JP2001133710A - マルチヘッド走査光学系を持つレーザ描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ描画装置の２つのポリゴンミラーを高
精度に同期させて、描画開始位置を高精度に一致させ
る。 【解決手段】 レーザ描画装置は第１および第２ポリゴ
ンミラー４１、４２を備える。アルゴンレーザ発生器１
０はレーザビームを出力し、振り分け手段２０によって
２つのレーザビームＬＢ１、ＬＢ２に振り分け、第１お
よび第２ポリゴンミラー４１、４２により被描画体７２
へ偏向・走査させる。ポリゴン同期制御部６０は、第１
および第２ポリゴンミラー４１、４２の原点４１ａ、４
２ａの検出結果に基いて第１および第２ポリゴンミラー
４１、４２を高精度に同期させる。同期した後、被描画
体７２を副走査方向に移動しつつ、表面にレーザビーム
ＬＢ１、ＬＢ２の走査により所定の回路パターンを描画
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被描画体に対して
レーザビームを２つのポリゴンミラーを含むマルチヘッ
ド走査光学系により主走査方向に偏向させつつ、レーザ
ビームを画像データに基づいて変調させて被描画体を描
画するレーザ描画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザ描画装置は適当な被描画
体、例えばプリント基板上のフォトレジスト層やフォト
マスク用感光フィルム等への微細な回路パターンの描画
に用いられてきた。レーザ描画装置にはＣＡＤ(Compute
r Aided design) ステーション等で設計された回路パタ
ーンのベクタデータが与えられ、ここでベクタデータは
ラスタデータに変換される。レーザ描画装置では被描画
体がレーザビームでもって走査させられると共に副走査
方向に順次移動させられ、このレーザビームを上述のラ
スタデータに基づいて変調することにより、被描画体上
に所定の回路パターンが描かれる。

【０００３】レーザ描画装置には、レーザビームを主走
査方向に偏向させる走査光学系として一般的にポリゴン
ミラーが使用される。ポリゴンミラーは所定の回転速度
で回転する正多面体であり、回転する複数の反射面に一
方向からレーザビームが入射される。これによってレー
ザビームは被描画体に対して主走査方向に偏向される。
プラズマディスプレイパネル等におけるパネル基板への
超微細パターンの描画工程では、生産効率向上のために
同一寸法形状の２つのポリゴンミラーを用いて１度に描
画し得る面積を２倍にすることが考えられている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、２つのポリゴ
ンミラーを用いる場合、互いに描画の同期が取れていな
ければならない。同期が取れていない場合には、副走査
方向について各ポリゴンミラーによる主走査方向の描画
開始位置が異なってしまい、結果的に回路パターンがず
れて描画されてしまうからである。

【０００５】本発明はこのような点に鑑みて創案された
もので、副走査方向における回路パターンのずれを防止
するレーザ描画装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ描画
装置は、被描画体に対してレーザビームを主走査方向に
偏向させつつレーザビームを画像データに基づいて変調
させて被描画体を描画する。かかるレーザ描画装置にお
いて、単一のレーザビーム光源と、レーザビーム光源か
らのレーザビームを２つの光路に振り分けるレーザビー
ム振分け手段と、所定の回転速度で回転することにより
レーザビーム振分け手段によって振り分けられたレーザ
ービームをそれぞれ被描画体に対して主走査方向に偏向
させる第１および第２ポリゴンミラーと、第１および第
２ポリゴンミラーの回転速度を同一の所定の周波数を有
する基準クロックパルスに基づいて制御し、第２ポリゴ
ンミラーの回転速度を所定の回転速度から変化させ、第
１および第２ポリゴンミラーにそれぞれ設けられた原点
が一致したときに、第２ポリゴンミラーの回転速度を所
定の回転速度に戻すことによって、第１および第２ポリ
ゴンミラーを同期させるポリゴン同期制御手段とを備え
ることが特徴とされる。これによって簡単な構成で、副
走査方向における回路パターンのずれを防止することが
できる。

