JP2001179934A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】１回の印刷工程で印刷層の成形不良欠陥の発生
を可及的に抑制し、しかも、印刷層の膜厚を厚くして、
光反射層や保護層などの色の遮蔽度を高めて美麗な印刷
を得ることができ、また、製造設備を小型化するととも
に製造コストの低廉化を実現させる。 【解決手段】メッシュ３４を有するマスク３０上にイン
キを滴下し、スキージ３２によって該マスク３０を基板
１０２上に形成された保護層１０８に押圧しながら該保
護層１０８上に所望の文字等を印刷して印刷層１１０を
形成する印刷工程を含み、該マスク３０を構成する該メ
ッシュ３４の数を１５０メッシュ以上、２５０メッシュ
以下とし、かつ、該インキの粘度を１００Ｐ以上、３０
０Ｐ以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒートモード型の
光情報記録媒体の製造方法に関し、特に、保護層上に文
字等を印刷する印刷工程に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光情報記録媒体の保護層上への
文字等の印刷方法として、スクリーン印刷法が採用され
ている。このスクリーン印刷法は、光情報記録媒体の保
護層上にメッシュ（開口部）を有するマスクを固定し
て、該マスク上にインキを滴下する。その後、スキージ
により前記マスクを前記保護層に押圧しながら、該スキ
ージが該マスク上を摺動することにより前記メッシュか
らインキを押し出して保護層上に文字等を印刷するもの
である。

【０００３】スクリーン印刷法で用いられるスクリーン
印刷版のメッシュ数は、通常、３００メッシュ以上、３
５０メッシュ以下であり、この場合、約１０μｍの印刷
層の膜厚を得ることができる。

【０００４】スクリーン印刷によって下地色（光反射層
及び保護層の色）を完全に遮蔽したい場合には、通常の
膜厚よりも印刷層の膜厚を厚くする必要がある。印刷層
の膜厚を厚くする方法としては、スクリーン印刷版のメ
ッシュ数を少なく（粗く）すればよいことが知られてい
る。また、別の方法としては、印刷工程を２回繰り返し
て行い、２倍の膜厚を得る方法がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、メッシュ数
を少なく（粗く）してスクリーン印刷を行う場合、スク
リーン印刷版にインキを滴下した際に、インキがメッシ
ュを通り抜けて直接保護層に垂れ流れてしまうことがあ
る。そのため、印刷層の成形不良欠陥が発生するという
不具合を生じている。

【０００６】また、印刷工程を２回繰り返して行う場
合、１色につき２個のインキ塗布ノズルを使用するた
め、色数が多い印刷では、印刷設備の大型化を招き製造
コストが高騰するという難点がある。

【０００７】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、１回の印刷工程で印刷層の成形不良欠陥
の発生を可及的に抑制し、しかも、印刷層の膜厚を厚く
して、光反射層や保護層などの色の遮蔽度を高めて美麗
な印刷を得ることができ、また、製造設備を小型化する
とともに製造コストの低廉化を実現させることができる
光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、レ
ーザ光の照射により情報を記録することができる色素記
録層と、光反射層と、前記色素記録層を保護するための
保護層と、印刷層とを有するヒートモード型の光情報記
録媒体の製造方法において、メッシュを有するマスク上
にインキを滴下し、スキージにより前記マスクを前記保
護層に押圧しながら該スキージが該マスク上を摺動する
ことにより、該保護層上に文字等を印刷して前記印刷層
を形成する印刷工程を含み、前記マスクのメッシュの数
を１５０メッシュ以上、２５０メッシュ以下とし、か
つ、前記インキの粘度を１００Ｐ以上、３００Ｐ以下と
することを特徴とする。これにより、１回の印刷工程で
印刷層の成形不良欠陥の発生を可及的に抑制しながら印
刷することができ、製造設備を小型化するとともに製造
コストの低廉化を実現させることができる。

