JP2001142063A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶注入口付近の見栄えを低下させずに液晶注
入時間を短縮する。 【解決手段】液晶表示装置は一対の基板１１０，１２０
と、これら基板１１０，１２０間に挟持された液晶ＬＱ
と、表示領域４０の外周部に配置された遮光領域４１
と、遮光領域４１よりさらに外周に配置され液晶の注入
口３２を除いて形成された外縁シール部材と、注入口３
２に形成された注入口シール部材３３とを有する。特
に、この液晶表示装置において、注入口３２付近の遮光
領域４１は所定厚の樹脂からなる遮光パターンＳＰと、
所定厚より薄い色フィルタ２４とが平面的に見て混在し
ている。
入時間を短縮する。 【解決手段】液晶表示装置は一対の基板１１０，１２０
と、これら基板１１０，１２０間に挟持された液晶ＬＱ
と、表示領域４０の外周部に配置された遮光領域４１
と、遮光領域４１よりさらに外周に配置され液晶の注入
口３２を除いて形成された外縁シール部材と、注入口３
２に形成された注入口シール部材３３とを有する。特
に、この液晶表示装置において、注入口３２付近の遮光
領域４１は所定厚の樹脂からなる遮光パターンＳＰと、
所定厚より薄い色フィルタ２４とが平面的に見て混在し
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の液晶
注入口付近の遮光構造の改善に関する。
注入口付近の遮光構造の改善に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的なカラー液晶表示装置は、複数の
画素電極がマトリクス状に配置されたアレイ基板、この
アレイ基板に対向する対向基板、並びにアレイ基板およ
び対向基板間に挟持される液晶セルを備える。液晶セル
は、液晶注入口を残して形成される外縁シール部材でア
レイ基板および対向基板の外縁を接着し、この液晶注入
口から液晶収容空間に液晶材料を注入し、液晶充填後に
液晶注入口を注入口シール部材で封止することにより得
られる。例えばアレイ基板はさらに基板面を全体的に覆
い複数の画素電極にそれぞれ割当てられた色成分の光を
透過させる色フィルタ、表示領域を取囲む遮光領域に形
成される遮光パターン、およびアレイ基板および対向基
板間に液晶収容空間を設けるためにこの色フィルタ上に
形成される複数のスペーサを持つ。すなわち、アレイ基
板および対向基板はこれらスペーサの高さだけ互いに離
される。
画素電極がマトリクス状に配置されたアレイ基板、この
アレイ基板に対向する対向基板、並びにアレイ基板およ
び対向基板間に挟持される液晶セルを備える。液晶セル
は、液晶注入口を残して形成される外縁シール部材でア
レイ基板および対向基板の外縁を接着し、この液晶注入
口から液晶収容空間に液晶材料を注入し、液晶充填後に
液晶注入口を注入口シール部材で封止することにより得
られる。例えばアレイ基板はさらに基板面を全体的に覆
い複数の画素電極にそれぞれ割当てられた色成分の光を
透過させる色フィルタ、表示領域を取囲む遮光領域に形
成される遮光パターン、およびアレイ基板および対向基
板間に液晶収容空間を設けるためにこの色フィルタ上に
形成される複数のスペーサを持つ。すなわち、アレイ基
板および対向基板はこれらスペーサの高さだけ互いに離
される。
【０００３】ところで、遮光パターンは遮光領域を透過
する光を遮るためにＣｒ，ＭｏＷ等の金属膜や樹脂のよ
うな材料を用いて形成される。特に樹脂は色フィルタま
たはスペーサ材料としても使用できる。この場合、色フ
ィルタは緑色、青色、および赤色にそれぞれ着色した樹
脂の着色層から形成され、遮光パターンおよびスペーサ
はいずれも黒色に着色した樹脂の着色層から形成され
る。遮光パターンおよびスペーサについては、色フィル
タに重ねた黒の着色層をフォトリソグラフィ法を用いた
共通のパターニング処理で同時に形成可能である。
する光を遮るためにＣｒ，ＭｏＷ等の金属膜や樹脂のよ
うな材料を用いて形成される。特に樹脂は色フィルタま
たはスペーサ材料としても使用できる。この場合、色フ
ィルタは緑色、青色、および赤色にそれぞれ着色した樹
脂の着色層から形成され、遮光パターンおよびスペーサ
はいずれも黒色に着色した樹脂の着色層から形成され
る。遮光パターンおよびスペーサについては、色フィル
タに重ねた黒の着色層をフォトリソグラフィ法を用いた
共通のパターニング処理で同時に形成可能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように遮
光パターンが形成される場合、アレイ基板および対向基
板間の実質的な間隔が遮光パターンの厚さのために狭め
られ、液晶材料を注入しにくくする。従って、短時間で
液晶材料の注入を完了できないという問題がある。ま
た、液晶注入口付近において色フィルタの着色層を黒色
に近い青色で構成しこれを遮光パターンの代用とするこ
とも考えられる。しかし、この方策は、液晶材料を注入
し易くすることが可能であるが、複数の画素電極に対応
する表示領域の外側で部分的に青色光が観察されるとい
う見栄えの低下を招く。
光パターンが形成される場合、アレイ基板および対向基
板間の実質的な間隔が遮光パターンの厚さのために狭め
られ、液晶材料を注入しにくくする。従って、短時間で
液晶材料の注入を完了できないという問題がある。ま
た、液晶注入口付近において色フィルタの着色層を黒色
に近い青色で構成しこれを遮光パターンの代用とするこ
とも考えられる。しかし、この方策は、液晶材料を注入
し易くすることが可能であるが、複数の画素電極に対応
する表示領域の外側で部分的に青色光が観察されるとい
う見栄えの低下を招く。
【０００５】本発明の目的は、上述した問題点に鑑み、
液晶注入口付近の見栄えを低下させることなく液晶注入
時間を短縮することができる液晶表示装置を提供するこ
とにある。
液晶注入口付近の見栄えを低下させることなく液晶注入
時間を短縮することができる液晶表示装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、一対
の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶と、表示
領域の外周に配置された遮光領域と、前記遮光領域より
さらに外周に配置され液晶の注入口を除いて形成された
外縁シール部材と、を有する液晶表示装置において、前
記注入口付近の前記遮光領域は、所定厚の樹脂からなる
遮光パターンと、所定厚より薄い色フィルタとが平面的
に見て混在していることを特徴とする液晶表示装置が提
供される。
の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶と、表示
領域の外周に配置された遮光領域と、前記遮光領域より
さらに外周に配置され液晶の注入口を除いて形成された
外縁シール部材と、を有する液晶表示装置において、前
記注入口付近の前記遮光領域は、所定厚の樹脂からなる
遮光パターンと、所定厚より薄い色フィルタとが平面的
に見て混在していることを特徴とする液晶表示装置が提
供される。
【０００７】この液晶表示装置では、色フィルタおよび
遮光パターンが注入口付近の遮光領域で平面的に混在す
るよう配置されるため、遮光領域が遮光パターンだけで
覆われる場合よりも液晶注入路を拡大することができ
る。逆に色フィルタの色が全体的に露出することがない
ため、この遮光領域で色フィルタの色を目立たせなくす
ることができる。したがって、液晶注入口付近の見栄え
を低下させることなく液晶注入時間を短縮することがで
きる。
遮光パターンが注入口付近の遮光領域で平面的に混在す
るよう配置されるため、遮光領域が遮光パターンだけで
覆われる場合よりも液晶注入路を拡大することができ
る。逆に色フィルタの色が全体的に露出することがない
ため、この遮光領域で色フィルタの色を目立たせなくす
ることができる。したがって、液晶注入口付近の見栄え
を低下させることなく液晶注入時間を短縮することがで
きる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、この発明の液晶表示装置の
第１の実施の形態について図面を参照して説明する。
第１の実施の形態について図面を参照して説明する。
【０００９】図１の（ａ）に示すように、液晶表示装置
は、複数の画素電極３０がマトリクス状に配置されたア
レイ基板１１０、このアレイ基板１１０に対向配置され
た対向基板１２０、およびこれらアレイ基板１１０と対
向基板１２０との間に挟持される液晶セル７０を備えて
いる。
は、複数の画素電極３０がマトリクス状に配置されたア
レイ基板１１０、このアレイ基板１１０に対向配置され
た対向基板１２０、およびこれらアレイ基板１１０と対
向基板１２０との間に挟持される液晶セル７０を備えて
いる。
【００１０】アレイ基板１１０は、透明基板１１、この
透明基板１１上に複数の画素電極３０にそれぞれ対応し
て形成されるスイッチング素子１４、これら画素電極３
０およびスイッチング素子１４を含む表示領域４０を覆
って形成されるカラーフィルタ層２４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）、
これら画素電極３０およびスイッチング素子１４が配置
された表示領域４０を取囲み、透明基板１１の遮光領域
４１を覆うように形成される遮光パターンＳＰ、カラー
フィルタ２４上に形成される複数の柱状スペーサ３１、
および複数の画素電極３０全体を覆って形成される配向
膜１３Ａを有している。
透明基板１１上に複数の画素電極３０にそれぞれ対応し
て形成されるスイッチング素子１４、これら画素電極３
０およびスイッチング素子１４を含む表示領域４０を覆
って形成されるカラーフィルタ層２４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）、
これら画素電極３０およびスイッチング素子１４が配置