【０００７】レーザ描画装置において、好ましくは、ポ
リゴン同期制御手段が第１および第２ポリゴンミラーを
同期させる際に、第２ポリゴンミラーの回転速度を減速
する。具体的には、ポリゴン同期制御手段は基準クロッ
クパルスを間引いた調整用クロックパルスにより第２ポ
リゴンミラーの回転速度を制御する。これにより、第１
および第２ポリゴンミラーを同一の基準クロックパルス
に基いて同期できる。なお、同期に際しては第２ポリゴ
ンミラーの回転速度を加速させてもよい。

【０００８】レーザ描画装置において、好ましくは、ポ
リゴン同期制御手段が第２ポリゴンミラーの回転速度を
設定するクロックパルスを切替えるセレクタを備え、こ
のセレクタには基準クロックパルスおよび調整用クロッ
クパルスが入力される。このセレクタの切替えにより、
第２ポリゴンミラーの回転速度が第１ポリゴンミラーの
回転速度と同じ、あるいは第１ポリゴンミラーの回転速
度より遅く設定できる。

【０００９】さらに好ましくは、ポリゴン同期制御手段
が第１および第２ポリゴンミラーの原点の一致を検出す
る検出手段を備え、セレクタは検出手段の検出結果に基
いて基準クロックパルスまたは調整用クロックパルスを
切替える。これにより、例えば双方の原点が一致するま
では調整用クロックパルスを用い、双方の原点が一致し
た段階で基準クロックパルスに切替えて、第２ポリゴン
ミラーの回転速度を制御することができ、原点が一致し
た状態、即ち常に第１および第２ポリゴンミラーの所定
の反射面を対応させて描画を行うことができる。

【００１０】レーザ描画装置において、具体的には、ポ
リゴン同期制御手段が第１ポリゴンミラーを駆動するた
めの第１駆動パルスを生成する第１カウンタと、第２ポ
リゴンミラーを駆動するための第２駆動パルスを生成す
る第２カウンタとを備えていてもよい。この場合、第１
駆動パルスは基準クロックパルスのＮ倍（Ｎ：２以上の
整数）の周期を有し、第２駆動パルスはセレクタにより
切替えられた基準クロックパルスまたは調整用クロック
パルスのＮ倍の周期を有する。さらに好ましくは、Ｎは
１００以上の整数である。これにより、調整用クロック
パルスに基づく第２駆動パルスにおいて、通常のパルス
周期と間引きされたパルス近傍の周期の比がＮ：（Ｎ＋
１）、例えばＮが１００の場合では１００：１０１とな
ることから、間引きによる速度比は約０．９９となって
減速割合は約１％となるので、第２ポリゴンミラーの回
転駆動への影響を小さくできる。

【００１１】

【発明の実施の形態】次に本発明に係るマルチヘッド走
査光学系を用いたレーザ描画装置の１実施形態を図面に
基づいて説明する。

【００１２】図１は、本発明の一実施形態であるレーザ
描画装置の主要構成を示すブロック図である。図１にお
いてレーザ描画装置はアルゴンレーザ発生器等のレーザ
ビーム光源１０を有し、このレーザビーム光源１０から
のレーザービームＬＢはレーザービーム振分け手段２０
によって２つの光路（図中、ＬＢ１およびＬＢ２で示さ
れる）に振り分けられる。レーザービーム振分け手段２
０としては、例えばレーザビームＬＢの光路を２つに分
割するハーフミラーと反射ミラーとの組合せ等が用いら
れる。

【００１３】レーザービームＬＢ１は、電子シャッタと
して機能する第１音響光学素子（ＡＯＭ）３１により変
調されて第１ポリゴンミラー４１に入射する。同様に、
レーザービームＬＢ２は、第２音響光学素子３２により
変調されて第２ポリゴンミラー４２に入射する。第１お
よび第２ポリゴンミラー４１、４２は同一寸法形状であ
り、共に八角柱形状を呈する。

【００１４】第１および第２ポリゴンミラー４１、４２
はそれぞれ八角柱の軸心周りに回転し、それぞれの８つ
の側面がレーザビームＬＢ１およびＬＢ２を偏向させる
反射面として機能する。レーザビームＬＢ１およびＬＢ
２は回転する反射面（図１においては、反射面４１ｂお
よび４２ｂ）によって所定の走査範囲に渡って偏向させ
られる。さらに、所定の走査範囲に渡って偏向させられ
るレーザビームＬＢ１およびＬＢ２は図示しない種々の
レンズにより描画テーブル７０上の被描画体７２に到達
させられる。要するに、レーザビームＬＢ１およびＬＢ
２は回転する各反射面によって所定の方向、即ち主走査
方向に偏向させられる。

