JP2001135651A - ボンディングペーストの塗布装置および塗布方法 - Google Patents

ボンディングペーストの塗布装置および塗布方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 操作性に優れ良好な塗布品質を得ることがで
きるボンディングペーストの塗布装置および塗布方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】 基板のチップ搭載位置において塗布ノズ
ルを移動させることによりボンディングペーストを描画
塗布するボンディングペーストの塗布方法において、塗
布ノズルを移動させるXYZ各軸の制御に用いられる描
画パターンと対象チップサイズとの対応区分を示す描画
パターン設定テーブル53を予め記憶部46に記憶させ
ておき、チップのサイズが指定されたならばこのチップ
のサイズに応じて描画パターンを描画パターン選択部5
4により選択し、選択された描画パターンに基づいてX
YZ各軸の速度パターンを速度パターン算出部55によ
り算出する。これにより、描画パターンの設定をその都
度行う必要がなく、常に塗布品質の優れた適切なペース
ト塗布を操作性よく行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板にチップボン
ディング用のボンディングペーストを塗布するボンディ
ングペーストの塗布装置および塗布方法に関するもので
ある。
【従来の技術】半導体装置製造のダイボンディング工程
では、リードフレームなどの基板に半導体チップを接着
するためのボンディングペーストが塗布される。このボ
ンディングペーストの塗布は、ディスペンサから吐出さ
れるボンディングペーストを塗布ノズルに導き基板の塗
布エリア内に塗布することにより行われる。この塗布方
法の一つとして、塗布ノズルを塗布エリア内で移動させ
ながらペーストを吐出することにより塗布を行う描画塗
布が知られている。
【発明が解決しようとする課題】この描画塗布において
は、接着対象のチップの形状やサイズによって所要のペ
ースト塗布パターンが異なるため、描画時の描画パター
ンや塗布ノズルを移動させる際の速度パターンなどの塗
布条件をチップに応じて設定する必要がある。ところが
従来のボンディングペーストの塗布装置では、上述のよ
うな描画塗布を行う際の塗布条件の設定に、その都度複
雑なデータ入力などの手間を必要として操作性が悪いと
ともに、適切な設定が行われない場合には良好な塗布品
質が得られないという問題点があった。そこで本発明
は、操作性に優れ良好な塗布品質を得ることができるボ
ンディングペーストの塗布装置および塗布方法を提供す
ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】請求項1記載のペースト
塗布装置は、基板のチップ搭載位置において塗布ノズル
からボンディングペーストを吐出しながら塗布ノズルを
移動させることによりボンディングペーストを描画塗布
するボンディングペーストの塗布装置であって、塗布口
からペーストを吐出して基板に塗布する塗布ノズルと、
この塗布ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動
手段と、この移動手段を描画パターンに基づいて制御す
る制御手段と、描画パターンを記憶する記憶手段と、チ
ップのサイズに応じて描画パターンを選択する描画パタ
ーン選択手段と、選択された描画パターンに基づいて前
記移動手段の速度パターンを設定する速度パターン設定
手段とを備えた。請求項2記載のボンディングペースト
の塗布方法は、基板のチップ搭載位置において塗布ノズ
ルからボンディングペーストを吐出しながら塗布ノズル
を移動させることによりボンディングペーストを描画塗
布するボンディングペーストの塗布方法であって、前記
塗布ノズルを移動させる移動手段の制御に用いられる描
画パターンをチップのサイズに応じて選択し、選択され
た描画パターンに基づいて前記移動手段の速度パターン
を設定するようにした。本発明によれば、チップのサイ
ズに応じて描画パターンを選択し、選択された描画パタ
ーンに基づいてノズルの移動手段の速度パターンを設定
