JP2001114773A - フタラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並びにシタロプラムの製造方法 - Google Patents
フタラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並びにシタロプラムの製造方法Info
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- JP2001114773A JP2001114773A JP29207699A JP29207699A JP2001114773A JP 2001114773 A JP2001114773 A JP 2001114773A JP 29207699 A JP29207699 A JP 29207699A JP 29207699 A JP29207699 A JP 29207699A JP 2001114773 A JP2001114773 A JP 2001114773A
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- 0 *CCCC1(c(cc2)ccc2F)OCc2cc(C=O)ccc12 Chemical compound *CCCC1(c(cc2)ccc2F)OCc2cc(C=O)ccc12 0.000 description 1
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 環境負荷が小さく、工業的にも有利であり、
かつ副反応による収率および純度の低下が生じないシタ
ロプラムの製造方法。 【解決手段】 5−ホルミルフタリドを鍵中間体とし、
該鍵中間体から種々の新規な中間体を経由して得られた
式[V]で表されるフタラン化合物を原料としたシタロプ
ラムの製造方法。 【化1】
かつ副反応による収率および純度の低下が生じないシタ
ロプラムの製造方法。 【解決手段】 5−ホルミルフタリドを鍵中間体とし、
該鍵中間体から種々の新規な中間体を経由して得られた
式[V]で表されるフタラン化合物を原料としたシタロプ
ラムの製造方法。 【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な式[V]のフ
タラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並
びに抗うつ剤として有用な医薬品であるシタロプラムの
製造方法に関する。詳細には、シタロプラムの中間体で
ある新規な式[V]のフタラン化合物およびその製造方
法、該フタラン化合物の新規中間体およびその製造方
法、並びに該フタラン化合物からのシタロプラムの製造
方法に関する。
タラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並
びに抗うつ剤として有用な医薬品であるシタロプラムの
製造方法に関する。詳細には、シタロプラムの中間体で
ある新規な式[V]のフタラン化合物およびその製造方
法、該フタラン化合物の新規中間体およびその製造方
法、並びに該フタラン化合物からのシタロプラムの製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】式[VII]
【0003】
【化12】
【0004】で表されるシタロプラムの製造法として
は、様々な鍵中間体を経由する方法が知られているが、
改良すべき点が存在する。例えば、1)5−ブロモフタ
リドを鍵中間体とする方法(特公昭61−35986号
公報)では、シアン化第一銅を用いることにより、−B
rを−CNに変換している。2)5−アルコキシカルボ
ニルフタリドまたは5−アルキルアミノカルボニルフタ
リドを鍵中間体とする方法(WO98/19511号公
報、WO98/19513号公報)では、鍵中間体が前
者である場合には、加水分解およびアミド化を行なった
後に、更にクロロスルホニルイソシアネートと反応させ
ることにより、また鍵中間体が後者である場合には、塩
化チオニルまたは五塩化リンと反応させることにより、
それぞれフタリド環の5位の置換基をシアノ基に変換し
ている。3)5−アルキルアミノフタリドまたは5−ア
ルキルカルボニルアミノフタリドを鍵中間体とする方法
(WO98/19512号公報)では、NaNO2とC
uCN、および/またはNaCNと反応させることによ
り、フタリド環の5位の置換基をシアノ基に変換してい
る。上記のように、従来の製造方法の大半が毒性の高い
金属シアン化物によるシアノ化を必要としており、環境
面への影響を考えると好ましいとはいえない。金属シア
ン化物を必要とせず、シアノ化を行なっている方法(W
O98/19511号公報、WO98/19513号公
報)においても、亜硫酸ガスを発生させるような試薬を
使用しており、またシアノ化の工程が長いため、環境面
および工業的観点から好ましいとはいえない。
は、様々な鍵中間体を経由する方法が知られているが、
改良すべき点が存在する。例えば、1)5−ブロモフタ
リドを鍵中間体とする方法(特公昭61−35986号
公報)では、シアン化第一銅を用いることにより、−B
rを−CNに変換している。2)5−アルコキシカルボ
ニルフタリドまたは5−アルキルアミノカルボニルフタ
リドを鍵中間体とする方法(WO98/19511号公
報、WO98/19513号公報)では、鍵中間体が前
者である場合には、加水分解およびアミド化を行なった
後に、更にクロロスルホニルイソシアネートと反応させ
ることにより、また鍵中間体が後者である場合には、塩
化チオニルまたは五塩化リンと反応させることにより、
それぞれフタリド環の5位の置換基をシアノ基に変換し
ている。3)5−アルキルアミノフタリドまたは5−ア
ルキルカルボニルアミノフタリドを鍵中間体とする方法
(WO98/19512号公報)では、NaNO2とC
uCN、および/またはNaCNと反応させることによ
り、フタリド環の5位の置換基をシアノ基に変換してい
る。上記のように、従来の製造方法の大半が毒性の高い
金属シアン化物によるシアノ化を必要としており、環境
面への影響を考えると好ましいとはいえない。金属シア
ン化物を必要とせず、シアノ化を行なっている方法(W
O98/19511号公報、WO98/19513号公
報)においても、亜硫酸ガスを発生させるような試薬を
使用しており、またシアノ化の工程が長いため、環境面
および工業的観点から好ましいとはいえない。
【0005】また、下記一連の工程によりシタロプラム
を製造する、鍵中間体が5−シアノフタリドである方法
(特公平6−25099号公報)
を製造する、鍵中間体が5−シアノフタリドである方法
(特公平6−25099号公報)
【0006】
【化13】
【0007】においては、(1)フタリド環の5位に置
換しているシアノ基へのグリニャール試薬の付加、
(2)フタラン環への酸触媒による環化の際に生じるシ
アノ基の酸加水分解などの副反応が伴うことにより、収
率および純度の低下を引き起こしていた。以上のことか
ら、環境負荷が小さく、工業的にも有利(例えば、精製
工程の回数を削減できる点など)であり、かつ副反応に
よる収率および純度の低下が生じないシタロプラムの製
造方法が望まれていた。
換しているシアノ基へのグリニャール試薬の付加、
(2)フタラン環への酸触媒による環化の際に生じるシ
アノ基の酸加水分解などの副反応が伴うことにより、収
率および純度の低下を引き起こしていた。以上のことか
ら、環境負荷が小さく、工業的にも有利(例えば、精製
工程の回数を削減できる点など)であり、かつ副反応に
よる収率および純度の低下が生じないシタロプラムの製
造方法が望まれていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、環境
負荷が小さく、工業的にも有利であり、かつ副反応によ
る収率および純度の低下が生じないシタロプラムの製造
方法を提供することである。
負荷が小さく、工業的にも有利であり、かつ副反応によ
る収率および純度の低下が生じないシタロプラムの製造
方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、5−ホルミ
ルフタリドを鍵中間体とすることにより、環境負荷が小
さく、工業的にも有利であり、かつ副反応による収率お
よび純度の低下が生じないシタロプラムの製造方法を見
出した。その上、5−ホルミルフタリドのホルミル基を
保護した、後記式[I]で表される化合物(以下、化合物
[I]という)、これから誘導される後記式[II]、[III]、
[IV]及び[V] で表される化合物(以下、順に化合物[I
I]、化合物[III]、化合物[IV]及びフタラン化合物とも
いう)が、上記目的を解決するために、必要不可欠な化
合物であることを見出し、本発明を完成するに至った。
ルフタリドを鍵中間体とすることにより、環境負荷が小
さく、工業的にも有利であり、かつ副反応による収率お
よび純度の低下が生じないシタロプラムの製造方法を見
出した。その上、5−ホルミルフタリドのホルミル基を
保護した、後記式[I]で表される化合物(以下、化合物
[I]という)、これから誘導される後記式[II]、[III]、
[IV]及び[V] で表される化合物(以下、順に化合物[I
I]、化合物[III]、化合物[IV]及びフタラン化合物とも
いう)が、上記目的を解決するために、必要不可欠な化
合物であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0010】即ち、本発明は、(1)式[I]
【0011】
【化14】
【0012】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物、(2)式[II]
す)で表される化合物、(2)式[II]
【0013】
【化15】
【0014】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物、(3)式[III]
す)で表される化合物、(3)式[III]
【0015】
【化16】
【0016】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物、(4)式[IV]
す)で表される化合物、(4)式[IV]
【0017】
【化17】
【0018】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物、(5)式[V]
す)で表される化合物、(5)式[V]
【0019】
【化18】
【0020】で表されるフタラン化合物、(6)式[I]
【0021】
【化19】
【0022】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物を、4−フルオロフェニルマグネ
シウムハライドおよび3−(ジメチルアミノ)プロピル
マグネシウムハライドと反応させることを特徴とする、
式[III]
す)で表される化合物を、4−フルオロフェニルマグネ
シウムハライドおよび3−(ジメチルアミノ)プロピル
マグネシウムハライドと反応させることを特徴とする、
式[III]
【0023】
【化20】
【0024】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物の製造方法、(7)酸触媒の存在
下、式[III]
す)で表される化合物の製造方法、(7)酸触媒の存在
下、式[III]
【0025】
【化21】
【0026】(式中、Xは保護されたホルミル基を示
す)で表される化合物を閉環と同時にXの保護されたホ
ルミル基をホルミル基に変換することを特徴とする、式
[V]
す)で表される化合物を閉環と同時にXの保護されたホ
ルミル基をホルミル基に変換することを特徴とする、式
[V]
【0027】
【化22】
【0028】で表されるフタラン化合物の製造方法、お
よび(8)式[V]
よび(8)式[V]
【0029】
【化23】
【0030】で表されるフタラン化合物を、ヒドロキシ
ルアミンまたはその塩酸塩と反応させることを特徴とす
る、式[VII]
ルアミンまたはその塩酸塩と反応させることを特徴とす
る、式[VII]
【0031】
【化24】
【0032】で表されるシタロプラムの製造方法に関す
る。
る。
【0033】
【発明の実施の形態】まず、本明細書に使用している記
号の定義を行う。式[I]、[II]、[III]、および[IV]にお
いて、Xにおける保護されたホルミル基としては、グリ
ニャール試薬との反応物が分解する条件ではその保護基
が脱保護されず、かつ酸等でその保護基を脱保護できる
ものであれば特に制限がなく、これにより化合物[III]
を閉環と同時にXの保護されたホルミル基をホルミル基