された表示領域４０を取囲み、透明基板１１の遮光領域
４１を覆うように形成される遮光パターンＳＰ、カラー
フィルタ２４上に形成される複数の柱状スペーサ３１、
および複数の画素電極３０全体を覆って形成される配向
膜１３Ａを有している。
【００１１】カラーフィルタ２４は、約３．０μｍの厚
さを有し、緑色、青色、および赤色にそれぞれ着色さ
れ、画素電極３０の列に対応してストライプ状に並び、
緑色、青色、および赤色という色成分の光をそれぞれ透
過させる３色のカラーフィルタ層２４Ｇ，２４Ｂ，２４
Ｒで構成されている。
さを有し、緑色、青色、および赤色にそれぞれ着色さ
れ、画素電極３０の列に対応してストライプ状に並び、
緑色、青色、および赤色という色成分の光をそれぞれ透
過させる３色のカラーフィルタ層２４Ｇ，２４Ｂ，２４
Ｒで構成されている。
【００１２】画素電極３０は、これらに割当てられるカ
ラーフィルタ層２４Ｇ，２４Ｂ，２４Ｒ上にそれぞれ形
成されるＩＴＯ（インジウム・すず酸化物）等の透明電
極であり、これらカラーフィルタ層２４を貫通するスル
ーホール２６を介してスイッチング素子１４にそれぞれ
接続されている。
ラーフィルタ層２４Ｇ，２４Ｂ，２４Ｒ上にそれぞれ形
成されるＩＴＯ（インジウム・すず酸化物）等の透明電
極であり、これらカラーフィルタ層２４を貫通するスル
ーホール２６を介してスイッチング素子１４にそれぞれ
接続されている。
【００１３】各スイッチング素子１４は、画素電極３０
の行に沿って形成される走査線および画素電極３０の列
に沿って形成される信号線に接続され、走査線からの駆
動電圧により導通し、信号電圧を画素電極に印加する。
の行に沿って形成される走査線および画素電極３０の列
に沿って形成される信号線に接続され、走査線からの駆
動電圧により導通し、信号電圧を画素電極に印加する。
【００１４】図１の（ｂ）に、より詳細な構造を示すよ
うに、アレイ基板１１０は、画素電極３０の行に沿って
形成された走査線Ｙ、画素電極３０の列に沿って形成さ
れた信号線Ｘ、画素電極３０に対応して走査線Ｙおよび
信号線Ｘの交差位置近傍に非線形スイッチング素子とし
て配置された薄膜トランジスタすなわちＴＦＴ１４を有
している。
うに、アレイ基板１１０は、画素電極３０の行に沿って
形成された走査線Ｙ、画素電極３０の列に沿って形成さ
れた信号線Ｘ、画素電極３０に対応して走査線Ｙおよび
信号線Ｘの交差位置近傍に非線形スイッチング素子とし
て配置された薄膜トランジスタすなわちＴＦＴ１４を有
している。
【００１５】さらに、アレイ基板１１０は、画素電極３
０と対向電極２２との間の液晶層７０によって形成され
た液晶容量ＣＬと電気的に並列な補助容量ＣＳを形成す
るための複数の補助容量素子、すなわち一対の電極を備
えている。すなわち、補助容量ＣＳは、画素電極３０と
同電位の補助容量電極６１と、所定の電位に設定された
補助容量線５２との間の電位差によって形成される。
０と対向電極２２との間の液晶層７０によって形成され
た液晶容量ＣＬと電気的に並列な補助容量ＣＳを形成す
るための複数の補助容量素子、すなわち一対の電極を備
えている。すなわち、補助容量ＣＳは、画素電極３０と
同電位の補助容量電極６１と、所定の電位に設定された
補助容量線５２との間の電位差によって形成される。
【００１６】すなわち、信号線Ｘは、層間絶縁膜７６を
介して、走査線Ｙ及び補助容量線５２に対して直交する
ように配置されている。補助容量線５２は、走査線Ｙと
同一の層に設けられているとともに、走査線Ｙに対して
平行に形成されている。補助容量線５２の一部は、ゲー
ト絶縁膜６２を介して不純物ドープされたポリシリコン
膜によって形成された補助容量電極６１に対向配置され
ている。
介して、走査線Ｙ及び補助容量線５２に対して直交する
ように配置されている。補助容量線５２は、走査線Ｙと
同一の層に設けられているとともに、走査線Ｙに対して
平行に形成されている。補助容量線５２の一部は、ゲー
ト絶縁膜６２を介して不純物ドープされたポリシリコン
膜によって形成された補助容量電極６１に対向配置され
ている。
【００１７】これら信号線Ｘ、走査線Ｙ、及び補助容量
線５２等の配線部は、アルミニウムや、モリブデン−タ
ングステンなどの遮光性を有する低抵抗材料によって形
成されている。この実施の形態では、走査線Ｙ及び補助
容量線５２は、モリブデン−タングステンによって形成
され、信号線Ｘは、主にアルミニウムによって形成され
ている。
線５２等の配線部は、アルミニウムや、モリブデン−タ
ングステンなどの遮光性を有する低抵抗材料によって形
成されている。この実施の形態では、走査線Ｙ及び補助
容量線５２は、モリブデン−タングステンによって形成
され、信号線Ｘは、主にアルミニウムによって形成され
ている。
【００１８】ＴＦＴ１４は、補助容量電極６１と同層の
ポリシリコン膜によって形成された半導体層１１２を有
している。この半導体層１１２は、チャネル領域１１２
Ｃの両側にそれぞれ不純物をドープすることによって形
成されたドレイン領域１１２Ｄ及びソース領域１１２Ｓ
を有している。また、ＴＦＴ１４は、ゲート絶縁膜６２
を介して半導体層１１２に対向して配置された走査線Ｙ
と一体のゲート電極６３とを備えている。
ポリシリコン膜によって形成された半導体層１１２を有
している。この半導体層１１２は、チャネル領域１１２
Ｃの両側にそれぞれ不純物をドープすることによって形
成されたドレイン領域１１２Ｄ及びソース領域１１２Ｓ
を有している。また、ＴＦＴ１４は、ゲート絶縁膜６２
を介して半導体層１１２に対向して配置された走査線Ｙ
と一体のゲート電極６３とを備えている。
【００１９】ＴＦＴ１４のドレイン電極８８は、信号線
Ｘと一体に形成され、ゲート絶縁膜６２及び層間絶縁膜
７６を貫通するコンタクトホール７７を介して半導体層
１１２のドレイン領域１１２Ｄに電気的に接続されるこ
とによって形成される。ＴＦＴ１４のソース電極８９
は、ゲート絶縁膜６２及び層間絶縁膜７６を貫通するコ
ンタクトホール７８を介して半導体層１１２のソース領
域１１２Ｓに電気的に接続されることによって形成され
る。
Ｘと一体に形成され、ゲート絶縁膜６２及び層間絶縁膜
７６を貫通するコンタクトホール７７を介して半導体層
１１２のドレイン領域１１２Ｄに電気的に接続されるこ
とによって形成される。ＴＦＴ１４のソース電極８９
は、ゲート絶縁膜６２及び層間絶縁膜７６を貫通するコ
ンタクトホール７８を介して半導体層１１２のソース領
域１１２Ｓに電気的に接続されることによって形成され
る。
【００２０】アレイ基板１１０の層間絶縁膜７６上に
は、各画素領域ごとに、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
にそれぞれ着色されたカラーフィルタ層２４（Ｒ、Ｇ、
Ｂ）が設けられている。そして、カラーフィルタ層２４
上には、画素電極３０が設けられている。画素電極３０
は、スルーホール２６を介してＴＦＴ１４のソース電極
８９に電気的に接続されている。
は、各画素領域ごとに、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
にそれぞれ着色されたカラーフィルタ層２４（Ｒ、Ｇ、
Ｂ）が設けられている。そして、カラーフィルタ層２４
上には、画素電極３０が設けられている。画素電極３０
は、スルーホール２６を介してＴＦＴ１４のソース電極
８９に電気的に接続されている。
【００２１】補助容量電極６１は、ゲート絶縁膜６２及
び層間絶縁膜７６を貫通するコンタクトホール７９を介
して信号線Ｘと同一材料によって形成されたコンタクト
電極８０に電気的に接続されている。画素電極３０は、
カラーフィルタ層２４を貫通するコンタクトホール８１
を介してコンタクト電極８０に電気的に接続されてい
る。これにより、ＴＦＴ１４のソース電極８９、画素電
極３０、及び補助容量電極６１は、同電位となる。
び層間絶縁膜７６を貫通するコンタクトホール７９を介
して信号線Ｘと同一材料によって形成されたコンタクト
電極８０に電気的に接続されている。画素電極３０は、
カラーフィルタ層２４を貫通するコンタクトホール８１
を介してコンタクト電極８０に電気的に接続されてい
る。これにより、ＴＦＴ１４のソース電極８９、画素電
極３０、及び補助容量電極６１は、同電位となる。
【００２２】図１の（ａ）に示すように、遮光パターン
ＳＰは、遮光領域４１において光を遮るために黒の着色
層で構成されている。また、各柱状スペーサ３１は、ア
レイ基板１１０および対向基板１２０間に液晶収容空間
を設けるために柱状に形成される黒の着色層で構成さ
れ、遮光パターンＳＰと同一の材料によって同一の工程
で形成される。例えば、柱状スペーサ３１及び遮光パタ
ーンＳＰは、顔料を含有する感光性のカーボンレス黒色
樹脂によって形成されている。これにより、遮光パター
ンＳＰおよびスペーサ３１は、約５μｍの厚さを持つ。
ＳＰは、遮光領域４１において光を遮るために黒の着色
層で構成されている。また、各柱状スペーサ３１は、ア
レイ基板１１０および対向基板１２０間に液晶収容空間
を設けるために柱状に形成される黒の着色層で構成さ
れ、遮光パターンＳＰと同一の材料によって同一の工程
で形成される。例えば、柱状スペーサ３１及び遮光パタ
ーンＳＰは、顔料を含有する感光性のカーボンレス黒色
樹脂によって形成されている。これにより、遮光パター
ンＳＰおよびスペーサ３１は、約５μｍの厚さを持つ。
【００２３】柱状スペーサ３１は、表示領域４０内にお
いては、遮光性を有する配線部、例えば、モリブデン−
タングステン合金膜で形成された走査線や補助容量線、
及び、アルミニウムで形成された信号線などに積層され
た各カラーフィルタ層２４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に配置され
ている。また、遮光領域４１内においても、柱状スペー
サ３１は、カラーフィルタ層、例えば青色カラーフィル
タ層２４Ｂ上に配置されている。アレイ基板１１０と対
向基板１２０との間の距離は、概ねカラーフィルタ層２
