JPH10232362A - レーザ描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被描画体に対してレーザビームを主走査方向
に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると
共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させ
て描画パターンを記録するレーザ描画装置であって、描
画パターンの全体が少なくとも２つのバンドに基づく部
分描画パターンをつなぎ合わせて得られるレーザ描画装
置において、互いに隣接する双方のバンドに跨がって描
画パターンが記録される際にその描画パターンがバンド
のつなぎ目でその連続性あるいは一体性を損なうことな
く得られるようにする。 【解決手段】 部分描画パターン間にそのつなぎ合わせ
境界を含む所定幅のつなぎ領域を設定し、このつなぎ領
域でのラスタデータに基づく描画記録が２回繰り返さ
れ、第１回目の記録時、ラスタデータをマスクデータで
マスク処理し、第２回目の記録時、反転マスクデータで
マスク処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は被描画体に対してレ
ーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副
走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデ
ータに基づいて変調させて所望の描画パターンを記録す
るレーザ描画装置に関し、一層詳しくは該描画パターン
の全体が少なくとも２つのバンドに基づく部分描画パタ
ーンをつなぎ合わせて得られるように構成されたレーザ
描画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述したようなレーザ描画装置は、一般
的には、適当な被描画体の表面に微細なパターンをレー
ザビームでもって描画するために使用されるものであ
り、代表的な使用例としては、フォトリソグラフの手法
を用いてプリント回路基板の製造過程での回路パターン
やプラズマ表示パネル（ＰＤＰ）の透明電極パターンの
描画が挙げられる。この場合、被描画体としては、例え
ばフォトマスク用感光フィルムあるいは基板上のフォト
レジスト層が挙げられる。

【０００３】近年、描画パターンの設計プロセスからそ
の描画プロセスに至るまでの一連のプロセスが統合化さ
れ、レーザ描画装置はそのような描画統合システムの一
翼を担うものである。即ち、描画統合システムには描画
パターン等の設計を行うようになったＣＡＤ(Computer
Aided Design) ステーション、このＣＡＤステーション
で作成された描画パターン等のパターンデータ（ベクタ
データ）に編集処理を施すＣＡＭ(Computer Aided Manu
facturing)ステーション等が設けられ、レーザ描画装置
は描画統合システムの周辺機器として機能する。また、
描画統合システムには通常は複数台のレーザ描画装置が
配備され、それらレーザ描画装置の全体制御を統率する
ために描画統合システムにはエンジニアリングワークス
テーション（ＥＷＳ) も設けられる。

【０００４】ＣＡＤステーションで作成された描画パタ
ーンベクタデータあるいはＣＡＭステーションで編集さ
れた描画パターンベクタデータはＥＷＳに設けられたハ
ードディスク装置に一旦格納され、その描画パターンベ
クタデータは適宜ＥＷＳからレーザ描画装置に転送され
る。レーザ描画装置では、描画パターンベクタデータを
描画パターンラスタデータとして変換し、この描画パタ
ーンラスタデータに基づいて所望の描画パターンの記録
が行われる。即ち、レーザ描画装置では、フォトマスク
用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト層等の
被描画体がレーザビームでもって主走査方向に沿って走
査させられると共に副走査方向に順次移動させられ、こ
のときレーザビームの変調が上述の描画パターンラスタ
データに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従っ
て行われ、これにより被描画体上には所望の描画パター
ンが記録される。

【０００５】ところで、上述したようなレーザ描画装置
で記録される描画パターンの主走査方向の最大幅はレー
ザビームの主走査方向に沿う最大走査幅（描画範囲）に
よって決まり、そのような主走査方向に沿う最大走査幅
を越える描画パターンを記録する場合には、描画作動が
複数回行われ、個々の描画作動で得られる部分描画パタ
ーンを順次つなぎ合わせることによって所望の描画パタ
ーンの全体が得られる。なお、当該技術分野では、個々
の描画作動で記録される際の部分描画パターンの主走査
方向に沿う幅については一般的にバンドと呼ばれる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】さて、上述したように
複数バンドに跨がって描画パターンの全体が記録画され
るような場合には、その描画パターンの連続性あるいは
一体性が互いに隣接する双方のバンドの境界即ちつなぎ
目で損なわれるという問題が伴う。即ち、互いに隣接す
る双方のバンドのつなぎ目では隣接する画素（ドット）
間に微細なずれが生じ、これにより描画パターンの連続
性あるいは一体性が損なわれる。例えば、かかるつなぎ
目に複雑な微細な回路パターンが跨がる場合には、その
箇所で回路パターンに短絡や欠損が発生し得ることにな
る。また、描画パターンがプラズマ表示パネル（ＰＤ
Ｐ）の透明電極パターンである場合には、プラズマ表示
パネルの作動時に上述のつなぎ目がその表示画面上にゴ
ースト像のように現われるということになる。

【０００７】従って、本発明の目的は、所望の描画パタ
ーンの全体が少なくとも２つのバンドに基づく部分描画
パターンをつなぎ合わせて得られるように構成されたレ
ーザ描画装置であって、互いに隣接する双方のバンドに
跨がって描画パターンが記録される際にその描画パター
ンが該バンドのつなぎ目でその連続性あるいは一体性を
損なうことなく得られるように構成されたレーザ描画装
置を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ描画
装置は、被描画体に対してレーザビームを主走査方向に
偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共
に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させて
所望の描画パターンを該被描画体に記録するものであっ
て、描画パターンの全体が少なくとも２つのバンドに基
づく部分描画パターンをつなぎ合わせて得られるように
構成されるものである。本発明によれば、そのようなレ
ーザ描画装置において、部分描画パターン間にそのつな
ぎ合わせ境界を含む所定幅のつなぎ領域が設定され、こ
のつなぎ領域でのラスタデータに基づく記録が２回繰り
返され、第１回目の記録時、そのラスタデータが所定の
マスクデータでマスク処理され、第２回目の記録時、そ
のラスタデータが該マスクデータの反転マスクデータで
マスク処理されることが特徴とされる。

【０００９】本発明によるレーザ描画装置にあっては、
ラスタデータに対するマスク処理が該ラスタデータの所
定ビット単位で行われ、この所定ビット単位でマスク処
理を行う際に該マスクデータのパターン形態を順次変化
させてもよい。

【００１０】

【発明の実施の形態】次に、本発明によるレーザ描画装
置の一実施形態について添付図面を参照して説明する。

【００１１】図１には、本発明によるレーザ描画装置が
斜視図として概略的に示され、このレーザ描画装置は描
画テーブル１０を具備し、この描画テーブル１０の移動
平面上には同図に示すようにレーザ描画装置の機枠に対
して不動となったＸＹ座標系が設定される。描画テーブ
ル１０はＸＹ駆動機構（図１には示されない）上に搭載
され、このＸＹ駆動機構により、描画テーブル１０はＸ
軸方向及びＹ軸方向に沿って移動可能である。描画テー
ブル１０上には例えば被描画体としてフォトマスク用感
光フィルムあるいはフォトレジスト層を持つ基板が適当
な搬送手段例えばベルトコンベヤ等で搬送され、その被
描画体は描画テーブル１０上で適当なクランプ手段（図
示されない）によって固定される。

【００１２】なお、描画テーブル１０の移動平面上に設
定されたＸＹ座標軸において、Ｙ軸の正側方向が主走査
方向となり、またＸ軸の負側方向が副走査方向となる。

【００１３】レーザ描画装置はレーザ発生光源として例
えばアルゴンレーザ発生器１２を具備し、このアルゴン
レーザ発生器１２から射出されたレーザビームＬＢはビ
ームベンダ１４によって上方に偏向される。描画テーブ
ル１０の上方側には、図示されない適当な支持構造体に
よって支持された固定テーブル板１６が配置され、この
固定テーブル板１６上には種々の光学要素が設置され、
これら光学要素によってレーザビームＬＢは走査レーザ
ビームとして描画テーブル１０上に導かれる。

【００１４】固定テーブル板１６にはビームベンダ１８
が設けられ、このビームベンダ１８はビームベンダ１４
からのレーザビームＬＢを受け取った後にビームスプリ
ッタ２０に向けて反射する。レーザビームＬＢはビーム
スプリッタ２０によって２つのレーザビームＬＢ１及び
ＬＢ２に分割され、レーザビームＬＢ１はビームベンダ
２２及び２４を介してビームセパレータ２６に向かわさ
れ、またレーザビームＬＢ２はビームベンダ２８、３０
及び３２を介してビームセパレータ３４に向かわされ
る。

【００１５】ビームセパレータ２６はレーザビームＬＢ
１を８本の平行レーザビームに分割し、同様にビームセ
パレータ３４もレーザビームＬＢ２を８本の平行レーザ
ビームに分割する。ビームセパレータ２６からの８本の
平行レーザビームはビームベンダ３６及び３８によって
電子シャッタ４０に導かれ、またビームセパレータ３４
からの８本の平行レーザビームはビームベンダ４２及び
４４によって電子シャッタ４６に導かれる。

【００１６】電子シャッタ４０及び４６の各々は８つの
音響光学素子及びそれら音響光学素子の駆動回路を含
み、各音響光学素子には８本のレーザビームのうちの該
当レーザビームが割り当てられる。電子シャッタ４０を
経た８本のレーザビームは光合成器４８に入射させら
れ、一方電子シャッタ４６を経た８本のレーザビームも
ビームベンダ５０を介して光合成器４８に入射させられ
る。光合成器４８は例えば偏光ビームスプリッタとして
構成され得るものであり、電子シャッタ４０及び４６の
それぞれを経た８本のレーザビームは光合成器即ち偏光
ビームスプリッタ４８によって16本のレーザビームに纏
められる。16本のレーザビームはビームベンダ５２、５
４及び５６を介してポリゴンミラー５８に入射させら
れ、その各回転反射面によって主走査方向（Ｙ軸の正
側）に沿って偏向させられる。