に変換でき、例えばpHが3以下、好ましくは2以下で
ある酸で脱保護されるものが挙げられる。好ましくは、
炭素数が1から5であるアルキル基で4位および/また
は5位が置換されていてもよい1,3−ジオキソラン−
2−イル、炭素数が1から5であるアルキル基で4位、
5位および6位のうち少なくとも1つが置換されていて
もよい1,3−ジオキサン−2−イル、あるいはアルコ
キシル部の炭素数が1から5であるジアルコキシメチル
が挙げられ、より好ましくは、酸等で容易に脱保護でき
るという点から、例えば1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、1,3−ジオキサン−2−イル、およびジメトキシ
メチルが挙げられる。また、より好ましくはグリニャー
ル試薬との反応物が分解する条件では脱保護されない性
質を有するという点から、1,3−ジオキソラン−2−
イル、および1,3−ジオキサン−2−イルが挙げられ
る。上記「炭素数が1から5であるアルキル基で4位お
よび/または5位が置換されていてもよい1,3−ジオ
キソラン−2−イル」および「炭素数が1から5である
アルキル基で4位、5位および6位のうち少なくとも1
つが置換されていてもよい1,3−ジオキサン−2−イ
ル」における「炭素数が1から5であるアルキル基」は
直鎖状または分岐鎖状であり、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec
−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、tert−ペンチルなどが挙げら
れ、好ましくはメチルおよびエチルが挙げられる。上記
「アルコキシル部の炭素数が1から5であるジアルコキ
シメチル」におけるアルコキシル部は、それぞれ同一ま
たは異なっていてもよく、直鎖状または分岐鎖状であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、
tert−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ネ
オペントキシ、tert−ペントキシなどが挙げられ、
好ましくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ
およびイソブトキシが挙げられる。
号の定義を行う。式[I]、[II]、[III]、および[IV]にお
いて、Xにおける保護されたホルミル基としては、グリ
ニャール試薬との反応物が分解する条件ではその保護基
が脱保護されず、かつ酸等でその保護基を脱保護できる
ものであれば特に制限がなく、これにより化合物[III]
を閉環と同時にXの保護されたホルミル基をホルミル基
に変換でき、例えばpHが3以下、好ましくは2以下で
ある酸で脱保護されるものが挙げられる。好ましくは、
炭素数が1から5であるアルキル基で4位および/また
は5位が置換されていてもよい1,3−ジオキソラン−
2−イル、炭素数が1から5であるアルキル基で4位、
5位および6位のうち少なくとも1つが置換されていて
もよい1,3−ジオキサン−2−イル、あるいはアルコ
キシル部の炭素数が1から5であるジアルコキシメチル
が挙げられ、より好ましくは、酸等で容易に脱保護でき
るという点から、例えば1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、1,3−ジオキサン−2−イル、およびジメトキシ
メチルが挙げられる。また、より好ましくはグリニャー
ル試薬との反応物が分解する条件では脱保護されない性
質を有するという点から、1,3−ジオキソラン−2−
イル、および1,3−ジオキサン−2−イルが挙げられ
る。上記「炭素数が1から5であるアルキル基で4位お
よび/または5位が置換されていてもよい1,3−ジオ
キソラン−2−イル」および「炭素数が1から5である
アルキル基で4位、5位および6位のうち少なくとも1
つが置換されていてもよい1,3−ジオキサン−2−イ
ル」における「炭素数が1から5であるアルキル基」は
直鎖状または分岐鎖状であり、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec
−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、tert−ペンチルなどが挙げら
れ、好ましくはメチルおよびエチルが挙げられる。上記
「アルコキシル部の炭素数が1から5であるジアルコキ
シメチル」におけるアルコキシル部は、それぞれ同一ま
たは異なっていてもよく、直鎖状または分岐鎖状であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、
tert−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ネ
オペントキシ、tert−ペントキシなどが挙げられ、
好ましくはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ
およびイソブトキシが挙げられる。
【0034】炭素数が1から5であるアルキル基で4位
および/または5位が置換されていてもよい1,3−ジ
オキソラン−2−イルとしては、例えば1,3−ジオキ
ソラン−2−イル、4−メチル−1,3−ジオキソラン
−2−イル、4−エチル−1,3−ジオキソラン−2−
イル、4−プロピル−1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、4−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、4−ブチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、4
−イソブチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、4−
sec−ブチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、4
−tert−ブチル−1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、4−ペンチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、
4−イソペンチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、
4−ネオペンチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、
および4−tert−ペンチル−1,3−ジオキソラン
−2−イル、これら化合物の「4−」を「5−」に置き
換えた化合物、並びにジ置換体(例えば、4,4−ジメ
チル−1,3−ジオキソラン−2−イルなど)が挙げら
れ、好ましくは1,3−ジオキソラン−2−イル、4−
メチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、および4−
エチル−1,3−ジオキソラン−2−イルが挙げられ
る。
および/または5位が置換されていてもよい1,3−ジ
オキソラン−2−イルとしては、例えば1,3−ジオキ
ソラン−2−イル、4−メチル−1,3−ジオキソラン
−2−イル、4−エチル−1,3−ジオキソラン−2−
イル、4−プロピル−1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、4−イソプロピル−1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、4−ブチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、4
−イソブチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、4−
sec−ブチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、4
−tert−ブチル−1,3−ジオキソラン−2−イ
ル、4−ペンチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、
4−イソペンチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、
4−ネオペンチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、
および4−tert−ペンチル−1,3−ジオキソラン
−2−イル、これら化合物の「4−」を「5−」に置き
換えた化合物、並びにジ置換体(例えば、4,4−ジメ
チル−1,3−ジオキソラン−2−イルなど)が挙げら
れ、好ましくは1,3−ジオキソラン−2−イル、4−
メチル−1,3−ジオキソラン−2−イル、および4−
エチル−1,3−ジオキソラン−2−イルが挙げられ
る。
【0035】炭素数が1から5であるアルキル基で4
位、5位および6位のうち少なくとも1つが置換されて
いてもよい1,3−ジオキサン−2−イルとしては、例
えば1,3−ジオキサン−2−イル、4−メチル−1,
3−ジオキサン−2−イル、4−エチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル、4−プロピル−1,3−ジオキサン
−2−イル、4−イソプロピル−1,3−ジオキサン−
2−イル、4−ブチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル、4−イソブチル−1,3−ジオキサン−2−イル、
4−sec−ブチル−1,3−ジオキサン−2−イル、
4−tert−ブチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル、4−ペンチル−1,3−ジオキサン−2−イル、4
−イソペンチル−1,3−ジオキサン−2−イル、4−
ネオペンチル−1,3−ジオキサン−2−イルおよび4
−tert−ペンチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル、これら化合物の「4−」を「5−」に置き換えた化
合物、これら化合物の「4−」を「6−」に置き換えた
化合物、ジ置換体(例えば、5,5−ジメチル−1,3
−ジオキサン−2−イル、5−ブチル−5−エチル−
1,3−ジオキサン−2−イルなど)、並びにトリ置換
体(例えば、4,4,5−トリメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イルなど)が挙げられ、好ましくは1,3−
ジオキサン−2−イル、4−メチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル、5−メチル−1,3−ジオキサン−2−
イル、および5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イルが挙げられる。
位、5位および6位のうち少なくとも1つが置換されて
いてもよい1,3−ジオキサン−2−イルとしては、例
えば1,3−ジオキサン−2−イル、4−メチル−1,
3−ジオキサン−2−イル、4−エチル−1,3−ジオ
キサン−2−イル、4−プロピル−1,3−ジオキサン
−2−イル、4−イソプロピル−1,3−ジオキサン−
2−イル、4−ブチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル、4−イソブチル−1,3−ジオキサン−2−イル、
4−sec−ブチル−1,3−ジオキサン−2−イル、
4−tert−ブチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル、4−ペンチル−1,3−ジオキサン−2−イル、4
−イソペンチル−1,3−ジオキサン−2−イル、4−
ネオペンチル−1,3−ジオキサン−2−イルおよび4
−tert−ペンチル−1,3−ジオキサン−2−イ
ル、これら化合物の「4−」を「5−」に置き換えた化
合物、これら化合物の「4−」を「6−」に置き換えた
化合物、ジ置換体(例えば、5,5−ジメチル−1,3
−ジオキサン−2−イル、5−ブチル−5−エチル−
1,3−ジオキサン−2−イルなど)、並びにトリ置換
体(例えば、4,4,5−トリメチル−1,3−ジオキ
サン−2−イルなど)が挙げられ、好ましくは1,3−
ジオキサン−2−イル、4−メチル−1,3−ジオキサ
ン−2−イル、5−メチル−1,3−ジオキサン−2−
イル、および5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン−
2−イルが挙げられる。
