JP2001131254A - フェノール樹脂の製造方法 - Google Patents
フェノール樹脂の製造方法Info
- Publication number
- JP2001131254A JP2001131254A JP31227499A JP31227499A JP2001131254A JP 2001131254 A JP2001131254 A JP 2001131254A JP 31227499 A JP31227499 A JP 31227499A JP 31227499 A JP31227499 A JP 31227499A JP 2001131254 A JP2001131254 A JP 2001131254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxyphenylcarbonyl
- compound
- phenolic resin
- group
- phenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】フェノール類とヒドロキシフェニルカルボニル
化合物とから生産性良くフェノール樹脂を製造する方法
を提供すること。 【解決手段】フェノール類とヒドロキシフェニルカルボ
ニル化合物とを、溶媒中、酸触媒存在下、縮合反応させ
てフェノール樹脂を製造する方法において、該ヒドロキ
シフェニルカルボニル化合物中のナトリウムの含有量が
２０００ｐｐｍ以下であることを特徴とするフェノール
樹脂の製造方法。
化合物とから生産性良くフェノール樹脂を製造する方法
を提供すること。 【解決手段】フェノール類とヒドロキシフェニルカルボ
ニル化合物とを、溶媒中、酸触媒存在下、縮合反応させ
てフェノール樹脂を製造する方法において、該ヒドロキ
シフェニルカルボニル化合物中のナトリウムの含有量が
２０００ｐｐｍ以下であることを特徴とするフェノール
樹脂の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フェノール類とヒ
ドロキシフェニルカルボニル化合物とを縮合反応させて
フェノール樹脂を製造する方法に関する。
ドロキシフェニルカルボニル化合物とを縮合反応させて
フェノール樹脂を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フェノール樹脂は、成型材、接着剤、塗
料、電子部品、等の材料として、また、エポキシ樹脂、
シアネート樹脂、イオン交換樹脂、等の樹脂の原料とし
て用いられる。フェノール樹脂の中でも、フェノール類
とヒドロキシフェニルカルボニル化合物とを縮合反応さ
せて得られるフェノール樹脂は、耐熱性等の点で優れ、
また、該フェノール樹脂を原料とするエポキシ樹脂やシ
アネート樹脂も、耐熱性等の点で優れることから、特に
電気・電子分野で用いる樹脂材料またはその原料とし
て、好適に用いられる。フェノール類とヒドロキシフェ
ニルカルボニル化合物とを縮合反応させてフェノール樹
脂を製造する方法としては、原料のフェノール類とカル
ボニル化合物とを、適当な溶媒中、酸触媒存在下に脱水
縮合反応させる方法が知られている［例えば、「フェノ
ール樹脂」（Ａｎｄｒｅ Ｋｎｏｐ 著 プラスチックエ
ージ社）］。しかしながら、従来のフェノール樹脂の製
造方法を用いた場合、反応速度が十分でないことがあ
り、生産性の点で満足できるものではなかった。
料、電子部品、等の材料として、また、エポキシ樹脂、
シアネート樹脂、イオン交換樹脂、等の樹脂の原料とし
て用いられる。フェノール樹脂の中でも、フェノール類
とヒドロキシフェニルカルボニル化合物とを縮合反応さ
せて得られるフェノール樹脂は、耐熱性等の点で優れ、
また、該フェノール樹脂を原料とするエポキシ樹脂やシ
アネート樹脂も、耐熱性等の点で優れることから、特に
電気・電子分野で用いる樹脂材料またはその原料とし
て、好適に用いられる。フェノール類とヒドロキシフェ
ニルカルボニル化合物とを縮合反応させてフェノール樹
脂を製造する方法としては、原料のフェノール類とカル
ボニル化合物とを、適当な溶媒中、酸触媒存在下に脱水
縮合反応させる方法が知られている［例えば、「フェノ
ール樹脂」（Ａｎｄｒｅ Ｋｎｏｐ 著 プラスチックエ
ージ社）］。しかしながら、従来のフェノール樹脂の製
造方法を用いた場合、反応速度が十分でないことがあ
り、生産性の点で満足できるものではなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を解決して、フェノール類とヒドロキシフェニル
カルボニル化合物とから生産性良くフェノール樹脂を製
造する方法を提供することにある。
問題点を解決して、フェノール類とヒドロキシフェニル
カルボニル化合物とから生産性良くフェノール樹脂を製
