる。

【００１４】本発明の膜特性の制御された膜を形成する
ための真空成膜装置は、真空成膜室と該成膜室内に設置
される基板送出・巻取装置とを有し、該送出・巻取装置
は、基板の送出ロール、冷却ドラム、巻取ロールからな
り、該基板が該送出ロールから繰り出されて該冷却ドラ
ムへと送られ、次いで該冷却ドラムの回転に伴われて連
続移動して該巻取ロールに巻き取られるように構成され
ており、該冷却ドラムの下方には、蒸発物質を収容する
容器が設置されて、該蒸発物質が加熱蒸発され、該基板
上に被膜として形成されるようになっており、該真空成
膜室には、反応ガス導入口が設けられて、この導入口か
ら反応ガスを導入して該基板上で目的膜の形成が行われ
るように構成されており、そして該冷却ドラムと該巻取
ロールとの間には、目的膜の形成された基板の光線透過
率を、紫外線域と可視光域との境界領域の波長およびそ
の領域の近傍の波長から選ばれた１波長と可視光域の１
波長との特定の２波長でそれぞれ測定し、モニタして所
定の光線透過率を保つように構成されている制御装置が
設けられている。この装置を用いることにより、水蒸気
透湿度、酸素透過率、全光線透過率のような膜特性が同
時に、成膜時に制御された目的膜を容易に形成すること
ができる。

【００１５】該基板は、送出ロールから冷却ドラムへと
ガイドロールを介して繰り出され、冷却ドラムから巻取
ロールへは別のガイドロールを介して巻き取られる。ま
た、蒸発物質の加熱手段は特に制限されないが、電子銃
からの電子ビーム照射により行われることが好ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。

【００１７】本発明において、成膜中、紫外線域と可視
光域との境界領域の波長およびその領域の近傍の波長か
ら選ばれた１波長と、可視光域の１波長との特定の２波
長によりＡｌＯｘ膜の光線透過率を測定し、モニタする
ための制御装置の構成を図１に示し、この制御装置を備
えた本発明の真空成膜装置を図２に示す。

【００１８】図１に示す制御装置は、ＡｌＯｘ膜の成膜
された基板１が投光側センサ２と受光側センサ３との間
を通過するように搬送されて、該センサ間を通過すると
きに光線透過率を測定できるように構成され、その光線
透過率をモニタできるようになっている。ランプハウス
４によって発生された所定の波長の光線、すなわち紫外
線域と可視光域との境界領域の波長およびその領域の近
傍の波長から選ばれた１波長ならびに可視光域の１波長
の各光線が、光ファイバケーブル５、光ファイバ導入フ
ランジ６を通過した後、投光側センサ２から測定対象物
であるＡｌＯｘ膜が成膜された基板１に対して発せら
れ、該膜を透過した光線は受光側センサ３によって受光
される。その後、この受光された光線に基づいて、透過
率モニタ本体７によりそれぞれの光線透過率が測定され
る。

【００１９】図１に示すような制御装置の構成は、従来
の金属膜の光線透過率測定装置とほとんど同じである。
可視光域の単一波長のみを使用した従来装置の場合、上
記したように、成膜された基板と非成膜基板との間の光
線透過率の差異が認識できず、不都合を生じることにな
るが、本発明の場合には、測定に用いる光線の波長とし
て、特定の２波長、好ましくは２５０ｎｍ〜４００ｎｍ
の範囲内の１波長と５００〜６００ｎｍの範囲内の１波
長とを併用しているので、単一波長を利用した場合と比
べて光線透過率の測定精度を向上させることができる。

【００２０】図１では、投光側のセンサ２、受光側のセ
ンサ３を、ＡｌＯｘ膜の形成された基板の幅方向に複数
個並べて示してあるが、特定の２波長のそれぞれについ
て、成膜された基板の光線透過率が適切に測定でき、モ
ニタできるようになっていれば、その配置は特に制限さ
れない。例えば、それぞれの波長について単一のセンサ
が基板の幅方向に走行するように構成されているもので
もよく、また、基板の幅方向に並べた複数個のセンサを
複数列設ける（例えば、低い波長および高い波長に対す
るセンサをそれぞれ一列とし、これを複数列設ける）よ
うに構成されているものでもよい。

【００２１】本発明の形成方法によりＡｌＯｘ膜を形成
するために用いる透明基板としては、誘電体からなる基
板、例えばポリプロピレン、ポリエステル、ナイロン等
からなるプラスチックフィルムであっても、シートであ
ってもよい。また、ロール状の長尺基板であっても、カ
ットシート基板であってもよい。ＡｌＯｘ膜の形成方法
としては、蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ
法のようなＣＶＤ法、イオンプレーティング法等を用い
ることができる。

