JP2001171047A - プラスチック製品およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】耐擦傷性能および反射防止性能に優れた、反射
防止性のプラスチック製品を提供する。 【解決手段】プラスチック基材の表面に、活性エネルギ
線硬化性組成物の硬化物層、ポリシラザンを含有する硬
化性組成物の硬化物である高屈折率層およびポリシラザ
ンを含有する硬化性組成物の硬化物である低屈折率層を
この順で形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、耐擦傷性能および
反射防止性能に優れた、反射防止性のプラスチック製品
およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、プラスチック基材の表面に反射防
止性能を付与したプラスチック製品は、フィルム、シー
ト等の形態で、建築用または車両用の窓材、各種ディス
プレイ（ブラウン管、プラズマディスプレイ、液晶表示
装置等）またはその保護板、鏡、ゴーグル等として利用
されている。プラスチック基材の表面に反射防止性能を
付与する方法としては、基材の表面に、反射防止塗料を
塗布する方法、金属蒸着膜を形成する方法または活性エ
ネルギ線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂の硬化膜の表面に低
屈折率の反射防止膜を形成する方法等が挙げられる。

【０００３】このうち、活性エネルギ線硬化性樹脂や熱
硬化性樹脂の硬化膜の表面に低屈折率の反射防止膜を形
成する方法は、プラスチック基材に反射防止性能ととも
に耐擦傷性を付与する場合に有効な方法である。耐久性
に優れた無機材料からなる低屈折率の反射防止膜を形成
する方法としては、スパッタリング、イオンプレーティ
ング、蒸着等の気相法やゾル−ゲル法等が採用される。

【０００４】しかし、気相法では複雑な装置が必要であ
り生産性も充分ではない問題があり、またゾル−ゲル法
では硬化を高温で行うためプラスチック基材では耐熱性
に難点がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐擦傷性能
および反射防止性能に優れた、反射防止性のプラスチッ
ク製品およびその製造方法の提供を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、耐擦傷性
能および反射防止性能に優れた反射防止性のプラスチッ
ク製品を得る方法を鋭意検討した結果、プラスチック基
材の表面に活性エネルギ線硬化性組成物（ａ）の硬化物
と、ポリシラザンを含有する硬化性組成物からなる屈折
率が異なる２層の硬化物を形成することで、上記目的と
するプラスチック製品が得られることを見いだした。本
発明は、該プラスチック製品およびその製造方法にかか
わる下記発明である。

【０００７】プラスチック基材の表面に、基材側から活
性エネルギ線硬化性組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）、ポ
リシラザンを含有する硬化性組成物の硬化物層（Ｚ）が
この順に形成されてなるプラスチック製品であって、該
硬化物層（Ｚ）が２層の硬化物層からなり、かつ、基材
側の層が高屈折率層（Ｂ）であり、最外層が低屈折率層
（Ｃ）であることを特徴とする反射防止性のプラスチッ
ク製品。

【０００８】高屈折率層（Ｂ）の屈折率ｎ_Bが、硬化物
層（Ａ）の屈折率ｎ_Aおよび低屈折率層（Ｃ）の屈折率
ｎ_Cのいずれよりも大きいことを特徴とする、上記のプ
ラスチック製品。高屈折率層（Ｂ）が屈折率１．５以上
の金属酸化物からなる高屈折率超微粒子を含む、上記の
プラスチック製品。

【０００９】上記のプラスチック製品を製造する方法に
おいて、前記基材の表面に硬化性組成物（ａ）の未硬化
物、部分硬化物もしくは硬化物の層を形成し、その表面
にポリシラザンを含有し高屈折率層（Ｂ）を形成しうる
硬化性組成物（ｂ）の未硬化物もしくは部分硬化物の層
を形成し、さらにその表面にポリシラザンを含有し低屈
折率層（Ｃ）を形成しうる硬化性組成物（ｃ）の未硬化
物の層を形成して、次に活性エネルギ線の照射による前
記硬化性組成物（ａ）の硬化と、前記硬化性組成物
（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）の硬化を任意の順でま
たは同時に行って、前記硬化物層（Ａ）および前記硬化
物層（Ｚ）を形成せしめることを特徴とする、プラスチ
ック製品の製造方法。

【００１０】上記硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成
物（ｃ）の硬化を、水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気
下に曝す、または常温に放置することで行う、プラスチ
ック製品の製造方法。

【００１１】上記のプラスチック製品を製造する方法に
おいて、前記プラスチック基材の表面に硬化性組成物
（ａ）の未硬化物、部分硬化物もしくは硬化物の層を形
成し、その表面にポリシラザンと高屈折率超微粒子を含
有する硬化性組成物を塗工して高屈折率超微粒子を沈降
させた後、前記硬化性組成物（ａ）の未硬化物または部
分硬化物の硬化と、前記ポリシラザンと高屈折率超微粒
子とを含有する硬化性組成物の硬化を、任意の順でまた
は同時に行って、前記硬化物層（Ａ）および前記硬化物
層（Ｚ）を形成せしめることを特徴とする、プラスチッ
ク製品の製造方法。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明における硬化物層は、硬化
物層（Ａ）および硬化物層（Ｚ）の２層からなる。さら
に該硬化物層（Ｚ）は、高屈折率層（Ｂ）および低屈折
率層（Ｃ）からなる。硬化物層（Ａ）は、高屈折率層
（Ｂ）と高い密着性を有し、基材とも高い密着性を有す
る。これら硬化物層は透明であることが好ましい。本明
細書においては、硬化物層を反射防止層とも記す。

【００１３】反射防止層は、耐擦傷性能および反射防止
性能に優れる。さらに該反射防止層はその耐久性にも優
れる。また、該反射防止層は流動性の硬化性組成物を用
いた塗布方法により形成できるため、硬化物層の形成が
容易である。