【００１７】ポリゴンミラー５８の各回転反射面によっ
て主走査方向に沿って偏向させられる16本のレーザビー
ムは先ずｆθレンズ６０を通過させられ、次いでターニ
ングミラー６２によって描画テーブル１０側に向かわせ
られた後にコンデンサレンズ６４を経て描画テーブル１
０上に到達させられる。要するに、描画テーブル１０上
に設置された被描画体はポリゴンミラー５８の各回転反
射面によって主走査方向（Ｙ軸の正側方向）に偏向させ
られる16本の偏向レーザビームでもって走査される。

【００１８】描画テーブル１０上に設置された被描画体
の描画面が16本の走査レーザビームでもって走査される
とき、各電子シャッタ４０、４６の８つの音響光学素子
の駆動回路がラスタデータに基づいて所定の周波数のク
ロックパルスに従って作動させられ、これにより16本の
走査レーザビームがラスタデータに基づいて変調させら
れる。一方、16本の走査レーザビームが主走査方向に偏
向される間、描画テーブル１０は副走査方向（Ｘ軸の負
側方向）に順次移動させられ、16本の走査レーザビーム
による主走査方向に沿う偏向が終了したとき、描画テー
ブル１０の移動距離はかかる16本の走査レーザビームの
副走査方向の幅に相当した距離となる。かくして、16本
の走査レーザビームによる主走査方向に沿う偏向を繰り
返すことにより、被描画体上の描画面には描画パターン
が順次記録されることになる。

【００１９】図２は図１に示したレーザ描画装置の制御
ブロック図であり、同図に示すように、レーザ描画装置
はその描画作動を制御するようになったエンジニアリン
グワークステーション（ＥＷＳ）６６に接続される。Ｅ
ＷＳ６６にはホストコントローラ６８が設けられ、この
ホストコントローラ６８は例えば中央演算装置（ＣＰ
Ｕ）等のマイクロプロセッサ及びメモリ（ＲＯＭ、ＲＡ
Ｍ）、インターフェース回路等からなるマイクロコンピ
ュータとして構成される。

【００２０】図２に示すように、ＥＷＳ６６にはキーボ
ード７０が設けられ、このキーボード７０を介して、レ
ーザ描画装置の全体作動を制御するための種々の指令信
号やその制御に必要なデータ等がホストコントローラ６
８に入力される。また、ホストコントローラ６８にはハ
ードディスク装置７２が接続され、このハードディスク
装置７２はＣＡＤステーションやＣＡＭステーションか
らＥＷＳ６６に転送されてきた描画ベクタデータ等を格
納するために使用される。更に、ホストコントローラ６
８にはＣＲＴ表示装置７４が接続され、このＣＲＴ表示
装置７４には例えば描画ベクタデータに描画前に必要な
処理を施す際に該描画ベクタデータが展開されて被描画
パターンとして表示される。

【００２１】図２から明らかなように、レーザ描画装置
にはシステムコントローラ７６が設けられ、このシステ
ムコントローラ７６もホストコントローラ６８と同様に
中央演算装置（ＣＰＵ）等のマイクロプロセッサ及びメ
モリ（ＲＯＭ、ＲＡＭ）、インターフェース回路等から
なるマイクロコンピュータとして構成される。システム
コントローラ７６はＬＡＮインターフェース回路７７を
介してＥＷＳ６６のホストコントローラ６８と接続さ
れ、その間で種々の指令信号の授受が行われ、またＥＷ
Ｓ６６から転送される描画ベクタデータはＬＡＮインタ
ーフェース回路７７を介してレーザ描画装置内に取り込
まれる。

【００２２】図２に示すように、システムコントローラ
７６は主走査制御回路７８を制御するようになってお
り、この主走査制御回路７８には上述した電子シャッタ
４０及び４６及びこれら電子シャッタ４０及び４６に接
続された描画データ処理回路８０が設けられる。描画デ
ータ処理回路８０はＥＷＳ６６に接続され、そこから描
画ベクタデータの転送を受け、その描画ベクタデータは
適宜処理されて描画ラスタデータとして電子シャッタ４
０及び４６に対して出力される。

【００２３】図３を参照すると、そこには描画データ処
理回路８０の詳細なブロック図が示され、同図に示すよ
うに、描画データ処理回路８０にはバッファメモリ８０
Ａが設けられ、このバッファメモリ８０Ａには例えばＥ
ＷＳ６６のハードディスク装置７２から読み出された所
定の描画ベクタデータがＬＡＮインターフェース回路７
７を介して転送されてそこに一時的に保持される。バッ
ファメモリ８０Ａからは描画ベクタデータが適宜読み出
され、その読出し描画ベクタデータはラスタデータ変換
回路８０Ｂによって描画ラスタデータに変換される。変
換後の描画ラスタデータは順次ビットマップメモリ８０
Ｃに展開されて所定のアドレスに書き込まれる。

【００２４】なお、バッファメモリ８０Ａの描画ベクタ
データの書込み及びそこからの描画ベクタデータの読出
しについてはシステムコントローラ７６から出力される
書込みクロックパルス及び読出しクロックパルスによっ
て行われ、またビットマップメモリ８０Ｃへの描画ラス
タデータの書込みもシステムコントローラ７６から出力
される書込みクロックパルスによって行われる。

【００２５】ビットマップメモリ８０Ｃからは描画ラス
タデータが16本の走査レーザビームに対応して16ビット
分ずつ読み出され、この読出しについてはアドレス信号
作成回路８０Ｄから該ビットマップメモリ８０Ｃに対し
て出力されるアドレス信号に従って行われ、それらアド
レス信号はラインカウンタ８０Ｅ及び第１スキャンカウ
ンタ８０Ｆから該アドレス信号作成回路８０Ｄに対して
出力されるカウント信号に基づいて作成される。ライン
カウンタ８０Ｅ及び第１スキャンカウンタ８０Ｆは共に
ダウンカウンタとして構成され、ラインカウンタ８０Ｅ
には１バンド分の描画ラスタデータに含まれる主走査方
向の描画ラインの総数が設定され、また第１スキャンカ
ウンタ８０Ｆには主走査方向の各描画ラインに含まれる
画素（ドット）の総数が設定される。

【００２６】ビットマップメモリ８０Ｃから16ビット分
ずつ読み出された描画ラスタデータは論理合成回路８０
Ｇに対して出力され、そこで描画ラスタデータには必要
に応じてマスクデータによりマスク処理が施される。こ
のようなマスク処理については、例えば主走査方向の各
描画ラインに対して16ビット分ずつ行われる。

【００２７】論理合成回路８０Ｇにはマスクデータメモ
リ８０Ｈが接続され、このマスクデータメモリ８０Ｈに
は所定のマスクデータが予め格納され、そこから所定の
マスクデータが論理合成回路８０Ｇに対して適宜出力さ
れる。また、論理合成回路８０Ｇにはマスクデータ判定
回路８０Ｉも接続され、そこから論理合成回路８０Ｇに
対して指令信号が出力され、この指令信号により、論理
合成回路８０Ｇに対して出力されたマスクデータが適宜
加工される。例えば、マスクデータ判定回路８０Ｉから
無マスク指令信号が出力された場合には、論理合成回路
８０Ｇ内のマスクデータの全てが“１”とされ、描画ラ
スタデータに対するマスク処理が無効とされ、またマス
クデータ判定回路８０から反転マスク指令信号が出力さ
れた場合には、マスクデータの“０”及び“１”が反転
され、この反転マスクデータによって描画ラスタデータ
は反転マスク処理を受ける。

【００２８】マスクデータメモリ８０Ｈ及びマスクデー
タ判定回路８０Ｉには上述した第１スキャンカウンタ８
０Ｆが接続され、また第２スキャンカウンタ８０Ｊ及び
第３スキャンカウンタ８０Ｋも接続される。第２スキャ
ンカウンタ８０Ｊ及び第３スキャンカウンタ８０Ｋもラ
インカウンタ８０Ｅ及び第１スキャンカウンタ８０Ｆと
同様にダウンカウンタとして構成される。第２スキャン
カウンタ８０Ｊ及び第３スキャンカウンタ８０Ｋのそれ
ぞれには後述するように所定の初期値データが設定さ
れ、各スキャンカウンタ８０Ｊ、８０Ｋの設定数値デー
タのカウントダウンが完了したとき、カウントダウン完
了信号がマスクデータメモリ８０Ｈ及びマスクデータ判
定回路８０Ｉに対して出力され、これによりマスクデー
タメモリ８０Ｈから論理合成回路８０Ｇへのマスクデー
タの出力タイミング及びマスクデータ判定回路８０Ｉか
ら論理合成回路８０Ｇへの指令信号の出力タイミングが
制御される。

【００２９】なお、ラインカウンタ８０Ｅ、第１スキャ
ンカウンタ８０Ｆ、第２スキャンカウンタ８０Ｊ及び第
３スキャンカウンタ８０Ｋへの種々の初期値データの設
定及びそれぞれのカウンタの始動についてはカウンタ制
御回路８０Ｌよって行われ、このカウンタ制御回路８０
Ｌはシステムコントローラ７６の制御下で作動させられ
る。

【００３０】論理合成回路８０Ｇで処理された描画ラス
タデータは16ビット分ずつ同期回路８０Ｍに対して出力
され、また同期回路８０Ｍにはシステムコントローラ７
６から所定周波数のクロックパルスも出力される。同期
回路８０Ｍからは16ビット分の描画ラスタデータに基づ
いて電子シャッタ４０及び４６の総計16個の音響光学素
子のそれぞれの駆動回路に対して制御電圧信号が所定周
波数のクロックパルスに従って出力される。かくして、
ポリゴンミラー５８によって主走査方向に偏向される16
本のレーザビームは同期回路８０Ｍから出力される16ビ
ット分のラスタデータに基づいて電子シャッタ４０及び
４６によって変調される。

【００３１】再び図２に戻って説明すると、同図に示す
ように、主走査制御回路７８には更にＹスケールセンサ
８２及び信号処理回路８４が設けられる。Ｙスケールセ
ンサ８２は走査レーザビームの主走査方向に沿う偏向距
離を計測して検出するものであり、それ自体は周知のも
のである。描画作動時、Ｙスケールセンサ８２からの出
力信号は信号処理回路８４によって適宜処理された後に
システムコントローラ７６に送られ、それに基づいて同
期回路８０Ｍに出力すべき所定周波数のクロックパルス
が作成される。また、第１スキャンカウンタ８０Ｆ、第
２スキャンカウンタ８０Ｊ及び第３スキャンカウンタ８
０Ｋがそれぞれ始動された後、そのカウントは同期回路
８０Ｍに対して出力される所定周波数のクロックパルス
に基づいて行われる。

