JP2001144148A - 半導体試験装置のウエハマップ表示装置 - Google Patents

半導体試験装置のウエハマップ表示装置

Info

Publication number
JP2001144148A
JP2001144148A JP2000010005A JP2000010005A JP2001144148A JP 2001144148 A JP2001144148 A JP 2001144148A JP 2000010005 A JP2000010005 A JP 2000010005A JP 2000010005 A JP2000010005 A JP 2000010005A JP 2001144148 A JP2001144148 A JP 2001144148A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
display
wafer
size
information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000010005A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsue Nanbu
光江 南部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advantest Corp
Original Assignee
Advantest Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advantest Corp filed Critical Advantest Corp
Publication of JP2001144148A publication Critical patent/JP2001144148A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
    • G01R31/2831Testing of materials or semi-finished products, e.g. semiconductor wafers or substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/544Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

(57)【要約】 【課題】ウエハマップ表示のウィンドウサイズに対応し
た大きさでチップと文字を表示可能とする半導体試験装
置のウエハマップ表示装置を提供する。 【解決手段】表示装置上でウエハマップを表示するウィ
ンドウサイズの情報をウィンドウ管理装置から随時取得
する手段を具備し、半導体試験装置から1チップのウエ
ハ上のXYチップアドレス情報を受信した都度、これま
でに受信した各チップのウエハ上のXYチップアドレス
情報に基づいて各チップがウィンドウサイズ内に納まる
チップ表示サイズを算出する手段を具備し、算出したチ
ップ表示サイズの表示領域へ個々のチップの検査結果情
報であるカテゴリ情報を所定のウエハマップ表示形態で
表示更新する手段とを備える半導体試験装置のウエハマ
ップ表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体試験装置
のウエハマップ表示装置に関する。特に、ウエハ上の全
チップ個数情報が予め得られない場合においても表示装
置上の指定のウィンドウサイズ内に最適な大きさでウエ
ハマップ全体を表示可能とする半導体試験装置のウエハ
マップ表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウエハマップ表示はウエハ上の各チップ
と全体の特性分布を一目瞭然に表示する。このウエハマ
ップ表示は製造プロセス上における歩留まりや品質維持
等の生産評価の観点から重要な判定情報となっている。
一方で、ウエハマップ表示の画面は、表示画面上で他の
アプリケーションツールの表示と共にウィンドウ表示さ
れる為、一定したウィンドウ画面ではなく、随時ウィン
ドウサイズの変更を伴う。
【0003】従来技術について、図4と、図5と、を参
照して以下に説明する。先ず、システムの全体構成を説
明する。本願に係る要部構成の一例は、図4に示すよう
に、試験装置本体と、テストステーションと、プローバ
と、ワークステーション(WS)と、ウエハマップ表示
アプリケーションと、入力手段と、記憶媒体と、表示装
置とがある。
【0004】シリコン等のウエハ上には被試験デバイス
となる複数チップがXY格子状に形成されている。プロ
ーバは、1つ若しくは複数チップを同時に電気的に試験
してウエハ単位で搬送交換できるハンドリング装置であ