することにより、チップの種類やサイズが変わる度に従
来必要とされていた描画データの設定を行う必要がな
く、常に塗布品質の優れた適切なペースト塗布を操作性
よく行うことができる。
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図1は本発明の一実施の形態のダイ
ボンディング装置の斜視図、図2は同ダイボンディング
装置の制御系の構成を示すブロック図、図3は同ダイボ
ンディング装置のペースト塗布処理の処理機能を示す機
能ブロック図、図4は同描画パターン設定テーブルを示
す説明図、図5は同描画パターン設定処理のフロー図、
図6は同描画パターンの速度パターンを示すグラフ、図
7(a)は同塗布エリアの平面図、図7(b)は同塗布
エリアの断面図である。まず図1を参照してダイボンデ
ィング装置の構造を説明する。図1においてチップ供給
部1にはウェハシート2が図示しない保持テーブルによ
って保持されている。ウェハシート2には多数の半導体
素子であるチップ3が貼着されている。チップ供給部1
の側方には搬送路5が配設されており、搬送路5は基板
であるリードフレーム6を搬送し、ペースト塗布位置お
よびボンディング位置にリードフレーム6を位置決めす
る。チップ供給部1の上方にはボンディングヘッド4が
配設されており、ボンディングヘッド4は図示しない移
動機構により水平移動および上下動する。搬送路5の側
方にはペースト塗布部9が配設されている。ペースト塗
布部9は移動テーブル10にL型のブラケット15を介
して塗布ノズル18を装着して構成されている。塗布ノ
ズル18は、不動のプレート21上に固定配置されたペ
ースト吐出手段であるディスペンサ16と可撓性の管部
材であるチューブ17によって連結されており、更にエ
アチューブ20を介して吐出制御バルブ19と接続され
ている。図2に示すようにディスペンサ16は、マニホ
ールドブロック25の上面に装着されたシリンジ26内
のペースト7をモータ31によって往復駆動されるピス
トン32によって吐出させるものである。ペースト7の
シリンジ26からの吸入、ピストン32による吐出は、
往復駆動機構28によって駆動される第1のバルブ2
7、往復駆動機構29によって駆動される第2のバルブ
30によって制御される。シリンジ26内はバルブ34
を介してエア源33から供給されるエアによって加圧さ
れており、ディスペンサ16を駆動することにより、ペ
ースト7がチューブ17を介して塗布ノズル18へ圧送
される。そして塗布ノズル18の下端部に設けられた塗
布口より吐出されてリードフレーム6の塗布エリア6a
に塗布される。塗布ノズル18からのペースト吐出の断
続は、吐出制御バルブ19によって制御される。移動テ
ーブル10は、Y軸テーブル11上にX軸テーブル12
を段積みし、さらにその上にL型のブラケット13を介
してZ軸テーブル14を垂直方向に結合して構成されて
いる。Y軸テーブル11、X軸テーブル12、Z軸テー
ブル14は、それぞれY軸モータ11a、X軸モータ1
2a、Z軸モータ14aを備えている。X軸モータ12
a、Y軸モータ11aおよびZ軸モータ14aを駆動す
ることにより、塗布ノズル18はリードフレーム6上で
水平方向および上下方向に移動する。したがって、移動
テーブル10は塗布ノズル18をリードフレーム6に対
して相対的に移動させる移動手段となっている。リード
フレーム6上面のチップ3の搭載位置は、ペースト7が
塗布される塗布エリア6aとなっている。塗布ノズル1
8を塗布エリア6a内に位置させ、塗布ノズル18から
ペースト7を吐出させながら塗布ノズル18を移動させ
ることにより、塗布エリア6a内には所定の描画パター
ンでチップボンディング用のペースト7が描画塗布され
る。このペースト塗布後、リードフレーム6は搬送路5
上をボンディング位置8に送られ、位置決めされる。そ
して塗布エリア6a内に塗布されたペースト7上に、ボ
ンディングヘッド4のノズル4aによってチップ供給部
1からピックアップされたチップ3がボンディングされ
る。次に図2を参照してダイボンディング装置の制御系
の構成を説明する。図2において、ディスペンサ駆動部
40は、ピストン32を駆動するモータ31、第1のバ
ルブ27および第2のバルブ30をそれぞれ往復動させ