【００３２】図２のブロック図において、参照符号８６
は上述したＸＹ駆動機構の制御回路を示し、このＸＹ駆
動機構制御回路８６には副走査制御回路８８が含まれ
る。副走査制御回路８８には、描画テーブル１０を副走
査方向（Ｘ軸）に移動させるためのＸ軸サーボモータ９
０と、このＸ軸サーボモータ９０に駆動パルスを出力す
るためのＸ軸駆動回路９２とが設けられる。Ｘ軸駆動回
路９２はシステムコントローラ７６から出力される駆動
制御クロックパルスに基づいてＸ軸サーボモータ９０の
ための駆動パルスを出力する。

【００３３】また、副走査制御回路８８にはＸスケール
センサ９４及び信号処理回路９６が設けられ、Ｘスケー
ルセンサ９４は16本のレーザビームの副走査方向に沿う
相対的移動距離即ち描画テーブル１０の副走査方向に沿
う移動距離を計測して検出するものであり、それ自体は
周知のものである。描画作動時、Ｘスケールセンサ９４
からの出力信号は信号処理回路９６によって適宜処理さ
れた後にシステムコントローラ７６に送られ、それに基
づいてＸ軸駆動回路９２に出力すべき駆動制御クロック
パルスが作成される。また、ラインカウンタ８０Ｅが始
動された後、そのカウントはＸ軸駆動回路９２に対して
出力される駆動制御クロックパルスに基づいて行われ
る。

【００３４】ＸＹ駆動機構制御回路８６には更にＹ軸サ
ーボモータ９８及びＹ軸駆動回路１００が設けられ、Ｙ
軸駆動回路１００はシステムコントローラ７６から出力
される駆動制御クロックパルスに基づいてＹ軸サーボモ
ータ９８のための駆動パルスを出力する。

【００３５】次に、添付図面の図４ないし図８を参照し
て、本発明によるレーザ描画装置のの描画作動原理につ
いて説明する。

【００３６】先ず、本発明によるレーザ描画装置の描画
作動原理の理解のために、図４ないし図６を参照して、
従来のレーザ描画装置において、３つのバンドに基づく
部分描画パターンをつなぎ合わせて描画パターンの全体
を記録する場合について説明する。図４に示すように、
最初に第１バンドに基づく部分描画パターン記録が行わ
れ、次いで第２バンドに基づく部分描画パターン記録が
行われ、最後に第３バンドに基づく部分描画パターン記
録が行われる。この場合、全体の描画パターンの連続性
あるいは一体性が互いに隣接する双方のバンドの境界即
ちつなぎ目で損なわれる。というのは、第１バンド及び
第２バンドとの間のつなぎ目及び第２バンドと第３バン
ドとの間のつなぎ目では互いに隣接する画素（ドット）
間に微細なずれが生じ得るからである。

【００３７】例えば、図５に示すように、第１バンド及
び第２バンドに基づく双方の部分描画パターン記録をい
わゆる黒ベタで行った場合、その両バンド間のつなぎ目
でドットピッチが広がったり、あるいは図６に示すよう
に、ドットピッチが狭まったりする。勿論、そのような
ドットピッチのずれはミクロンオーダの微細なものでは
あるが、しかし、先に述べたように、特に描画パターン
がプラズマ表示パネル（ＰＤＰ）の透明電極パターンで
あるような場合には、プラズマ表示パネルの作動時に上
述のつなぎ目のずれがその表示画面上にゴースト像のよ
うに現われるために問題となる。

【００３８】図７を参照すると、本発明によるレーザ描
画装置において、３つのバンドに基づく部分描画パター
ンをつなぎ合わせて描画パターンの全体を記録する際の
記録態様が模式的に図示されている。本発明によれば、
第１バンド、第２バンド及び第３バンドがそれぞれを設
定する際、そのバンド設定については、その互いに隣接
する両バンドを互いに部分的に所定幅だけオーバーラッ
プさせて、そのオーバーラップ領域に従来のバンド設定
の際につなぎ目となるつなぎ合わせ境界を含ませるよう
に行われる。

【００３９】本発明によれば、描画作動時、例えば、第
１バンドと第２バンドとのオーバーラップ領域即ちつな
ぎ領域では、第１バンドに基づく部分描画パターン記録
と第２バンドに基づく部分描画パターン記録とが２回繰
り返されるが、しかし各バンドでの部分描画パターン記
録時にマスク処理が施され、このとき第２バンドに基づ
く部分描画パターン記録で用いられるマスクデータは第
１バンドに基づく部分記録パターンで用いられるマスク
データの反転されたものとなる。従って、つなぎ領域で
も、部分描画パターン記録は各画素（ドット）について
実質的には１回分だけ行われることになるが、しかしマ
スク処理のためにつなぎ領域での発色画素の記録は２回
の部分描画パターン記録に分けられるので、従来のバン
ド設定の際につなぎ目となるつなぎ合わせ境界でのドッ
トピッチのずれは緩和されて目立たなくなる。

【００４０】図８を参照すると、上述したマスクデータ
及び反転マスクデータの一例が模式的に示され、図中の
マスクデータは第１バンドに基づく部分描画パターン記
録の際につなぎ領域で用いられるものであり、また反転
マスクデータは第２バンドに基づく部分描画パターン記
録の際につなぎ領域で用いられるものである。例えば、
第１バンドの描画ラスタデータ及び第２バンドの描画ラ
スタデータが全て黒ベタのものとされるとき、双方のマ
スクデータに基づくマスク処理の結果として、つなぎ領
域に黒ベタ記録が行われることになる。

【００４１】本実施形態では、上述したように、描画パ
ターン記録は16本の走査レーザビームで行われ、しかも
論理合成回路８０Ｇでのマスク処理が主走査方向の各描
画ラインに対して16ビット分ずつ行われるので、実際に
は、マスクデータは16×16のマトリックス状パターンの
形態を有し、図８に示した黒丸及び白丸に該当するマス
クデータにはそれぞれ“１”及び“０”が与えられる。

【００４２】また、本実施形態では、論理合成回路８０
Ｇでのマスク処理が主走査方向の各描画ラインに対して
16ビット分ずつ行われるということから、つなぎ領域の
幅については16ドット分の長さの倍数を与えるのが適当
である。例えば、描画パターン記録の画素サイズ即ちド
ット径が５μm であるとすると、つなぎ領域の幅として
例えば約１cm（10.24mm)を与えるためには、それは2,04
8 ドット分の長さに相当する。換言すれば、主走査方向
の各描画ラインに対して16ビット分ずつのマスク処理が
１回分とすると、各バンドに基づく描画パターン記録の
際につなぎ領域で必要とされるマスク処理回数は128 回
となる。

【００４３】再び図７を参照すると、第１バンド即ち始
まりバンドの長さがΔY1で示され、このバンド長データ
ΔY1は第１バンドの描画開始位置のＹ座標Y1(a) とその
描画停止位置のＹ座標Y1(b) とから得られる。また、第
２バンド即ち中間バンドの長さがΔY2で示され、このバ
ンド長データΔY2は第２バンドの描画開始位置のＹ座標
Y2(a) とその描画停止位置のＹ座標Y2(b) とから得られ
る。同様に、第３バンド即ち終わりバンドの長さがΔY3
で示され、このバンド長データΔY3は第３バンドの描画
開始位置のＹ座標Y3(a) とその描画停止位置のＹ座標Y3
(b) とから得られる。バンド長さデータΔY1、ΔY2及び
ΔY3はそれぞれの部分描画パターン記録時に第１スキャ
ンカウンタ８０Ｆに設定される。

【００４４】図７において、第１バンド即ち始まりバン
ドに基づく部分描画パターン記録時に16本の走査レーザ
ビームがその描画開始位置からつなぎ領域に到達するま
での距離がΔTY1 で示され、このつなぎ領域到達距離デ
ータΔTY1 は第１バンドの描画開始位置のＹ座標Y1(a)
と第２バンドの描画開始位置のＹ座標Y2(a) とから得ら
れる。また、第２バンド即ち中間バンドに基づく部分描
画パターン記録時に16本の走査レーザビームがその描画
開始位置からつなぎ領域に到達するまでの距離がΔTY2
で示され、このつなぎ領域到達距離データΔTY2 は第２
バンドの描画開始位置のＹ座標Y2(a) と第３バンドの描
画開始位置のＹ座標Y3(a) とから得られる。つなぎ領域
到達距離データΔTY1 及びΔTY2 は始まりバンド及び中
間バンドに基づくそれぞれの部分描画パターン記録時に
第２スキャンカウンタ８０Ｊに設定される。

【００４５】図７において、つなぎ領域の長さがBDで示
され、このつなぎ領域長データBDは第１バンド即ち始ま
りバンドに基づく部分描画パターン記録時には必要とさ
れないが、第２バンド即ち中間バンドに基づく部分描画
パターン記録時に第３スキャンカウンタ８０Ｋに設定さ
れ、またつなぎ領域長データBDは第３バンド即ち終わり
バンドに基づく部分描画パターン記録時にも第３スキャ
ンカウンタ８０Ｋに設定される。

【００４６】次に、図９及び図１０に示すフローチャー
トを参照し本発明によるレーザ描画装置のＥＷＳ６６で
実行されるベクタデータ処理ルーチンについて説明す
る。

【００４７】ステップ９０１では、ハードディスク装置
７２から所定の描画ベクタデータが読み出され、これに
より描画ベクタデータはＣＲＴ表示装置７４の表示画面
上に展開されて表示される。次いで、ステップ９０２で
は、描画ベクタデータに対して複数のバンドを設定する
と共にその隣接バンド間にオーバーラップ領域即ちつな
ぎ領域を設定する。続いて、ステップ９０３では、各バ
ンドに対して、それが始まりバンド（図７では、第１バ
ンド）であるか、中間バンド（図７では、第２バンド）
であるか、あるいは終わりバンド（図７では、第３バン
ド）であるかを区別するバンド種別データが付与され
る。

