JP2001147391A - 走査光学系 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 主走査方向の像高の変化に伴う副走査方向の
Ｆナンバーの変化と、マルチビーム方式を適用した場合
のディファレンシャルボウの発生量を小さく抑えるこ
と。 【解決手段】 平行光束を発するレーザー光源１、副走
査方向に負のパワーを有するシリンドリカルレンズ３、
ポリゴンミラー４、ｆθレンズ２０を備えている。ｆθ
レンズ２０は、ポリゴンミラー４側から順に、第１レン
ズ２１、第２レンズ２２、第３レンズ２３、第４レンズ
２４から構成される。このうち、最も描画面に近い位置
に配置された第４レンズ２４のいずれか一方の面は、主
走査方向のパワーφay[mm^-1]と副走査方向のパワーφaz
[mm^-1]とがφay＜φazとなるアナモフィック面として形
成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、レーザーフォト
プロッター等の描画装置に利用される走査光学系に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】走査光学系は、レーザー光を発する光
源、このレーザービームを偏向するポリゴンミラー等の
偏向器、そして、偏向されたレーザー光を描画面上に収
束させてビームスポットを形成するｆθレンズ等の結像
光学系を備えている。ここで、描画面上でスポットが走
査する方向を主走査方向、これに直交する方向を副走査
方向と定義し、各光学素子の形状、パワーの方向性は、
描画面上での方向を基準に説明することとする。

【０００３】ｆθレンズは、偏向器の回転によって等角
速度で偏向されるレーザー光により描画面上で等速移動
するビームスポットを形成するため、少なくとも主走査
方向においては、像高ｙと偏向角θとの関係が焦点距離
をｆとして、ｙ＝ｆθとなるような負の歪曲収差を有し
ている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、走査光
学系が回転対称なレンズ面のみにより構成される場合に
は、主走査方向の歪曲収差が副走査方向にも直接影響
し、副走査方向のＦナンバーが像高の変化に応じて変化
する。描画面上のビームスポットの径はＦナンバーに比
例するため、副走査方向のＦナンバーが変化すると、副
走査方向のスポット径が主走査方向の像高に応じて変化
する。副走査方向のスポット径が変化すると、描画品質
が一定せず、高精細の描画が不可能となる。

【０００５】また、回転対称なレンズ面のみにより構成
される走査光学系を、複数のレーザービームを同時に走
査させて一回の走査で複数の走査線を形成するマルチビ
ーム方式の走査光学系に適用すると、光軸を通る(副走
査方向の像高が０の)レーザー光の軌跡は主走査方向の
直線となるのに対し、光軸を通らない(副走査方向に像
高を持つ)レーザー光の軌跡は副走査方向に湾曲する。
この湾曲による走査線間の間隔の変化量は、「ディファ
レンシャルボウ」と呼ばれる。ディフレンシャルボウが
大きくなると描画精度が低下するため、ディファレンシ
ャルボウが大きい走査光学系はマルチビーム方式への適
用が困難である。

【０００６】この発明は、上述した従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、主走査方向の像高の変化に
伴う副走査方向のＦナンバーの変化と、マルチビーム方
式を適用した場合のディファレンシャルボウの発生量を
小さく抑えることができる走査光学系を提供することを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査光
学系は、上記の目的を達成させるため、光源と、光源か
らの光束を主走査方向においてはほぼ平行光、副走査方
向においては発散光となるよう整形する整形光学系と、
整形光学系により整形された光束を動的に偏向する偏向
器と、偏向器により偏向された光束を描画面上に結像さ
せて主走査方向に走査するスポットを形成する結像光学
系とを備え、結像光学系は、比較的描画面に近い位置
に、主走査方向のパワーφay[mm^-1]と副走査方向のパワ
ーφaz[mm^{- 1}]とがφay＜φazとなるアナモフィック面を
含み、偏向器による光束の偏向点とアナモフィック面と
の間隔をｄa[mm]、整形光学系の副走査方向のパワーを
φsz[mm^-1]、全系の主走査方向の焦点距離をｆ[mm]、有
効走査幅をＷ[mm]としたとき、以下の条件(1)、 −１．５＜ｄa・φsz・Ｗ／ｆ＜０ …(1) を満たすことを特徴とする。

