JPH11140671A - エッチング液の再生方法 - Google Patents
エッチング液の再生方法Info
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- JPH11140671A JPH11140671A JP9305792A JP30579297A JPH11140671A JP H11140671 A JPH11140671 A JP H11140671A JP 9305792 A JP9305792 A JP 9305792A JP 30579297 A JP30579297 A JP 30579297A JP H11140671 A JPH11140671 A JP H11140671A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 銅箔をエッチングする工程で循環使用さ
れるエッチング液を隔膜電解法と塩素ガス酸化法を併用
して連続的に再生する方法において、エッチング液の比
重及び酸化還元電位値を連続的に測定し、測定された比
重が予め定められた上限値以上で且つ測定された酸化還
元電位値が予め定められた下限値以下である場合に隔膜
電解設備への通電とエッチング液の供給を行い、測定さ
れた比重が予め定められた下限値以下であるか測定され
た酸化還元電位値が予め定められた上限値以上の場合に
は上記隔膜電解設備への通電とエッチング液の供給を停
止する。 【効果】 変化するエッチングスピードに対して電解再
生のスピードを自動調整することが可能となった。
れるエッチング液を隔膜電解法と塩素ガス酸化法を併用
して連続的に再生する方法において、エッチング液の比
重及び酸化還元電位値を連続的に測定し、測定された比
重が予め定められた上限値以上で且つ測定された酸化還
元電位値が予め定められた下限値以下である場合に隔膜
電解設備への通電とエッチング液の供給を行い、測定さ
れた比重が予め定められた下限値以下であるか測定され
た酸化還元電位値が予め定められた上限値以上の場合に
は上記隔膜電解設備への通電とエッチング液の供給を停
止する。 【効果】 変化するエッチングスピードに対して電解再
生のスピードを自動調整することが可能となった。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は劣化したエッチング
液を隔膜電解法を用いて再生する方法に関し、特に当該
再生方法において、所定パラメータを管理範囲値内に収
めるようにシステムの運転及び必要な物質の供給を自動
的に制御するものである。
液を隔膜電解法を用いて再生する方法に関し、特に当該
再生方法において、所定パラメータを管理範囲値内に収
めるようにシステムの運転及び必要な物質の供給を自動
的に制御するものである。
【０００２】
【従来の技術】プリント基板、リードフレーム等の電子
部品製造工程の一部として、塩化第２銅や塩化第２鉄を
主成分とするエッチング液により素材の銅を腐食させて
所望のパターンを形成することが従来より工業的に行わ
れている。その際、素材を溶解することになるエッチン
グを繰り返すにしたがい、使用されたエッチング液は劣
化乃至老化する。
部品製造工程の一部として、塩化第２銅や塩化第２鉄を
主成分とするエッチング液により素材の銅を腐食させて
所望のパターンを形成することが従来より工業的に行わ
れている。その際、素材を溶解することになるエッチン
グを繰り返すにしたがい、使用されたエッチング液は劣
化乃至老化する。
【０００３】このような液を再生することが以前から考
えられている。例えば、一般的には過酸化水素水等の酸
化剤をエッチング老化液に注入し、素材の溶解に伴い生
成した１価の銅イオン又は２価の鉄イオンを酸化再生す
ると共に、同じく素材の溶解に伴い増加した比重（銅濃
度）を水で希釈し、減少した塩素イオンのために塩酸を
補充することが行われている。過酸化水素による酸化は
以下のようになる。
えられている。例えば、一般的には過酸化水素水等の酸