【００１４】プラスチック基材（以下、単に基材ともい
う）と硬化物層との間には他の合成樹脂等からなる層が
存在していてもよい。例えば、熱可塑性アクリル樹脂な
どの熱可塑性樹脂の層や、接着剤の層が存在していても
よい。これらの層が存在する場合、該層は両者に対し充
分な密着性を有することが好ましく、また該層は透明で
あることが好ましい。

【００１５】硬化性組成物（ａ）には活性エネルギ線硬
化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合物が
含まれることが好ましい。また、多官能性化合物ととも
に、活性エネルギ線によって重合しうる重合性官能基を
１個有する単官能性化合物および／または熱可塑性樹脂
が含まれていてもよい。硬化性組成物（ａ）には、ポリ
シラザンは含まれない。

【００１６】該多官能性化合物および該単官能性化合物
は、特開平１１−２４０１０３号公報［００１５］〜
［００９６］に記載の化合物が好ましい。多官能性化合
物は１種類の多官能性化合物であってもよく、また複数
の種類の化合物を用いてもよい。複数の場合、同一範疇
の異なる化合物であってもよく、範疇の異なる化合物で
あってもよい。

【００１７】多官能性化合物における活性エネルギ線硬
化性の重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル
基、ビニル基、アリル基などのα，β−不飽和基やそれ
を有する基であり、（メタ）アクリロイル基であること
が好ましい。すなわち、多官能性化合物としては、（メ
タ）アクリロイル基から選ばれる１種以上の重合性官能
基を２個以上有する化合物が好ましく、そのうちでも紫
外線によってより重合しやすいアクリロイル基を２個以
上有する化合物であることがさらに好ましい。

【００１８】該熱可塑性樹脂としては、ポリメチルメタ
クリレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリカーボネート樹
脂等が好ましく挙げられる。

【００１９】なお本明細書では、アクリロイル基および
メタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロイル基と
いう。（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリレート等の表現も同様とする。な
お、本発明においては、これらの基や化合物のうちでよ
り好ましいものはアクリロイル基を有するもの、例えば
アクリロイルオキシ基、アクリル酸、アクリレート等で
ある。

【００２０】多官能性化合物を硬化させるために、通
常、硬化性組成物（ａ）は光開始剤を含む。光開始剤と
しては公知のものを使用できる。特に入手容易な市販の
ものが好ましい。硬化物層において複数の光開始剤を使
用してもよい。

【００２１】光開始剤としては、アリールケトン系光開
始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、
アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾ
イン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタ
ール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシム
エステル類など）、含硫黄系光開始剤（例えば、スルフ
ィド類、チオキサントン類など）、アシルホスフィンオ
キシド系光開始剤、ジアシルホスフィンオキシド系光開
始剤、その他の光開始剤が使用できる。特に、アシルホ
スフィンオキシド系光開始剤およびジアシルホスフィン
オキシド系光開始剤の使用が好ましい。また、光開始剤
はアミン類などの光増感剤と組み合わせて使用すること
もできる。

【００２２】具体的な光開始剤としては、例えば以下の
ような化合物がある。２，２−ジクロロ−４’−フェノ
キシアセトフェノン、４’−ｔ−ブチル−２，２−ジク
ロロアセトフェノン、４’−ｔ−ブチル−２，２，２−
トリクロロアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセト
フェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−メチルプロパ
ン−１−オン、１−｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）
フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロパン−
１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝
−２−モルホリノプロパン−１−オン。

【００２３】ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル
安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベ
ンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、アクリ
ル化ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキ
シベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
９，１０−フェナントレンキノン、カンファーキノン、
ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、１，３
−フェニレンビス（４−エチルベンゾイル）、α−アシ
ロキシムエステル類（例えば、２−プロピオニルオキシ
イミノ−１−フェニルプロパン−１−オン）、フェニル
グリオキシル酸メチル。

【００２４】４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニル
スルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジ
クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン。

【００２５】２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフ
ィンオキシド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾ
イル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオ
キシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フ
ェニルホスフィンオキシド。

【００２６】硬化性組成物（ａ）における光開始剤の添
加量は、硬化性成分（多官能性化合物と単官能性化合物
の合計）１００質量部に対して０．０１〜２０質量部、
特に０．１〜１０質量部が好ましい。

【００２７】硬化性組成物（ａ）は上記基本成分以外
に、溶剤や種々の機能性配合剤を含みうる。溶剤は通常
必須の成分であり、多官能性化合物が特に低粘度の液体
でないかぎり溶剤が使用される。溶剤としては、多官能
性化合物を硬化成分とする硬化性組成物に通常に使用さ
れる溶剤を使用できる。

【００２８】溶剤の量は必要とする組成物の粘度、目的
とする硬化物層の厚さ、乾燥温度条件などにより適宜変
更できる。通常は組成物中の硬化性成分に対して質量で
１００倍以下、好ましくは０．１〜５０倍用いる。溶剤
としては例えば、低級アルコール類、ケトン類、エーテ
ル類、セロソルブ類などの溶剤が好ましい。そのほか、
酢酸ｎ−ブチル、ジエチレングリコールモノアセテート
などのエステル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類
などが好ましく挙げられる。基材が耐溶剤性の低い芳香
族ポリカーボネート樹脂の場合には、低級アルコール
類、セロソルブ類、エステル類、それらの混合物などが
好ましい。

【００２９】前記機能性配合剤としては、紫外線吸収
剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防止剤、レベリング
剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料（有機着色顔
料、無機顔料）、着色染料、赤外線吸収剤、蛍光増白
剤、分散剤、防汚性付与剤、防錆剤、導電性微粒子、帯
電防止剤、防曇剤、カップリング剤および硬化触媒から
なる群から選ばれる１種以上の機能性配合剤が挙げられ
る。

