JP2001174947A - 熱現像材料、その画像記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カブリ防止効果、銀色調に優れ、しかも焼き
付き耐性があり、高い画像濃度が得られ、好ましいコン
トラストである高品質の画像を形成可能な熱現像材料を
提供すること。高湿度下の保存においても前述の性能の
劣化の少ない熱現像材料を提供すること。 【解決手段】 支持体の少なくとも一方の面に感光性ハ
ロゲン化銀粒子を含有する感光層、有機銀塩及びこの有
機銀塩の還元剤を含有する熱現像材料において、表面処
理剤を供給して表面処理を行った表面処理済みシリカ微
粒子を含むことを特徴とする熱現像材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像により画像を
形成する熱現像材料に関し、更に詳しくは、生産時や現
像時にフィルムの搬送性や帯電防止性能に優れ、写真性
能においてカブリや焼き付きを抑制する、又は湿度耐性
のある熱現像材料に関する。又レーザー光として縦マル
チレーザー走査を行う画像記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、医療や印刷の分野で環境保護や作
業性の面から画像形成材料の湿式処理に伴う廃液の出な
い熱現像感材が強く望まれている。熱現像により、高解
像度で鮮明な黒色画像を形成することができる写真技術
用途の光熱写真材料に関する技術が必要とされている。
この技術として、例えば、米国特許第３，１５２，９０
４号及び同３，４８７，０７５号等に記載の方法が良く
知られている。これらの感光材料は通常の銀塩感光材料
の処理温度より高い６０℃以上の温度で現像が行われる
ので、熱現像材料と呼ばれている。

【０００３】従来からこのタイプの熱現像材料の多くは
感光性のハロゲン化銀と銀イオン供給物質の有機銀塩と
還元剤が共存しているため、微量の水分を触媒にして酸
化還元反応が進み写真性能の劣化が起きる。劣化するも
のは、カブリ、焼き付き耐性、銀色調、染料の青み色調
や反射光防止効果、処理前、処理後の熱材料の写真性能
保存性等がある。そのためにこれらの劣化性能を抑制す
る技術が探索されてきた。

【０００４】例えばカブリに対しては、メルカプト基を
有するカブリ抑制剤、例えば５−メチル−２−メルカプ
トベンゾトリアゾール、５−メチル−２メルカプトベン
ツイミダゾール等がある。焼き付き防止剤に対しては、
米国特許第３，８７４，９４６号、同４，４５２，８８
５号、同４，５４６，０７５号、同４，７５６，９９９
号、同５，３４０，７１２号、特公昭５４−１６５号、
特開昭５０−１３７１２６号、特開平７−２７８１号及
び特開平９−２６５１５０号等で開示されているポリハ
ロメタン化合物誘導体を使用することを挙げることがで
きる。焼き付き防止は熱現像処理後取り扱う部屋の照明
光や作業光で熱現像材料中の感光性銀塩が黒化してしま
うことを防ぐ技術である。従来の湿式銀塩は、現像処理
後に定着処理で感光性の銀塩を除去するので問題となら
ない。しかし、熱現像材料では除去されないのでこれを
防ぐことが重要な課題となっている。現像は還元反応な
のでこれを阻止するために酸化反応性の物質を導入して
抑制している。

【０００５】しかしながらこれらカブリ防止剤、焼き付
き防止剤、銀色調改良剤等を使用しても性能は充分でな
い。強制生保存性試験を行うとカブリ増大、画像濃度が
低下する、色調が劣化する、焼き付きが進行する、特に
湿度のある状態ではこの傾向が強い。又、熱処理後の保
存性も悪く、画像濃度が低下する、色調が劣化するなど
の欠点を有していた。

【０００６】又、熱現像材料は有機銀塩を分散するため
のバインダー系を使用するため物性においても改良が望
まれており、特に高温下で現像するため、処理時にバイ
ンダーの軟化がおき、これが元で搬送ローラーに接着し
易くなりフィルムの搬送でトラブルが発生するようにな
る。又、帯電防止剤も熱現像で変化し、効果が低下する
という問題が起こる。搬送を向上させるためにマット剤
を使用するが、バインダーとの保持力がなく、搬送時に
剥落してこれが微小異物として表面に残り異物故障、白
点や黒点故障などを引き起こしていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的はカブリ防止効果、
銀色調に優れ、しかも焼き付き耐性があり、高い画像濃
度が得られ、好ましいコントラストである高品質の画像
を形成可能な熱現像材料を提供することにある。又、高
湿度下の保存においても性能の劣化の少ない熱現像材料
を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
の構成により達成される。 １．支持体の少なくとも一方の面に感光性ハロゲン化銀
粒子を含有する感光層、有機銀塩及びこの有機銀塩の還
元剤を含有する熱現像材料において、表面処理剤を供給
して表面処理を行った表面処理済みシリカ微粒子を含む
ことを特徴とする熱現像材料。 ２．前記表面処理剤が焼き付き防止剤、カブリ防止剤、
滑り剤、表面活性剤、架橋剤、染料、銀色調向上剤及び
熱で脱離するブロック化された化合物から選ばれる少な
くとも１種であることを特徴とする１記載の熱現像材
料。 ３．１又は２記載の熱現像材料に露光を行って画像を記
録する画像記録方法において、画像記録の際の操作レー
ザー光が縦マルチレーザー走査露光機による露光である
ことを特徴とする画像記録方法。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。

【００１０】通常、熱現像材料にはハロゲン化銀粒子を
含む感光層中に有機銀塩、還元剤、焼き付き防止剤が含
まれている。保存中に還元剤がハロゲン化銀や有機銀塩
を徐々に還元していくためにカブリを引き起こし、感度
の低下や軟調を引き起こす。この反応は湿度で助長され
高湿では、更にカブリ易い、感度が低下する、軟調にな
り易く銀の色調劣化をもたらす。そこで還元剤とハロゲ
ン化銀粒子と有機銀塩が共同する酸化還元反応を抑制で
きれば、性能劣化を抑制できると考えられる。しかし、
抑制を過度に働かせれば現像活性が低下してしまうこと
になる。そこで熱現像時にこれら性能制御剤を適度に作
用させることにより、熱現像材料のカブリ、焼き付き、
銀色調等の劣化を抑制できることが分かった。又、搬送
性を改良するためにマット加工用の素材の表面を剥落し
にくくする素材で処理したり、帯電防止の働きのある表
面活性剤で処理することにより従来の問題点を解決する
ことができるようになった。

【００１１】即ち本発明は、滑り剤、表面活性剤、架橋
剤、染料、色調剤、焼き付き又はカブリ防止剤及び熱で
脱離するブロック化された化合物の少なくとも１つで表
面処理したシリカを熱現像材料の素材として使用するこ
とにより熱現像材料における上記問題点を改善し、良好
な熱現像材料を提供できることを特徴としている。

【００１２】以下、本発明を更に詳細に説明する。本発
明に使用されるシリカ微粒子は、湿式法と称して珪酸ナ
トリウムと硫酸との反応によって得られる。湿式法によ
り得られるシリカ微粒子（湿式法シリカ微粒子）は、熱
現像材料の保護膜のマット剤や寸法安定性、膜付き改良
のためのバインダーの強化剤として従来から使用されて
いる。湿式法シリカ微粒子の粒度は比較的粗く調整され
ると、塗布液中での沈降堆積が問題となることが多いの
で微粒子で単分散性のものが使用される。湿式法シリカ
微粒子には、酸性側で合成されるシリカ微粒子とアルカ
リ性側で合成されるシリカ微粒子があるが、本発明では
そのいずれもが対象である。

【００１３】これらのシリカ微粒子は目的に合わせてそ
の粒度がある程度調整されたものであることが適当であ
り、被塗物に対し塗膜形成後の風合いが優れたものであ
るためには、塗布液中での分散性に優れたものが適当で
ある。一般的には、ＢＥＴ比表面積０．５〜３５０ｍ²
／ｇ、平均粒度０．０５〜５μｍに調整されたシリカ微
粒子であることが適当である。このようなシリカは公知
であり、市販品をそのまま使用することもできる。又、
新たに合成されたシリカを処理対象として使用してもよ
い。

【００１４】本発明で用いられるシリカ微粒子への表面
処理剤は、滑り剤、表面活性剤、架橋剤、染料、色調
剤、焼き付き又はカブリ防止剤及び熱で脱離するブロッ
ク化された化合物が挙げられる。

【００１５】シリカ微粒子に対する上記表面処理剤の使
用量は、シリカ１００部に対して０．１〜５０．０部の
範囲、好ましくは０．２〜３０．０部の範囲とすること
が適当である。使用量が少なすぎるとシリカの沈降や再
分散性を改良する効果が少なくなるので０．１部以上と
することが好ましい。一方、必要以上の量を用いても効
果はそれ以上高くはならないので３０．０部以下とする
ことが好ましい。又、処理量を必要以上に多くすると、
塗料の粘度上昇も引き起こすことがある。

【００１６】表面処理済みシリカは湿式法シリカと表面
処理剤（滑り剤、表面活性剤、架橋剤、染料、色調剤、
焼き付き又はカブリ防止剤及び熱で脱離するブロック化
された化合物）とを高速流動攪拌機等を使用して混合す
る乾式混合法により製造することができる。或いは、湿
式法シリカの乳化スラリー液に所定量の表面処理剤を添
加混合しておき、続いて噴霧乾燥等を行なう湿式処理法
で表面処理済みシリカを製造することもできる。湿式処
理法の場合、水に難溶性の処理剤はあらかじめ水に強力
に分散したエマルジョンをシリカの乳化スラリー液に添
加し、十分に攪拌混合した後に乾燥処理することが好ま
しい。又、乾式法の場合、直接湿式法シリカに添加混合
できるが、エタノールやメタノール等のアルコール類、
メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ポリビニ
ルピロリドンやポリビニルアルコール等の水溶性ポリマ
ー等で希釈したものを添加混合することもできる。

【００１７】表面処理済みシリカは写真性能や物性の向
上を必要とする熱現像材料に使用することができる。該
表面処理済みシリカの添加量は、使用目的や性能改良の
度合い等を考慮して適宜設定することができる。塗布液
中の表面処理済みシリカは通常０．５〜２０部、好まし
くは１〜１５部の範囲とすることが適当である。

【００１８】シリカ微粒子に表面処理剤を供給する方法
としては、シリカ微粒子の水又は溶媒分散液中に表面処
理剤を温度（−２０〜２００℃）、時間（１マイクロ秒
〜２０時間）、流量等を制御して供給していく逐次供給
法、表面処理剤を最初にシリカ微粒子液と混合してある
温度、圧力、時間、攪拌条件を制御して表面処理するバ
ッチ法、シリカ微粒子分散液と表面処理剤液を一定の時
間に同時に供給して処理していく同時混合法、加圧噴流
衝突法（ジェットミル）等を採用することができる。特
に好ましい処理方法はシリカ微粒子の分散液と表面処理
液を加温（８０〜２００℃）、加圧（１．１気圧から２
０気圧）した噴流を同時に形成してお互いに衝突させる
加圧噴流衝突法である。