化剤をエッチング老化液に注入し、素材の溶解に伴い生
成した１価の銅イオン又は２価の鉄イオンを酸化再生す
ると共に、同じく素材の溶解に伴い増加した比重（銅濃
度）を水で希釈し、減少した塩素イオンのために塩酸を
補充することが行われている。過酸化水素による酸化は
以下のようになる。
【０００４】
【化１】
【０００５】又は
【０００６】
【化２】
【０００７】そしてこれらを酸化還元電位（以下、「Ｏ
ＲＰ」という）、比重、導電率を測定して自動的に制御
することも行われている。しかしながら、過酸化水素を
注入する当該方法は、銅又は鉄イオンの酸化力を回復す
ることはできるが、別途塩酸添加が必要で且つ溶解した
銅成分を除去できずに水で希釈することから、余分とな
るエッチング液を余剰廃液として処分する必要がある。
ＲＰ」という）、比重、導電率を測定して自動的に制御
することも行われている。しかしながら、過酸化水素を
注入する当該方法は、銅又は鉄イオンの酸化力を回復す
ることはできるが、別途塩酸添加が必要で且つ溶解した
銅成分を除去できずに水で希釈することから、余分とな
るエッチング液を余剰廃液として処分する必要がある。
【０００８】上記の問題を解決するため本発明の発明者
らは、特開平５−１２５５６４号及び特開平５−１１７
８７９号において隔膜電解法による再生方法を提案し、
実用化した。
らは、特開平５−１２５５６４号及び特開平５−１１７
８７９号において隔膜電解法による再生方法を提案し、
実用化した。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】実際にエッチング工程
に上記方法を組み込んで連続再生を行う場合、エッチン
グによる溶解スピードと電解再生の速度を一致させ、更
に薬剤や水の補充を行い、電解再生を自動制御して、エ
ッチング液組成を一定の範囲内に管理する必要がある。
しかしながら、電解再生の速度は電流一定の条件ではほ
ぼ一定になるに対して、エッチング工程における銅の溶
解スピードは銅箔の厚み、パターンの違いや生産状況に
伴って変動する。またエッチング液の蒸発や製品への付
着液持ち出しによる液量及び液組成の変動もあるため、
エッチングスピードと電解再生速度を一致させることが
困難であるという問題を抱えている。
に上記方法を組み込んで連続再生を行う場合、エッチン
グによる溶解スピードと電解再生の速度を一致させ、更
に薬剤や水の補充を行い、電解再生を自動制御して、エ
ッチング液組成を一定の範囲内に管理する必要がある。
しかしながら、電解再生の速度は電流一定の条件ではほ
ぼ一定になるに対して、エッチング工程における銅の溶
解スピードは銅箔の厚み、パターンの違いや生産状況に
伴って変動する。またエッチング液の蒸発や製品への付
着液持ち出しによる液量及び液組成の変動もあるため、
エッチングスピードと電解再生速度を一致させることが
困難であるという問題を抱えている。
【００１０】また、塩素ガスで再生される１価の銅イオ
ン、２価の鉄イオンは、下記反応式のように、容易に空
気中の酸素でも酸化される。
ン、２価の鉄イオンは、下記反応式のように、容易に空
気中の酸素でも酸化される。
【００１１】
【化３】
【００１２】酸素による酸化（空気酸化）が起こると、
電解で発生した塩素ガスが余剰となって放出されるため
に、塩素イオンの損失となり、塩酸の補充量が増えると
ともに放出される塩素ガスの処理も必要となる。
電解で発生した塩素ガスが余剰となって放出されるため
に、塩素イオンの損失となり、塩酸の補充量が増えると
ともに放出される塩素ガスの処理も必要となる。
【００１３】そこで本発明は、変化するエッチングスピ
ードに対して電解再生の速度を自動調整するとともに、
補充する薬液、水の量を同様に自動制御して、しかも塩
素イオンの損失も最小限に抑えてエッチング液の再生を
行うことができるようにすることを課題とする。
ードに対して電解再生の速度を自動調整するとともに、
補充する薬液、水の量を同様に自動制御して、しかも塩
素イオンの損失も最小限に抑えてエッチング液の再生を