【０００８】上記のように、偏向器より手前に整形光学
系を設けることにより、結像光学系への入射光は主走査
方向においてはほぼ平行光、副走査方向においては発散
光となる。このように、結像光学系に入射するレーザー
光は、主走査、副走査方向の発散度合いが異なるが、結
像光学系に含まれるアナモフィック面の作用により、両
方向において描画面上に収束される。整形光学系による
発散の度合い、およびアナモフィック面の位置を上記の
条件(1)を満たすよう設定することにより、主走査方向
の像高の変化による副走査方向のＦナンバーの変化幅を
小さくすると共に、ディファレンシャルボウを小さく抑
えることができる。

【０００９】整形光学系には、副走査方向にのみ光束を
発散させる効果を持つシリンドリカル面を含ませてもよ
い。結像光学系のアナモフィック面としては、以下の４
つのパターンが選択可能である。 (a) 副走査方向にのみ正のパワーを持つシリンドリカル
面 (b) 主走査方向、副走査方向において共に正のパワーを
持ち、副走査方向と平行で光軸を含む平面内にある曲線
を、副走査方向と平行な軸を中心に回転させてできるト
ーリック面 (c) 主走方向、副走査方向において共に正のパワーを持
ち、主走査方向と平行で光軸を含む平面内にある曲線
を、主走査方向と平行な軸を中心に回転させてできるト
ーリック面 (d) 光軸から離れた位置での副走査方向の曲率半径が主
走査方向の断面形状とは無関係に設定された回転軸を持
たない非球面 なお、(d)の場合、非球面の主走査方向のパワーφayと
副走査方向のパワーφazとの差Δφ＝φaz−φayが、光
軸から主走査方向に離れるに従って漸増するように設定
される。また、主走査方向のパワーφay＝０とすること
もできる。

【００１０】さらに、全系の光軸上における主走査方向
のＦナンバーをＦy、副走査方向のＦナンバーをＦzとし
たとき、以下の条件(2)、 (ｄa・Ｆy・Ｆz)／Ｗ＞500 …(2) を満たすことが望ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる走査光学
系の実施形態を説明する。図１は、実施形態として後述
する実施例１の走査光学系を示す主走査方向の説明図、
図２はその副走査方向の説明図である。

【００１２】この走査光学系は、レーザープフォトプロ
ッターの走査ユニットに適用されるもので、レーザー光
源１、ミラー２、整形光学系であるシリンドリカルレン
ズ３、レーザー光源１から発する光束を動的に偏向する
偏向器としてのポリゴンミラー４、ポリゴンミラー４に
より偏向された光束を描画面５上に結像させる結像光学
系としてのｆθレンズ２０を備えている。図１、図２
中、ｙ，ｚはそれぞれ描画面５上での主走査方向、副走
査方向を示す。

【００１３】レーザー光源１から発してミラー２により
反射された平行光束のレーザー光は、副走査方向に負の
パワーを有するシリンドリカルレンズ３により主走査方
向においてはほぼ平行光、副走査方向においては発散光
となるよう整形される。整形されたレーザー光は、回転
軸４ａ回りに回転駆動されるポリゴンミラー４により主
走査方向に動的に偏向される。偏向された光束は、ｆθ
レンズ２０を介して描画面５上に達し、主走査方向ｙに
走査するスポットを形成する。

【００１４】ｆθレンズ２０は、ポリゴンミラー４側か
ら順に、第１レンズ２１、第２レンズ２２、第３レンズ
２３、第４レンズ２４から構成される。このうち、最も
描画面に近い位置に配置された第４レンズ２４のいずれ
か一方の面は、主走査方向のパワーφay[mm^-1]と副走査
方向のパワーφaz[mm^-1]とがφay＜φazとなるアナモフ
ィック面として形成されている。アナモフィック面は、
主走査方向のパワーが負であるときには、副走査方向に
おいてはより弱い負のパワー、無パワー、あるいは正の
パワーを持ち、主走査方向のパワーが正であるときに
は、副走査方向においてはより強い正のパワーを持つ。
第４レンズ２４の他方の面、及び第１〜第３レンズ２
１，２２，２３のレンズ面は、いずれも回転対称面(平
面又は球面)である。