り、チップの電極パッドへプローブピンを電気的にコン
タクトさせて半導体試験装置側とチップとを電気的に接
続する。ここでは1つのチップを順次試験実施する場合
と仮定する。ウエハ上に形成されている個々のチップは
ウエハ上におけるX軸とY軸のロケーションを示すXY
チップアドレス情報LCと、試験結果と共にWS側へ供
給される。
【0005】試験装置本体とテストステーションとによ
る半導体試験装置は、テストステーションを介してプロ
ーバと電気的に接続されて、ウエハ上の複数チップを所
定の順番で測定実施し、1個のチップ測定が完了する
と、当該チップの検査結果情報である良否判定情報(P
ASS/FAIL)とカテゴリ情報CATを、ウエハ上
のXYチップアドレス情報LCと共に通信回線を通じて
WSへ供給する。WSは、上記半導体試験装置から1チ
ップ単位の検査結果情報(ウエハ上のXYチップアドレ
ス情報LCと試験結果のPASS/FAIL情報とカテ
ゴリ情報CAT)を受信した都度、ウエハマップ表示ア
プリケーションへ供給し、更に記憶媒体へ保存格納す
る。
【0006】表示装置は、ウィンドウ形態で画面表示さ
れる表示装置である。本願に係るウエハマップ表示画面
は、図5(a)に示すように単一のウィンドウ画面で表
示される場合はまれであり、通常は図5(b)に示すよ
うに他のアプリケーションツールのウィンドウ画面と共
存した状態のウィンドウサイズWsizeで使用される。ま
た、ウエハマップ表示のウィンドウサイズWsizeは作業
者からの入力手段であるマウス入力等によって随時変更
される。
【0007】従来のウエハマップ表示アプリケーション
では、一定の大きさとするチップ表示サイズCSで表示
する。この為、チップ個数の異なるウエハや、ウエハ上
のXYチップ配列状況が異なるウエハに伴ってウエハ全
体を表示するのに必要とするウィンドウサイズが異なっ
てくる。尚、各チップ表示サイズCSの表示内容の一例
としては、PASS/FAIL情報に基づいて緑/赤色
のカラー表示、若しくはカテゴリ情報CATに基づく所
定の色別でカラー表示する。次に、実際の表示例を図5
に示す。第1に、図5(a)に示す大きなウィンドウサ
イズWsize(図5A参照)の場合においては、全てのチ
ップがウィンドウ画面内に支障なく表示されているが、
固定したチップ表示サイズCSの為、大きなウィンドウ
サイズWsizeにもかかわらずウエハマップの表示が小さ
く表示され、未利用領域(図5C参照)が生じて、最適
な大きさで表示されないという難点がある。第2に、図
5(b)に示す他のアプリケーションウィンドウ画面
(図5F、G参照)に伴って小さなウィンドウサイズW
size(図5D参照)となる場合においては、全てのチッ
プがウィンドウ画面内に表示されない状態となる。この
結果、このウィンドウ画面からはウエハ全体の評価確認
ができない為、画面をマウス等でスクロールさせる煩わ
しさを生じる難点がある。更に、ウエハ全体の特性分布
等を一目瞭然に確認できないという実用的な難点もあ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上述説明したように従
来技術においては、固定したチップ表示サイズCSであ
るために最適な大きさでチップを表示することができな
い難点がある。また、チップ個数の異なるウエハや、ウ
エハ上のXYチップ配列状況が異なるウエハに伴ってウ
エハ全体を表示するのに必要とするウィンドウサイズが
異なってくる。また、ウエハマップを表示するウィンド
ウサイズWsizeが小さいとウエハ全体が表示されずウエ
ハやチップの評価確認がやりずらくなる実用上の難点が
ある。そこで、本発明が解決しようとする課題は、ウエ
ハマップ表示のウィンドウサイズに対して、チップ個数
とウエハ上のXYチップ配列状況に対応して最適なチッ
プ表示サイズとしてウエハ全体が表示可能とする半導体
試験装置のウエハマップ表示装置を提供することであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】第1に、上記課題を解決
するために、半導体ウエハ上に複数チップの回路が形成
され、半導体試験装置がチップ単位に電気的に検査実施
し、前記検査結果情報であるカテゴリ情報CATとウエ
ハ上のXYチップアドレス情報LCとを受けて表示装置
のウィンドウへウエハマップ形態で所定に表示する半導
体試験装置のウエハマップ表示装置において、表示装置
上でウエハマップを表示するウィンドウサイズWsizeの
情報をウィンドウ管理装置、例えばOS(オペレーティ
ング・システム)から随時取得する手段を具備し、半導
体試験装置から1チップのウエハ上のXYチップアドレ
ス情報LCを受信した都度、これまでに受信した各チッ
プのウエハ上のXYチップアドレス情報LCに基づいて
各チップがウィンドウサイズWsize内に納まるチップ表