【００１９】表面処理済みシリカ微粒子（シリカマット
剤）は保護層や保護層の下の層の中間層、感光層、下引
き層、ハレーション防止層などに添加することができる
が特に好ましいのは感光層である。尚、感光層に添加す
るには濃度低下させないように添加することが好まし
い。

【００２０】湿式法シリカの表面処理に使用する表面処
理剤（焼き付き防止剤、カブリ防止剤、滑り剤、表面活
性剤、架橋剤、染料、銀色調向上剤、熱で脱離するブロ
ック化された化合物）について順次説明していくが、表
面処理に使用する素材としてはこれらに限定されるわけ
ではない。

【００２１】表面処理用の焼き付き防止剤は下記一般式
で表されるポリハロメタン化合物を好ましい例として挙
げることができる。

【００２２】 一般式 Ｑ−（Ｙ）_n−（Ｌ）_p−Ｃ−（Ｘ）₃ 式中、Ｑは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環
を形成するに必要な原子群を表す。Ｙは−ＣＯ−、−Ｓ
Ｏ−、又は−ＳＯ₂−を表し、ＬはＣＦ₂基を表す。ｎ及
びｐは０又は１を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。

【００２３】Ｑは電子求引性の置換基又は電子供与性の
置換基を有してもよい。Ｑ環上の置換基の例としては、
それぞれ置換されてもよいアルキル基（メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル
基、ドコサニル基、２−エチルヘキシル基）、ハロゲン
化アルキル基（トリフロロメチル基、パーフロロオクチ
ル基）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基、シクロペンチル基等）、芳香族基（フェニ
ル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基（ピリジル基、フリ
ル基、チオフェニル基、ピペラジル基、イミダゾリル
基、トリアゾール基、テトラゾール基等）、アルケニル
基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基
（例えば、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、
フェニル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チア
ゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル
基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリ
ダジニル基、セレナゾリル基、スルホラニル基、ピペリ
ジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等）、ハロゲ
ン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フ
ッ素原子等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シク
ロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキ
シ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオ
キシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基
（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホン
アミド基（例えば、メチルスルホニルアミノ基、エチル
スルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、ヘキ
シルスルホニルアミノ基、シクロヘキシルスルホニルア
ミノ基、フェニルスルホニルアミノ基等）、スルファモ
イル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノス
ルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミ
ノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロ
ヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニ
ル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、ウレイド
基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペ
ンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニ
ルウレイド基、２−ピリジルウレイド基等）、アシル基
（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピル
カルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシル
カルボニル基、フェニルカルボニル基、ピリジルカルボ
ニル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニ
ル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカル
ボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミ
ノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、
フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカル
ボニル基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルア
ミノ基、エチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニ
ルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、フェニルカ
ルボニルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル
基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル
基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例え
ば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブ
チルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、
２−ピリジルアミノ基等）、シアノ基、ニトロ基、スル
ホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル
基等から選択することができる。

【００２４】上記ポリハロメタン化合物で処理したシリ
カ微粒子を含む層は感光層のハロゲン化銀近傍でもよい
し、感光層に隣接する非感光層、中間層、保護膜、支持
体の反対側のバッキング層やバッキング層の保護層に存
在させておいてもよい。支持体の反対側のバッキング層
は、保存時に感光層と接触するため層間移動して保存性
に影響を与えるように設定することができる。

【００２５】上記一般式で表されるポリハロメタン化合
物の具体例を以下に示す。

【００２６】

【化１】

【００２７】

【化２】

【００２８】

【化３】

【００２９】

【化４】

【００３０】表面処理剤を添加する方法は公知の添加方
法に従って添加することができる。メタノールやエタノ
ール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン
等のケトン類、ジメチルスルホオキシドやジメチルホル
ムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができ
る。又、サンドミル分散や噴流粉砕分散、超音波分散や
ホモジナイザー分散により１μｍ以下の微粒子にして水
や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分
散技術については多くの技術が開示されているが、これ
らに準じて分散することができる。

【００３１】表面処理に使用するカブリ防止剤は熱現像
材料に使用する有効なものを適宜選択することができ
る。好ましいカブリ抑制剤は、メルカプト基を有しても
よいイミダゾール系、トリアゾール系、テトラゾール
系、テトラアザインデン系、プリン等であり、ヘテロ環
又はヘテロ縮合環を有する構造のものが好ましい。特に
好ましいカブリ抑制剤はメルカプト基を有するヘテロ環
型である。

【００３２】具体的には下記の化合物が好ましい。 （２−１）ベンゾトリアゾール、 （２−２）５−メチルベンゾトリアゾール （２−３）５−メトキシベンゾトリアゾール （２−４）２−メルカプトベンツイミダゾール （２−５）２−メルカプト−５−メチルベンツイミダゾ
ール （２−６）２−メルカプト−５−メトキシベンツイミダ
ゾール （２−７）１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール （２−８）１−（ｐ−メチルフェニル）−５−メルカプ
トテトラゾール （２−９）５−ヒドロキシ−３−メチル−１，３，３，
７ａ−テトラアザインデン （２−１０）２−メルカプトメチルベンツイミダゾール （２−１１）アデニン、（２−１２）ベンジルアデニン （２−１３）４−メルカプトベンジルアデニン等 表面処理に使用する滑り剤はワックスを使用するのが好
ましい。ワックスは合成や天然のものを広く使用するこ
とができる。特にブラジル産のパーム樹の葉から採れる
カルナバワックスはその代表である。主成分のエステル
の含量が多いほどよく、８４〜８５％が標準であるが、
純度８０〜１００％のものを使用するのがよい。

【００３３】合成ワックス又は天然ワックスの融点とし
ては５０〜２８０℃が好ましく、植物性、動物性もしく
は鉱物性の天然ワックス、又は合成ワックスを使用する
ことができる。該ワックスの融点が５０℃より低い場合
や融点が２８０℃を超える場合には目的の性能が得にく
くなる。

【００３４】合成ワックス及び天然ワックスの形状とし
てはシリカの表面処理時に均一に分散混練できるもので
あれば固形塊状でも、フレーク状でも、又粉末でも良
く、種々の形状のものを使用することができる。

【００３５】合成ワックスとしては長鎖アルコール（炭
素原子数１６〜３６）、例えばセチルアルコール、パル
ミチ物やステアリン酸などの脂肪酸のグリセリド、グリ
コールエステル又はポリエチレングリコール、グリコー
ルエステルや合成蜜蝋、例えば水素化ヒマシ油とモノエ
タノールアミンとの反応によって得られる脂肪族アミン
蝋や高分子量脂肪族アミドなどを挙げることができる。
下記に好ましい天然及び合成ワックスの具体例を示す。 （３−１）モンタン蝋、（３−２）カルナウバ蝋、（３
−３）蜜蝋 （３−４）シュラック蝋、（３−５）パラフィン蝋、
（３−６）セレシン （３−７）日本蝋、（３−８）ポリアミドワックス （３−９）フッ素化ポリオレフィンワックス （３−１０）脂肪酸エステルワックス（炭素数１８、２
０、２２の組成比率が２０：１５：６５）等。

【００３６】シリカ微粒子を表面処理する表面活性剤は
アニオン、ノニオン、非イオンいずれの活性剤をも選択
することができるが、反応活性基を有するアニオン系や
ノニオン系が好ましい。下記に具体例を示す。 （４−１）スルホコハク酸ジ−２−エチルヘキシルエス
テルナトリウム塩 （４−２）Ｎ−メチルオレイン酸アミドエチレンスルホ
ン酸ナトリウム（イゲポン−Ｔ） （４−３）パーフロロオクチルスルホン酸ナトリウム （４−４）Ｎ−プロピルパーフロロオクチルスルホン酸
アミドエチレンスルホン酸ナトリウム （４−５）オクチルフェノールエチレンオキサイド付加
物（Ｔｒｉｔｏｎ ＴＸ−１０２） （４−６）スルホコハク酸ノニルビニルエステルナトリ
ウム塩 （４−７）スルホコハク酸ノニルビニルスルホニルエス
テルナトリウム塩 （４−８）パーフロロオクタン酸ナトリウム塩 （４−９）ポリエチレングリコール（分子量１０００）

【００３７】

【化５】

【００３８】シリカ微粒子を表面処理する架橋剤はビニ
ルスルホン系、エポキシ系、シアヌル酸系、ペプチド系
架橋剤を使用することができる。ビニルスルホン系の架
橋剤はＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂−Ｘ−ＳＯ₂ＣＨ＝ＣＨ₂で表す
ことができ、Ｘが置換されてもよいアルキル基を導入す
ることができる。エポキシ系はグリシジル基を有する脂
肪族、芳香族、ヘテロ環基等いずれも使用できる。グリ
シジル基をＧとすると下記のような構造を挙げることが
できる。下記構造の架橋剤は市販品から入手したり、常
法で合成が可能である。 （５−１）ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＳＯ₂ＣＨ＝
ＣＨ₂ （５−２）ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｓ
Ｏ₂ＣＨ＝ＣＨ₂ （５−３）ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₂ＣＨ₂ＣＨ（ＣＯＣＨ₃）Ｃ
Ｈ₂ＳＯ₂ＣＨ＝ＣＨ₂ （５−４）Ｇ−ＯＣＨ₂−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−Ｏ−Ｇ （５−５）Ｇ−ＯＣＨ₂−ＣＨ（Ｏ−Ｇ）ＣＨ₂−Ｏ−Ｇ （５−６）ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯＯＧ （５−７）ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯＯＧ

【００３９】

【化６】

【００４０】シリカ微粒子の表面を処理するための染料
としてはアニオン系、カチオン系、ノニオン系いずれで
もよく、構造からはシアニン系、メロシアニン系、バル
ビツール酸系、スクワリウム系、オキソノール系、ヘミ
シアニン系のいずれでもよい。特に好ましい染料は熱で
消色する染料（熱消色染料ともいう）であり、下記一般
式で示される。

【００４１】一般式 （Ｋ）_r−Ｑ¹（Ｒ¹）−Ｌ−Ｑ
²（Ｒ²）−（Ｍ）_s 式中、Ｑ¹及びＱ²はヘテロ環基、Ｌは共役２重結合を２
〜６含む２価の結合基、Ｋ及びＭはＱ¹及びＱ²環上に導
入された置換基で、ｒ及びｓが２以上のとき、お互いに
隣接する置換基は環を形成してもよい。ｒ及びｓは０〜
４の整数を表す。Ｒ¹及びＲ²は置換されてもよいアルキ
ルを表し、加熱時に求核剤により活性化され染料の母核
又は共役２重結合を攻撃し、消色化するものが好まし
い。Ｑ¹及びＱ²のヘテロ環基の好ましい例としてはイン
ドレニン環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、オ
キサゾール環及びセレナゾール基等を挙げることができ
る。Ｑ¹及びＱ²環上の置換基はポリハロメタン化合物の
Ｑ上の置換基と同様な置換基を選択することができる。
好ましい具体例を下記に示す。