造する方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決すべく鋭意検討の結果、原料のヒドロキシフェ
ニルカルボニル化合物中に含まれる種々の金属不純物の
内、ナトリウム含有量を特定量以下とすることにより、
上記目的を達成することができることを見出し、本発明
を完成した。すなわち、本発明は、フェノール類とヒド
ロキシフェニルカルボニル化合物とを、溶媒中、酸触媒
存在下、縮合反応させてフェノール樹脂を製造する方法
において、該ヒドロキシフェニルカルボニル化合物中の
ナトリウムの含有量が２０００ｐｐｍ以下であるフェノ
ール樹脂の製造方法に係るものである。
点を解決すべく鋭意検討の結果、原料のヒドロキシフェ
ニルカルボニル化合物中に含まれる種々の金属不純物の
内、ナトリウム含有量を特定量以下とすることにより、
上記目的を達成することができることを見出し、本発明
を完成した。すなわち、本発明は、フェノール類とヒド
ロキシフェニルカルボニル化合物とを、溶媒中、酸触媒
存在下、縮合反応させてフェノール樹脂を製造する方法
において、該ヒドロキシフェニルカルボニル化合物中の
ナトリウムの含有量が２０００ｐｐｍ以下であるフェノ
ール樹脂の製造方法に係るものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明で用いるフェノール類とし
ては、１価または２価以上のフェノール類を用いること
ができ、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノー
ル、エチルフェノール、ブチルフェノール、ｔ−ブチル
−メチルフェノール、フェニルフェノール、クロロフェ
ノール、ブロモフェノール、レゾルシン、カテコール、
ヒドロキノン、等が挙げられ、必要に応じてその２種以
上を用いることもできる。
ては、１価または２価以上のフェノール類を用いること
ができ、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノー
ル、エチルフェノール、ブチルフェノール、ｔ−ブチル
−メチルフェノール、フェニルフェノール、クロロフェ
ノール、ブロモフェノール、レゾルシン、カテコール、
ヒドロキノン、等が挙げられ、必要に応じてその２種以
上を用いることもできる。
【０００６】本発明で用いるヒドロキシフェニルカルボ
ニル化合物としては、ヒドロキシフェニルアルデヒド類
またはヒドロキシフェニルケトン類が挙げられる。ヒド
ロキシフェニルアルデヒド類としては、４−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、バニリン、イ
ソバニリン、等が挙げられ、ヒドロキシフェニルケトン
類としては、４−ヒドロキシフェニルメチルケトン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられ、必
要に応じてその２種以上を用いることもできる。ヒドロ
キシフェニルカルボニル化合物の使用量は、フェノール
類に対して、通常０．０１〜２．０モル当量、好ましく
は０．０１〜１．０モル当量である。
ニル化合物としては、ヒドロキシフェニルアルデヒド類
またはヒドロキシフェニルケトン類が挙げられる。ヒド
ロキシフェニルアルデヒド類としては、４−ヒドロキシ
ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド、バニリン、イ
ソバニリン、等が挙げられ、ヒドロキシフェニルケトン
類としては、４−ヒドロキシフェニルメチルケトン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられ、必
要に応じてその２種以上を用いることもできる。ヒドロ
キシフェニルカルボニル化合物の使用量は、フェノール
類に対して、通常０．０１〜２．０モル当量、好ましく
は０．０１〜１．０モル当量である。
【０００７】本発明の方法で好適に製造されるフェノー
ル樹脂としては、下記一般式（１）
ル樹脂としては、下記一般式（１）
【０００８】
【化２】 ［式（１）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して、ハロ
ゲン原子、炭素数１〜６の炭化水素基、または炭素数１
〜６のアルコキシ基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立して水
素原子または炭素数１〜６の炭化水素基を表し、ｉおよ
びｊはそれぞれ独立して０〜２の数を表し、ｎは１〜２
０の数を表す。同一または異なる核上の各Ｒ1は相互に
異なっていてもよい。同一または異なる核上の各Ｒ2は
相互に異なっていてもよい。］で示されるフェノール樹
脂が挙げられ、フェノール類として下記一般式（２）
ゲン原子、炭素数１〜６の炭化水素基、または炭素数１
〜６のアルコキシ基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立して水
