JP2001176834A - ウェハ洗浄装置 - Google Patents
ウェハ洗浄装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】洗浄槽やウェハに悪影響を与える結晶物の脱落
をそのままにせず、パーティクルを削減する高信頼性ウ
ェハ洗浄を実現するウェハ洗浄装置を提供する。 【解決手段】それぞれ所定の洗浄液の入った複数の洗浄
槽１１〜１３が配備され、複数枚のウェハＷＦを洗浄処
理する多槽式の洗浄装置であって、ウェハＷＦを搬送す
るロボットアーム１４の移動軸１８が突出するパネル開
口部１６と、パネル開口部１６を保護し、移動軸１８の
移動に伴って動く保護用のテフロンシート１７と、パネ
ル開口部１６両端部とテフロンシート１７の表面近傍が
擦れる領域付近に備えられた、テフロンシート１７にお
ける不要物を取り込む粘着ローラー１９とを具備してい
る。
をそのままにせず、パーティクルを削減する高信頼性ウ
ェハ洗浄を実現するウェハ洗浄装置を提供する。 【解決手段】それぞれ所定の洗浄液の入った複数の洗浄
槽１１〜１３が配備され、複数枚のウェハＷＦを洗浄処
理する多槽式の洗浄装置であって、ウェハＷＦを搬送す
るロボットアーム１４の移動軸１８が突出するパネル開
口部１６と、パネル開口部１６を保護し、移動軸１８の
移動に伴って動く保護用のテフロンシート１７と、パネ
ル開口部１６両端部とテフロンシート１７の表面近傍が
擦れる領域付近に備えられた、テフロンシート１７にお
ける不要物を取り込む粘着ローラー１９とを具備してい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置製造に
係り、特にフッ酸を含む洗浄液によるウェハの洗浄を含
み、ウェハの搬送がロボットアームを用いた搬送を伴っ
て行われる多槽式のウェハ洗浄装置に関する。
係り、特にフッ酸を含む洗浄液によるウェハの洗浄を含
み、ウェハの搬送がロボットアームを用いた搬送を伴っ
て行われる多槽式のウェハ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウェハ洗浄装置には、一般にＲＣＡ洗浄
を基本としたロボットアームによる自動搬送を伴って行
われるものがある。ＲＣＡ洗浄は、１９７０年代初めに
米ＲＣＡ社によって開発されたＬＳＩ製造工程（ウェハ
工程）における基本的な洗浄方法である。今日までに、
洗浄液の純度や洗浄装置のクリーン度がかなり向上し、
洗浄工程の簡略化がなされてきた。
を基本としたロボットアームによる自動搬送を伴って行
われるものがある。ＲＣＡ洗浄は、１９７０年代初めに
米ＲＣＡ社によって開発されたＬＳＩ製造工程（ウェハ
工程）における基本的な洗浄方法である。今日までに、
洗浄液の純度や洗浄装置のクリーン度がかなり向上し、
洗浄工程の簡略化がなされてきた。
【０００３】しかし、ウェハ表面の金属汚染を除去する
ＤＨＦ洗浄（diluteＨＦ、すなわちＨＦとＨ2 Ｏ、希釈
ＨＦによる洗浄）、ウェハ表面のパーティクルと有機物
汚染を除去するＡＰＭ洗浄（ammonium hydroxide / hyd
rogen peroxide / water mixすなわちＮＨ4 ＯＨとＨ2
Ｏ2 の混合液による洗浄）などの洗浄工程はいまだ重要
であり、多槽式のウェハ洗浄装置は洗浄液数分の槽を備
えている。
ＤＨＦ洗浄（diluteＨＦ、すなわちＨＦとＨ2 Ｏ、希釈
ＨＦによる洗浄）、ウェハ表面のパーティクルと有機物
汚染を除去するＡＰＭ洗浄（ammonium hydroxide / hyd
rogen peroxide / water mixすなわちＮＨ4 ＯＨとＨ2
Ｏ2 の混合液による洗浄）などの洗浄工程はいまだ重要
であり、多槽式のウェハ洗浄装置は洗浄液数分の槽を備
えている。
【０００４】図７は、従来のウェハ洗浄装置の要部構成
を示す概観図である。洗浄方式は多槽式であり、例え
ば、ＤＨＦ洗浄槽７１、ＡＰＭ洗浄槽７２、超純水洗浄
槽７３が配備されている。複数のウェハＷＦはテフロン
製のウェハカセットＷＣに収納される。ウェハカセット
ＷＣは、ロボットアーム７４により保持、搬送され所定
の洗浄槽に投入される。これにより、ウェハカセットＷ
Ｃに収納された複数枚のウェハＷＦが一緒に洗浄され
る。
を示す概観図である。洗浄方式は多槽式であり、例え
ば、ＤＨＦ洗浄槽７１、ＡＰＭ洗浄槽７２、超純水洗浄
槽７３が配備されている。複数のウェハＷＦはテフロン
製のウェハカセットＷＣに収納される。ウェハカセット
ＷＣは、ロボットアーム７４により保持、搬送され所定
の洗浄槽に投入される。これにより、ウェハカセットＷ
Ｃに収納された複数枚のウェハＷＦが一緒に洗浄され
る。
