JP2001104792A - 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 - Google Patents
排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/20—Capture or disposal of greenhouse gases of methane
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】水蒸気、硫黄酸化物などの活性阻害物質の存在
下においても、メタンを還元剤として、長期にわたって
安定して窒素酸化物を浄化できる排ガス浄化用触媒を提
供することを主な目的とする。 【構成】硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金属として
ルテニウムおよびパラジウムを担持してなる、酸素過剰
雰囲気下においてメタンの存在下に窒素酸化物を分解す
る排気ガス浄化触媒、および同触媒を用いて酸素過剰雰
囲気下においてメタンの存在下に窒素酸化物を分解する
排ガス浄化方法。
下においても、メタンを還元剤として、長期にわたって
安定して窒素酸化物を浄化できる排ガス浄化用触媒を提
供することを主な目的とする。 【構成】硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金属として
ルテニウムおよびパラジウムを担持してなる、酸素過剰
雰囲気下においてメタンの存在下に窒素酸化物を分解す
る排気ガス浄化触媒、および同触媒を用いて酸素過剰雰
囲気下においてメタンの存在下に窒素酸化物を分解する
排ガス浄化方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中に含ま
れ、環境に悪影響を及ぼす窒素酸化物(NOx)を酸素過剰
の雰囲気下でメタンを用いて分解する触媒および該触媒
を用いた窒素酸化物の浄化方法に関する。本発明におい
て、「酸素過剰の雰囲気」とは、本発明による触媒に接
触させる被処理ガスが、そこに含まれる炭化水素、一酸
化炭素などの還元性成分を完全酸化するに必要な量以上
の酸素、窒素酸化物などの酸化性成分を含むガスである
ことを意味する。
れ、環境に悪影響を及ぼす窒素酸化物(NOx)を酸素過剰
の雰囲気下でメタンを用いて分解する触媒および該触媒
を用いた窒素酸化物の浄化方法に関する。本発明におい
て、「酸素過剰の雰囲気」とは、本発明による触媒に接
触させる被処理ガスが、そこに含まれる炭化水素、一酸
化炭素などの還元性成分を完全酸化するに必要な量以上
の酸素、窒素酸化物などの酸化性成分を含むガスである
ことを意味する。
【0002】
【従来の技術】炭化水素を還元剤として酸素過剰の雰囲
気下に窒素酸化物を還元する触媒は、特開昭63-100919
号公報、特開平1-135541号公報などに開示されている。
しかしながら、これらの公知文献は、炭化水素としてメ
タンの使用を開示してはいない。メタンは、種々の燃料
を燃焼させる際に発生する排ガス中に存在する。さら
に、メタンは本邦において家庭や工場などに広く供給さ
れている天然ガス系都市ガスの主成分であるので、これ
を用いて窒素酸化物の還元を行うことが可能となれば、
酸化雰囲気下に窒素酸化物を還元するための極めて有効
な手段となる。
気下に窒素酸化物を還元する触媒は、特開昭63-100919
号公報、特開平1-135541号公報などに開示されている。
しかしながら、これらの公知文献は、炭化水素としてメ
タンの使用を開示してはいない。メタンは、種々の燃料
を燃焼させる際に発生する排ガス中に存在する。さら
に、メタンは本邦において家庭や工場などに広く供給さ
れている天然ガス系都市ガスの主成分であるので、これ
を用いて窒素酸化物の還元を行うことが可能となれば、
酸化雰囲気下に窒素酸化物を還元するための極めて有効
な手段となる。
【0003】特開平5-192582号公報は、メタンの存在下
に、コバルトあるいはロジウムをイオン交換したゼオラ
イト触媒に燃焼排ガスを接触させて、排ガス中の窒素酸
化物を還元する方法を開示している。しかしながら、こ
の触媒の活性は十分なものではなく、さらに、実際の燃
焼排ガス中に必ず含まれる水蒸気の共存下における触媒
の活性については、一切触れていない。すなわち、水蒸
気は、炭化水素を還元剤として酸化雰囲気下に窒素酸化
物を還元する反応において、触媒活性の低下をもたらす
ことがよく知られているが、当該公報には、共存する水
蒸気による触媒活性の低下とそれに対する対応策は、示
されていない。
に、コバルトあるいはロジウムをイオン交換したゼオラ
イト触媒に燃焼排ガスを接触させて、排ガス中の窒素酸
化物を還元する方法を開示している。しかしながら、こ
の触媒の活性は十分なものではなく、さらに、実際の燃
焼排ガス中に必ず含まれる水蒸気の共存下における触媒
の活性については、一切触れていない。すなわち、水蒸
気は、炭化水素を還元剤として酸化雰囲気下に窒素酸化
物を還元する反応において、触媒活性の低下をもたらす
ことがよく知られているが、当該公報には、共存する水
蒸気による触媒活性の低下とそれに対する対応策は、示
されていない。
【0004】特開平6-254352号公報は、イオン交換によ
りZSM-5型ゼオライトにパラジウムを担持した触媒が、
メタンを還元剤とする窒素酸化物の還元除去に活性を示
すことを示しているが、この公報にも、水蒸気の共存下
での触媒の活性についての開示はない。
りZSM-5型ゼオライトにパラジウムを担持した触媒が、
メタンを還元剤とする窒素酸化物の還元除去に活性を示
すことを示しているが、この公報にも、水蒸気の共存下
での触媒の活性についての開示はない。
【0005】特表平8-500772号公報は、イオン交換によ
り、MFI型ゼオライトにパラジウムを0.3〜2重量%担持
させた触媒が、メタンを還元剤として、水蒸気の存在下
においても、高い窒素酸化物の還元活性を示すことを開
示している。また、里川らは、平成8年度触媒研究発表