素原子または炭素数１〜６の炭化水素基を表し、ｉおよ
びｊはそれぞれ独立して０〜２の数を表し、ｎは１〜２
０の数を表す。同一または異なる核上の各Ｒ1は相互に
異なっていてもよい。同一または異なる核上の各Ｒ2は
相互に異なっていてもよい。］で示されるフェノール樹
脂が挙げられ、フェノール類として下記一般式（２）
【０００９】
【化３】 ［式（２）中、Ｒ1およびｉの定義は、式（１）におけ
る定義と同じである。］で示されるフェノール類を用
い、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物として下記一
般式（３）
る定義と同じである。］で示されるフェノール類を用
い、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物として下記一
般式（３）
【００１０】
【化４】 ［式（３）中、Ｒ2、Ｒ3およびｊの定義は、式（１）に
おける定義と同じである。］で示されるヒドロキシフェ
ニルカルボニル化合物を用いることにより、製造するこ
とができる。該フェノール樹脂は、硬化物の耐熱性の観
点から好ましい。
おける定義と同じである。］で示されるヒドロキシフェ
ニルカルボニル化合物を用いることにより、製造するこ
とができる。該フェノール樹脂は、硬化物の耐熱性の観
点から好ましい。
【００１１】一般式（１）〜（３）中のＲ1、Ｒ2として
は、例えば、ハロゲン原子の場合、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、炭素数１〜６の
炭化水素基の場合、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、等の直鎖または分
鎖状のアルキル基や、シクロヘキシル基、フェニル基、
等が挙げられ、炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペ
ントキシ基、ヘキソキシ基、等の直鎖または分鎖状のア
ルコキシ基等が挙げられ、また、Ｒ3としては、例え
ば、炭素数１〜６の炭化水素基の場合、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、等の直鎖または分鎖状のアルキル基や、シクロヘキ
シル基、フェニル基、等が挙げられる。
は、例えば、ハロゲン原子の場合、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、炭素数１〜６の
炭化水素基の場合、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、等の直鎖または分
鎖状のアルキル基や、シクロヘキシル基、フェニル基、
等が挙げられ、炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペ
ントキシ基、ヘキソキシ基、等の直鎖または分鎖状のア
ルコキシ基等が挙げられ、また、Ｒ3としては、例え
ば、炭素数１〜６の炭化水素基の場合、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、等の直鎖または分鎖状のアルキル基や、シクロヘキ
シル基、フェニル基、等が挙げられる。
【００１２】本発明で用いるヒドロキシフェニルカルボ
ニル化合物は、ナトリウムの含有量が２０００ｐｐｍ以
下であり、好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。ヒド
ロキシフェニルカルボニル化合物中のナトリウムの含有
量が２０００ｐｐｍを越えると、反応速度が遅く、生産
性に問題が生じることがある。
ニル化合物は、ナトリウムの含有量が２０００ｐｐｍ以
下であり、好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。ヒド
ロキシフェニルカルボニル化合物中のナトリウムの含有
量が２０００ｐｐｍを越えると、反応速度が遅く、生産
性に問題が生じることがある。
【００１３】ヒドロキシフェニルカルボニル化合物中の
ナトリウムの含有量を２０００ｐｐｍ以下にする方法と
しては、用いるヒドロキシフェニルカルボニル化合物の
種類により異なるが、例えば、ヒドロキシフェニルカル
ボニル化合物またはヒドロキシフェニルカルボニル化合
物を有機溶媒に溶解した溶液を、水洗または濾過する方
法、蒸留、晶析、吸着、膜分離等の方法が挙げられる。
例えば、購入、製造等により入手したヒドロキシフェニ
ルカルボニル化合物中のナトリウムの含有量が２０００
ｐｐｍを越えている場合は、上記方法により２０００ｐ
ｐｍ以下に調整して、本発明の反応に用いることができ
る。また、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物の製造