【００１５】レーザビームＬＢ１による走査範囲と、レ
ーザビームＬＢ２による走査範囲とは、境界部分におい
て一部重なるように設定され、１度の走査による主走査
方向における走査範囲は第１ポリゴンミラー４１（また
は第２ポリゴンミラー４２）の走査範囲の約２倍とな
る。このように、２個のポリゴンミラー４１、４２を同
時に駆動することにより、走査範囲を倍増でき、描画に
要する時間の短縮、ひいては生産効率の向上を図ること
ができる。

【００１６】第１および第２音響光学素子３１、３２の
双方は画像制御部５０によって制御される。画像制御部
５０には描画すべき回路パターンのラスタデータが画像
データとして与えられ、この画像データに基づいてレー
ザービームＬＢ１およびＬＢ２が変調される。

【００１７】第１ポリゴンミラー４１は第１ドライバ５
１によって回転駆動され、第１ドライバ５１はポリゴン
同期制御部６０によりその回転駆動の開始、停止および
回転速度が制御される。第１ドライバ５１には回転速度
に対応した第１駆動パルスＰＯＬ１がポリゴン同期制御
部６０から入力され、これにより第１ポリゴンミラー４
１の回転速度が制御される。

【００１８】第１ポリゴンミラー４１には各反射面の位
置を特定するために第１原点４１ａが定められる。第１
ドライバ５１は第１原点４１ａを検出するセンサ、例え
ば公知のフォトインターラプタを備え、第１原点４１ａ
の検出結果に基いて原点信号ＯＲＧ１をポリゴン同期制
御部６０に対して出力する。原点信号ＯＲＧ１は原点４
１ａを特定する信号である。

【００１９】以上の構成は、第２ポリゴンミラー４２に
ついても同様であり、ここでは符号を１加算して示し、
説明を省略する。なお、第１および第２ポリゴンミラー
４１、４２の各回転速度は、第１および第２駆動パルス
ＰＯＬ１、ＰＯＬ２のそれぞれの周期に反比例した値と
なる。

【００２０】第１および第２ポリゴンミラー４１、４２
は、ポリゴン同期制御部６０によって各原点４１ａ、４
２ａが一致するように、即ち常に同一の反射面、例えば
図１においては反射面４１ｂと反射面４２ｂとが対応す
るように同期回転駆動され、これにより第１および第２
ポリゴンミラー４１、４２による描画は高精度に同期さ
れる。

【００２１】被描画体７２としては、例えばフォトレジ
スト層を備えたプリント基板が用いられる。この被描画
体７２は描画テーブル７０上に固定され、この描画テー
ブル７０はレーザビームＬＢ１およびＬＢ２による走査
が行われている間、モータ９０により主走査方向に垂直
な副走査方向に順次移動させられる。レーザビームＬＢ
１およびＬＢ２による主走査方向の走査が終了した時点
で、描画テーブル７０の副走査方向への移動距離はレー
ザビームＬＢ１およびＬＢ２の幅に相当する。レーザビ
ームＬＢ１およびＬＢ２による主走査方向の走査と副走
査方向への移動が繰り返し行われることにより、被描画
体７２のフォトレジスト層表面上には所定の回路パター
ンがレーザビームＬＢ１およびＬＢ２による走査によっ
て順次描かれる。

【００２２】なお、実際には、走査と移動が同時に行わ
れることを考慮して、主走査方向は副走査方向に対して
所定角度傾斜して設けられており、これによりレーザビ
ームＬＢ１およびＬＢ２による被描画体７２上の走査ラ
インは副走査方向に対して直角となる。

【００２３】モータ９０はドライバ８０により回転駆動
され、ドライバ８０はＸ軸制御部１００によって制御さ
れる。一方、描画テーブル７０はリニアスケール等の位
置センサ１１０により副走査方向における位置が検出さ
れ、その検出結果はドライバ８０にフィードバックされ
る。