行うことができるようにすることを課題とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、エッチング
工程における銅の溶解、並びに電解再生における、脱銅
と陽極酸化、塩素ガスによる酸化に伴って変化するエッ
チング液の比重、ＯＲＰ値、場合によっては導電率を制
御パラメータとして電解設備の起動停止、水乃至塩酸の
添加量の制御を行うことにより解決される。具体的には
比重が上限設定値以上で且つＯＲＰ値が下限設定値以下
の時に電解設備への通電とエッチング液の供給を行い
（電解装置の運転）、比重が下限設定値以下かＯＲＰ値
が上限設定値以上の時には電解設備への通電とエッチン
グ液の供給を停止する（電解装置の停止）。更には導電
率が下限設定値以下の時に塩酸又は塩酸と塩化鉄の混合
液を添加し、上限設定値以上の時に塩酸又は塩酸と塩化
鉄の混合液の添加を停止したり、比重の上限設定値（第
１上限値）よりさらに高い第２上限値を設定し、エッチ
ング液の比重がこの第２上限値以上となった時に水の添
加を行い、エッチング液の比重が下限設定値以下の時に
この水添加を停止する。
工程における銅の溶解、並びに電解再生における、脱銅
と陽極酸化、塩素ガスによる酸化に伴って変化するエッ
チング液の比重、ＯＲＰ値、場合によっては導電率を制
御パラメータとして電解設備の起動停止、水乃至塩酸の
添加量の制御を行うことにより解決される。具体的には
比重が上限設定値以上で且つＯＲＰ値が下限設定値以下
の時に電解設備への通電とエッチング液の供給を行い
（電解装置の運転）、比重が下限設定値以下かＯＲＰ値
が上限設定値以上の時には電解設備への通電とエッチン
グ液の供給を停止する（電解装置の停止）。更には導電
率が下限設定値以下の時に塩酸又は塩酸と塩化鉄の混合
液を添加し、上限設定値以上の時に塩酸又は塩酸と塩化
鉄の混合液の添加を停止したり、比重の上限設定値（第
１上限値）よりさらに高い第２上限値を設定し、エッチ
ング液の比重がこの第２上限値以上となった時に水の添
加を行い、エッチング液の比重が下限設定値以下の時に
この水添加を停止する。
【００１５】また、空気酸化による塩酸の損失及び余剰
塩素の発生を抑制するためにエッチング液の窒素置換又
は脱気が有効であること、更に過酸化水素水がより強い
酸化剤と接触すると還元剤としても働くことを利用し、
余剰となった塩素ガスと過酸化水素水を接触させること
により下記反応式のように塩素ガスの損失を抑制できる
ことを見い出して本発明を完成した。
塩素の発生を抑制するためにエッチング液の窒素置換又
は脱気が有効であること、更に過酸化水素水がより強い
酸化剤と接触すると還元剤としても働くことを利用し、
余剰となった塩素ガスと過酸化水素水を接触させること
により下記反応式のように塩素ガスの損失を抑制できる
ことを見い出して本発明を完成した。
【００１６】
【化４】
【００１７】
【作用】本発明のフローの一例を図面に示す。エッチン
グマシン１において銅箔の溶解に循環使用されているエ
ッチング液は、エッチング液供給ポンプ４によって電解
槽２の陰極室に送られる。電解槽２の陰極室では、陰極
反応によりエッチング液中の銅イオンが還元され、金属
銅として陰極板上に析出し回収される。陰極室で銅濃度
の低下したエッチング液は陽極室へ移され、陽極反応に
より含有する１価の銅イオン又は２価の鉄イオンが電解
酸化された上で、脱銅液としてエッチングマシン１に返
送される。
グマシン１において銅箔の溶解に循環使用されているエ
ッチング液は、エッチング液供給ポンプ４によって電解
槽２の陰極室に送られる。電解槽２の陰極室では、陰極
反応によりエッチング液中の銅イオンが還元され、金属
銅として陰極板上に析出し回収される。陰極室で銅濃度
の低下したエッチング液は陽極室へ移され、陽極反応に
より含有する１価の銅イオン又は２価の鉄イオンが電解
酸化された上で、脱銅液としてエッチングマシン１に返
送される。
【００１８】上記陽極反応では一般に塩素ガスの発生を
伴うので、当該塩素ガスを塩素吸収装置３に導く。塩素
