JP2001115280A - 塩化銅エッチング液電解再生システム - Google Patents
塩化銅エッチング液電解再生システムInfo
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Abstract
(57)【要約】
【課題】 塩素ガスの問題に対して、ランニングコスト
を上昇させることなく安全に処理できる改良型の電解再
生システムを提供する。 【解決手段】 電解槽２からエッチング槽１への液戻し
路に、エゼクタ３１を備えた循環路を有する再生液槽３
を配設し、上記電解槽から排出された塩素ガスを上記エ
ゼクタによる減圧作用で吸引すると共に上記エッチング
槽から導入したエッチング液と上記塩素ガスとを気液接
触させ、またそれぞれ密閉構造とした上記電解槽と再生
液槽の上方空間に滞留するガス中の塩素ガス成分を除去
するための排ガス洗浄手段５を設け、当該排ガス洗浄手
段においてエッチング液と吸引ガスとを接触して塩素ガ
ス成分除去を行う。
を上昇させることなく安全に処理できる改良型の電解再
生システムを提供する。 【解決手段】 電解槽２からエッチング槽１への液戻し
路に、エゼクタ３１を備えた循環路を有する再生液槽３
を配設し、上記電解槽から排出された塩素ガスを上記エ
ゼクタによる減圧作用で吸引すると共に上記エッチング
槽から導入したエッチング液と上記塩素ガスとを気液接
触させ、またそれぞれ密閉構造とした上記電解槽と再生
液槽の上方空間に滞留するガス中の塩素ガス成分を除去
するための排ガス洗浄手段５を設け、当該排ガス洗浄手
段においてエッチング液と吸引ガスとを接触して塩素ガ
ス成分除去を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板、
リードフレーム等の電子部品の製造工程において劣化し
たエッチング液を所謂隔膜電解法を利用して再生処理す
るための装置と再生処理方法に関するものである。
リードフレーム等の電子部品の製造工程において劣化し
たエッチング液を所謂隔膜電解法を利用して再生処理す
るための装置と再生処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、上記のような電子部品の製造
工程において、塩化銅、塩化鉄を主成分とするエッチン
グ液により銅箔を腐食させ、所望のパターンを形成する
ことが工業的に行われている。銅箔を腐食させることで
劣化するエッチング液に対しては、一般的には過酸化水
素水等の酸化剤を注入して、素材の溶解に伴い生成する
１価の銅イオン又は２価の鉄イオンを酸化して再生が図
られるとともに、同じく素材の溶解に伴い増加する比重
（銅濃度）を水で希釈し、減少する塩素イオンを補充す
ることが行われている。
工程において、塩化銅、塩化鉄を主成分とするエッチン
グ液により銅箔を腐食させ、所望のパターンを形成する
ことが工業的に行われている。銅箔を腐食させることで
劣化するエッチング液に対しては、一般的には過酸化水
素水等の酸化剤を注入して、素材の溶解に伴い生成する
１価の銅イオン又は２価の鉄イオンを酸化して再生が図
られるとともに、同じく素材の溶解に伴い増加する比重
（銅濃度）を水で希釈し、減少する塩素イオンを補充す
ることが行われている。
【０００３】しかしながら、このような方法は、銅イオ
ン又は鉄イオンの酸化力を回復することはできるが、別
途塩素イオン補充のための塩酸添加が必要で且つ溶解し
た銅成分を除去できず水で希釈することから、余剰とな
るエッチング液を廃液として処分する必要がある。
ン又は鉄イオンの酸化力を回復することはできるが、別
途塩素イオン補充のための塩酸添加が必要で且つ溶解し
た銅成分を除去できず水で希釈することから、余剰とな
るエッチング液を廃液として処分する必要がある。
【０００４】上記のような問題を解決するために、本発
明の発明者らは、特開平５−１２５５６４号、特開平５
−１１７８７９号において隔膜電解法による再生方法を
提案し、これらの電解再生プロセスに使用する電解槽の
構造については特開平６−１５８３５９号で提案して実
用化もしている。
明の発明者らは、特開平５−１２５５６４号、特開平５
−１１７８７９号において隔膜電解法による再生方法を
提案し、これらの電解再生プロセスに使用する電解槽の
構造については特開平６−１５８３５９号で提案して実
用化もしている。