る往復動機構28,29を駆動して、ディスペンサ16
によるペースト7の吐出を制御する。吐出制御バルブ駆
動部41は、吐出制御バルブ19の開閉を駆動すること
により塗布ノズル18に供給される制御エアを制御し、
塗布ノズル18の開閉を行う。Z軸モータ駆動部42、
Y軸モータ駆動部43、X軸モータ駆動部44は、移動
テーブル10のZ軸モータ14a、Y軸モータ11a、
X軸モータ12aをそれぞれ駆動する。ボンディングヘ
ッド駆動部45は、チップ3をボンディングするボンデ
ィングヘッド4を駆動する。記憶部46は、各部の動作
や処理に必要なプログラムや塗布パターンのデータを記
憶する。制御部47は、記憶部46に記憶されたプログ
ラムに基づいて各部の動作を制御する。操作・入力部4
8は、キーボードやマウスなどの入力手段であり制御コ
マンドの入力やデータ入力を行う。表示部49はディス
プレイ装置であり、操作入力時の画面を表示する。次に
図3を参照して、ダイボンディング装置のペースト塗布
処理の処理機能について説明する。図3において枠46
で囲まれた各部は図2に示す記憶部46に記憶されるデ
ータの内容を示すものである。図3に示す各要素のう
ち、入力処理部50、表示処理部51、描画パターン選
択部54、速度パターン演算部55、ペースト吐出流量
算出部56、描画処理部58は、図2に示す制御部47
による処理を示している。まず記憶部46を構成する各
部について説明する。チップサイズ記憶部52は、ボン
ディング対象のチップサイズ、すなわちチップ3の幅や
長さのデータを記憶する。描画パターン設定テーブル5
3は、チップサイズに応じて設定される描画塗布のパタ
ーンについてのデータを記憶する。すなわち、描画パタ
ーン設定テーブル53は描画パターンを記憶する描画パ
ターン記憶手段となっている。描画パターン選択部54
(描画パターン選択手段)は、チップサイズ記憶部52
に記憶されたチップサイズと描画パターン設定テーブル
53に記憶された描画パターンのデータに基づいて、対
象チップに応じた適切な描画パターンを選択する。速度
パターン算出部55は、選択された描画パターンに基づ
いて塗布ノズルを移動させる速度パターンを算出する。
また速度パターン算出部55は選択された描画パターン
に基づいた所定の描画を行うために必要な描画時間を算
出する。速度パターン記憶部57は、速度パターン算出
部55によって算出された速度パターンや描画時間を記
憶する。速度パターン算出部55および速度パターン記
憶部57は、速度パターンを設定する速度パターン設定
手段となっている。ペースト吐出流量算出部56は、速
度パターン算出部55によって算出される描画時間と、
チップサイズ記憶部52に記憶されたチップサイズ等よ
り決められるペースト塗布量とに基づいて、塗布ノズル
18によって所用ペースト塗布量を塗布するためにディ
スペンサ16に必要とされるペースト吐出流量を算出す
る。ペースト吐出流量記憶部59は算出されたペースト
吐出流量のデータを記憶する。描画塗布時には、ペース
ト吐出流量のデータはペースト吐出流量記憶部59から
読み出され、描画処理部58に送られる。描画処理部5
8は、速度パターンおよびペースト吐出流量のデータに
基づいてX軸モータ駆動部44、Y軸モータ駆動部4
3、Z軸モータ駆動部42、吐出制御バルブ駆動部4
1、ディスペンサ駆動部40を駆動して塗布ノズル18
を移動させると共に、塗布ノズル18からペースト7を
吐出させることによって描画塗布を行うための処理を行
う。したがって、描画処理部58は、描画パターンに基
づいて移動手段を制御する制御手段となっている。入力
処理部50は、操作・入力部48から入力される操作入
力信号を処理し、各部への制御コマンドを出力するとと
もに、記憶部46へのデータ書き込みを行う。表示処理
部51は、記憶部46に記憶されたデータを処理して各
種の案内画面を表示部49に表示させる。ここで、描画
パターン設定テーブル53について説明する。描画パタ
ーン設定テーブル53は、チップサイズとチップサイズ
に応じて設定される描画パターンの対応区分を示してい
る。チップサイズが大きくなるに従って、ボンディング
面積が増大し、ボンディングに必要とされるペースト塗
布量も増大する。ペースト塗布量は描画パターンと相関