【００３０】硬化性組成物（ａ）には、特に、紫外線吸
収剤や光安定剤を配合することが好ましい。紫外線吸収
剤は、合成樹脂用紫外線吸収剤として通常使用されてい
るような、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾ
フェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤な
どが好ましい。光安定剤は、合成樹脂用光安定剤として
通常使用されているような、ヒンダードアミン系光安定
剤（２，２，４，４−テトラアルキルピペリジン誘導体
など）が好ましい。

【００３１】このような硬化性組成物（ａ）を硬化させ
る活性エネルギ線としては、特に紫外線が好ましい。し
かし、紫外線に限定されず、電子線やその他の活性エネ
ルギ線を使用できる。紫外線源としては、キセノンラン
プ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク
灯、タングステンランプ等が使用できる。

【００３２】硬化性組成物（ａ）を用いて形成される硬
化物層（Ａ）の厚さは１〜５０μｍが好ましく、特に２
〜３０μｍが好ましい。この厚さが５０μｍ超では、活
性エネルギ線による硬化が不充分になり基材との密着性
が損なわれやすい。また、１μｍ未満では、この層の耐
摩耗性が不充分となるおそれがあり、またこの層の表面
の層の耐摩耗性や耐擦傷性が充分発現できないおそれが
ある。

【００３３】硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物
（ｃ）に含まれるポリシラザンは、特開平１１−２４０
１０３号公報［００９７］〜［０１１４］に記載のポリ
シラザンが好ましい。特にペルヒドロポリシラザンは、
その焼成温度の低さ、および焼成後の硬化被膜の緻密さ
の点で好ましい。なお、ポリシラザンが充分に硬化した
硬化物は窒素原子をほとんど含まないシリカとなる。硬
化性組成物（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）に用いるポ
リシラザンは、同じものを用いてもよく、異なるものを
用いてもよい。硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物
（ｃ）には、活性エネルギ線硬化性組成物（ａ）は含ま
れない。

【００３４】硬化性組成物（ｂ）または硬化性組成物
（ｃ）には、上記基本成分以外に溶剤や種々の機能性配
合剤を含みうる。ポリシラザンを溶解する溶剤として
は、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、
エステル類、ケトン類などがある。さらに具体的には以
下のものが挙げられる。

【００３５】ペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプ
タン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロ
ペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼン等の炭化水素類。塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、１，２−ジクロロ
エタン、１，１−ジクロロエタン、トリクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類。エチル
エーテル、イソプロピルエーテル、エチルブチルエーテ
ル、ブチルエーテル、ジオキサン、ジメチルジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエー
テル類。酢酸ｎ−ブチル、ジエチレングリコールモノア
セテート等のエステル類。

【００３６】これらの溶剤は、ポリシラザンの溶解度や
溶剤の蒸発速度を調節するために、複数の種類の溶剤を
混合して使用してもよい。溶剤の使用量は採用される塗
工方法およびポリシラザンの構造や平均分子量などによ
って異なるが、固形分濃度で０．５〜８０質量％の範囲
で調製することが好ましい。機能性配合剤としては、前
記の機能性配合剤が好ましく挙げられる。

【００３７】本発明において、高屈折率層（Ｂ）の屈折
率ｎ_Bは低屈折率層（Ｃ）の屈折率ｎ_Cよりも大きい。さ
らに、屈折率ｎ_Bが硬化物層（Ａ）の屈折率ｎ_Aおよび硬
化物層（Ｃ）の屈折率ｎ_Cのいずれよりも大きいことが
好ましい。

【００３８】屈折率ｎ_Cと屈折率ｎ_Bに差をつける方法と
しては、１）ポリシラザンに特定の化学修飾を施して屈
折率を変化させる方法、２）ポリシラザンに屈折率を変
えうる添加剤を添加して屈折率を変化させる方法があ
る。

【００３９】１）の方法としては、ポリシラザン中の水
素原子の一部を、ペルフルオロアルキル基等の含フッ素
アルキル基で置換する方法が挙げられる。この方法によ
り、ポリシラザンが硬化したシリカの屈折率（１．４
６）よりも低い屈折率（１．４０以上１．４６未満）に
できる。

【００４０】２）の方法において、屈折率を向上させる
方法としては、シリカより大きい屈折率を有する添加剤
を添加する方法が挙げられる。そのような添加剤として
は、金属酸化物からなる高屈折率超微粒子が好ましく挙
げられる。その屈折率は１．５以上が好ましく、特に
１．６以上が好ましい。高屈折率超微粒子の平均粒径
は、１〜１００ｎｍが好ましく、特に１〜５０ｎｍが好
ましい。硬化性組成物（ｂ）には、屈折率１．５以上の
金属酸化物からなる超微粒子を含むのが好ましい。

【００４１】具体的な高屈折率超微粒子としては以下の
金属酸化物からなる超微粒子が挙げられる。（ ）内の
数字は屈折率を示す。ＺｎＯ（１．９０）、ＴｉＯ
₂（２．３〜２．７）、Ｓｂ₂Ｏ₅（１．７１）、Ｙ₂Ｏ₃
（１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（１．９５）、ＺｒＯ₂（２．
０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（１．６３）、ＩｎとＳｎの混合酸化
物であるＩＴＯ（１．９５）、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｃ
ｅＯ₂からなる群から選ばれる１種以上の金属酸化物か
らなる超微粒子など。これら高屈折率超微粒子は分散安
定性を向上させるために、表面がシランカップリング剤
等で修飾されたものでもよい。

【００４２】一方、２）の方法において、屈折率を低下
させる方法としては、シリカより小さい屈折率を有する
添加剤を添加する方法が挙げられる。そのような添加剤
としては、フッ化マグネシウム（１．３７８）の金属微
粒子、含フッ素化合物またはラジカル反応性の官能基を
有する化合物（特開平１１−１８１２９０号公報）が好
ましく挙げられる。ポリシラザンは、活性エネルギ線の
照射により、ラジカル反応性の官能基を有する化合物と
分子レベルで容易に反応する。ラジカル反応性の官能基
を有する含フッ素化合物としては、下記式１で表される
化合物（以下、化合物１とも記す。）が好ましく挙げら
れる。