【０００９】この光情報記録媒体の製造方法において、
前記スキージの材質はウレタンゴムであってもよい。ま
た、前記スキージの押圧力を０．１９ＭＰａ（２ｋｇ／
ｃｍ ²）以上、０．４９ＭＰａ（５ｋｇ／ｃｍ²）以下と
することが好ましく、より好ましくは０．２４ＭＰａ
（２．５ｋｇ／ｃｍ²）以上、０．３４ＭＰａ（３．５
ｋｇ／ｃｍ²）以下ある。さらにまた、前記スキージの
ショア硬度をＨｓ７５以上、Ｈｓ８５以下とすることが
好ましく、さらに好ましくはＨｓ７５以上、Ｈｓ８０以
下である。これにより、マスクの破損の発生を防止する
ことが可能となる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光情報記録媒
体の製造方法において用いられる印刷システムの実施の
形態例（以下、単に実施の形態に係る印刷システムと記
す）を、図１〜図３を参照しながら説明する。

【００１１】本実施の形態に係る印刷システム１０は、
図１及び図２に示すように、被印刷物である基板１０２
を装着するための略凸型の基台１２と、インキを塗布す
るインキ塗布装置１４と、所望の文字等を基板１０２上
に形成された保護層１０８上に印刷する印刷装置１６と
を有して構成されている。前記基台１２は、基板１０２
を固定するための着脱可能な固定具１３を備えている。

【００１２】インキ塗布装置１４は、インキが充填され
た加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル
１８に引き回されたパイプ（図示せず）と、該ノズル１
８から吐出されるインキの量を調整する吐出量調整バル
ブ２０とを有し、インキは該ノズル１８を通してその所
定量が吐出されるようになっている。

【００１３】このインキ塗布装置１４は、ノズル１８を
下方に向けて支持する支持板２２と、該支持板２２を水
平方向に旋回させるモータ２４とを有するハンドリング
機構２６によって、待機位置から基板１０２の上方の位
置に旋回移動できるように構成されている。

【００１４】印刷装置１６は、基板１０２の上方に配置
されており、枠２８と、該枠２８に固着されているマス
ク３０と、該マスク３０を該基板１０２方向に押圧する
ためのウレタンゴム製のスキージ３２とを有している。
前記枠２８は支持部材（図示せず）に支持されている。

【００１５】前記マスク３０は、メッシュ３４と、該メ
ッシュ３４の底面に当接し、印刷したい所望の文字が形
成されている印刷版３６とから構成されている。前記メ
ッシュ３４は、その粗さ（メッシュの数の多さ）が違う
各種のメッシュに交換可能である。また、前記印刷版３
６も、各種の文字等が形成された印刷版に交換可能であ
る。

【００１６】前記スキージ３２は保持部３８を介して、
該スキージ３２を基板１０２の上方の位置に旋回移動さ
せる駆動機構４０に接続されている。さらに、前記駆動
機構４０は、前記マスク３０を前記基板１０２上の保護
層１０８に押圧しながら前記スキージ３２が該マスク３
０上を摺動可能となる機構も有している。

【００１７】前記マスク３０と基板１０２との間は、所
定間隔離間している。このため、前記スキージ３２が前
記マスク３０を前記基板１０２上の保護層１０８に押圧
しても、該基板１０２と該マスク３０とが固着すること
がない構造となっている。

【００１８】本実施の形態に係る印刷システム１０は、
基本的には以上のように構成されるものであり、次にそ
の作用及び効果について説明する。

【００１９】本実施の形態における光ディスクＤは、図
３に示すように、射出成形機によりグルーブ（凹凸）１
００が形成された基板１０２の上に、情報を記録するこ
とができる色素記録層１０４と、光反射層１０６と、該
色素記録層１０４を保護するための保護層１０８と、印
刷層１１０とを有している。

【００２０】ここで、基板１０２の材料としては、例え
ばポリカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の
塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
レフィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所
望によりそれらを併用してもよい。上記の材料の中で
は、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカー
ボネートが好ましい。また、グルーブ（凹凸）１００の
深さは、０．０１〜０．３μｍの範囲内であることが好
ましく、その半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲内で
あることが好ましい。