４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）から突出した柱状スペーサ３１の高さ
によって決定する。
いては、遮光性を有する配線部、例えば、モリブデン−
タングステン合金膜で形成された走査線や補助容量線、
及び、アルミニウムで形成された信号線などに積層され
た各カラーフィルタ層２４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に配置され
ている。また、遮光領域４１内においても、柱状スペー
サ３１は、カラーフィルタ層、例えば青色カラーフィル
タ層２４Ｂ上に配置されている。アレイ基板１１０と対
向基板１２０との間の距離は、概ねカラーフィルタ層２
４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）から突出した柱状スペーサ３１の高さ
によって決定する。
【００２４】配向膜１３Ａは、各画素電極３０に隣接す
る液晶セル７０の液晶分子を第１方向に配向する。
る液晶セル７０の液晶分子を第１方向に配向する。
【００２５】対向基板１２０は、透明基板２１、この透
明基板２１上に形成される対向電極２２、およびこの対
向電極２２を覆う配向膜１３Ｂを有している。
明基板２１上に形成される対向電極２２、およびこの対
向電極２２を覆う配向膜１３Ｂを有している。
【００２６】対向電極２２は、アレイ基板１１０側の画
素電極３０全体に対向するよう配置されるＩＴＯ等の透
明電極である。配向膜１３Ｂは、対向電極２２に隣接す
る液晶セル７０の液晶分子を第１方向に対して例えば９
０度の角度だけずれた第２方向に配向する。
素電極３０全体に対向するよう配置されるＩＴＯ等の透
明電極である。配向膜１３Ｂは、対向電極２２に隣接す
る液晶セル７０の液晶分子を第１方向に対して例えば９
０度の角度だけずれた第２方向に配向する。
【００２７】液晶セル７０は、図２乃至図４に示す液晶
注入口３２（幅約２０ｍｍ）を残すように遮光領域４１
の外周に沿って形成され、アレイ基板１１０および対向
基板１２０の外縁を接着する外縁シール部材２５、液晶
収容空間に液晶注入口３２から注入される液晶材料Ｌ
Ｑ、および液晶材料ＬＱを液晶収容空間に保つために液
晶注入口３２を封止する注入口シール部材３３を含む。
注入口３２（幅約２０ｍｍ）を残すように遮光領域４１
の外周に沿って形成され、アレイ基板１１０および対向
基板１２０の外縁を接着する外縁シール部材２５、液晶
収容空間に液晶注入口３２から注入される液晶材料Ｌ
Ｑ、および液晶材料ＬＱを液晶収容空間に保つために液
晶注入口３２を封止する注入口シール部材３３を含む。
【００２８】なお、図２に示すように、遮光パターンＳ
Ｐは、こうして注入される液晶の液晶注入路（具体的に
は液晶セル７０における液晶注入断面）を拡大するため
に遮光領域４１の液晶注入口３２付近でカラーフィルタ
２４を選択的に露出させるストライプ状に形成される。
Ｐは、こうして注入される液晶の液晶注入路（具体的に
は液晶セル７０における液晶注入断面）を拡大するため
に遮光領域４１の液晶注入口３２付近でカラーフィルタ
２４を選択的に露出させるストライプ状に形成される。
【００２９】次に、上述の液晶表示装置の製造方法につ
いて説明する。
いて説明する。
【００３０】アレイ基板１１０の製造工程では、まず、
厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１上に、成膜とパターニ
ングとを繰り返し、走査線Ｙと、図示しない信号線Ｘ
と、ポリシリコン薄膜の半導体層１１２を有するスイッ
チング素子１４と、を形成する。
厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１上に、成膜とパターニ
ングとを繰り返し、走査線Ｙと、図示しない信号線Ｘ
と、ポリシリコン薄膜の半導体層１１２を有するスイッ
チング素子１４と、を形成する。
【００３１】すなわち、まず、ガラス基板１１上に、Ｃ
ＶＤ法などによりアモルファスシリコン膜すなわちａ−
Ｓｉ膜を成膜する。そして、このアモルファスシリコン
膜をアニールし、脱水素処理を施した後、エキシマレー
ザビームを照射し、ａ−Ｓｉ膜を多結晶化する。その後
に、多結晶化されたシリコン膜すなわちポリシリコン膜
１１２を、フォトエングレイビング法によりパターニン
グして、表示領域における各画素領域にそれぞれ設けら
れるＴＦＴ１４のチャネル層を形成するとともに、補助
容量を形成するための補助容量電極６１を形成する。
ＶＤ法などによりアモルファスシリコン膜すなわちａ−
Ｓｉ膜を成膜する。そして、このアモルファスシリコン
膜をアニールし、脱水素処理を施した後、エキシマレー
ザビームを照射し、ａ−Ｓｉ膜を多結晶化する。その後
に、多結晶化されたシリコン膜すなわちポリシリコン膜
１１２を、フォトエングレイビング法によりパターニン
グして、表示領域における各画素領域にそれぞれ設けら
れるＴＦＴ１４のチャネル層を形成するとともに、補助
容量を形成するための補助容量電極６１を形成する。
【００３２】続いて、ＣＶＤ法により、基板１１の全面
にシリコン酸化膜すなわちＳｉＯｘ膜を成膜して、ゲー
ト絶縁膜６２を形成する。
にシリコン酸化膜すなわちＳｉＯｘ膜を成膜して、ゲー
ト絶縁膜６２を形成する。
【００３３】続いて、ゲート絶縁膜６２上の全面にタン
タル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａ
ｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅
（Ｃｕ）などの単体、または、これらの積層膜、あるい
は、これらの合金膜（この実施の形態では、Ｍｏ−Ｗ合
金膜）を成膜し、フォトエングレイビング法により所定
の形状にパターニングする。これにより、走査線Ｙ、ゲ
ート絶縁膜６２を介して補助容量電極６１に対向する補
助容量線５２、及び、走査線Ｙと一体のＴＦＴ７５のゲ
ート電極６３などの各種配線を形成する。
タル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａ
ｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅
（Ｃｕ）などの単体、または、これらの積層膜、あるい
は、これらの合金膜（この実施の形態では、Ｍｏ−Ｗ合
金膜）を成膜し、フォトエングレイビング法により所定
の形状にパターニングする。これにより、走査線Ｙ、ゲ
ート絶縁膜６２を介して補助容量電極６１に対向する補
助容量線５２、及び、走査線Ｙと一体のＴＦＴ７５のゲ
ート電極６３などの各種配線を形成する。
【００３４】続いて、ゲート電極６３をマスクとして、
イオン注入法やイオンドーピング法によりポリシリコン
膜１１２に不純物を注入する。これにより、ＴＦＴ１４
のドレイン領域１１２Ｄ及びソース領域１１２Ｓなどを
形成する。そして、基板全体をアニールすることにより
不純物を活性化する。
イオン注入法やイオンドーピング法によりポリシリコン
膜１１２に不純物を注入する。これにより、ＴＦＴ１４
のドレイン領域１１２Ｄ及びソース領域１１２Ｓなどを
形成する。そして、基板全体をアニールすることにより
不純物を活性化する。
【００３５】続いて、基板１１の全面に二酸化シリコン
膜すなわちＳｉＯ２を成膜し、層間絶縁膜７６を形成す
る。
膜すなわちＳｉＯ２を成膜し、層間絶縁膜７６を形成す
る。
【００３６】続いて、フォトエングレイビング法によ
り、ゲート絶縁膜６２及び層間絶縁膜７６を貫通してＴ
ＦＴ１４のドレイン領域１１２Ｄに至るコンタクトホー
ル７７及びソース領域１１２Ｓに至るコンタクトホール
７８と、補助容量電極６１に至るコンタクトホール７９
と、を形成する。
り、ゲート絶縁膜６２及び層間絶縁膜７６を貫通してＴ
ＦＴ１４のドレイン領域１１２Ｄに至るコンタクトホー
ル７７及びソース領域１１２Ｓに至るコンタクトホール
７８と、補助容量電極６１に至るコンタクトホール７９
と、を形成する。
【００３７】続いて、Ｔａ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｍｏ，Ｗ，Ｃ
ｕなどの単体、または、これらの積層膜、あるいは、こ
れらの合金膜（この実施の形態では、Ａｌ）を成膜し、
フォトエングレイビング法により所定の形状にパターニ
ングする。
ｕなどの単体、または、これらの積層膜、あるいは、こ
れらの合金膜（この実施の形態では、Ａｌ）を成膜し、
フォトエングレイビング法により所定の形状にパターニ
ングする。
【００３８】これにより、信号線Ｘを形成するととも
に、信号線Ｘと一体にＴＦＴ１４のドレイン電極８８を
形成する。また、同時に、ＴＦＴ１４のソース電極８
９、及び、補助容量電極６１にコンタクトするコンタク
ト電極８０を形成する。
に、信号線Ｘと一体にＴＦＴ１４のドレイン電極８８を
形成する。また、同時に、ＴＦＴ１４のソース電極８
９、及び、補助容量電極６１にコンタクトするコンタク
ト電極８０を形成する。
【００３９】続いて、スピンナーにより、赤色の顔料を
分散させた紫外線硬化性アクリル樹脂レジストを基板全
面に塗布する。そして、このレジスト膜を約９０℃で約
５分間プリベークし、赤色画素に対応した部分に光が照
射されるようなフォトマスクを介して３６５ｎｍの波長
で１５０ｍＪ／ｃｍ２照射する。このフォトマスクは、
緑のカラーフィルタ層２４Ｇを形成するためのストライ
プパターン及びスルーホール２６を形成するための直径
１５μｍの円形パターンを有している。そして、このレ
ジスト膜を所定の現像液によって約６０秒間現像し、さ
らに水洗い後、約２００℃で１時間ほどポストベークす
る。そして、赤色のカラーフィルタ層２４Ｒとともにス
ルーホール２６を形成する。
分散させた紫外線硬化性アクリル樹脂レジストを基板全
面に塗布する。そして、このレジスト膜を約９０℃で約
５分間プリベークし、赤色画素に対応した部分に光が照