の際に、最終製品中にナトリウムが存在する原因として
は、例えば、反応、後処理、精製時に反応剤、触媒、ｐ
Ｈ調整剤として用いた水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム；それらの中和処理により生じ
た塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム；
用いる原材料、溶媒、洗浄水の品質上の問題でそれらの
中に存在していたナトリウム不純物；等のナトリウム塩
類が、溶解度等の本質的な理由または装置、操作上の理
由により最終製品に混入することが考えられる。従っ
て、製造によりヒドロキシフェニルカルボニル化合物を
得る場合は、上記した水洗、濾過、蒸留、晶析、吸着、
膜分離等の方法を製造の工程に組み入れたり、装置、操
作の改良、原材料、溶媒、洗浄水の品質改善、等を行う
ことにより、最終製品中のナトリウム含有量を２０００
ｐｐｍ以下に調整することができる。
ナトリウムの含有量を２０００ｐｐｍ以下にする方法と
しては、用いるヒドロキシフェニルカルボニル化合物の
種類により異なるが、例えば、ヒドロキシフェニルカル
ボニル化合物またはヒドロキシフェニルカルボニル化合
物を有機溶媒に溶解した溶液を、水洗または濾過する方
法、蒸留、晶析、吸着、膜分離等の方法が挙げられる。
例えば、購入、製造等により入手したヒドロキシフェニ
ルカルボニル化合物中のナトリウムの含有量が２０００
ｐｐｍを越えている場合は、上記方法により２０００ｐ
ｐｍ以下に調整して、本発明の反応に用いることができ
る。また、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物の製造
の際に、最終製品中にナトリウムが存在する原因として
は、例えば、反応、後処理、精製時に反応剤、触媒、ｐ
Ｈ調整剤として用いた水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム；それらの中和処理により生じ
た塩化ナトリウム、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム；
用いる原材料、溶媒、洗浄水の品質上の問題でそれらの
中に存在していたナトリウム不純物；等のナトリウム塩
類が、溶解度等の本質的な理由または装置、操作上の理
由により最終製品に混入することが考えられる。従っ
て、製造によりヒドロキシフェニルカルボニル化合物を
得る場合は、上記した水洗、濾過、蒸留、晶析、吸着、
膜分離等の方法を製造の工程に組み入れたり、装置、操
作の改良、原材料、溶媒、洗浄水の品質改善、等を行う
ことにより、最終製品中のナトリウム含有量を２０００
ｐｐｍ以下に調整することができる。
【００１４】ヒドロキシフェニルカルボニル化合物中の
ナトリウムの含有量は、ＩＰＣ発光分析、イオンクロマ
トグラフィー（ＩＣ）、炎光分析、原子吸光分析、等に
より測定することができる。具体的な測定条件は、測定
するヒドロキシフェニルカルボニル化合物の種類により
異なるが、例えば実施例で示したような条件を、種類に
応じて適宜選択すればよい。
ナトリウムの含有量は、ＩＰＣ発光分析、イオンクロマ
トグラフィー（ＩＣ）、炎光分析、原子吸光分析、等に
より測定することができる。具体的な測定条件は、測定
するヒドロキシフェニルカルボニル化合物の種類により
異なるが、例えば実施例で示したような条件を、種類に
応じて適宜選択すればよい。
【００１５】本発明の反応において用いる溶媒として
は、水、有機溶媒、または必要に応じて水および有機溶
媒の混合溶媒が用いられる。有機溶媒としては、例え
ば、トルエン、キシレン、等の炭化水素類；クロロホル
ム、塩化メチレン、等のハロゲン化炭化水素類；ジオキ
サン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチル
エーテル、等のエーテル類；プロピレングリコールモノ
メチルエーテル等のアルコキシアルコール類；メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、等のケトン類；
等が挙げられ、必要に応じその２種以上を用いることも
できる。溶媒の使用量は、フェノール類とヒドロキシフ
ェニルカルボニル化合物との和１００重量部に対して、
通常１０〜２０００重量部、好ましくは１００〜１００
０重量部である。
は、水、有機溶媒、または必要に応じて水および有機溶
媒の混合溶媒が用いられる。有機溶媒としては、例え
ば、トルエン、キシレン、等の炭化水素類；クロロホル
ム、塩化メチレン、等のハロゲン化炭化水素類；ジオキ
サン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチル
エーテル、等のエーテル類；プロピレングリコールモノ