示サイズCSを算出する手段を具備し、算出したチップ
表示サイズCSの表示領域へ個々のチップの検査結果情
報を所定のウエハマップ表示形態で表示更新(リフレッ
シュ表示)する手段とを備えることを特徴とする半導体
試験装置のウエハマップ表示装置である。上記発明によ
れば、ウエハマップ表示のウィンドウサイズWsizeに対
して、チップ個数とウエハ上のXYチップ配列状況に対
応して最適なチップ表示サイズCSとしてウエハ全体が
最適に表示可能とする半導体試験装置のウエハマップ表
示装置が実現できる。
【0010】また、ウィンドウ管理装置からのウィンド
ウサイズWsizeの変更指示(例えばマウスポインタ指示
やキー入力指示)を受けた都度、これまでに受信した各
チップのウエハ上のXYチップアドレス情報LCから、
ウィンドウサイズWsize内に納まるチップ表示サイズC
Sを算出し、算出されたチップ表示サイズCSで現在表
示中のウエハマップ表示を更新(リフレッシュ表示)す
ることを特徴とする上述半導体試験装置のウエハマップ
表示装置がある。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を実施
例と共に図面を参照して詳細に説明する。また、以下の
実施の形態の説明内容によって実用新案登録請求の範囲
を限定するものではないし、更に、実施の形態で説明さ
れている要素や接続関係が解決手段に必須であるとは限
らない。本発明について、図1と、図2と、図3と、を
参照して以下に説明する。
【0012】図1のチップ表示処理のフローチャート
を、図2のウィンドウ表示画面を参照しながら説明す
る。ここで、データの入力は、実際に試験実施中の半導
体試験装置から1チップ単位の検査結果情報を受ける場
合とし、更に、ウエハ全体のチップ個数やウエハ上のX
Yチップ配列情報が得られない場合と仮定する。従っ
て、ウィンドウ表示画面内に表示する全チップ数、及び
全チップのXYチップ配列状態は未定であるからして、
チップ表示サイズCSは不定状態での処理手順である。
【0013】ステップ10はウィンドウサイズ取得であ
る。即ち、WSのウィンドウ管理装置からウィンドウサ
イズWsizeの情報を取得する。ステップ12はウエハ表
示サイズ算出である。即ち、上記ウィンドウサイズWsi
zeの情報からウエハ形状となるように一辺を切り欠いた
円形のウエハ輪郭を算出する。この輪郭の中に複数個の
チップを表示する。
【0014】ステップ14はテスタから次のチップ情報
の受信待機である。即ち、半導体試験装置から次の1チ
ップ分の検査結果情報の受信待ちをする。半導体試験装
置による1チップ分の試験時間はデバイスの品種にもよ
るが数秒から数分かかる。また、この待ち時間におい
て、所望により、ステップ10と同様にウィンドウサイ
ズWsizeの情報を取得し、もしもウィンドウサイズWsi
zeが変更された場合にはステップ12と同様の処理を実
施して新たなウエハ輪郭を算出更新してもよい。
【0015】ステップ16はテスタから1つのチップ情
報取得である。即ち、半導体試験装置で1チップの試験
が完了後に送信される当該チップの検査結果情報、即
ち、ウエハ上のXYチップアドレス情報LCと試験結果
のPASS/FAIL情報とカテゴリ情報CATとをW
Sを介して受信する。
【0016】ステップ18は現時点までに取得したXY
チップアドレス情報LC(XYアドレス)の全てからチ
ップ表示領域内に納まるチップ表示サイズCSを算出す
る。これによると、最初の1個のチップの場合は大きな
チップ表示サイズCS(図2A参照)で表示され、チッ
プ取得の経過につれて段階的に小さなチップ表示サイズ
CS(図2B〜F参照)で表示されるようになる。
【0017】ステップ20は各チップのXYアドレス情
報に対応する位置へ今回算出したチップ表示サイズで今
までに得た各チップの測定結果のPASS/FAILと
カテゴリ情報CATの表示を全てリフレッシュ表示す
る。即ち、上記で得たチップ表示サイズCSと、今まで
に取得されているXYチップアドレス情報LCに基づい
て、対応するXYアドレス位置の当該チップ表示領域へ
PASS/FAIL情報に基づき、例えば緑/赤色でカ
ラー表示する。更に、その領域内へカテゴリ情報CAT
に対応する所定の文字(図2G〜M参照)を表示する。
上述によると、図3Aに示すように、比較的小さなウィ
ンドウサイズWsizeの場合でも、全てのチップがウィン
ドウサイズWsize内に表示できる利点が得られる。更
に、ウィンドウサイズWsizeに対応して最適な大きさで
ウエハマップを表示できる利点も得られる。
【0018】尚、本発明の実現手段は、上述実施の形態
に限るものではなく、変形して応用してもよい。例え
ば、大量生産されるICチップにおいては同一ウエハサ
イズ、同一チップ個数、同一XYチップ配列である。こ