【００１５】ｆθレンズ２０のアナモフィック面として
は、以下の４つのパターンが選択可能である。 (a) 副走査方向にのみ正のパワーを持つシリンドリカル
面 (b) 主走査方向、副走査方向において共に正のパワーを
持ち、副走査方向と平行で光軸を含む平面内にある曲線
を、副走査方向と平行な軸を中心に回転させてできるト
ーリック面(以下、「ｚトーリック面」という) (c) 主走方向、副走査方向において共に正のパワーを持
ち、主走査方向と平行で光軸を含む平面内にある曲線
を、主走査方向と平行な軸を中心に回転させてできるト
ーリック面(以下、「ｙトーリック面」という) (d) 光軸から離れた位置での副走査方向の曲率半径が主
走査方向の断面形状とは無関係に設定された回転軸を持
たない非球面(以下、「累進トーリック面」という) なお、累進トーリック面は、非球面の主走査方向のパワ
ーφayと副走査方向のパワーφazとの差Δφ＝φaz−φ
ayが、光軸から主走査方向に離れるに従って漸増するよ
うに設定される。また、主走査方向のパワーφay＝０と
して、副走査方向のパワーのみが光軸からの主走査方向
の距離によって変化する累進シリンドリカル面とするこ
ともできる。

【００１６】アナモフィック面を(a)シリンドリカル面
とした場合、加工は最も容易であり、球面のみで構成さ
れる走査光学系と比較すると副走査方向のＦナンバーの
変化やディファレンシャルボウを小さく抑えることがで
きる。

【００１７】(b)ｚトーリック面は、主走査方向の曲率
半径を持つ回転皿に円弧に沿ってレンズ面を配置し、副
走査方向の曲率を持つ砥石を当てることにより、比較的
容易に加工可能である。また、シリンドリカル面と比較
すると、ｆθ誤差や像面湾曲をより小さく抑えることが
できる。

【００１８】(c)ｙトーリック面は、加工が比較的難し
いが、副走査方向のＦナンバーの変化やディファレンシ
ャルボウをシリンドリカル面やｚトーリック面の場合よ
り更に小さくすることができる。(d)累進トーリック非
球面とした場合にも、ｙトーリック面と同様に各収差を
極めて小さく抑えることができる。ただし、累進シリン
ドリカル面とした場合には、ｚトーリック面と同程度の
性能となる。

【００１９】実施形態の走査光学系は、ポリゴンミラー
４による光束の偏向点とアナモフィック面との間隔をｄ
a[mm]、シリンドリカルレンズ３の副走査方向のパワー
をφsz[mm^-1]、全系の主走査方向の焦点距離をｆ[mm]、
有効走査幅をＷ[mm]としたとき、以下の条件(1)、 −１．５＜ｄa・φsz・Ｗ／ｆ＜０ …(1) を満たす。また、全系の光軸上における主走査方向のＦ
ナンバーをＦy、副走査方向のＦナンバーをＦzとしたと
き、以下の条件(2)、 (ｄa・Ｆy・Ｆz)／Ｗ＞500 …(2) を満たす。

【００２０】(1)式は、全系の仕様に対するシリンドリ
カルレンズ３の副走査方向のパワー、およびアナモフィ
ック面の位置を規定する。(1)式の下限を下回ると、主
走査方向の像高の変化に伴う副走査方向のＦナンバーの
変化を抑えることができず、ビーム径の変化やディファ
レンシャルボウが大きくなる。上限を上回ると、波面収
差の悪化が著しくなり高精細な描画が困難になる。

【００２１】(2)式は、全系の仕様に対する光軸上での
主走査、副走査方向のＦナンバーの比率を規定する。
(2)式の下限を下回ると、主走査方向の像高の変化に伴
う副走査方向のＦナンバーの変化を抑えつつ、波面収差
を良好に補正することが困難になる。

【００２２】次に、上述した実施形態にかかる走査光学
系の具体的な実施例を４例説明する。ｆθレンズ２０の
アナモフィック面は、実施例１ではシリンドリカル面、
実施例２ではｚトーリック面、実施例３ではｙトーリッ
ク面、実施例４では累進シリンドリカル面である。累進
シリンドリカル面における光軸からの主走査方向の距離
ｙにおける座標点での副走査方向の曲率Ｃz(y)は、光軸
上での副走査方向の曲率(1/rz)をＣz(0)、１次〜６次の
非球面係数をAS1〜AS6として、以下の式で表される。 Ｃz(y)＝Ｃz(0)＋AS1・ｙ＋AS2・ｙ²＋AS3・ｙ³＋AD4・
ｙ⁴＋AS5・ｙ⁵＋AS6・ｙ⁶

【００２３】

【実施例１】図１は、実施例１の走査光学系の主走査方
向の説明図、図２はその副走査方向の説明図である。以
下の表１は、実施例１の走査光学系におけるシリンドリ
カルレンズ３より描画面５側の具体的な数値構成を示
す。表中の記号ｒyは主走査方向の曲率半径(単位:mm)、
ｒzは副走査方向の曲率半径(回転対称面の場合には省
略、単位:mm)、ｄは面間の光軸上の距離(単位:mm)、ｎ
は各レンズの屈折率である。なお、偏向点とアナモフィ
ック面との間隔ｄa[mm]は、第３面とアナモフィック面
(実施例１では第１１面)との間の面間距離ｄの和であ
る。