【００４８】ステップ９０４では、つなぎ領域の長さが
演算され、その演算結果はバンド長データBDとしてホス
トコントローラ６８のＲＡＭ内に格納される。次いで、
ステップ９０５では、各バンドに含まれる副走査方向の
描画ラインの総数が演算され、その演算結果も描画ライ
ン総数データSLとしてホストコントローラ６８のＲＡＭ
内に格納される。

【００４９】ステップ９０６では、各バンド長データ
（ΔY1、ΔY2、ΔY3）に基づいて各バンドに対する描画
開始位置データ(Y１(a), Y2(a), Y3(a))及び描画停止位
置データ(Y１(b), Y2(b), Y3(b))が求められる。なお、
本実施形態では、各バンド長データ（ΔY1、ΔY2、ΔY
3）には同じ値が与えられる。

【００５０】ステップ９０７では、始まりバンド（第１
バンド）及び中間バンド（第２バンド）のつなぎ領域到
達距離データΔTY1 及びΔTY2 を求めるために、描画開
始位置データ(Y１(a), Y2(a), Y3(a))に基づいて以下の
演算が行われる。 ΔTY1 ← Y2(a) - Y1(a) ΔTY2 ← Y3(a) - Y2(a) 続いて、ステップ９０８では、演算結果、即ちつなぎ領
域到達距離データΔTY1及びΔTY2 がホストホストコン
トローラ６６のＲＡＭ内に格納される。

【００５１】ステップ９０９では、該当バンドに基づく
部分描画パターン記録に必要な制御データがレーザ描画
装置側に対して送信されたか否かが判断される。図７を
参照して説明したように、そのような制御データとし
て、描画ライン総数データSL並びにバンド長データΔY
1、ΔY2及びΔY3は全てのバンドにとって共通に必要な
ものであるが、しかし始まりバンド（第１バンド）の場
合には更につなぎ領域到達距離データΔTY1 が、中間バ
ンド（第２バンド）の場合には更につなぎ領域到達距離
データΔTY2 とつなぎ領域長データBDが、終わりバンド
（第３バンド）の場合には更につなぎ領域長データBDが
必要となる。

【００５２】ステップ９０９で部分描画パターン記録に
必要な制御データの送信が確認されると、ステップ９１
０に進み、そこでレーザ描画装置から描画作動準備完了
信号が受信されたか否かが判断される。描画作動準備完
了信号の受信が確認されると、ステップ９１１に進み、
そこで該当バンドの描画ベクタデータがレーザ描画装置
に送信される。次いで、ステップ９１２に進み、そこで
描画開始指令信号がレーザ描画装置に対して出力され
る。

【００５３】ステップ９１３では、次バンドの描画ベク
タデータがあるか否かが判断され、次バンドの描画ベク
タデータがある場合には、ステップ９０９に戻り、ステ
ップ９０９ないしステップ９１３から成るルーチンが繰
り返される。一方、ステップ９１３で次バンドの描画ベ
クタデータが無いことが確認されると、ステップ９１４
に進み、そこで描画終了指令信号がレーザ描画装置側に
出力されると、このベクタデータ処理ルーチンの実行は
完了する。

【００５４】続いて、図１１及び図１２に示したフロー
チャートを参照して、レーザ描画装置側で実行される描
画作動ルーチンについて説明する。

【００５５】ステップ１１０１では、該当バンドに基づ
く部分描画パターン記録に必要な制御データがＥＷＳ６
６から受信されたか否かが判断される。かかる制御デー
タの受信が確認されると、ステップ１１０２に進み、そ
こで当該バンドが始まりバンド（第１バンド）であるか
否かが判断される。

【００５６】ステップ１１０２で当該バンドが始まりバ
ンドであると判断されると、ステップ１１０３に進み、
そこで描画ライン総数データSLがラインカウンタ８０Ｅ
に設定される。次いで、ステップ１１０４では、バンド
長データΔY1が第１スキャンカウンタ８０Ｆに設定され
る。続いて、ステップ１１０５では、つなぎ領域到達距
離データΔTY1 が第２スキャンカウンタ８０Ｊに設定さ
れる。

【００５７】該当バンドに基づく部分描画パターン記録
に必要な制御データが全て所定のカウンタに設定される
と、ステップ１１０６に進み、そこで始まりバンドの描
画ルーチンが実行され、これにより始まりバンドに基づ
く部分描画パターン記録を行われる。なお、始まりバン
ドの描画ルーチンについては図１３及び図１４を参照し
て後述される。

【００５８】ステップ１１０２で該当バンドが始まりバ
ンドでないと判断されると、ステップ１１０２からステ
ップ１１０７に進み、そこで当該バンドが中間バンド
（第２バンド）であるか否かが判断される。

【００５９】ステップ１１０７で当該バンドが中間バン
ドであると判断されると、ステップ１１０８に進み、そ
こで描画ライン総数データSLがラインカウンタ８０Ｅに
設定される。次いで、ステップ１１０９では、バンド長
データΔY2が第１スキャンカウンタ８０Ｆに設定され
る。続いて、ステップ１１１０では、つなぎ領域到達距
離データΔTY2 が第２スキャンカウンタ８０Ｊに設定さ
れ、更にステップ１１１１では、つなぎ領域長データBD
が第３スキャンカウンタ８０Ｋに設定される。

【００６０】該当バンドに基づく部分描画パターン記録
に必要な制御データが全て所定のカウンタに設定される
と、ステップ１１１２に進み、そこで中間バンドの描画
ルーチンが実行され、これにより中間バンドに基づく部
分描画パターン記録を行われる。なお、中間バンドの描
画ルーチンについては図１５及び図１６を参照して後述
される。

【００６１】ステップ１１０７で該当バンドが中間バン
ドでないと判断されたとき、即ち当該バンドが終わりバ
ンド（第３バンド）であると判断されたとき、ステップ
１１０７からステップ１１１３に進み、そこで描画ライ
ン総数データSLがラインカウンタ８０Ｅに設定される。
次いで、ステップ１１１４では、バンド長データΔY3が
第１スキャンカウンタ８０Ｆに設定される。続いて、ス
テップ１１１５では、つなぎ領域長データBDが第３スキ
ャンカウンタ８０Ｋに設定される。

【００６２】該当バンド即ち終わりバンドに基づく部分
描画パターン記録に必要な制御データが全て所定のカウ
ンタに設定されると、ステップ１１１６に進み、そこで
終わりバンドの描画ルーチンが実行され、これにより終
わりバンドに基づく部分描画パターン記録を行われる。
なお、終わりバンドの描画ルーチンについては図１７及
び図１８を参照して後述される。

【００６３】ステップ１１０６、ステップ１１１２及び
ステップ１１１６でそれぞれの描画ルーチンが実行され
た後、ステップ１１１７に進み、そこでＥＷＳ６６から
描画終了信号が受信されているか否かが判断される。描
画終了信号を受信していないとき、即ち描画すべき次バ
ンドの描画ラスタデータがＥＷＳ６６側にあるときに
は、ステップ１１１７からステップ１００１に戻って、
描画作動ルーチンの実行が再び繰り返される。一方、描
画終了信号を受信したときには、この描画作動ルーチン
の実行が完了する。

【００６４】次に、図１３及び図１４のフローチャート
を参照して、図１１のステップ１１０６で実行される始
まりバンド描画ルーチンについて説明する。

【００６５】ステップ１３０１では、ＸＹ駆動制御回路
８６を作動させて描画テーブル１０を原点位置に位置決
めされる。描画テーブル１０が原点位置に位置決めされ
ると、ステップ１３０２に進み、そこでＥＷＳ６６に対
して描画準備完了信号が出力される。次いで、ステップ
１４０３では、始まりバンド（第１バンド）の描画ラス
タデータがＥＷＳ６６から受信されたか否か判断され
る。

【００６６】ステップ１３０３で描画ラスタデータの受
信が確認されると、ステップ１３０４に進み、そこでＥ
ＷＳ６６から描画開始指令信号が受信されたか否かが判
断される。描画開始指令信号の受信が確認されると、ス
テップ１３０５に進み、そこで副走査制御回路８８が作
動されて描画テーブル１０の副走査方向への移動が開始
される。次いで、ステップ１３０６では、ラスタ変換回
路８０Ｂが作動させられて、バッファメモリ８０Ａから
読み出された描画ベクタデータが描画ラスタデータに変
換され、その描画ラスタデータは順次ビットマップメモ
リ８０Ｃに展開されて書き込まれる。

【００６７】ステップ１３０７では、副走査カウンタＣ
_x が副走査描画開始位置データＸ_aの値に到達したか否
かが判断される。副走査カウンタＣ_x はシステムコント
ローラ７６内に形成されるものであって、システムコン
トローラ７６から副走査制御回路８８のＸ軸駆動回路９
２に対して出力される駆動制御クロックパルスをカウン
トするものである。一方、副走査描画開始位置データＸ
_a は描画テーブル１０上に設置された被描画体の描画表
面上に規定されるＸＹ座標のＸ座標値である。従って、
描画テーブル１０を原点位置から移動さるべくシステム
コントローラ７６からＸ軸駆動回路９２に対して出力さ
れる駆動制御クロックパルスをカウントすることによ
り、描画テーブル１０上の被描画体に対する副走査方向
の描画開始位置を知ることができる。

【００６８】副走査カウンタＣ_x のカウント値が副走査
描画開始位置データＸ_a の値に到達したことが確認され
ると、ステップ１３０８に進み、そこでラインカウンタ
８０Ｅが始動させられ、このときラインカウンタ８０Ｅ
の描画ライン総数データSLがシステムコントローラ７６
からＸ軸駆動回路９２に出力される駆動制御クロックパ
ルスに従って減算される。