会講演予稿集(平成8年9月13日発行)において、モルデ
ナイトにパラジウムをイオン交換した触媒が、水蒸気の
存在下においても高い窒素酸化物の還元活性を示すこと
を開示している。しかしながら、これらの触媒は、水蒸
気の存在下では、活性が急速に低下するという問題点が
ある。例えば、星らは、平成9年度触媒研究発表会講演
予稿集(平成9年8月25日発行)において、モルデナイト
にパラジウムをイオン交換した触媒について、その水蒸
気存在下での耐久性を報告している。この報告によれ
ば、反応開始時に50%程度あった窒素酸化物の除去率
は、急速に低下して、40時間後には30%に、70時間後に
は15%となってしまう。
り、MFI型ゼオライトにパラジウムを0.3〜2重量%担持
させた触媒が、メタンを還元剤として、水蒸気の存在下
においても、高い窒素酸化物の還元活性を示すことを開
示している。また、里川らは、平成8年度触媒研究発表
会講演予稿集(平成8年9月13日発行)において、モルデ
ナイトにパラジウムをイオン交換した触媒が、水蒸気の
存在下においても高い窒素酸化物の還元活性を示すこと
を開示している。しかしながら、これらの触媒は、水蒸
気の存在下では、活性が急速に低下するという問題点が
ある。例えば、星らは、平成9年度触媒研究発表会講演
予稿集(平成9年8月25日発行)において、モルデナイト
にパラジウムをイオン交換した触媒について、その水蒸
気存在下での耐久性を報告している。この報告によれ
ば、反応開始時に50%程度あった窒素酸化物の除去率
は、急速に低下して、40時間後には30%に、70時間後に
は15%となってしまう。
【0006】また、ゼオライト以外の担体に関しては、
レサスコ(Resasco)らがアプライド キャタリシス
ビー:エンバイロンメンタル(Applied Catalysis B: En
vironmental)第7巻113頁(1995年)において、硫酸根ジ
ルコニアにパラジウムを担持した触媒を用い、メタンを
還元剤として窒素酸化物を還元した結果を報告してい
る。しかしながら、そこに記載されている触媒活性の経
時変化を示すグラフによれば、この触媒の活性は、水蒸
気非共存下であっても100分程度の短時間内に、明らか
に劣化の傾向を示している。
レサスコ(Resasco)らがアプライド キャタリシス
ビー:エンバイロンメンタル(Applied Catalysis B: En
vironmental)第7巻113頁(1995年)において、硫酸根ジ
ルコニアにパラジウムを担持した触媒を用い、メタンを
還元剤として窒素酸化物を還元した結果を報告してい
る。しかしながら、そこに記載されている触媒活性の経
時変化を示すグラフによれば、この触媒の活性は、水蒸
気非共存下であっても100分程度の短時間内に、明らか
に劣化の傾向を示している。
【0007】上記に明らかにした通り、従来の窒素酸化
物分解用触媒は、水蒸気の存在によって活性の著しい劣
化をきたすという問題点を有しているので、水蒸気が不
可避的に存在する燃焼排ガスの処理に際しては、長時間
にわたり高い脱硝率を持続することができない。
物分解用触媒は、水蒸気の存在によって活性の著しい劣
化をきたすという問題点を有しているので、水蒸気が不
可避的に存在する燃焼排ガスの処理に際しては、長時間
にわたり高い脱硝率を持続することができない。
【0008】さらに燃焼排ガス中には、燃料中の微量の
有機硫黄分などに由来する微量の硫黄酸化物が存在する
が、これらの濃度がわずか0.2 ppm程度という極微量で
あっても、触媒に蓄積的に悪影響を及ぼして、その活性
を次第に低下させることも知られている(例えば、西坂
ら、平成9年度触媒研究発表会講演予稿集、平成9年8月2
5日発行)。
有機硫黄分などに由来する微量の硫黄酸化物が存在する
が、これらの濃度がわずか0.2 ppm程度という極微量で
あっても、触媒に蓄積的に悪影響を及ぼして、その活性
を次第に低下させることも知られている(例えば、西坂
ら、平成9年度触媒研究発表会講演予稿集、平成9年8月2
5日発行)。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、水
蒸気、硫黄酸化物などの活性阻害物質の存在下において
も、メタンを還元剤として、長期にわたって安定して窒
素酸化物を浄化できる排ガス浄化用触媒およびこの触媒
を用いた排ガス浄化方法を提供することを主な目的とす
る。
蒸気、硫黄酸化物などの活性阻害物質の存在下において
も、メタンを還元剤として、長期にわたって安定して窒
素酸化物を浄化できる排ガス浄化用触媒およびこの触媒
を用いた排ガス浄化方法を提供することを主な目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】発明者は、上記のような
従来技術の現状に留意しつつ鋭意検討を重ねた結果、硫
酸根ジルコニアにパラジウムとともにルテニウムを担持
させた触媒が、メタンを還元剤として窒素酸化物を分解
するに際し、水蒸気、硫黄酸化物などの活性阻害物質の
存在下においても、長期にわたり高い窒素酸化物分解活
性を維持することを見出した。
従来技術の現状に留意しつつ鋭意検討を重ねた結果、硫
酸根ジルコニアにパラジウムとともにルテニウムを担持
させた触媒が、メタンを還元剤として窒素酸化物を分解
するに際し、水蒸気、硫黄酸化物などの活性阻害物質の
存在下においても、長期にわたり高い窒素酸化物分解活
性を維持することを見出した。
【0011】本発明は、この様な新たな知見に基づいて
完成されたものであり、下記の排ガス浄化用触媒および
排ガス浄化方法を提供する。 1.酸素過剰雰囲気下においてメタンの存在下に窒素酸
化物を分解する排ガス浄化用触媒であって、硫酸根ジル
コニアを担体とし、活性金属としてパラジウムおよびル
テニウムを担持してなる触媒。 2.硫酸根ジルコニアにパラジウムおよびルテニウムを
共存担持してなる上記1に記載の排ガス浄化用触媒。 3.パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアとルテニウ
ムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合してなる上記1
に記載の触媒。 4.パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対する重量比
で0.05〜1%である上記1〜3のいずれかに記載の触媒。 5.ルテニウム量が、パラジウムに対する重量比で10〜
200%である上記1〜4のいずれかに記載の触媒。 6.酸素過剰雰囲気下においてメタンの存在下に窒素酸
化物を分解する排ガス浄化方法であって、硫酸根ジルコ
ニアを担体とし、活性金属としてパラジウムおよびルテ
ニウムを担持してなる触媒を用いる排ガス浄化方法。 7.硫酸根ジルコニアにパラジウムおよびルテニウムを
共存担持してなる触媒を用いる上記6に記載の排ガス浄
化方法。 8.触媒として、パラジウムを担持した硫酸根ジルコニ
アとルテニウムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合し
てなる触媒を用いる上記6に記載の排ガス浄化方法。 9.パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対する重量比
で0.05〜1%である上記6〜8のいずれかに記載の排ガス
浄化方法。 10.ルテニウム量が、パラジウムに対する重量比で10
〜200%である上記6〜9のいずれかに記載の排ガス浄化
方法。 11.硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金属としてパ
ラジウムおよびルテニウムを担持してなる触媒を用い
て、酸素を過剰に含みかつ硫黄酸化物を含む排ガス中の
窒素酸化物をメタンの存在下に分解する排ガス浄化方
法。 12.パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対する重量
比で0.05〜1%である上記11に記載の排ガス浄化方法。 13.ルテニウム量が、パラジウムに対する重量比で20
〜100%である上記11〜12のいずれかに記載の排ガス
浄化方法。
完成されたものであり、下記の排ガス浄化用触媒および
排ガス浄化方法を提供する。 1.酸素過剰雰囲気下においてメタンの存在下に窒素酸
化物を分解する排ガス浄化用触媒であって、硫酸根ジル
コニアを担体とし、活性金属としてパラジウムおよびル
テニウムを担持してなる触媒。 2.硫酸根ジルコニアにパラジウムおよびルテニウムを
共存担持してなる上記1に記載の排ガス浄化用触媒。 3.パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアとルテニウ
ムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合してなる上記1
に記載の触媒。 4.パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対する重量比
で0.05〜1%である上記1〜3のいずれかに記載の触媒。 5.ルテニウム量が、パラジウムに対する重量比で10〜
200%である上記1〜4のいずれかに記載の触媒。 6.酸素過剰雰囲気下においてメタンの存在下に窒素酸
化物を分解する排ガス浄化方法であって、硫酸根ジルコ
ニアを担体とし、活性金属としてパラジウムおよびルテ
ニウムを担持してなる触媒を用いる排ガス浄化方法。 7.硫酸根ジルコニアにパラジウムおよびルテニウムを
共存担持してなる触媒を用いる上記6に記載の排ガス浄
化方法。 8.触媒として、パラジウムを担持した硫酸根ジルコニ
アとルテニウムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合し
てなる触媒を用いる上記6に記載の排ガス浄化方法。 9.パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対する重量比
で0.05〜1%である上記6〜8のいずれかに記載の排ガス
浄化方法。 10.ルテニウム量が、パラジウムに対する重量比で10
〜200%である上記6〜9のいずれかに記載の排ガス浄化
方法。 11.硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金属としてパ
ラジウムおよびルテニウムを担持してなる触媒を用い
て、酸素を過剰に含みかつ硫黄酸化物を含む排ガス中の
窒素酸化物をメタンの存在下に分解する排ガス浄化方
法。 12.パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対する重量
比で0.05〜1%である上記11に記載の排ガス浄化方法。 13.ルテニウム量が、パラジウムに対する重量比で20
〜100%である上記11〜12のいずれかに記載の排ガス
浄化方法。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明による触媒は、硫酸根ジル
コニアを担体とし、活性金属としてパラジウムおよびル
テニウムを含む。
コニアを担体とし、活性金属としてパラジウムおよびル
テニウムを含む。
【0013】本発明において用いる硫酸根ジルコニア自
体は、公知の物質である(例えば、日野誠および荒田一
志、“表面”、28巻7号481頁(1990年);“表面”、3
4巻2号51頁(1996年)など参照)。硫酸根ジルコニア
は、例えば、水酸化ジルコニウムを希硫酸に浸漬した
後、あるいは水酸化ジルコニウムに硫酸アンモニウム水
溶液を含浸した後、空気中450〜650℃程度、より好まし
くは500〜600℃程度で焼成するなどの公知の方法により
得ることができる。水酸化ジルコニウムは、市販品を用
いても良い。焼成温度が高すぎる場合には、硫酸根が大
量に揮発消失するおそれがあるのに対し、低すぎる場合
には、焼成による効果が不十分となり、担体中に未反応
の水酸化ジルコニウムが残存したり、あるいは焼成物が
アモルファス様となって、安定した硫酸根ジルコニアが
形成されない。焼成操作時には、硫酸根の一部が揮発す