【００２２】図２に示す本発明の真空成膜装置は、巻取
式真空蒸着装置であり、真空成膜室１１内に基板送出・
巻取装置１２が設けられ、この基板送出・巻取装置１２
は送出ロール１３、冷却ドラム１４、巻取ロール１５か
らなり、基板１６が送出ロール１３から繰り出され、ガ
イドロール１７、１８を介して冷却ドラム１４へと送ら
れ、次いで該基板は冷却ドラム１４の回転に伴われて連
続移動し、別のガイドロール１９、２０を介して巻取ロ
ール１５に巻き取られるように構成されている。冷却ド
ラム１４の下方には、蒸発物質２１を収容する電子ビー
ム蒸発用容器２２が設置され、電子銃２３からの電子ビ
ーム２４の照射により該蒸発物質が加熱蒸発され、該基
板上に被膜として形成されるようになっている。また、
真空成膜室１１には反応ガス導入口２５が設けられ、こ
の反応ガス導入口から導入される酸素ガス、酸素含有ガ
スのような反応ガスを、基板の成膜部近傍に配置された
ガス導入ノズルから基板上に導くようにして成膜が行わ
れる。図１では、紫外線域と可視光域との境界領域の波
長およびその領域の近傍の波長から選ばれた１波長を用
いる制御装置２６および可視光域の１波長を用いる制御
装置２７が、それぞれ、ガイドロール１９と巻取ロール
１５との間に設置され、成膜された基板の各光線透過率
を測定できるようにしてある。

【００２３】以下の実施例では、光線透過率の測定に用
いる光線の波長として、３５０ｎｍと５５０ｎｍとの２
波長を用いたが、上記したように、２５０〜４００ｎｍ
の範囲内の１波長と５００〜６００ｎｍの範囲内の１波
長とからなる２波長であれば、どの波長を用いてもよ
い。

【００２４】

【実施例】（実施例１）本実施例では、以下述べるよう
に、図２に示す巻取式真空蒸着装置を用いてＡｌＯｘ膜
の形成を行い、同一装置内で、得られた膜の光線透過率
を３５０ｎｍの波長と５５０ｎｍの波長との２波長を用
いてそれぞれ測定し、モニタしながら所定の光線透過率
を保つように酸素ガス（または酸素含有ガス）の導入
量、Ａｌ蒸発量を制御して成膜を続け、所望のＡｌＯｘ
膜を得た。また、得られた膜の光線透過率を上記２波長
の代わりに５５０ｎｍの単一波長のみを用いて測定し、
上記と同様にして成膜を続け、別のＡｌＯｘ膜を得、こ
の膜と上記本発明の膜との比較を行った。

【００２５】先ず、送出ロール１３に巻かれた厚さ１２
μｍのＰＥＴフィルムの長尺基板１６に通常の巻取張力
を与えて、２×ｌ０^-5Ｔｏｒｒの成膜室内１１内を、ガ
イドロール１７および１８を介して金属製の冷却ドラム
１４へ、２００ｍ／ｍｉｎの速度で移動させ、出力１２
０Ｋｗの電子銃２３からの電子ビーム２４の照射によ
り、容器２２内の蒸発物質（Ａｌ）２１を加熱蒸発さ
せ、基板１６上に所定の膜厚（５０〜１３０オングスト
ローム）のＡｌを蒸着せしめた。次いで、基板１６が冷
却ドラム１４を通過する際、反応ガス導入口２５から酸
素ガスを導入して、この酸素ガスを成膜部近傍に設置さ
れたガス導入ノズルから基板上に導き、ＡｌＯｘ膜を作
製した。成膜されたＡｌＯｘ膜について、巻取ロール１
５に巻き取られる前に、３５０ｎｍの波長を用いる制御
装置２６および５５０ｎｍの波長を用いる制御装置２７
によって、それぞれの波長における光線透過率を測定
し、モニタした。モニタしながら、３５０ｎｍの波長で
測定した光線透過率が所定の光線透過率（７７〜８０
％）になるように酸素ガス導入量を調整し、該所定の光
線透過率を保つように設定した。所定の光線透過率に設
定した段階で、酸素ガス導入量を固定して、さらに成膜
を続けた。なお、光線透過率をモニタしながら成膜し、
成膜中に光線透過率が変化して設定された所定の光線透
過率の範囲を外れて下がった場合には、電子ビームの出
力を変えてＡｌの蒸発量を調整し、所定の光線透過率が
保たれるようにした。また、設定された所定の光線透過
率の範囲を外れて上昇した場合、５５０ｎｍの波長で測
定した波長の光線透過率に基づいて設定された所定の光
線透過率の上限値を超えたときに、電子ビームの出力を
変えてＡｌの蒸発量を調整し、この所定の光線透過率が
保たれるようにした。このようにして、所望の膜厚およ
び光線透過率の管理ができた。