のことが予め判っている場合においては、前回のウエハ
で取得したXYチップ配列情報に基づいて特定されたチ
ップ表示サイズCSの算出データを用いて、次回以降の
ウエハの最初の1個のチップ表示の段階から図2Fに示
す最終的なチップ表示サイズCSの大きさで表示するよ
うにしても良い。この場合は、実際のウエハとの位置関
係が1:1に把握できる利点がある。
【0019】また、記憶媒体に格納されているウエハ単
位の過去の検査結果情報を受ける場合は、当初の段階で
ウエハ上のXYチップ配列情報の全てが得られるからし
て、最終的なチップ表示サイズCSの大きさが算出で
き、これに基づいてウエハの最初の1チップの表示段階
から図2Fに示す最終的なチップ表示サイズCSの大き
さで表示するようにしても良い。この場合も、実際のウ
エハとの物理的な位置関係が1:1に把握できる利点が
ある。
【0020】また、図4の構成において2台若しくは4
台のプローバを接続して2個若しくは4個のウエハ上の
チップを同時試験する構成の場合においては、表示装置
上に各ウエハに対応する2つ若しくは4つの任意のウィ
ンドウサイズWsizeで同時並行して画面表示することも
可能である。
【0021】
【発明の効果】本発明は、上述の説明内容から、下記に
記載される効果を奏する。上述説明したように本発明に
よれば、ウエハ全体のチップ個数やウエハ上のXYチッ
プ配列情報が得られない場合においても随時チップ表示
サイズCSを算出して動的にチップ表示サイズCSを変
更して最適な大きさでチップと文字を表示することでウ
エハマップの全体がウィンドウサイズWsize内に最適の
大きさで表示可能となる大きな利点が得られ、この結
果、ウエハやチップの評価確認の利便性が一層向上する
利点が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の、ウィンドウサイズに対応したウエハ
マップ表示する処理手順の一例。
【図2】本発明の、段階的に最適なチップ表示サイズで
ウエハマップが表示される例。
【図3】本発明の、他のアプリケーション・ウィンドウ
B、Cと共に、小さなウィンドウ画面A内にウエハマッ
プ全体が表示される様子を示す図。
【図4】ワークステーションWSと半導体試験装置とプ
ローバ装置とが接続されたシステム構成の概念図。
【図5】従来の、指定のウィンドウサイズ内にウエハマ
ップを表示する例。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハ上に複数チップの回路が形
    成され、半導体試験装置がチップ単位に電気的に検査実
    施し、前記検査結果情報であるカテゴリ情報とウエハ上
    のXYチップアドレス情報とを受けて表示装置のウィン
    ドウへウエハマップ形態で所定に表示する半導体試験装
    置のウエハマップ表示装置において、 表示装置上でウエハマップを表示するウィンドウサイズ
    の情報をウィンドウ管理装置から随時取得する手段と、 半導体試験装置から1チップのウエハ上のXYチップア
    ドレス情報を受信した都度、これまでに受信した各チッ
    プのウエハ上のXYチップアドレス情報に基づいて各チ
    ップがウィンドウサイズ内に納まるチップ表示サイズを
    算出する手段と、 算出したチップ表示サイズの表示領域へ個々のチップの
    検査結果情報を所定のウエハマップ表示形態で表示更新
    する手段とを備えることを特徴とする半導体試験装置の
    ウエハマップ表示装置。
  2. 【請求項2】 ウィンドウ管理装置からのウィンドウサ
    イズの変更指示を受けた都度、これまでに受信した各チ
    ップのウエハ上のXYチップアドレス情報から、ウィン
    ドウサイズ内に納まるチップ表示サイズを算出し、算出
    されたチップ表示サイズで現在表示中のウエハマップ表
    示を更新することを特徴とする請求項1記載の半導体試
    験装置のウエハマップ表示装置。
JP2000010005A 2001-05-12 2000-01-13 半導体試験装置のウエハマップ表示装置 Pending JP2001144148A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/US2001/015331 WO2002093185A1 (en) 2001-05-12 2001-05-12 Wafer map display apparatus and method for semiconductor test system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001144148A true JP2001144148A (ja) 2001-05-25