るので、上記の処理乃至浸漬時に水酸化ジルコニウムに
対し揮発分に相当する過剰量の硫酸根を付与しておくこ
とが好ましい。
体は、公知の物質である(例えば、日野誠および荒田一
志、“表面”、28巻7号481頁(1990年);“表面”、3
4巻2号51頁(1996年)など参照)。硫酸根ジルコニア
は、例えば、水酸化ジルコニウムを希硫酸に浸漬した
後、あるいは水酸化ジルコニウムに硫酸アンモニウム水
溶液を含浸した後、空気中450〜650℃程度、より好まし
くは500〜600℃程度で焼成するなどの公知の方法により
得ることができる。水酸化ジルコニウムは、市販品を用
いても良い。焼成温度が高すぎる場合には、硫酸根が大
量に揮発消失するおそれがあるのに対し、低すぎる場合
には、焼成による効果が不十分となり、担体中に未反応
の水酸化ジルコニウムが残存したり、あるいは焼成物が
アモルファス様となって、安定した硫酸根ジルコニアが
形成されない。焼成操作時には、硫酸根の一部が揮発す
るので、上記の処理乃至浸漬時に水酸化ジルコニウムに
対し揮発分に相当する過剰量の硫酸根を付与しておくこ
とが好ましい。
【0014】硫酸根ジルコニア担体中の硫酸根(SO4 2-)
の含有量は、ジルコニア重量を基準として通常1〜20%
程度であり、より好ましくは3〜10%程度である。硫酸
根の量が少な過ぎる場合には、硫酸根付与の効果が十分
発揮されないのに対し、過剰となる場合には、安定した
硫酸根ジルコニア担体が得られない。硫酸根ジルコニウ
ムの比表面積は、得られる触媒が安定に使用でき、担持
金属の分散を保持できる限り特に制限されないが、BET
法による測定値として、通常80〜200m2/g程度、好まし
くは120〜160 m2/g程度である。
の含有量は、ジルコニア重量を基準として通常1〜20%
程度であり、より好ましくは3〜10%程度である。硫酸
根の量が少な過ぎる場合には、硫酸根付与の効果が十分
発揮されないのに対し、過剰となる場合には、安定した
硫酸根ジルコニア担体が得られない。硫酸根ジルコニウ
ムの比表面積は、得られる触媒が安定に使用でき、担持
金属の分散を保持できる限り特に制限されないが、BET
法による測定値として、通常80〜200m2/g程度、好まし
くは120〜160 m2/g程度である。
【0015】本発明触媒の一つの態様として、活性金属
としてパラジウムとルテニウムの両方を共存担持した硫
酸根ジルコニア(以下、「共存担持触媒」ということがあ
る)を用いることができる。本発明のもう一つの態様と
して、パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアとルテニ
ウムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合したもの(以
下、「混合触媒」ということがある)を用いることができ
る。
としてパラジウムとルテニウムの両方を共存担持した硫
酸根ジルコニア(以下、「共存担持触媒」ということがあ
る)を用いることができる。本発明のもう一つの態様と
して、パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアとルテニ
ウムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合したもの(以
下、「混合触媒」ということがある)を用いることができ
る。
【0016】本発明の触媒におけるパラジウム量は、硫
酸根ジルコニア重量を基準として、通常0.05〜1%程度、
より好ましくは0.1〜0.5%程度である。共存担持触媒に
おけるパラジウム量は、硫酸根ジルコニア重量に対する
パラジウム担持量である。混合触媒におけるパラジウム
量は、硫酸根ジルコニア重量に対するパラジウム含有量
である。パラジウム量が少なすぎる場合には、触媒活性
が低くなるのに対し、多すぎる場合には、凝集により触
媒効果がかえって失われる。
酸根ジルコニア重量を基準として、通常0.05〜1%程度、
より好ましくは0.1〜0.5%程度である。共存担持触媒に
おけるパラジウム量は、硫酸根ジルコニア重量に対する
パラジウム担持量である。混合触媒におけるパラジウム
量は、硫酸根ジルコニア重量に対するパラジウム含有量
である。パラジウム量が少なすぎる場合には、触媒活性
が低くなるのに対し、多すぎる場合には、凝集により触
媒効果がかえって失われる。
【0017】本発明の触媒におけるルテニウム量は、パ
ラジウム量を基準として、重量比で、通常10〜200%程
度、より好ましくは20〜100%程度である。混合触媒と
して用いる場合は、ルテニウム量が所定の範囲となるよ
うに、パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアとルテニ
ウムを担持した硫酸根ジルコニアとの混合比を設定すれ
ばよい。ルテニウム量が少なすぎる場合には、触媒活性
が低くなるのに対し、高すぎる場合にも、逆に窒素酸化
物の除去活性を低下させる。
ラジウム量を基準として、重量比で、通常10〜200%程
度、より好ましくは20〜100%程度である。混合触媒と
して用いる場合は、ルテニウム量が所定の範囲となるよ
うに、パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアとルテニ
ウムを担持した硫酸根ジルコニアとの混合比を設定すれ
ばよい。ルテニウム量が少なすぎる場合には、触媒活性
が低くなるのに対し、高すぎる場合にも、逆に窒素酸化
物の除去活性を低下させる。
【0018】硫酸根ジルコニアへのパラジウムおよび/
またはルテニウムの担持方法は、両成分が担体に高分散
担持される限り特に制限されない。例えば、硫酸根ジル
コニアを所望の活性金属の化合物溶液に浸漬し、硫酸根
ジルコニアに活性金属を含浸させた後に、乾燥し、空気
中などの酸化雰囲気下で焼成する方法などにより得るこ
とができる。活性金属の化合物としては、水等の溶媒に
溶解させた場合に、金属イオンを解離する化合物であれ
ば特に制限されない。活性金属の化合物としては、例え