【００４２】

【化７】

【００４３】

【化８】

【００４４】

【化９】

【００４５】

【化１０】

【００４６】

【化１１】

【００４７】

【化１２】

【００４８】熱消色染料に求核剤として作用し、消色作
用を促進する好ましい化合物を下記の一般式にて示す。

【００４９】

【化１３】

【００５０】式中、Ｚ¹及びＺ²は置換基を有してもよい
５員から６員のヘテロ環を形成するに必要な原子群を表
し、Ｙは置換基を表す。置換基Ｙは０〜４の整数であ
り、２以上の時、隣接する基が環を形成してもよい。Ｚ
¹及びＺ²のヘテロ環上の置換基と置換基Ｙは、ポリハロ
メタン化合物のＱの置換基と同様なものを選択すること
ができる。Ｌ¹は２価の連結基を表し、ｎは０、１〜４
の整数である。

【００５１】Ｌ¹の好ましい基としては、例えば炭素数
１〜１６のアルキレン基又はアルケニレン基、フェニレ
ン基又はナフタレン基などの２価の芳香族基、ピリジン
基、ピリミジン基、フラン基、チオフェン基、イミダゾ
ール基及びトリアゾール基等の２価のヘテロ環基等であ
る。好ましい具体例を下記に示す。

【００５２】

【化１４】

【００５３】

【化１５】

【００５４】

【化１６】

【００５５】シリカ微粒子を表面処理する銀色調向上剤
（色調剤ともいう）としては、熱現像で使用される銀色
調向上剤を任意に使用することができる。好ましい色調
剤はフタラジン構造を持つものを挙げることができる。
フタラジン構造を持つ化合物は下記一般式で表すことが
できる。

【００５６】一般式 Ｗ−（Ｚ）_p 式中、Ｗはフタラジン母核、Ｚは置換基を表し、ｐは１
〜４の正数を表す。ｐが２以上のとき、隣接する置換基
が互いに環を形成してもよい。置換基Ｚはそれぞれ置換
されてもよいアルキル基（メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、ドコサニル
基、２−エチルヘキシル基）、ハロゲン化アルキル基
（トリフロロメチル基、パーフロロオクチル基）、シク
ロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロオクチル基、
シクロペンチル基等）、芳香族基（フェニル基、ナフチ
ル基等）、ヘテロ環基（ピリジル基、フリル基、チオフ
ェニル基、ピペラジル基、イミダゾリル基、トリアゾー
ル基、テトラゾール基等）、アルケニル基（例えば、ビ
ニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、プロパ
ルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基等）、
複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサ
ゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピ
ラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナ
ゾリル基、スルホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリ
ル基、テトラゾリル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等）、アル
コキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピル
オキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ
基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、
アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基等）、アルコ
キシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル
基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニ
ル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェ
ニルオキシカルボニル基等）、スルホンアミド基（例え
ば、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミ
ノ基、ブチルスルホニルアミノ基、ヘキシルスルホニル
アミノ基、シクロヘキシルスルホニルアミノ基、フェニ
ルスルホニルアミノ基等）、スルファモイル基（例え
ば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、
ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル
基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミ
ノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、２−ピ
リジルアミノスルホニル基等）、ウレイド基（例えば、
メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイ
ド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド
基、２−ピリジルウレイド基等）、アシル基（例えば、
アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル
基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル
基、フェニルカルボニル基、ピリジルカルボニル基
等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、
メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル
基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカル
ボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニ
ルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル
基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ
基、エチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルア
ミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、フェニルカルボ
ニルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、
シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、
２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、ア
ミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルア
ミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、２−ピ
リジルアミノ基等）、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、
カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等か
ら選択することができる。

【００５７】フタラジン構造を持つ化合物の好ましい具
体例を下記に示す。 （８−１）５−メチルフタラジン、（８−２）５−エト
キシフタラジン （８−３）４−メチルチオフタラジン （８−４）５−オクチルスルニルアミドフタラジン （８−５）５−エトキシウレイレンフタラジン （８−６）７−アミノフタラジン （８−７）４−メチルスルホニルフタラジン （８−８）４−フェニルチオフタラジン （８−９）４−フェノオキシアミノ−７−メチルフタラ
ジン （８−１０）５−ヒドロキシフタラジン （８−１１）５−シアノフタラジン （８−１２）５，６−ジカルボキシフタラジン （８−１３）５−ジメチルアミノカルボキシフタラジン （８−１４）５−フェニルスルホンアミドフタラジン （８−１５）５−（ベンゾトリアゾール−６−イル）フ
タラジン （８−１６）４−ニトロ−６−メチルチオ−７−メチル
フタラジン （８−１７）５−アセチルフタラジン （８−１８）５，６−ジメトキシフタラジン （８−１９）５−フェニルフタラジン （８−２０）５−イソプロピルフタラジン （８−２１）５，６−ジカルボキシエチルフタラジン （８−２２）４，５，６，７−テトラメチルフタラジン 上記フタラジン構造を持つ化合物は特開平１０−３３９
９３０号及び特開平１０−３３９９３１号に準じて合成
や入手が可能である。

【００５８】熱で脱離するブロック化された化合物とし
ては、本発明で使用する表面処理剤（焼き付き防止剤、
カブリ防止剤、滑り剤、表面活性剤、架橋剤、還元剤
（現像剤）、色調剤、染料等の化合物）を放出するよう
に加工された化合物を言い、例えばこれらの化合物の水
酸基にイソシアナート基、炭酸基等を導入することによ
って得ることができる。特に水酸基に隣接する置換基や
ブロック基自身が嵩高い場合、熱脱離が促進されるの
で、嵩高い置換基を導入して脱離を促進することが好ま
しい。嵩高い置換基は水酸基に隣接する両サイドに配置
するのが好ましいが、離れていてもよいし、水酸基の片
方側に導入してもよい。嵩高い置換基の例としてｔｅｒ
ｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、アダマンチル基、
１−メチルアダマンタン−１−イル、４−メチルシクロ
ヘキサノン−４−イル、ラクトン基、１−メチルラクト
ン−１−イル基、テトラシクロドデシル基、トリシクロ
デカニル基、メンチル基、イソボルニル基等が好まし
い。このように嵩高い置換基で脱離を促進させることを
立体加速脱離と呼ぶことができる。好ましい具体例を下
記に示す。

【００５９】

【化１７】

【００６０】

【化１８】

【００６１】

【化１９】

【００６２】本発明においては、上述の表面処理済みシ
リカ微粒子以外にマット剤を含有してもよい。該マット
剤は任意の構成層中に含むことができるが、本発明の目
的を達成するためには好ましくは感光層以外の構成層で
あり、更に好ましくは支持体から見て最も外側の層であ
る。

【００６３】併用されるマット剤の材質は有機物及び無
機物のいずれでもよい。例えば、無機物としては、スイ
ス特許第３３０，１５８号等に記載のシリカ、仏国特許
第１，２９６，９９５号等に記載のガラス粉、英国特許
第１，１７３，１８１号等に記載のアルカリ土類金属又
はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用い
ることができる。有機物としては、米国特許第２，３２
２，０３７号等に記載の澱粉、ベルギー特許第６２５，
４５１号や英国特許第９８１，１９８号等に記載された
澱粉誘導体、特公昭４４−３６４３号等に記載のポリビ
ニルアルコール、スイス特許第３３０，１５８号等に記
載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特
許第３，０７９，２５７号等に記載のポリアクリロニト
リル、米国特許第３，０２２，１６９号等に記載された
ポリカーボネートの様な有機マット剤を用いることがで
きる。

【００６４】マット剤の形状は定形、不定形どちらでも
良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。

【００６５】該マット剤の添加方法は予め塗布液中に分
散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布
した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法
を用いてもよい。又複数の種類のマット剤を添加する場
合は、両方の方法を併用してもよい。 〈熱現像材料の高分子結合剤〉本発明の熱現像材料の高
分子結合剤（バインダー）としては、ハロゲン化銀、有
機銀塩、還元剤が反応する場として好ましい素材、熱消
色染料が８０〜２００℃以下の熱で消色する反応に好ま
しい素材、或いは塩基発生前駆体が熱により速やかに塩
基を発生するような素材が選択される。上記高分子結合
剤としては例えばメタノールやエタノール等のアルコー
ル類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジ
メチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等を含む極
性溶媒に溶解して用いられるポリマーと、水分散系ポリ
マーとがあり、本発明の熱現像材料の高分子結合剤とし
ては、水分散系ポリマーが好ましい。又、好ましいポリ
マーの組成について更にガラス転移点が−２０〜８０℃
が好ましく、特に−５〜６０℃が好ましい。ガラス転移
点が高いと熱現像する温度が高くなり、低いとカブリ易
くなり、感度の低下や軟調になるからである。

【００６６】上記極性溶媒等に溶解して用いられるポリ
マーとしては例えば、ヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、エチル
セルロースなどのセルロース誘導体、デンプン及びその
誘導体、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルブチラール、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸アミド−アクリ
ル酸エステル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重
合体、ポリアクリルアミド、アルギン酸ナトリウム、ゼ
ラチン、カゼイン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リウレタン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステ
ル、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、スチレン−ブタジエン−アクリル共重合体などが挙
げられる。更に乾燥後、膜を形成した後、その塗膜の平
衡含水率の低いものが好ましく、特に含水率の低いもの
として、例えばセルロースアセテート、セルロースアセ
テートブチレート、ポリ（メチルメタクリル酸）などの
ポリ（アクリル酸エステル）類、ポリ（アクリル酸）、
ポリ（メタクリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、コポリ
（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ（スチレン−ア
クリロニトリル）、コポリ（スチレン−ブタジエン）、
ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビニルホ
ルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポリ（エ
ステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹脂、ポ
リ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、ポリ
（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセテート）、セル
ロースエステル類、ポリ（アミド）類を挙げることがで
きる。

【００６７】又、上記水分散系ポリマーとしては、平均
粒子径が１ｎｍから数μｍの範囲の微粒子にして水系分
散媒中に分散されたものが好ましい。水分散系ポリマー
は水系塗布の結合剤として広く使用されている中で耐水
性を向上させることができる点からラテックスが特に好
ましい。結合剤として耐水性を得る目的のラテックスの
使用量は、塗布性を勘案して決められるが耐湿性の観点
から多いほど好ましく、全結合剤に対して５０〜１００
質量％、８０〜１００質量％が好ましい。