【０００５】また電解再生によりエッチング液組成を最
適条件に保持するためにはエッチング工程における銅の
溶解速度と電解再生の速度を一致させる必要があるが、
電流一定の条件で、電解再生の速度はほぼ一定にするこ
とができるのに対して、エッチング工程における銅の溶
解速度は銅箔の厚み、パターンの違いや生産状況に伴っ
て変動するため、銅の溶解スピードと電解再生のスピー
ドを一致させることが困難であるという問題がある。
適条件に保持するためにはエッチング工程における銅の
溶解速度と電解再生の速度を一致させる必要があるが、
電流一定の条件で、電解再生の速度はほぼ一定にするこ
とができるのに対して、エッチング工程における銅の溶
解速度は銅箔の厚み、パターンの違いや生産状況に伴っ
て変動するため、銅の溶解スピードと電解再生のスピー
ドを一致させることが困難であるという問題がある。
【０００６】また塩素ガスで再生される１価の銅イオ
ン、２価の鉄イオンは、容易に空気中の酸素でも酸化さ
れる。酸素による酸化が起こると、電解で発生した塩素
ガスが余剰となって放出されるため、塩素イオンの損失
となり、塩酸の補充量が増えるとともに放出される塩素
ガスの処理も必要となる。
ン、２価の鉄イオンは、容易に空気中の酸素でも酸化さ
れる。酸素による酸化が起こると、電解で発生した塩素
ガスが余剰となって放出されるため、塩素イオンの損失
となり、塩酸の補充量が増えるとともに放出される塩素
ガスの処理も必要となる。
【０００７】この問題に対しては、本発明者らは、特開
平１１−１４０６７１号において電解再生法を組み込ん
だエッチング液組成の管理方法について提案し実用化し
ている。
平１１−１４０６７１号において電解再生法を組み込ん
だエッチング液組成の管理方法について提案し実用化し
ている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら実際にエ
ッチング液の電解再生を工業的に行うにあたり、エッチ
ング工程における銅の溶解速度と電解再生速度を一致さ
せることが困難で、この不一致に伴う塩化ガス余剰の問
題については、エッチング工程の操業条件によっては、
特開平１１−１４０６７１号で提案した不活性ガスによ
るパージや過酸化水素水添加による方法では、ランニン
グコストがかかるという問題の他、不活性ガスによる酸
欠事故を招来するおそれがある。
ッチング液の電解再生を工業的に行うにあたり、エッチ
ング工程における銅の溶解速度と電解再生速度を一致さ
せることが困難で、この不一致に伴う塩化ガス余剰の問
題については、エッチング工程の操業条件によっては、
特開平１１−１４０６７１号で提案した不活性ガスによ
るパージや過酸化水素水添加による方法では、ランニン
グコストがかかるという問題の他、不活性ガスによる酸
欠事故を招来するおそれがある。
【０００９】また隔膜電解再生法を用いるにあたり、陽
極液は溶存塩素として塩素ガスを含有しているので、再
生処理装置の各容器内の上方空間は、電解槽の稼動中常
時塩素ガスを含む空気を保有することとなる。更に陽極
室の内圧若しくは電解槽の液面変動により、隔膜を通じ
て塩素ガスが陰極室に流入する可能性もある。このよう
な塩素ガスは環境対策上外部に放出することができない
ので、別途処理する必要がある。
極液は溶存塩素として塩素ガスを含有しているので、再
生処理装置の各容器内の上方空間は、電解槽の稼動中常
時塩素ガスを含む空気を保有することとなる。更に陽極
室の内圧若しくは電解槽の液面変動により、隔膜を通じ
て塩素ガスが陰極室に流入する可能性もある。このよう
な塩素ガスは環境対策上外部に放出することができない
ので、別途処理する必要がある。
【００１０】そこで本発明は、以上のような塩素ガスの
問題に対して、ランニングコストを上昇させることなく
安全に処理できる改良型の電解再生処理方法及び電解再
生装置を提供することを課題とする。
問題に対して、ランニングコストを上昇させることなく
安全に処理できる改良型の電解再生処理方法及び電解再
生装置を提供することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するに
あたり、生じる塩素ガスをエッチング液と接触させ、液
中の１価の銅イオン、２価の鉄イオンを酸化することで
吸収するとともに排ガス中の塩素ガスを洗浄するため
に、エゼクタと洗浄塔を併用すると、不活性ガスや薬液