ば、パラジウム又はルテニウムの硝酸塩、硫酸塩などの
金属塩;アンミン錯体、ハロゲン錯体などの錯体;ハロ
ゲン化物などが挙げられる。これらの中では、パラジウ
ム又はルテニウムの硝酸塩、アンミン錯体が好ましい。
活性金属の化合物を溶解させる溶媒は、水;アセトン、
エタノールなどの水溶性有機溶媒;これらの混合溶媒な
どが挙げられ、これらの中では、水が好ましい。
またはルテニウムの担持方法は、両成分が担体に高分散
担持される限り特に制限されない。例えば、硫酸根ジル
コニアを所望の活性金属の化合物溶液に浸漬し、硫酸根
ジルコニアに活性金属を含浸させた後に、乾燥し、空気
中などの酸化雰囲気下で焼成する方法などにより得るこ
とができる。活性金属の化合物としては、水等の溶媒に
溶解させた場合に、金属イオンを解離する化合物であれ
ば特に制限されない。活性金属の化合物としては、例え
ば、パラジウム又はルテニウムの硝酸塩、硫酸塩などの
金属塩;アンミン錯体、ハロゲン錯体などの錯体;ハロ
ゲン化物などが挙げられる。これらの中では、パラジウ
ム又はルテニウムの硝酸塩、アンミン錯体が好ましい。
活性金属の化合物を溶解させる溶媒は、水;アセトン、
エタノールなどの水溶性有機溶媒;これらの混合溶媒な
どが挙げられ、これらの中では、水が好ましい。
【0019】次いで、パラジウムおよび/またはルテニ
ウムを含浸担持させた硫酸根ジルコニアを乾燥した後、
焼成する。焼成温度は、低すぎる場合には、焼成の効果
が不十分となって安定した触媒活性が得られ難いのに対
し、高すぎる場合には、パラジウムおよびルテニウムの
凝集が促進される。従って、焼成温度は、通常300〜600
℃程度の範囲内にあり、より好ましくは450〜550℃程度
の範囲内にある。
ウムを含浸担持させた硫酸根ジルコニアを乾燥した後、
焼成する。焼成温度は、低すぎる場合には、焼成の効果
が不十分となって安定した触媒活性が得られ難いのに対
し、高すぎる場合には、パラジウムおよびルテニウムの
凝集が促進される。従って、焼成温度は、通常300〜600
℃程度の範囲内にあり、より好ましくは450〜550℃程度
の範囲内にある。
【0020】混合触媒を調製する場合の混合方法は、二
成分が均一に混合される限り特に制限されず、常法に従
って行うことができる。混合工程は、焼成の前後の何れ
の段階において行っても良い。
成分が均一に混合される限り特に制限されず、常法に従
って行うことができる。混合工程は、焼成の前後の何れ
の段階において行っても良い。
【0021】本発明の触媒は、常法に従って、ペレット
状に成型して用いてもよく、あるいは耐火性ハニカム担
体上にウォシュコートして用いてもよい。どちらの場合
にも、必要に応じ、バインダーを添加することができ
る。
状に成型して用いてもよく、あるいは耐火性ハニカム担
体上にウォシュコートして用いてもよい。どちらの場合
にも、必要に応じ、バインダーを添加することができ
る。
【0022】本発明による排ガス浄化方法は、上記の方
法などで得られた硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金
属としてパラジウムおよびルテニウムを含む触媒を用い
ることを特徴とする。
法などで得られた硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金
属としてパラジウムおよびルテニウムを含む触媒を用い
ることを特徴とする。
【0023】触媒使用量は、特に制限されないが、ガス
時間当たり空間速度(GHSV)で、2,000〜200,000h-1程
度の範囲で使用することが好ましく、2,000〜60,000h
-1程度の範囲で使用することがより好ましい。触媒使用
量が少なすぎる場合には、有効な浄化率が得られないの
に対し、多すぎる場合には、触媒使用量に見合った性能
が得られない。
時間当たり空間速度(GHSV)で、2,000〜200,000h-1程
度の範囲で使用することが好ましく、2,000〜60,000h
-1程度の範囲で使用することがより好ましい。触媒使用
量が少なすぎる場合には、有効な浄化率が得られないの
に対し、多すぎる場合には、触媒使用量に見合った性能
が得られない。
【0024】本発明の触媒は、高い活性を有するが、そ
れでも排ガスの温度が低すぎる場合には、有効な浄化性
能が発揮されないことがある。一方、排ガスの温度が高
すぎる場合には、触媒の耐久性が損なわれる危険性があ
る。従って、本発明の触媒は、好ましくは350〜500℃程
度、より好ましくは375〜475℃程度の範囲で使用するこ
とが望ましい。
れでも排ガスの温度が低すぎる場合には、有効な浄化性
能が発揮されないことがある。一方、排ガスの温度が高
すぎる場合には、触媒の耐久性が損なわれる危険性があ
る。従って、本発明の触媒は、好ましくは350〜500℃程
度、より好ましくは375〜475℃程度の範囲で使用するこ
とが望ましい。
【0025】本発明方法が浄化対象とする排ガスの窒素
酸化物濃度には、特に制限はないが、通常10〜5000vol.
ppm程度の範囲にある。窒素酸化物分解時のメタン濃度
は、必要な脱硝率やその他の反応条件によって変わりう
るが、高い脱硝率を得るためには、通常排ガス中窒素酸
化物の1倍以上程度が好ましく、5倍以上程度となるよう
にすることがより好ましい。排ガス中に含まれるメタン
が窒素酸化物の還元に必要な量よりも少ない場合には、
排ガスにメタンあるいは天然ガス系都市ガスなどのメタ
ン含有ガスを適当量添加してもよい。メタン濃度の上限
については特に制限はなく、その濃度が高いほど脱硝率
は向上する。しかしながら、排ガスに過剰量のメタンを
添加しても、それに伴う費用増加に見合った窒素酸化物
分解率の改善は達成されないので、経済的に不利とな
り、また、処理後のガス中の残存メタン量を増大させる
おそれがある。さらに、被処理ガスは、還元剤であるメ
タンを添加した状態において、酸素過剰状態であること
を必要とするので、添加するメタン量は、被処理ガス組
成に応じて定まる上限がある。
酸化物濃度には、特に制限はないが、通常10〜5000vol.