【００６８】〈ラテックスの具体例〉好ましい水分散系
ラテックスの具体例を以下に示すが、ここでは、スチレ
ンをＳｔ、メチルアクリレートをＭＡ、メチルメタクリ
レートをＭＭＡ、エチルアクレイレートをＥＡ、ブチル
アクリレートをＢＡ、イソノニルアクリレートをＩＮ
Ａ、シクロヘキシルメタクリレートをＣＡ、ヒドロキシ
エチルクリレートをＨＥＡ、ヒドロキシエチルメタクリ
レートをＨＥＭＡ、アクリル酸をＡＡ、アクリルアミド
ＡＡｍ、スチレンスルホン酸をＳｔ−Ｓ、アクリルアミ
ド−２−メチルプロパンスルホン酸アミドをＡＭＰＳ、
イソプレンスルホン酸をＩＰ−Ｓ、２−プロペニル−４
−ノニルフェノキシエチレンオキサイド（ｎ＝１０）ス
ルホン酸エステルをＰＦ−Ｓと省略して表し、付帯数字
は質量組成比を表す。

【００６９】 ラテックス例 モノマー組成 分子量（万） Ｔｇ （１）ＥＡ９７ＡＡ３ １ −２６ （２）ＥＡ１００ ２ −２９ （３）ＥＡ４０ＢＡ５７ＡＡ３ １０ −４６ （４）ＥＡ９７ＭＭＡ３ １３ −２３ （５）Ｓｔ２０ＭＭＡ３０ＥＡ４０ＢＡ８ＡＡ２ ２０ ３８ （６）Ｓｔ１０ＩＰ−Ｓ１０ＭＭＡ３０ＥＡ５０ ２ ４６ （７）ＥＡ９０ＡＭＰＳ１０ ５ −１６ （８）ＭＭＡ１０ＥＡ８８ＡＭＰＳ２ ０．２ −１５ （９）Ｓｔ３０ＭＭＡ２０ＥＡ４０ＢＡ５ＡＡ５ ０．８ ３３ （１０）ＣＡ６０ＩＮＡ３０ＩＰ−Ｓ１０ ３ −４６ （１１）ＭＭＡ５０ＥＡ４０ＡＭＰＳ１０ ４ １０ （１２）ＭＭＡ５０ＥＡ４０Ｓｔ−Ｓ１０ １０ １５ （１３）ＥＡ９０ＰＦ−Ｓ１０ ５０ −２０ （１４）ＭＭＡ５０ＥＡ４０ＡＡｍ１０ ２０ ２２ （１５）Ｓｔ２０ＭＭＡ３０ＥＡ５０ＨＥＡ１０ １０ ２３ （１６）Ｓｔ１０ＭＭＡ３０ＥＡ５０ＨＥＭＡ１０ １０ １８ （１７）ＢＡ４０Ｓｔ２０ＥＡ３０ＡＡ１０ １０ １１ （１８）ＣＡ６０ＩＮＡ３０ＭＡ１０ ２０ −３８ （１９）ＣＡ６０ＩＮＡ３０ＡＭＰＳ１０ ４ −３４ （２０）ＣＡ５０ＩＮＡ３０ＥＡ１０ＡＭＰＳ１０ ３ −３２ （２１）ＥＡ９５ＡＡ５ １０ −２５ （２２）ＥＡ９７ＢＡ３ １３ −２６ （２３）ＥＡ５０ＢＡ４７ＡＡ３ ２０ −３６ （２４）ＥＡ９５ＭＭＡ５ ２ −２４ （２５）Ｓｔ２０ＭＭＡ３０ＥＡ３９ＢＡ８ＡＡ３ ５ ３２ （２６）Ｓｔ１５ＩＰ−Ｓ５ＭＭＡ３０ＥＡ５０ ０．２ ３３ （２７）ＥＡ８０ＡＭＰＳ２０ ０．８ ２３ （２８）ＭＭＡ２ＥＡ８８ＡＭＰＳ１０ ３ ２７ （２９）Ｓｔ３２ＭＭＡ２０ＥＡ４０ＢＡ５ＡＡ３ ４ ３０ （３０）ＣＡ５０ＩＮＡ３０ＩＰ−Ｓ２０ １０ ５ （３１）ＭＭＡ４０ＥＡ５０ＡＭＰＳ１０ ５０ ３３ （３２）ＭＭＡ２５ＥＡ４０Ｓｔ−Ｓ３０ ２０ ２６ （３３）ＥＡ８０ＰＦ−Ｓ２０ １０ −１６ （３４）ＭＭＡ５０ＥＡ４５ＡＡｍ５ １０ ２４ （３５）Ｓｔ１５ＭＭＡ３０ＥＡ５０ＨＥＡ５ １０ ２３ （３６）Ｓｔ１０ＭＭＡ３５ＥＡ５０ＨＥＭＡ５ ２０ ３３ （３７）ＢＡ４４Ｓｔ２０ＥＡ３０ＡＡ６ ４ −３３ （３８）ＣＡ６４ＩＮＡ３３ＭＡ３ ３ −３６ （３９）ＣＡ４０ＩＮＡ４０ＡＭＰＳ２０ １０ −４０ （４０）ＣＡ５３ＩＮＡ３０ＥＡ１０ＡＭＰＳ７ １５ −４４ （４１）Ｓｔ３０ＢＵ６８ＩＡ２ １０ ２１ （４２）ＢＡ５０ＣＶＤ５０ １０ −２０ （４３）ＣＶＤ９８ＩＡ２ ２０ −１５ （４４）ＦＶＤ９８ＩＡ２ ２０ −３８ （４５）ＣＶＤ１００ ２０ −１８ （４６）ＦＶＤ１００ ２０ −４０ 〈有機銀塩〉本発明の熱現像材料に含有される有機銀塩
は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有
する有機酸、ヘテロ有機酸及び酸ポリマーの銀塩などが
用いられる。又、配位子が４．０〜１０．０の銀イオン
に対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩錯体も
有用である。銀塩の例は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃ
ｌｏｓｕｒｅ（以下、ＲＤ）第１７０２９及び２９９６
３に記載されており、次のものがある：有機酸の塩（例
えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、
パルミチン酸、ラウリン酸等の塩）；銀のカルボキシア
ルキルチオ尿素塩（例えば、１−（３−カルボキシプロ
ピル）チオ尿素、１−（３−カルボキシプロピル）−
３，３−ジメチルチオ尿素等）；アルデヒドとヒドロキ
シ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生成物の銀錯
体（例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブ
チルアルデヒドのようなアルデヒド類とサリチル酸、ベ
ンジル酸３，５−ジヒドロキシ安息香酸、５，５−チオ
ジサリチル酸のようなヒドロキシ置換酸類）；チオン類
の銀塩又は錯体（例えば、３−（２−カルボキシエチ
ル）−４−ヒドロキシメチル−４−チアゾリン−２−チ
オン及び３−カルボキシメチル−４−メチル−４−チア
ゾリン−２−チオン）；イミダゾール、ピラゾール、ウ
ラゾール、１，２，４−チアゾール及び１Ｈ−テトラゾ
ール、３−アミノ−５−ベンジルチオ−１，２，４−ト
リアゾール及びベンゾトリアゾールから選択される窒素
酸と銀との錯体又塩；サッカリン、５−クロロサリチル
アルドキシム等の銀塩；メルカプチド類の銀塩等が挙げ
られる。

【００７０】〈還元剤〉本発明の熱現像材料に好適な還
元剤の例としては、米国特許第３，７７０，４４８号、
同３，７７３，５１２号、同３，５９３，８６３号等の
各明細書、及びＲＤ第１７０２９及び２９９６３に記載
されており、次のものが挙げられる。

【００７１】アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
（例えば、２−ヒドロキシ−３−ピペリジノ−２−シク
ロヘキセノン）；還元剤の前駆体としてアミノレダクト
ン類エステル（例えば、ピペリジノヘキソースレダクト
ンモノアセテート）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例え
ば、Ｎ−ｐ−メチルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；
アルデヒド又はケトンのヒドラゾン類（例えば、アント
ラセンアルデヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーア
ミドフェノール類；ホスファーアミドアニリン類；ポリ
ヒドロキシベンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔ−ブ
チル−ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノン及び
（２，５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホ
ン）；スルフヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスル
フヒドロキサム酸）；スルホンアミドアニリン類（例え
ば、４−（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２
−テトラゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチ
ル−５−（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒド
ロキノン）；テトラヒドロキノキサリン類（例えば、
１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミド
オキシム類；アジン類；脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ；ポリヒドロ
キシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ；レダ
クトン及び／又はヒドラジン；ヒドロキサン酸類；アジ
ン類とスルホンアミドフェノール類の組み合わせ；α−
シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−ナフトールと
１，３−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ；５
−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノール還元剤；２
−フェニルインダン−１，３−ジオン等；クロマン；
１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，６−ジメト
キシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−ジヒドロピ
リジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス（２−ヒド
ロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタ
ン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）メシトール（ｍ
ｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロパン、４，４−エチリデン−ビス
（２−ｔ−ブチル−６−メチルフェノール））、紫外線
感応性アスコルビン酸誘導体；ヒンダードフェノール
類；３−ピラゾリドン類。中でも特に好ましい還元剤
は、ヒンダードフェノール類である。ヒンダードフェノ
ール類としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物が
挙げられる。

【００７２】

【化２０】

【００７３】式中、Ｒは水素原子、又は炭素原子数１〜
１０のアルキル基（例えば、−Ｃ₄Ｈ₉、２，４，４−ト
リメチルペンチル）を表し、Ｒ′及びＲ″は炭素原子数
１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｔ−ブ
チル）を表す。

【００７４】一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。

【００７５】

【化２１】

【００７６】

【化２２】

【００７７】前記一般式（Ａ）で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は、好ましくは銀１モル当り１×
１０^-2〜１０モル、特に１×１０^-2〜１．５モルであ
る。

【００７８】〈感光性ハロゲン化銀〉本発明の熱現像材
料の感光層中に含有される感光性ハロゲン化銀は、シン
グルジェット若しくはダブルジェット法などの写真技術
の分野で公知の任意の方法により、例えばアンモニア法
乳剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法で予め調製
し、次いで本発明の他の成分と混合して本発明に用いる
組成物中に導入することができる。この場合に感光性ハ
ロゲン化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるため、例
えば感光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポリマー
として米国特許第３，７０６，５６４号、同第３，７０
６，５６５号、同第３，７１３，８３３号、同第３，７
４８，１４３号、英国特許第１，３６２，９７０号各明
細書に記載されたポリビニルアセタール類などのゼラチ
ン以外のポリマーを用いる手段や、英国特許第１，３５
４，１８６号明細書に記載されているような感光性ハロ
ゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、又は米国
特許第４，０７６，５３９号明細書に記載されているよ
うに感光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調
製することによって保護ポリマーの使用を省略する手段
等の各手段を適用することができる。