【００２１】また、基板１０２の一主面上に形成される
色素記録層１０４の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの
範囲内であり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲内に
設けられる。なお、色素溶液としては色素を適当な溶剤
に溶解した溶液が用いられる。色素溶液中の色素の濃度
は、一般に０．０１〜１５重量％の範囲内にあり、好ま
しくは０．１〜１０重量％の範囲内、特に好ましくは
０．５〜５重量％の範囲内、最も好ましくは０．５〜３
重量％の範囲内にある。

【００２２】ここで、色素記録層１０４に用いられる色
素は特に限定されない。使用可能な色素の例としては、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノ
キサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色
素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎ
ｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、イン
ドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシ
アニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジ
インモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることが
できる。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、フ
タロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリ
ウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサ
リン系色素が好ましい。

【００２３】色素記録層１０４を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；
シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどの
フッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエー
テル類などを挙げることができる。

【００２４】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロ
パノールなどのフッ素系溶剤である。なお、色素溶液中
には、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など
の各種添加剤を、目的に応じて添加してもよい。

【００２５】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

【００２６】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。

【００２７】結合剤を使用する場合、結合剤の使用量
は、色素１００重量部に対して、一般に２０重量部以下
であり、好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは５
重量部以下である。

【００２８】なお、色素記録層１０４が設けられる側の
基板１０２の表面には、平面性の改善、接着力の向上お
よび色素記録層１０４の変質防止などの目的で、下塗層
を設けるようにしてもよい。

【００２９】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。

【００３０】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して色素溶液を調整した後、この色素溶液をス
ピンコート、ディップコート、エクストルージョンコー
トなどの塗布法を利用して基板１０２の表面に塗布する
ことにより形成することができる。下塗層の層厚は、一
般に０．００５〜２０μｍの範囲内、好ましくは０．０
１〜１０μｍの範囲内に設けられる。

【００３１】色素記録層１０４上に形成される光反射層
１０６の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反
射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、
Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓ
ｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。

【００３２】これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよく、または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはＡｇもしくはその合金
である。

【００３３】また、光反射層１０６は、例えば、前記光
反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレー
ティングすることにより色素記録層１０４上に形成する
ことができる。光反射層１０６の層厚は、一般には１０
〜８００ｎｍの範囲内、好ましくは２０〜５００ｎｍの
範囲内、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲内に設
けられる。

【００３４】なお、光反射層１０６の安定した成膜、光
反射層１０６の連続成膜、並びに歩留まりの向上を図る
ため、基板１０２の外形よりも僅かに小さい外形で光反
射層１０６を形成する。基板１０２の外形を、例えば、
１２０ｍｍとしたとき、光反射層１０６の外形を、例え
ば、１１９ｍｍとして形成する。これに合わせて、光反
射層１０６上に形成する保護層１０８も、基板１０２の
外形よりも僅かに小さい外形で形成する。なお、保護層
１０８については、基板１０２の最外周まで形成するよ
うにしてもよい。

【００３５】色素記録層１０４を物理的及び化学的に保
護するために光反射層１０６上に設けられる保護層１０
８は、該光反射層１０６上にＵＶ硬化液を塗布して、そ
の後、該ＵＶ硬化液に対して紫外線を照射して該ＵＶ硬
化液を乾燥することにより形成される。

【００３６】ここで、保護層１０８で使用される材料と
してはＵＶ硬化液以外に、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、
ＭｇＦ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の無機物質、熱可塑
性樹脂、及び熱硬化性樹脂等の有機物質を挙げることが
できる。

【００３７】そして、本実施の形態においては、紫外線
照射作業を２回に分けて実施してもよい。これにより、
１回の紫外線照射作業につき発生する熱量を抑制でき、
発生した熱により基板１０２に反りが発生するなどの不
具合を生じることを防止できる。また、発熱量が抑制さ
れるため、色素記録層１０４の記録再生特性が劣化する
ことを阻止することができる。また、熱による基板１０
２の反りを防止するために、紫外線をパルスで照射する
ことも可能である。なお、保護層１０８は、基板１０２
の色素記録層１０４が設けられていない側にも耐傷性、
耐湿性を高める目的で設けることができる。

