JP2001162167A - 青酸合成用触媒の製造方法 - Google Patents
青酸合成用触媒の製造方法Info
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Abstract
酸を生成する触媒を、簡単でしかも安全な方法で製造す
る。 【解決手段】 鉄の表面を、酸化性雰囲気及び還元性雰
囲気に曝し酸化皮膜を形成する。
Description
と水を生成する反応に関与する触媒の製造方法に関す
る。さらに詳しくはホルムアミドを熱分解して青酸を合
成するために用いる触媒を製造するに際し、腐食性の調
製液体薬剤等を用いることなく極めて容易な処理操作に
よって調製し、調製後の後処理をほとんど必要とせずに
商業生産を可能にする触媒の製造方法に関する。
成る触媒によって選択的に熱分解し、青酸を合成する方
法は古くから知られている。用いられる触媒についても
多くの公知技術として知られているが、例えば特公昭3
5−9182号によれば反応管を熔融アルミニウム浴に
浸漬して表面に鉄−アルミニウム合金層を形成させてホ
ルムアミドから青酸を合成している。また特公昭33−
6229号によれば飽和重クロム酸カリの濃硫酸溶液、
過マンガン酸カリの濃硫酸溶液、過酸化水素水等で処理
する触媒調製方法が開示されている。これらはの方法を
工業的規模で実施するためには何れも処理のための特別
の装置を準備する必要がある。
方法として、特公昭35−9182号による反応管調製
方法を多管式反応器からなる工業的装置に適用する事は
多大な投資を必要とする。また特公昭33−6229号
と同様の方法で酸性薬剤を使用した場合、薬剤調合装置
が別途必要となるのに加え、薬剤による反応装置に対す
る予期せぬ腐食トラブルを引き起こす可能性が有る。ま
た薬剤処理時及び処理後の薬剤を回収するための煩雑な
操作と管理とを必要とする。
皮膜は付着強度が弱く、長期の連続使用に耐えないため
そのほとんど全てが剥離して脱落するという欠点を有す
る。酸化皮膜の剥離によって触媒活性の低下をもたらす
のみならず、剥離した金属酸化物で系内が汚染される弊
害をも生ずる。本発明者らはこれらの課題を解決するた
め鋭意研究を進め本発明に至った。
で安全な方法で、高活性で長期間安定なホルムアミドを
熱分解して青酸を合成する触媒の製造方法を提供するこ
とである。
以外の酸化皮膜形成方法として気相処理法に着目し種々
検討した。その結果、反応管表面に薬剤処理を行わずに
酸化皮膜を形成させる事は比較的に容易であった。しか
し、触媒能と付着強度とを満足する皮膜を形成させる事
は容易ではなかった。更なる研究の結果、特定の処理条
件を満足させる方法で金属表面を処理する事によって触
媒能と付着強度とを有する酸化皮膜を形成し得る事を見
出した。詳しくは制御された酸化性ガスと還元性ガスと
によって、所定の様式で交互に処理する事により、触媒
能を有し且つ強固な付着強度をも有する酸化皮膜が形成
する事を見出し本発明に至った。即ち、本発明は、鉄の
表面を酸化性雰囲気及び還元性雰囲気に曝すことを特徴
とする青酸合成用触媒の製造方法に関する。
原料の鉄には、約2重量%以上の炭素を含む銑鉄、約2
重量%より炭素量の少ない鋼、更にこれらの炭素鋼に炭
素以外の合金元素を添加した特殊鋼がある。
状は触媒の使用方法により異なる。カラムに触媒を充填
して用いる場合には粒状あるいは粉末状が好適であり、
これら粒状鉄あるいは粉末状鉄の表面に酸化皮膜を形成
する。触媒を反応管として用いる場合は、鉄としては鋼
を用いることが耐久性の点で好ましく、鋼管の内側表面
に酸化皮膜を形成する。
に曝す場合の条件を以下に述べる。酸化性雰囲気は鉄表
面を5〜30体積%の酸素を含有するガスで覆うことに
より達成できる。簡単で好ましい方法は空気で覆うこと
である。酸化性雰囲気に曝す時の処理温度は300〜6
50℃、処理圧力は6〜150kPa、空間速度(以下S
Vと称す)は10〜1500h-1であり、一回の処理時
間を5〜300分間とするのが好ましい。
の水素、好ましくは2〜20体積%の水素を含むが酸素
を含まないガスで覆うことにより達成できる。酸素は可
能な限り含まないほうが良い。好ましい方法は、水素と
水とからなるガスあるいは水素と窒素と水とからなるガ
スで覆うことである。還元性雰囲気に曝す時の処理温度
は300〜650℃、処理圧力は6〜150kPa、SV
は10〜1500h-1であり、一回の処理時間を10〜
300分間とするのが好ましい。酸化性雰囲気と還元性
雰囲気とに曝す操作を交互に2回以上繰り返すことが好
ましい。酸化性雰囲気と還元性雰囲気とに曝す操作を交
互に繰り返す場合、どちらの雰囲気による処理が最初に
なされても良い。
解して青酸を製造する場合、気相反応で連続的に行うの
が好ましく、原料のホルムアミドはガスとして反応器に
供給される。この場合の反応条件は、反応温度300〜
600℃、反応圧力6〜150kPa、SV50〜150
0h-1が好ましく、触媒は60〜3000分間連続して
使用される。
は触媒を再生する。再生は酸素5〜30体積%含有する
ガス、好ましくは空気を用いて300〜600℃、6〜
150kPa、SV10〜1500h-1で10〜500分
間処理することにより行われる。上記の反応と再生を繰
り返すことによりホルムアミドより青酸が製造される。
付帯設備を最小限に抑え、廃薬剤や脱落酸化皮膜の処理
を行う事無く青酸合成触媒を製造する事ができるのでそ
の経済的効果は大きい。
料として用いた。温度400℃、圧力13.3kPaの
条件下に空気をSV80h-1で鋼管の内側に供給する酸
化性雰囲気処理を50分間実施した後、同条件下に通気
ガスを水素:窒素:水のモル比が6:17:77である
ガスに切り替えてSV350h-1で供給する還元性雰囲
気処理を180分間実施した。このように酸化性雰囲気
処理と還元性雰囲気処理とを交互に10回繰り返し、鋼
管の内側に酸化皮膜をつくることにより青酸合成用触媒
を製造した。ここで製造された触媒を用いて、ホルムア
ミドの熱分解による青酸の製造を行った。触媒である反
応管の内部にホルムアミドガスをSV350h-1で供給
した。この時の反応温度は400℃、反応圧力は13.