【００７９】感光性ハロゲン化銀は、光センサーとして
機能するものであり、画像形成後の白濁を低く抑えるた
めに、又良好な画質を得るために粒子サイズが小さいも
のが好ましい。平均粒子サイズで０．１μｍ以下、好ま
しくは０．０１〜０．１μｍ、特に０．０２〜０．０８
μｍが好ましい。又、ハロゲン化銀の形状としては特に
制限はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶でな
い球状、棒状、平板状等の粒子がある。又ハロゲン化銀
組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃
臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであっても
よい。

【００８０】上記ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び
後述の有機銀塩の総量に対し５０質量％以下好ましくは
２５〜０．１質量％、更に好ましくは１５〜０．１質量
％の間である。

【００８１】本発明の熱現像材料に使用される感光性ハ
ロゲン化銀は又、英国特許第１，４４７，４５４号明細
書に記載されている様に、有機銀塩を調製する際にハラ
イドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共存
させ、これに銀イオンを注入することで有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることができる。

【００８２】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有
効に接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀
形成成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を
生成しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該
当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事
が出来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混
入し必要ならば加熱した後にＸ線回折法によりハロゲン
化銀に特有のピークがあるかを調べるものである。かか
る試験によって有効であることが確かめられたハロゲン
化銀形成成分としては、無機ハロゲン化物、オニウムハ
ライド類、ハロゲン化炭化水素類、Ｎ−ハロゲン化合
物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例につ
いては米国特許第４，００９，０３９号、同第３，４５
７，０７５号、同第４，００３，７４９号、英国特許第
１，４９８，９５６号等の各明細書及び特開昭５３−２
７０２７号、同５３−２５４２０号等の各公報に詳説さ
れるが以下にその一例を示す。

【００８３】上記ハロゲン化銀の生成に（１）無機ハロ
ゲン化物が用いられる場合：例えばＭＸ_nで表されるハ
ロゲン化物（ここでＭは、Ｈ、ＮＨ₄、及び金属原子を
表し、Ｘはハロゲン原子を表し、ｎはＭがＨ及びＮＨ₄
の時は１を、Ｍが金属原子の時はその原子価を表し、金
属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セ
シウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、
バリウム、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、アンチモン、
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウ
ム、セリウム等がある）が用いられ、又臭素水などのハ
ロゲン分子も有効である。 （２）オニウムハライド類が用いられる場合：例えばト
リメチルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチ
ルジメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジ
ルアンモニウムブロマイドの様な第４級アンモニウムハ
ライド、テトラエチルフォスフォニウムブロマイドの様
な第４級フォスフォニウムハライド、トリメチルスルフ
ォニウムアイオダイドの様な第３級スルフォニウムハラ
イドが用いられる。 （３）ハロゲン化炭化水素類が用いられる場合：例えば
ヨードフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、２−ブ
ロム−２−メチルプロパン等が用いられる。 （４）Ｎ−ハロゲン化合物が用いられる場合：例えばＮ
−クロロ琥珀酸イミド、Ｎ−ブロム琥珀酸イミド、Ｎ−
ブロムフタルイミド、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−ヨ
ード琥珀酸イミド、Ｎ−ブロムフタラゾン、Ｎ−ブロム
オキサゾリノン、Ｎ−クロロフタラゾン、Ｎ−ブロモア
セトアニリド、Ｎ，Ｎ−ジブロモベンゼンスルホンアミ
ド、Ｎ−ブロモ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、
１，３−ジブロモ−４，４−ジメチルヒダントイン、Ｎ
−ブロモウラゾール等が用いられる。 （５）その他のハロゲン含有化合物が用いられる場合：
例えば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメ
チル、２−ブロム酢酸、２−ブロムエタノール、ジクロ
ロベンゾフェノン等が用いられる。

【００８４】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩１モルに対し０．００１〜０．７モル、好
ましくは０．０３〜０．５モルである。ハロゲン化銀形
成成分は上記の範囲で２種以上併用されてもよい。上記
のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩の一部をハロ
ゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時間、反応
圧力等の諸条件は作製の目的に合わせ適宜設定すること
ができるが、通常、反応温度は−２３〜７４℃、その反
応時間は０．１秒〜７２時間であり、その反応圧力は大
気圧に設定されるのが好ましい。この反応は又、前記結
合剤として使用されるポリマーの存在下に行われること
が好ましい。この際のポリマーの使用量は有機銀塩１質
量部当たり０．０１〜１００質量部、好ましくは０．１
〜１０質量部である。

【００８５】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
することができる。この化学増感の方法及び手順につい
ては、例えば米国特許第４，０３６，６５０号、英国特
許第１，５１８，８５０号等の各明細書、特開昭５１−
２２４３０号、同５１−７８３１９号、同５１−８１１
２４号等の各公報に記載されている。又ハロゲン化銀形
成成分により有機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変
換する際に、米国特許第３，９８０，４８２号明細書に
記載されているように、増感を達成するために低分子量
のアミド化合物を共存させてもよい。

【００８６】又、これらの感光性ハロゲン化銀には、照
度不軌や、階調調整のために元素周期律表の６〜１０族
に属する金属、例えばＲｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｏｓ、
Ｆｅ等のイオン、その錯体又は錯イオンを含有させるこ
とができる。特に元素周期律表の６〜１０族に属する金
属のイオン又は錯体イオンを含有することが好ましい。
上記の金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ま
しく、中でも印刷製版用感光材料に使用される場合はＲ
ｈ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｏｓから選ばれることが好まし
い。

【００８７】これらの金属は錯体の形でハロゲン化銀に
導入できる。本発明においては、遷移金属錯体は、下記
一般式で表される６配位錯体が好ましい。

【００８８】一般式：〔ＭＬ₆〕^m 式中、Ｍは元素周期表の６〜１０族の元素から選ばれる
遷移金属、Ｌは架橋配位子、ｍは０、１−、２−又は３
−を表す。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロ
ゲン化物（弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物）、シア
ン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占める
ことが好ましい。複数あるＬは同一でもよく、又異なっ
ていてもよい。Ｍとして特に好ましい具体例は、ロジウ
ム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）及
びオスミウム（Ｏｓ）である。

【００８９】金属のイオン又は錯体イオンの含有量とし
ては、一般的にはハロゲン化銀１モル当たり１×１０^-9
〜１×１０^-2モルが適当であり、好ましくは１×１０^-8
〜１×１０^-4モルである。これらの金属のイオン又は錯
体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時
に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好
ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成
長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加しても
よいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加する
のが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するの
が好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよ
く、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもでき
るし、特開昭６３−２９６０３号、特開平２−３０６２
３６号、同３−１６７５４５号、同４−７６５３４号、
同６−１１０１４６号、同５−２７３６８３号等に記載
されている様に粒子内に分布を持たせて含有させること
もできる。好ましくは粒子内部に分布をもたせることが
できる。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶
媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール
類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して添加
することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液
もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解
した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性
ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液と
ハライド溶液が同時に混合されるとき第３の水溶液とし
て添加し、３液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調
製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液
を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時
に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別
のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等があ
る。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合
物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を水溶
性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に
添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中もし
くは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶
液を反応容器に投入することもできる。

【００９０】〈マット剤〉本発明においては、感光層上
の保護層やＢＣ層や該ＢＣ層上の保護層等にマット剤を
含有することが好ましく、本発明に用いられるマット剤
の材質は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例え
ば、無機物としては、スイス特許第３３０，１５８号等
に記載のシリカ、仏国特許第１，２９６，９９５号等に
記載のガラス粉、英国特許第１，１７３，１８１号等に
記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸
塩、等をマット剤として用いることができる。有機物と
しては、米国特許第２，３２２，０３７号等に記載の澱
粉、ベルギー特許第６２５，４５１号や英国特許第９８
１，１９８号等に記載された澱粉誘導体、特公昭４４−
３６４３号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特
許第３３０，１５８号等に記載のポリスチレン或いはポ
リメタアクリレート、米国特許第３，０７９，２５７号
等に記載のポリアクリロニトリル、米国特許第３，０２
２，１６９号等に記載されたポリカーボネートの様な有
機マット剤を用いることができる。

【００９１】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
本発明に用いられるマット剤は、平均粒径が０．５〜１
０μｍであることが好ましく、更に好ましくは１．０〜
８．０μｍである。又、粒子の単分散度は５０以下であ
ることが好ましく、更に好ましくは４０以下であり、特
に好ましくは２０以下となるマット剤である。ここで、
粒子の単分散度は粒子径の標準偏差を粒子径の平均値で
割り１００を掛けた数字で表される。本発明に係るマッ
ト剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する
方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終
了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。
又複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法
を併用してもよい。

【００９２】本発明の熱現像材料は、熱現像処理にて写
真画像を形成するもので、前記した還元可能な銀源（有
機銀塩）、該銀源の還元剤、触媒活性量のハロゲン化銀
等の他、必要に応じてヒドラジン化合物及び色調を抑制
する色調剤を結合剤中に分散した状態で含有しているの
が好ましい。本発明の熱現像材料は常温で安定である
が、露光後高温（例えば、８０℃〜２００℃）に加熱す
ることで現像される。加熱することで有機銀塩（酸化剤
として機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じ
て銀を生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化
銀に発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光
領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像
を提供し非露光領域とのコントラストで、画像の形成が
なされる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供
給することなしで進行する。

【００９３】〈ヒドラジン化合物〉本発明の熱現像材料
には、銀画像のコントラストを強調するための硬調化剤
としてヒドラジン化合物が含有される。上記ヒドラジン
化合物としては例えば、米国特許第５，５４５，５０５
号明細書のカラム１１〜２０に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ
−２９、米国特許第５，４６４，７３８号明細書のカラ
ム９〜１１に記載の化合物１〜１２に記載される化合物
が好ましく用いられる。これらのヒドラジン化合物は公
知の方法により合成することができる。

【００９４】上記ヒドラジン化合物は感光層及び／又は
感光層に隣接する層に添加され、添加量はハロゲン化銀
粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の
種類等により一様ではないが、ハロゲン化銀１モル当た
り１０^-6〜１０^-1モル程度、特に１０^-5〜１０^-2モルの
範囲が好ましい。