を併用せずに余剰となる塩素ガスのより確実な吸収を図
ることができることを見出した。更に洗浄を２段階とし
て、２段目の排ガス洗浄に、電解槽から排出する銅粉の
付着液を使用すれば、余剰塩素ガスの発生を防ぎ、エッ
チング液の余剰やアルカリ等の別の廃液を発生させるこ
となく電解法によるエッチング液再生システムを実用化
できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
あたり、生じる塩素ガスをエッチング液と接触させ、液
中の１価の銅イオン、２価の鉄イオンを酸化することで
吸収するとともに排ガス中の塩素ガスを洗浄するため
に、エゼクタと洗浄塔を併用すると、不活性ガスや薬液
を併用せずに余剰となる塩素ガスのより確実な吸収を図
ることができることを見出した。更に洗浄を２段階とし
て、２段目の排ガス洗浄に、電解槽から排出する銅粉の
付着液を使用すれば、余剰塩素ガスの発生を防ぎ、エッ
チング液の余剰やアルカリ等の別の廃液を発生させるこ
となく電解法によるエッチング液再生システムを実用化
できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１２】
【発明の実施の形態】添付図面に、本発明に係る塩化銅
エッチング液電解再生循環システムの概念的な全体図を
示す。当該システムは、基本的にエッチング槽１、電解
槽２、再生液槽３、排ガス洗浄塔５、これらの間で液送
するためのポンプなどからなっている。なお発明的には
必須でないが、本例では、陰極液槽４も備えられ、上記
電解槽２と再生液槽３との間に配されている。
エッチング液電解再生循環システムの概念的な全体図を
示す。当該システムは、基本的にエッチング槽１、電解
槽２、再生液槽３、排ガス洗浄塔５、これらの間で液送
するためのポンプなどからなっている。なお発明的には
必須でないが、本例では、陰極液槽４も備えられ、上記
電解槽２と再生液槽３との間に配されている。
【００１３】エッチング槽１で素材を溶解し劣化したエ
ッチング液は、エッチング液供給ポンプ８により電解槽
２に、再生液槽送液ポンプ９により排ガス吸収塔５を介
して再生液槽３に各々供給されるようになっている。
ッチング液は、エッチング液供給ポンプ８により電解槽
２に、再生液槽送液ポンプ９により排ガス吸収塔５を介
して再生液槽３に各々供給されるようになっている。
【００１４】陽極室２１を隔膜２２を介して陰極室２３
で取り囲むようにして構成された電解槽２に供給された
エッチング液は、陰極室２３で銅析出により銅濃度を減
じ、陰極室上部の陰極液流出管２６からオーバーフロー
して陰極液槽４へ流入する。一方、例えば織布で構成さ
れた隔膜２２を介して陰極室２３からエッチング液が流
入するようになっている陽極室２１内には、陽極板（図
示せず）表面での塩素ガス発生により塩素濃度を減じた
陽極液が滞留し、塩素ガスは塩素ガス流出管２４から排
出されるが、液中を塩素イオンが移動する速度よりもガ
ス発生により減少する速度の方が速いため、陽極液中の
塩素イオン濃度（塩酸濃度）は減少する。このため、濃
度減少を抑えるために、滞留する陽極液は、陰極液槽に
付設された液面レベル検出手段４２による検出結果に基
づいて抜き出され、陽極液流出管２８を介して再生液槽
３へ排出される。陰極液槽が設置されていない場合に
は、陰極室に付設される液面レベル検出手段による検出
結果に基づいて陽極液の抜き出しが行われる。既述のよ
うに、陽極室と陰極室とを隔てる隔膜は織布のような液
透過が容易な材質でなっているので、液面レベルを検出
するのにその検出手段は陰極室側に設けることができる
ものである。勿論、陽極室側に設けられていても良い。
抜き出された陽極液は、エッチング槽１や陰極液槽４に
送液されるようになっていてもよい。
で取り囲むようにして構成された電解槽２に供給された
エッチング液は、陰極室２３で銅析出により銅濃度を減
じ、陰極室上部の陰極液流出管２６からオーバーフロー
して陰極液槽４へ流入する。一方、例えば織布で構成さ
れた隔膜２２を介して陰極室２３からエッチング液が流
入するようになっている陽極室２１内には、陽極板（図
示せず）表面での塩素ガス発生により塩素濃度を減じた
陽極液が滞留し、塩素ガスは塩素ガス流出管２４から排
出されるが、液中を塩素イオンが移動する速度よりもガ
ス発生により減少する速度の方が速いため、陽極液中の
塩素イオン濃度（塩酸濃度）は減少する。このため、濃