【0036】アルコキシル部の炭素数が1から5である
ジアルコキシメチルとしては、例えばジメトキシメチ
ル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチル、ジイソプ
ロポキシメチル、ジブトキシメチル、ジイソブトキシメ
チル、ジsec−ブトキシメチル、ジtert−ブトキ
シメチル、ジペントキシメチル、ジイソペントキシメチ
ル、ジネオペントキシメチル、ジtert−ペントキシ
メチルなどのアルコキシル部が同一であるジアルコキシ
メチル;エトキシメトキシメチル、メトキシプロポキシ
メチル、ブトキシメトキシメチル、イソプロポキシメト
キシメチル、イソブトキシメトキシメチル、sec−ブ
トキシメトキシメチル、tert−ブトキシメトキシメ
チル、メトキシペントキシメチル、イソペントキシメト
キシメチル、メトキシネオペントキシメチル、メトキシ
tert−ペントキシメチルなどのアルコキシル部が異
なるジアルコキシメチルが挙げられ、好ましくはジメト
キシメチル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチル、
ジブトキシメチル、およびジイソブトキシメチルが挙げ
られる。
ジアルコキシメチルとしては、例えばジメトキシメチ
ル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチル、ジイソプ
ロポキシメチル、ジブトキシメチル、ジイソブトキシメ
チル、ジsec−ブトキシメチル、ジtert−ブトキ
シメチル、ジペントキシメチル、ジイソペントキシメチ
ル、ジネオペントキシメチル、ジtert−ペントキシ
メチルなどのアルコキシル部が同一であるジアルコキシ
メチル;エトキシメトキシメチル、メトキシプロポキシ
メチル、ブトキシメトキシメチル、イソプロポキシメト
キシメチル、イソブトキシメトキシメチル、sec−ブ
トキシメトキシメチル、tert−ブトキシメトキシメ
チル、メトキシペントキシメチル、イソペントキシメト
キシメチル、メトキシネオペントキシメチル、メトキシ
tert−ペントキシメチルなどのアルコキシル部が異
なるジアルコキシメチルが挙げられ、好ましくはジメト
キシメチル、ジエトキシメチル、ジプロポキシメチル、
ジブトキシメチル、およびジイソブトキシメチルが挙げ
られる。
【0037】本発明に使用する3−(ジメチルアミノ)
プロピルマグネシウムハライドとしては、3−(ジメチ
ルアミノ)プロピルマグネシウムクロリド、3−(ジメ
チルアミノ)プロピルマグネシウムブロミド、および3
−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシウムヨージドが
挙げられ、好ましくは3−(ジメチルアミノ)プロピル
マグネシウムクロリドが挙げられる。
プロピルマグネシウムハライドとしては、3−(ジメチ
ルアミノ)プロピルマグネシウムクロリド、3−(ジメ
チルアミノ)プロピルマグネシウムブロミド、および3
−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシウムヨージドが
挙げられ、好ましくは3−(ジメチルアミノ)プロピル
マグネシウムクロリドが挙げられる。
【0038】本発明に使用する4−フルオロフェニルマ
グネシウムハライドとしては、4−フルオロフェニルマ
グネシウムブロミドおよび4−フルオロフェニルマグネ
シウムヨージドが挙げられ、好ましくは4−フルオロフ
ェニルマグネシウムブロミドが挙げられる。
グネシウムハライドとしては、4−フルオロフェニルマ
グネシウムブロミドおよび4−フルオロフェニルマグネ
シウムヨージドが挙げられ、好ましくは4−フルオロフ
ェニルマグネシウムブロミドが挙げられる。
【0039】本発明に使用する3−(ジメチルアミノ)
プロピルマグネシウムハライド、および4−フルオロフ
ェニルマグネシウムハライドは、通常のグリニャール試
薬の調製方法により得ることができ、例えば4−フルオ
ロフェニルハライドまたは3−(ジメチルアミノ)プロ
ピルハライドを、金属マグネシウムとそれぞれ反応させ
ることにより、対応したグリニャール試薬をそれぞれ得
ることができる。
プロピルマグネシウムハライド、および4−フルオロフ
ェニルマグネシウムハライドは、通常のグリニャール試
薬の調製方法により得ることができ、例えば4−フルオ
ロフェニルハライドまたは3−(ジメチルアミノ)プロ
ピルハライドを、金属マグネシウムとそれぞれ反応させ
ることにより、対応したグリニャール試薬をそれぞれ得
ることができる。
【0040】以下、本発明について詳細に説明する。シタロプラムの新規製造方法 シタロプラムは公知化合物であり、抗うつ剤として有用
な化合物である。シタロプラムは、5−ブロモフタリ
ド、5−アルコキシカルボニルフタリド、5−アルキル
アミノカルボニルフタリド、5−アルキルアミノフタリ
ド、および5−アルキルカルボニルアミノフタリドなど
を鍵中間体とした様々な製造方法により得られることが
知られている。しかしながら、従来の製造方法において
は、上記フタリド化合物の5位の置換基をシアノ基に変
換する際、毒性の高い金属シアン化物を使用している。
また、金属シアン化物を使用していない製造方法も先行
文献に含まれているが、この場合にも塩化チオニルのよ
うな亜硫酸ガスを発生する試薬が使用されており、さら
にシアノ基への変換に3ステップを要しており、環境面
および工業的な有用性から、好ましい製造方法とはいえ
なかった。
な化合物である。シタロプラムは、5−ブロモフタリ
ド、5−アルコキシカルボニルフタリド、5−アルキル
アミノカルボニルフタリド、5−アルキルアミノフタリ
ド、および5−アルキルカルボニルアミノフタリドなど
を鍵中間体とした様々な製造方法により得られることが
知られている。しかしながら、従来の製造方法において
は、上記フタリド化合物の5位の置換基をシアノ基に変
換する際、毒性の高い金属シアン化物を使用している。
また、金属シアン化物を使用していない製造方法も先行
文献に含まれているが、この場合にも塩化チオニルのよ
うな亜硫酸ガスを発生する試薬が使用されており、さら
にシアノ基への変換に3ステップを要しており、環境面
および工業的な有用性から、好ましい製造方法とはいえ
なかった。
【0041】本発明者らは、金属シアン化物などの環境
負荷の高い試薬を使用することなく、安全で、更に工業
的にも有用なシタロプラムの製造方法を検討した結果、
以下の製造方法を見出した。即ち、式[V]
負荷の高い試薬を使用することなく、安全で、更に工業
的にも有用なシタロプラムの製造方法を検討した結果、
以下の製造方法を見出した。即ち、式[V]
【0042】
【化25】
【0043】で表される新規なフタラン化合物を、ヒド
ロキシルアミンまたはその塩酸塩と反応させることによ
り、シタロプラムを得ることができる。例えば、有機溶
媒中、化合物[V]に、ヒドロキシルアミンまたはその塩
酸塩を付加させた後、そのまま加熱することによりシタ
ロプラムを得ることができる。反応を温和な条件下で行
なうため、さらに脱水剤を作用させるのが好ましい。脱
水剤は、ヒドロキシルアミンまたはその塩酸塩と同時に
添加してもよく、好ましくはヒドロキシルアミンまたは
その塩酸塩の添加後に加える。
ロキシルアミンまたはその塩酸塩と反応させることによ
り、シタロプラムを得ることができる。例えば、有機溶
媒中、化合物[V]に、ヒドロキシルアミンまたはその塩
酸塩を付加させた後、そのまま加熱することによりシタ
ロプラムを得ることができる。反応を温和な条件下で行
なうため、さらに脱水剤を作用させるのが好ましい。脱
水剤は、ヒドロキシルアミンまたはその塩酸塩と同時に
添加してもよく、好ましくはヒドロキシルアミンまたは
その塩酸塩の添加後に加える。
【0044】ヒドロキシルアミンまたはその塩酸塩の使
用量は、式[V]のフタラン化合物に対して、1当量〜5
当量、好ましくは1当量〜2当量である。また、特にヒ
ドロキシルアミン塩酸塩を付加する場合には、適当な塩
基を添加するのが好ましい。該塩基としては、シアノ基
への影響が少ないものであれば特に制限はなく、たとえ
ば、有機塩基類(例えば、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等)、無機塩基
類(例えば、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、水酸化
カリウム等)などが挙げられ、好ましくはトリエチルア
ミンが挙げられる。該塩基の使用量は、ヒドロキシルア
ミン塩酸塩に対して、1当量から5当量であることが好
ましい。
用量は、式[V]のフタラン化合物に対して、1当量〜5
当量、好ましくは1当量〜2当量である。また、特にヒ
ドロキシルアミン塩酸塩を付加する場合には、適当な塩
基を添加するのが好ましい。該塩基としては、シアノ基
への影響が少ないものであれば特に制限はなく、たとえ
ば、有機塩基類(例えば、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等)、無機塩基
類(例えば、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、水酸化
カリウム等)などが挙げられ、好ましくはトリエチルア
ミンが挙げられる。該塩基の使用量は、ヒドロキシルア
ミン塩酸塩に対して、1当量から5当量であることが好
ましい。
【0045】脱水剤としては、例えば酸無水物(例え
ば、無水酢酸、無水フタル酸等)、オキシ塩化リン、メ
タンスルホニルクロリド、パラトルエンスルホニルクロ
リド等が使用でき、無水酢酸を使用することが環境面お
よび収率の点から好ましい。脱水剤の使用量は、ヒドロ
キシルアミンまたはその塩酸塩に対して、1当量から2
0当量使用することが好ましい。
ば、無水酢酸、無水フタル酸等)、オキシ塩化リン、メ
タンスルホニルクロリド、パラトルエンスルホニルクロ
リド等が使用でき、無水酢酸を使用することが環境面お
よび収率の点から好ましい。脱水剤の使用量は、ヒドロ
キシルアミンまたはその塩酸塩に対して、1当量から2
0当量使用することが好ましい。
【0046】有機溶媒としては、アセトニトリル、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベ
ンゼン、N−メチルピロリドン、ニトロエタン、ジメチ
ルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ジクロロメタンなどが挙げられ、好まし
くはアセトニトリル、トルエン、キシレン、N−メチル
ピロリドン、およびニトロエタンが挙げられる。該有機
溶媒の使用量は、式[V]のフタラン化合物1kgに対し
て0.5L〜50L、好ましくは1L〜20Lである。
エン、キシレン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベ
ンゼン、N−メチルピロリドン、ニトロエタン、ジメチ
ルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ジクロロメタンなどが挙げられ、好まし
くはアセトニトリル、トルエン、キシレン、N−メチル
ピロリドン、およびニトロエタンが挙げられる。該有機
溶媒の使用量は、式[V]のフタラン化合物1kgに対し
て0.5L〜50L、好ましくは1L〜20Lである。
【0047】反応温度は50℃〜220℃、好ましくは
80℃〜150℃であり、反応時間は1時間〜20時
間、好ましくは2時間〜8時間である。
80℃〜150℃であり、反応時間は1時間〜20時
間、好ましくは2時間〜8時間である。
【0048】目的物の単離は、例えば反応液を塩基性水
溶液(例えば炭酸水素ナトリウム水溶液)で中和した
後、抽出、結晶化などの常法により、行なうことができ
る。
溶液(例えば炭酸水素ナトリウム水溶液)で中和した
後、抽出、結晶化などの常法により、行なうことができ
る。
【0049】新規なフタラン化合物の製造方法 上記式[V]で表される化合物は新規なフタラン化合物で
あり、例えば、式[IV]
あり、例えば、式[IV]
【0050】
【化26】
【0051】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る新規な化合物[IV]のXの保護されたホルミル基をホル
ミル基に変換することにより得ることができる。ホルミ
ル基に変換するには、例えばホルミル基の保護基を除去
する方法で行なえばよく、具体的には、化合物[IV]の有
機溶媒溶液に、酸触媒を添加することにより、式[V]の
フタラン化合物を得ることができる。
る新規な化合物[IV]のXの保護されたホルミル基をホル
ミル基に変換することにより得ることができる。ホルミ