【０００５】ロボットアーム７４の移動軸は左右に移動
する必要がある。このため、耐薬液パネル７５にロボッ
トアーム移動用の開口部７６が形成されている。開口部
７６はテフロンシート７７で保護されている。テフロン
シート７７は、開口部７６両端に隠れた回転軸にかかり
後背で繋がっている。すなわち、ロボットアーム７４の
移動軸部分７８のみが前面のテフロンシートを突抜けて
おり、ロボットアーム７４（移動軸部分７８）が左右に
移動するのに伴って一緒にテフロンシート７７も動くよ
うになっている。
する必要がある。このため、耐薬液パネル７５にロボッ
トアーム移動用の開口部７６が形成されている。開口部
７６はテフロンシート７７で保護されている。テフロン
シート７７は、開口部７６両端に隠れた回転軸にかかり
後背で繋がっている。すなわち、ロボットアーム７４の
移動軸部分７８のみが前面のテフロンシートを突抜けて
おり、ロボットアーム７４（移動軸部分７８）が左右に
移動するのに伴って一緒にテフロンシート７７も動くよ
うになっている。
【０００６】上記ウェハ洗浄装置は、上述したようにＤ
ＨＦ洗浄工程においてフッ酸が使われる。装置下方への
排気は取られているものの、ロボットアーム７４による
ウェハの洗浄、移動により、ＤＨＦ洗浄槽からの洗浄液
の飛散、ＤＨＦ洗浄槽からの洗浄液の蒸発は避けられな
い。この結果、テフロンシート７７にフッ素化合物の結
晶物ＰＣが付着する。
ＨＦ洗浄工程においてフッ酸が使われる。装置下方への
排気は取られているものの、ロボットアーム７４による
ウェハの洗浄、移動により、ＤＨＦ洗浄槽からの洗浄液
の飛散、ＤＨＦ洗浄槽からの洗浄液の蒸発は避けられな
い。この結果、テフロンシート７７にフッ素化合物の結
晶物ＰＣが付着する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】移動可能なテフロンシ
ート７７は、装置内部を保護する構造上必要な構成であ
る。従来、テフロンシート７７に付着した結晶物ＰＣ
は、付着したままで、メンテナンス時に拭き取る程度の
配慮しかなされていなかった。
ート７７は、装置内部を保護する構造上必要な構成であ
る。従来、テフロンシート７７に付着した結晶物ＰＣ
は、付着したままで、メンテナンス時に拭き取る程度の
配慮しかなされていなかった。
【０００８】図８は、図７のウェハ洗浄装置のパネル開
口部端部におけるテフロンシート領域の概略を示す拡大
図である。テフロンシート７７は保護性を重視している
ため、パネル７５と近接している。これにより、テフロ
ンシート７７は、移動の際にその表面がパネル開口部７
６端部で擦れる。
口部端部におけるテフロンシート領域の概略を示す拡大
図である。テフロンシート７７は保護性を重視している
ため、パネル７５と近接している。これにより、テフロ
ンシート７７は、移動の際にその表面がパネル開口部７
６端部で擦れる。
【０００９】図９（ａ），（ｂ）は、それぞれ図８にお
けるテフロンシートとパネル開口部端部の状況を示す断
面図であり、図９（ａ）の破線で囲まれた９Ｂ部分の拡
大図が同図（ｂ）である。テフロンシート７７表面がパ
ネル開口部端部７６で擦れ、テフロンシート７７表面に
付着したフッ素化合物の結晶物ＰＣが剥がれ落ちてしま
う。
けるテフロンシートとパネル開口部端部の状況を示す断
面図であり、図９（ａ）の破線で囲まれた９Ｂ部分の拡
大図が同図（ｂ）である。テフロンシート７７表面がパ
ネル開口部端部７６で擦れ、テフロンシート７７表面に
付着したフッ素化合物の結晶物ＰＣが剥がれ落ちてしま
う。
【００１０】上記結晶物ＰＣは、テフロンシート７７か
ら剥がれ落ちた後、ウェハに悪影響を与える何らかのパ
ーティクル（ゴミ）となる。すなわち、直接各洗浄槽に
混入したり、ロボットアーム、ウェハカセット等のウェ
ハキャリア系に付着した後、各洗浄槽に入ってしまう。
これにより、歩留り低下の原因となる。また、洗浄槽の
洗浄液の交換時期が早まったり、装置を停止しての掃除
等を多くするといったメンテナンス作業が増え、スルー
プットの低下問題に発展する。
ら剥がれ落ちた後、ウェハに悪影響を与える何らかのパ
ーティクル（ゴミ）となる。すなわち、直接各洗浄槽に
混入したり、ロボットアーム、ウェハカセット等のウェ
ハキャリア系に付着した後、各洗浄槽に入ってしまう。
これにより、歩留り低下の原因となる。また、洗浄槽の
洗浄液の交換時期が早まったり、装置を停止しての掃除
等を多くするといったメンテナンス作業が増え、スルー
プットの低下問題に発展する。
【００１１】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
で、その課題は、洗浄槽やウェハに悪影響を与える結晶