3kPaであり、反応開始60分後におけるホルムアミ
ド転化率は99.6モル%、青酸収率は94.6モル%
であった。
料として用いた。温度400℃、圧力13.3kPaの
条件下に空気をSV260h-1で鋼管の内側に供給する
酸化性雰囲気処理を5分間実施した後、同条件下に通気
ガスを水素:窒素:水のモル比が6:17:77である
ガスに切り替えてSV480h-1で供給する還元性雰囲
気処理を45分間実施した。このように酸化性雰囲気処
理と還元性雰囲気処理とを交互に40回繰り返し、鋼管
の内側に酸化皮膜をつくることにより青酸合成用触媒を
製造した。ここで製造された触媒を用いて、ホルムアミ
ドの熱分解による青酸の製造を実施例1と同様に行っ
た。反応開始60分後におけるホルムアミド転化率は9
9.2モル%、青酸収率は94.2モル%であった。
mφ、長さ448mmの鋼管を反応管として使用したほ
かは実施例1と同様にホルムアミドの熱分解反応を行っ
た。反応開始60分後におけるホルムアミド転化率は3
6.5モル%、青酸収率は34.7モル%であった。
ホルムアミド熱分解反応と触媒表面への炭素質の付着か
らもたらされる触媒能の低下を回復させるため行われる
空気による再生処理操作を交互に実施しつつ7日間の連
続操作を行った。この間の操作における触媒の脱落量を
計測するために反応管を開放した。反応器出口における
脱落した酸化鉄の堆積はなかった。なおホルムアミド熱
分解反応は、反応管内部にホルムアミドガスをSV70
0h-1で供給しながら、反応温度400℃、反応圧力1
3.3kPaで7時間行い、触媒の再生処理は空気を反
応管内部にSV300h-1で供給しながら、処理温度4
00℃、処理圧力13.3kPaで1時間行なった。
よる酸化皮膜を形成させた。薬剤は蟻酸鉄の飽和蟻酸溶
液を用いて室温下に48時間浸漬した後に空気流通下4
00℃で1時間焼成した。反応管には0.5mm厚さの
酸化鉄皮膜が形成された。次いでこの反応管を用いて実
施例3と同様にホルムアミドの熱分解反応と再生操作を
繰り返す7日間の連続操作を行った。反応管出口を開放
点検した結果1.3グラムの酸化鉄からなる堆積物が採
取された。この堆積量は反応を始める前に形成された反
応管表面の酸化鉄皮膜の量に等しいものであって、形成
された皮膜のほぼ全てが脱落したものとみなされる。
Claims (6)
- 【請求項1】 鉄の表面を、酸化性雰囲気及び還元性雰
囲気に曝すことを特徴とする青酸合成用触媒の製造方
法。 - 【請求項2】 鉄管の内表面を、酸化性雰囲気及び還元
性雰囲気に曝す請求項1記載の青酸合成用触媒の製造方
法。 - 【請求項3】 酸化性雰囲気及び還元性雰囲気に曝すこ
とを、交互に2回以上繰り返し行う請求項1又は2記載
の青酸合成用触媒の製造方法。 - 【請求項4】 酸化性雰囲気が5〜30体積%の酸素を
含有するガスからなり、還元性雰囲気が1〜99体積%
の水素を含むガスからなる請求項1、2又は3記載の青
酸合成用触媒の製造方法。 - 【請求項5】 鉄の表面を、酸化性雰囲気及び還元性雰
囲気に曝して形成された酸化皮膜を該表面に有すること
を特徴とする青酸合成用触媒。 - 【請求項6】 酸化性雰囲気が5〜30体積%の酸素を
含有するガスからなり、還元性雰囲気が1〜99体積%
の水素を含むガスからなる請求項5記載の青酸合成用触
媒。
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- 2000-09-12 JP JP2000276310A patent/JP4623247B2/ja not_active Expired - Fee Related
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