ル基に変換するには、例えばホルミル基の保護基を除去
する方法で行なえばよく、具体的には、化合物[IV]の有
機溶媒溶液に、酸触媒を添加することにより、式[V]の
フタラン化合物を得ることができる。
【0052】酸触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸、メ
タンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙げら
れ、好ましくは塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、および
パラトルエンスルホン酸が挙げられる。該酸触媒の使用
量は、化合物[IV]に対して、0.0001当量〜20当
量、好ましくは0.01当量〜10当量である。
タンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙げら
れ、好ましくは塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、および
パラトルエンスルホン酸が挙げられる。該酸触媒の使用
量は、化合物[IV]に対して、0.0001当量〜20当
量、好ましくは0.01当量〜10当量である。
【0053】有機溶媒としては、反応を阻害しない溶媒
であれば特に限定はなく、例えばテトラヒドロフラン、
トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、ジクロロメタンなど、好ましく
はテトラヒドロフラン、トルエン、アセトンおよびメタ
ノールが挙げられる。該有機溶媒は、化合物[IV]1kg
に対して、0.5L〜50L、好ましくは5L〜30L
使用する。
であれば特に限定はなく、例えばテトラヒドロフラン、
トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、ジクロロメタンなど、好ましく
はテトラヒドロフラン、トルエン、アセトンおよびメタ
ノールが挙げられる。該有機溶媒は、化合物[IV]1kg
に対して、0.5L〜50L、好ましくは5L〜30L
使用する。
【0054】反応温度は、−10℃〜120℃、好まし
くは0℃〜70℃であり、反応時間は0.1時間〜10
時間、好ましくは0.5時間〜5時間である。
くは0℃〜70℃であり、反応時間は0.1時間〜10
時間、好ましくは0.5時間〜5時間である。
【0055】目的物の単離は、塩基性化合物(例えば、
炭酸水素ナトリウムなど)の添加により反応を停止後、
抽出などの常法により行なうことができる。
炭酸水素ナトリウムなど)の添加により反応を停止後、
抽出などの常法により行なうことができる。
【0056】上記製造方法よりも簡便な式[V]のフタラ
ン化合物の製造方法として、以下の方法が挙げられる。
酸触媒の存在下、式[III]
ン化合物の製造方法として、以下の方法が挙げられる。
酸触媒の存在下、式[III]
【0057】
【化27】
【0058】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る新規な化合物[III]を、閉環と同時にXの保護された
ホルミル基をホルミル基に変換することにより、ワンポ
ット反応で化合物[III]から式[V]のフタラン化合物を得
ることができる。例えば化合物[III]に直接、または化
合物[III]の有機溶媒溶液に、酸触媒を加えることによ
り、式[V]のフタラン化合物を得ることができる。化合
物[III]におけるXとしては、酸等で容易に脱保護され
てホルミル基に変換されるものがより好ましく、例えば
ジメトキシメチル基、1,3−ジオキソラン−2−イル
および1,3−ジオキサン−2−イルが挙げられる。
る新規な化合物[III]を、閉環と同時にXの保護された
ホルミル基をホルミル基に変換することにより、ワンポ
ット反応で化合物[III]から式[V]のフタラン化合物を得
ることができる。例えば化合物[III]に直接、または化
合物[III]の有機溶媒溶液に、酸触媒を加えることによ
り、式[V]のフタラン化合物を得ることができる。化合
物[III]におけるXとしては、酸等で容易に脱保護され
てホルミル基に変換されるものがより好ましく、例えば
ジメトキシメチル基、1,3−ジオキソラン−2−イル
および1,3−ジオキサン−2−イルが挙げられる。
【0059】酸触媒としては、通常使用する酸類であれ
ば特に制限はなく、例えば、好ましくは鉱酸類(例え
ば、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸等)、有機酸類(例え
ば、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等)が挙
げられ、より好ましくはリン酸および硫酸、特に好まし
くはリン酸が挙げられる。該酸触媒は、化合物[III]に
対して、0.01当量〜100当量、好ましくは1当量
〜40当量使用する。
ば特に制限はなく、例えば、好ましくは鉱酸類(例え
ば、硫酸、塩酸、リン酸、硝酸等)、有機酸類(例え
ば、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等)が挙
げられ、より好ましくはリン酸および硫酸、特に好まし
くはリン酸が挙げられる。該酸触媒は、化合物[III]に
対して、0.01当量〜100当量、好ましくは1当量
〜40当量使用する。
【0060】有機溶媒としては、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、ジクロロ
メタンなどが挙げられ、好ましくはトルエンが挙げられ
る。有機溶媒の使用量は、化合物[III]1kgに対し
て、30L以下、好ましくは15L以下である。
クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、ジクロロ
メタンなどが挙げられ、好ましくはトルエンが挙げられ
る。有機溶媒の使用量は、化合物[III]1kgに対し
て、30L以下、好ましくは15L以下である。
【0061】反応温度は、0℃〜150℃、好ましくは
50℃〜120℃であり、反応時間は0.5時間〜20
時間、好ましくは1時間〜8時間である。
50℃〜120℃であり、反応時間は0.5時間〜20
時間、好ましくは1時間〜8時間である。
【0062】目的物の単離は、塩基性化合物(例えば、
炭酸ナトリウムなど)などの添加により、反応を停止
後、抽出などの常法により行なうことができる。
炭酸ナトリウムなど)などの添加により、反応を停止
後、抽出などの常法により行なうことができる。
【0063】新規な化合物[IV]の製造方法 上記式[IV]で表される化合物[IV]は新規化合物であり、
例えば、新規な化合物[III]の閉環反応により得ること
ができる。例えば、有機溶媒中、好ましくは塩基性化合
物の存在下、化合物[III]を脱水剤と反応させることに
より、化合物[IV]を得ることができる。具体的には、有
機溶媒中に、化合物[III]および塩基性化合物を添加
後、脱水剤の有機溶媒溶液を添加、好ましくは滴下する
ことにより、化合物[IV]を得ることができる。
例えば、新規な化合物[III]の閉環反応により得ること
ができる。例えば、有機溶媒中、好ましくは塩基性化合
物の存在下、化合物[III]を脱水剤と反応させることに
より、化合物[IV]を得ることができる。具体的には、有
機溶媒中に、化合物[III]および塩基性化合物を添加
後、脱水剤の有機溶媒溶液を添加、好ましくは滴下する
ことにより、化合物[IV]を得ることができる。
【0064】脱水剤としては、例えば酸無水物(例え
ば、無水酢酸、無水フタル酸等)、オキシ塩化リン、メ
タンスルホニルクロリド、パラトルエンスルホニルクロ
リド等が挙げられ、好ましくはメタンスルホニルクロリ
ド、およびパラトルエンスルホニルクロリドが挙げられ
る。脱水剤の使用量は、化合物[III]に対して、1当量
〜3当量、好ましくは1当量〜1.5当量である。
ば、無水酢酸、無水フタル酸等)、オキシ塩化リン、メ
タンスルホニルクロリド、パラトルエンスルホニルクロ
リド等が挙げられ、好ましくはメタンスルホニルクロリ
ド、およびパラトルエンスルホニルクロリドが挙げられ
る。脱水剤の使用量は、化合物[III]に対して、1当量
〜3当量、好ましくは1当量〜1.5当量である。
【0065】塩基性化合物としては、特に制限はなく、
例えば有機塩基類(例えば、トリエチルアミン、ピリジ
ン等)、無機塩基類(例えば、炭酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸
カリウム、水酸化カリウム等)が挙げられ、好ましくは
トリエチルアミン、トリブチルアミン、およびジメチル
アニリンが挙げられる。該塩基性化合物の使用量は、化
合物[III]に対して、1当量〜10当量、好ましくは1
当量〜5当量である。
例えば有機塩基類(例えば、トリエチルアミン、ピリジ
ン等)、無機塩基類(例えば、炭酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸
カリウム、水酸化カリウム等)が挙げられ、好ましくは
トリエチルアミン、トリブチルアミン、およびジメチル
アニリンが挙げられる。該塩基性化合物の使用量は、化
合物[III]に対して、1当量〜10当量、好ましくは1
当量〜5当量である。
【0066】有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、1,2−ジ
クロロベンゼン、ジクロロメタンなどが挙げられ、好ま
しくは酢酸エチル、トルエン、およびクロロベンゼンが
挙げられる。有機溶媒の使用量は、化合物[III]1kg
に対して、0.5L〜80L、好ましくは5L〜40L
である。
ル、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、1,2−ジ
クロロベンゼン、ジクロロメタンなどが挙げられ、好ま
しくは酢酸エチル、トルエン、およびクロロベンゼンが
挙げられる。有機溶媒の使用量は、化合物[III]1kg
に対して、0.5L〜80L、好ましくは5L〜40L
である。
【0067】反応温度は、−30℃〜100℃、好まし
くは−10℃〜50℃であり、反応時間は0.5時間〜
10時間、好ましくは1時間〜5時間である。
くは−10℃〜50℃であり、反応時間は0.5時間〜
10時間、好ましくは1時間〜5時間である。
【0068】目的物の単離は、例えば、塩基性化合物
(例えば、水酸化ナトリウムなど)を添加して反応を停
止後、抽出などの常法により行なうことができる。
(例えば、水酸化ナトリウムなど)を添加して反応を停
止後、抽出などの常法により行なうことができる。
【0069】新規な化合物[III]の製造方法 上記式[III]で表される化合物[III]は新規化合物であ
り、例えば、式[II]
り、例えば、式[II]
【0070】
【化28】
【0071】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る化合物[II]を、3−(ジメチルアミノ)プロピルマグ
ネシウムハライドと反応させることにより得ることがで
きる。好ましくは、有機溶媒中、化合物[II]を添加後、
これに3−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシウムハ
ライドを添加、好ましくは滴下することにより、化合物
[III]を得ることができる。
る化合物[II]を、3−(ジメチルアミノ)プロピルマグ
ネシウムハライドと反応させることにより得ることがで
きる。好ましくは、有機溶媒中、化合物[II]を添加後、
これに3−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシウムハ
ライドを添加、好ましくは滴下することにより、化合物
[III]を得ることができる。
【0072】3−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシ
ウムハライドは、化合物[II]に対して、1当量〜2当
量、好ましくは1当量〜1.3当量使用する。
ウムハライドは、化合物[II]に対して、1当量〜2当
量、好ましくは1当量〜1.3当量使用する。
【0073】有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、
トルエン、キシレン、ジメトキシエタン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、t
ert−ブチルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジ
オキサンなどが挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラ
ン、トルエン、ジメトキシエタン、およびジエチレング
リコールジメチルエーテルが挙げられる。これらの溶媒
は、1種または2種以上併用してもよい。該有機溶媒の
使用量は、化合物[II]1kgに対して、5L〜60L、
好ましくは5L〜40Lである。
トルエン、キシレン、ジメトキシエタン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、t
ert−ブチルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジ
オキサンなどが挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラ
ン、トルエン、ジメトキシエタン、およびジエチレング
リコールジメチルエーテルが挙げられる。これらの溶媒
は、1種または2種以上併用してもよい。該有機溶媒の
使用量は、化合物[II]1kgに対して、5L〜60L、
好ましくは5L〜40Lである。
【0074】反応温度は−50℃〜80℃、好ましくは
−20℃〜50℃であり、反応時間は0.5時間〜40
時間、好ましくは3時間〜20時間である。
−20℃〜50℃であり、反応時間は0.5時間〜40
時間、好ましくは3時間〜20時間である。
【0075】目的物の単離は、例えば、グリニャール試
薬の後処理を行なった後、抽出などの常法により行なう
ことができる。単離後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーなどに付すことにより、さらに精製することがで
きる。
薬の後処理を行なった後、抽出などの常法により行なう
ことができる。単離後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーなどに付すことにより、さらに精製することがで
きる。
【0076】上記製造方法よりも簡便に化合物[III]を
製造する方法として、以下の方法が挙げられる。式[I]
製造する方法として、以下の方法が挙げられる。式[I]
【0077】
【化29】
【0078】(式中、Xは前記と同義である)で表され
る新規な化合物[I]を、4−フルオロフェニルマグネシ
ウムハライドおよび3−(ジメチルアミノ)プロピルマ
グネシウムハライドと反応させることにより、化合物[I
II]を得ることができる。通常のグリニャール反応と同
様に行なえばよく、具体的には、有機溶媒中、化合物
[I]を添加し、これに4−フルオロフェニルマグネシウ
ムハライドおよび3−(ジメチルアミノ)プロピルマグ
ネシウムハライドの有機溶媒溶液を順次添加、好ましく
は滴下することにより、中間体として
る新規な化合物[I]を、4−フルオロフェニルマグネシ
ウムハライドおよび3−(ジメチルアミノ)プロピルマ
グネシウムハライドと反応させることにより、化合物[I
II]を得ることができる。通常のグリニャール反応と同
様に行なえばよく、具体的には、有機溶媒中、化合物
[I]を添加し、これに4−フルオロフェニルマグネシウ
ムハライドおよび3−(ジメチルアミノ)プロピルマグ
ネシウムハライドの有機溶媒溶液を順次添加、好ましく
は滴下することにより、中間体として
【0079】
【化30】
【0080】を経由して、化合物[III]を得ることがで
きる。例えば、化合物[I]と有機溶媒との混合物に、4
−フルオロフェニルマグネシウムハライドの有機溶媒溶
液を滴下し、中間体として化合物[II]を経由し、単離す
ることなく、これに(ジメチルアミノ)プロピルマグネ
シウムハライドの有機溶媒溶液を滴下する。化合物[I]
におけるXとしては、グリニャール試薬との反応物が分
解するような条件に耐えうるものがより好ましく、例え
ば1,3−ジオキソラン−2−イルおよび1,3−ジオ
キサン−2−イルが挙げられる。
きる。例えば、化合物[I]と有機溶媒との混合物に、4
−フルオロフェニルマグネシウムハライドの有機溶媒溶
液を滴下し、中間体として化合物[II]を経由し、単離す
ることなく、これに(ジメチルアミノ)プロピルマグネ
シウムハライドの有機溶媒溶液を滴下する。化合物[I]
におけるXとしては、グリニャール試薬との反応物が分
解するような条件に耐えうるものがより好ましく、例え
ば1,3−ジオキソラン−2−イルおよび1,3−ジオ
キサン−2−イルが挙げられる。
【0081】4−フルオロフェニルマグネシウムハライ
ドの使用量は、化合物[I]に対して、1当量〜2当量、
好ましくは1当量〜1.5当量である。
ドの使用量は、化合物[I]に対して、1当量〜2当量、
好ましくは1当量〜1.5当量である。
【0082】3−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシ
ウムハライドの使用量は、化合物[I]に対して、1当量
〜3当量、好ましくは1当量〜1.5当量である。
ウムハライドの使用量は、化合物[I]に対して、1当量
〜3当量、好ましくは1当量〜1.5当量である。
【0083】有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、
トルエン、キシレン、ジメトキシエタン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、t
ert−ブチルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジ
オキサン、およびこれらの混合溶媒が挙げられ、好まし
くはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフランとトルエンとの混合溶媒、およびジメトキシ
エタンとトルエンとの混合溶媒が挙げられる。該有機溶
媒の使用量は、化合物[I]1kgに対して、5L〜60
L、好ましくは10L〜40Lである。
トルエン、キシレン、ジメトキシエタン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、t
ert−ブチルメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジ
オキサン、およびこれらの混合溶媒が挙げられ、好まし
くはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、テトラヒ
ドロフランとトルエンとの混合溶媒、およびジメトキシ
エタンとトルエンとの混合溶媒が挙げられる。該有機溶
媒の使用量は、化合物[I]1kgに対して、5L〜60
L、好ましくは10L〜40Lである。
【0084】反応温度は、−50℃〜80℃、好ましく
は−20℃〜50℃であり、反応時間は0.5時間〜4
0時間、好ましくは3時間〜24時間である。
は−20℃〜50℃であり、反応時間は0.5時間〜4
0時間、好ましくは3時間〜24時間である。
【0085】目的物の単離は、例えば、グリニャール試
薬の後処理をした後、抽出などの常法により行なうこと
ができる。単離後、活性炭処理、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーなどに付すことにより、さらに精製する
ことができる。
薬の後処理をした後、抽出などの常法により行なうこと
ができる。単離後、活性炭処理、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーなどに付すことにより、さらに精製する
ことができる。
【0086】新規な化合物[II]の製造方法 上記式[II]で表される化合物[II]は新規化合物であり、
例えば、化合物[I]を4―フルオロフェニルマグネシウ
ムハライドと反応させることにより得ることができる。
好ましくは、有機溶媒中、化合物[I]を添加後、4−フ
ルオロフェニルマグネシウムハライドを滴下することに
より、化合物[II]を得ることができる。
例えば、化合物[I]を4―フルオロフェニルマグネシウ
ムハライドと反応させることにより得ることができる。
好ましくは、有機溶媒中、化合物[I]を添加後、4−フ
ルオロフェニルマグネシウムハライドを滴下することに
より、化合物[II]を得ることができる。
【0087】新規な化合物[I]の製造方法 上記式[I]で表される化合物[I]は新規化合物であり、例
えば、酸触媒およびオルトギ酸エステルの存在下、有機
溶媒中または無溶媒で、5−ホルミルフタリドをエチレ
ングリコールと反応させることにより、得ることができ
る。具体的には、5−ホルミルフタリドと有機溶媒との
混合物に、エチレングリコールと酸触媒とを添加後、さ
らにオルトギ酸エステルを添加することにより、化合物
[I]を得ることができる。
えば、酸触媒およびオルトギ酸エステルの存在下、有機
溶媒中または無溶媒で、5−ホルミルフタリドをエチレ
ングリコールと反応させることにより、得ることができ
る。具体的には、5−ホルミルフタリドと有機溶媒との
混合物に、エチレングリコールと酸触媒とを添加後、さ
らにオルトギ酸エステルを添加することにより、化合物
[I]を得ることができる。
【0088】エチレングリコールは、5−ホルミルフタ
リド対して、1当量〜30当量、好ましくは1当量〜1
5当量使用する。
リド対して、1当量〜30当量、好ましくは1当量〜1
5当量使用する。
【0089】有機溶媒としては、トルエン、キシレン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘキサン、へ
プタン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、
ジクロロメタンなどが挙げられ、好ましくはトルエンお
よびキシレンが挙げられる。該有機溶媒の使用量は、5
−ホルミルフタリド1kgに対して、100L以下、好
ましくは50L以下である。
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘキサン、へ
プタン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、
ジクロロメタンなどが挙げられ、好ましくはトルエンお
よびキシレンが挙げられる。該有機溶媒の使用量は、5
−ホルミルフタリド1kgに対して、100L以下、好
ましくは50L以下である。
【0090】酸触媒としては、通常酸触媒として使用す
るものであれば特に限定はなく、例えば、p−トルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、
硫酸、酸性イオン交換樹脂などが挙げられ、好ましくは
p−トルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸が挙げ
られる。該酸触媒としては、水和物を使用してもよい。
該酸触媒の使用量は、5−ホルミルフタリドに対して、
0.001当量〜1当量、好ましくは0.01当量〜
0.2当量である。
るものであれば特に限定はなく、例えば、p−トルエン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、
硫酸、酸性イオン交換樹脂などが挙げられ、好ましくは
p−トルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸が挙げ
られる。該酸触媒としては、水和物を使用してもよい。
該酸触媒の使用量は、5−ホルミルフタリドに対して、
0.001当量〜1当量、好ましくは0.01当量〜
0.2当量である。
【0091】オルトギ酸エステルとしては、例えばオル
トギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルトギ酸プロピ
ル、オルトギ酸ブチルなどが挙げられ、好ましくはオル
トギ酸メチルおよびオルトギ酸エチルが挙げられる。該
オルトギ酸エステルの使用量は、5−ホルミルフタリド
に対して、0.1当量〜5当量、好ましくは0.2当量
〜1当量である。
トギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルトギ酸プロピ
ル、オルトギ酸ブチルなどが挙げられ、好ましくはオル
トギ酸メチルおよびオルトギ酸エチルが挙げられる。該
オルトギ酸エステルの使用量は、5−ホルミルフタリド
に対して、0.1当量〜5当量、好ましくは0.2当量
〜1当量である。
【0092】反応温度は、20℃〜150℃、好ましく
は60℃〜130℃であり、反応時間は、0.5時間〜
20時間、好ましくは2時間〜10時間である。
は60℃〜130℃であり、反応時間は、0.5時間〜
20時間、好ましくは2時間〜10時間である。
【0093】目的物の単離は、例えば、塩基(例えば、