メチルエーテル等のアルコキシアルコール類；メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、等のケトン類；
等が挙げられ、必要に応じその２種以上を用いることも
できる。溶媒の使用量は、フェノール類とヒドロキシフ
ェニルカルボニル化合物との和１００重量部に対して、
通常１０〜２０００重量部、好ましくは１００〜１００
０重量部である。
【００１６】本発明で用いる酸触媒としては、公知のフ
ェノール樹脂合成用の酸触媒を用いることができ、例え
ば、塩酸、硫酸、リン酸、等の鉱酸；しゅう酸、トルエ
ンスルホン酸、等の有機酸；等が使用される。酸触媒の
使用量は、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物に対し
て、通常０．００１〜１モル当量、好ましくは０．００
１〜０．１モル当量である。
ェノール樹脂合成用の酸触媒を用いることができ、例え
ば、塩酸、硫酸、リン酸、等の鉱酸；しゅう酸、トルエ
ンスルホン酸、等の有機酸；等が使用される。酸触媒の
使用量は、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物に対し
て、通常０．００１〜１モル当量、好ましくは０．００
１〜０．１モル当量である。
【００１７】本発明の反応において、フェノール類、ヒ
ドロキシフェニルカルボニル化合物、溶媒、および酸触
媒の添加順序としては、例えば、予め全ての原料を仕込
んだ後、所定反応温度にしてもよいし、フェノール類、
溶媒および酸触媒を仕込んだ後、所定反応温度にしてヒ
ドロキシフェニルカルボニル化合物を添加してもよい
し、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物、溶媒および
酸触媒を仕込んだ後、所定反応温度にしてフェノール類
を添加してもよい。反応温度は、通常２０〜３００℃、
好ましくは５０〜２００℃の範囲である。反応時間は、
通常１〜２０時間、好ましくは２〜１０時間である。
ドロキシフェニルカルボニル化合物、溶媒、および酸触
媒の添加順序としては、例えば、予め全ての原料を仕込
んだ後、所定反応温度にしてもよいし、フェノール類、
溶媒および酸触媒を仕込んだ後、所定反応温度にしてヒ
ドロキシフェニルカルボニル化合物を添加してもよい
し、ヒドロキシフェニルカルボニル化合物、溶媒および
酸触媒を仕込んだ後、所定反応温度にしてフェノール類
を添加してもよい。反応温度は、通常２０〜３００℃、
好ましくは５０〜２００℃の範囲である。反応時間は、
通常１〜２０時間、好ましくは２〜１０時間である。
【００１８】本発明の反応の後処理方法としては、例え
ば、必要に応じて水洗等により触媒を除去した後、濃縮
によりフェノール樹脂を取出してもよいし、得られるフ
ェノール樹脂が固形の場合には、晶析等の方法により取
出してもよい。
ば、必要に応じて水洗等により触媒を除去した後、濃縮
によりフェノール樹脂を取出してもよいし、得られるフ
ェノール樹脂が固形の場合には、晶析等の方法により取
出してもよい。
【００１９】本発明の製造方法により得られるフェノー
ル樹脂の用途としては、例えば、成型材、接着剤、塗
料、電子部品、等の材料や、エポキシ樹脂、シアネート
樹脂、イオン交換樹脂、等の樹脂の原料が挙げられる。
ル樹脂の用途としては、例えば、成型材、接着剤、塗
料、電子部品、等の材料や、エポキシ樹脂、シアネート
樹脂、イオン交換樹脂、等の樹脂の原料が挙げられる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。なお、実施例中、ＩＣＰ発光分
析、ＧＰＣ分析の条件は以下の通りである。 ・ＩＣＰ発光分析 試料溶液：試料２ｇを採取し、濃硫酸０．２ｍｌを加え
て炭化させた後、６００℃にて灰化した。該灰化物を２
０％塩酸１０ｍｌで溶解後、純水にて５０ｍｌに定容し
た。 装置：セイコー電子工業、ＳＰＳ１２００ＶＲ ・ＧＰＣ分析条件 試料溶液：試料５０ｍｇを採取し、ＴＨＦ１０ｍｌに溶
解した。 装置：島津ＬＣ−１０Ａ型 カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ Ｇ３０００HXL、Ｇ２０００
HXL、Ｇ１０００HXL（東ソー製） カラム温度：４０℃ 移動相：ＴＨＦ 流量：１．０ｍｌ／分 検出波長：ＵＶ２５４ｎｍ 注入量：試料溶液３０μｌ
定されるものではない。なお、実施例中、ＩＣＰ発光分
析、ＧＰＣ分析の条件は以下の通りである。 ・ＩＣＰ発光分析 試料溶液：試料２ｇを採取し、濃硫酸０．２ｍｌを加え
て炭化させた後、６００℃にて灰化した。該灰化物を２
０％塩酸１０ｍｌで溶解後、純水にて５０ｍｌに定容し
た。 装置：セイコー電子工業、ＳＰＳ１２００ＶＲ ・ＧＰＣ分析条件 試料溶液：試料５０ｍｇを採取し、ＴＨＦ１０ｍｌに溶
解した。 装置：島津ＬＣ−１０Ａ型 カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ Ｇ３０００HXL、Ｇ２０００