射されるようなフォトマスクを介して３６５ｎｍの波長
で１５０ｍＪ／ｃｍ２照射する。このフォトマスクは、
緑のカラーフィルタ層２４Ｇを形成するためのストライ
プパターン及びスルーホール２６を形成するための直径
１５μｍの円形パターンを有している。そして、このレ
ジスト膜を所定の現像液によって約６０秒間現像し、さ
らに水洗い後、約２００℃で１時間ほどポストベークす
る。そして、赤色のカラーフィルタ層２４Ｒとともにス
ルーホール２６を形成する。
【００４０】続いて、同様の工程を繰り返すことによ
り、緑色のカラーフィルタ層２４Ｇ、青色のカラーフィ
ルタ層２４Ｂを形成し、それぞれ約２００℃で１時間ほ
どポストベークする。ここで、青のカラーフィルタ層２
４Ｂは、液晶注入口３２となる領域にストライプ状に残
すようにパターニングされる。このときのカラーフィル
タ層２４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の膜厚は、それぞれ約３μｍで
ある。
り、緑色のカラーフィルタ層２４Ｇ、青色のカラーフィ
ルタ層２４Ｂを形成し、それぞれ約２００℃で１時間ほ
どポストベークする。ここで、青のカラーフィルタ層２
４Ｂは、液晶注入口３２となる領域にストライプ状に残
すようにパターニングされる。このときのカラーフィル
タ層２４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の膜厚は、それぞれ約３μｍで
ある。
【００４１】このカラーフィルタ層２４の形成工程で
は、スイッチング素子１４と画素電極３０とをコンタク
トするスルーホール２６も同時に形成する。また、画素
電極３０とコンタクト電極８０とをコンタクトするコン
タクトホール８１も同時に形成する。
は、スイッチング素子１４と画素電極３０とをコンタク
トするスルーホール２６も同時に形成する。また、画素
電極３０とコンタクト電極８０とをコンタクトするコン
タクトホール８１も同時に形成する。
【００４２】続いて、スパッタリング法により、カラー
フィルタ層２４上にＩＴＯを成膜し、所定の画素パター
ンにパターニングすることにより、スイッチング素子１
４にコンタクトした画素電極３０を形成する。
フィルタ層２４上にＩＴＯを成膜し、所定の画素パター
ンにパターニングすることにより、スイッチング素子１
４にコンタクトした画素電極３０を形成する。
【００４３】続いて、スピンナーにより、この基板表面
に、０．０５乃至０．２μｍの粒径の顔料粒子を含有す
る感光性のカーボンレス黒色樹脂を約６μｍの厚さに塗
布する。
に、０．０５乃至０．２μｍの粒径の顔料粒子を含有す
る感光性のカーボンレス黒色樹脂を約６μｍの厚さに塗
布する。
【００４４】そして、９０℃で１０分間乾燥した後、こ
の黒色樹脂がカラーフィルタ層２４上、画素電極３０
上、及び液晶注入口３２付近においてストライプ状に形
成されたカラーフィルタ層２４Ｂの間に残るようにパタ
ーニングする。すなわち、この黒色樹脂を、所定のパタ
ーン形状フォトマスクを用いて、３６５ｎｍの波長で、
５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、ｐＨ
１１．５のアルカリ水溶液により現像することによっ
て、柱形状を形成する。
の黒色樹脂がカラーフィルタ層２４上、画素電極３０
上、及び液晶注入口３２付近においてストライプ状に形
成されたカラーフィルタ層２４Ｂの間に残るようにパタ
ーニングする。すなわち、この黒色樹脂を、所定のパタ
ーン形状フォトマスクを用いて、３６５ｎｍの波長で、
５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、ｐＨ
１１．５のアルカリ水溶液により現像することによっ
て、柱形状を形成する。
【００４５】そして、昇温速度２００℃／ｍｉｎで２２
０℃に昇温することで、柱を高温処理する。すなわち、
柱をメルトさせ、さらにこの温度を６０分間維持するこ
とによって完全に硬化させる。柱を硬化させる際に、例
えば、昇温速度を制御することにより、柱のメルト性を
制御することが可能となる。
０℃に昇温することで、柱を高温処理する。すなわち、
柱をメルトさせ、さらにこの温度を６０分間維持するこ
とによって完全に硬化させる。柱を硬化させる際に、例
えば、昇温速度を制御することにより、柱のメルト性を
制御することが可能となる。
【００４６】これにより、画素電極３０上を避けてカラ
ーフィルタ層２４上の所定位置に、約５μｍの高さの遮
光性の柱状スペーサ３１を形成する。また、表示領域４
０の外側となる遮光領域４１を枠状に覆い、液晶注入口
３２付近でカラーフィルタ層２４Ｂを露出するよう、約
５μｍの遮光パターンＳＰを形成する。
ーフィルタ層２４上の所定位置に、約５μｍの高さの遮
光性の柱状スペーサ３１を形成する。また、表示領域４
０の外側となる遮光領域４１を枠状に覆い、液晶注入口
３２付近でカラーフィルタ層２４Ｂを露出するよう、約
５μｍの遮光パターンＳＰを形成する。
【００４７】具体的には、カラーフィルタ層２４Ｂは、
遮光パターンＳＰをカラーフィルタ層２４Ｂの間にスト
ライプ状に形成することにより露出される。ここで、遮
光パターンＳＰのストライプは、図２に示すように、液
晶材料ＬＱの注入を妨げにくい向きに設定される。これ
により、黒および青の２色ストライプが液晶注入口３２
付近に得られる。
遮光パターンＳＰをカラーフィルタ層２４Ｂの間にスト
ライプ状に形成することにより露出される。ここで、遮
光パターンＳＰのストライプは、図２に示すように、液
晶材料ＬＱの注入を妨げにくい向きに設定される。これ
により、黒および青の２色ストライプが液晶注入口３２
付近に得られる。
【００４８】続いて、基板全面に、配向膜材料を５００
オングストロームの膜厚で塗布し、焼成した後、ラビン
グ処理を行い、配向膜１３Ａを形成する。
オングストロームの膜厚で塗布し、焼成した後、ラビン
グ処理を行い、配向膜１３Ａを形成する。
【００４９】これにより、アレイ基板１１０が完成す
る。
る。
【００５０】一方、対向基板１２０の製造工程では、ま
ず、厚さ０．７ｍｍのガラス基板２１上に、スパッタ法
により、ＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積し、パター
ニングすることによって対向電極２２を形成する。そし
て、対向電極２２を覆って透明基板２１の全面に配向膜
材料を塗布し、焼成後、配向処理を施すことにより、配
向膜１３Ｂを形成する。
ず、厚さ０．７ｍｍのガラス基板２１上に、スパッタ法
により、ＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積し、パター
ニングすることによって対向電極２２を形成する。そし
て、対向電極２２を覆って透明基板２１の全面に配向膜
材料を塗布し、焼成後、配向処理を施すことにより、配
向膜１３Ｂを形成する。
【００５１】これにより、対向基板１２０が完成する。
【００５２】液晶セル７０の製造工程では、外縁シール
部材２５を液晶注入口３２を残して液晶収容空間を囲む
ようアレイ基板１２０の外縁に塗布し、アレイ基板１１
０の外縁とこのアレイ基板１１０に貼り合される対向基
板１２０の外縁とを接着する。外縁シール部材２５は、
例えば熱硬化型エポキシ系接着剤である。
部材２５を液晶注入口３２を残して液晶収容空間を囲む
ようアレイ基板１２０の外縁に塗布し、アレイ基板１１
０の外縁とこのアレイ基板１１０に貼り合される対向基
板１２０の外縁とを接着する。外縁シール部材２５は、
例えば熱硬化型エポキシ系接着剤である。
【００５３】続いて、液晶材料ＬＱを真空状態で液晶注
入口３２から液晶収容空間に注入し、さらに液晶注入口
３２を紫外線硬化樹脂である注入口シール部材３３によ
り封止する。液晶材料ＬＱは、カイラル材が添加された
ネマティック液晶で構成される。
入口３２から液晶収容空間に注入し、さらに液晶注入口
３２を紫外線硬化樹脂である注入口シール部材３３によ
り封止する。液晶材料ＬＱは、カイラル材が添加された
ネマティック液晶で構成される。
【００５４】こうして液晶セル７０が完成すると、２枚
の偏光板ＰＬ１，ＰＬ２が液晶セル７０に対して反対側
においてアレイ基板１１０および対向基板１２０に貼付
けられる。
の偏光板ＰＬ１，ＰＬ２が液晶セル７０に対して反対側
においてアレイ基板１１０および対向基板１２０に貼付
けられる。
【００５５】以上のような製造方法によって液晶表示装
置が形成される。
置が形成される。
【００５６】この液晶表示装置によれば、遮光パターン
ＳＰが注入口付近でストライプ状になっていない場合に
必要とされた２７０分の液晶注入時間が１２０分に短縮
された。また、液晶注入口３２付近において遮光パター
ンＳＰを完全に除去し全体的に青のカラーフィルタ層２
４Ｂのみとした場合よりも、このカラーフィルタ層２４
Ｂを選択的に露出して黒と青の２色ストライプとした方
が見栄えが改善された。
ＳＰが注入口付近でストライプ状になっていない場合に
必要とされた２７０分の液晶注入時間が１２０分に短縮
された。また、液晶注入口３２付近において遮光パター
ンＳＰを完全に除去し全体的に青のカラーフィルタ層２
４Ｂのみとした場合よりも、このカラーフィルタ層２４
Ｂを選択的に露出して黒と青の２色ストライプとした方
が見栄えが改善された。
【００５７】なお、この発明は、上述した実施の形態に
限定されず様々に変形可能である。例えば遮光パターン
ＳＰについては、同様な効果を得るために様々なストラ
イプ、グラデーション、モザイクを組み合わせ、さらに
それらのピッチおよび向きを変更して任意の形状にする
ことが可能である。
限定されず様々に変形可能である。例えば遮光パターン
ＳＰについては、同様な効果を得るために様々なストラ
イプ、グラデーション、モザイクを組み合わせ、さらに
それらのピッチおよび向きを変更して任意の形状にする
ことが可能である。
【００５８】図２に示す遮光パターンＳＰでは、ストラ
イプ幅および間隔が２００μｍに設定されたが、例えば