吸収装置３には、エッチングマシン１から電解槽２への
供給とは別のルートでエッチング液を導き、前記塩素ガ
スと接触させて、含有する１価の銅イオン又は２価の鉄
イオンを酸化し、再生エッチング液としてエッチングマ
シン１に返送する。
伴うので、当該塩素ガスを塩素吸収装置３に導く。塩素
吸収装置３には、エッチングマシン１から電解槽２への
供給とは別のルートでエッチング液を導き、前記塩素ガ
スと接触させて、含有する１価の銅イオン又は２価の鉄
イオンを酸化し、再生エッチング液としてエッチングマ
シン１に返送する。
【００１９】複数のエッチングマシンの液を１台の電解
再生装置で一括処理する場合には、複数のエッチングマ
シンの液を別のクッションタンクに一旦集め、このクッ
ションタンクにコントローラを設置して上記と同様の処
理をすることも可能である。
再生装置で一括処理する場合には、複数のエッチングマ
シンの液を別のクッションタンクに一旦集め、このクッ
ションタンクにコントローラを設置して上記と同様の処
理をすることも可能である。
【００２０】以上のフローにおける反応の化学式を以下
に示す。即ち、エッチングマシン１における銅の溶解に
おいては、
に示す。即ち、エッチングマシン１における銅の溶解に
おいては、
【００２１】
【化５】
【００２２】又は
【００２３】
【化６】
【００２４】電解槽２における陰極反応としては、
【００２５】
【化７】
【００２６】又は
【００２７】
【化８】
【００２８】又は
【００２９】
【化９】
【００３０】電解槽２における陽極反応としては、
【００３１】
【化１０】
【００３２】又は
【００３３】
【化１１】
【００３４】又は
【００３５】
【化１２】
【００３６】塩素吸収装置３における反応としては、
【００３７】
【化１３】
【００３８】又は
【００３９】
【化１４】
【００４０】エッチングマシン１においてエッチング液
は、銅の溶解に伴い液比重が上昇するとともにＯＲＰ値
が低下することが知られている。また、実用的に銅箔の
エッチング液に適用される濃度の範囲においては遊離の
塩酸濃度の上昇に伴って液の導電率が上昇することも知
られている。これらを連続測定するためにエッチングマ
シン１内のエッチング液を抜き出してコントローラ５を
介して循環させ、このコントローラ５に比重センサ１
０，ＯＲＰセンサ１１，塩酸濃度計（導電率センサ）１
２等の測定手段を設置する。比重センサとしては浮子式
センサ、ＯＲＰセンサとしてはガラス電極センサ、塩酸
濃度計としては電磁式導電率センサが好適である。これ
らのうち、比重センサ１０とＯＲＰセンサ１１からの信
号を受けて、電解槽２への電解電力を供給する整流器６
及び電解槽２へのエッチング液供給ポンプ４の電源の自
動発停を行い、塩酸濃度計１２からの信号を受けて塩酸
（又は塩酸と塩化鉄の混合液）添加装置９の制御を行
い、比重センサ１０からの信号を受けて補給水注入装置
７の制御を行う。これら添加装置９、補給水注入装置７
の制御は、ポンプ等の添加手段の自動発停を利用して
も、パラメータの変化率に対して制御対象を連続的に変
化させるＰＩＤ制御を利用しても良い。
は、銅の溶解に伴い液比重が上昇するとともにＯＲＰ値
が低下することが知られている。また、実用的に銅箔の
エッチング液に適用される濃度の範囲においては遊離の
塩酸濃度の上昇に伴って液の導電率が上昇することも知
られている。これらを連続測定するためにエッチングマ
シン１内のエッチング液を抜き出してコントローラ５を
介して循環させ、このコントローラ５に比重センサ１
０，ＯＲＰセンサ１１，塩酸濃度計（導電率センサ）１
２等の測定手段を設置する。比重センサとしては浮子式
センサ、ＯＲＰセンサとしてはガラス電極センサ、塩酸
濃度計としては電磁式導電率センサが好適である。これ
らのうち、比重センサ１０とＯＲＰセンサ１１からの信
号を受けて、電解槽２への電解電力を供給する整流器６
及び電解槽２へのエッチング液供給ポンプ４の電源の自
動発停を行い、塩酸濃度計１２からの信号を受けて塩酸
（又は塩酸と塩化鉄の混合液）添加装置９の制御を行