【００３８】保護層１０８まで形成された基板１０２は
印刷システム１０に搬送され、その保護層１０８上に所
望の文字等が印刷されて印刷層１１０が形成される。こ
の印刷システム１０に搬送された基板１０２は、図１に
示す基台１２に装着され、固定具１３により水平に保持
される。次に、加圧式タンクから供給されたインキは、
吐出量調整バルブ２０によって所定量に調整され、ノズ
ル１８を通してマスク３０上の一端部に滴下される。

【００３９】ここで、本実施の形態に用いられるインキ
の粘度としては、１００Ｐ以上、３００Ｐ以下の範囲内
が好ましく、さらに好ましくは、１５０Ｐ以上、２５０
Ｐ以下の範囲内である。

【００４０】インキの滴下が終了すると同時に、インキ
塗布装置１４を構成するハンドリング機構２６によっ
て、ノズル１８が基板１０２の上方の位置から待機位置
まで旋回される。前記ハンドリング機構２６が、前記ノ
ズル１８を待機位置まで旋回させると同時に、印刷装置
１６を構成する駆動機構４０が駆動し始める。それによ
り、スキージ３２が前記基板１０２の上方まで旋回され
て、前記マスク３０上の一端部に当接される。

【００４１】その後、前記駆動機構４０の作用により、
前記スキージ３２は前記マスク３０を前記基板１０２上
の保護層１０８に押圧しながら、該マスク３０上を摺動
する。これにより、前記マスク３０上に滴下されたイン
キは、該マスク３０を構成するメッシュ３４を介して印
刷版３６から前記基板１０２上に形成された保護層１０
８上に塗布される。このとき、前記印刷版３６には、印
刷したい所望の文字等が形成されているため、前記基板
上１０２に形成された保護層１０８上に所望の文字等が
印刷された印刷層１１０が形成されて光ディスクＤとし
て構成されることになる。

【００４２】なお、前記エッジ部分に前記スキージ３２
の押圧力がかかると前記マスク３０を破損させるおそれ
があるため、前記基板１０２のエッジ部分を避けて印刷
が行われるようになっている。

【００４３】本実施の形態におけるメッシュ３４の数
は、１５０メッシュ以上、２５０メッシュ以下、好まし
くは１８０メッシュ以上、２３０メッシュ以下、さらに
好ましくは２００メッシュ以上、２１０メッシュ以下で
ある。また、スキージ３２の押圧力としては、０．１９
ＭＰａ（２ｋｇ／ｃｍ²）以上、０．４９ＭＰａ（５ｋ
ｇ／ｃｍ²）以下の範囲内が好ましく、さらに好ましく
は、０．２４ＭＰａ（２．５ｋｇ／ｃｍ²）以上、０．
３４ＭＰａ（３．５ｋｇ／ｃｍ²）以下の範囲内であ
る。さらにまた、スキージ３２のショア硬度としては、
Ｈｓ７５以上、Ｈｓ８５以下の範囲内が好ましく、さら
に好ましくは、Ｈｓ７５以上、Ｈｓ８０以下の範囲内で
ある。

【００４４】ここで、ショア硬度とは、先端に略球面の
ダイヤモンドをもつハンマーを試料に落下させて、該試
料のはね上がりの高さを測定し、その高さに準じて該試
料の硬度を決定したものである。

【００４５】

【実施例】次に、６つの実験例について説明する。この
６つの実験例では、サンプル１〜２６をそれぞれ１００
００枚用意し、光ディスクＤを作製する製造システム中
の印刷工程において、図１に示す印刷システム１０を用
いて光ディスクＤを作製した。