１００μｍ、５０μｍのように任意に変更可能である。
イプ幅および間隔が２００μｍに設定されたが、例えば
１００μｍ、５０μｍのように任意に変更可能である。
【００５９】また、図５および図６に示すように、液晶
注入方向と略平行なストライプ配置にグラデーションを
持たせて遮光パターンＳＰを形成してもよい。この場合
にも、上述の実施の形態と同様に約１２０分で液晶の注
入を完了できた。さらに、このグラデーションにより、
図２に示す遮光パターンＳＰよりも青色を目立たなくし
てさらに見栄えを改善できた。
注入方向と略平行なストライプ配置にグラデーションを
持たせて遮光パターンＳＰを形成してもよい。この場合
にも、上述の実施の形態と同様に約１２０分で液晶の注
入を完了できた。さらに、このグラデーションにより、
図２に示す遮光パターンＳＰよりも青色を目立たなくし
てさらに見栄えを改善できた。
【００６０】さらに、図７に示すように、モザイク状に
遮光パターンＳＰを形成してもよい。モザイクサイズ
は、例えば１００μｍ×１００μｍ、あるいは５００μ
ｍ×５００μｍのように任意に設定可能である。この場
合にも、上述の実施の形態と同様に、約１２０分で液晶
の注入を完了できた。さらに、このモザイクパターンに
おいても、青色を目立たなくしてさらに見栄えを改善で
きた。
遮光パターンＳＰを形成してもよい。モザイクサイズ
は、例えば１００μｍ×１００μｍ、あるいは５００μ
ｍ×５００μｍのように任意に設定可能である。この場
合にも、上述の実施の形態と同様に、約１２０分で液晶
の注入を完了できた。さらに、このモザイクパターンに
おいても、青色を目立たなくしてさらに見栄えを改善で
きた。
【００６１】ところで、第１外周配線Ｌ１は、表示領域
４０を囲むように遮光領域４１に配置された保護ダイオ
ードなどの種々の素子を含み、遮光領域４１を遮光する
遮光パターンＳＰ及びカラーフィルタ２４によって覆わ
れている。第２外周配線Ｌ２は、外縁シール部材２５の
外周に配置されている。この第２外周配線は、対向電極
に電気を送るトランスファ用の配線、もしくは、静電気
対策としてのガード配線として機能する。
４０を囲むように遮光領域４１に配置された保護ダイオ
ードなどの種々の素子を含み、遮光領域４１を遮光する
遮光パターンＳＰ及びカラーフィルタ２４によって覆わ
れている。第２外周配線Ｌ２は、外縁シール部材２５の
外周に配置されている。この第２外周配線は、対向電極
に電気を送るトランスファ用の配線、もしくは、静電気
対策としてのガード配線として機能する。
【００６２】このような構成において、図８の（ａ）及
び（ｂ）に示すように、液晶注入口３２付近の遮光領域
４１を遮光パターンＳＰのみで形成した場合、遮光パタ
ーンＳＰの厚さが比較的厚いため、液晶注入口３２の開
口部の断面積が狭く、短時間で液晶注入を完了すること
ができない。
び（ｂ）に示すように、液晶注入口３２付近の遮光領域
４１を遮光パターンＳＰのみで形成した場合、遮光パタ
ーンＳＰの厚さが比較的厚いため、液晶注入口３２の開
口部の断面積が狭く、短時間で液晶注入を完了すること
ができない。
【００６３】また、図９の（ａ）及び（ｂ）に示すよう
に、液晶注入口３２付近の遮光領域４１を青色カラーフ
ィルタ２４Ｂのみで形成した場合、カラーフィルタ２４
Ｂの厚さが遮光パターンＳＰより薄いため、液晶注入口
３２の開口部の断面積を拡大することができ、短時間で
液晶注入を完了することが可能となる。しかしながら、
カバー１３０によって覆われる端部ＣＶより表示領域側
の遮光領域４１においては、青色光が観察され、見栄え
が低下する。
に、液晶注入口３２付近の遮光領域４１を青色カラーフ
ィルタ２４Ｂのみで形成した場合、カラーフィルタ２４
Ｂの厚さが遮光パターンＳＰより薄いため、液晶注入口
３２の開口部の断面積を拡大することができ、短時間で
液晶注入を完了することが可能となる。しかしながら、
カバー１３０によって覆われる端部ＣＶより表示領域側
の遮光領域４１においては、青色光が観察され、見栄え
が低下する。
【００６４】このため、少なくともカバー１３０の端部
ＣＶより表示領域側に位置する遮光領域４１は、上述し
た実施の形態のように、遮光パターンＳＰとカラーフィ
ルタ２４Ｂとによって、様々なストライプ、グラデーシ
ョン、モザイクを組み合わせたパターンを形成すること
により、見栄えを改善しつつ、液晶注入時間を短縮する
ことが可能である。
ＣＶより表示領域側に位置する遮光領域４１は、上述し
た実施の形態のように、遮光パターンＳＰとカラーフィ
ルタ２４Ｂとによって、様々なストライプ、グラデーシ
ョン、モザイクを組み合わせたパターンを形成すること
により、見栄えを改善しつつ、液晶注入時間を短縮する
ことが可能である。
【００６５】次に、図１０の（ａ）及び（ｂ）に示すよ
うに、液晶注入口３２付近の遮光領域４１を遮光パター
ンＳＰと青色カラーフィルタ２４Ｂとで形成した場合に
ついて説明する。遮光パターンＳＰは、遮光領域４１に
おける少なくとも第１外周配線Ｌ１を覆うように配置さ
れ、また、カラーフィルタ２４Ｂは、遮光領域４１にお
ける外周側すなわち第２外周配線Ｌ２側に配置されてい
る。この例では、カラーフィルタ２４Ｂの幅は、遮光領
域の全幅の約６０％である。
うに、液晶注入口３２付近の遮光領域４１を遮光パター
ンＳＰと青色カラーフィルタ２４Ｂとで形成した場合に
ついて説明する。遮光パターンＳＰは、遮光領域４１に
おける少なくとも第１外周配線Ｌ１を覆うように配置さ
れ、また、カラーフィルタ２４Ｂは、遮光領域４１にお
ける外周側すなわち第２外周配線Ｌ２側に配置されてい
る。この例では、カラーフィルタ２４Ｂの幅は、遮光領
域の全幅の約６０％である。
【００６６】このような配置の場合、液晶注入口３２に
配置されたカラーフィルタ２４Ｂの厚さが表示領域側に
配置された遮光パターンＳＰの厚さより薄いため、実質
的に、液晶注入口３２の開口部の断面積を拡大すること
ができ、図９の（ａ）及び（ｂ）に示した例と比較する
と、若干、液晶注入時間が長くなるが、図８の（ａ）及
び（ｂ）に示した例より短時間で液晶注入を完了するこ
とが可能となる。しかしながら、カバー１３０の端部Ｃ
Ｖより表示領域側の遮光領域４１においては、一部のカ
ラーフィルタ２４Ｂが露出する領域２４Ｂ−Ｘにより、
青色光が観察され、見栄えが低下する。
配置されたカラーフィルタ２４Ｂの厚さが表示領域側に
配置された遮光パターンＳＰの厚さより薄いため、実質
的に、液晶注入口３２の開口部の断面積を拡大すること
ができ、図９の（ａ）及び（ｂ）に示した例と比較する
と、若干、液晶注入時間が長くなるが、図８の（ａ）及
び（ｂ）に示した例より短時間で液晶注入を完了するこ
とが可能となる。しかしながら、カバー１３０の端部Ｃ
Ｖより表示領域側の遮光領域４１においては、一部のカ
ラーフィルタ２４Ｂが露出する領域２４Ｂ−Ｘにより、
青色光が観察され、見栄えが低下する。
【００６７】このため、少なくともカバー１３０の端部
ＣＶより表示領域側に位置する領域２４Ｂ−Ｘは、上述
した実施の形態のように、遮光パターンＳＰとカラーフ
ィルタ２４Ｂとによって、様々なストライプ、グラデー
ション、モザイクを組み合わせたパターンを形成するこ
とにより、見栄えを改善しつつ、液晶注入時間を短縮す
ることが可能である。
ＣＶより表示領域側に位置する領域２４Ｂ−Ｘは、上述
した実施の形態のように、遮光パターンＳＰとカラーフ
ィルタ２４Ｂとによって、様々なストライプ、グラデー
ション、モザイクを組み合わせたパターンを形成するこ
とにより、見栄えを改善しつつ、液晶注入時間を短縮す
ることが可能である。
【００６８】次に、図１１の（ａ）及び（ｂ）に示すよ
うに、液晶注入口３２付近の遮光領域４１を遮光パター
ンＳＰと青色カラーフィルタ２４Ｂとで形成した場合に
ついて説明する。遮光パターンＳＰは、遮光領域４１に
おける少なくとも第１外周配線Ｌ１を覆うように配置さ
れ、また、カラーフィルタ２４Ｂは、遮光領域４１にお
ける外周側すなわち第２外周配線Ｌ２側に配置されてい
る。この例では、カラーフィルタ２４Ｂの幅は、遮光領
域の全幅の約３０％である。
うに、液晶注入口３２付近の遮光領域４１を遮光パター
ンＳＰと青色カラーフィルタ２４Ｂとで形成した場合に
ついて説明する。遮光パターンＳＰは、遮光領域４１に
おける少なくとも第１外周配線Ｌ１を覆うように配置さ
れ、また、カラーフィルタ２４Ｂは、遮光領域４１にお
ける外周側すなわち第２外周配線Ｌ２側に配置されてい
る。この例では、カラーフィルタ２４Ｂの幅は、遮光領
域の全幅の約３０％である。
【００６９】このような配置の場合、液晶注入口３２に
配置されたカラーフィルタ２４Ｂの厚さが表示領域側に
配置された遮光パターンＳＰの厚さより薄いため、実質
的に、液晶注入口３２の開口部の断面積を拡大すること
ができ、図１０の（ａ）及び（ｂ）に示した例と比較す
ると、若干、液晶注入時間が長くなるが、図８の（ａ）
及び（ｂ）に示した例より短時間で液晶注入を完了する
ことが可能となる。また、カバー１３０の端部ＣＶより
表示領域側の遮光領域４１においては、遮光パターンＳ
Ｐによって遮光されているため、見栄えの低下を防止す
ることが可能となる。
配置されたカラーフィルタ２４Ｂの厚さが表示領域側に
配置された遮光パターンＳＰの厚さより薄いため、実質
的に、液晶注入口３２の開口部の断面積を拡大すること
ができ、図１０の（ａ）及び（ｂ）に示した例と比較す
ると、若干、液晶注入時間が長くなるが、図８の（ａ）
及び（ｂ）に示した例より短時間で液晶注入を完了する
ことが可能となる。また、カバー１３０の端部ＣＶより
表示領域側の遮光領域４１においては、遮光パターンＳ
Ｐによって遮光されているため、見栄えの低下を防止す
ることが可能となる。
【００７０】以上説明した実施の形態では、遮光パター
ンＳＰは、柱状スペーサ３１と同一の工程でパターニン
グされ、また、青色カラーフィルタ２４Ｂは、表示領域
４０内のカラーフィルタと同一の工程でパターニングさ
れるため、製造工程数を増やすことなく、液晶注入時間