【００２４】画像制御部５０、ポリゴン同期制御部６０
およびＸ軸制御部１００はＣＰＵ１２０に接続され、全
体の制御の整合性および同期が確保されている。具体的
には、後述するポリゴン同期制御部６０において発生す
る基準クロックパルスに基いて、主走査方向の走査と副
走査方向への移動との同期、第１および第２ポリゴンミ
ラー４１、４２の回転と第１および第２音響光学素子３
１、３２の動作との同期等が制御される。

【００２５】なお、各ポリゴンミラー４１、４２は製造
する過程において厳密には固体差があり、また各反射面
においてその反射角度や走査に有効な領域が異なるた
め、これら反射角度および走査有効領域を補正するため
に、補正量がＣＰＵ１２０の図示しないメモリに格納さ
れる。ＣＰＵ１２０は、ポリゴン同期制御部６０を介し
て、レーザビームＬＢ１およびＬＢ２を偏向する反射面
の情報、例えば原点信号ＯＲＧ１およびＯＲＧ２を得、
画像制御部５０およびＸ軸制御部１００の制御時に各反
射面に対応した補正を適宜行っている。

【００２６】図２および図３を参照して、ポリゴン同期
制御部６０の構成および動作を説明する。図２はポリゴ
ン同期制御部６０の構成を詳細に示すブロック図であ
り、図３はポリゴン同期制御部６０の動作を説明するた
めのクロックパルスのタイミングチャートである。

【００２７】ポリゴン同期制御部６０はクロック発生回
路２００を備え、クロック発生回路２００は所定の周波
数例えば数ＭＨｚの基準クロックパルスＣＬ０を生成す
る。この基準クロックパルスＣＬ０の周期をＴとする。
基準クロックパルスＣＬ０は第１カウンタ２１０に入力
され、第１カウンタ２１０は基準クロックパルスＣＬ０
を１／１００に分周して、分周した周期１００Ｔのクロ
ックパルスを第１駆動パルスＰＯＬ１として出力する。
この第１駆動パルスＰＯＬ１は第１ポリゴンミラー４１
の描画時の動作状態における回転速度に対応したクロッ
クパルスである。

【００２８】一方、基準クロックパルスＣＬ０はセレク
タ２２０および間引き回路２４０に入力される。間引き
回路２４０では基準クロックパルスＣＬ０が１０００パ
ルス毎に１パルス分だけ間引きされ、調整用クロックパ
ルスＣＬ１としてセレクタ２２０へ出力される。即ち、
セレクタ２２０には基準クロックパルスＣＬ０と調整用
クロックパルスＣＬ１とが入力され、セレクタ２２０は
２者択一的にいずれか一方のクロックパルスを第２カウ
ンタ２３０に出力する。具体的には、第１および第２ポ
リゴンミラー４１、４２の原点４１ａ、４２ａが一致し
ている場合には基準クロックパルスＣＬ０を第２カウン
タ２３０に出力し、原点４１ａ、４２ａが一致していな
い場合には調整用クロックパルスＣＬ１を第２カウンタ
２３０に出力する。

【００２９】第２カウンタ２３０は、セレクタ２２０に
より選択された基準クロックパルスＣＬ０または調整用
クロックパルスＣＬ１の立上がりを１００ずつカウント
し、第２駆動パルスＰＯＬ２を出力する。図３を参照す
ると、セレクタ２２０により基準クロックパルスＣＬ０
が選択されている場合（同期時）には、第２駆動パルス
ＰＯＬ２は周期１００Ｔのクロックパルスであり、第１
駆動パルスＰＯＬ１と周期が一致し、さらに第１カウン
タ２１０および第２カウンタ２３０を同期動作させるこ
とにより、位相も一致させることができる。

【００３０】一方、セレクタ２２０により調整用クロッ
クパルスＣＬ１が選択されている場合（同期調整時）に
は、調整用クロックパルスＣＬ１の第９９９パルスの周
期が２Ｔであるために、第１〜９パルスの周期は１００
Ｔであるが第１０パルスの周期のみが１０１Ｔとなる。
言い換えると、第２駆動パルスＰＯＬ２は第１駆動パル
スＰＯＬ１に対して１０パルス毎に時間Ｔだけ位相が徐
々にずれていくクロックパルスとなる。即ち、第２ポリ
ゴンミラー４２の回転は、第２駆動パルスＰＯＬ２の１
０パルス毎に一時的に減速される。