【００２４】表中、第１面及び第２面がシリンドリカル
レンズ３、第３面がポリゴンミラー４のミラー面、第４
面及び第５面がｆθレンズ２０の第１レンズ２１、第６
面及び第７面が第２レンズ２２、第８面及び第９面が第
３レンズ２３、そして、第１０面及び第１１面が第４レ
ンズ２４を示す。実施例１では、第１面が負のシリンド
リカル面、第２面及び第３面が平面、第４面〜第９面が
球面、第１０面が平面、そして、第１１面がアナモフィ
ック面としてのシリンドリカル面である。第１１面のシ
リンドリカル面は、主走査方向にはパワーを持たず、副
走査方向には正のパワーを有しており、φay＜φazの条
件を満たしている。

【００２５】

【表１】 f＝400.3 W＝350.0 Fy＝32.0 Fz＝40.2 ｄａ＝250.5 面番号 ry rz d n 1 ∞ −155.00 4.0 1.522 2 ∞ − 50.0 3 ∞ − 125.0 4 −97.00 − 10.0 1.522 5 −595.00 − 20.0 6 −364.00 − 25.0 1.827 7 −160.00 − 1.0 8 −5150.00 − 30.0 1.827 9 −300.00 − 24.5 10 ∞ − 15.0 1.827 11 ∞ −600.00 462.3

【００２６】図３及び図４は、実施例１の走査光学系の
性能を示すグラフである。図３(A)は、fθ誤差(スポッ
ト位置の理想位置からのズレ)を示す。図３(B)は、像面
湾曲(焦点位置の近軸像面からの光軸方向のズレ)を示
し、破線が主走査方向、実線が副走査方向の像面湾曲を
示す。また、図４(A)は、有効ＦナンバーFy(破線で示さ
れる)、Fz(実線で示される)の変化を示し、図４(B)は、
描画面上で光軸から副走査方向に0.05mm離れた位置を走
査するビームスポットのディファレンシャルボウを示
す。いずれのグラフも、縦軸は像高、すなわち光軸と交
差する位置を基準にした主走査方向の距離を示し、単位
はmmである。また、横軸は各収差の発生量を示し、単位
は図３(A),(B)、図４(B)ではmm、図４(A)では％であ
る。

【００２７】ポリゴンミラー４より光源側に副走査方向
に負のパワーを持つシリンドリカルレンズ３を配置し、
第４レンズ２４にシリンドリカル面を設けることによ
り、図４(A)に示すように有効Ｆナンバーの変化を抑え
ると共に、図４(B)に示すように、ディファレンシャル
ボウをも小さく抑えることができる。

【００２８】

【実施例２】図５及び図６は、実施例２の走査光学系を
示し、図５が主走査方向、図６が副走査方向の説明図で
ある。実施例２の走査光学系の数値構成は表２に示され
る。実施例２では、第１面が負のシリンドリカル面、第
２面及び第３面が平面、第４面〜第１０面が球面、そし
て、第１１面がアナモフィック面としてのｚトーリック
面である。ｚトーリック面は、主走査方向には弱い正パ
ワーを持ち、副走査方向には比較的強い正のパワーを有
しており、φay＜φazの条件を満たしている。実施例２
の走査光学系の性能は、図７及び図８のグラフに示され
ている。

【００２９】

【表２】 f＝400.1 W＝350.0 Fy＝32.0 Fz＝32.1 ｄａ＝257.0 面番号 ry rz d n 1 ∞ −231.63 4.0 1.522 2 ∞ − 50.0 3 ∞ − 125.0 4 −88.41 − 10.0 1.522 5 −569.70 − 20.0 6 −358.47 − 25.0 1.827 7 −159.99 − 2.0 8 −1165.05 − 30.0 1.827 9 −250.04 − 25.0 10 −915.47 − 20.0 1.827 11 −705.72 −383.07 484.4