い、比重センサ１０からの信号を受けて補給水注入装置
７の制御を行う。これら添加装置９、補給水注入装置７
の制御は、ポンプ等の添加手段の自動発停を利用して
も、パラメータの変化率に対して制御対象を連続的に変
化させるＰＩＤ制御を利用しても良い。
【００４１】
【発明の実施の形態】上記システムにおいてエッチング
液の再生を自動的に行った例を以下に説明する。
液の再生を自動的に行った例を以下に説明する。
【００４２】例 １ プリント基板を製造するエッチングマシン１に本発明に
係る再生システムを組み合せ連続エッチングを行った。
運転開始前のエッチング液中の銅濃度は１２５ｇ／リッ
トル（うち１価のＣｕは０ｇ／リットル）で、全Ｃｌ濃
度は２３５ｇ／リットルであった。エッチング液の比重
の上限設定値（第１上限値）を１．２６、下限設定値を
１．２４、第２上限値を１．２７とし、ＯＲＰ上限設定
値を７５０ｍＶ、下限設定値を６５０ｍＶとし、導電率
の上限設定値を４３０ｍＳ／ｃｍ（塩酸濃度約２．６５
Ｍ／リットル）、下限設定値を３８０ｍＳ／ｃｍとし
た。エッチングマシンにおける銅の溶解速度は、約０．
６５ｋｇ／ｈ〜１．２３ｋｇ／ｈ（平均０．９３ｋｇ／
ｈ）、電解槽２の銅回収速度は約１ｋｇ／ｈであった。
連続運転を開始後、ＯＲＰ値が第１上限値を越えたた
め、電解槽２の運転を停止したが、数分後にＯＲＰ値が
低下し、下限設定値を下回ったので、電解槽２の運転を
再開した。ＯＲＰ値の変化に伴う同様の電解槽の運転停
止／再開を数回繰り返すうちに、比重が上昇し第２上限
値を越えたため、水が自動的に注入され、次いで導電率
が低下して、下限設定値以下となったので塩酸添加が自
動的に行われた。約２４時間運転した後の液組成は、銅
濃度１２５ｇ／リットル（うち１価のＣｕは０ｇ／リッ
トル）、全Ｃｌ濃度は２３４ｇ／リットルであった。運
転中、１価のＣｕイオン濃度は約０．１〜０．５ｇ／リ
ットルで推移した。塩酸として補充された塩素量は液の
持ち出し分を除いて全体の約７％であった。
係る再生システムを組み合せ連続エッチングを行った。
運転開始前のエッチング液中の銅濃度は１２５ｇ／リッ
トル（うち１価のＣｕは０ｇ／リットル）で、全Ｃｌ濃
度は２３５ｇ／リットルであった。エッチング液の比重
の上限設定値（第１上限値）を１．２６、下限設定値を
１．２４、第２上限値を１．２７とし、ＯＲＰ上限設定
値を７５０ｍＶ、下限設定値を６５０ｍＶとし、導電率
の上限設定値を４３０ｍＳ／ｃｍ（塩酸濃度約２．６５
Ｍ／リットル）、下限設定値を３８０ｍＳ／ｃｍとし
た。エッチングマシンにおける銅の溶解速度は、約０．
６５ｋｇ／ｈ〜１．２３ｋｇ／ｈ（平均０．９３ｋｇ／
ｈ）、電解槽２の銅回収速度は約１ｋｇ／ｈであった。
連続運転を開始後、ＯＲＰ値が第１上限値を越えたた
め、電解槽２の運転を停止したが、数分後にＯＲＰ値が
低下し、下限設定値を下回ったので、電解槽２の運転を
再開した。ＯＲＰ値の変化に伴う同様の電解槽の運転停
止／再開を数回繰り返すうちに、比重が上昇し第２上限
値を越えたため、水が自動的に注入され、次いで導電率
が低下して、下限設定値以下となったので塩酸添加が自
動的に行われた。約２４時間運転した後の液組成は、銅
濃度１２５ｇ／リットル（うち１価のＣｕは０ｇ／リッ
トル）、全Ｃｌ濃度は２３４ｇ／リットルであった。運
転中、１価のＣｕイオン濃度は約０．１〜０．５ｇ／リ
ットルで推移した。塩酸として補充された塩素量は液の
持ち出し分を除いて全体の約７％であった。
【００４３】以上は窒素ガスをエッチング液への吹き込
みに利用しない場合の例であるが、次に、当該窒素ガス
を吸収装置３に送ってエッチング液に約１Ｎｍ／ｈで吹
き込みながら運転した。その結果、補充塩素量は約３％
に低下した。
みに利用しない場合の例であるが、次に、当該窒素ガス
を吸収装置３に送ってエッチング液に約１Ｎｍ／ｈで吹
き込みながら運転した。その結果、補充塩素量は約３％
に低下した。
【００４４】更に、水の添加に代えて１０％過酸化水素
水を添加する以外は上記と同様の条件で運転したところ