【００４３】 ＣＨ₂＝ＣＲ（ＣＨ₂）_p−Ｘ−Ｒ^f・・・式１ ただし、式１中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ：水素原子または炭素数１〜４のアルキル基。 ｐ：０〜６の整数。 Ｘ：単結合、−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ
ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−および−ＯＣＯ−からなる群より
選ばれる１種以上の基。 Ｒ^f：炭素数１〜４０のポリフルオロアルキル基または
炭素数１〜４０のポリフルオロアルケニル基。ただし、
基中の、水素原子の１個以上が水酸基またはハロゲン原
子に置換されていてもよく、炭素−炭素結合間にエーテ
ル性の酸素原子が挿入されていてもよい。

【００４４】Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好
ましい。Ｒ^fとしては、炭素数４〜１８のポリフルオロ
アルキル基が好ましく、特に炭素数６〜１４のポリフル
オロアルキル基が好ましい。とりわけ、アルキル基の水
素原子のすべてがフッ素原子に置換された、炭素数６〜
１４の直鎖のペルフルオロアルキル基が好ましい。

【００４５】化合物１としては、下記の化合物が好まし
く挙げられる。 CH₂=CH(CF₂)₈F、 CH₂=CH-COOR¹、 CH₂=C(CH₃)-COOR¹、 CH₂=CH-OR¹、 CH₂=CHCH₂-OR¹、 CH₂=CH-OCOR¹。

【００４６】ただし、Ｒ¹は以下の基を示す（ｍ：４〜
１２の偶数。ｑ：２〜６の整数。）。Ｆ（ＣＦ₂）_m−、
（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）_m−、Ｈ（ＣＦ₂）_m−、Ｆ（Ｃ
Ｆ₂）_m（ＣＨ₂）_q−、（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）_m（ＣＨ
₂）_q−、（ＣＦ₃）₂Ｃ（ＣＨ₃）（ＣＨ₂）_q−、ＣＦ₃Ｃ
ＨＦＣＦ₂（ＣＨ₂）_q−、Ｈ（ＣＦ₂）_m（ＣＨ₂）_q−、
（ＣＦ₃）₂Ｃ＝ＣＦ−、Ｆ（ＣＦ₂）_mＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ
₂）_q−、Ｆ（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＣＨＩ（ＣＨ₂）_q−、（Ｃ
Ｆ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＣＨＩ（ＣＨ₂） _q−、Ｆ
（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）_q−、（ＣＦ₃）
₂ＣＦ（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）_q−、ＣＦ
₃Ｏ［ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ］_mＣＦ（ＣＦ₃）−、ＣＦ₃
ＣＨＦＯ（ＣＦ₂）₃−、Ｆ（ＣＦ₂）₃ＯＣＦ₂（ＣＦ₃）
（ＣＨ₂）_q−、（ＣＦ₃）₂ＣＨ−、Ｆ（ＣＦ₂）_m（ＣＨ
₂）_qＯ（ＣＨ₂）_q−。

【００４７】ラジカル反応性の官能基を有する含フッ素
化合物としては上記以外に、Ｆ（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＮＨＣ
ＯＣＲ’＝ＣＨ₂（Ｒ’は水素原子またはメチル基を示
す。）等の（メタ）アクリル酸アミドも好ましく挙げら
れる。

【００４８】また、上記化合物１と下記の２種類の重合
性単量体［イ］、［ロ］との共重合体で、かつ重合性単
量体［ロ］由来の側鎖にラジカル反応性官能基（例えば
（メタ）アクリル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキ
シ基、ハロゲン原子、メルカプト基等）が導入された重
合体も、ポリシラザンの屈折率を下げることができるた
め好ましい。

【００４９】１）重合性単量体［イ］ メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチル
ビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘ
キシルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、
パーフルオロアルキルビニルエーテル、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、イソブチレン、シクロヘキセン、
アリルアルコール、メチルアリルエーテル、エチルアリ
ルエーテル、ブチルアリルエーテル、シクロヘキシルア
リルエーテル等。酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル、オクタン酸
ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、ベオバ９および
ベオバ１０（両方とも、シェル化学社製商品名、炭素数
９または炭素数１０の分岐脂肪酸のビニルエステル）、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチ
ル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、クロトン酸メ
チル、クロトン酸エチル、クロトン酸ブチル、クロトン
酸シクロヘキシル等。

【００５０】２）重合性単量体［ロ］ （メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、ヒド
ロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルア
リルエーテル、アリルアルコール、ヒドロキシアルカン
カルボン酸ビニルエステル、Ｎ−ヒドロキシアルキルア
クリルアミド、グリシジルアリルエーテル、（メタ）ア
クリル酸等。具体的には、（メタ）アクリル酸、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル等。

【００５１】上記添加剤の配合量は特に限定されない
が、配合する目的を充分達成するためには、ポリシラザ
ン１００質量部に対して５〜５００質量部が好ましく、
特に１０〜２５０質量部が好ましい。配合量が多すぎる
と硬化物層にヘーズが発生するなどの問題を生じやすく
なる。

【００５２】屈折率ｎ_Cと屈折率ｎ_Bの差は０．０２以上
が好ましく、特に０．０５以上が好ましい。屈折率ｎ_B
を屈折率ｎ_Cより大きくする方法は以下の３つがある。 １）硬化性組成物（ｂ）のみに屈折率を向上させる添加
剤を添加する場合。 ２）硬化性組成物（ｃ）のみに屈折率を低下させる添加
剤を添加するか、または屈折率を低下させる変性を施し
たポリシラザンを用いる場合。 ３）硬化性組成物（ｂ）に屈折率を向上させる添加剤を
添加し、硬化性組成物（ｃ）に屈折率を低下させる添加
剤を添加するか、または屈折率を低下させる変性を施し
たポリシラザンを用いる場合。上記のうち１）の方法が
好ましい。