度減少を抑えるために、滞留する陽極液は、陰極液槽に
付設された液面レベル検出手段４２による検出結果に基
づいて抜き出され、陽極液流出管２８を介して再生液槽
３へ排出される。陰極液槽が設置されていない場合に
は、陰極室に付設される液面レベル検出手段による検出
結果に基づいて陽極液の抜き出しが行われる。既述のよ
うに、陽極室と陰極室とを隔てる隔膜は織布のような液
透過が容易な材質でなっているので、液面レベルを検出
するのにその検出手段は陰極室側に設けることができる
ものである。勿論、陽極室側に設けられていても良い。
抜き出された陽極液は、エッチング槽１や陰極液槽４に
送液されるようになっていてもよい。
【００１５】陰極室２３で析出した銅は陰極室底部から
バタフライ弁の開閉動作によって銅粉排出管２５を経て
銅粉スラリーとして排出される。排出された銅粉スラリ
ーは回収銅受槽１０に入り、銅粉とともに排出される付
着液は銅粉フィルタ１１及び付着液ポンプ１２で分離回
収され、陰極液槽４へ送液される。付着液分離後の銅粉
は、回収銅受槽１０ごと定期的に搬出、回収されるよう
になっている。
バタフライ弁の開閉動作によって銅粉排出管２５を経て
銅粉スラリーとして排出される。排出された銅粉スラリ
ーは回収銅受槽１０に入り、銅粉とともに排出される付
着液は銅粉フィルタ１１及び付着液ポンプ１２で分離回
収され、陰極液槽４へ送液される。付着液分離後の銅粉
は、回収銅受槽１０ごと定期的に搬出、回収されるよう
になっている。
【００１６】電解槽２の陰極室２３には更にオーバーフ
ローにより排出された陰極液を戻すための陰極液流入口
２７が設置され、陰極液槽４から陰極液ポンプ４１で陰
極液をポンプアップし、冷却器１４を備えた陰極液還流
配管を経て上記流入口２７から電解槽２へ返送する。上
記陰極液ポンプ４１は常時稼動している。冷却器１４は
電解時の、電気抵抗による発熱を冷却するものであっ
て、陰極液の温度を液温検出手段１５を用いて計測し、
設定温度より液温が上昇したときに冷却器１４に冷媒
（例えば冷却水）を供給し、陰極液温度を一定の範囲に
制御するようになっている。上記設定温度は、５０℃±
５℃〜７０℃±５℃の範囲で決定される。高温にすれば
液の電気抵抗が低下するので好ましいが、電極の耐久性
も低下するので、液組成毎に、適切な値が設定される。
ローにより排出された陰極液を戻すための陰極液流入口
２７が設置され、陰極液槽４から陰極液ポンプ４１で陰
極液をポンプアップし、冷却器１４を備えた陰極液還流
配管を経て上記流入口２７から電解槽２へ返送する。上
記陰極液ポンプ４１は常時稼動している。冷却器１４は
電解時の、電気抵抗による発熱を冷却するものであっ
て、陰極液の温度を液温検出手段１５を用いて計測し、
設定温度より液温が上昇したときに冷却器１４に冷媒
（例えば冷却水）を供給し、陰極液温度を一定の範囲に
制御するようになっている。上記設定温度は、５０℃±
５℃〜７０℃±５℃の範囲で決定される。高温にすれば
液の電気抵抗が低下するので好ましいが、電極の耐久性
も低下するので、液組成毎に、適切な値が設定される。
【００１７】陰極室２３からオーバーフローにより陰極
液槽４へいったん送った上で電解槽２へ戻すことで陰極
液循環を実現して液組成を均一化するとともに、陰極液
槽２に付設された陰極液ポンプ４１の吐出側を分岐して
バルブ開閉により必要に応じて陰極液流通を可能にし
た、冷却器流通経路とは別の平行な経路に液比重検出手
段１７を設け、測定された液比重が設定下限値を下回っ
たときに前記エッチング液供給ポンプ８を起動し（また
は供給液量を増加させ）、設定上限値以上となった段階
で停止する（または供給液量を減少させる、設定下限値
と設定上限値は同値であってもよい）。エッチング液の
供給はこのように電解槽に直接行ってもよいが、間接的
に陰極液槽に供給することもできる。
液槽４へいったん送った上で電解槽２へ戻すことで陰極
液循環を実現して液組成を均一化するとともに、陰極液
槽２に付設された陰極液ポンプ４１の吐出側を分岐して
バルブ開閉により必要に応じて陰極液流通を可能にし
た、冷却器流通経路とは別の平行な経路に液比重検出手
段１７を設け、測定された液比重が設定下限値を下回っ
たときに前記エッチング液供給ポンプ８を起動し（また
は供給液量を増加させ）、設定上限値以上となった段階
で停止する（または供給液量を減少させる、設定下限値