を短縮することができるとともに、液晶注入口付近の見
栄えを改善することが可能となる。
ンＳＰは、柱状スペーサ３１と同一の工程でパターニン
グされ、また、青色カラーフィルタ２４Ｂは、表示領域
４０内のカラーフィルタと同一の工程でパターニングさ
れるため、製造工程数を増やすことなく、液晶注入時間
を短縮することができるとともに、液晶注入口付近の見
栄えを改善することが可能となる。
【００７１】次に、この発明の第２の実施の形態に係る
液晶表示装置について説明する。なお、液晶注入口付近
の構造以外は、上述した第１の実施の形態と同一の構成
であるため、詳細な説明は省略する。
液晶表示装置について説明する。なお、液晶注入口付近
の構造以外は、上述した第１の実施の形態と同一の構成
であるため、詳細な説明は省略する。
【００７２】上述した実施の形態では、液晶注入口３２
付近を、遮光パターンＳＰとカラーフィルタ２４とを用
いて遮光したが、第１外周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ
２を構成する遮光性の金属膜によって遮光しても良い。
付近を、遮光パターンＳＰとカラーフィルタ２４とを用
いて遮光したが、第１外周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ
２を構成する遮光性の金属膜によって遮光しても良い。
【００７３】すなわち、これらの外周配線Ｌ１及びＬ２
は、それぞれ第１金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２と、第２金
属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２とによって形成されている。第
１金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２は、走査線Ｙ及び補助容量
線５２と同一の材料で同一の工程でパターニングされ、
第２金属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２は、信号線Ｘと同一の材
料で同一の工程でパターニングされる。ここでは、第１
金属膜は、例えばモリブデン−タングステン合金膜であ
り、第２金属膜は、アルミニウムである。
は、それぞれ第１金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２と、第２金
属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２とによって形成されている。第
１金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２は、走査線Ｙ及び補助容量
線５２と同一の材料で同一の工程でパターニングされ、
第２金属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２は、信号線Ｘと同一の材
料で同一の工程でパターニングされる。ここでは、第１
金属膜は、例えばモリブデン−タングステン合金膜であ
り、第２金属膜は、アルミニウムである。
【００７４】第２の実施の形態に係る液晶表示装置で
は、図１２の（ａ）に示すように、まず、第１金属膜Ｍ
１を成膜した後にパターニングして、第１外周配線Ｌ１
及び第２外周配線Ｌ２のそれぞれに対応するように所定
の距離をおいて、金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２を形成す
る。ここで、第１金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２は、静電気
が飛ばない十分な距離、例えば１５００μｍ以上の距離
をおいて配置される。
は、図１２の（ａ）に示すように、まず、第１金属膜Ｍ
１を成膜した後にパターニングして、第１外周配線Ｌ１
及び第２外周配線Ｌ２のそれぞれに対応するように所定
の距離をおいて、金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２を形成す
る。ここで、第１金属膜Ｍ１−１、Ｍ１−２は、静電気
が飛ばない十分な距離、例えば１５００μｍ以上の距離
をおいて配置される。
【００７５】続いて、図１２の（ｂ）に示すように、第
２金属膜Ｍ２を成膜した後にパターニングして、第１外
周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ２のそれぞれに対応する
ように所定の距離をおいて、金属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２
を形成する。これにより、第１外周配線Ｌ１として、保
護ダイオードを含む種々の素子を含む配線が形成され
る。また、第２外周配線Ｌ２は、電気的に導通した第１
金属膜Ｍ１−２及び第２金属膜Ｍ２−２によって形成さ
れる。この第２金属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２は、第１金属
膜Ｍ１−１、Ｍ１−２のパターニング時より短い間隔で
配置されるが、第１外周配線Ｌ１に含まれる保護ダイオ
ードにより、静電気が生じても、他の素子に影響を与え
ることがない。
２金属膜Ｍ２を成膜した後にパターニングして、第１外
周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ２のそれぞれに対応する
ように所定の距離をおいて、金属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２
を形成する。これにより、第１外周配線Ｌ１として、保
護ダイオードを含む種々の素子を含む配線が形成され
る。また、第２外周配線Ｌ２は、電気的に導通した第１
金属膜Ｍ１−２及び第２金属膜Ｍ２−２によって形成さ
れる。この第２金属膜Ｍ２−１、Ｍ２−２は、第１金属
膜Ｍ１−１、Ｍ１−２のパターニング時より短い間隔で
配置されるが、第１外周配線Ｌ１に含まれる保護ダイオ
ードにより、静電気が生じても、他の素子に影響を与え
ることがない。
【００７６】続いて、図１２の（ｃ）に示すように、少
なくとも第１外周配線Ｌ１と第２外周配線Ｌ２との間の
領域４１−Ｘ、及び画素領域側の遮光領域４１を覆うよ
うに、少なくとも遮光パターンＳＰを配置する。また、
遮光領域４１の外周に沿って、外縁シール部材２５を設
け、液晶注入口３２を規定する。なお、液晶注入口３２
付近の遮光領域４１は、遮光パターンＳＰのみではな
く、上述したような遮光パターンＳＰとカラーフィルタ
とを組み合わせることにより、様々なストライプ、グラ
デーション、モザイクを組み合わせたパターンを形成
し、見栄えを改善しつつ、液晶注入時間を短縮すること
が可能である。
なくとも第１外周配線Ｌ１と第２外周配線Ｌ２との間の
領域４１−Ｘ、及び画素領域側の遮光領域４１を覆うよ
うに、少なくとも遮光パターンＳＰを配置する。また、
遮光領域４１の外周に沿って、外縁シール部材２５を設
け、液晶注入口３２を規定する。なお、液晶注入口３２
付近の遮光領域４１は、遮光パターンＳＰのみではな
く、上述したような遮光パターンＳＰとカラーフィルタ
とを組み合わせることにより、様々なストライプ、グラ
デーション、モザイクを組み合わせたパターンを形成
し、見栄えを改善しつつ、液晶注入時間を短縮すること
が可能である。
【００７７】上述したような実施の形態によれば、製造
工程数を増やすことなく、配線部を形成する金属膜を利
用して、外周配線を幅広な構造とすることで、遮光領域
を遮光することが可能となる。
工程数を増やすことなく、配線部を形成する金属膜を利
用して、外周配線を幅広な構造とすることで、遮光領域
を遮光することが可能となる。
【００７８】次に、この発明の第２の実施の形態に係る
液晶表示装置の変形例について説明する。
液晶表示装置の変形例について説明する。
【００７９】すなわち、図１３の（ａ）及び（ｂ）に示
すように、まず、第１金属膜Ｍ１を成膜した後にパター
ニングして、第１外周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ２の
それぞれに対応するように所定の距離をおいて、金属膜
Ｍ１−１、Ｍ１−２を形成する。さらに、同時に、液晶
注入口３２付近の第１金属膜Ｍ１を、第１外周配線Ｌ１
と第２外周配線Ｌ２との間の領域において、液晶注入方
向に直交する方向、すなわち外周配線と平行な方向にス
トライプ状にパターニングし、金属膜Ｍ１−３を形成す
る。図１３の（ｂ）に示すように、金属膜Ｍ１−３は、
幅が約１０μｍであり、列方向の長さが約１９０μｍで
ある。また、金属膜Ｍ１−３は、列方向に約１０μｍの
間隔をおいて配置され、また、行方向に約１９０μｍの
間隔をおいて配置される。
すように、まず、第１金属膜Ｍ１を成膜した後にパター
ニングして、第１外周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ２の
それぞれに対応するように所定の距離をおいて、金属膜
Ｍ１−１、Ｍ１−２を形成する。さらに、同時に、液晶
注入口３２付近の第１金属膜Ｍ１を、第１外周配線Ｌ１
と第２外周配線Ｌ２との間の領域において、液晶注入方
向に直交する方向、すなわち外周配線と平行な方向にス
トライプ状にパターニングし、金属膜Ｍ１−３を形成す
る。図１３の（ｂ）に示すように、金属膜Ｍ１−３は、
幅が約１０μｍであり、列方向の長さが約１９０μｍで
ある。また、金属膜Ｍ１−３は、列方向に約１０μｍの
間隔をおいて配置され、また、行方向に約１９０μｍの
間隔をおいて配置される。
【００８０】続いて、図１４の（ａ）及び（ｂ）に示す
ように、第２金属膜Ｍ２を成膜した後にパターニングし
て、第１外周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ２のそれぞれ
に対応するように所定の距離をおいて、金属膜Ｍ２−