【００５３】反射防止層における屈折率と厚さの関係
は、その積が対象光線（通常は可視光線）の波長の１／
４であることが好ましい。したがって、低屈折率層
（Ｃ）の厚さｄ_Cと屈折率ｎ_Cの積の４倍、および高屈折
率層（Ｂ）の厚さｄ_Bと屈折率ｎ_Bの積の４倍が、それぞ
れ独立に３８０〜７８０ｎｍの範囲にあることが好まし
い。また、界面での反射を抑える意味から、屈折率ｎ_B
は屈折率ｎ_Aより大きいことが好ましく、その差は、
０．０２以上が好ましく、特に０．０５以上が好まし
い。

【００５４】ポリシラザンを硬化させてシリカとするた
めには、活性エネルギ線の照射または焼成を行う。ポリ
シラザンの焼成温度を低下させるためには、通常触媒が
使用される。触媒の種類や量によっては室温で硬化でき
る。硬化を行う雰囲気としては空気中などの酸素の存在
する雰囲気であることが好ましい。また、水または硬化
触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝すことでも硬化できる。

【００５５】触媒としては、より低温でポリシラザンを
硬化させうる触媒を用いることが好ましい。そのような
触媒としては、例えば、金、銀、パラジウム、白金、ニ
ッケルなどの金属の微粒子（特開平７−１９６９８６号
公報）、およびそれらのカルボン酸錯体（特開平５−９
３２７５号公報）がある。また、触媒をポリシラザン溶
液に添加するのではなく、ポリシラザンの塗膜をアミン
水溶液等に接触させる方法、またはその蒸気に一定時間
曝す方法（特開平９−３１３３３号公報）もある。

【００５６】上記のような３種類の硬化性組成物
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を用いて硬化物層を形成する方
法としては、通常の被覆手法を採用できる。目的とする
プラスチック製品を得る方法としては、例えば、基材の
表面に硬化性組成物（ａ）の未硬化物、部分硬化物もし
くは硬化物の層を形成し、その表面に硬化性組成物
（ｂ）の未硬化物もしくは部分硬化物の層を形成し、さ
らにその表面に硬化性組成物（ｃ）の未硬化物の層を形
成して、次に活性エネルギ線の照射による硬化性組成物
（ａ）の硬化と、硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成
物（ｃ）の硬化を任意の順でまたは同時に行って、硬化
物層（Ａ）および硬化物層（Ｚ）を形成せしめる方法が
ある。

【００５７】上記の方法において、硬化性組成物（ｂ）
および硬化性組成物（ｃ）の硬化は、水または硬化触媒
溶液の蒸気雰囲気下に曝す、または常温に放置すること
で行うのが好ましい。なお、上記における表面とは、上
側の方向を意味する。

【００５８】また、目的とするプラスチック製品を得る
方法としては、基材の表面に硬化性組成物（ａ）の未硬
化物、部分硬化物もしくは硬化物の層を形成し、その表
面にポリシラザンと高屈折率超微粒子とを含有する硬化
性組成物を塗工して高屈折率超微粒子を沈降させた後、
硬化性組成物（ａ）の未硬化物または部分硬化物の硬化
と、ポリシラザンと高屈折率超微粒子を含有する硬化性
組成物の硬化を、任意の順でまたは同時に行って、硬化
物層（Ａ）および硬化物層（Ｚ）を形成せしめる方法も
好ましい。

【００５９】硬化性組成物を塗工する手段としては特に
制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、ディッ
ピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート
法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコー
ト法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリッ
トコート法、マイクログラビアコート法等の方法を採用
できる。塗工後の硬化性組成物が溶剤を含んでいる場合
は、乾燥して溶剤を除いた後に硬化させるのが好まし
い。

【００６０】プラスチック製品を曲げ加工する方法とし
ては、熱曲げ加工が好ましく、例えば以下の方法が好ま
しい。プラスチック基材の表面に硬化性組成物（ａ）を
塗工して硬化させ、次に硬化性組成物（ｂ）および硬化
性組成物（ｃ）を塗工し、基材の熱軟化温度に５分間加
熱した後、曲げ加工を施す。その後、硬化性組成物
（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）の硬化を行う。この方
法では、硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）
が架橋して硬化する前に基材が変形し、その後で硬いシ
リカを主とする硬化物層が形成されるため、硬化物層に
クラック等の不具合は生じない。

【００６１】プラスチック基材としては各種合成樹脂を
使用しうる。例えば、芳香族ポリカーボネート系樹脂、
ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリスチレン系樹
脂、芳香族ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹
脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、
ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロースト
リアセテート系樹脂などの合成樹脂をプラスチック基材
として使用しうる。特に芳香族ポリカーボネート系樹脂
またはポリアリレート系樹脂からなる基材が好ましい。

【００６２】上記基材は、例えば平板や波板などのシー
ト状基材、フィルム状基材、各種形状に成形された基
材、少なくとも表面層が各種合成樹脂からなる積層体等
が好ましい。該基材は透明であることが好ましい。また
基材の厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましい。

【００６３】本発明の反射防止性のプラスチック製品
は、その優れた反射防止性能と耐擦傷性能を活かして、
建築用または車両用の窓材、各種ディスプレイ（ブラウ
ン管、プラズマディスプレイ、液晶表示装置等）または
その保護板、鏡、ゴーグル等に使用できる。

【００６４】

【実施例】以下、本発明を合成例（例１、２）、実施例
（例３〜１４）、比較例（例１５）に基づき説明する
が、本発明はこれらに限定されない。例３〜１５（ただ
し例１４は除く）についての各種物性の測定および評価
は以下に示す方法で行い、その結果を表１に示した。な
お、表１には通常の建築用ガラスの結果も示した。