【００２６】使用した長尺基板の全光線透過率は８８．
３％、ガスバリヤ特性は水蒸気透湿度４２ｇ／ｍ²・ｄ
ａｙ、酸素透過率１３７ｇ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍであ
った。５５０ｎｍ波長を用いる制御装置２７によって制
御して得たＡｌＯｘ膜は、水蒸気透湿度０．８ｇ／ｍ²
・ｄａｙ、酸素透過率１．０４ｇ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔ
ｍと良好なガスバリヤ性を有するものであったが、全光
線透過率は８３％と低く、完全なＡｌ₂Ｏ₃膜に見られる
ような膜の透明性は得られず、ガスバリア膜としては不
満足であった。これに対し、３５０ｎｍの波長を用いる
制御装置２６と５５０ｎｍの波長を用いる制御装置２７
とによって制御したＡｌＯｘ膜は、水蒸気透湿度０．９
ｇ／ｍ²・ｄａｙ、酸素透過率１．０ｇ／ｍ²・ｄａｙ・
ａｔｍと良好なガスバリヤ性を有し、且つ、その全光線
透過率は８８％と高く、良好なガスバリア膜であった。

【００２７】本発明の方法によりＰＥＴフィルム上に形
成した透明ＡｌＯｘガスバリヤ膜の３００ｎｍから７８
０ｎｍまでの波長における光線透過率を調べた結果を図
３に示す。図３中の符号ａは使用した長尺基板自体の光
線透過率を示し、符号ｂはＡｌＯｘ膜を形成した長尺基
板の光線透過率を示す。符号ｂで示す光線透過率を見る
と、可視光域内の広い波長範囲にわたって（４００ｎｍ
を超える波長）ＡｌＯｘ膜による干渉が起こっているこ
とがわかる。また、符号ｂおよびａで示す光線透過率か
ら、３２５〜４００ｎｍの波長領域では、４００ｎｍを
超える波長領域と比較して、成膜された基板と非成膜基
板との光線透過率の差異があらわれやすいことがわか
る。

【００２８】なお、本発明で基板として用いる、例え
ば、ＰＥＴフィルムの光線透過率は、ほとんどのものが
図３に示したａと同様の曲線傾向を示すが、ＰＥＴの製
造メーカによって、またフィルムの種類によっても測定
可能な波長や光線透過率に多少のバラツキはある。しか
しながら、２５０ｎｍ程度以上の波長であれば光線透過
率の測定が可能でありかつ成膜された基板と非成膜基板
との光線透過率の差異があらわれやすい。従って、膜特
性の制御されたＡｌＯｘ膜を形成するには、低い方の波
長の下限値は、２５０ｎｍであることが好ましいといえ
よう。

【００２９】また、このように２波長を用いた場合、図
３の符号ｃで示すように、３５０ｎｍの測定結果と５５
０ｎｍの測定結果との間を直線で結び、その傾きを求め
たところ、この傾きを制御することにより、光線透過率
のみならず、膜の色調も制御できることがわかった。実
験の結果、直線の傾きが大きいほど、青色が強くなる傾
向にあった。なお、色調については、傾きが異なること
は可視域での吸収波長が異なることに対応しており、同
一傾きにすることにより再現性の良い色調が可能とな
る。

【００３０】

【発明の効果】本発明の形成方法によれば、透明ガスバ
リヤ膜としてのＡｌＯｘ膜の形成にあたり、紫外線域と
可視光域との境界領域の波長およびその領域の近傍の波
長から選ばれた１波長と、可視光域の１波長との２波長
のそれぞれの波長における膜の光線透過率を制御するこ
とにより、全光線透過率、水蒸気透湿度、酸素透過率と
いう膜特性を容易に制御し、ガスバリア膜としての満足
すべき特性を得ることができると共に、膜の色調につい
ても容易に制御可能である。また、本発明の真空成膜装
置を用いれば、良好な膜特性を有するＡｌＯｘ膜を有効
に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の方法の実施に使用する制御装置の一例
を、模式的に示す構成図。