Family

ID=34141482

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000010005A Pending JP2001144148A (ja) 2001-05-12 2000-01-13 半導体試験装置のウエハマップ表示装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6552527B1 (ja)
JP (1) JP2001144148A (ja)
CN (1) CN1263110C (ja)
TW (1) TW480639B (ja)
WO (1) WO2002093185A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10343148A1 (de) * 2003-09-18 2005-04-21 Leica Microsystems Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion eines Wafers
TW201546468A (zh) * 2014-06-11 2015-12-16 Signality System Engineering Co Ltd 晶圓測試數據圖形化判讀系統
CN105527558B (zh) * 2015-09-14 2019-01-11 杭州长川科技股份有限公司 测试系统的坐标图形显示单元及其显示方法
CN105589028B (zh) * 2015-09-14 2018-05-22 杭州长川科技股份有限公司 一种用于集成电路测试的系统及其扫描测试及显示方法
CN113359007B (zh) * 2021-05-31 2023-03-24 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司 晶圆测试图的显示方法及系统

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07263499A (ja) * 1994-03-17 1995-10-13 Fujitsu Ltd 半導体ウェハのウェハマップ作成方法及び作成装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3204144A (en) * 1963-02-05 1965-08-31 California Instr Corp Oscilloscope control circuitry
US4720870A (en) * 1985-06-18 1988-01-19 Billiotte Jean Marie Method of automatically and electronically analyzing patterns in order to distinguish symmetrical perceptible areas in a scene together with their centers of symmetry
US4764721A (en) * 1987-03-24 1988-08-16 Tektronix, Inc. Locking scales to waveform displays
US5256578A (en) * 1991-12-23 1993-10-26 Motorola, Inc. Integral semiconductor wafer map recording
US5307421A (en) * 1992-10-14 1994-04-26 Commissariat A L'energie Atomique Process for producing a synthesized reference image for the inspection of objects and apparatus for performing the same
US5585738A (en) * 1994-03-31 1996-12-17 Tokyo Electron Limited Probe system having vertical height detection and double focal image pickup coinciding with probe contact in height adjustment
SG54995A1 (en) * 1996-01-31 1998-12-21 Texas Instr Singapore Pet Ltd Method and apparatus for aligning the position of die on a wafer table
US6113646A (en) * 1997-12-04 2000-09-05 Micron Technology, Inc. Method of selecting layout of integrated circuit probe card
SG99277A1 (en) * 1998-02-05 2003-10-27 Texas Instr Singapore Pte Ltd Partial semionductor wafer processing with multiple cuts of random sizes

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07263499A (ja) * 1994-03-17 1995-10-13 Fujitsu Ltd 半導体ウェハのウェハマップ作成方法及び作成装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2002093185A1 (en) 2002-11-21
US6552527B1 (en) 2003-04-22
CN1388987A (zh) 2003-01-01
CN1263110C (zh) 2006-07-05
TW480639B (en) 2002-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001144148A (ja) 半導体試験装置のウエハマップ表示装置
US6262586B1 (en) Probing method and apparatus utilizing an optimal probing mode
CN108983072B (zh) 晶圆测试方法、晶圆测试装置以及晶圆测试系统
JPH09115972A (ja) 半導体素子の試験用アレー及び試験方法
KR100381585B1 (ko) 반도체 시험 장치의 웨이퍼 맵 표시 장치 및 표시 방법
US6785413B1 (en) Rapid defect analysis by placement of tester fail data
CN115407179A (zh) 一种利用测试焊点对应关系提高准确性的晶圆测试方法
US20030173990A1 (en) Wafer map display apparatus and method for semiconductor test system
US6693434B2 (en) Automated system for estimating ring oscillator reliability and testing AC response and method of operation thereof
US20050039089A1 (en) System and method for analysis of cache array test data
JPH0252446A (ja) 集積回路の試験装置
US6961674B2 (en) System and method for analysis of cache array test data
JPH0727931B2 (ja) ウエハテスト工程における集中マ−キングシステム
US11555828B2 (en) Testing probe system for testing semiconductor die, multi-channel die having shared pads, and related systems and methods
JPH0195529A (ja) ウエーハのテスト方法
JPH084102B2 (ja) 半導体検査装置
KR0127639B1 (ko) 프로우빙 시험 방법 및 그 장치
JP2539055B2 (ja) 集積回路試験装置
TW562929B (en) Wafer level board/card assembly method and equipment thereof
JP3107798B2 (ja) 半導体デバイスの検査装置
CN114152858A (zh) 切割道器件的电性测试装置及测试方法
CN116540051A (zh) Uis测试装置及其使用方法
JPS58169924A (ja) Icウエハの試験装置
JPS60110132A (ja) 半導体集積回路ウェハ
JPH01239947A (ja) 半導体ウエハの検査方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061020

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090904

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090915

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100406