【００６５】［初期曇価、耐擦傷性］ＪＩＳ−Ｒ３２１
２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨
耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせて、５００
回転させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測
定した。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行
い、平均値を算出した。初期曇価は試験前の曇価の値
（％）を、耐擦傷性は（試験後の曇価）−（試験前の曇
価）の値（％）を示す。

【００６６】［反射率］分光光度計にて測定した、プラ
スチック製品表面の視感平均反射率。 ［密着性］クロスカットテスト（ＪＩＳ Ｋ−１９７
９）。 ［耐候性］サンシャインウエザーメータを用いて、ブラ
ックパネル温度６３℃、降雨１２分、乾燥４８分のサイ
クルで３０００時間暴露後、外観の評価を行った。

【００６７】［例１］１Ｌのオートクレーブに、Ｆ（Ｃ
Ｆ₂）_tＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂［ｔの平均値は
９。］１１７．３９ｇ、ｎ−ブチルアクリレート６．５
３ｇおよび２−ヒドロキシエチルアクリレート２９．５
８ｇを入れ、メチルイソブチルケトン５１１ｇを加えて
溶解させ、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル
３．０７ｇを加えて、６０℃にて２０時間加熱重合させ
てポリマ（数平均分子量１０，０００）を含む反応溶液
を得た。

【００６８】得られた反応溶液に、２−メタクリロイル
オキシエチルイソシアネートを上記ポリマの側鎖の水酸
基の９５％当量加えて、触媒として２−エチルヘキサン
酸スズを８０ｐｐｍ加えて反応させ、メタクリロイル部
位の導入された重合体（数平均分子量１１，０００）を
得た。

【００６９】［例２］温度計、冷却管、撹拌装置を装備
し、内部を窒素置換した０．５Ｌのガラス製フラスコ
に、Ｆ（ＣＦ₂）₈（ＣＨ₂）₂ＯＨ１００ｇ、ε−カプロ
ラクトン（ダイセル化学社製）９６ｇ、ジラウリン酸ジ
ブチルスズ［（ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯ）₂Ｓｎ（（Ｃ
Ｈ₂）₃ＣＨ₃）₂］０．６ｇを加え、１２０℃で８時間反
応させ、目的物であるポリエステル１９４ｇを得た。ε
−カプロラクトンの反応率は９９．１％、平均連鎖数は
４であった。

【００７０】続いて、温度計、冷却管、滴下装置、撹拌
装置、減圧装置を装備した０．５Ｌのガラス製フラスコ
に、得られたポリエステル１００ｇ、ｐ−トルエンスル
ホン酸２．６ｇ、ヒドロキノン０．１ｇを加えた。そし
て、フラスコ内部を温度８０℃、圧力５．３２ｋＰａに
保ちながら、アクリル酸１０．２ｇを６時間かけて滴下
し、滴下終了後さらに２時間反応を継続した。

【００７１】反応終了後、イオン交換水２００ｇ、塩化
メチレン１００ｇによる洗浄を３回行った。塩化メチレ
ン層を集め、硫酸マグネシウム５ｇを加えて２時間乾燥
し、塩化メチレンを留去した後、目的とする含フッ素化
合物９９．７ｇを得た。アクリル酸の転化率は９９．６
％であった。

【００７２】［例３］撹拌機および冷却管を装着した１
００ｍＬの４つ口フラスコに、イソプロピルアルコール
１５ｇ、酢酸ブチル１５ｇ、１−メトキシ−２−プロパ
ノール７．５ｇ、２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド１５０ｍｇ、２−［４−
［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オ
キシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン１０００ｍｇおよびビス（４−メタクリロイルオキ
シ）−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン２
００ｍｇを加え溶解させ、続いてトリス（２−アクリロ
イルオキシエチル）イソシアヌレート５．０ｇと水酸基
を有するジペンタエリスリトールポリアクリレートと部
分ヌレート化ヘキサメチレンジイソシアネートの反応生
成物であるウレタンアクリレート（１分子あたり平均１
５個のアクリロイル基を含有）５．０ｇを加え、常温で
１時間撹拌して塗工液１を得た。

【００７３】厚さ３ｍｍの透明な芳香族ポリカーボネー
ト樹脂板（１５０ｍｍ×３００ｍｍ）にバーコータを用
いて塗工液１を塗工（ウエット厚み３０μｍ。以下同
じ。）して、８０℃の熱風循環オーブン中で５分間保持
した。空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３０００ｍＪ
／ｃｍ²（波長３００〜３９０ｎｍ領域の紫外線積算エ
ネルギ量。以下同じ。）の紫外線を照射し、膜厚７μｍ
の硬化物層を形成した。

【００７４】次に、この硬化物層の表面に、酸化チタン
含有ペルヒドロポリシラザン［東燃社製、酸化チタン／
ポリシラザン＝１／１（質量比）、酸化チタンの微粒子
の平均粒径５０ｎｍ、Ｍ_n（ポリシラザンの数平均分子
量）≒７００、ｎ_k（硬化後の屈折率）＝１．６５］の
２０質量％キシレン溶液（以下、塗工液２という）を、
バーコータを用いて塗工（０．４３μｍ）して、８０℃
の熱風循環オーブン中で１０分間保持し、溶媒を除去し
た後、さらにポリシラザン［東燃社製、商品名「Ｎ−３
１０」、トリメチルシリル基変性ポリシラザン、Ｍ_n≒
７００、ｎ_k＝１．４６］の２０質量％キシレン溶液
（以下、塗工液３という）をバーコータを用いて塗工
（０．４５μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中で
１０分間保持して溶媒を除去し、２３℃、相対湿度５０
％の環境で１週間保持して、総膜厚７．２μｍの硬化物
層を形成した。このサンプルを用いて前記測定を行っ
た。

【００７５】［例４］例３におけるサンプル調製方法を
以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の熱
風循環オーブン中で５分間保持し、空気雰囲気中、高圧
水銀灯を用いて１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、
膜厚７μｍの部分硬化物層を形成した。