ppm程度の範囲にある。窒素酸化物分解時のメタン濃度
は、必要な脱硝率やその他の反応条件によって変わりう
るが、高い脱硝率を得るためには、通常排ガス中窒素酸
化物の1倍以上程度が好ましく、5倍以上程度となるよう
にすることがより好ましい。排ガス中に含まれるメタン
が窒素酸化物の還元に必要な量よりも少ない場合には、
排ガスにメタンあるいは天然ガス系都市ガスなどのメタ
ン含有ガスを適当量添加してもよい。メタン濃度の上限
については特に制限はなく、その濃度が高いほど脱硝率
は向上する。しかしながら、排ガスに過剰量のメタンを
添加しても、それに伴う費用増加に見合った窒素酸化物
分解率の改善は達成されないので、経済的に不利とな
り、また、処理後のガス中の残存メタン量を増大させる
おそれがある。さらに、被処理ガスは、還元剤であるメ
タンを添加した状態において、酸素過剰状態であること
を必要とするので、添加するメタン量は、被処理ガス組
成に応じて定まる上限がある。
【0026】排ガス中の酸素濃度は、酸素過剰の雰囲気
である限り特に制限はないが、例えば体積基準で1%以下
程度の場合の様に、酸素濃度が極めて低い場合には、十
分な反応活性が得られないおそれがある。排ガス中の酸
素濃度が低すぎる場合や、排ガスの温度が高く、触媒の
温度が前記の好ましい温度範囲を超えるおそれがある場
合には、排ガスの温度が好適な範囲を下回らない様に留
意しつつ、適当量の空気を混合した後、空気混合排ガス
を触媒に接触させてもよい。
である限り特に制限はないが、例えば体積基準で1%以下
程度の場合の様に、酸素濃度が極めて低い場合には、十
分な反応活性が得られないおそれがある。排ガス中の酸
素濃度が低すぎる場合や、排ガスの温度が高く、触媒の
温度が前記の好ましい温度範囲を超えるおそれがある場
合には、排ガスの温度が好適な範囲を下回らない様に留
意しつつ、適当量の空気を混合した後、空気混合排ガス
を触媒に接触させてもよい。
【0027】
【発明の効果】本発明の触媒を用いて窒素酸化物含有排
ガスを処理する場合には、メタンを還元剤とするNOx分
解除去に際し、水蒸気が大量に存在する条件下において
も、長期にわたって安定した触媒活性が維持される。ま
た、メタンの転化率も高く維持されるので、処理ガス中
の残存メタン濃度を低く保つことができる。さらに、従
来の触媒では活性が著しく低下する硫黄酸化物の共存下
においても、安定して高い触媒活性が維持される。
ガスを処理する場合には、メタンを還元剤とするNOx分
解除去に際し、水蒸気が大量に存在する条件下において
も、長期にわたって安定した触媒活性が維持される。ま
た、メタンの転化率も高く維持されるので、処理ガス中
の残存メタン濃度を低く保つことができる。さらに、従
来の触媒では活性が著しく低下する硫黄酸化物の共存下
においても、安定して高い触媒活性が維持される。
【0028】
【実施例】以下、実施例および比較例を示し、本発明の
特徴とするところをより詳細に説明するが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。
特徴とするところをより詳細に説明するが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。
【0029】実施例1(0.38% Pd-0.12% Ru/硫酸根ジル
コニア触媒の調製) 硫酸アンモニウム54 gを溶解させた400 mlの水溶液に水
酸化ジルコニウム(三津和化学薬品(株)製)360 gを15時
間含浸した。含浸体を乾燥した後、550℃で6時間焼成し
て、硫酸根ジルコニアを得た。Pdとして10重量%を含有
する硝酸パラジウム溶液0.94 gとヘキサアンミンルテニ
ウム硝酸塩0.12 gを混合攪拌し、さらに純水で30 mlに
希釈した溶液を予め調製し、これに上記で得られた硫酸
根ジルコニア25 gを15時間含浸した。含浸後の硫酸根ジ
ルコニアを乾燥した後、500℃で9時間焼成して、0.38%
Pd-0.12% Ru/硫酸根ジルコニア触媒を得た。
コニア触媒の調製) 硫酸アンモニウム54 gを溶解させた400 mlの水溶液に水
酸化ジルコニウム(三津和化学薬品(株)製)360 gを15時
間含浸した。含浸体を乾燥した後、550℃で6時間焼成し
て、硫酸根ジルコニアを得た。Pdとして10重量%を含有
する硝酸パラジウム溶液0.94 gとヘキサアンミンルテニ
ウム硝酸塩0.12 gを混合攪拌し、さらに純水で30 mlに
希釈した溶液を予め調製し、これに上記で得られた硫酸
根ジルコニア25 gを15時間含浸した。含浸後の硫酸根ジ
ルコニアを乾燥した後、500℃で9時間焼成して、0.38%
Pd-0.12% Ru/硫酸根ジルコニア触媒を得た。
【0030】比較例1(0.5%Pd/硫酸根ジルコニア触媒
の調製) Pdとして10重量%を含有する硝酸パラジウム溶液1.75 g
を純水で30 mlに希釈した溶液に実施例1と同様にして
調製した硫酸根ジルコニア35 gを15時間浸漬した。含浸
後の硫酸根ジルコニアを乾燥した後、500℃で9時間焼
成して、0.5% Pd/硫酸根ジルコニア触媒を得た。
の調製) Pdとして10重量%を含有する硝酸パラジウム溶液1.75 g
を純水で30 mlに希釈した溶液に実施例1と同様にして
調製した硫酸根ジルコニア35 gを15時間浸漬した。含浸
後の硫酸根ジルコニアを乾燥した後、500℃で9時間焼
成して、0.5% Pd/硫酸根ジルコニア触媒を得た。
【0031】比較例2(0.5% Ru/硫酸根ジルコニア触媒