HXL、Ｇ１０００HXL（東ソー製） カラム温度：４０℃ 移動相：ＴＨＦ 流量：１．０ｍｌ／分 検出波長：ＵＶ２５４ｎｍ 注入量：試料溶液３０μｌ
【００２１】実施例１〜５、比較例１ 攪拌機、温度計、分離管および冷却器を装着した１Ｌ４
つ口フラスコに、２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノー
ル７８．０ｇ、ＩＣＰ発光分析により求めたナトリウム
の含有量が表１に示す値である４−ヒドロキシベンズア
ルデヒド３０．５ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸０．３１
ｇおよびトルエン７６．０ｇを入れ、１１２〜１１４℃
の範囲で、反応により副次生成した水をトルエンと留出
させ、該留出物の有機層を反応系内へ戻しながら、反応
させた。反応中、１時間毎に反応液をサンプリングし、
これをＧＰＣ分析して反応追跡を行った。４−ヒドロキ
シベンズアルデヒドの残存率を表１に示す。なお、実施
例５で用いた４−ヒドロキシベンズアルデヒドは、比較
例１で用いた４−ヒドロキシベンズアルデヒド２５０ｇ
にイオン交換水７５０ｇを加えて室温で３０分間攪拌
後、濾過し、濾残を乾燥したもの（得量２４１．５ｇ）
である。
つ口フラスコに、２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノー
ル７８．０ｇ、ＩＣＰ発光分析により求めたナトリウム
の含有量が表１に示す値である４−ヒドロキシベンズア
ルデヒド３０．５ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸０．３１
ｇおよびトルエン７６．０ｇを入れ、１１２〜１１４℃
の範囲で、反応により副次生成した水をトルエンと留出
させ、該留出物の有機層を反応系内へ戻しながら、反応
させた。反応中、１時間毎に反応液をサンプリングし、
これをＧＰＣ分析して反応追跡を行った。４−ヒドロキ
シベンズアルデヒドの残存率を表１に示す。なお、実施
例５で用いた４−ヒドロキシベンズアルデヒドは、比較
例１で用いた４−ヒドロキシベンズアルデヒド２５０ｇ
にイオン交換水７５０ｇを加えて室温で３０分間攪拌
後、濾過し、濾残を乾燥したもの（得量２４１．５ｇ）
である。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】本発明の方法によれば、フェノール類と
ヒドロキシフェニルカルボニル化合物とから、生産性良
くフェノール樹脂を製造することができる。
ヒドロキシフェニルカルボニル化合物とから、生産性良
くフェノール樹脂を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC25 AC42 BA28 BA32 BA35 BA36 BA37 BA52 BB10 BB11 BB12 BB16 BB31 BC10 BC19 BN30 FE13 4J033 CA01 CA05 CA11 CA12 CC03 CC08 CC09 HB01
Claims (2)
- 【請求項１】フェノール類とヒドロキシフェニルカルボ
ニル化合物とを、溶媒中、酸触媒存在下、縮合反応させ
てフェノール樹脂を製造する方法において、該ヒドロキ
シフェニルカルボニル化合物中のナトリウムの含有量が
２０００ｐｐｍ以下であることを特徴とするフェノール
樹脂の製造方法。 - 【請求項２】フェノール樹脂が下記一般式（１） 【化１】 ［式（１）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立して、ハロ
ゲン原子、炭素数１〜６の炭化水素基、または炭素数１
〜６のアルコキシ基を表し、Ｒ3はそれぞれ独立して水
素原子または炭素数１〜６の炭化水素基を表し、ｉおよ
びｊはそれぞれ独立して０〜２の数を表し、ｎは１〜２
０の数を表す。同一または異なる核上の各Ｒ1は相互に
異なっていてもよい。同一または異なる核上の各Ｒ2は
相互に異なっていてもよい。］で示されるフェノール樹
脂である請求項１記載のフェノール樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31227499A JP2001131254A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | フェノール樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31227499A JP2001131254A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | フェノール樹脂の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001131254A true JP2001131254A (ja) | 2001-05-15 |