【００４６】前記サンプルに使用される基板１０２は、
射出成形機（住友重機械工業（株）製）により、その表
面にスパイラル状のグルーブ（凹凸）１００（トッラク
ピッチ１．６μｍ、グルーブ幅０．５２μｍ、グルーブ
の深さ１７５ｎｍ）を有するポリカーボネート基板１０
２（直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ）である。

【００４７】また、前記サンプルに使用される基板１０
２上に、色素記録層１０４、光反射層１０６を形成し、
保護液として、ＵＶ硬化型オーバーコート剤であるダイ
キュアクリアＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業
（株）製）を用いて、スピンコート法により膜厚が９μ
ｍの保護層１０８を形成した。

【００４８】ここで、第１〜第３の実験例では、インキ
の粘度及びマスク３０を構成するメッシュ３４のメッシ
ュ数を変化させたときの、印刷層１１０の膜厚及び該印
刷層１１０の成形不良欠陥の発生の有無を、各サンプル
毎にみたものである。

【００４９】第１の実験例では、粘度４２Ｐのインキを
使用した。第１の実験例の各サンプルにおけるメッシュ
数は、サンプル１は３５０メッシュ、サンプル２は３０
０メッシュ、サンプル３は２５０メッシュである。

【００５０】第２の実験例では、粘度８０Ｐのインキを
使用した。第２の実験例の各サンプルにおけるメッシュ
数は、サンプル４は３００メッシュ、サンプル５は２５
０メッシュ、サンプル６は２２５メッシュ、サンプル７
は２００メッシュである。

【００５１】第３の実験例では、粘度１２５Ｐのインキ
を使用した。第３の実験例の各サンプルにおけるメッシ
ュ数は、サンプル８は３００メッシュ、サンプル９は２
５０メッシュ、サンプル１０は２２５メッシュ、サンプ
ル１１は２００メッシュ、サンプル１２は１８０メッシ
ュ、サンプル１３は１６０メッシュ、サンプル１４は１
３５メッシュである。

【００５２】第４及び第５の実験例では、インキの粘度
及びスキージ３２の押圧力を変化させたときの、印刷層
１１０の成形不良欠陥の発生枚数及びマスク３０を構成
する印刷版３６が破損するまでの印刷回数を、各サンプ
ル毎にみたものである。ここで、第４及び第５の実験例
においては、２００メッシュのマスク３０を使用した。

【００５３】第４の実験例では、粘度４２Ｐのインキを
用いた。第４の実験例の各サンプルにおけるスキージ３
２の押圧力は、サンプル１５は０．１９ＭＰａ（２ｋｇ
／ｃｍ²）、サンプル１６は０．４９ＭＰａ（５ｋｇ／
ｃｍ²）、サンプル１７は０．０９８ＭＰａ（１ｋｇ／
ｃｍ²）、サンプル１８は０．６９ＭＰａ（７ｋｇ／ｃ
ｍ²）である。

【００５４】第５の実験例では、粘度１２５Ｐのインキ
を用いた。第５の実験例の各サンプルにおけるスキージ
３２の押圧力は、サンプル１９は０．２９ＭＰａ（３ｋ
ｇ／ｃｍ²）、サンプル２０は０．４９ＭＰａ（５ｋｇ
／ｃｍ²）、サンプル２１は０．０９８ＭＰａ（１ｋｇ
／ｃｍ²）、サンプル２２は０．６９ＭＰａ（７ｋｇ／
ｃｍ²）である。

【００５５】第６の実験例では、メッシュ数を２００、
インキの粘度を２００Ｐ、スキージ３２の押圧力を０．
２９ＭＰａ（３ｋｇ／ｃｍ²）とし、スキージ３２のシ
ョア硬度を変化させたときの、印刷版３６が破損するま
での印刷回数を、各サンプル毎にみたものである。

【００５６】第６の実験例の各サンプルにおけるスキー
ジ３２のショア硬度は、サンプル２３はＨｓ６０、サン
プル２４はＨｓ７０、サンプル２５はＨｓ８０、サンプ
ル２６はＨｓ９０である。