【００６９】ステップ１３０９では、主走査カウンタＣ
_Y が主走査描画開始位置データＹ_aの値に到達したか否
かが判断される。主走査カウンタＣ_Y も副走査カウンタ
Ｃ_xと同様にシステムコントローラ７６内に形成される
ものであって、システムコントローラ７６から描画デー
タ処理回路８０の同期回路８０Ｍに対して出力される所
定周波数のクロックパルスをカウントするものである。
一方、主走査描画開始位置データＹ_a は描画テーブル１
０上に設置された被描画体の描画表面上に規定されるＸ
Ｙ座標のＹ座標値である。従って、システムコントロー
ラ７６から同期回路８０Ｍに対して出力される所定周波
数のクロックパルスをカウントすることにより、描画テ
ーブル１０上の被描画体に対する主走査方向の描画開始
位置を知ることができる。

【００７０】主走査カウンタＣ_Y のカウント値が主走査
描画開始位置データＹ_a の値に到達したことが確認され
ると、ステップ１３１０に進み、第１スキャンカウンタ
８０Ｆ及び第２スキャンカウンタ８０Ｊが始動させら
れ、このとき第１スキャンカウンタ８０Ｆのバンド長デ
ータΔY1及び第２スキャンカウンタ８０Ｊのつなぎ領域
到達距離データΔTY1 のそれぞれがシステムコントロー
ラ７６から同期回路８０Ｍに対して出力される所定周波
数のクロックパルスに従って減算される。次いで、ステ
ップ１３１１では、マスクデータ判定回路８０Ｉから論
理合成回路８０Ｇに対して無マスク指令信号が出力され
る。次いで、ステップ１３１１では、続いて、ステップ
１３１２では、ビットマップメモリ８０Ｃからラスタデ
ータが16ビットずつ読み出されて論理合成回路８０Ｇに
対して出力されると同時に論理合成回路８０Ｇ及び同期
回路８０Ｍが始動させられる。かくして、16本の走査レ
ーザビームによる描画記録が開始されることになる。な
お、このときはマスクデータ判定回路８０Ｉから論理合
成回路８０Ｇに対して無マスク指令信号が出力されるの
で、実質的なマスク処理は行われない。

【００７１】ステップ１３１３では、第２スキャンカウ
ンタ８０Ｊのつなぎ領域到達距離データΔTY1 がカウン
トダウンされたか否かが判断される。つなぎ領域到達距
離データΔTY1 のカウントダウンが確認されたとき、即
ち16本の走査レーザビームがつなぎ領域に到達したと
き、ステップ１３１４に進み、そこでマスクデータ判定
回路８０Ｉからマスク指令信号が出力されると同時にマ
スクデータメモリ８０Ｈから所定の16×16のマトリック
ス状マスクデータが論理合成回路８０Ｇに対して出力さ
れる。かくして、論理合成回路８０Ｇでは、16×16ビッ
トのラスタデータに対して図８を参照して説明したよう
なマスク処理が順次施される。

【００７２】ステップ１３１５では、第１スキャンカウ
ンタ８０Ｆのバンド長データΔY1がカウントダウンされ
たか否かが判断される。バンド長データΔY1のカウント
ダウンが確認されたとき、即ち16本走査レーザビームに
よる主走査方向の描画記録が終わったとき、ステップ１
３１６に進み、そこで第１スキャンカウンタ８０Ｆ及び
第２スキャンカウンタ８０Ｊがリセットされて、それら
スキャンカウンタにはそれぞれバンド長データΔY1及び
つなぎ領域到達距離データΔTY1 が再びロードされる。

【００７３】次いで、ステップ１３１７に進み、そこで
ラインカウンタ８０Ｅの描画ライン総数データSLがカウ
ントダウンされたか否かが、即ち始まりバンドに基づく
部分描画パターン記録が完了したか否かが判断される。
始まりバンドに基づく部分描画パターン記録が完了して
いないときにはステップ１３０９に戻る。即ち、ライン
カウンタ８０Ｅがカウントダウンされるまで、ステップ
１３０９ないしステップ１３１７から成るルーチンが繰
り返される。一方、始まりバンドに基づく部分描画パタ
ーン記録の完了が確認されると、この始まりバンド描画
ルーチンの実行は完了して、図１２のステップ１１１７
に戻る。

【００７４】次に、図１５及び図１６のフローチャート
を参照して、図１２のステップ１１１２で実行される中
間バンド描画ルーチンについて説明する。

【００７５】ステップ１５０１では、ＸＹ駆動制御回路
８６を作動させて描画テーブル１０を主走査方向とは反
対方向に前回のバンドに基づく部分描画パターン記録時
のつなぎ領域到達距離データΔTY1 に対応する距離だけ
移動させると共に副走査方向の原点位置に位置決めされ
る。描画テーブル１０が原点位置に位置決めされると、
ステップ１５０２に進み、そこでＥＷＳ６６に対して描
画準備完了信号が出力される。次いで、ステップ１５０
３では、中間バンド（第２バンド）の描画ラスタデータ
がＥＷＳ６６から受信されたか否か判断される。

【００７６】ステップ１５０３で描画ラスタデータの受
信が確認されると、ステップ１５０４に進み、そこでＥ
ＷＳ６６から描画開始指令信号が受信されたか否かが判
断される。描画開始指令信号の受信が確認されると、ス
テップ１５０５に進み、そこで副走査制御回路８８が作
動されて描画テーブル１０の副走査方向への移動が開始
される。次いで、ステップ１５０６では、ラスタ変換回
路８０Ｂが作動させられて、バッファメモリ８０Ａから
読み出された描画ベクタデータが描画ラスタデータに変
換され、その描画ラスタデータは順次ビットマップメモ
リ８０Ｃに展開されて書き込まれる。

【００７７】ステップ１５０７では、副走査カウンタＣ
_x が副走査描画開始位置データＸ_aの値に到達したか否
かが判断される。なお、副走査カウンタＣ_x 及び副走査
描画開始位置データＸ_a については始まりバンド描画ル
ーチン（図１３及び図１４）の説明の際に既に述べた通
りのものである。副走査カウンタＣ_x のカウント値が副
走査描画開始位置データＸ_a の値に到達したことが確認
されると、ステップ１５０８に進み、そこでラインカウ
ンタ８０Ｅが始動させられ、このときラインカウンタ８
０Ｅの描画ライン総数データSLがシステムコントローラ
７６からＸ軸駆動回路９２に出力される駆動制御クロッ
クパルスに従って減算される。

【００７８】ステップ１５０９では、主走査カウンタＣ
_Y が主走査描画開始位置データＹ_aの値に到達したか否
かが判断される。なお、主走査カウンタＣ_Y 及び主走査
描画開始位置データＹ_a についても始まりバンド描画ル
ーチン（図１３及び図１４）の説明の際に既に述べた通
りのものである。主走査カウンタＣ_Y のカウント値が主
走査描画開始位置データＹ_a の値に到達したことが確認
されると、ステップ１５１０に進み、そこで第１スキャ
ンカウンタ８０Ｆ、第２スキャンカウンタ８０Ｊ及び第
３スキャンカウンタ８０Ｋが始動させられ、このとき第
１スキャンカウンタ８０Ｆのバンド長データΔY2、第２
スキャンカウンタ８０Ｊのつなぎ領域到達距離データΔ
TY2 及び第３スキャンカウンタのつなぎ領域長データBD
のそれぞれがシステムコントローラ７６から同期回路８
０Ｍに対して出力される所定周波数のクロックパルスに
従って減算される。

【００７９】ステップ１５１１では、マスクデータ判定
回路８０Ｉから論理合成回路８０Ｇに対して反転マスク
指令信号が出力されると同時にマスクデータメモリ８０
Ｈから所定の16×16のマトリックス状マスクデータが論
理合成回路８０Ｇに対して出力されるが、しかしその16
×16のマトリックス状マスクデータは反転マスク指令信
号のために反転されたものとなる。次いで、ステップ１
５１２では、ビットマップメモリ８０Ｃからラスタデー
タが16ビットずつ読み出されて論理合成回路８０Ｇに対
して出力されると同時に論理合成回路８０Ｇ及び同期回
路８０Ｍが始動させられる。かくして、論理合成回路８
０Ｇでは、16×16ビットのラスタデータに対して図８を
参照して説明したような反転マスク処理が順次施される
と共に16本の走査レーザビームによる描画記録が開始さ
れることになる。

【００８０】ステップ１５１３では、第３スキャンカウ
ンタ８０Ｋのつなぎ領域長データBDがカウントダウンさ
れたか否かが判断される。つなぎ領域長データBDのカウ
ントダウンが確認されたとき、即ち16本の走査レーザビ
ームがつなぎ領域を脱したとき、ステップ１５１４に進
み、そこでマスクデータ判定回路８０Ｉから無マスク指
令信号が出力される。かくして、論理合成回路８０Ｇで
は、描画ラスタデータに対する実質的なマスク処理は行
われない。

【００８１】ステップ１５１５では、第２スキャンカウ
ンタ８０Ｊのつなぎ領域到達距離データΔTY2 がカウン
トダウンされたか否かが判断される。つなぎ領域到達距
離データΔTY2 のカウントダウンが確認されたとき、即
ち16本の走査レーザビームが主走査方向の後方側のつな
ぎ領域に到達したとき、ステップ１５１６に進み、そこ
でマスクデータ判定回路８０Ｉからマスク指令信号が出
力されると同時にマスクデータメモリ８０Ｈから所定の
16×16のマトリックス状マスクデータが論理合成回路８
０Ｇに対して出力される。かくして、論理合成回路８０
Ｇでは、16×16ビットのラスタデータに対して図８を参
照して説明したようなマスク処理が順次施される。

【００８２】ステップ１５１７では、第１スキャンカウ
ンタ８０Ｆのバンド長データΔY2がカウントダウンされ
たか否かが判断される。バンド長データΔY2のカウント
ダウンが確認されたとき、即ち16本走査レーザビームに
よる主走査方向の描画記録が終わったとき、ステップ１
５１８に進み、そこで第１スキャンカウンタ８０Ｆ、第
２スキャンカウンタ８０Ｊ及び第３スキャンカウンタ８
０Ｋがリセットされて、それらスキャンカウンタにはそ
れぞれバンド長データΔY2、つなぎ領域到達距離データ
ΔTY2 及びつなぎ領域長データBDが再びロードされる。