と設定上限値は同値であってもよい）。エッチング液の
供給はこのように電解槽に直接行ってもよいが、間接的
に陰極液槽に供給することもできる。
【００１８】更に上記別の経路に陰極液の塩酸濃度検出
手段１８を設け、測定された塩酸濃度が設定値を下回っ
たときに塩酸を陰極液流通経路中に配量補充する。上記
設定値は３０ｇ／リットルである。塩酸濃度は当該下限
値を上回り、最大でも１２０ｇ／リットル程度に調整さ
れるべきである。あるいは陰極液、陽極液中の塩素イオ
ン濃度減少に伴って電解電圧が上昇するので、電解電流
を供給する直流電源装置（図示せず）に電圧検出手段を
設け、電解電圧が設定値に上昇すると電圧上限信号を発
信し、塩酸を補充するようにしてもよい。
手段１８を設け、測定された塩酸濃度が設定値を下回っ
たときに塩酸を陰極液流通経路中に配量補充する。上記
設定値は３０ｇ／リットルである。塩酸濃度は当該下限
値を上回り、最大でも１２０ｇ／リットル程度に調整さ
れるべきである。あるいは陰極液、陽極液中の塩素イオ
ン濃度減少に伴って電解電圧が上昇するので、電解電流
を供給する直流電源装置（図示せず）に電圧検出手段を
設け、電解電圧が設定値に上昇すると電圧上限信号を発
信し、塩酸を補充するようにしてもよい。
【００１９】既述のように、陰極液槽４には液面レベル
検出手段４２が付設されており、当該陰極液槽４に受け
入れる液の量から電解槽２へ補充返送する液量を差し引
いた増量分が、陰極液槽４の液面レベルが一定範囲内に
収まるように、液面レベルが設定上限値に達すると上記
液面レベル検出手段４２から上限信号が発信され、陽極
室２１から陽極液排出管２８を介して液を再生液槽３へ
抜き出すようになっている。陽極液が抜き出されること
により、陽極液室２１の液面レベルが低下し、陰極液が
隔膜２２を介して陽極室２１に流入し、塩酸濃度の低下
した陽極液の入れ替えが実現する。陰極液槽４の液面レ
ベルが設定下限値に達すると上記陽極液の抜き出しが中
止される。再生液槽３のエッチング槽１からのエッチン
グ液の受け入れは、洗浄塔５を介して再生液槽３へ至る
洗浄塔ルートの他、エゼクタ３１を介して再生液槽３へ
至るエゼクタルートや、再生液槽３への直接ルートによ
っても、可能である。再生液槽３にも液面レベル検出手
段３３、返送ポンプ３４が付設され、エッチング槽１へ
再生液を戻すことができるようになっている。
検出手段４２が付設されており、当該陰極液槽４に受け
入れる液の量から電解槽２へ補充返送する液量を差し引
いた増量分が、陰極液槽４の液面レベルが一定範囲内に
収まるように、液面レベルが設定上限値に達すると上記
液面レベル検出手段４２から上限信号が発信され、陽極
室２１から陽極液排出管２８を介して液を再生液槽３へ
抜き出すようになっている。陽極液が抜き出されること
により、陽極液室２１の液面レベルが低下し、陰極液が
隔膜２２を介して陽極室２１に流入し、塩酸濃度の低下
した陽極液の入れ替えが実現する。陰極液槽４の液面レ
ベルが設定下限値に達すると上記陽極液の抜き出しが中
止される。再生液槽３のエッチング槽１からのエッチン
グ液の受け入れは、洗浄塔５を介して再生液槽３へ至る
洗浄塔ルートの他、エゼクタ３１を介して再生液槽３へ
至るエゼクタルートや、再生液槽３への直接ルートによ
っても、可能である。再生液槽３にも液面レベル検出手
段３３、返送ポンプ３４が付設され、エッチング槽１へ
再生液を戻すことができるようになっている。
【００２０】既述のように、陽極室２１上部からは排出
管２４を介して塩素ガスが、下部からは排出管２８を介
して陽極液が各々分離されて排出されるようになってい
る。塩素ガスは、再生液槽３に付設されたエゼクタ３１
で発生する負圧により吸引され、エゼクタ駆動液として
エゼクタポンプ３２により再生液槽３からエゼクタ３１
を経て再生液槽３へ自己循環するエッチング液と接触し
吸収される。既述のように、陽極液は陰極液槽４の液面
レベル上限信号により抜き出されるようになっている
が、タイマ等により一定時間毎に抜き出しても、電解電
圧の上限信号により抜き出しても良く、更にはこれらの
手段を組み合わせるようにしても良い。抜き出される陽
極液は既述のように、図示の例では再生液槽３に送液さ
れるが、エッチング槽１や陰極液槽４に送液されても良
く、陰極液が抜き出される場合はエッチング槽１又は再
生液槽３に送液される。