【００７６】そして、この部分硬化物層の表面に、塗工
液２をバーコータを用いて塗工（０．４３μｍ）して、
８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持した後、さ
らに塗工液３をバーコータを用いて塗工（０．４５μ
ｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持
して溶媒を除去し、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて
３０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した。さらに、２
３℃、相対湿度５０％の環境で１週間保持して、総膜厚
７．２μｍの硬化物層を形成した。このサンプルを用い
て前記測定を行った。

【００７７】［例５］例３におけるサンプル調製方法を
以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の熱
風循環オーブン中で５分間保持し、空気雰囲気中、高圧
水銀灯を用いて１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、
膜厚７μｍの部分硬化物層を形成した。

【００７８】そして、この部分硬化物層の表面に、塗工
液２をバーコータを用いて塗工（０．４３μｍ）して、
８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持した後、空
気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３０００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射した。

【００７９】さらに、塗工液３をバーコータを用いて塗
工（０．４５μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中
で１０分間保持して溶媒を除去し、さらに、２５℃、３
％トリエチルアミン水溶液の浴の上に３分間保持して、
総膜厚７．２μｍの硬化物層を形成した。このサンプル
を用いて前記測定を行った。

【００８０】［例６］例３におけるサンプル調製方法を
以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の熱
風循環オーブン中で５分間保持し、膜厚７μｍの未硬化
物層を形成した。そして、この未硬化物層の表面に、塗
工液２をバーコータを用いて塗工（０．４３μｍ）し
て、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持した
後、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５０ｍＪ／ｃ
ｍ²の紫外線を照射した。

【００８１】さらに、塗工液３をバーコータを用いて塗
工（０．４５μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中
で１０分間保持し、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて
３０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した。その後、２
３℃、相対湿度５０％の環境で１週間保持して、総膜厚
７．２μｍの硬化物層を形成した。このサンプルを用い
て前記測定を行った。

【００８２】［例７］例３におけるサンプル調製方法を
以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の熱
風循環オーブン中で５分間保持し、膜厚７μｍの未硬化
物層を形成した。そして、この未硬化物層の表面に、塗
工液２をバーコータを用いて塗工（０．４３μｍ）し
て、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持した
後、続いて塗工液３をバーコータを用いて塗工（０．４
５μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間
保持し、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３０００ｍ
Ｊ／ｃｍ²の紫外線を照射し、２３℃、相対湿度５０％
の環境で１週間保持して、総膜厚７．２μｍの硬化物層
を形成した。このサンプルを用いて前記測定を行った。

【００８３】［例８］例３におけるサンプル調製方法を
以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の熱
風循環オーブン中で５分間保持し、膜厚７μｍの未硬化
物層を形成した。そして、この未硬化物層の表面に、塗
工液２をバーコータを用いて塗工（０．４３μｍ）し
て、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持した
後、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３０００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射した。

【００８４】そして、塗工液３をバーコータを用いて塗
工（０．４５μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中
で１０分間保持し、その後、２３℃、相対湿度５０％の
環境で１週間保持して、総膜厚７．２μｍの硬化物層を
形成した。このサンプルを用いて前記測定を行った。

【００８５】［例９］例４における調製方法を以下のよ
うに変更した。塗工液３の代わりに、ケイ素原子に結合
した水素原子の一部が含フッ素アルキル基で置換された
ポリシラザンのキシレン溶液（東燃社製、商品名「ＦＰ
ＳＺ」、固形分濃度２０質量％、Ｍ_n≒９００、ｎ_k＝
１．４４）（以下、塗工液４という）を用いる以外は、
例４と同じ方法でサンプルを調製した。このサンプルを
用いて前記測定を行った。

【００８６】［例１０］例３におけるサンプル調製方法
を以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の
熱風循環オーブン中で５分間保持し、空気雰囲気中、高
圧水銀灯を用いて１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
し、膜厚７μｍの部分硬化物層を形成した。

【００８７】そして、この部分硬化物層の表面に、塗工
液２と塗工液４を質量比１対１の割合で混合した塗工液
５をバーコータを用いて塗工（０．８８μｍ）して、８
０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持して溶媒を除
去し、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３０００ｍＪ
／ｃｍ²の紫外線を照射した。さらに、２３℃、相対湿
度５０％の環境で１週間保持して、総膜厚７．２μｍの
硬化物層を形成した。このサンプルを用いて前記測定を
行った。

【００８８】このサンプルの断面をＳＥＭで観察したと
ころ、シリカの層における下半分に酸化チタン由来の像
が観察され、２層であることが確認できた。

【００８９】［例１１］例９におけるサンプル調製方法
を以下のように変更した。塗工液４の代わりに、ペルヒ
ドロポリシラザン（東燃社製、商品名「Ｖ１１０」、Ｍ
_n≒７００、ｎ_k＝１．４６）の２０質量％キシレン溶液
（以下、塗工液６という）に、２−ペルフルオロオクチ
ルエチルアクリレートを１質量％となるように加えた塗
工液７を用いた以外は、例９と同じ方法でサンプルを調
製した。このサンプルを用いて前記測定を行った。

【００９０】［例１２］例９におけるサンプル調製方法
を以下のように変更した。塗工液４の代わりに、塗工液
６に例１で合成した重合体を１質量％となるように加え
た塗工液８を用いた以外は、例９と同じ方法でサンプル
を調製した。このサンプルを用いて前記測定を行った。

【００９１】［例１３］例９におけるサンプル調製方法
を以下のように変更した。塗工液４の代わりに、塗工液
６に例２で合成した含フッ素化合物を１質量％となるよ
うに加えた塗工液９を用いた以外は、例９と同じ方法で
サンプルを調製した。このサンプルを用いて前記測定を
行った。