【００３１】従って、調整用クロックパルスＣＬ１が選
択された同期調整時には、第２ポリゴンミラー４２は第
１ポリゴンミラー４１に対して位相的に遅れることにな
り、両者の位相差が調整される。例えば図１に示すよう
に第１および第２ポリゴンミラー４１、４２の双方が反
時計回りに回転している場合、第２ポリゴンミラー４２
の回転を間欠的に一時減速させると、原点４２ａは原点
４１ａに対してその円周方向の相対位置が原点４１ａに
対して徐々にずれ、これにより原点４１ａおよび原点４
２ａの位置を一致させることができる。

【００３２】また、第１ポリゴンミラー４１の回転速度
に対応した第１駆動パルスＰＯＬ１のパルス列の１パル
スだけ間引いたものを第２駆動パルスＰＯＬ２とするこ
とも考えられるが、このように周期変化が大きいクロッ
クパルスを直接第２駆動パルスＰＯＬ２として用いれ
ば、第２ポリゴンミラー４２の回転への影響が大きくな
り、制御に悪影響を及ぼす恐れがある。このような影響
を小さくするために、本実施形態では、第１ポリゴンミ
ラー４１の回転速度に対応したクロックパルスの１／１
００の周期を有する基準クロックパルスＣＬ０を１００
０パルス毎に間引いて調整用クロックパルスＣＬ１を生
成し、この調整用クロックパルスＣＬ１の周期を１００
倍に戻して第２駆動パルスＰＯＬ２として用いている。
第２駆動パルスＰＯＬ２の第１〜９パルスと第１０パル
スとの周期の比は１００：１０１であり、微少量の周期
変化で済み、これにより間引きによる速度比は約０．９
９、即ち減速割合が約１％となり、第２ポリゴンミラー
４２の回転への影響が小さくなる。

【００３３】セレクタ２２０による基準クロックパルス
ＣＬ０または調整用クロックパルスＣＬ１の選択・出力
は、速度制御回路２５０から出力される制御信号ＳＥＬ
に基いて行われ、例えば制御信号ＳＥＬのレベルがＬＯ
Ｗの時には基準クロックパルスＣＬ０が選択され、ＨＩ
ＧＨのときには調整用クロックパルスＣＬ１に切替えら
れる。

【００３４】図４および図５のタイミングチャートを参
照して、速度制御回路２５０の動作を説明する。原点信
号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２は例えば図に示すように原点４１
ａ、４２ａが検出されると一定時間だけＨＩＧＨになる
パルス信号である。

【００３５】速度制御回路２５０は原点信号ＯＲＧ１、
ＯＲＧ２が一致しているか否か、具体的には原点信号Ｏ
ＲＧ１がＨＩＧＨからＬＯＷに切替わった立下り時に原
点信号ＯＲＧ２がＨＩＧＨであるか否かを監視してお
り、図４に示すように原点信号ＯＲＧ１の立下り時に原
点信号ＯＲＧ２がＬＯＷの状態においては、原点信号Ｏ
ＲＧ１、ＯＲＧ２が一致していないとみなされ、制御信
号ＳＥＬのレベルはＬＯＷである。

【００３６】このとき、制御信号ＳＥＬに基いてセレク
タ２２０は調整用クロックパルスＣＬ１を出力し、第２
ポリゴンミラー４２は第１ポリゴンミラー４１に対して
一時的に減速されて回転する。従って、原点信号ＯＲＧ
２がＨＩＧＨに切替わるタイミングは原点信号ＯＲＧ１
がＨＩＧＨに切替わるタイミングに対して、遅れる方向
（図中時間が増加する右方向）に移動する。

【００３７】図５は、その後同期調整が完了する時点の
原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２、および制御信号ＳＥＬを
示すタイミングチャートであり、原点信号ＯＲＧ１の立
下り時に原点信号ＯＲＧ２のＨＩＧＨが検出されると、
２つの原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２が一致したとみなさ
れる。ここで、制御信号ＳＥＬはＨＩＧＨに切替えら
れ、セレクタ２２０は制御信号ＳＥＬに応じて調整用ク
ロックパルスＣＬ１から基準クロックパルスＣＬ０に切
替える。