の調製) ヘキサアンミンルテニウム硝酸塩0.48 gを純水で25 ml
に希釈した溶液に実施例1と同様にして調製した硫酸根
ジルコニア25 gを15時間浸漬した。含浸後の硫酸根ジル
コニアを乾燥した後、500℃で9時間焼成して、0.5% Ru
/硫酸根ジルコニア触媒を得た。
の調製) ヘキサアンミンルテニウム硝酸塩0.48 gを純水で25 ml
に希釈した溶液に実施例1と同様にして調製した硫酸根
ジルコニア25 gを15時間浸漬した。含浸後の硫酸根ジル
コニアを乾燥した後、500℃で9時間焼成して、0.5% Ru
/硫酸根ジルコニア触媒を得た。
【0032】実施例2(混合触媒の調製) 比較例1と同様にして調製した0.5%Pd/硫酸根ジルコ
ニア触媒7.5gと比較例2と同様にして調製した0.5% Ru
/硫酸根ジルコニア触媒2.5gとを乳鉢を用いて混合し、
混合触媒を得た。
ニア触媒7.5gと比較例2と同様にして調製した0.5% Ru
/硫酸根ジルコニア触媒2.5gとを乳鉢を用いて混合し、
混合触媒を得た。
【0033】実施例3(触媒活性試験1) 実施例1〜2ならびに比較例1〜2で得られた触媒をそ
れぞれ打錠成形した後、粉砕して、粒径1〜2mmに整粒
した。得られた各触媒4mlをそれぞれ充填した反応器を
使用して、一酸化窒素150 ppm、メタン2000 ppm、酸素1
0%、水蒸気9%および残部ヘリウムからなる模擬排ガスを
ガス時間当たり空間速度(GHSV)15,000h -1、触媒層温度
350〜500℃の条件下に流通させて、触媒活性(NOx転化率
およびCH 4転化率)について試験を行った。触媒層出口の
メタン、一酸化炭素および二酸化炭素濃度は、ガスクロ
マトグラフにより、また触媒層入口および出口のNOx濃
度は化学発光式NOx分析計により測定した。なお、実際
の燃焼排ガスは、上記成分以外に通常5〜15%の二酸化炭
素を含むが、これは反応活性に本質的な影響を及ぼさな
いことは別途確認した。
れぞれ打錠成形した後、粉砕して、粒径1〜2mmに整粒
した。得られた各触媒4mlをそれぞれ充填した反応器を
使用して、一酸化窒素150 ppm、メタン2000 ppm、酸素1
0%、水蒸気9%および残部ヘリウムからなる模擬排ガスを
ガス時間当たり空間速度(GHSV)15,000h -1、触媒層温度
350〜500℃の条件下に流通させて、触媒活性(NOx転化率
およびCH 4転化率)について試験を行った。触媒層出口の
メタン、一酸化炭素および二酸化炭素濃度は、ガスクロ
マトグラフにより、また触媒層入口および出口のNOx濃
度は化学発光式NOx分析計により測定した。なお、実際
の燃焼排ガスは、上記成分以外に通常5〜15%の二酸化炭
素を含むが、これは反応活性に本質的な影響を及ぼさな
いことは別途確認した。
【0034】NOxおよびメタンの転化率(%)は、以下
の式によって計算される値を示す。
の式によって計算される値を示す。
【0035】(NOx転化率)=100×(1- NOx-out / NOx-i
n) (メタン転化率)=100×(CO-out + CO2-out) / (CO-out
+ CO2-out + CH4-out) ここで、NOx-inは触媒層入口のNOx濃度、 NOx-outは触
媒層出口のNOx濃度、CO-outは触媒層出口の一酸化炭素
濃度、CO2-outは触媒層出口の二酸化炭素濃度、CH4-out
は触媒層出口のメタン濃度をそれぞれ表す。なお、それ
ぞれの濃度は、体積基準の値を用いた。
n) (メタン転化率)=100×(CO-out + CO2-out) / (CO-out
+ CO2-out + CH4-out) ここで、NOx-inは触媒層入口のNOx濃度、 NOx-outは触
媒層出口のNOx濃度、CO-outは触媒層出口の一酸化炭素
濃度、CO2-outは触媒層出口の二酸化炭素濃度、CH4-out
は触媒層出口のメタン濃度をそれぞれ表す。なお、それ
ぞれの濃度は、体積基準の値を用いた。
【0036】活性試験結果を表1〜表2に示す。表1〜
表2から明らかなように、本発明の触媒は、PdまたはRu
のみを担持した硫酸根ジルコニアを用いた場合に比べて
顕著に高い活性を有する。
表2から明らかなように、本発明の触媒は、PdまたはRu
のみを担持した硫酸根ジルコニアを用いた場合に比べて
顕著に高い活性を有する。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】比較例3(Pd/モルデナイト触媒の調製) H型モルデナイト(東ソー(株)製、シリカ・アルミナ
比16、商品名:HSZ−620)60 gを、テトラアンミンパラ
ジウム硝酸塩0.83 gと酢酸アンモニウム6 gとを溶解さ
せた700 mlの水溶液を用いて60℃で18時間イオン交換を
行った。イオン交換モルデナイトをろ過により分離し、
洗浄した後、110℃で5時間乾燥し、さらに空気中500℃
で9時間焼成し、Pd/モルデナイト触媒を得た。
比16、商品名:HSZ−620)60 gを、テトラアンミンパラ
ジウム硝酸塩0.83 gと酢酸アンモニウム6 gとを溶解さ
せた700 mlの水溶液を用いて60℃で18時間イオン交換を
行った。イオン交換モルデナイトをろ過により分離し、
洗浄した後、110℃で5時間乾燥し、さらに空気中500℃
で9時間焼成し、Pd/モルデナイト触媒を得た。
【0040】誘導結合プラズマ−発光分光分析による組
成分析の結果、Pd/モルデナイト触媒のPd担持量は、0.
42%であった。
成分析の結果、Pd/モルデナイト触媒のPd担持量は、0.