【００９５】〈色調剤〉本発明の熱現像材料には、色調
剤を添加することが好ましい。好適な色調剤の例はＲＤ
第１７０２９号に開示されており、次のものがある。

【００９６】イミド類（例えば、フタルイミド）；環状
イミド類、ピラゾリン−５−オン類、及びキナゾリノン
（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−ピラゾ
リン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び２，４−チアゾリジンジオン）；ナフタールイミド
類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミ
ド）；コバルト錯体（例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート）、メルカプタン類（例えば、３
−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；Ｎ−（ア
ミノメチル）アリールジカルボキシイミド類（例えば、
Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミド）；ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム（ｉｓｏｔｈ
ｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カル
バモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−
（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウム
トリフルオロアセテート）、及び２−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾチアゾールの組み合わせ）；メロ
シアニン染料（例えば、３−エチル−５−（（３−エチ
ル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベンゾチアゾリニリ
デン））−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４
−オキサゾリジンジオン）；フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩（例えば、４−
（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノ
ン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３
−ジヒドロ−１，４−ポリハロメタン化合物ジオン）；
フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ（例え
ば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼンスルフィン酸ナ
トリウム又は８−メチルフタラジノン＋ｐ−トリスルホ
ン酸ナトリウム）；ポリハロメタン化合物＋フタル酸の
組み合わせ；ポリハロメタン化合物（ポリハロメタン化
合物の付加物を含む）とマレイン酸無水物、及びフタル
酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸又はｏ−フェニレ
ン酸誘導体及びその無水物（例えば、フタル酸、４−メ
チルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフ
タル酸無水物）から選択される少なくとも１つの化合物
との組み合わせ；キナゾリンジオン類、ベンズオキサジ
ン、ナルトキサジン誘導体；ベンズオキサジン−２，４
−ジオン類（例えば、１，３−ベンズオキサジン−２，
４−ジオン）；ピリミジン類及び不斉−トリアジン類
（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミジン）、及びテ
トラアザペンタレン誘導体（例えば、３，６−ジメルカ
プト−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，
５，６ａ−テトラアザペンタレン）。

【００９７】〈増感色素〉本発明の熱現像材料には、例
えば特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３
５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１
号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号等
の各公報、米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，
７４０，４５５号、同第４，７４１，９６６号、同第
４，７５１，１７５号、同第４，８３５，０９６号等の
各明細に記載された増感色素が使用できる。本発明に使
用される有用な増感色素は例えばＲＤＩｔｅｍ１７６４
３IV−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、同Ｉｔｅｍ
１８３１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もし
くは引用された文献に記載されている。特に各種スキャ
ナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素
を有利に選択することができる。例えば特開平９−３４
０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号記
載の化合物が好ましく用いられる。

【００９８】〈支持体〉支持体としては、紙、合成紙、
不織布、金属箔、プラスチックフィルムなどの支持体が
使用可能であり、又これらを組み合わせた複合シートを
任意に用いてもよい。

【００９９】〈画像露光〉本発明において、露光は例え
ば、発光波長が６６０ｎｍ、６７０ｎｍ、７８０ｎｍ、
８１０ｎｍ、８３０ｎｍの何れかのレーザー走査露光に
より行うことが好ましいが、熱現像材料の露光面と走査
レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレ
ーザー走査露光機を用いることが好ましい。ここで、
「実質的に垂直になることがない」とはレーザー走査角
度が好ましくは５５〜８８度、より好ましくは６０〜８
６度、更に好ましくは６５〜８４度、最も好ましくは７
０〜８２度であることをいう。レーザー光が、熱現像材
料に走査されるときの該熱現像材料露光面でのビームス
ポット直径は、好ましくは２００μｍ以下、より好まし
くは１００μｍ以下である。これは、スポット径が小さ
い方がレーザー入射角度の垂直からのずらし角度を減ら
せる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は１
０μｍである。このようなレーザー走査露光を行うこと
により干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画
質劣化を減じることが出来る。

【０１００】又、本発明における露光は縦マルチである
走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて行
うことも好ましい。縦マルチモードのレーザー露光とす
ることにより縦単一モードの走査レーザー光に比べて干
渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ
化するには、前記の方法の他、合波による、戻り光を利
用する、高周波重畳をかける、などの方法がある。尚、
縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通
常露光波長の分布が５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以
上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限は
ないが、通常６０ｎｍ程度である。

【０１０１】〈現像方法〉図１は本発明の現像方法を説
明する熱現像装置の一例を示す要部断面図であり、図
中、レーザー光により露光された熱現像材料１は、好ま
しくは乳剤層側を下にして搬送ローラー２により現像部
７に導入され、該現像部７により加熱搬送されて現像さ
れ、排出ローラー４により排出される。上記現像部７の
構成は遠赤外線ヒーター、ニクロム線ヒーター等の熱源
３を有し、矢印方向に回転する熱ドラム５と、その外周
に該熱ドラム５と同期して回転する複数の熱ローラー群
６との間に挟持搬送される。尚８及び８′は断熱カバー
であり、断熱カバー８の裏面は熱を反射するコールドミ
ラーとなっている。尚、熱現像材料１を現像部７に導入
する前に図示しない予熱手段を設け、且つ熱現像材料１
の現像後、図示しない冷却手段を設けるのが好ましい。

【０１０２】ここで、熱ドラム５は銅、アルミニウム、
スチール等の熱伝導性に優れた材料が用いられ、複数の
熱ローラー群６は好ましくは前記した金属又は金属酸化
物等で表面処理された酸化鉄類が含有されたシリコーン
ローラーが用いられ、その表面硬度は弾性率で表したと
きの値が１×１０^-4〜１Ｐａとするのが好ましい。又熱
現像材料１の搬送スピードは１〜１００ｃｍ／ｓｅｃと
するのが好ましく、８０〜１８０℃で５〜１００ｓｅｃ
間加熱搬送して現像するが好ましく、搬送時の熱ドラム
５と熱ローラー群６との圧力は１０²〜１０⁵Ｐａとする
のが好ましい。

【０１０３】尚、上記では、熱ローラー群６側に熱源を
設けず、該熱ローラー群６を熱源内蔵の熱ドラム５に圧
接させること及び断熱カバー８内面のコールドミラーの
熱反射により加熱させることにより現像を行う例を説明
したが、本発明の現像方法では、熱源を熱ローラー群６
に設けて現像するようにしてもよい。

【０１０４】〈熱現像用熱ローラー〉本発明の熱現像材
料を現像する現像機の熱現像部に採用する熱ローラー
は、耐熱性、耐薬品性、耐摩耗性、帯電防止特性等を備
えた任意のローラーを採用することができるが、特に耐
熱性と耐薬品性を高めたシリコーンゴム（オルガノポリ
シロキサン）ローラーが好ましい。シリコーンゴムは、
必要に応じて種々の着色剤を添加して色着けが行われて
いる。シリコーンゴムに黒色を与える代表的な着色剤と
してはカーボンブラックや黒ベンガラ（Ｆｅ₃Ｏ₄）が知
られている。又種々の添加剤を添加して耐熱性を与える
ことも行われている。このようなシリコーンゴム組成物
に耐熱性を与える方法としては、一般的には架橋促進剤
として白金触媒が代表的であり、又白金触媒とカーボン
ブラック等の添加剤との組合わせも提案されている。例
えば米国特許第３，６５２，４８８号明細書ではカーボ
ンブラックが、又米国特許第３，６３５，８７４号明細
書では酸化チタンが助剤として挙げられている。国内で
は特公昭５１−２４３０２号公報で酸化鉄（ＦｅＯ） _x
（Ｆｅ₂Ｏ₃）_yを添加する方法が用いられており、中で
も黒ベンガラ（Ｆｅ₃Ｏ₄）は黒色で、熱伝導性に優れて
いることから好ましいものとして記載されている。

【０１０５】しかしながら、上記黒ベンガラ等の酸化鉄
類は熱現像材料の還元剤と酸化剤との酸化還元反応によ
り色が黒から赤に変化し、それにともなって機械強度、
耐熱性が低下し易いという問題がある。本発明ではシリ
コーンゴムローラーに添加される金属酸化物が酸化鉄類
のときは、好ましくはその表面を変質防止のための処理
を施したものが用いられる。

【０１０６】以下、熱ローラーとしてのシリコーンゴム
ローラーを製造するための各成分の好ましい配合例を示
す。 （Ａ）珪素原子の一部を炭素数１〜３０の異種原子で置
換されてもよいオルガノポリシロキサン１００質量部に
対して、（Ｂ）金属酸化物１０〜１００質量部、（Ｃ）
硬化剤０．１〜１０質量部、（Ｄ）変質防止のための表
面処理が施された酸化鉄類０．１〜５０質量部が添加さ
れる。

【０１０７】以下、上記（Ａ）〜（Ｄ）について更に詳
述する。本発明のシリコーンゴムローラーを製造するた
めの（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは、該オルガ
ノポリシロキサンの珪素原子に置換又は非置換の炭素数
１〜１０の１価の炭化水素基を有し、該１価の炭化水素
基としてはアルキル基、アルケニル基、アリール基など
が例示され、更に該１価の炭化水素基が有してもよい置
換基として例えばメチル基、ビニル基又はフェニル基等
から選択される一価の基が好ましい。上記アルケニル基
は０．０１〜５モル％、特に０．０２〜０．５モル％含
有されることが好ましい。更に又上記１価の炭化水素基
としてのアルキル基、アルケニル基、アリール基などの
炭素原子に結合する水素原子の一部又は全部をハロゲン
原子、シアノ基などで置換されたものであってもよく、
例えば３，３，３−トリフロロプロピル基、２−シアノ
エチル基などが挙げられ、３，３，３−トリフロロプロ
ピル基が特に好ましい。又、上記オルガノポリシロキサ
ンの分子鎖両末端基としてはヒドロキシ基、トリメチル
シリル基、ジメチルビニルシリル基、トリビニルシリル
基などが挙げられるが特にこれらに限定されない。
（Ａ）成分のオルガノポリシロキサンは十分な機械強度
を出すために重合度が２，７００以上、好ましくは３，
０００〜２０，０００であるが、特に好ましくは４，８
００〜１０，０００である。又（Ａ）成分のオルガノポ
リシロキサンは構造や重合度の異なる２種以上を併用す
ることもできる。

【０１０８】（Ｂ）成分の金属酸化物はシリコーンゴム
の補強用として用いられ、例えばシリカ、アルミナ、酸
化チタン、マグネタイト、ヘマタイト、黒ベンガラ等が
挙げられ、特にシリカが好ましく用いられ、該シリカと
してはシリコーンゴムに適度の硬さを与え且つその引張
り強さ等の機械強度を向上させるために、その有する比
表面積が６６ｍ²／ｇ以上のものが使用されるが、特に
９９ｍ²〜４４４ｍ²／ｇのものが好ましい。このような
補強性シリカとして具体的には、ヒュームドシリカ、焼
成シリカ、沈降シリカ等が単独又は２種以上の組み合わ
せで用いられる。又これらのシリカは直鎖状オルガノポ
リシロキサン、環状オルガノポリシロキサン、ヘキサメ
チルジシラザン、ジクロルジメチルシラン等で表面処理
されたものを用いることもできる。（Ｂ）成分の配合量
は（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１００質量部に
対して１０〜１００質量部であり、好ましくは２０〜５
０質量部である。配合量がこの数値範囲外であると、シ
リコーンゴム組成物の加工性が悪くなったり、十分な機
械強度が得られなくなる場合がある。