関係があるため、予めチップサイズと描画パターンの対
応区分を定めておくことにより、チップサイズが指定さ
れるとこのチップサイズに必要とされるペースト塗布量
を得るための適切な描画パターンを自動的に選択させる
ことができる。以下、描画パターン設定テーブルにおけ
るチップサイズと描画パターンの対応区分の具体例につ
いて、図4を参照して説明する。図4に示すように、ま
ずチップサイズが3mm未満であれば、塗布エリアの中
央点Oに単に点状にペースト7を塗布するパターン(中
央点パターン)のみで必要なペースト塗布量が確保され
る。塗布量の調整は、塗布ノズルを中央点Oに停止させ
てペーストを塗布する塗布時間によって行われる。チッ
プサイズがこれより大きくなり3〜7mmの範囲では、
上記パターンに対角方向の十字塗布線L1,L2を組み
合わせた描画パターン(中央点付対角十字パターン)が
選択される。塗布量の調整は、中央点Oにおける塗布量
の調整によって行われる。そして、チップサイズがさら
に大きくなり7〜17mmの範囲になれば、前記描画パ
ターンに上下左右方向の十字塗布線L3,L4を組み合
わせた描画パターン(中央点付きダブル十字パターン)
が選択され、チップサイズが17mm以上の場合には、
前述の十字状塗布線L3,L4の先端にさらにカギ状の
塗布線L5を付加した描画パターン(スノースターパタ
ーン)が選択される。これらのパターンにおいても、塗
布量の調整は中央点Oにおける塗布量の調整によって行
われる。このような描画パターン設定テーブルを予め準
備しておくことにより、チップサイズが指定されれば当
該サイズのチップをボンディングするのに必要なペース
ト塗布量を得るための適切な描画パターンが自動的に選
択される。次に図5を参照して、描画パターン決定処理
について説明する。まず、チップサイズ記憶部52から
チップサイズを読みとる(ST1)。次いで速度パター
ン算出部により、描画パターン設定テーブル53を参照
して使用する描画パターンを選択する(ST2)。次に
選択された描画パターンに基づいて速度パターン算出部
55により速度パターンが作成される(ST3)。次い
で速度パターンに基づいて計算された描画時間と所要ペ
ースト塗布量から、ペースト吐出流量算出部56によっ
てペースト7の吐出流量が算出され、ペースト吐出流量
記憶部59に記憶される(ST4)。これにより、描画
パターンの決定処理が完了する。次に、図6は上記描画
パターン決定処理において設定される速度パターンの一
例について示している。ここで用いられる描画パターン
は、図7(a)に示すように対角十字状の塗布線(直線
AC、直線BD)で構成されている。この描画パターン
において、中央点Oを塗布開始点および塗布終了点と
し、描画途中で塗布線上の各通過点A,B,C,Dを通
過して一筆書きで描画塗布される。この描画塗布に際
し、塗布ノズル18は、O−A−C−O−B−D−Oの
順序で移動する。そしてこのときX,Yの各移動軸(X
軸モータ12a、Y軸モータ11a)は、図6に示すよ
うな速度パターン、すなわち塗布開始点Oから塗布終了
点Oに至るまでの各通過点間で、台形状の加減速を繰り
返す速度パターンに基づいて駆動される。また、塗布ノ
ズル18を上下動させるZ軸は、塗布終了時のみに上昇
動作を行う。この上昇時には図7(b)に示すように、
中央点Oに塗布ノズル18を停止させた状態でペースト
7を吐出する点状塗布を行う。この中央点Oにおける塗
布量を調整することにより、全体の塗布量の調整が行わ
れる。上記説明したように、本発明ではチップサイズを
指定するのみでこのチップサイズに対応した適切な描画
塗布パターンが選択され、この描画パターンに対応した
速度パターンが自動的に設定される。これにより、チッ
プの種類やサイズが変わる度に従来必要とされていた描
画データの設定を行う必要がなく、常に適切なペースト
塗布を操作性よく行って、良好なボンディング品質を確
保することができる。
【発明の効果】本発明によれば、チップのサイズに応じ
て描画パターンを選択し、選択された描画パターンに基
づいてノズルの移動手段の速度パターンを設定するよう
にしたので、チップの種類やサイズが変わる度に従来必
要とされていた描画データの設定を行う必要がなく、常