物の脱落をそのままにせず、パーティクルを削減する高
信頼性のウェハ洗浄を実現するウェハ洗浄装置を提供す
ることにある。
で、その課題は、洗浄槽やウェハに悪影響を与える結晶
物の脱落をそのままにせず、パーティクルを削減する高
信頼性のウェハ洗浄を実現するウェハ洗浄装置を提供す
ることにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明のウェハ洗浄装置
は、それぞれ所定の洗浄液の入った複数の洗浄槽が配備
され、複数枚のウェハを洗浄処理する多槽式の洗浄装置
であって、ウェハを搬送するロボットアームの移動軸が
突出するパネル開口部と、前記パネル開口部を保護し、
前記移動軸の移動に伴って動く保護用移動シートと、前
記パネル開口部両端部と前記保護用移動シートの表面近
傍が擦れる領域付近に備えられた保護用移動シートにお
ける不要物を取り込む不要物除去機構とを具備したこと
を特徴とする。
は、それぞれ所定の洗浄液の入った複数の洗浄槽が配備
され、複数枚のウェハを洗浄処理する多槽式の洗浄装置
であって、ウェハを搬送するロボットアームの移動軸が
突出するパネル開口部と、前記パネル開口部を保護し、
前記移動軸の移動に伴って動く保護用移動シートと、前
記パネル開口部両端部と前記保護用移動シートの表面近
傍が擦れる領域付近に備えられた保護用移動シートにお
ける不要物を取り込む不要物除去機構とを具備したこと
を特徴とする。
【００１３】本発明によれば、上記不要物除去機構は、
上記保護用移動シートの表面近傍がパネル開口部両端部
にて擦れる領域付近にそれぞれ備えられる。これによ
り、不要物除去機構は、少なくとも保護用移動シート上
に付着した不要物が擦れて離脱し、洗浄槽のある下方に
落下するのを未然に防ぐ。これにより、他の領域への飛
散、再付着を抑える。
上記保護用移動シートの表面近傍がパネル開口部両端部
にて擦れる領域付近にそれぞれ備えられる。これによ
り、不要物除去機構は、少なくとも保護用移動シート上
に付着した不要物が擦れて離脱し、洗浄槽のある下方に
落下するのを未然に防ぐ。これにより、他の領域への飛
散、再付着を抑える。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１実施形態に
係るウェハ洗浄装置の要部構成を示す概観図である。洗
浄方式は多槽式であって、少なくとも、ＤＨＦ洗浄槽１
１（ＤＨＦは、diluteＨＦ、すなわちＨＦとＨ2 Ｏ、希
釈ＨＦによる洗浄）、ＡＰＭ洗浄槽１２（ＡＰＭは、am
monium hydroxide / hydrogen peroxide / water mixす
なわちＮＨ4 ＯＨとＨ2 Ｏ2 の混合液による洗浄）、超
純水洗浄槽１３が配備されている。複数のウェハＷＦ
は、テフロン製のウェハカセットＷＣに収納される。ウ
ェハカセットＷＣは、ロボットアーム１４により保持、
搬送され所定の洗浄槽に投入される。これにより、ウェ
ハカセットＷＣに収納された複数枚のウェハＷＦが一緒
に洗浄される。
係るウェハ洗浄装置の要部構成を示す概観図である。洗
浄方式は多槽式であって、少なくとも、ＤＨＦ洗浄槽１
１（ＤＨＦは、diluteＨＦ、すなわちＨＦとＨ2 Ｏ、希
釈ＨＦによる洗浄）、ＡＰＭ洗浄槽１２（ＡＰＭは、am
monium hydroxide / hydrogen peroxide / water mixす
なわちＮＨ4 ＯＨとＨ2 Ｏ2 の混合液による洗浄）、超
純水洗浄槽１３が配備されている。複数のウェハＷＦ
は、テフロン製のウェハカセットＷＣに収納される。ウ
ェハカセットＷＣは、ロボットアーム１４により保持、
搬送され所定の洗浄槽に投入される。これにより、ウェ
ハカセットＷＣに収納された複数枚のウェハＷＦが一緒
に洗浄される。
【００１５】ロボットアーム１４の移動軸は左右に移動
する必要がある。このため、耐薬液パネル１５にロボッ
トアーム移動用の開口部１６が形成されている。開口部
１６はテフロンシート１７で保護されている。テフロン
シート１７は、開口部１６両端でパネル１５に隠れた回
転軸（図示せず）にかかり後背で繋がっている。すなわ
ち、ロボットアーム１４の移動軸部分１８のみが前面の
テフロンシート１７を突抜けており、ロボットアーム１
４つまりこの移動軸部分１８が左右に移動するのに伴っ
て一緒にテフロンシート１７も動くようになっている。
する必要がある。このため、耐薬液パネル１５にロボッ
トアーム移動用の開口部１６が形成されている。開口部
１６はテフロンシート１７で保護されている。テフロン
シート１７は、開口部１６両端でパネル１５に隠れた回
転軸（図示せず）にかかり後背で繋がっている。すなわ
ち、ロボットアーム１４の移動軸部分１８のみが前面の