Family
ID=18027276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31227499A Pending JP2001131254A (ja) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | フェノール樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001131254A (ja) |
-
1999
- 1999-11-02 JP JP31227499A patent/JP2001131254A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3051350B1 (en) | Alcoholic compound and method for producing alcoholic compound | |
| US5789522A (en) | Resin purification process | |
| EP2578562A1 (en) | Cyclic compound purification method | |
| JP2001354685A (ja) | 燐原子含有フェノール化合物とその製造方法 | |
| KR101607717B1 (ko) | 신규한 테트라키스（에테르 치환－포르밀페닐）류 및 그것으로부터 유도되는 신규한 다핵 폴리（페놀）류 | |
| JP2007023019A (ja) | １，３−ビス（３−ホルミル−４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン類及びそれから誘導される多核体ポリフェノール類 | |
| JP2001131254A (ja) | フェノール樹脂の製造方法 | |
| JP3924387B2 (ja) | 新規なモノアルコキシカルボニルメチル化トリスフェノール類とその製造方法 | |
| JP2004277358A (ja) | ビスフェノールモノアルデヒド化合物及びその製造方法並びにこれを用いたテトラキスフェノール化合物及びその製造方法 | |
| US7875743B2 (en) | Bis(formylphenyl)alkane and novel polynuclear phenol derived from the same | |
| JP2752498B2 (ja) | ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造方法 | |
| JP2003300922A (ja) | トリメチロール化トリフェノール類 | |
| JP3422808B2 (ja) | エポキシ樹脂硬化剤及びその製造方法 | |
| JP2000034248A (ja) | 新規な４核体ポリフェノール化合物 | |
| JP2000063308A (ja) | 新規な３核体ポリフェノール化合物 | |
| JP5762977B2 (ja) | 新規な多核ポリ（フェノール）類 | |
| JP2003306460A (ja) | １，３−ビス（ヒドロキシフェニル）アダマンタン類及びその製造方法 | |
| JP2001089546A (ja) | フェノール−アルデヒド樹脂の製造方法 | |
| JP2000309561A (ja) | 新規な部分保護トリスフェノール類とその製造方法 | |
| JP2000034247A (ja) | ポリフェノール化合物およびその製造方法 | |
| JPH0791360B2 (ja) | 多価フェノールのグリシジルエーテルの製造方法 | |
| JP2003306461A (ja) | １，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン類及びその製造方法 | |
| JPH03275707A (ja) | ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造法 | |
| JPH06263671A (ja) | 多価フェノール系化合物および多価フェノール系化合物の製造方法 | |
| JPH11147926A (ja) | フェノール−アルデヒド樹脂の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060130 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060613 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061010 |