【図２】本発明の方法の実施に使用することのできる真
空成膜装置の構成の一例を模式的に示す裁断側面図。

【図３】ＡｌＯｘ膜の形成されたＰＥＴフィルム基板お
よび非成膜ＰＥＴフィルム基板の光線透過率の一例を示
すグラフ。

【符号の説明】

１基板２投光側セン
サ３受光側センサ４ランプハウ
ス５光ファイバケーブル６光ファイバ
導入フランジ７透過率モニタ本体１１真空成膜室１２基板送出・巻取装置１３送出ロー
ル１４冷却ドラム１５巻取ロー
ル１６基板１７、１８、１
９、２０ガイドロール２１蒸発物質２２電子ビー
ム蒸発用容器２３電子銃２４電子ビー
ム２５反応ガス導入口２６、２７制
御装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空成膜室内で、Ａｌおよび反応ガスと
しての酸素ガスまたは酸素含有ガスを用いて、誘電体か
らなる透明基板上に透明ガスバリヤ膜としてのＡｌＯｘ
膜を形成する方法において、該真空成膜室内で、該基板
上に形成されたＡｌＯｘ膜の光線透過率を、紫外線域と
可視光域との境界領域の波長およびその領域の近傍の波
長から選ばれた１波長と、可視光域の１波長との特定の
２波長にてそれぞれ測定し、両方の測定値をモニタしな
がら、測定された光線透過率が所定の光線透過率になる
ように該反応ガスの導入量を調整し、その後、該所定の
光線透過率を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を行い、
水蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率の制御された
ＡｌＯｘ膜を形成することを特徴とする膜特性の制御さ
れたＡｌＯｘ膜の形成方法。
【請求項２】前記反応ガスの導入量を調整して、前記
紫外線域と可視光域との境界領域の波長およびその領域
の近傍の波長から選ばれた１波長で測定された光線透過
率を所定の光線透過率(Ａ)に設定した後、この段階で反
応ガスの導入量を固定し、該所定の光線透過率(Ａ)を保
つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を行い、成膜中の測定透
過率が該所定の光線透過率(Ａ)の設定透過率より低くな
った場合には、該所定の光線透過率(Ａ)をモニタしてＡ
ｌ蒸発量を調整することにより、該所定の光線透過率
(Ａ)を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を続け、また、
成膜中の測定透過率が可視光域の１波長に基づいて設定
された所定の光線透過率(Ｂ)の設定透過率より高くなっ
た場合には、該所定の光線透過率(Ｂ)をモニタしてＡｌ
蒸発量を調整することにより、該所定の光線透過率(Ｂ)
を保つようにしてＡｌＯｘ膜の形成を続け、水蒸気透湿
度、酸素透過率、全光線透過率の制御されたＡｌＯｘ膜
を形成することを特徴とする請求項１記載の形成方法。
【請求項３】上記紫外線域と可視光域との境界領域の
波長およびその領域の近傍の波長から選ばれた１波長が
２５０〜４００ｎｍの範囲内にあり、また、可視光域の
１波長が５００〜６００ｎｍの範囲内にあることを特徴
とする請求項１または２記載の形成方法。
【請求項４】上記所定の光線透過率が７７〜８０％で
あることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の
形成方法。
【請求項５】上記基板を固定または移動しながら成膜
することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の
方法。
【請求項６】真空成膜室と該成膜室内に設置される基
板送出・巻取装置とを有し、該送出・巻取装置は、基板
の送出ロール、冷却ドラム、巻取ロールからなり、該基
板が該送出ロールから繰り出されて該冷却ドラムへと送
られ、次いで該冷却ドラムの回転に伴われて連続移動し
て該巻取ロールに巻き取られるように構成されており、
該冷却ドラムの下方には、蒸発物質を収容する容器が設
置されて、該蒸発物質が加熱蒸発され、該基板上に被膜
として形成されるようになっており、該真空成膜室に
は、反応ガス導入口が設けられて、この導入口から反応
ガスを導入して該基板上で目的膜の形成が行われるよう
に構成されており、そして該冷却ドラムと該巻取ロール
との間には、目的膜の形成された基板の光線透過率を、
紫外線域と可視光域との境界領域の波長およびその領域
の近傍の波長から選ばれた１波長と可視光域の１波長と
の特定の２波長でそれぞれ測定し、モニタして所定の光
線透過率を保つように構成されている制御装置が設けら
れていることを特徴とする膜特性の制御された膜を形成
するための真空成膜装置。