テフロンシート１７を突抜けており、ロボットアーム１
４つまりこの移動軸部分１８が左右に移動するのに伴っ
て一緒にテフロンシート１７も動くようになっている。
【００１６】上記ウェハ洗浄装置は、上述したようにＤ
ＨＦ洗浄工程においてフッ酸が使われる。下方排気は取
られているものの、ロボットアーム１４によるウェハＷ
Ｆの洗浄槽への出し入れ、移動によってＤＨＦ洗浄槽１
１からの洗浄液の飛散、ＤＨＦ洗浄槽１１からの洗浄液
の蒸発は避けられない。この結果、テフロンシート１７
にフッ素化合物の結晶物ＰＣが付着する。
ＨＦ洗浄工程においてフッ酸が使われる。下方排気は取
られているものの、ロボットアーム１４によるウェハＷ
Ｆの洗浄槽への出し入れ、移動によってＤＨＦ洗浄槽１
１からの洗浄液の飛散、ＤＨＦ洗浄槽１１からの洗浄液
の蒸発は避けられない。この結果、テフロンシート１７
にフッ素化合物の結晶物ＰＣが付着する。
【００１７】この第１実施形態では、保護用移動シート
であるテフロンシート１７に付着する結晶物ＰＣ等の不
要物に対し、不要物除去機構として、粘着テープの貼ら
れた粘着ローラー１９を設けている。この粘着ローラー
１９は、パネル開口部１６両端部それぞれの付近におけ
るテフロンシート１７に押し付けられる形態となってい
る。
であるテフロンシート１７に付着する結晶物ＰＣ等の不
要物に対し、不要物除去機構として、粘着テープの貼ら
れた粘着ローラー１９を設けている。この粘着ローラー
１９は、パネル開口部１６両端部それぞれの付近におけ
るテフロンシート１７に押し付けられる形態となってい
る。
【００１８】図２は、図１のウェハ洗浄装置のパネル開
口部１６端部におけるテフロンシート１７の一領域の概
略を示す拡大図である。テフロンシート１７は保護性を
重視しているため、パネル１５と近接している。よっ
て、テフロンシート１７は、移動の際にその表面がパネ
ル開口部１６端部（エッジ部分）で擦れる。この擦れる
領域の手前のテフロンシート１７に粘着ローラー１９が
バネ２０を利用して押し付けられるようになっている。
例えばバネ２０は、その両端が例えばパネル開口部１６
端部と粘着ローラー１９の軸支持棒に取付けられる。
口部１６端部におけるテフロンシート１７の一領域の概
略を示す拡大図である。テフロンシート１７は保護性を
重視しているため、パネル１５と近接している。よっ
て、テフロンシート１７は、移動の際にその表面がパネ
ル開口部１６端部（エッジ部分）で擦れる。この擦れる
領域の手前のテフロンシート１７に粘着ローラー１９が
バネ２０を利用して押し付けられるようになっている。
例えばバネ２０は、その両端が例えばパネル開口部１６
端部と粘着ローラー１９の軸支持棒に取付けられる。
【００１９】図３（ａ），（ｂ）は、それぞれ図２にお
ける要部構成の状況を示す断面図であり、図３（ａ）の
破線で囲まれた３Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
テフロンシート１７表面がパネル１５の開口部１６端部
で擦れる。テフロンシート１７表面に付着したフッ素化
合物の結晶物ＰＣは、パネル開口部１６端部で擦れて剥
がれ落ちる前に、粘着ローラー１９により吸着される。
ける要部構成の状況を示す断面図であり、図３（ａ）の
破線で囲まれた３Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
テフロンシート１７表面がパネル１５の開口部１６端部
で擦れる。テフロンシート１７表面に付着したフッ素化
合物の結晶物ＰＣは、パネル開口部１６端部で擦れて剥
がれ落ちる前に、粘着ローラー１９により吸着される。
【００２０】上記構成によれば、不要物除去機構として
の粘着ローラー１９は、テフロンシート１７の表面近傍
がパネル開口部１６両端部にて擦れる領域付近にそれぞ
れ備えられる。これにより、粘着ローラー１９は、少な
くともテフロンシート１７上に付着した不要物が擦れて
離脱し、洗浄槽のある下方に落下するのを未然に防ぐ。
これにより、他の領域への飛散、再付着を抑え、もって
パーティクルを削減する高信頼性のウェハ洗浄を実現す
る。
の粘着ローラー１９は、テフロンシート１７の表面近傍
がパネル開口部１６両端部にて擦れる領域付近にそれぞ
れ備えられる。これにより、粘着ローラー１９は、少な
くともテフロンシート１７上に付着した不要物が擦れて
離脱し、洗浄槽のある下方に落下するのを未然に防ぐ。
これにより、他の領域への飛散、再付着を抑え、もって
パーティクルを削減する高信頼性のウェハ洗浄を実現す
る。
【００２１】図４は、本発明の第２実施形態に係るウェ
ハ洗浄装置の要部構成を示す概観図である。第１実施形
態と同様の箇所には同一の符号を付す。第１実施形態と