トリエチルアミンなど)を加えて反応を停止後、抽出な
どの常法により行なうことができる。
トリエチルアミンなど)を加えて反応を停止後、抽出な
どの常法により行なうことができる。
【0094】原料である5−ホルミルフタリドは公知化
合物であり、例えばJ.Chem.Soc.,127,
2275(1928)に記載されている製造方法によ
り、化合物[IV]から得ることができる。
合物であり、例えばJ.Chem.Soc.,127,
2275(1928)に記載されている製造方法によ
り、化合物[IV]から得ることができる。
【0095】本発明の方法により、有毒な試薬を使用す
ることがないため、シタロプラムの製造における環境負
荷を小さくすることができる。さらに、本発明の方法
は、副反応が比較的少ないため精製工程数を減少するこ
とができ、工業的に有利であるといえる。さらに、5−
ホルミルフタリドを鍵中間体とすることにより、グリニ
ャール試薬がフタリド環の1位の炭素原子を選択的に攻
撃するため、副反応を生じることなく、さらには従来方
法と比較して収率よく反応が進行する。
ることがないため、シタロプラムの製造における環境負
荷を小さくすることができる。さらに、本発明の方法
は、副反応が比較的少ないため精製工程数を減少するこ
とができ、工業的に有利であるといえる。さらに、5−
ホルミルフタリドを鍵中間体とすることにより、グリニ
ャール試薬がフタリド環の1位の炭素原子を選択的に攻
撃するため、副反応を生じることなく、さらには従来方
法と比較して収率よく反応が進行する。
【0096】
【実施例】次に、実施例をあげて本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 実施例15−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリドの合
成 5−ホルミルフタリド(4.53g;27.9mmo
l)をトルエン(200ml)に混合し、エチレングリ
コール(17.34g;279mmol)とp−トルエ
ンスルホン酸一水和物(0.53g;2.8mmol)
を添加した。この混合物を6時間加熱還流した後、オル
トギ酸エチル(1.4ml;8.4mmol)を加え、
さらに3時間加熱(110℃)還流した。反応混合物が
熱いうちに、トリエチルアミン(0.68ml;5.6
mmol)を加え、反応を停止した。放冷後、反応混合
物を水(200ml)に注ぎ、酢酸エチル(100m
l)で抽出した。水層を酢酸エチル(50ml)で2回
抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、
硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、
5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリドの白
色結晶を5.20g(収率:90%)得た。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 実施例15−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリドの合
成 5−ホルミルフタリド(4.53g;27.9mmo
l)をトルエン(200ml)に混合し、エチレングリ
コール(17.34g;279mmol)とp−トルエ
ンスルホン酸一水和物(0.53g;2.8mmol)
を添加した。この混合物を6時間加熱還流した後、オル
トギ酸エチル(1.4ml;8.4mmol)を加え、
さらに3時間加熱(110℃)還流した。反応混合物が
熱いうちに、トリエチルアミン(0.68ml;5.6
mmol)を加え、反応を停止した。放冷後、反応混合
物を水(200ml)に注ぎ、酢酸エチル(100m
l)で抽出した。水層を酢酸エチル(50ml)で2回
抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、
硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、
5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリドの白
色結晶を5.20g(収率:90%)得た。
【0097】mp:125.8−127.2℃1 H−NMR(CDCl3,400MHz,δ,pp
m);4.02−4.14(4H,m),5.29(2
H,s),5.88(1H,s),7.60(1H,
s),7.61(1H,d,J=7.8Hz),7.8
9(1H,d,J=7.8Hz) IR(KBr,ν,cm-1);2890,1773,1
624,1443,1386,1209,1157,1
014,888,859,779,725,691
m);4.02−4.14(4H,m),5.29(2
H,s),5.88(1H,s),7.60(1H,
s),7.61(1H,d,J=7.8Hz),7.8
9(1H,d,J=7.8Hz) IR(KBr,ν,cm-1);2890,1773,1
624,1443,1386,1209,1157,1
014,888,859,779,725,691
【0098】実施例24−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−ヒドロ
キシメチル−4’−フルオロベンゾフェノンの合成 THF(25ml)中で、1−ブロモ−4−フルオロベ
ンゼン(3.15g;18mmol)と金属マグネシウ
ム(0.53g;21.6mmol)から調製したグリ
ニャール試薬を、氷浴中で冷却した5−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)フタリド(3.09g;15mm
ol)のTHF(40ml)懸濁液に、1時間かけて滴
下した。氷浴中でさらに1時間攪拌した後、室温で2時
間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液
(100ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml)で抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、有機溶媒を減圧留去した。得られた油
状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精
製し、黄緑色油状の4−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−2−ヒドロキシメチル−4’−フルオロベンゾ
フェノン4.18g(77%)を得た。
キシメチル−4’−フルオロベンゾフェノンの合成 THF(25ml)中で、1−ブロモ−4−フルオロベ
ンゼン(3.15g;18mmol)と金属マグネシウ
ム(0.53g;21.6mmol)から調製したグリ
ニャール試薬を、氷浴中で冷却した5−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)フタリド(3.09g;15mm
ol)のTHF(40ml)懸濁液に、1時間かけて滴
下した。氷浴中でさらに1時間攪拌した後、室温で2時
間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液
(100ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml)で抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、有機溶媒を減圧留去した。得られた油
状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精
製し、黄緑色油状の4−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)−2−ヒドロキシメチル−4’−フルオロベンゾ
フェノン4.18g(77%)を得た。
【0099】1H−NMR(CDCl3,400MHz,
δ,ppm);4.01−4.16(4H,m),4.
62(2H,d,J=6.4Hz),5.88(1H,
s),7.15(2H,t,J=8.7Hz),7.4
4(1H,d,J=7.8Hz),7.50(1H,
d,J=7.8Hz),7.68(1H,s),7.8
3(2H,dd,J=8.7Hz,J=5.4Hz)
δ,ppm);4.01−4.16(4H,m),4.
62(2H,d,J=6.4Hz),5.88(1H,
s),7.15(2H,t,J=8.7Hz),7.4
4(1H,d,J=7.8Hz),7.50(1H,
d,J=7.8Hz),7.68(1H,s),7.8
3(2H,dd,J=8.7Hz,J=5.4Hz)
【0100】実施例34−ジメチルアミノ−1−[4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−(ヒドロキシメチル)フェニル]
−1−(4−フルオロフェニル)−1−ブタノールの合
成 テトラヒドロフラン(25ml)中で1−ブロモ−4−
フルオロベンゼン(3.15g;18mmol)と金属
マグネシウム(0.53g;21.6mmol)から調
整したグリニャール試薬を、氷浴中で冷却した5−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリド(3.0
9g;15.0mmol)のテトラヒドロフラン(40
ml)懸濁液に、1時間かけて滴下した。氷浴中でさら
に1時間攪拌した後、室温で2時間攪拌した。次に、テ
トラヒドロフラン(16ml)とトルエン(4ml)の
混合溶媒中で3−(ジメチルアミノ)プロピルクロリド
(2.43g;20mmol)と金属マグネシウム
(0.58g;24mmol)から調整したグリニャー
ル試薬を、先の反応混合物に10℃で30分かけて滴下
した。15℃で18時間攪拌した後、15%酢酸(10
ml)を滴下し、反応を停止した。反応混合物を水(1
00ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml)で抽出し
た。水層を酢酸エチル(50ml)で2回抽出した。合
わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、有機溶媒を減圧留去した。得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、黄緑色油状の4−ジメチルアミノ−1−[4−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−(ヒドロキ
シメチル)フェニル]−1−(4−フルオロフェニル)
−1−ブタノール3.04g(収率:52%)を得た。
ン−2−イル)−2−(ヒドロキシメチル)フェニル]
−1−(4−フルオロフェニル)−1−ブタノールの合
成 テトラヒドロフラン(25ml)中で1−ブロモ−4−
フルオロベンゼン(3.15g;18mmol)と金属
マグネシウム(0.53g;21.6mmol)から調
整したグリニャール試薬を、氷浴中で冷却した5−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリド(3.0
9g;15.0mmol)のテトラヒドロフラン(40
ml)懸濁液に、1時間かけて滴下した。氷浴中でさら
に1時間攪拌した後、室温で2時間攪拌した。次に、テ
トラヒドロフラン(16ml)とトルエン(4ml)の
混合溶媒中で3−(ジメチルアミノ)プロピルクロリド
(2.43g;20mmol)と金属マグネシウム
(0.58g;24mmol)から調整したグリニャー
ル試薬を、先の反応混合物に10℃で30分かけて滴下
した。15℃で18時間攪拌した後、15%酢酸(10
ml)を滴下し、反応を停止した。反応混合物を水(1
00ml)に注ぎ、酢酸エチル(100ml)で抽出し
た。水層を酢酸エチル(50ml)で2回抽出した。合
わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、有機溶媒を減圧留去した。得られた油状
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、黄緑色油状の4−ジメチルアミノ−1−[4−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)−2−(ヒドロキ
シメチル)フェニル]−1−(4−フルオロフェニル)
−1−ブタノール3.04g(収率:52%)を得た。
【0101】1H−NMR(CDCl3,400MHz,
δ,ppm);1.51−1.75(2H,m),2.