１、Ｍ２−２を形成する。さらに、同時に、液晶注入口
３２付近の第２金属膜Ｍ２を、第１外周配線Ｌ１と第２
外周配線Ｌ２との間の領域において、マトリクス状にパ
ターニングし、金属膜Ｍ２−３を形成する。図１４の
（ｂ）に示すように、金属膜Ｍ２−３は、行方向の長さ
が約１９４μｍであり、列方向の長さが約１９０μｍで
ある。また、金属膜Ｍ２−３は、列方向に約１０μｍの
間隔をおいて配置され、また、行方向に約６μｍの間隔
をおいて配置される。
ように、第２金属膜Ｍ２を成膜した後にパターニングし
て、第１外周配線Ｌ１及び第２外周配線Ｌ２のそれぞれ
に対応するように所定の距離をおいて、金属膜Ｍ２−
１、Ｍ２−２を形成する。さらに、同時に、液晶注入口
３２付近の第２金属膜Ｍ２を、第１外周配線Ｌ１と第２
外周配線Ｌ２との間の領域において、マトリクス状にパ
ターニングし、金属膜Ｍ２−３を形成する。図１４の
（ｂ）に示すように、金属膜Ｍ２−３は、行方向の長さ
が約１９４μｍであり、列方向の長さが約１９０μｍで
ある。また、金属膜Ｍ２−３は、列方向に約１０μｍの
間隔をおいて配置され、また、行方向に約６μｍの間隔
をおいて配置される。
【００８１】これにより、第１外周配線Ｌ１として、保
護ダイオードを含む種々の素子を含む配線が形成され
る。また、第２外周配線Ｌ２は、電気的に導通した第１
金属膜Ｍ１−２及び第２金属膜Ｍ２−２によって形成さ
れる。
護ダイオードを含む種々の素子を含む配線が形成され
る。また、第２外周配線Ｌ２は、電気的に導通した第１
金属膜Ｍ１−２及び第２金属膜Ｍ２−２によって形成さ
れる。
【００８２】続いて、図１５の（ａ）及び（ｂ）に示す
ように、黒色樹脂を成膜した後にパターニングすること
により、少なくとも第１外周配線Ｌ１と第２外周配線Ｌ
２との間の領域、及び画素領域側の遮光領域を覆うよう
に、少なくとも遮光パターンＳＰを配置する。さらに、
同時に、液晶注入口３２付近の黒色樹脂を、第１外周配
線Ｌ１と第２外周配線Ｌ２との間の領域において、液晶
注入方向と平行な方向、すなわち外周配線に直交する方
向にストライプ状にパターニングし、遮光パターンＳＰ
−３を形成する。図１５の（ｂ）に示すように、遮光パ
ターンＳＰ−３は、列方向の幅が少なくとも１０μｍ以
上である。
ように、黒色樹脂を成膜した後にパターニングすること
により、少なくとも第１外周配線Ｌ１と第２外周配線Ｌ
２との間の領域、及び画素領域側の遮光領域を覆うよう
に、少なくとも遮光パターンＳＰを配置する。さらに、
同時に、液晶注入口３２付近の黒色樹脂を、第１外周配
線Ｌ１と第２外周配線Ｌ２との間の領域において、液晶
注入方向と平行な方向、すなわち外周配線に直交する方
向にストライプ状にパターニングし、遮光パターンＳＰ
−３を形成する。図１５の（ｂ）に示すように、遮光パ
ターンＳＰ−３は、列方向の幅が少なくとも１０μｍ以
上である。
【００８３】続いて、図１６に示すように、遮光領域４
１の外周に沿って、外縁シール部材２５を設け、液晶注
入口３２を規定する。
１の外周に沿って、外縁シール部材２５を設け、液晶注
入口３２を規定する。
【００８４】これにより、液晶注入口３２付近におい
て、マトリクス状の第２金属膜Ｍ２−３の行方向を遮光
パターンＳＰ−３によって遮光し、その列方向を第１金
属膜Ｍ１−３によって遮光する。
て、マトリクス状の第２金属膜Ｍ２−３の行方向を遮光
パターンＳＰ−３によって遮光し、その列方向を第１金
属膜Ｍ１−３によって遮光する。
【００８５】上述したような実施の形態によれば、製造
工程数を増やすことなく、第１外周配線Ｌ１及び第２外
周配線Ｌ２を形成する金属膜、及び、遮光パターンＳＰ
を形成する黒色樹脂を利用して、遮光領域を遮光するこ
とが可能となる。また、液晶注入口３２付近の遮光領域
を、膜厚の比較的厚い黒色樹脂のみで遮光領域を形成し
た場合と比較して、相対的に膜厚の薄い第１金属膜Ｍ１
及び第２金属膜Ｍ２を利用して遮光したことにより、液
晶注入時間を短縮することが可能である。
工程数を増やすことなく、第１外周配線Ｌ１及び第２外
周配線Ｌ２を形成する金属膜、及び、遮光パターンＳＰ
を形成する黒色樹脂を利用して、遮光領域を遮光するこ
とが可能となる。また、液晶注入口３２付近の遮光領域
を、膜厚の比較的厚い黒色樹脂のみで遮光領域を形成し
た場合と比較して、相対的に膜厚の薄い第１金属膜Ｍ１
及び第２金属膜Ｍ２を利用して遮光したことにより、液
晶注入時間を短縮することが可能である。
【００８６】なお、上述した実施の形態では、カラーフ
ィルタ２４が液晶注入口３２付近の遮光領域４１で青と
黒の組合わせを得るために青のカラーフィルタ層２４Ｂ
で構成されたが、これを遮光パターンＳＰの黒に近い他
の色に変更してもよい。
ィルタ２４が液晶注入口３２付近の遮光領域４１で青と
黒の組合わせを得るために青のカラーフィルタ層２４Ｂ
で構成されたが、これを遮光パターンＳＰの黒に近い他
の色に変更してもよい。
【００８７】さらに、上述した実施の形態では、遮光パ
ターンＳＰおよびカラーフィルタ２４がアレイ基板１１
０側に形成されたが、これらは対向基板１２０側に形成
されてもよい。
ターンＳＰおよびカラーフィルタ２４がアレイ基板１１
０側に形成されたが、これらは対向基板１２０側に形成
されてもよい。
【００８８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶注入
口付近の見栄えを低下させることなく液晶注入時間を短
縮することができる液晶表示装置を提供することができ
る。
口付近の見栄えを低下させることなく液晶注入時間を短
縮することができる液晶表示装置を提供することができ
る。
【図１】図１の（ａ）は、この発明の一実施形態に係る
液晶表示装置の構造を概略的に示す断面図であり、図１
の（ｂ）は、この液晶表示装置のアレイ基板の構造を具
体的に示す断面図である。
液晶表示装置の構造を概略的に示す断面図であり、図１
の（ｂ）は、この液晶表示装置のアレイ基板の構造を具
体的に示す断面図である。
【図２】図２は、この液晶表示装置における液晶注入口
付近の遮光パターンの形状の一例を示す平面図である。
付近の遮光パターンの形状の一例を示す平面図である。
【図３】図３は、図２に示した液晶表示装置においてＡ
−Ａ線で切断したときの断面図であり、色フィルタが遮
光パターンにより覆われない液晶注入口付近部分の断面
構造を示す図である。
−Ａ線で切断したときの断面図であり、色フィルタが遮
光パターンにより覆われない液晶注入口付近部分の断面
構造を示す図である。
【図４】図４は、図２に示した液晶表示装置においてＢ
−Ｂ線で切断したときの断面図であり、色フィルタが遮
光パターンにより覆われない液晶注入口付近部分の断面
構造を示す図である。
−Ｂ線で切断したときの断面図であり、色フィルタが遮
光パターンにより覆われない液晶注入口付近部分の断面
構造を示す図である。
【図５】図５は、図２に示した液晶注入口付近の遮光パ
ターンの第１変形例を示す平面図である。
ターンの第１変形例を示す平面図である。
【図６】図６は、図２に示した液晶注入口付近の遮光パ
ターンの第２変形例を示す平面図である。
ターンの第２変形例を示す平面図である。
【図７】図７は、図２に示した液晶注入口付近の遮光パ
ターンの第３変形例を示す平面図である。
ターンの第３変形例を示す平面図である。
【図８】図８の（ａ）は、図２に示した液晶注入口付近
の遮光パターンの第４変形例を示す平面図であり、図８
の（ｂ）は、図８の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断したときの
断面図である。
の遮光パターンの第４変形例を示す平面図であり、図８
の（ｂ）は、図８の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断したときの
断面図である。
【図９】図９の（ａ）は、図２に示した液晶注入口付近
の遮光パターンの第５変形例を示す平面図であり、図９
の（ｂ）は、図９の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断したときの
断面図である。
の遮光パターンの第５変形例を示す平面図であり、図９
の（ｂ）は、図９の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断したときの
断面図である。
【図１０】図１０の（ａ）は、図２に示した液晶注入口
付近の遮光パターンの第６変形例を示す平面図であり、
図１０の（ｂ）は、図１０の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断し
たときの断面図である。
付近の遮光パターンの第６変形例を示す平面図であり、
図１０の（ｂ）は、図１０の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断し
たときの断面図である。
【図１１】図１１の（ａ）は、図２に示した液晶注入口
付近の遮光パターンの第７変形例を示す平面図であり、
図１１の（ｂ）は、図１１の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断し
たときの断面図である。
付近の遮光パターンの第７変形例を示す平面図であり、
図１１の（ｂ）は、図１１の（ａ）のＣ−Ｃ線で切断し
たときの断面図である。
【図１２】図１２の（ａ）乃至（ｃ）は、この発明の第
２の実施の形態にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近
の遮光パターンを形成するための製造工程を示す図であ
る。
２の実施の形態にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近
の遮光パターンを形成するための製造工程を示す図であ
る。
【図１３】図１３の（ａ）は、第２の実施の形態の変形
例にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パター