同様に多槽式であり、少なくとも、ＤＨＦ洗浄槽１１、
ＡＰＭ洗浄槽１２、超純水洗浄槽１３が配備されてい
る。複数のウェハＷＦは、テフロン製のウェハカセット
ＷＣに収納される。ウェハカセットＷＣは、ロボットア
ーム１４により保持、搬送され所定の洗浄槽に投入され
る。これにより、ウェハカセットＷＣに収納された複数
枚のウェハＷＦが一緒に洗浄される。
ハ洗浄装置の要部構成を示す概観図である。第１実施形
態と同様の箇所には同一の符号を付す。第１実施形態と
同様に多槽式であり、少なくとも、ＤＨＦ洗浄槽１１、
ＡＰＭ洗浄槽１２、超純水洗浄槽１３が配備されてい
る。複数のウェハＷＦは、テフロン製のウェハカセット
ＷＣに収納される。ウェハカセットＷＣは、ロボットア
ーム１４により保持、搬送され所定の洗浄槽に投入され
る。これにより、ウェハカセットＷＣに収納された複数
枚のウェハＷＦが一緒に洗浄される。
【００２２】ロボットアーム１４の移動軸は左右に移動
する。このため、耐薬液パネル１５にロボットアーム移
動用の開口部１６が形成されている。開口部１６はテフ
ロンシート１７で保護されている。テフロンシート１７
は、開口部１６両端の回転軸１７にかかり後背で繋がっ
ている。すなわち、ロボットアーム１４の移動軸部分１
８のみが前面のテフロンシート１７を突抜けており、ロ
ボットアーム１４の移動軸が左右に移動するのに伴って
一緒にテフロンシート１７も動くようになっている。
する。このため、耐薬液パネル１５にロボットアーム移
動用の開口部１６が形成されている。開口部１６はテフ
ロンシート１７で保護されている。テフロンシート１７
は、開口部１６両端の回転軸１７にかかり後背で繋がっ
ている。すなわち、ロボットアーム１４の移動軸部分１
８のみが前面のテフロンシート１７を突抜けており、ロ
ボットアーム１４の移動軸が左右に移動するのに伴って
一緒にテフロンシート１７も動くようになっている。
【００２３】上記ウェハ洗浄装置は、上述したようにＤ
ＨＦ洗浄工程においてフッ酸が使われる。下方排気は取
られているものの、ロボットアーム１４によるウェハＷ
Ｆの洗浄槽への出し入れ、移動によってＤＨＦ洗浄槽１
１からの洗浄液の飛散、ＤＨＦ洗浄槽１１からの洗浄液
の蒸発は避けられない。この結果、テフロンシート１７
にフッ素化合物の結晶物ＰＣが付着する。
ＨＦ洗浄工程においてフッ酸が使われる。下方排気は取
られているものの、ロボットアーム１４によるウェハＷ
Ｆの洗浄槽への出し入れ、移動によってＤＨＦ洗浄槽１
１からの洗浄液の飛散、ＤＨＦ洗浄槽１１からの洗浄液
の蒸発は避けられない。この結果、テフロンシート１７
にフッ素化合物の結晶物ＰＣが付着する。
【００２４】この第２実施形態では、保護用移動シート
であるテフロンシート１７に付着する結晶物ＰＣ等の不
要物に対し、不要物除去機構として、集塵機２１ａ，２
１ｂを設ける。この集塵機２１ａ，２１ｂは、それぞれ
吸引口がパネル開口部１６両端部それぞれに近接してテ
フロンシート１７から離脱する結晶物ＰＣを吸引する形
態となっている。例えば、ロボットアーム１４の移動軸
部分１８が図中左から右に移動する際に集塵機２１ａの
みが作動し、ロボットアーム１４の移動軸部分１８が図
中右から左に移動する際に集塵機２１ｂのみが作動す
る。
であるテフロンシート１７に付着する結晶物ＰＣ等の不
要物に対し、不要物除去機構として、集塵機２１ａ，２
１ｂを設ける。この集塵機２１ａ，２１ｂは、それぞれ
吸引口がパネル開口部１６両端部それぞれに近接してテ
フロンシート１７から離脱する結晶物ＰＣを吸引する形
態となっている。例えば、ロボットアーム１４の移動軸
部分１８が図中左から右に移動する際に集塵機２１ａの
みが作動し、ロボットアーム１４の移動軸部分１８が図
中右から左に移動する際に集塵機２１ｂのみが作動す
る。
【００２５】図５は、図４のウェハ洗浄装置のパネル開
口部１６端部におけるテフロンシート１７の一領域の概
略を示す拡大図である。テフロンシート１７は保護性を
重視しているため、パネル１５と近接している。よっ
て、テフロンシート１７は、移動の際にその表面がパネ
ル開口部１６端部（エッジ部分）で擦れる。この擦れる
領域に近接して集塵機２１ａの吸引口が取付けられてい
る。なお、集塵機２１ｂについても同様な構成であるた
め説明は省略する。
口部１６端部におけるテフロンシート１７の一領域の概
略を示す拡大図である。テフロンシート１７は保護性を
重視しているため、パネル１５と近接している。よっ
て、テフロンシート１７は、移動の際にその表面がパネ
ル開口部１６端部（エッジ部分）で擦れる。この擦れる
領域に近接して集塵機２１ａの吸引口が取付けられてい
る。なお、集塵機２１ｂについても同様な構成であるた