20(6H,s),2.28−2.35(3H,m),
2.52(1H,ddd,J=2.0,9.3,14.
6Hz),3.99−4.15(4H,m),4.14
(1H,d,J=11.7Hz),4.36(1H,
d,J=11.7Hz),4.7−5.5(1H,b
r),5.80(1H,s),5.88(1H,s),
6.92(2H,t,J=8.8Hz),7.31(2
H,dd,J=5.4,8.8Hz),7.41(1
H,s),7.42(1H,dd,J=2.0,7.8
Hz),7.48(1H,d,J=7.8Hz),9.
6−10.7(1H,br)
δ,ppm);1.51−1.75(2H,m),2.
20(6H,s),2.28−2.35(3H,m),
2.52(1H,ddd,J=2.0,9.3,14.
6Hz),3.99−4.15(4H,m),4.14
(1H,d,J=11.7Hz),4.36(1H,
d,J=11.7Hz),4.7−5.5(1H,b
r),5.80(1H,s),5.88(1H,s),
6.92(2H,t,J=8.8Hz),7.31(2
H,dd,J=5.4,8.8Hz),7.41(1
H,s),7.42(1H,dd,J=2.0,7.8
Hz),7.48(1H,d,J=7.8Hz),9.
6−10.7(1H,br)
【0102】実施例41−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−5−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)−1−(4−フルオロフ
ェニル)−1,3−ジヒドロイソベンゾフランの合成 4−ジメチルアミノ−1−[4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−(ヒドロキシメチル)フェニル]
−1−(4−フルオロフェニル)−1−ブタノール
(0.67g;1.7mmol)とトリエチルアミン
(0.76g;7.5mmol)を酢酸エチル(22m
l)に溶解し、氷浴中で冷却した。メタンスルホニルク
ロリド(0.19g;1.7mmol)の酢酸エチル
(2ml)溶液を、先の溶液に約10分かけて滴下し
た。氷浴中でさらに1時間攪拌した後、0.1M水酸化
ナトリウム水溶液(20ml)を添加し、反応を停止し
た。反応混合物を分液し、水層を酢酸エチル(10m
l)で2回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧
留去した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、黄色油状の1−[3−(ジメ
チルアミノ)プロピル]−5−(1,3−ジオキソラン
−2−イル)−1−(4−フルオロフェニル)−1,3
−ジヒドロイソベンゾフラン0.41g(収率:65
%)を得た。
3−ジオキソラン−2−イル)−1−(4−フルオロフ
ェニル)−1,3−ジヒドロイソベンゾフランの合成 4−ジメチルアミノ−1−[4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−(ヒドロキシメチル)フェニル]
−1−(4−フルオロフェニル)−1−ブタノール
(0.67g;1.7mmol)とトリエチルアミン
(0.76g;7.5mmol)を酢酸エチル(22m
l)に溶解し、氷浴中で冷却した。メタンスルホニルク
ロリド(0.19g;1.7mmol)の酢酸エチル
(2ml)溶液を、先の溶液に約10分かけて滴下し
た。氷浴中でさらに1時間攪拌した後、0.1M水酸化
ナトリウム水溶液(20ml)を添加し、反応を停止し
た。反応混合物を分液し、水層を酢酸エチル(10m
l)で2回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧
留去した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、黄色油状の1−[3−(ジメ
チルアミノ)プロピル]−5−(1,3−ジオキソラン
−2−イル)−1−(4−フルオロフェニル)−1,3
−ジヒドロイソベンゾフラン0.41g(収率:65
%)を得た。
【0103】1H−NMR(CDCl3,400MHz,
δ,ppm);1.30−1.53(2H,m),2.
09−2.22(2H,m),2.16(6H,s),
2.26(2H,t,J=7.3Hz),4,00−
4.15(4H,m),5.13(1H,d,J=1
2.7Hz),5.15(1H,d,J=12.7H
z),5.79(1H,s),6.96(2H,t,J
=8.8Hz),7.28(1H,dd,2.4,7.
8Hz),7.33(1H,s),7.39(1H,
d,J=7.8Hz),7.43(1H,dd,J=
5.4,9.3Hz)
δ,ppm);1.30−1.53(2H,m),2.
09−2.22(2H,m),2.16(6H,s),
2.26(2H,t,J=7.3Hz),4,00−
4.15(4H,m),5.13(1H,d,J=1
2.7Hz),5.15(1H,d,J=12.7H
z),5.79(1H,s),6.96(2H,t,J
=8.8Hz),7.28(1H,dd,2.4,7.
8Hz),7.33(1H,s),7.39(1H,
d,J=7.8Hz),7.43(1H,dd,J=
5.4,9.3Hz)
【0104】実施例51−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(フタラン化合物)の合成 氷浴中で冷却した1−[3−(ジメチルアミノ)プロピ
ル]−5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1−
(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロイソベン
ゾフラン(1.15g;3.1mmol)のテトラヒド
ロフラン(15ml)溶液に、1M塩酸(15ml)を
滴下した。室温で2.5時間攪拌した後、固体の炭酸水
素ナトリウム(2.52g;30mmol)を加え、反
応を停止した。溶媒を減圧留去して得られた残渣に水を
加え、酢酸エチルで抽出した。水層を酢酸エチル(10
ml)で2回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を減
圧留去し、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−
1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5
−イソベンゾフランカルバルデヒド0.82g(収率:
81%)を得た。
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(フタラン化合物)の合成 氷浴中で冷却した1−[3−(ジメチルアミノ)プロピ
ル]−5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)−1−
(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロイソベン
ゾフラン(1.15g;3.1mmol)のテトラヒド
ロフラン(15ml)溶液に、1M塩酸(15ml)を
滴下した。室温で2.5時間攪拌した後、固体の炭酸水
素ナトリウム(2.52g;30mmol)を加え、反
応を停止した。溶媒を減圧留去して得られた残渣に水を
加え、酢酸エチルで抽出した。水層を酢酸エチル(10
ml)で2回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶媒を減
圧留去し、1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−
1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5
−イソベンゾフランカルバルデヒド0.82g(収率:
81%)を得た。
【0105】1H−NMR(CDCl3,400MHz,
δ,ppm);1.38−1.60(2H,m),2.
16−2.32(2H,m),2.25(6H,s),
2.40(2H,t,J=7.3Hz),5.19(1
H,d,J=12.7Hz),5.23(1H,d,J
=12.7Hz),7.01(2H,t,J=8.8H
z),7.44−7.49(3H,m),7.73(1
H,s),7.82(1H,d,J=7.8Hz),1
0.00(1H,s)
δ,ppm);1.38−1.60(2H,m),2.