42%であった。
【0041】実施例4(触媒活性試験2) 実施例2および比較例3の触媒をそれぞれ使用し、かつ
模擬排ガス組成を一酸化窒素150 ppm、メタン2000 pp
m、酸素10%、水蒸気9%、二酸化硫黄3 ppmおよび残部ヘ
リウムとし、触媒層温度を450℃とする以外は実施例3
と同様にして触媒活性試験を行った。実施例2による混
合触媒のNOx転化率およびメタン転化率の経時変化は、
図1に示す通りであった。すなわち、50、80および100時
間後のNOx転化率は、それぞれ71%、72%および71%であ
り、50、80および100時間後のメタン転化率はそれぞれ4
4%、42%および39%と極めて安定している。比較例3によ
るPd/モルデナイト触媒のNOx転化率およびメタン転化
率の経時変化は、図2に示す通りであった。試験開始か
ら30時間以内にNOx転化率およびメタン転化率は、とも
に10%以下となり、硫黄酸化物の共存により顕著な活性
低下をきたし、実用に耐えないことは明らかである。
模擬排ガス組成を一酸化窒素150 ppm、メタン2000 pp
m、酸素10%、水蒸気9%、二酸化硫黄3 ppmおよび残部ヘ
リウムとし、触媒層温度を450℃とする以外は実施例3
と同様にして触媒活性試験を行った。実施例2による混
合触媒のNOx転化率およびメタン転化率の経時変化は、
図1に示す通りであった。すなわち、50、80および100時
間後のNOx転化率は、それぞれ71%、72%および71%であ
り、50、80および100時間後のメタン転化率はそれぞれ4
4%、42%および39%と極めて安定している。比較例3によ
るPd/モルデナイト触媒のNOx転化率およびメタン転化
率の経時変化は、図2に示す通りであった。試験開始か
ら30時間以内にNOx転化率およびメタン転化率は、とも
に10%以下となり、硫黄酸化物の共存により顕著な活性
低下をきたし、実用に耐えないことは明らかである。
【0042】以上の結果から、本発明の触媒は、水蒸気
の共存下で、公知の触媒に比べて、顕著に高い耐久性を
有することが明らかである。さらに、本発明の触媒は、
メタンの転化率も高く維持されるという特性を備えてい
ることが明らかである。
の共存下で、公知の触媒に比べて、顕著に高い耐久性を
有することが明らかである。さらに、本発明の触媒は、
メタンの転化率も高く維持されるという特性を備えてい
ることが明らかである。
【図1】実施例2による混合触媒のNOx転化率およびメ
タン転化率の経時変化を示すグラフである。
タン転化率の経時変化を示すグラフである。
【図2】比較例3によるPd/モルデナイト触媒のNOx転化
率およびメタン転化率の経時変化を示すグラフである。
率およびメタン転化率の経時変化を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増田 正孝 大阪府大阪市中央区平野町四丁目1番2号 大阪瓦斯株式会社内 (72)発明者 平野 竹徳 鹿児島県出水市上▲鯖▼淵1385−2 Fターム(参考) 4D048 AA02 AA06 AB03 AC02 BA08X BA31X BA32X BA46X BB01 BB02 BC05 4G069 AA03 AA08 BA05A BA05B BA36A BA42A BB02A BB02B BB10A BB10B BC51A BC51B BC70A BC70B BC72A BC72B CA02 CA03 CA10 CA12 CA13 DA05 EA02Y EA18 ED07 FA01 FB05 FB07 FB14 FB18 FC08
Claims (13)
- 【請求項1】酸素過剰雰囲気下においてメタンの存在下
に窒素酸化物を分解する排ガス浄化用触媒であって、硫
酸根ジルコニアを担体とし、活性金属としてパラジウム
およびルテニウムを担持してなる触媒。 - 【請求項2】硫酸根ジルコニアにパラジウムおよびルテ
ニウムを共存担持してなる請求項1に記載の排ガス浄化
用触媒。 - 【請求項3】パラジウムを担持した硫酸根ジルコニアと
ルテニウムを担持した硫酸根ジルコニアとを混合してな
る請求項1に記載の触媒。 - 【請求項4】パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対す
る重量比で0.05〜1%である請求項1〜3のいずれかに記
載の触媒。 - 【請求項5】ルテニウム量が、パラジウムに対する重量
比で10〜200%である請求項1〜4のいずれかに記載の触
媒。 - 【請求項6】酸素過剰雰囲気下においてメタンの存在下
に窒素酸化物を分解する排ガス浄化方法であって、硫酸
根ジルコニアを担体とし、活性金属としてパラジウムお
よびルテニウムを担持してなる触媒を用いる排ガス浄化
方法。 - 【請求項7】硫酸根ジルコニアにパラジウムおよびルテ
ニウムを共存担持してなる触媒を用いる請求項6に記載
の排ガス浄化方法。 - 【請求項8】触媒として、パラジウムを担持した硫酸根
ジルコニアとルテニウムを担持した硫酸根ジルコニアと
を混合してなる触媒を用いる請求項6に記載の排ガス浄
化方法。 - 【請求項9】パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対す
る重量比で0.05〜1%である請求項6〜8のいずれかに記
載の排ガス浄化方法。 - 【請求項10】ルテニウム量が、パラジウムに対する重
量比で10〜200%である請求項6〜9のいずれかに記載の
排ガス浄化方法。 - 【請求項11】硫酸根ジルコニアを担体とし、活性金属
としてパラジウムおよびルテニウムを担持してなる触媒
を用いて、酸素を過剰に含みかつ硫黄酸化物を含む排ガ
ス中の窒素酸化物をメタンの存在下に分解する排ガス浄
化方法。 - 【請求項12】パラジウム量が、硫酸根ジルコニアに対
する重量比で0.05〜1%である請求項11に記載の排ガス
浄化方法。 - 【請求項13】ルテニウム量が、パラジウムに対する重
量比で20〜100%である請求項11〜12のいずれかに記
載の排ガス浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28645099A JP2001104792A (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28645099A JP2001104792A (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001104792A true JP2001104792A (ja) | 2001-04-17 |
Family
ID=17704553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28645099A Pending JP2001104792A (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | 排ガス浄化用触媒および排ガス浄化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001104792A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503987A (ja) * | 2003-09-03 | 2007-03-01 | ハーテーエー・アクチェンゲゼルシャフト・ザ・ハイ・スループット・イクスペリメンテイション・カンパニー | 活性金属としてのルテニウムを有する、リーンバーン機関からの排気ガスから汚染物質を除去するための触媒 |
| JP2011520600A (ja) * | 2008-05-16 | 2011-07-21 | シーメンス エナジー インコーポレイテッド | NOx排出物の制御のための水素を用いる触媒処理 |
| CN114258322A (zh) * | 2019-08-20 | 2022-03-29 | 国际壳牌研究有限公司 | 甲烷氧化催化剂及其制备和使用方法 |
-
1999
- 1999-10-07 JP JP28645099A patent/JP2001104792A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007503987A (ja) * | 2003-09-03 | 2007-03-01 | ハーテーエー・アクチェンゲゼルシャフト・ザ・ハイ・スループット・イクスペリメンテイション・カンパニー | 活性金属としてのルテニウムを有する、リーンバーン機関からの排気ガスから汚染物質を除去するための触媒 |
| JP2011520600A (ja) * | 2008-05-16 | 2011-07-21 | シーメンス エナジー インコーポレイテッド | NOx排出物の制御のための水素を用いる触媒処理 |
| CN114258322A (zh) * | 2019-08-20 | 2022-03-29 | 国际壳牌研究有限公司 | 甲烷氧化催化剂及其制备和使用方法 |
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