【００３０】

【実施例３】図９及び図１０は、実施例３の走査光学系
を示し、図９が主走査方向、図１０が副走査方向の説明
図である。実施例３の走査光学系の数値構成は表３に示
される。実施例３では、第１面が負のシリンドリカル
面、第２面及び第３面が平面、第４面〜第９面が球面、
第１０面がアナモフィック面としてのｙトーリック面、
そして、第１１面が平面である。ｙトーリック面は、主
走査方向には弱い正のパワーを持ち、副走査方向には比
較的強い正のパワーを有しており、φay＜φazの条件を
満たしている。実施例３の走査光学系の性能は、図１１
及び図１２のグラフに示されている。

【００３１】

【表３】 f＝400.0 W＝350.0 Fy＝32.0 Fz＝31.5 ｄａ＝633.0 面番号 ry rz d n 1 ∞ −2000.00 4.0 1.522 2 ∞ − 50.0 3 ∞ − 125.0 4 −90.00 − 10.0 1.522 5 −920.00 − 20.0 6 −450.00 − 27.0 1.827 7 −177.00 − 1.0 8 −1240.00 − 30.0 1.827 9 −242.00 − 420.0 10 537.00 234.00 45.0 1.522 11 ∞ − 132.2

【００３２】

【実施例４】図１３及び図１４は、実施例４の走査光学
系を示し、図１３が主走査方向、図１４が副走査方向の
説明図である。実施例４の走査光学系の数値構成は表４
に示される。実施例４では、第１面が負のシリンドリカ
ル面、第２面及び第３面が平面、第４面〜第１０面が球
面、そして、第１１面がアナモフィック面としての累進
シリンドリカル面である。累進シリンドリカル面を定義
する非球面係数は、表５に示されている。累進シリンド
リカル面は、主走査方向にはパワーを持たず、副走査方
向には正のパワーを有しており、φay＜φazの条件を満
たしている。また、累進シリンドリカル面の副走査方向
のパワーは、光軸から主走査方向に離れるに従って漸増
するように設定されており、パワー差Δφ(＝φaz−φa
y)は、光軸から主走査方向に離れるに従って漸増する。
実施例４の走査光学系の性能は、図１５及び図１６のグ
ラフに示されている。

【００３３】

【表４】 f＝400.4 W＝350.0 Fy＝32.0 Fz＝32.3 ｄａ＝683.2 面番号 ry rz d n 1 ∞ −1440.00 4.0 1.522 2 ∞ − 50.0 3 ∞ − 125.0 4 −87.50 − 10.0 1.522 5 −1200.00 − 20.0 6 −374.00 − 27.0 1.827 7 −177.00 − 1.2 8 −1500.00 − 35.0 1.827 9 −222.00 − 420.0 10 592.00 − 45.0 1.522 11 ∞ −270.00 146.0

【００３４】

【表５】 第11面 非球面係数 AS1 = AS2 = AS3 = AS5 = 0.000 AS4＝−4.400×10^-13 AS6＝ 9.600×10^-18

【００３５】以下の表６は、前述の条件(1),(2)と各実
施例との関係を示す。全ての実施例が条件(1),(2)を共
に満たしており、これにより波面収差を良好に保ちつ
つ、主走査方向の像高の変化に伴う副走査方向のＦナン
バーの変化を抑え、ビーム径の変化やディファレンシャ
ルボウを小さく抑えることができる。

【００３６】

【表６】 実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 条件(1) ｄa・φsz・Ｗ／ｆ −0.737 −0.506 −0.145 −0.217 条件(2) (ｄa・Ｆy・Ｆz)／Ｗ 920.7 754.3 1823.0 2017.6

【００３７】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、偏向器より手前にレーザー光を主走査方向において
はほぼ平行光、副走査方向においては発散光とする整形
光学系を設け、結像光学系にφay＜φazとなるアナモフ
ィック面を含ませると共に、所定の条件を満たすことに
より、主走査方向の像高の変化による副走査方向のＦナ
ンバーの変化幅を小さくすると共に、ディファレンシャ
ルボウを小さく抑えることができる。したがって、副走
査方向のビーム径の変化が抑えられて高精細の描画が可
能になると共に、マルチビーム方式の走査光学系への適
用も可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例１の走査光学系を示す主走査方向の説
明図。