【００８３】次いで、ステップ１５１９に進み、そこで
ラインカウンタ８０Ｅの描画ライン総数データSLがカウ
ントダウンされたか否かが、即ち中間バンドに基づく部
分描画パターン記録が完了したか否かが判断される。中
間バンドに基づく部分描画パターン記録が完了していな
いときには、ラインカウンタ８０Ｅがリセットされた後
にステップ１５０９に戻って、ステップ１５０９ないし
ステップ１５１９から成るルーチンが繰り返される。一
方、中間バンドに基づく部分描画パターン記録の完了が
確認されると、この中間バンド描画ルーチンの実行は完
了して、図１２のステップ１１１７に戻る。

【００８４】更に、図１７及び図１８のフローチャート
を参照して、図１２のステップ１１１６で実行される終
わりバンド描画ルーチンについて説明する。

【００８５】ステップ１７０１では、ＸＹ駆動制御回路
８６を作動させて描画テーブル１０を主走査方向とは反
対方向に前回のバンドに基づく部分描画パターン記録時
のつなぎ領域到達距離データΔTY2 に対応する距離だけ
移動させると共に副走査方向の原点位置に位置決めされ
る。描画テーブル１０が原点位置に位置決めされると、
ステップ１７０２に進み、そこでＥＷＳ６６に対して描
画準備完了信号が出力される。次いで、ステップ１７０
３では、終わりバンド（第３バンド）の描画ラスタデー
タがＥＷＳ６６から受信されたか否か判断される。

【００８６】ステップ１７０３で描画ラスタデータの受
信が確認されると、ステップ１７０４に進み、そこでＥ
ＷＳ６６から描画開始指令信号が受信されたか否かが判
断される。描画開始指令信号の受信が確認されると、ス
テップ１７０５に進み、そこで副走査制御回路８８が作
動されて描画テーブル１０の副走査方向への移動が開始
される。次いで、ステップ１７０６では、ラスタ変換回
路８０Ｂが作動させられて、バッファメモリ８０Ａから
読み出された描画ベクタデータが描画ラスタデータに変
換され、その描画ラスタデータは順次ビットマップメモ
リ８０Ｃに展開されて書き込まれる。

【００８７】ステップ１７０７では、副走査カウンタＣ
_x が副走査描画開始位置データＸ_aの値に到達したか否
かが判断される。なお、副走査カウンタＣ_x 及び副走査
描画開始位置データＸ_a については始まりバンド描画ル
ーチン（図１３及び図１４）の説明の際に既に述べた通
りのものである。副走査カウンタＣ_x のカウント値が副
走査描画開始位置データＸ_a の値に到達したことが確認
されると、ステップ１７０８に進み、そこでラインカウ
ンタ８０Ｅが始動させられ、このときラインカウンタ８
０Ｅの描画ライン総数データSLがシステムコントローラ
７６からＸ軸駆動回路９２に出力される駆動制御クロッ
クパルスに従って減算される。

【００８８】ステップ１７０９では、主走査カウンタＣ
_Y が主走査描画開始位置データＹ_aの値に到達したか否
かが判断される。なお、主走査カウンタＣ_Y 及び主走査
描画開始位置データＹ_a についても始まりバンド描画ル
ーチン（図１３及び図１４）の説明の際に既に述べた通
りのものである。主走査カウンタＣ_Y のカウント値が主
走査描画開始位置データＹ_a の値に到達したことが確認
されると、ステップ１７１０に進み、そこでは第１スキ
ャンカウンタ８０Ｆ及び第３スキャンカウンタ８０Ｋが
始動させられ、このとき第１スキャンカウンタ８０Ｆの
バンド長データΔY3及び第３スキャンカウンタのつなぎ
領域長データBDのそれぞれがシステムコントローラ７６
から同期回路８０Ｍに対して出力される所定周波数のク
ロックパルスに従って減算される。

【００８９】ステップ１７１１では、マスクデータ判定
回路８０Ｉから論理合成回路８０Ｇに対して反転マスク
指令信号が出力されると同時にマスクデータメモリ８０
Ｈから所定の16×16のマトリックス状マスクデータが論
理合成回路８０Ｇに対して出力されるが、しかしその16
×16のマトリックス状マスクデータは反転マスク指令信
号のために反転されたものとなる。次いで、ステップ１
７１２では、ビットマップメモリ８０Ｃからラスタデー
タが16ビットずつ読み出されて論理合成回路８０Ｇに対
して出力されると同時に論理合成回路８０Ｇ及び同期回
路８０Ｍが始動させられる。かくして、論理合成回路８
０Ｇでは、16×16ビットのラスタデータに対して図８を
参照して説明したような反転マスク処理が順次施される
と共に16本の走査レーザビームによる描画記録が開始さ
れることになる。

【００９０】ステップ１７１３では、第３スキャンカウ
ンタ８０Ｋのつなぎ領域長データBDがカウントダウンさ
れたか否かが判断される。つなぎ領域長データBDのカウ
ントダウンが確認されたとき、即ち16本の走査レーザビ
ームがつなぎ領域を脱したとき、ステップ１７１４に進
み、そこでマスクデータ判定回路８０Ｉから無マスク指
令信号が出力される。かくして、論理合成回路８０Ｇで
は、描画ラスタデータに対する実質的なマスク処理は行
われない。

【００９１】ステップ１７１５では、第１スキャンカウ
ンタ８０Ｆのバンド長データΔY2がカウントダウンされ
たか否かが判断される。バンド長データΔY3のカウント
ダウンが確認されたとき、即ち16本走査レーザビームに
よる主走査方向の描画記録が終わったとき、ステップ１
７１６に進み、そこで第１スキャンカウンタ８０Ｆ及び
第３スキャンカウンタ８０Ｋがリセットされて、それら
スキャンカウンタにはそれぞれバンド長データΔY3及び
つなぎ領域長データBDが再びロードされる。

【００９２】次いで、ステップ１７１７に進み、そこで
ラインカウンタ８０Ｅの描画ライン総数データSLがカウ
ントダウンされたか否かが、即ち終わりバンドに基づく
部分描画パターン記録が完了したか否かが判断される。
終わりバンドに基づく部分描画パターン記録が完了して
いないときには、ラインカウンタ８０Ｅがリセットされ
た後にステップ１７０９に戻って、ステップ１７０９な
いしステップ１７１９から成るルーチンが繰り返され
る。一方、終わりバンドに基づく部分描画パターン記録
の完了が確認されると、この終わりバンド描画ルーチン
の実行は完了して、図１２のステップ１１１７に戻る。

【００９３】以上で説明した実施形態にあっては、マス
クデータとして、16×16のマトリックス状のものだけが
用いられ、論理合成回路８０Ｇでは、該マスクデータを
反転させるか、あるいはそのマスク機能を無効（無マス
ク）にするかして16×16ビットの描画ラスタデータを順
次処理しているが、しかし論理合成回路８０Ｇでのマス
ク処理に際しては、16×16のマトリックス状のマスクデ
ータのパターンを任意の単位で変化させることも可能で
ある。

【００９４】例えば、図１９に示すように、16×16のマ
トリックス状マスクデータのパターン形態を面積階調の
手法に従って変化させることが可能である。なお、図１
９では、図示の便宜上、３×３のマトリックス状マスク
データのパターン形態を面積階調の手法に従って変化さ
せた例が示されている。

【００９５】ここで、先に述べた事例のように、例え
ば、描画パターン記録の画素サイズが５μm で、つなぎ
領域の幅として例えば約１cm（10.24mm)が与えられ、し
かもつなぎ領域で各主走査方向の各描画ラインに対して
16ビット分の描画ラスタデータを単位としてマスク処理
が行われる場合にはマスク処理回数は128 回となる。一
方、16×16のマトリックス状マスクデータのパターン形
態を面積階調の手法に従って変化させた場合には、255
通りのパターン形態が得られる（なお、マスクデータの
すべての値が“０”または“１”の場合には、ここで言
うマスク処理に対して意味をなさないので、それらパタ
ーン形態については除外されている）。従って、255 通
りのパターン形態から128 のパターン形態を適宜選択す
ることにより、図１９に示すような面積階調の手法によ
るマスク処理も可能となる。

【００９６】図２０を参照すると、そこには16×16のマ
トリックス状マスクデータのパターン形態を面積階調の
手法に従って変化させ得るように構成された描画データ
処理回路８０が示され、この描画データ処理回路自体は
マスクデータメモリ８０Ｈにマスクデータ選択回路８０
Ｎが接続されている点及びマスクデータ選択回路８０Ｎ
に第４スキャンカウンタ８０Ｐが接続されている点を除
けば図３に示したものと構成上実質的に同じものとされ
る。第４スキャンカウンタ８０Ｐは加算カウンタとして
機能し、そのカウント数が16の倍数に到達する度毎にマ
スク選択回路８０Ｎに対してマスク選択信号が出力さ
れ、マスク選択回路８０Ｎはマスク選択信号が出力され
る度毎にマスク変更信号がマスクデータメモリ８０Ｈに
対して出力される。カウンタ制御回路８０Ｌは第４スキ
ャンカウンタ８０Ｐに対して始動信号及びリセット信号
を出力する。

【００９７】図２０に示すような描画データ処理回路８
０を具備するレーザ描画装置においても、始まりバンド
（第１バンド）に基づく部分描画パターン記録は図１３
及び１４の始まりバンド描画ルーチンに沿ってほぼ同様
な態様で行われるが、しかしステップ１３１４ないしス
テップ１３１６から成るルーチンは図２１に示すように
変更されなければならない。

【００９８】即ち、図１４のステップ１３１３でつなぎ
領域到達距離データΔTY1 のカウントダウンが確認され
たとき、即ち16本の走査レーザビームがつなぎ領域に到
達したとき、図２１のステップ２１０１に進み、そこで
第４スキャンカウンタ８０Ｐが始動させられる。ステッ
プ２１０２では、マスクデータ判定回路８０Ｉからマス
ク指令信号が出力され、次いでステップ２１０３では、
マスクデータ選択回路８０Ｎからマスク出力信号がマス
クデータメモリ８０Ｈに対して出力され、このときマス
クデータメモリ８０Ｈからは面積階調の手法に従って順
次変化するパターン形態のうちの最初のマスクデータが
論理合成回路８０Ｇに対して出力される。続いて、ステ
ップ２１０４では、第４スキャンカウンタ８０Ｐの加算
カウント値が16（16ビット分のラスタデータの描画記録
時間に対応）の倍数になったか否かが判断される。