管２４を介して塩素ガスが、下部からは排出管２８を介
して陽極液が各々分離されて排出されるようになってい
る。塩素ガスは、再生液槽３に付設されたエゼクタ３１
で発生する負圧により吸引され、エゼクタ駆動液として
エゼクタポンプ３２により再生液槽３からエゼクタ３１
を経て再生液槽３へ自己循環するエッチング液と接触し
吸収される。既述のように、陽極液は陰極液槽４の液面
レベル上限信号により抜き出されるようになっている
が、タイマ等により一定時間毎に抜き出しても、電解電
圧の上限信号により抜き出しても良く、更にはこれらの
手段を組み合わせるようにしても良い。抜き出される陽
極液は既述のように、図示の例では再生液槽３に送液さ
れるが、エッチング槽１や陰極液槽４に送液されても良
く、陰極液が抜き出される場合はエッチング槽１又は再
生液槽３に送液される。
【００２１】電解槽２の陰極室２３、再生液槽３、陰極
液槽４のそれぞれ上部には排気管２９，３９，４９が設
置されており、これら排気管からの排ガスは排ガス洗浄
塔５で、エッチング槽１から再生液槽３へ受け入れるべ
きエッチング液と接触し、エゼクタ３１で吸収されない
塩素ガスがあればエッチング液中に吸収される。
液槽４のそれぞれ上部には排気管２９，３９，４９が設
置されており、これら排気管からの排ガスは排ガス洗浄
塔５で、エッチング槽１から再生液槽３へ受け入れるべ
きエッチング液と接触し、エゼクタ３１で吸収されない
塩素ガスがあればエッチング液中に吸収される。
【００２２】洗浄塔５の塔頂からの排気管５１は２次洗
浄塔６につながり、当該排気管５１からの排ガスは、場
合によってはエゼクタ３１及び排ガス洗浄塔５で吸収さ
れない塩素ガスがあれば当該塩素ガスも、既述の回収銅
受槽１０で銅粉とともに排出され付着液ポンプ１２によ
って分離回収された付着液の一部により洗浄・吸収され
る。排ガス洗浄後、２次洗浄塔６から排出される液は回
収銅受槽１０へ環流される。環流された液は回収銅と接
触し、その一部を溶解することにより塩素ガスを吸収す
るための塩化第１銅含有液となるので、塩素ガスの余剰
が多い場合、再度吸収に使用することが可能である。排
ガス洗浄塔５を省略して陰極室、再生液槽、陰極液槽か
らの排ガスを直接２次洗浄塔６で洗浄するようなことも
可能である。
浄塔６につながり、当該排気管５１からの排ガスは、場
合によってはエゼクタ３１及び排ガス洗浄塔５で吸収さ
れない塩素ガスがあれば当該塩素ガスも、既述の回収銅
受槽１０で銅粉とともに排出され付着液ポンプ１２によ
って分離回収された付着液の一部により洗浄・吸収され
る。排ガス洗浄後、２次洗浄塔６から排出される液は回
収銅受槽１０へ環流される。環流された液は回収銅と接
触し、その一部を溶解することにより塩素ガスを吸収す
るための塩化第１銅含有液となるので、塩素ガスの余剰
が多い場合、再度吸収に使用することが可能である。排
ガス洗浄塔５を省略して陰極室、再生液槽、陰極液槽か
らの排ガスを直接２次洗浄塔６で洗浄するようなことも
可能である。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、電解槽からエッチング
槽への液戻し路に、エゼクタを備えた循環路を有する再
生液槽を配設し、上記電解槽から排出された塩素ガスを
上記エゼクタによる減圧作用で吸引すると共に上記エッ
チング槽から上記再生液槽にエッチング液を導入して上
記塩素ガスと気液接触し、更にはそれぞれ密閉構造とし
た上記電解槽と再生液槽の上方空間に滞留するガスを吸
引して当該ガス中の塩素ガス成分を除去するための排ガ
ス洗浄手段を設け、当該排ガス洗浄手段に上記エッチン
グ槽からエッチング液を導入して上記吸引したガスと接
触して洗浄を行うので、不活性ガスや薬液を併用せずに
塩素ガスの吸収を確実に行わしめることができる。
槽への液戻し路に、エゼクタを備えた循環路を有する再
生液槽を配設し、上記電解槽から排出された塩素ガスを
上記エゼクタによる減圧作用で吸引すると共に上記エッ
チング槽から上記再生液槽にエッチング液を導入して上
記塩素ガスと気液接触し、更にはそれぞれ密閉構造とし
た上記電解槽と再生液槽の上方空間に滞留するガスを吸
引して当該ガス中の塩素ガス成分を除去するための排ガ
ス洗浄手段を設け、当該排ガス洗浄手段に上記エッチン
グ槽からエッチング液を導入して上記吸引したガスと接
触して洗浄を行うので、不活性ガスや薬液を併用せずに