（窒素ガス利用）、補充塩素量はエッチングマシンにお
ける液の持ち出し分を除いて約２％となった。
水を添加する以外は上記と同様の条件で運転したところ
（窒素ガス利用）、補充塩素量はエッチングマシンにお
ける液の持ち出し分を除いて約２％となった。
【００４５】更に、比重上昇時に析出銅の洗浄水を添加
して、それ以外は窒素ガス利用、過酸化水素添加の場合
と同様の条件で運転したところ、補充塩素量はエッチン
グマシンにおける液の持ち出し分を除いてほぼ０％とな
った。
して、それ以外は窒素ガス利用、過酸化水素添加の場合
と同様の条件で運転したところ、補充塩素量はエッチン
グマシンにおける液の持ち出し分を除いてほぼ０％とな
った。
【００４６】例 ２ 上記例１の場合とは別の液を用いてプリント基板を製造
するエッチングマシン１に本発明に係る再生システムを
組み合せ連続エッチングを行った。運転開始前のエッチ
ング液中の銅濃度は９５ｇ／リットル（１価のＣｕは０
ｇ／リットル）、２価のＦｅ濃度は１５ｇ／リットル、
３価のＦｅ濃度は８６ｇ／リットル、全Ｃｌ濃度は３１
５ｇ／リットルであった。エッチング液の比重の第１上
限値を１．３７、下限設定値を１．３６、第２上限値を
１．３８、ＯＲＰ上限設定値を７５０ｍＶ、下限設定値
を６５０ｍＶとし、導電率の上限設定値を１２０ｍＳ／
ｃｍ（塩酸濃度約０．７４Ｍ／リットル）、下限設定値
を７０ｍＳ／ｃｍとした。エッチングマシンにおける銅
の溶解速度は、約０．３ｋｇ／ｈ〜１．５ｋｇ／ｈ、電
解槽２の銅回収速度は約０．５ｋｇ／ｈであった。連続
運転を開始後、ＯＲＰ値が第１上限値を越えたため、電
解槽２の運転を停止したが、数分後にＯＲＰ値が低下
し、下限設定値を下回ったので、電解槽２の運転を再開
した。ＯＲＰ値の変化に伴う同様の電解槽の運転停止／
再開を数回繰り返すうちに、比重が上昇し第２上限値を
越えたため、水が自動的に注入され、次いで導電率が低
下して、下限設定値以下となったので塩酸添加が自動的
に行われ、これと連動して塩酸と一定比率の供給量で３
５％塩化第２鉄水溶液の添加が自動的に行われた。約２
４時間運転した後の液組成は、銅濃度９５ｇ／リットル
（うち１価のＣｕは０ｇ／リットル）、２価のＦｅ濃度
１２ｇ／リットル、３価のＦｅ濃度８７ｇ／リットル、
全Ｃｌ濃度は３１６ｇ／リットルであった。運転中、２
価のＦｅイオン濃度は約１０〜２５ｇ／リットルで推移
した。塩酸として補充された塩素量は液の持ち出し分を
除いて全体の約１％であった。
するエッチングマシン１に本発明に係る再生システムを
組み合せ連続エッチングを行った。運転開始前のエッチ
ング液中の銅濃度は９５ｇ／リットル（１価のＣｕは０
ｇ／リットル）、２価のＦｅ濃度は１５ｇ／リットル、
３価のＦｅ濃度は８６ｇ／リットル、全Ｃｌ濃度は３１
５ｇ／リットルであった。エッチング液の比重の第１上
限値を１．３７、下限設定値を１．３６、第２上限値を
１．３８、ＯＲＰ上限設定値を７５０ｍＶ、下限設定値
を６５０ｍＶとし、導電率の上限設定値を１２０ｍＳ／
ｃｍ（塩酸濃度約０．７４Ｍ／リットル）、下限設定値
を７０ｍＳ／ｃｍとした。エッチングマシンにおける銅
の溶解速度は、約０．３ｋｇ／ｈ〜１．５ｋｇ／ｈ、電
解槽２の銅回収速度は約０．５ｋｇ／ｈであった。連続
運転を開始後、ＯＲＰ値が第１上限値を越えたため、電
解槽２の運転を停止したが、数分後にＯＲＰ値が低下
し、下限設定値を下回ったので、電解槽２の運転を再開
した。ＯＲＰ値の変化に伴う同様の電解槽の運転停止／
再開を数回繰り返すうちに、比重が上昇し第２上限値を
越えたため、水が自動的に注入され、次いで導電率が低
下して、下限設定値以下となったので塩酸添加が自動的
に行われ、これと連動して塩酸と一定比率の供給量で３
５％塩化第２鉄水溶液の添加が自動的に行われた。約２
４時間運転した後の液組成は、銅濃度９５ｇ／リットル
（うち１価のＣｕは０ｇ／リットル）、２価のＦｅ濃度
１２ｇ／リットル、３価のＦｅ濃度８７ｇ／リットル、
全Ｃｌ濃度は３１６ｇ／リットルであった。運転中、２