【図２】 実施例１の走査光学系を示す副走査方向の説
明図。

【図３】 (A)は実施例１の走査光学系のｆθ誤差、(B)
は像面湾曲を示すグラフ。

【図４】 (A)は実施例１の走査光学系の有効Ｆナンバ
ーの変化、(B)はディファレンシャルボウを示すグラ
フ。

【図５】 実施例２の走査光学系を示す主走査方向の説
明図。

【図６】 実施例２の走査光学系を示す副走査方向の説
明図。

【図７】 (A)は実施例２の走査光学系のｆθ誤差、(B)
は像面湾曲を示すグラフ。

【図８】 (A)は実施例２の走査光学系の有効Ｆナンバ
ーの変化、(B)はディファレンシャルボウを示すグラ
フ。

【図９】 実施例３の走査光学系を示す主走査方向の説
明図。

【図１０】 実施例３の走査光学系を示す副走査方向の
説明図。

【図１１】 (A)は実施例３の走査光学系のｆθ誤差、
(B)は像面湾曲を示すグラフ。

【図１２】 (A)は実施例３の走査光学系の有効Ｆナン
バーの変化、(B)はディファレンシャルボウを示すグラ
フ。

【図１３】 実施例４の走査光学系を示す主走査方向の
説明図。

【図１４】 実施例４の走査光学系を示す副走査方向の
説明図。

【図１５】 (A)は実施例４の走査光学系のｆθ誤差、
(B)は像面湾曲を示すグラフ。

【図１６】 (A)は実施例４の走査光学系の有効Ｆナン
バーの変化、(B)はディファレンシャルボウを示すグラ
フ。

【符号の説明】

１ レーザー光源 ３ シリンドリカルレンズ ４ ポリゴンミラー ５ 描画面 ２０ ｆθレンズ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H045 AA01 CA04 CA34 CA55 CA68 2H087 KA19 LA22 LA24 PA01 PA03 PA04 PA17 PB01 PB03 PB04 QA02 QA03 QA05 QA07 QA13 QA17 QA21 QA25 QA32 QA33 QA41 QA45 QA46 RA07 RA08 RA42 9A001 GG01 KK16

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源と、 前記光源からの光束を主走査方向においてはほぼ平行
   光、副走査方向においては発散光となるよう整形する整
   形光学系と、 前記整形光学系により整形された光束を動的に偏向する
   偏向器と、 前記偏向器により偏向された光束を描画面上に結像させ
   て主走査方向に走査するスポットを形成する結像光学系
   とを備え、 前記結像光学系は、比較的前記描画面に近い位置に、主
   走査方向のパワーφay[mm^-1]と副走査方向のパワーφaz
   [mm^-1]とがφay＜φazとなるアナモフィック面を含み、 前記偏向器による光束の偏向点と前記アナモフィック面
   との間隔をｄa[mm]、前記整形光学系の副走査方向のパ
   ワーをφsz[mm^-1]、全系の主走査方向の焦点距離をｆ[m
   m]、有効走査幅をＷ[mm]としたとき、以下の条件(1)、 −１．５＜ｄa・φsz・Ｗ／ｆ＜０ …(1) を満たすことを特徴とする走査光学系。
2. 【請求項２】 整形光学系は、副走査方向にのみ光束を
   発散させる効果を持つシリンドリカル面を含むことを特
   徴とする請求項１に記載の走査光学系。
3. 【請求項３】 前記アナモフィック面は、副走査方向に
   のみ正のパワーを持つシリンドリカル面であることを特
   徴とする請求項１または２に記載の走査光学系。
4. 【請求項４】 前記アナモフィック面は、主走査方向、
   副走査方向において共に正のパワーを持ち、副走査方向
   と平行で光軸を含む平面内にある曲線を、副走査方向と
   平行な軸を中心に回転させてできるトーリック面である
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学
   系。
5. 【請求項５】 前記アナモフィック面は、主走方向、副
   走査方向において共に正のパワーを持ち、主走査方向と
   平行で光軸を含む平面内にある曲線を、主走査方向と平
   行な軸を中心に回転させてできるトーリック面であるこ
   とを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学系。
6. 【請求項６】 前記アナモフィック面は、光軸から離れ
   た位置での副走査方向の曲率半径が主走査方向の断面形
   状とは無関係に設定された回転軸を持たない非球面であ
   り、該非球面の主走査方向のパワーφayと副走査方向の
   パワーφazとの差Δφ＝φaz−φayが、光軸から主走査
   方向に離れるに従って漸増することを特徴とする請求項
   １または２に記載の走査光学系。
7. 【請求項７】 前記非球面の主走査方向のパワーφay＝
   ０であることを特徴とする請求項６に記載の走査光学
   系。
8. 【請求項８】 全系の光軸上における主走査方向のＦナ
   ンバーをＦy、副走査方向のＦナンバーをＦzとしたと
   き、以下の条件(2)、 (ｄa・Ｆy・Ｆz)／Ｗ＞500 …(2) を満たすことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記
   載の走査光学系。