塩素ガスの吸収を確実に行わしめることができる。
【００２４】上記排ガス洗浄手段から排出される洗浄ガ
スを導く別の２次洗浄手段を更に設け、上記電解槽から
分離回収される金属銅に付着した液を当該２次洗浄手段
に導入して上記洗浄ガスを更に洗浄すれば、余剰塩素ガ
スの発生を一層確実に防ぎ、エッチング液の余剰やアル
カリ等の別の廃液を発生させることもない。
スを導く別の２次洗浄手段を更に設け、上記電解槽から
分離回収される金属銅に付着した液を当該２次洗浄手段
に導入して上記洗浄ガスを更に洗浄すれば、余剰塩素ガ
スの発生を一層確実に防ぎ、エッチング液の余剰やアル
カリ等の別の廃液を発生させることもない。
【００２５】上記ガスを再洗浄した後の付着液の一部
を、上記電解槽から金属銅を分離回収する受け容器に還
流して、再度金属銅と接触させて、塩素ガス吸収液を生
成すれば、塩素ガスの余剰が多い場合に再度吸収に利用
することが可能である。
を、上記電解槽から金属銅を分離回収する受け容器に還
流して、再度金属銅と接触させて、塩素ガス吸収液を生
成すれば、塩素ガスの余剰が多い場合に再度吸収に利用
することが可能である。
【図１】本発明に係る塩化銅エッチング液電解再生循環
システムの全体的な概念図である。
システムの全体的な概念図である。
１：エッチング槽、 ２：電解槽、 ３：再生
液槽 ４：陰極液槽、 ５：排ガス洗浄塔、 ６：排
ガス２次洗浄塔、１０：回収銅受槽、 １１：銅粉
フィルタ、 １４：冷却器、３１：エゼクタ
液槽 ４：陰極液槽、 ５：排ガス洗浄塔、 ６：排
ガス２次洗浄塔、１０：回収銅受槽、 １１：銅粉
フィルタ、 １４：冷却器、３１：エゼクタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高山 進 東京都西多摩郡日の出町平井８−１ 日鉄 鉱業株式会社内 Ｆターム(参考） 4K057 WB04 WE08 WH02 WH04 WH05 WH07 WL05 WN01 4K058 AA10 AA22 BA21 BA37 BB04 CA05 CA11 CA17 CA22 CA27 DD18 DD25
Claims (4)
- 【請求項１】 塩化銅エッチング液を有するエッチング
槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受す
る電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰
極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰
極室へ連続的に供給し当該陰極室でオーバーフローによ
り陰極液循環しながら電気分解して陽極室からエッチン
グ槽へ返すようになっているエッチング液電解再生シス
テムにおいて、 前記電解槽からエッチング槽への液戻し路に、エゼクタ
を備えた循環路を有する再生液槽を配設し、上記電解槽
から排出された塩素ガスを上記エゼクタによる減圧作用
で吸引すると共に上記エッチング槽から導入したエッチ
ング液と上記塩素ガスとを気液接触すること、及びそれ
ぞれ密閉構造とした上記電解槽と再生液槽の上方空間に
滞留するガス中の塩素ガス成分を除去するための排ガス
洗浄手段を設け、当該排ガス洗浄手段において上記エッ
チング槽から導入したエッチング液と上記上方空間から
吸引したガスとを接触して当該ガス中の塩素ガス成分除
去を行うことを特徴とするエッチング液電解再生システ
ム。 - 【請求項２】 上記再生液槽へのエッチング液の導入
を、排ガス洗浄手段へ導入されるエッチング液を用いて
行うことを特徴とする請求項１に記載のエッチング液電
解再生システム。 - 【請求項３】 上記排ガス洗浄手段から排出される洗浄
ガスを導く別の２次洗浄手段を更に設け、上記電解槽か
ら分離回収される金属銅に付着した液を当該２次洗浄手
段に導入して上記洗浄ガスを更に洗浄することを特徴と
する請求項１又は２に記載のエッチング液電解再生シス
テム。 - 【請求項４】 上記ガスを再洗浄した後の付着液の一部
を、上記電解槽から金属銅を分離回収する受け容器に還
流して、再度金属銅と接触させて、塩素ガス吸収液を生
成することを特徴とする請求項３に記載のエッチング液