【００９２】［例１４］例９におけるサンプル調製方法
を以下のように変更した。塗工液４をバーコータを用い
て塗工（０．４５μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブ
ン中で５分間保持し、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用い
て３０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、続いて１７
０℃の熱風循環オーブン中で５分間保持し、取り出し直
後に硬化物層の面が凸側になるように、６４ｍｍＲの曲
率を持つ型に押しつけ、曲げ加工を施し、２３℃、相対
湿度５０％の環境で１週間保持して、総膜厚７．２μｍ
の硬化物層が６４ｍｍＲの局面に形成されたサンプルを
得た。このサンプルの外観を観察した結果、クラックや
しわがない良好な硬化物層を有していた。

【００９３】一方、例９で最終的に得られた充分硬化し
た層を有するサンプルを、１７０℃の熱風循環オーブン
中で５分間保持し、取り出し直後に硬化物層の面が凸側
になるように、６４ｍｍＲの曲率を持つ型に押しつけ、
曲げ加工を施したサンプルは、硬化物層にクラックとし
わが発生していた。

【００９４】［例１５］例４におけるサンプル調製方法
を以下のように変更した。塗工液１を塗工後、８０℃の
熱風循環オーブン中で５分間保持し、空気雰囲気中、高
圧水銀灯を用いて１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
し、膜厚７μｍの部分硬化物層を形成した。

【００９５】次に、この部分硬化物層の表面に、塗工液
３をバーコータを用いて塗工（０．８８μｍ）して、８
０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持して溶媒を除
去し、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて３０００ｍＪ
／ｃｍ²の紫外線を照射した。さらに、２３℃、相対湿
度５０％の環境で１週間保持して、総膜厚７．２μｍの
硬化物層を形成した。このサンプルを用いて前記測定を
行った。

【００９６】

【表１】

【００９７】

【発明の効果】本発明のプラスチック製品は、ほぼ無機
ガラスに匹敵する耐擦傷性を有し、かつ反射防止性能に
優れた反射防止性のプラスチック製品である。また、本
発明の製造方法を用いると、上記のような表面特性に優
れたプラスチック製品を、高い生産性で製造できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 澁谷 崇 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4F100 AA17C AA19H AA21H AA25H AA27H AA28H AA29H AA33H AK01A AK25 AK41 AK45 AK53C AK53D BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D BA26 DE01C EH46 EH462 EJ54 EJ542 GB08 GB31 GB48 GB87 JB12B JB12C JB12D JK14 JN06 JN18C JN18D YY00C

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プラスチック基材の表面に、基材側から活
   性エネルギ線硬化性組成物（ａ）の硬化物層（Ａ）、ポ
   リシラザンを含有する硬化性組成物の硬化物層（Ｚ）が
   この順に形成されてなるプラスチック製品であって、該
   硬化物層（Ｚ）が２層の硬化物層からなり、かつ、基材
   側の層が高屈折率層（Ｂ）であり、最外層が低屈折率層
   （Ｃ）であることを特徴とする反射防止性のプラスチッ
   ク製品。
2. 【請求項２】高屈折率層（Ｂ）の屈折率ｎ_Bが、硬化物
   層（Ａ）の屈折率ｎ_Aおよび低屈折率層（Ｃ）の屈折率
   ｎ_Cのいずれよりも大きいことを特徴とする、請求項１
   に記載のプラスチック製品。
3. 【請求項３】高屈折率層（Ｂ）が屈折率１．５以上の金
   属酸化物からなる高屈折率超微粒子を含む、請求項１ま
   たは２に記載のプラスチック製品。
4. 【請求項４】高屈折率超微粒子が、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
   Ｓｂ₂Ｏ₅、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉ
   ＴＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂およびＣｅＯ₂から選ばれた１
   種以上の金属酸化物からなる超微粒子である、請求項３
   に記載のプラスチック製品。
5. 【請求項５】高屈折率層（Ｂ）の厚さｄ_Bと屈折率ｎ_Bの
   積の４倍、および低屈折率層（Ｃ）の厚さｄ_Cと屈折率
   ｎ_Cの積の４倍が、それぞれ独立に３８０〜７８０ｎｍ
   の範囲にあることを特徴とする、請求項１、２、３また
   は４に記載のプラスチック製品。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載のプラスチ
   ック製品を製造する方法において、前記基材の表面に硬
   化性組成物（ａ）の未硬化物、部分硬化物もしくは硬化
   物の層を形成し、その表面にポリシラザンを含有し高屈
   折率層（Ｂ）を形成しうる硬化性組成物（ｂ）の未硬化
   物もしくは部分硬化物の層を形成し、さらにその表面に
   ポリシラザンを含有し低屈折率層（Ｃ）を形成しうる硬
   化性組成物（ｃ）の未硬化物の層を形成して、次に活性
   エネルギ線の照射による前記硬化性組成物（ａ）の硬化
   と、前記硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物（ｃ）
   の硬化を任意の順でまたは同時に行って、前記硬化物層
   （Ａ）および前記硬化物層（Ｚ）を形成せしめることを
   特徴とする、プラスチック製品の製造方法。
7. 【請求項７】硬化性組成物（ｂ）および硬化性組成物
   （ｃ）の硬化を、水または硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下
   に曝す、または常温に放置することで行う、請求項６に
   記載のプラスチック製品の製造方法。
8. 【請求項８】請求項１〜５のいずれかに記載のプラスチ
   ック製品を製造する方法において、前記基材の表面に硬
   化性組成物（ａ）の未硬化物、部分硬化物もしくは硬化
   物の層を形成し、その表面にポリシラザンと高屈折率超
   微粒子を含有する硬化性組成物を塗工して高屈折率超微
   粒子を沈降させた後、前記硬化性組成物（ａ）の未硬化
   物または部分硬化物の硬化と、前記ポリシラザンと高屈
   折率超微粒子とを含有する硬化性組成物の硬化を、任意
   の順でまたは同時に行って、前記硬化物層（Ａ）および
   前記硬化物層（Ｚ）を形成せしめることを特徴とする、
   プラスチック製品の製造方法。