【００５７】この６つの実験結果を図４〜図９に示す。
第１〜第３の実験結果から諒解されるように、インキの
粘度を１００Ｐ以上とし、かつ、マスク３０を構成する
メッシュ３４のメッシュ数を２５０以下にすることによ
り（サンプル８〜サンプル１２参照）、印刷層１１０の
成形不良欠陥の発生を可及的に防止することができる。
しかも、印刷層１１０の膜厚を厚くできるため、光反射
層１０６や保護層１０８などの色の遮蔽度を高めて美麗
な印刷をすることが可能となる。

【００５８】また、第４〜第６の実験結果から諒解され
るように、スキージ３２の押圧力を０．１９ＭＰａ（２
ｋｇ／ｃｍ²）以上、０．４９ＭＰａ（５ｋｇ／ｃｍ²）
以下とすることにより（サンプル１５及びサンプル１６
参照）、印刷層１１０の成形不良欠陥の発生を可及的に
防止できるとともに印刷版３６を破損させることなく印
刷することができる。そして、スキージ３２のショア硬
度をＨｓ７５以上、Ｈｓ８５以下とすることにより（サ
ンプル２３〜サンプル２５参照）、印刷版３６の破損の
発生をさらに抑制することができる。

【００５９】なお、この発明に係る光情報記録媒体の製
造方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨
を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもち
ろんである。

【００６０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光情
報記録媒体の製造方法によれば、１回の印刷工程で印刷
層の成形不良欠陥の発生を可及的に抑制し、しかも、印
刷層の膜厚を厚くして、光反射層や保護層などの色の遮
蔽度を高めて美麗な印刷を得ることができ、また、製造
設備を小型化するとともに製造コストの低廉化を実現さ
せるという特有の効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係る印刷システムを示す構成図
である。

【図２】本実施の形態に係る印刷システムを示す斜視図
である。

【図３】グルーブを形成した基板上に色素記録層、光反
射層、保護層及び印刷層を形成した状態を示す説明図で
ある。

【図４】第１の実験例の結果を示す表図である。

【図５】第２の実験例の結果を示す表図である。

【図６】第３の実験例の結果を示す表図である。

【図７】第４の実験例の結果を示す表図である。

【図８】第５の実験例の結果を示す表図である。

【図９】第６の実験例の結果を示す表図である。

【符号の説明】

１０…印刷システム ３０…マスク ３２…スキージ ３４…メッシュ １０２…基板 １０４…色素記録層 １０６…光反射層 １０８…保護層 １１０…印刷層 Ｄ…光ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C035 AA06 FC10 FD04 FD15 FD31 FD32 FD34 FD42 FD43 FD52 FF22 5D121 AA03 AA20 EE20 EE24 GG10 GG28

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、レーザ光の照射により情報を記
   録することができる色素記録層と、光反射層と、前記色
   素記録層を保護するための保護層と、印刷層とを有する
   ヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法において、 メッシュを有するマスク上にインキを滴下し、スキージ
   により前記マスクを前記保護層に押圧しながら該スキー
   ジが該マスク上を摺動することにより、該保護層上に文
   字等を印刷して前記印刷層を形成する印刷工程を含み、 前記マスクのメッシュの数を１５０メッシュ以上、２５
   ０メッシュ以下とし、かつ、前記インキの粘度を１００
   Ｐ以上、３００Ｐ以下とすることを特徴とする光情報記
   録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】請求項１記載の光情報記録媒体の製造方法
   において、 前記スキージの材質は、ウレタンゴムであることを特徴
   とする光情報記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】請求項１又は２記載の光情報記録媒体の製
   造方法において、 前記スキージの押圧力を０．１９ＭＰａ（２ｋｇ／ｃｍ
   ²）以上、０．４９ＭＰａ（５ｋｇ／ｃｍ²）以下とする
   ことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情
   報記録媒体の製造方法において、 前記スキージのショア硬度をＨｓ７５以上、Ｈｓ８５以
   下とすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。