【００３８】このように、１つの基準クロックパルスＣ
Ｌ０から全ての制御用クロックパルス、即ち調整用クロ
ックパルスＣＬ１、第１および第２駆動パルスＰＯＬ
１、ＰＯＬ２が生成されるので、２つのポリゴンミラー
４１、４２の同期制御は単純になる。

【００３９】図６はレーザ描画装置の動作を示すフロー
チャートであり、電源が投入されると第１および第２ポ
リゴンミラー４１、４２の駆動が開始され、所定の回転
速度にまで回転させられる（ステップＳ１０１）。なお
ステップＳ１０１の初期状態において、第１および第２
ポリゴンミラー４１、４２の回転速度は、双方とも第１
駆動パルスＰＯＬ１に対応する同期時の速度に一致す
る。

【００４０】次に、同期制御処理が行われ（ステップＳ
１０２）、その後、描画動作即ちレーザビームＬＢ１お
よびＬＢ２による回路パターンの描画が開始される（ス
テップＳ１０３）。このように、レーザビームＬＢ１お
よびＬＢ２による走査時においては、第１および第２ポ
リゴンミラー４１、４２は常に同期制御された状態であ
り、これにより常に一定の反射面からの走査が可能とな
る。

【００４１】図７は図６における同期制御処理の詳細を
示すフローチャートであり、同期制御回路６０における
動作を示している。まず２つの原点信号ＯＲＧ１および
ＯＲＧ２が一致していたか否かが判定され（ステップＳ
２０１）、一致していなかったときは同期調整、即ち制
御信号ＳＥＬをＬＯＷに定めて第２ポリゴンミラー４２
の回転速度を遅くする動作が開始される（ステップＳ２
０４）。この同期調整は原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２の
一致が検出されるまで（ステップＳ２０５）継続して実
行され、原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２の一致が検出され
ると、同期調整は終了する（ステップＳ２０６）。

【００４２】一方、ステップＳ２０１において原点信号
ＯＲＧ１、ＯＲＧ２の一致が検出された場合でも、一
端、制御信号ＳＥＬをＬＯＷに定めて同期調整が開始さ
れる（ステップＳ２０２）。そして、原点信号ＯＲＧ
１、ＯＲＧ２が不一致になるまでステップＳ２０３が繰
り返し実行され、再び原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２が一
致するまでステップＳ２０５が繰り返し実行される。

【００４３】このように、同期調整回路６０において
は、原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２が不一致であれば一致
するまで同期調整を行い、原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２
が一致している場合には一端不一致になった後再び一致
するまで同期調整を行っている。これは、図５を参照す
ると、ステップＳ２０１において原点信号ＯＲＧ１、Ｏ
ＲＧ２の一致が検出された場合においても、原点信号Ｏ
ＲＧ１の立下り（点Ｒ１）が原点信号ＯＲＧ２のＨＩＧ
Ｈの後方部分、例えば点Ｒ３と一致する可能性もあり、
原点信号ＯＲＧ１、ＯＲＧ２が一致したと判定されたと
しても、実際には原点４１ａおよび４２ａが微少量ずれ
ている可能性があるからである。しかし、ステップＳ２
０１において一致が検出されても、一端不一致になるよ
うに同期調整するので、常に点Ｒ１は原点信号ＯＲＧ２
の立下り部分に近い点Ｒ２に一致し、第１および第２ポ
リゴンミラー４１、４２を確実かつ高精度に同期させる
ことができる。

【００４４】

【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば２つのポ
リゴンミラーを高精度に同期させることができ、副走査
方向における回路パターンのずれを防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係るレーザ描画装置の一実施形態を
示す図であって、主要構成を示すブロック図である。