ンを形成するための製造工程を示す図であり、図１３の
（ｂ）は、図１３の（ａ）に破線で示した領域を拡大し
た拡大平面図である。
例にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パター
ンを形成するための製造工程を示す図であり、図１３の
（ｂ）は、図１３の（ａ）に破線で示した領域を拡大し
た拡大平面図である。
【図１４】図１４の（ａ）は、第２の実施の形態の変形
例にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パター
ンを形成するための製造工程を示す図であり、図１４の
（ｂ）は、図１４の（ａ）に破線で示した領域を拡大し
た拡大平面図である。
例にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パター
ンを形成するための製造工程を示す図であり、図１４の
（ｂ）は、図１４の（ａ）に破線で示した領域を拡大し
た拡大平面図である。
【図１５】図１５の（ａ）は、第２の実施の形態の変形
例にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パター
ンを形成するための製造工程を示す図であり、図１５の
（ｂ）は、図１５の（ａ）に破線で示した領域を拡大し
た拡大平面図である。
例にかかる液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パター
ンを形成するための製造工程を示す図であり、図１５の
（ｂ）は、図１５の（ａ）に破線で示した領域を拡大し
た拡大平面図である。
【図１６】図１６は、第２の実施の形態の変形例にかか
る液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パターンを形成
するための製造工程を示す図である。
る液晶表示装置の液晶注入口付近の遮光パターンを形成
するための製造工程を示す図である。
１１…透明基板 １３Ａ，１３Ｂ…配向膜 １４…スイッチング素子 ２１…透明基板 ２２…対向電極 ２４…色フィルタ ２５…外縁シール部材 ２６…スルーホール ３０…画素電極 ３１…柱状スペーサ ３２…液晶注入口 ３３…注入口シール部材 ４０…表示領域 ４１…遮光領域 ７０…液晶セル １１０…アレイ基板 １２０…対向基板 １３０…ベゼル ＬＱ…液晶材料 ＳＰ…遮光パターン Ｌ１…第１外周配線 Ｌ２…第２外周配線 Ｍ１（−１、−２、−３）…第１金属膜 Ｍ２（−１、−２、−３）…第２金属膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３３０ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３３０Ｚ ３４９ ３４９Ａ (72)発明者 福岡 暢子 埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 飯塚 哲也 神奈川県川崎市川崎区日進町７番地１ 東 芝電子エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 宮崎 大輔 埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 羽藤 仁 埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号 株式 会社東芝深谷工場内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA45 BB01 BB07 BB08 BB10 BB14 BB24 BB43 2H089 LA28 NA19 NA25 QA12 QA16 TA13 2H091 FA02Y FA34Y LA12 LA16 5C094 AA02 AA43 AA46 AA48 BA03 BA43 CA19 CA24 DA07 DA12 DA13 EB02 EC02 EC04 ED03 ED15 FA01 FA02 GB01 5G435 AA00 AA17 BB12 CC09 CC12 FF13 GG12 KK05
Claims (16)
- 【請求項１】一対の基板と、前記一対の基板間に挟持さ
れた液晶と、表示領域の外周に配置された遮光領域と、
前記遮光領域よりさらに外周に配置され液晶の注入口を
除いて形成された外縁シール部材と、を有する液晶表示
装置において、 前記注入口付近の前記遮光領域は、所定厚の樹脂からな
る遮光パターンと、所定厚より薄い色フィルタとが平面
的に見て混在していることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】前記色フィルタは、青フィルタであること
を特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】前記遮光パターンと前記色フィルタとは、
ストライプ状に混在していることを特徴とする請求項１
に記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】前記遮光パターンと前記色フィルタとは、
グラデーションを持つようにストライプ配置されている
ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】前記遮光パターンと前記色フィルタとは、
モザイク状に混在していることを特徴とする請求項１に
記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】前記一対の基板間にそのギャップを保持す
る柱状スペーサを有し、前記柱状スペーサと前記遮光パ
ターンとは、同一材料で構成されることを特徴とする請
求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項７】前記注入口付近の前記遮光領域の前記表示
領域側には、前記遮光パターンが配置され、前記表示領
域の外周側には、前記色フィルタが配置されたことを特
徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項８】前記遮光領域は、前記表示領域の外周に配
置された外周配線上を覆うように配置されたことを特徴
とする請求項７に記載の液晶表示装置。 - 【請求項９】前記外周配線上は、前記遮光パターンによ
って覆われたことを特徴とする請求項８に記載の液晶表
示装置。 - 【請求項１０】前記外周配線上は、前記遮光パターンと
前記色フィルタとがグラデーションを持つようにストラ
イプ配置されたグラデーションパターンによって覆われ
たことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。 - 【請求項１１】液晶表示装置を覆うカバーの端部より前
記表示領域側に位置する前記遮光領域は、前記遮光パタ
ーンによって覆われ、前記表示領域より外周側に位置す
る前記遮光領域は、前記色フィルタによって覆われたこ
とを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。 - 【請求項１２】液晶表示装置を覆うカバーの端部より前
記表示領域側に位置する前記遮光領域は、前記遮光パタ
ーンと前記色フィルタとがグラデーションを持つように
ストライプ配置されたグラデーションパターンによって
覆われたことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装
置。 - 【請求項１３】一対の基板と、前記一対の基板間に挟持
された液晶と、表示領域の外周に配置された遮光領域
と、前記遮光領域よりさらに外周に配置され液晶の注入
口を除いて形成された外縁シール部材と、を備えた液晶
表示装置において、 前記表示領域の外周に配置された第１外周配線と、 前記遮光領域より外周に配置された第２外周配線と、を
備え、 前記第１外周配線及び前記第２外周配線は、少なくとも
２種類の第１金属膜及び第２金属膜によって形成される
とともに、 前記注入口付近の前記遮光領域は、所定厚の樹脂からな
る遮光パターンと、少なくとも前記第２外周配線とによ
って遮光されたことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項１４】前記第１外周配線及び前記第２外周配線
は、 前記第１金属膜を所定の間隔をおいて２列にパターニン
グし、 前記第１金属膜を覆うように且つ前記所定の間隔より近
接して前記第２金属膜を２列にパターニングすることに
よって形成されたことを特徴とする請求項１３に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項１５】前記注入口付近において、 前記第１金属膜を液晶の注入方向に略直交するようなス
トライプ状にパターニングし、 前記第２金属膜をマトリクス状にパターニングし、 前記遮光パターンを液晶の注入方向に略平行するような
ストライプ状にパターニングすることによって、前記第
２金属膜の行方向及び列方向の間隙を前記第１金属膜及
び前記遮光パターンで遮光することを特徴とする請求項
１３に記載の液晶表示装置。 - 【請求項１６】前記一対の基板のうち少なくとも一方の
基板は、行方向に配列された走査線と、列方向に配列さ
れた信号線と、前記走査線と前記信号線との交差部近傍
に配置されたスイッチング素子と、前記スイッチング素
子に接続された画素電極とを備え、 前記第１金属膜は、前記走査線と同一材料で形成されて
いるとともに同一の工程でパターニングされ、 前記第２金属膜は、前記信号線と同一材料で形成されて
いるとともに同一の工程でパターニングされることを特
徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
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