【００９９】ステップ２１０４で第４スキャンカウンタ
８０Ｐの加算カウント値が16の倍数（現段階では、16）
に到達したことが確認されると、ステップ２１０５に進
み、そこで第４スキャンカウンタ８０Ｐからはマスクデ
ータ選択回路８０Ｎに対してマスク選択信号が出力さ
れ、次いでマスクデータ選択回路８０Ｎからはマスク変
更信号がマスクデータメモリ８０Ｈに対して出力され、
このときマスクデータメモリ８０Ｈからは面積階調の手
法に従って順次変化するパターン形態のうちの次のマス
クデータが論理合成回路８０Ｇに対して出力される。

【０１００】ステップ２１０６では、第１スキャンカウ
ンタ８０Ｆのバンド長データΔY1がカウントダウンされ
たか否かが判断される。バンド長データΔY1のカウント
ダウンが未だのとき、ステップ２１０４に戻って、ステ
ップ２１０４ないしステップ２１０６から成るルーチン
が繰り返される。即ち、バンド長データΔY1のカウント
ダウンが確認されるまで、マスクデータメモリ８０Ｈか
らは面積階調の手法に従って順次変化するパターン形態
のマスクデータが論理合成回路８０Ｇに対して順次出力
される。

【０１０１】ステップ２１０６でバンド長データΔY1の
カウントダウンが確認されたとき、即ち16本走査レーザ
ビームによる主走査方向の描画記録が終わったとき、ス
テップ２１０７に進み、そこで第１スキャンカウンタ８
０Ｆ、第２スキャンカウンタ８０Ｊ及び第４スキャンカ
ウンタ８０Ｋがそれぞれリセットされ、その後ステップ
２１０７から図１４のステップ１３１７に進む。なお、
ステップ２１０７でのリセット時、第１スキャンカウン
タ８０Ｆ及び第２スキャンカウンタ８０Ｊでは、それぞ
れ初期値のバンド長データΔY1及びつなぎ領域到達距離
データΔTY1 に戻され、第４スキャンカウンタ８０Ｐで
はそのカウント数が“０”に戻される。

【０１０２】また、図２０に示すような描画データ処理
回路８０を具備するレーザ描画装置においても、中間バ
ンド（第２バンド）に基づく部分描画パターン記録は図
１５及び１６の中間バンド描画ルーチンに沿ってほぼ同
様な態様で行われるが、しかしステップ１５１０ないし
１５１７から成るルーチンは図２２及び図２３に示すよ
うに変更されなければならない。

【０１０３】即ち、図１５のステップ１５０９で主走査
カウンタＣ_Y のカウント値が主走査描画開始位置データ
Ｙ_a の値に到達したことが確認されると、図２２のステ
ップ２２０１に進み、そこで第１スキャンカウンタ８０
Ｆ、第２スキャンカウンタ８０Ｊ、第３スキャンカウン
タ８０Ｋ及び第４スキャンカウンタ８０Ｐが始動され
る。次いで、ステップ２２０２では、マスクデータ判定
回路８０Ｉから論理合成回路８０Ｇに対して反転マスク
指令信号が出力され、続いてステップ２２０３では、マ
スクデータ選択回路８０Ｎからマスク出力信号がマスク
データメモリ８０Ｈに対して出力され、このときマスク
データメモリ８０Ｈからは面積階調の手法に従って順次
変化するパターン形態のうちの最初のマスクデータが論
理合成回路８０Ｇに対して出力される。しかしながら、
そのマスクデータはマスクデータ判定回路８０Ｉから論
理合成回路８０Ｇに対して出力された反転マスク指令信
号のために反転されたものとなる。

【０１０４】ステップ２２０４では、ビットマップメモ
リ８０Ｃからラスタデータが16ビットずつ読み出されて
論理合成回路８０Ｇに対して出力されると同時に論理合
成回路８０Ｇ及び同期回路８０Ｍが始動させられる。か
くして、論理合成回路８０Ｇでは16×16ビットのラスタ
データに対して図８を参照して説明したような反転マス
ク処理が施されると共に16本の走査レーザビームによる
描画記録が開始されることになる。

【０１０５】ステップ２２０５では、第４スキャンカウ
ンタ８０Ｐの加算カウント値が16（16ビット分のラスタ
データの描画記録時間に対応）の倍数になったか否かが
判断される。ステップ２２０５で第４スキャンカウンタ
８０Ｐの加算カウント値が16の倍数（現段階では、16）
に到達したことが確認されると、ステップ２２０６に進
み、そこで第４スキャンカウンタ８０Ｐからはマスクデ
ータ選択回路８０Ｎに対してマスク選択信号が出力さ
れ、次いでマスクデータ選択回路８０Ｎからはマスク変
更信号がマスクデータメモリ８０Ｈに対して出力され、
このときマスクデータメモリ８０Ｈからは面積階調の手
法に従って順次変化するパターン形態のうちの次のマス
クデータが論理合成回路８０Ｇに対して出力される。

【０１０６】ステップ２２０７では、第３スキャンカウ
ンタ８０Ｋのつなぎ領域長データBDがカウントダウンさ
れたか否かが判断される。つなぎ領域長データBDのカウ
ントダウンが未だのとき、ステップ２２０５に戻って、
ステップ２２０５ないしステップ２２０７から成るルー
チンが繰り返される。即ち、つなぎ領域長データBDのカ
ウントダウンが確認されるまで、マスクデータメモリ８
０Ｈからは面積階調の手法に従って順次変化するパター
ン形態のマスクデータが論理合成回路８０Ｇに対して順
次出力される。

【０１０７】ステップ２２０７で第３スキャンカウンタ
８０Ｋのつなぎ領域長データBDのカウントダウンが確認
されたとき、即ち16本の走査レーザビームがつなぎ領域
を脱したとき、ステップ２２０８に進み、そこで第４ス
キャンカウンタのカウント値がリセット即ち“０”にさ
れ、次いでステップ２２０９では、マスクデータ判定回
路８０Ｉから無マスク指令信号が出力される。かくし
て、論理合成回路８０Ｇでは、描画ラスタデータに対す
る実質的なマスク処理は行われない。

【０１０８】ステップ２２１０では、第２スキャンカウ
ンタ８０Ｊのつなぎ領域到達距離データΔTY2 がカウン
トダウンされたか否かが判断される。つなぎ領域到達距
離データΔTY2 のカウントダウンが確認されたとき、即
ち16本の走査レーザビームが主走査方向の後方側のつな
ぎ領域に到達したとき、ステップ２２１１に進み、そこ
で第４スキャンカウンタ８０Ｐが始動される。ステップ
２２１２では、マスクデータ判定回路８０Ｉからマスク
指令信号が出力され、次いでステップ２２１３では、マ
スクデータ選択回路８０Ｎからマスク出力信号がマスク
データメモリ８０Ｈに対して出力され、このときマスク
データメモリ８０Ｈからは面積階調の手法に従って順次
変化するパターン形態のうちの最初のマスクデータが論
理合成回路８０Ｇに対して出力される。続いて、ステッ
プ２２１４では、第４スキャンカウンタ８０Ｐの加算カ
ウント値が16（16ビット分のラスタデータの描画記録時
間に対応）の倍数になったか否かが判断される。

【０１０９】ステップ２２１４で第４スキャンカウンタ
８０Ｐの加算カウント値が16の倍数（現段階では、16）
に到達したことが確認されると、ステップ２２１５に進
み、そこで第４スキャンカウンタ８０Ｐからはマスクデ
ータ選択回路８０Ｎに対してマスク選択信号が出力さ
れ、次いでマスクデータ選択回路８０Ｎからはマスク変
更信号がマスクデータメモリ８０Ｈに対して出力され、
このときマスクデータメモリ８０Ｈからは面積階調の手
法に従って順次変化するパターン形態のうちの次のマス
クデータが論理合成回路８０Ｇに対して出力される。

【０１１０】ステップ２２１６では、第１スキャンカウ
ンタ８０Ｆのバンド長データΔY2がカウントダウンされ
たか否かが判断される。バンド長データΔY2のカウント
ダウンが未だのとき、ステップ２２１４に戻って、ステ
ップ２２１４ないしステップ２２１６から成るルーチン
が繰り返される。即ち、バンド長データΔY2のカウント
ダウンが確認されるまで、マスクデータメモリ８０Ｈか
らは面積階調の手法に従って順次変化するパターン形態
のマスクデータが論理合成回路８０Ｇに対して順次出力
される。ステップ２２１６でバンド長データΔY2のカウ
ントダウンが確認されたとき、即ち16本走査レーザビー
ムによる主走査方向の描画記録が終わったとき、ステッ
プ２２１７に進み、そこで第４スキャンカウンタ８０Ｐ
がリセット即ち“０”にされ、その後ステップ２２１７
から図１６のステップ１５１８に進む。

【０１１１】更に、図２０に示すような描画データ処理
回路８０を具備するレーザ描画装置においても、終わり
バンド（第３バンド）に基づく部分描画パターン記録は
図１７及び１８の終わりバンド描画ルーチンに沿ってほ
ぼ同様な態様で行われるが、しかしステップ１７１１な
いし１７１３から成るルーチンは図２４に示すように変
更されなければならない。

【０１１２】即ち、図１７のステップ１７１０で第１ス
キャンカウンタ８０Ｆ及び第３スキャンカウンタ８０Ｋ
が始動させられると、図２３のステップ２４０１に進
み、そこで第４スキャンカウンタ８０Ｐが始動させられ
る。ステップ２４０２では、マスクデータ判定回路８０
Ｉから論理合成回路８０Ｇに対して反転マスク指令信号
が出力され、続いてステップ２４０３では、マスクデー
タ選択回路８０Ｎからマスク出力信号がマスクデータメ
モリ８０Ｈに対して出力され、このときマスクデータメ
モリ８０Ｈからは面積階調の手法に従って順次変化する
パターン形態のうちの最初のマスクデータが論理合成回
路８０Ｇに対して出力される。しかしながら、そのマス
クデータはマスクデータ判定回路８０Ｉから論理合成回
路８０Ｇに対して出力された反転マスク指令信号のため
に反転されたものとなる。