価のＦｅイオン濃度は約１０〜２５ｇ／リットルで推移
した。塩酸として補充された塩素量は液の持ち出し分を
除いて全体の約１％であった。
【００４７】
【発明の効果】本発明により、変化するエッチングスピ
ードに対して電解再生のスピードを自動調整するととも
に補充する薬液、水の量を同様に自動制御し、塩素イオ
ンの損失も最小限に抑えることが可能となった。
ードに対して電解再生のスピードを自動調整するととも
に補充する薬液、水の量を同様に自動制御し、塩素イオ
ンの損失も最小限に抑えることが可能となった。
【図１】本発明に係るシステムの全体概略図を示す。
１ エッチングマシン ２ 電解槽 ３ 塩素吸収装置 ４ 電解槽へのエッチング液供給ポンプ ５ エッチング液コントローラ ６ 整流器 ７ 補給水注入装置 ８ 過酸化水素水添加装置 ９ 添加装置 １０ 比重センサ １１ ＯＲＰセンサ １２ 塩酸濃度計
Claims (5)
- 【請求項１】 塩化銅と塩酸、又は塩化銅と塩化鉄と塩
酸を主成分とするエッチング液を用いて銅箔をエッチン
グする工程で循環使用されるエッチング液を隔膜電解設
備にて、陰極反応で上記エッチング液中の銅を析出して
回収すると共に陽極反応でエッチング液を電解酸化し、
当該陽極反応で発生する塩素ガスを酸化剤としてエッチ
ング液の酸化再生に有効利用することで連続的に再生す
る方法において、 上記エッチング液の比重及び酸化還元電位値を連続的に
測定し、測定された比重が予め定められた上限値以上で
且つ測定された酸化還元電位値が予め定められた下限値
以下である場合に上記隔膜電解設備への通電とエッチン
グ液の供給を行い、測定された比重が予め定められた下
限値以下であるか測定された酸化還元電位値が予め定め
られた上限値以上の場合には上記隔膜電解設備への通電
とエッチング液の供給を停止することを特徴とするエッ
チング液の再生方法。 - 【請求項２】 更に上記エッチング液の導電率を連続的
に測定し、測定された導電率が予め定められた下限値以
下の場合に塩酸又は塩酸と塩化鉄の混合液を補充し、予
め定められた上限値以上の場合には塩酸又は塩酸と塩化
鉄の混合液の添加を停止することを特徴とする請求項１
に記載の再生方法。 - 【請求項３】 上記エッチング液への窒素吹き込み又は
脱気を行うことを特徴とする請求項２に記載の再生方
法。 - 【請求項４】 比重に関する上記上限値より更に高い第
２上限値を設定し、測定された比重がこの第２上限値以
上である場合に、エッチング工程で発生する、エッチン
グ後の半製品のリンス水、又は電解工程で発生する、電
解回収銅の洗浄水、又は普通の水の添加を行い、測定さ
れた比重が前記下限値以下の場合には当該水添加を停止
することを特徴とする請求項１に記載の再生方法。 - 【請求項５】 上記エッチング液への水添加に代えて、
測定された酸化還元電位値が上記上限値以上で且つ比重
が第２上限値以上の場合に過酸化水素水の添加を行い、
酸化還元電位値が上記下限値以下か測定された比重が上
記下限値以下の場合に過酸化水素添加を停止することを
特徴とする請求項４に記載の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9305792A JPH11140671A (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | エッチング液の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9305792A JPH11140671A (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | エッチング液の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11140671A true JPH11140671A (ja) | 1999-05-25 |
Family