め説明は省略する。
【００２６】図６（ａ），（ｂ）は、それぞれ図５にお
ける要部構成の状況を示す断面図であり、図６（ａ）の
破線で囲まれた６Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
テフロンシート１７表面がパネル開口部１６端部で擦れ
る。テフロンシート１７表面に付着したフッ素化合物の
結晶物ＰＣは、パネル開口部１６端部で擦れて離脱した
ところを、集塵機２１により吸引される。なお、集塵機
２１ｂについても同様な構成であるため説明は省略す
る。
ける要部構成の状況を示す断面図であり、図６（ａ）の
破線で囲まれた６Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
テフロンシート１７表面がパネル開口部１６端部で擦れ
る。テフロンシート１７表面に付着したフッ素化合物の
結晶物ＰＣは、パネル開口部１６端部で擦れて離脱した
ところを、集塵機２１により吸引される。なお、集塵機
２１ｂについても同様な構成であるため説明は省略す
る。
【００２７】上記構成によれば、不要物除去機構として
の集塵機２１ａ，２１ｂは、テフロンシート１７の表面
近傍がパネル開口部１６両端部にて擦れる領域付近にそ
れぞれ備えられる。これにより、集塵機２１ａ，２１ｂ
は、少なくともテフロンシート１７上に付着した不要物
が擦れて離脱し、洗浄槽のある下方に落下するのを未然
に防ぐ。これにより、他の領域への飛散、再付着を抑
え、もってパーティクルを削減する高信頼性のウェハ洗
浄を実現する。
の集塵機２１ａ，２１ｂは、テフロンシート１７の表面
近傍がパネル開口部１６両端部にて擦れる領域付近にそ
れぞれ備えられる。これにより、集塵機２１ａ，２１ｂ
は、少なくともテフロンシート１７上に付着した不要物
が擦れて離脱し、洗浄槽のある下方に落下するのを未然
に防ぐ。これにより、他の領域への飛散、再付着を抑
え、もってパーティクルを削減する高信頼性のウェハ洗
浄を実現する。
【００２８】上記各実施形態によれば、テフロンシート
１７がパネル開口部１６両端部にて擦れる領域付近に粘
着ローラー１９や集塵機２１（２１ａ，２１ｂ）を取付
ける。これにより、洗浄槽やウェハに悪影響を与える結
晶物の脱落をそのままにせず、取り込む処理が自動化さ
れる。これにより、テフロンシート１７に付着した結晶
物ＰＣの拭き取り作業などが省ける。
１７がパネル開口部１６両端部にて擦れる領域付近に粘
着ローラー１９や集塵機２１（２１ａ，２１ｂ）を取付
ける。これにより、洗浄槽やウェハに悪影響を与える結
晶物の脱落をそのままにせず、取り込む処理が自動化さ
れる。これにより、テフロンシート１７に付着した結晶
物ＰＣの拭き取り作業などが省ける。
【００２９】例えば粘着ローラー１９は、安価な設備で
あり、かつ週に数回程度の粘着テープの交換だけで経済
的である。また、集塵機２１（２１ａ，２１ｂ）は、粘
着ローラー１９の設置ほど設備は安価でないが、結晶物
ＰＣをより確実に取り込むことができ、粘着テープの交
換等の手間は無い。しかも、ロボットアーム１４の移動
軸部分１８の左右いずれかの移動に合わせて片側のみの
が作動するため経済的である。
あり、かつ週に数回程度の粘着テープの交換だけで経済
的である。また、集塵機２１（２１ａ，２１ｂ）は、粘
着ローラー１９の設置ほど設備は安価でないが、結晶物
ＰＣをより確実に取り込むことができ、粘着テープの交
換等の手間は無い。しかも、ロボットアーム１４の移動
軸部分１８の左右いずれかの移動に合わせて片側のみの
が作動するため経済的である。
【００３０】このような不要物除去機構を付加すること
で、ウェハ洗浄装置のパーティクルを大幅に削減する。
これにより、洗浄槽の洗浄液の交換時期が早まったり、
装置を停止しての掃除等を多くするといったメンテナン
ス作業が軽減される。これにより、スループット向上も
期待できる。
で、ウェハ洗浄装置のパーティクルを大幅に削減する。
これにより、洗浄槽の洗浄液の交換時期が早まったり、
装置を停止しての掃除等を多くするといったメンテナン
ス作業が軽減される。これにより、スループット向上も
期待できる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、不
要物除去機構を、テフロンシート（保護用移動シート）
の表面近傍がパネル開口部両端部にて擦れる領域付近に
それぞれ備える。これにより、洗浄槽やウェハに悪影響
を与える結晶物の脱落をそのままにせず、パーティクル
が削減され、高スループットの信頼性を得ることのでき
るウェハ洗浄装置を提供することができる。
要物除去機構を、テフロンシート（保護用移動シート）