16−2.32(2H,m),2.25(6H,s),
2.40(2H,t,J=7.3Hz),5.19(1
H,d,J=12.7Hz),5.23(1H,d,J
=12.7Hz),7.01(2H,t,J=8.8H
z),7.44−7.49(3H,m),7.73(1
H,s),7.82(1H,d,J=7.8Hz),1
0.00(1H,s)
【0106】実施例61−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(フタラン化合物)の合成 4−ジメチルアミノ−1−[4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−(ヒドロキシメチル)フェニル]
−1−(4−フルオロフェニル)−1−ブタノール
(4.16g;10.7mmol)をトルエン(50m
l)に溶解し、50℃に加熱した。この溶液に70%硫
酸(4.7g)を滴下した後、80℃で5時間攪拌し
た。放冷後、この混合物を氷水(100ml)に注ぎ、
炭酸ナトリウムで中和した後、トルエンで抽出した。水
層をトルエンで2回抽出し、合わせた有機層を食塩水で
洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をシリカゲル
3gとともに攪拌、ろ過した後、さらに活性炭3gとと
もに攪拌、濾過し、溶媒を減圧留去することにより、油
状の1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−
(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イ
ソベンゾフランカルバルデヒド1.23g(収率:35
%)を得た。得られた油状物の各種スペクトルデータ
は、実施例4と同様であった。
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(フタラン化合物)の合成 4−ジメチルアミノ−1−[4−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)−2−(ヒドロキシメチル)フェニル]
−1−(4−フルオロフェニル)−1−ブタノール
(4.16g;10.7mmol)をトルエン(50m
l)に溶解し、50℃に加熱した。この溶液に70%硫
酸(4.7g)を滴下した後、80℃で5時間攪拌し
た。放冷後、この混合物を氷水(100ml)に注ぎ、
炭酸ナトリウムで中和した後、トルエンで抽出した。水
層をトルエンで2回抽出し、合わせた有機層を食塩水で
洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液をシリカゲル
3gとともに攪拌、ろ過した後、さらに活性炭3gとと
もに攪拌、濾過し、溶媒を減圧留去することにより、油
状の1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−
(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イ
ソベンゾフランカルバルデヒド1.23g(収率:35
%)を得た。得られた油状物の各種スペクトルデータ
は、実施例4と同様であった。
【0107】実施例71−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(フタラン化合物)の合成 テトラヒドロフラン(40ml)中で1−ブロモ−4−
フルオロベンゼン(5.97g;34.1mmol)と
金属マグネシウム(0.99g;40.9mmol)か
ら調整したグリニャール試薬を、氷浴中で冷却した5−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリド(6.4
0g;31.0mmol)のテトラヒドロフラン(80
ml)懸濁液に、5℃で1時間かけて滴下した後、室温
で2時間攪拌した。次に、テトラヒドロフラン(18m
l)とトルエン(12ml)の混合溶媒中で3−(ジメ
チルアミノ)プロピルクロリド(4.56g;37.5
mmol)と金属マグネシウム(1.09g;45mm
ol)から調整したグリニャール試薬を、先の反応混合
物に10℃で30分かけて滴下した。室温で18時間攪
拌した後、反応混合物を氷水(100ml)に注ぎ、飽
和塩化アンモニウム水溶液(200ml)を加えて反応
を停止させた。この混合物をトルエン(100ml)で
抽出した。水層をトルエン(25ml)で2回抽出し
た。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧留去した。
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(フタラン化合物)の合成 テトラヒドロフラン(40ml)中で1−ブロモ−4−
フルオロベンゼン(5.97g;34.1mmol)と
金属マグネシウム(0.99g;40.9mmol)か
ら調整したグリニャール試薬を、氷浴中で冷却した5−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリド(6.4
0g;31.0mmol)のテトラヒドロフラン(80
ml)懸濁液に、5℃で1時間かけて滴下した後、室温
で2時間攪拌した。次に、テトラヒドロフラン(18m
l)とトルエン(12ml)の混合溶媒中で3−(ジメ
チルアミノ)プロピルクロリド(4.56g;37.5
mmol)と金属マグネシウム(1.09g;45mm
ol)から調整したグリニャール試薬を、先の反応混合
物に10℃で30分かけて滴下した。室温で18時間攪
拌した後、反応混合物を氷水(100ml)に注ぎ、飽
和塩化アンモニウム水溶液(200ml)を加えて反応
を停止させた。この混合物をトルエン(100ml)で
抽出した。水層をトルエン(25ml)で2回抽出し
た。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧留去した。
【0108】得られた淡橙色油状の粗生成物をトルエン
(25ml)に溶解した。この溶液に60%リン酸(4
0g)を滴下した後、80℃で2時間攪拌した。放冷
後、この混合物を氷水(200ml)に注ぎ、トルエン
(100ml)で2回洗浄した。水層にアンモニア水を
加え、pH9にした後、水層を酢酸エチル(100m
l)で3回抽出し、合わせた酢酸エチル層を飽和食塩水
で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、赤橙色油状の1−[3−(ジメチルアミノ)プロピ
ル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒド
ロ−5−イソベンゾフランカルバルデヒド6.61g
(5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリドに
対する収率:65%)を得た。得られた油状物の各種ス
ペクトルデータは、実施例4と同様であった。
(25ml)に溶解した。この溶液に60%リン酸(4
0g)を滴下した後、80℃で2時間攪拌した。放冷
後、この混合物を氷水(200ml)に注ぎ、トルエン
(100ml)で2回洗浄した。水層にアンモニア水を
加え、pH9にした後、水層を酢酸エチル(100m
l)で3回抽出し、合わせた酢酸エチル層を飽和食塩水
で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、赤橙色油状の1−[3−(ジメチルアミノ)プロピ
ル]−1−(4−フルオロフェニル)−1,3−ジヒド
ロ−5−イソベンゾフランカルバルデヒド6.61g
(5−(1,3−ジオキソラン−2−イル)フタリドに
対する収率:65%)を得た。得られた油状物の各種ス
ペクトルデータは、実施例4と同様であった。
【0109】実施例81−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルボニトリル(シタロプラム)の合成 1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(0.82g;2.5mmo
l)とトリエチルアミン(0.46g;4.5mmo
l)をアセトニトリル(10ml)に溶解し、ヒドロキ
シルアミン塩酸塩(0.26g;3.8mmol)を添
加した。室温で15時間攪拌し、析出した不溶物を濾別
後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣に無水酢酸(5
ml)を加え、3時間加熱(140℃)還流した。放冷
後、溶媒を減圧留去した。残渣を水に注ぎ、固体の炭酸
水素ナトリウムで中和し、酢酸エチルで抽出した。水層
を酢酸エチルで2回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶
媒を減圧留去し、淡茶色油状の1−[3−(ジメチルア
ミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−
1,3−ジヒドロ−5−イソベンゾフランカルボニトリ
ル0.44g(収率:89%)を得た。
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルボニトリル(シタロプラム)の合成 1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−1−(4−
フルオロフェニル)−1,3−ジヒドロ−5−イソベン
ゾフランカルバルデヒド(0.82g;2.5mmo
l)とトリエチルアミン(0.46g;4.5mmo
l)をアセトニトリル(10ml)に溶解し、ヒドロキ
シルアミン塩酸塩(0.26g;3.8mmol)を添
加した。室温で15時間攪拌し、析出した不溶物を濾別
後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣に無水酢酸(5
ml)を加え、3時間加熱(140℃)還流した。放冷
後、溶媒を減圧留去した。残渣を水に注ぎ、固体の炭酸
水素ナトリウムで中和し、酢酸エチルで抽出した。水層
を酢酸エチルで2回抽出し、合わせた有機層を飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。有機溶
媒を減圧留去し、淡茶色油状の1−[3−(ジメチルア
ミノ)プロピル]−1−(4−フルオロフェニル)−
1,3−ジヒドロ−5−イソベンゾフランカルボニトリ
ル0.44g(収率:89%)を得た。
【0110】1H−NMR(CDCl3,400MHz,
δ,ppm);1.33−1.54(2H,m),2.
11−2.35(4H,m),2.19(6H,s),
5.16(1H,d,J=12.7Hz),5.19
(1H,d,J=12.7Hz),7.01(2H,
t,J=8.8Hz),7.41(1H,d,J=7.
8Hz),7.43(2H,dd,J=5.4,8.8
Hz),7.50(1H,s),7.59(1H,d,
J=7.8Hz) IR(neat,ν,cm-1);2948,2859,
2817,2769,2230,1733,1508,
1227,1035,836,599
δ,ppm);1.33−1.54(2H,m),2.
11−2.35(4H,m),2.19(6H,s),
5.16(1H,d,J=12.7Hz),5.19
(1H,d,J=12.7Hz),7.01(2H,
t,J=8.8Hz),7.41(1H,d,J=7.
8Hz),7.43(2H,dd,J=5.4,8.8
Hz),7.50(1H,s),7.59(1H,d,
J=7.8Hz) IR(neat,ν,cm-1);2948,2859,
2817,2769,2230,1733,1508,
1227,1035,836,599
【0111】
【発明の効果】本発明により、環境負荷が小さく、工業
的にも有利に、かつ副反応による収率および純度の低下
が生じることなく、抗うつ剤として有用なシタロプラム
を製造することができる。また、5−ホルミルフタリド
から化合物[I]、化合物[III]、式[V]のフタラン化合物
を経由して目的とするシタロプラムを4工程で製造する
ことができ、本発明の方法は従来方法と比較して簡便で
あるといえる。
的にも有利に、かつ副反応による収率および純度の低下
が生じることなく、抗うつ剤として有用なシタロプラム
を製造することができる。また、5−ホルミルフタリド
から化合物[I]、化合物[III]、式[V]のフタラン化合物
を経由して目的とするシタロプラムを4工程で製造する
ことができ、本発明の方法は従来方法と比較して簡便で
あるといえる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊木 正己 大阪市西淀川区歌島3丁目1番21号 住化 ファインケム株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4C037 PA04 PA09 RA01 4H006 AA01 AA02 AB21 AB84 AC22 AC30 AC52 AC80 BM30 BM71 BN10 BP90 BQ30 BR60
Claims (8)
- 【請求項1】 式[I] 【化1】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物。 - 【請求項2】 式[II] 【化2】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物。 - 【請求項3】 式[III] 【化3】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物。 - 【請求項4】 式[IV] 【化4】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物。 - 【請求項5】 式[V] 【化5】 で表されるフタラン化合物。
- 【請求項6】 式[I] 【化6】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物を、4−フルオロフェニルマグネシウムハライド
および3−(ジメチルアミノ)プロピルマグネシウムハ
ライドと反応させることを特徴とする、式[III] 【化7】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物の製造方法。 - 【請求項7】 酸触媒の存在下、式[III] 【化8】 (式中、Xは保護されたホルミル基を示す)で表される
化合物を閉環と同時にXの保護されたホルミル基をホル
ミル基に変換することを特徴とする、式[V] 【化9】 で表されるフタラン化合物の製造方法。 - 【請求項8】 式[V] 【化10】 で表されるフタラン化合物を、ヒドロキシルアミンまた
はその塩酸塩と反応させることを特徴とする、式[VII] 【化11】 で表されるシタロプラムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29207699A JP2001114773A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | フタラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並びにシタロプラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29207699A JP2001114773A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | フタラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並びにシタロプラムの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001114773A true JP2001114773A (ja) | 2001-04-24 |
Family
ID=17777235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29207699A Pending JP2001114773A (ja) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | フタラン化合物、その中間体およびこれらの製造方法、並びにシタロプラムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001114773A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005090290A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | シタロプラムの製造方法ならびにその中間体およびその製造方法 |
WO2007054105A3 (en) * | 2005-11-14 | 2007-11-08 | Lundbeck & Co As H | Method for the preparation of escitalopram |
-
1999
- 1999-10-14 JP JP29207699A patent/JP2001114773A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005090290A1 (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | シタロプラムの製造方法ならびにその中間体およびその製造方法 |
WO2007054105A3 (en) * | 2005-11-14 | 2007-11-08 | Lundbeck & Co As H | Method for the preparation of escitalopram |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040810 |