【図２】 図１に示すポリゴン同期制御部の構成を詳細
に示すブロック図である。

【図３】 図２に示すポリゴン同期制御部におけるクロ
ックパルスを示すタイミングチャートである。

【図４】 同ポリゴン同期制御部における同期開始時の
原点信号および制御信号を示すタイミングチャートであ
る。

【図５】 同ポリゴン同期制御部における同期完了時の
原点信号および制御信号を示すタイミングチャートであ
る。

【図６】 図１に示すレーザ描画装置の動作を示すフロ
ーチャートである。

【図７】 図６における同期制御処理の詳細を示すフロ
ーチャートである。

【符号の説明】

１０ レーザビーム光源 ２０ レーザビーム振分け手段 ４１ 第１ポリゴンミラー ４２ 第２ポリゴンミラー ４１ａ、４２ａ 原点 ６０ ポリゴン同期制御部 ７２ 被描画体 ２２０ セレクタ ＣＬ０ 基準クロックパルス ＣＬ１ 調整用クロックパルス ＰＯＬ１ 第１駆動パルス ＰＯＬ２ 第２駆動パルス

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/23 １０３ Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2H045 AA01 AA54 BA26 BA36 2H097 AA03 BB10 CA17 LA09 5C072 AA03 BA03 BA05 BA17 HA02 HA06 HA10 HA13 HB13 HB16 5C074 AA02 AA10 AA12 BB03 CC22 CC26 DD13 EE02 EE05 GG04 GG09

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被描画体に対してレーザビームを主走査
   方向に偏向させつつ前記レーザビームを画像データに基
   づいて変調させて前記被描画体を描画するレーザ描画装
   置であって、 単一のレーザビーム光源と、 前記レーザビーム光源からのレーザビームを２つの光路
   に振り分けるレーザビーム振分け手段と、 所定の回転速度で回転することにより、前記レーザビー
   ム振分け手段によって振り分けられたレーザービームを
   それぞれ前記被描画体に対して主走査方向に偏向させる
   第１および第２ポリゴンミラーと、 前記第１および第２ポリゴンミラーの回転速度を同一の
   所定の周波数を有する基準クロックパルスに基づいて制
   御し、前記第２ポリゴンミラーの回転速度を前記所定の
   回転速度から変化させ、前記第１および第２ポリゴンミ
   ラーにそれぞれ設けられた原点が一致したときに、前記
   第２ポリゴンミラーの回転速度を前記所定の回転速度に
   戻すことによって、前記第１および第２ポリゴンミラー
   を同期させるポリゴン同期制御手段とを備えることを特
   徴とするレーザ描画装置。
2. 【請求項２】 前記ポリゴン同期制御手段は、前記第１
   および第２ポリゴンミラーを同期させる際に、前記第２
   ポリゴンミラーの回転速度を減速することを特徴とする
   請求項１に記載のレーザ描画装置。
3. 【請求項３】 前記ポリゴン同期制御手段は、前記第１
   および第２ポリゴンミラーを同期させる際に、前記基準
   クロックパルスを間引いた調整用クロックパルスにより
   前記第２ポリゴンミラーの回転速度を制御することを特
   徴とする請求項２に記載のレーザ描画装置。
4. 【請求項４】 前記ポリゴン同期制御手段は、前記第２
   ポリゴンミラーの回転速度を設定するクロックパルスを
   切替えるセレクタを備え、このセレクタには前記基準ク
   ロックパルスおよび前記調整用クロックパルスが入力さ
   れていることを特徴とする請求項３に記載のレーザ描画
   装置。
5. 【請求項５】 前記ポリゴン同期制御手段は、前記第１
   および第２ポリゴンミラーの原点の一致を検出する検出
   手段を備え、前記セレクタは前記検出手段の検出結果に
   基いて前記基準クロックパルスまたは前記調整用クロッ
   クパルスを切替えることを特徴とする請求項４に記載の
   レーザ描画装置。
6. 【請求項６】 前記ポリゴン同期制御手段は、前記第１
   ポリゴンミラーを駆動するための第１駆動パルスを生成
   する第１カウンタと、前記第２ポリゴンミラーを駆動す
   るための第２駆動パルスを生成する第２カウンタとを備
   え、前記第１駆動パルスは前記基準クロックパルスのＮ
   倍（Ｎ：２以上の整数）の周期を有し、前記第２駆動パ
   ルスは前記セレクタにより切替えられた前記基準クロッ
   クパルスまたは前記調整用クロックパルスのＮ倍の周期
   を有することを特徴とする請求項５に記載のレーザ描画
   装置。
7. 【請求項７】 前記Ｎが１００以上の整数であることを
   特徴とする請求項６に記載のレーザ描画装置。