に適切なペースト塗布を操作性よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
の斜視図
【図2】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
の制御系の構成を示すブロック図
【図3】本発明の一実施の形態のダイボンディング装置
のペースト塗布処理の処理機能を示す機能ブロック図
【図4】本発明の一実施の形態の描画パターン設定テー
ブルを示す説明図
【図5】本発明の一実施の形態の描画パターン設定処理
のフロー図
【図6】本発明の一実施の形態の描画パターンの速度パ
ターンを示すグラフ
【図7】(a)本発明の一実施の形態の塗布エリアの平
面図 (b)本発明の一実施の形態の塗布エリアの断面図
【符号の説明】
3 チップ 6 リードフレーム 6a 塗布エリア 7 ペースト 10 移動テーブル 16 ディスペンサ 18 塗布ノズル 53 描画パターン設定テーブル 54 描画パターン選択部 55 速度パターン算出部 57 速度パターン記憶部 58 描画処理部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 末藤 伸幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4D075 AC06 AC88 AC93 DA06 DB14 DC22 EA14 4F041 AA06 AB01 BA05 BA22 BA56 5F047 AA17 BB11 BB18 FA21 FA22

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板のチップ搭載位置において塗布ノズル
    からボンディングペーストを吐出しながら塗布ノズルを
    移動させることによりボンディングペーストを描画塗布
    するボンディングペーストの塗布装置であって、塗布口
    からペーストを吐出して基板に塗布する塗布ノズルと、
    この塗布ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動
    手段と、この移動手段を描画パターンに基づいて制御す
    る制御手段と、描画パターンを記憶する記憶手段と、チ
    ップのサイズに応じて描画パターンを選択する描画パタ
    ーン選択手段と、選択された描画パターンに基づいて前
    記移動手段の速度パターンを設定する速度パターン設定
    手段とを備えたことを特徴とするボンディングペースト
    の塗布装置。
  2. 【請求項2】基板のチップ搭載位置において塗布ノズル
    からボンディングペーストを吐出しながら塗布ノズルを
    移動させることによりボンディングペーストを描画塗布
    するボンディングペーストの塗布方法であって、前記塗
    布ノズルを移動させる移動手段の制御に用いられる描画
    パターンをチップのサイズに応じて選択し、選択された
    描画パターンに基づいて前記移動手段の速度パターンを
    設定することを特徴とするボンディングペーストの塗布
    方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002033340A (ja) * 2000-07-18 2002-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd ボンディングペーストの塗布装置および塗布方法
JP2006294950A (ja) * 2005-04-13 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd チップのボンディング装置およびボンディング方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002033340A (ja) * 2000-07-18 2002-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd ボンディングペーストの塗布装置および塗布方法
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