【０１０９】（Ｃ）成分は、本発明の組成物を硬化させ
てシリコーンゴムとするものであり、一般には有機過酸
化物が使用される。又（Ａ）成分のオルガノポリシロキ
サンが分子中に２個以上のアルケニル基を含有する場合
には硬化剤としてオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンと白金系触媒の組合わせたものが使用可能である。硬
化剤の量は後記のように本発明の組成物を硬化させるの
に十分な量であればよい。本発明で使用可能な有機過酸
化物を例示するとジクミルパーオキサイド、ジｔ−ブチ
ルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキ
シ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾ
イルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５
−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチル
シクロヘキサン、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−
ジクロルベンゾイルパーオキサイド、４−クロロベンゾ
イルパーオキサイド等が挙げられる。これら有機過酸化
物の配合量は、本発明の組成物を硬化させるのに十分な
量として（Ａ）成分１００質量部に対して０．１〜１０
質量部の範囲内である。

【０１１０】又、前記（Ａ）成分のオルガノポリシロキ
サンが分子中に２個以上のアルケニル基を含有する場合
に硬化剤として使用可能尚ルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンとしては、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メ
チルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチル
シロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジ
ェンシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロジェン
シロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジ
ェンシロキサン共重合体などが例示される。他方白金系
触媒としては塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶
液、塩化白金酸とジビニルテトラメチルシロキサンとの
錯体等が例示される。上記のオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンの配合量は、一般に、オルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン中に含まれるケイ素原子に結合する
水素原子のモル数と（Ａ）成分中のアルケニル基のモル
数との比率が（０．５：１）〜（２０：１）になる量で
あり、白金系触媒の量は、一般に（Ａ）成分の質量にも
とづいて、白金量換算で０．１〜３，０００ｐｐｍ程度
であり耐熱化剤として白金化合物を用いる場合は共用で
きる。

【０１１１】次に（Ｄ）成分はシリコーン組成物の好ま
しい成分であり、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミ
ナ、酸化チタン、酸化すず等の金属酸化物で表面処理し
て変質防止されたマグネタイト、ヘマタイト、黒ベンガ
ラ等の酸化鉄類、又はマンガン、アンチモン、スズ、亜
鉛等の金属を表面にドープして変質防止処理がなされた
マグネタイト、ヘマタイト、黒ベンガラ等の酸化鉄類が
０．１〜５０質量％含有される。

【０１１２】シリコーン組成物の特に好ましい成分とし
ては、１〜１０質量％のアルミナ又シリカ−アルミナで
処理されたマグネタイト及び／又は１０〜２０質量％の
マンガンがドープされた微粉状のヘマタイトである。一
般にマグネタイトやヘマタイトは酸化剤に接する場合、
８０℃を越えると表面が酸化されて黒色から赤色に変色
して変質するが、上記のように表面処理されたマグネタ
イトやヘマタイトは、耐熱性に優れ、これらを配合した
シリコーン組成物から得られるシリコーンゴムローラー
の耐熱試験や対薬品性において茶変や赤変を生ぜず、更
には白金化合物を併用すると優れた耐熱性を示し、且つ
高温に暴露後の機械的強度の低下が少ないという特性が
発揮される。上記のようにアルミナ又はシリカ−アルミ
ナの処理量はマグネタイトに対して１〜１０質量％であ
り、１質量％未満ではシリコーンゴムローラーに十分な
耐熱性を付与することができず、１０質量％を越えると
表面処理されたマグネタイトの十分な分散性が得られ
ず、機械的強度の均一なシリコーンゴムローラーが得ら
れない。

【０１１３】又、ヘマタイトは通常赤色であるが、マン
ガンが上記したように１０〜２０質量％ドープされた微
粉状のヘマタイトは優れた黒色となり、マンガンのドー
プ量が１０質量％未満ではシリコーンゴムローラーに対
して十分な黒色を与えず、２０質量％を越えるとヘマタ
イトが凝集し易くなり、且つ分散性が低下する。上記し
たマンガンやヘマタイトは市販のものを用いて表面処理
を行うことができる。

【０１１４】又（Ｄ）成分は更に本発明の目的を損なわ
ない範囲内において、シランカップリング剤などの有機
化合物やＡｌ、Ｓｉなどの無機化合物で処理し、流動性
や耐薬品性を改良したものも使用可能である。（Ｄ）成
分の粒径は０．１〜５．０μｍものが好ましく、より好
ましくは０．１〜２．０μｍである。０．１μｍ未満の
ものは活性が高く配合が困難なことがあり、５．０μｍ
を超えると硬化物の機械強度を損ねることがある。本発
明において、（Ｄ）成分をオルガノポリシロキサン組成
物に配合する際通常用いられるニーダー、バンバリーミ
キサー、オープンロールなどの混練機を使用しうる。
（Ｄ）成分の配合量は前記したように（Ａ）成分のオル
ガノポリシロキサン１００質量部に対して好ましくは
０．１〜５０質量部、より好ましくは０．５〜５質量部
の範囲で用いられる。０．１質量部未満であると十分な
黒色とならず、耐熱性、耐薬品性も不充分となり５０質
量部を超えるとシリコーンゴムローラーの弾性が悪くな
る。又前記（Ｄ）成分を２種以上併用してもよい。

【０１１５】尚、上記白金化合物は（Ｄ）成分と共にシ
リコーンゴムの耐熱性の効果を相乗的に向上させるもの
であり、形態としては前記のように塩化白金酸、塩化白
金酸のアルコール溶液などが挙げられる。白金化合物の
添加量は白金量換算で本発明のシリコーンゴム組成物１
００質量部に対して０．０００１〜０．１質量部で好ま
しくは０．００１〜０．０１質量部ある。上記限定範囲
下限値未満であると効果が不十分になり、限定範囲上限
値を超えても効果は変わらずかえって経済的でない。

【０１１６】又、シリコーンゴム組成物には、（Ａ）〜
（Ｄ）成分以外に、本発明の目的を損なわない範囲内の
量で通常シリコーンゴムに適宜配合される種々のゴム配
合剤、例えばジフェニルシランジオール、低重合度の分
子鎖末端水酸基のシリコーンオイル、ヘキサメチルジシ
ラザン、アルコキシシラン等の分散剤、粉砕シリカ、け
いそう土、酸化亜鉛、酸化チタン、カーボンブラック、
酸化バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭
酸亜鉛、アスベスト、ガラスウール、微粉マイカ、溶融
シリカ粉末等を添加配合しても差し支えない。更に必要
に応じて老化防止剤、酸化防止剤、帯電防止剤、窒化ホ
ウ素、酸化アルミニウム等の熱伝導性向上剤などを配合
してもよい。

【０１１７】シリコーンゴム組成物を製造する方法とし
ては、特に限定されないが、（Ａ）、（Ｂ）成分をニー
ダー等の混練装置に仕込み、室温で配合した後、８０〜
２００℃の温度で３０分〜５時間熱処理し、その後
（Ｄ）成分を加えローラーミルやバンバリーミキサー等
で混練りする方法などを採用することができる。その後
（Ｃ）成分を添加し公知の方法で加熱硬化すればよい。
このようにして得られるシリコーンゴム硬化物は、良好
な耐熱性と耐薬品性を有する。

【０１１８】

【実施例】実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、
本発明の態様はこれに限定されない。

【０１１９】実施例１ （１）表面処理シリカの作製 平均粒子径が０．１μｍの表面処理用シリカゲル粒子水
分散液２５０ｇ（固形分１５質量％）を１０００ｍｌの
ビーカーにとり、焼き付き防止剤６．２５ｇを表１記載
の如く種類を変更しながらアセトン溶媒に溶かして共に
ディスパー（特殊機化工業社製、Ｍ型、４０Φディゾル
バー羽根付）により７５℃±３℃、１３５０ｒｐｍで３
３分間攪拌分散した。分散後使用するまで５℃に冷却し
た。このように表面処理済みシリカとして焼き付き防止
剤を表面処理したシリカが得られた。

【０１２０】（２）下引済み写真用支持体の作製 厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の
両面に８ｗ／ｍ²・分のコロナ放電処理を施し、一方の
面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍになる
ように塗設し乾燥させて下引層Ａ−１とし、又反対側の
面に下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになる
ように塗設し乾燥させて下引層Ｂ−１とした。 （下引塗布液ａ−１） ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、スチレン、 ２−ヒドロキシエチルアクリレートの共重合体ラテックス液 （３０：２０：２５：２５質量％、固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる （下引塗布液ｂ−１） ブチルアクリレート、スチレン、グリシジルアクリレートの 共重合体ラテックス液（４０：２０：４０質量％、固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる 引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に８
ｗ／ｍ²・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上に
は下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍにな
る様に下引層Ａ−２を塗設し、下引層Ｂ−１の上には下
記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになる様
に下引上層Ｂ−２を塗設した。尚、Ｂ−２は帯電防止機
能を有する。 （下引上層塗布液ａ−２） ゼラチン ０．４ｇ／ｍ²になる質量 シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 水で１リットルに仕上げる （下引上層塗布液ｂ−２） スチレンブタジエン共重合ラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００） ６ｇ 水で１リットルに仕上げる （３）ハロゲン化銀粒子乳剤Ａの調製 水９００ｍｌ中にイナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カ
リウム１０ｍｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に
合わせた後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと臭
化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液（モル比＝９８
／２）をｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブ
ルジェット法で１０分間かけて添加した。その後４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザイ
ンデン０．３ｇを添加しＮａＯＨでｐＨを５に調整して
平均粒子サイズ０．０６μｍ、投影直径面積の変動係数
８％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を
得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ
脱塩処理後フェノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ
５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲン化銀粒子乳
剤Ａを得た。

【０１２１】（４）水分散有機銀塩の調製 ４７２０ｍｌの純水にベヘン酸１１１．４ｇ、アラキジ
ン酸８３．８ｇ、ステアリン酸５４．９ｇを８０℃で溶
解した。次に高速で攪拌しながら１．５Ｍの水酸化ナト
リウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し濃硝酸６．９ｍｌ
を加えた後、５５℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を
得た。該有機酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保った
まま、上記ハロゲン化銀粒子乳剤Ａ（銀０．０３８モル
を含む）と純水４５０ｍｌを添加し５分間攪拌した。次
に１Ｍの硝酸銀溶液７６０．６ｍｌを２分間かけて添加
し、更に２０分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去し
た。その後、濾液の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱
イオン水による水洗、濾過を繰り返し、所定の濃度まで
水を加えて仕上げた。

【０１２２】（５）熱現像材料の作製 （２）で下引層を施した支持体上に以下の各層を順次形
成し、熱現像材料を作製した。尚、乾燥は各々７５℃、
１分間で行った。 （バック面側塗布）以下の組成物の水溶液又は水分散体
を水に加えて調製した塗布液を以下の付き量なるように
塗布乾燥した。 ・バック層塗布液 ポリビニルアルコールＰＶＡ２０５クラレ（株） ２．０ｇ／ｍ² 染料Ａ ７０ｍｇ／ｍ²