電解再生システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29403399A JP4102526B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 塩化銅エッチング液電解再生システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29403399A JP4102526B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 塩化銅エッチング液電解再生システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001115280A true JP2001115280A (ja) | 2001-04-24 |
| JP4102526B2 JP4102526B2 (ja) | 2008-06-18 |
Family
ID=17802404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29403399A Expired - Fee Related JP4102526B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 塩化銅エッチング液電解再生システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4102526B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10300597A1 (de) * | 2003-01-10 | 2004-07-22 | Eilenburger Elektrolyse- Und Umwelttechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur vollständigen Regenerierung von Metallchlorid-Ätzlösungen für Kupferwerkstoffe |
| CN105063622A (zh) * | 2015-08-28 | 2015-11-18 | 上海八菱环保科技有限公司 | 一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置 |
| CN110743328A (zh) * | 2019-09-17 | 2020-02-04 | 黄细香 | 一种酸性蚀刻液循环再生防反冲双极射流氯气吸收器 |
| WO2020211400A1 (zh) * | 2019-04-19 | 2020-10-22 | 惠州市臻鼎环保科技有限公司 | 提高酸性蚀刻液再生回用率的系统及方法 |
-
1999
- 1999-10-15 JP JP29403399A patent/JP4102526B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10300597A1 (de) * | 2003-01-10 | 2004-07-22 | Eilenburger Elektrolyse- Und Umwelttechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur vollständigen Regenerierung von Metallchlorid-Ätzlösungen für Kupferwerkstoffe |
| CN105063622A (zh) * | 2015-08-28 | 2015-11-18 | 上海八菱环保科技有限公司 | 一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置 |
| WO2020211400A1 (zh) * | 2019-04-19 | 2020-10-22 | 惠州市臻鼎环保科技有限公司 | 提高酸性蚀刻液再生回用率的系统及方法 |
| CN110743328A (zh) * | 2019-09-17 | 2020-02-04 | 黄细香 | 一种酸性蚀刻液循环再生防反冲双极射流氯气吸收器 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4102526B2 (ja) | 2008-06-18 |
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