の表面近傍がパネル開口部両端部にて擦れる領域付近に
それぞれ備える。これにより、洗浄槽やウェハに悪影響
を与える結晶物の脱落をそのままにせず、パーティクル
が削減され、高スループットの信頼性を得ることのでき
るウェハ洗浄装置を提供することができる。
【図１】本発明の第１実施形態に係るウェハ洗浄装置の
要部構成を示す概観図である。
要部構成を示す概観図である。
【図２】図１のウェハ洗浄装置のパネル開口部端部にお
けるテフロンシートの一領域の概略を示す拡大図であ
る。
けるテフロンシートの一領域の概略を示す拡大図であ
る。
【図３】（ａ），（ｂ）は、それぞれ図２における要部
構成の状況を示す断面図であり、図３（ａ）の破線で囲
まれた３Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
構成の状況を示す断面図であり、図３（ａ）の破線で囲
まれた３Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
【図４】本発明の第２実施形態に係るウェハ洗浄装置の
要部構成を示す概観図である。
要部構成を示す概観図である。
【図５】図４のウェハ洗浄装置のパネル開口部端部にお
けるテフロンシートの一領域の概略を示す拡大図であ
る。
けるテフロンシートの一領域の概略を示す拡大図であ
る。
【図６】（ａ），（ｂ）は、それぞれ図５における要部
構成の状況を示す断面図であり、図６（ａ）の破線で囲
まれた６Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
構成の状況を示す断面図であり、図６（ａ）の破線で囲
まれた６Ｂ部分の拡大図が同図（ｂ）である。
【図７】従来のウェハ洗浄装置の要部構成を示す概観図
である。
である。
【図８】図７のウェハ洗浄装置のパネル開口部端部にお
けるテフロンシート領域の概略を示す拡大図である。
けるテフロンシート領域の概略を示す拡大図である。
【図９】（ａ），（ｂ）は、それぞれ図８におけるテフ
ロンシートとパネル開口部端部の状況を示す断面図であ
り、図９（ａ）の破線で囲まれた９Ｂ部分の拡大図が同
図（ｂ）である。
ロンシートとパネル開口部端部の状況を示す断面図であ
り、図９（ａ）の破線で囲まれた９Ｂ部分の拡大図が同
図（ｂ）である。
１１…ＤＨＦ洗浄槽 １２…ＡＰＭ洗浄槽 １３…超純水洗浄槽 １４…ロボットアーム １５…耐薬液パネル １６…ロボットアーム移動用の開口部 １７…テフロンシート １８…ロボットアームの移動軸部分 １９…粘着ローラー ２０…バネ ２１ａ，２１ｂ…集塵機 ＰＣ…フッ素化合物の結晶物 ＷＦ…ウェハ ＷＣ…ウェハカセット
Claims (3)
- 【請求項１】 それぞれ所定の洗浄液の入った複数の洗
浄槽が配備され、複数枚のウェハを洗浄処理する多槽式
の洗浄装置であって、 ウェハを搬送するロボットアームの移動軸が突出するパ
ネル開口部と、 前記パネル開口部を保護し、前記移動軸の移動に伴って
動く保護用移動シートと、 前記パネル開口部両端部と前記保護用移動シートの表面
近傍が擦れる領域付近に備えられた保護用移動シートに
おける不要物を取り込む不要物除去機構と、を具備した
ことを特徴とするウェハ洗浄装置。 - 【請求項２】 前記不要物除去機構は、粘着テープの貼
られた粘着ローラーを含み、この粘着ローラーが前記パ
ネル開口部両端部それぞれの付近における前記保護用移
動シートに押し付けられ前記不要物を吸着する構成であ
ることを特徴とする請求項１記載のウェハ洗浄装置。 - 【請求項３】 前記不要物除去機構は、集塵機を含み、
この集塵機の吸引口が前記パネル開口部両端部それぞれ
に近接して前記保護用移動シートから離脱する前記不要
物を吸引する構成であることを特徴とする請求項１記載
のウェハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35913499A JP2001176834A (ja) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | ウェハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35913499A JP2001176834A (ja) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | ウェハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001176834A true JP2001176834A (ja) | 2001-06-29 |
Family
ID=18462923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35913499A Withdrawn JP2001176834A (ja) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | ウェハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001176834A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105855220A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-17 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种改进的机械零件清洁装置 |
| CN105880209A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-24 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 适用于机械零件处理的一体机 |
| CN105880205A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-24 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种机械零件清洁甩干烘干设备 |
| CN105921442A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-09-07 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种具有甩干烘干功能的清洁机 |
| CN105964608A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-09-28 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种带有甩干烘干的清洁机 |
| CN105964607A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-09-28 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种多功能清洗甩干装置 |
-
1999
- 1999-12-17 JP JP35913499A patent/JP2001176834A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105855220A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-17 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种改进的机械零件清洁装置 |
| CN105880209A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-24 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 适用于机械零件处理的一体机 |
| CN105880205A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-08-24 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种机械零件清洁甩干烘干设备 |
| CN105921442A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-09-07 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种具有甩干烘干功能的清洁机 |
| CN105964608A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-09-28 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种带有甩干烘干的清洁机 |
| CN105964607A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-09-28 | 苏州速腾电子科技有限公司 | 一种多功能清洗甩干装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070306 |