【０１１３】ステップ２４０４では、ビットマップメモ
リ８０Ｃからラスタデータが16ビットずつ読み出されて
論理合成回路８０Ｇに対して出力されると同時に論理合
成回路８０Ｇ及び同期回路８０Ｍが始動させられる。か
くして、論理合成回路８０Ｇでは16×16ビットのラスタ
データに対して図８を参照して説明したような反転マス
ク処理が施されると共に16本の走査レーザビームによる
描画記録が開始されることになる。

【０１１４】ステップ２４０５では、第４スキャンカウ
ンタ８０Ｐの加算カウント値が16（16ビット分のラスタ
データの描画記録時間に対応）の倍数になったか否かが
判断される。ステップ２２０５で第４スキャンカウンタ
８０Ｐの加算カウント値が16の倍数（現段階では、16）
に到達したことが確認されると、ステップ２４０６に進
み、そこで第４スキャンカウンタ８０Ｐからはマスクデ
ータ選択回路８０Ｎに対してマスク選択信号が出力さ
れ、次いでマスクデータ選択回路８０Ｎからはマスク変
更信号がマスクデータメモリ８０Ｈに対して出力され、
このときマスクデータメモリ８０Ｈからは面積階調の手
法に従って順次変化するパターン形態のうちの次のマス
クデータが論理合成回路８０Ｇに対して出力される。

【０１１５】ステップ２４０７では、第３スキャンカウ
ンタ８０Ｋのつなぎ領域長データBDがカウントダウンさ
れたか否かが判断される。つなぎ領域長データBDのカウ
ントダウンが未だのとき、ステップ２４０５に戻って、
ステップ２４０５ないしステップ２４０７から成るルー
チンが繰り返される。即ち、つなぎ領域長データBDのカ
ウントダウンが確認されるまで、マスクデータメモリ８
０Ｈからは面積階調の手法に従って順次変化するパター
ン形態のマスクデータが論理合成回路８０Ｇに対して順
次出力される。

【０１１６】ステップ２４０７で第３スキャンカウンタ
８０Ｋのつなぎ領域長データBDのカウントダウンが確認
されたとき、即ち16本の走査レーザビームがつなぎ領域
を脱したとき、ステップ２４０８に進み、そこで第４ス
キャンカウンタ８０Ｐのカウント値がリセット即ち
“０”にされ、その後ステップ２４０４から図１８のス
テップ１７１４に進む。

【０１１７】以上述べた実施形態では、所望の描画パタ
ーンの全体を少なくとも３つ以上のバンドに基づく部分
描画パターンをつなぎ合わせて合成する際にそれらバン
ド間に設定されるつなぎ領域の長さについてはすべて同
じとされているが、しかしながら描画パターンの画素密
度特性に応じてそれらつなぎ領域の長さを個々に変える
ことが理解されるべきである。

【０１１８】上述した実施形態では、16本の走査レーザ
ビームで描画記録を行うレーザ描画装置の場合について
説明したが、しかし走査レーザビームの本数については
適宜選択し得ることが言うまでもなく、例えば単一の走
査レーザビームで描画記録を行う場合でも本発明を適用
し得ることが理解されるべきである。

【０１１９】

【発明の効果】以上の記載から明らかように、本発明に
よるレーザ描画装置にあっては、所望の描画パターンの
全体を少なくとも２つのバンドに基づく部分描画パター
ンをつなぎ合わせ得る際にその間につなぎ領域を設定し
て、そのつなぎ領域での描画記録を２回繰り返す際にそ
の描画ラスタデータをマスクデータとその反転マスクデ
ータとでマスク処理するので、双方の部分描画パターン
間のつなぎ目に伴う不連続性欠陥を解消することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるレーザ描画装置の一実施形態を示
す概略斜視図である。

【図２】図１に示したレーザ描画装置のブロック図であ
る。

【図３】図２に示した描画データ処理回路の詳細ブロッ
ク図である。

【図４】従来のレーザ描画装置で描画パターンの全体を
３つのバンドに基づく部分描画パターンをつなぎ合わせ
て合成する場合の態様を示す模式図である。

【図５】従来のレーザ描画装置で部分描画パターンをつ
なぎ合わせた際のつなぎ目に見られる欠陥の一例を示す
模式図である。

【図６】従来のレーザ描画装置で部分描画パターンをつ
なぎ合わせた際のつなぎ目に見られる欠陥の別の例を示
す模式図である。

【図７】本発明によるレーザ描画装置で描画パターンの
全体を３つのバンドに基づく部分描画パターンをつなぎ
合わせて合成する場合の態様を示す模式図である。

【図８】本発明によるレーザ描画装置で２つのバンド間
に設定されたつなぎ領域での描画記録時にその描画ラス
タデータにマスク処理を施す際に用いられるマスクデー
タのパターン形態の一例を示す模式図である。

【図９】本発明によるレーザ描画装置のエンジニアリン
グワークステーション（ＥＷＳ）で実行されるベクタデ
ータ処理ルーチンを示すフローチャートの一部分であ
る。

【図１０】本発明によるレーザ描画装置のエンジニアリ
ングワークステーション（ＥＷＳ）で実行されるベクタ
データ処理ルーチンを示すフローチャートの残りの部分
である。

【図１１】本発明によるレーザ描画装置自体で実行され
る描画作動ルーチンを示すフローチャートの一部分であ
る。

【図１２】本発明によるレーザ描画装置自体で実行され
る描画作動ルーチンを示すフローチャートの残りの部分
である。

【図１３】図１１及び図１２の描画作動ルーチンに含ま
れる始まりバンド描画ルーチンを示すフローチャートの
一部分である。

【図１４】図１１及び図１２の描画作動ルーチンに含ま
れる始まりバンド描画ルーチンを示すフローチャートの
残りの部分である。

【図１５】図１１及び図１２の描画作動ルーチンに含ま
れる中間バンド描画ルーチンを示すフローチャートの一
部分である。

【図１６】図１１及び図１２の描画作動ルーチンに含ま
れる中間バンド描画ルーチンを示すフローチャートの残
りの部分である。

【図１７】図１１及び図１２の描画作動ルーチンに含ま
れる終わりバンド描画ルーチンを示すフローチャートの
一部分である。

【図１８】図１１及び図１２の描画作動ルーチンに含ま
れる終わりバンド描画ルーチンを示すフローチャートの
残りの部分である。

【図１９】本発明によるレーザ描画装置で２つのバンド
間に設定されたつなぎ領域での描画記録時にその描画ラ
スタデータにマスク処理を施す際に用いられるマスクデ
ータの別のパターン形態を示す模式図である。

【図２０】図２に示した描画データ処理回路の詳細ブロ
ック図であって、図３に示した描画データ処理回路とは
別の実施形態を示す図である。

【図２１】図２０に示す描画データ処理回路を持つレー
ザ描画装置で図１３及び図１４に示すような始まりバン
ド描画ルーチンを実行する際にその変更されるべき一部
を示すフローチャートである。

【図２２】図２０に示す描画データ処理回路を持つレー
ザ描画装置で図１５及び図１６に示すような中間バンド
描画ルーチンを実行する際にその変更されるべき一部を
示すフローチャートの一部分である。

【図２３】図２０に示す描画データ処理回路を持つレー
ザ描画装置で図１５及び図１６に示すような中間バンド
描画ルーチンを実行する際にその変更されるべき一部を
示すフローチャートの残りの部分である。

【図２４】図２０に示す描画データ処理回路を持つレー
ザ描画装置で図１７及び図１８に示すような終わりバン
ド描画ルーチンを実行する際にその変更されるべき一部
を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１２ アルゴンレーザ発生器 ４０・４６ 電子シャッタ ６６ エンジニアリングワークステーション（ＥＷＳ） ６８ ホストコントローラ ７６ システムコントローラ ７７ ＬＡＮインターフェース回路 ７８ 主走査制御回路 ８０ 描画データ処理回路 ８０Ａ バッファメモリ ８０Ｂ ラスタ変換回路 ８０Ｃ ビットマップメモリ ８０Ｄ アドレス信号作成回路 ８０Ｅ ラインカウンタ ８０Ｆ 第１スキャンカウンタ ８０Ｇ 論理合成回路 ８０Ｈ マスクデータメモリ ８０Ｉ マスクデータ判定回路 ８０Ｊ 第２スキャンカウンタ ８０Ｋ 第３スキャンカウンタ ８０Ｌ カウンタ制御回路 ８０Ｍ 同期回路 ８０Ｎ マスクデータ選択回路 ８０Ｐ 第４スキャンカウンタ ８６ ＸＹ駆動機構制御回路 ８８ 副走査制御回路 ９０ Ｘ軸サーボモータ ９２ Ｘ軸駆動回路 ９８ Ｙ軸サーボモータ １００ Ｙ軸駆動回路

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被描画体に対してレーザビームを主走査
   方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させ
   ると共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調
   させて所望の描画パターンを該被描画体に記録するレー
   ザ描画装置であって、前記描画パターンの全体が少なく
   とも２つのバンドに基づく部分描画パターンをつなぎ合
   わせて得られるように構成されたレーザ描画装置におい
   て、 前記部分描画パターン間にそのつなぎ合わせ境界を含む
   所定幅のつなぎ領域が設定され、このつなぎ領域でのラ
   スタデータに基づく記録が２回繰り返され、第１回目の
   記録時、そのラスタデータが所定のマスクデータでマス
   ク処理され、第２回目の記録時、そのラスタデータが前
   記マスクデータの反転マスクデータでマスク処理される
   ことを特徴とするレーザ描画装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のレーザ描画装置におい
   て、前記ラスタデータに対するマスク処理が該ラスタデ
   ータの所定ビット単位で行われ、この所定ビット単位で
   マスク処理を行う際に前記マスクデータのパターン形態
   を順次変化させることを特徴とするレーザ描画装置。