【０１２３】

【化２３】

【０１２４】 ・バック層保護膜塗布液 イナートゼラチン ０．８ｇ／ｍ² マット剤（ＰＭＭＡ：平均粒径３μ） ０．０２ｇ／ｍ² 表面活性剤：Ｎ−プロピルオクチルスルホンアミド酢酸 ０．０２ｇ／ｍ² 硬膜剤：１，２−ビス（ビニルスホンアミド）エタン ０．０２ｇ／ｍ² （感光層面側塗布）感光層の調製は以下の組成物の水分
散体を水に加えて塗布液を調製した。この塗布液を３５
℃に保ち、銀電極（純度９９．９９％以上）と１０％Ｋ
ＮＯ₃塩溶液からなる塩橋を介した３Ｍ溶液中のＡｇ／
ＡｇＣｌ電極からなる参照電極から形成される銀電位計
を用いて銀電位を測定後、以下の付き量になるように塗
布乾燥した。

【０１２５】銀量として１．４ｇ／ｍ²になる量のハロ
ゲン化銀と有機銀塩の調製液をポリマーバインダーと混
合した。有機銀塩に対してハロゲン化銀は１０分の１等
量になるように加えた。 ・感光層塗布液 バインダー：ポリ塩化ビニリデンラテックス ５．６ｇ／ｍ² 増感色素Ａ ２３ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤−１：ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド ０．３ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤−２：イソチアゾロン １．２ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤−３：２−トリブロモメチルスルホニルキノリン １２０ｍｇ／ｍ² 焼き付き防止剤を表面処理したシリカ（表１記載） ２６０ｍｇ／ｍ² 還元剤：１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル） −３，５，５−トリメチルヘキサン ３．３ミリモル／ｍ² 感光層塗布液のｐＨは５．６に調整した。

【０１２６】

【化２４】

【０１２７】感光層上に以下の組成物の水溶液又は水分
散体を水に加えて調製した塗布液を以下の付き量になる
ように塗布乾燥した。 ・表面保護層塗布液 イナートゼラチン １．２ｇ／ｍ² ４−メチルフタル酸 ０．７２ｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸 ０．２２ｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸無水物 ０．５ｇ／ｍ² シリカマット剤（平均粒径５μｍ） ０．５ｇ／ｍ² １，２−（ビスビニルスルホンアセトアミド）エタン ０．３ｇ／ｍ² （６）熱現像処理 作製した熱現像材料（試料１−１〜１−８）を７８０ｎ
ｍの半導体レーザーを有するレーザー感光計で露光し、
次いでヒートドラムを用いて１２０℃で８秒熱現像処理
した。その際、露光は２５℃・４８％ＲＨに調湿した部
屋で行った。

【０１２８】（７）写真性能の評価 得られた画像のカブリは濃度計により、又焼き付き防止
性能は目視により評価を行った。焼き付き防止性能は最
もよいレベルを５、中程度を３、最も劣るレベルを１と
して相対評価をした。感度はカブリ（最低）濃度（Ｄｍ
ｉｎ）より０．３高い濃度を与える露光量の比の逆数で
評価し試料１−１を基準として相対評価で表した。評価
した結果を表１に示す。

【０１２９】

【表１】

【０１３０】表１から明らかなように本発明の表面処理
済みシリカを用いると、焼き付き防止性能が向上してい
ることが分かる。又、カブリも低い上に充分な感度を有
していることが分かる。

【０１３１】実施例２ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表２記載のカブリ防止
剤を使用し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径が
０．０９μｍのものを使用した。尚、シリカ微粒子に対
しては表面処理条件を表２に示すように変化させた。得
られた結果を表２に示す。

【０１３２】

【表２】

【０１３３】表２から明らかなように本発明の表面処理
済みシリカを用いると、カブリ防止性能が向上している
ことが分かる。又、カブリも低い上に充分な感度を有し
ていることが分かる。

【０１３４】実施例３ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表３記載の滑り剤を使
用し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径が４μｍの
ものを採用した。

【０１３５】得られた熱現像材料を５０ｍ離れた位置ま
で５ｃｍ間隔で並んだゴムローラー上を秒速５ｍで搬送
させ、熱現像後の写真性能を観察した。搬送ローラーの
熱現像材料の表面に掛かる圧力は１．０８×１０⁵Ｐａ
であった。評価した結果を表３に示す。

【０１３６】

【表３】

【０１３７】表３から明らかなように本発明の表面処理
済みシリカを用いると、高速搬送させても圧力によって
カブリが発生していないことが分かる。又、カブリも低
い上に充分な感度を有していることが分かる。

【０１３８】実施例４ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表４記載の表面活性剤
を使用し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径が４μ
ｍのものを採用した。

【０１３９】得られた熱現像材料を５０ｍ離れた位置ま
で５ｃｍ間隔で並んだゴムローラー上を秒速５ｍで搬送
させ、熱現像後の写真性能及びスタチックマークを観察
した。搬送ローラーの熱現像材料の表面に掛かる圧力は
１．１×１０⁵Ｐａであった。評価した結果を表４に示
す。 （評価） ・静電気抑制能 静電気により放電した火花によるカブリでスタチックマ
ークの目視評価を行い、５は全くないレベル、１は放電
が発生してマークが多数生じ、実用に耐えないレベルを
表す。

【０１４０】

【表４】

【０１４１】表４から明らかなように本発明の表面処理
済みシリカを用いると、高速搬送させても帯電によって
スタチックが発生していないことが分かる。又、カブリ
も低い上に充分な感度を有していることが分かる。

【０１４２】実施例５ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表５記載の架橋剤を使
用し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径が６μｍの
ものを採用した。

【０１４３】得られた熱現像材料を５０ｍ離れた位置ま
で５ｃｍ間隔で並んだゴムローラー上を秒速６ｍで搬送
させ、熱現像後の写真性能及びシリカ微粒子の剥落度を
測定した。搬送ローラーの感光材料の表面に掛かる圧力
は１．０８×１０⁵Ｐａであった。評価した結果を表５
に示す。 （評価）熱現像材料の表面から剥落する表面処理済みシ
リカ微粒子の剥落度の評価については、熱現像材料のフ
ィルム（縦横とも１２インチ）を１００枚搬送した後、
中央のローラーの表面の剥落汚れを目視評価した。汚れ
無しは５、最も汚れているのは１、実用的には３以上と
した。

【０１４４】

【表５】

【０１４５】表５から明らかなように本発明の表面処理
済みシリカを用いると、高速搬送させてもシリカ微粒子
の剥落による汚れが生じていないことが分かる。又、カ
ブリも低い上に充分な感度を有していることが分かる。

【０１４６】実施例６ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表６記載の染料を使用
し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径が０．９μｍ
のものを採用した。 （評価）現像画像中の微小欠陥の鮮鋭度を目視で評価し
た。最もよいレベルを５、最も悪いレベルを１、実用的
なレベルを３以上とした。 ・ＡＨ層処方 イナートゼラチン １２ｍｇ／ｍ² 染料 １６ｍｇ／ｍ²

【０１４７】

【表６】

【０１４８】表６から明らかなように、本発明の表面処
理済みシリカを用いると、鮮鋭性が優れていることが分
かる。尚、表面処理用シリカ微粒子を使用せず染料のみ
をＡＨ層に添加した場合は、塗布乾燥時に染料が上層の
感光層や保護層に移動して染料無しに近い鮮鋭性であっ
た。又、カブリも低い上に充分な感度を有していること
が分かる。

【０１４９】実施例７ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表７記載の銀色調剤を
使用し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径が０．８
８μｍのものを採用した。表面処理済みシリカ微粒子を
表面保護層に使用した。 （評価） ・銀色調 銀画像の色調を評価し、黒調で最も良いレベルをランク
５、茶色がかかり劣悪のレベルをランク１、茶色が実質
的に問題ない黒調レベルをランク３以上とした。

【０１５０】

【表７】

【０１５１】表７から明らかなように、本発明の表面処
理済みシリカを用いると、銀色調が優れていることが分
かる。尚、表面処理用シリカ微粒子を使用せず銀色調剤
のみを感光層に添加した場合は、感度が変動していた。
又、カブリも低い上に充分な感度を有していることが分
かる。

【０１５２】実施例８ 実施例１と同様に表面処理済みシリカを作製したが、こ
こでは焼き付き防止剤の代わりに表８記載のブロック化
化合物を使用し、表面処理用シリカ微粒子は平均粒子径
が０．９４μｍのものを採用した。尚、表面処理済みシ
リカ微粒子を感光層に使用した。実施例７と同様にして
熱現像後の写真性能及び銀色調を測定した。

【０１５３】

【表８】

【０１５４】表８から明らかなように、本発明の表面処
理済みシリカを用いると、銀色調が優れていることが分
かる。尚、表面処理用シリカ微粒子を使用せず表８記載
のブロック化化合物のみを感光層に添加した場合は、感
度が変動していた。

【０１５５】実施例９ ここでは以下の表９に示す実施例１〜８で作製した熱現
像材料を使用してレーザー露光した。尚、レーザー露光
方式は通常機と縦マルチレーザー走査露光機の２タイプ
を使用して干渉縞の比較を行った。 （評価） ・干渉縞 濃度１．０での縞模様の目視評価を行い、模様が見えな
いレベルを５とし、模様が出現し画像劣化の最も大きい
レベルを１とし、又実質的に問題ないレベルを３とし
た。

【０１５６】

【表９】

【０１５７】表９から明らかなように、本発明の表面処
理済みシリカを用いると干渉縞が生じにくいことが分か
る。

【０１５８】

【発明の効果】本発明の表面処理済みシリカを用いる
と、従来より使用されるマット剤から得られる以上に熱
現像後の焼き付き、カブリ、搬送性、鮮鋭性、銀色調が
優れているという顕著に優れた効果を奏する。尚、表面
処理用シリカ微粒子を使用せずそれぞれの添加剤のみを
使用した場合は、シリカ微粒子を表面処理しないものに
比べて性能が劣るなど、実用に耐えない。

【図面の簡単な説明】

【図１】熱現像装置の一例を示す要部断面図である。

【符号の説明】

１ 熱現像材料 ２ 搬送ローラー ３ 熱源 ４ 排出ローラー ５ 熱ドラム ６ 熱ローラー群（対抗ローラー群） ７ 現像部 ８、８′ 断熱カバー

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の少なくとも一方の面に感光性ハ
   ロゲン化銀粒子を含有する感光層、有機銀塩及びこの有
   機銀塩の還元剤を含有する熱現像材料において、表面処
   理剤を供給して表面処理を行った表面処理済みシリカ微
   粒子を含むことを特徴とする熱現像材料。
2. 【請求項２】 前記表面処理剤が焼き付き防止剤、カブ
   リ防止剤、滑り剤、表面活性剤、架橋剤、染料、銀色調
   向上剤及び熱で脱離するブロック化された化合物から選
   ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１
   記載の熱現像材料。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の熱現像材料に露光
   を行って画像を記録する画像記録方法において、画像記
   録の際の操作レーザー光が縦マルチレーザー走査露光機
   による露光であることを特徴とする画像記録方法。