ID=17949421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9305792A Pending JPH11140671A (ja) | 1997-11-07 | 1997-11-07 | エッチング液の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11140671A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001348685A (ja) * | 2000-06-06 | 2001-12-18 | Yoshikazu Kobayashi | 塩化第二銅・塩素酸ナトリウム系エッチング液の管理システム |
| JP2002146561A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-05-22 | Asahi Denka Kogyo Kk | アルミニウム箔用エッチング液およびアルミニウム箔のエッチング方法 |
| DE10300597A1 (de) * | 2003-01-10 | 2004-07-22 | Eilenburger Elektrolyse- Und Umwelttechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur vollständigen Regenerierung von Metallchlorid-Ätzlösungen für Kupferwerkstoffe |
| JP2012180548A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 酸洗処理方法及び酸洗処理装置 |
| CN114351147A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-15 | 广东臻鼎环境科技有限公司 | 一种氯气全自动安全高效再生酸性蚀刻液系统 |
-
1997
- 1997-11-07 JP JP9305792A patent/JPH11140671A/ja active Pending
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| JP4603128B2 (ja) * | 2000-06-06 | 2010-12-22 | 義和 小林 | 塩化第二銅・塩素酸ナトリウム系エッチング液の管理システム |
| JP2002146561A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-05-22 | Asahi Denka Kogyo Kk | アルミニウム箔用エッチング液およびアルミニウム箔のエッチング方法 |
| JP4629930B2 (ja) * | 2000-08-24 | 2011-02-09 | 株式会社Ａｄｅｋａ | アルミニウム箔用エッチング液およびアルミニウム箔のエッチング方法 |
| DE10300597A1 (de) * | 2003-01-10 | 2004-07-22 | Eilenburger Elektrolyse- Und Umwelttechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur vollständigen Regenerierung von Metallchlorid-Ätzlösungen für Kupferwerkstoffe |
| JP2012180548A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 酸洗処理方法及び酸洗処理装置 |
| CN114351147A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-15 | 广东臻鼎环境科技有限公司 | 一种氯气全自动安全高效再生酸性蚀刻液系统 |
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