JP2001100360A - 熱現像感光材料、熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成方法 - Google Patents
熱現像感光材料、熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成方法Info
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- JP2001100360A JP2001100360A JP27661199A JP27661199A JP2001100360A JP 2001100360 A JP2001100360 A JP 2001100360A JP 27661199 A JP27661199 A JP 27661199A JP 27661199 A JP27661199 A JP 27661199A JP 2001100360 A JP2001100360 A JP 2001100360A
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- photothermographic material
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低カブリ、高感度、且つ、高濃度の画像が得
られる熱現像感光材料、画像記録方法及び画像形成方法
を提供する。 【解決手段】 支持体上に、少なくとも有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀、還元剤及び疎水性バインダを含有する
熱現像感光材料において、下記一般式〔1〕〜〔4〕で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物及
び一般式〔5〕で表される化合物を含有し、且つ、処理
後のDmaxが3.3以上であることを特徴とする熱現
像感光材料。 【化1】 【化2】
られる熱現像感光材料、画像記録方法及び画像形成方法
を提供する。 【解決手段】 支持体上に、少なくとも有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀、還元剤及び疎水性バインダを含有する
熱現像感光材料において、下記一般式〔1〕〜〔4〕で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物及
び一般式〔5〕で表される化合物を含有し、且つ、処理
後のDmaxが3.3以上であることを特徴とする熱現
像感光材料。 【化1】 【化2】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料、該
熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成
方法に関する。
熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、印刷製版や医療の分野では、
画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問
題になっており、近年では環境保全、省スペースの観点
からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レ
ーザイメージセッタやレーザイメージャにより効率的な
露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成するこ
とが出来る光熱写真材料に関する技術が近年特に必要と
なってきた。
画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問
題になっており、近年では環境保全、省スペースの観点
からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レ
ーザイメージセッタやレーザイメージャにより効率的な
露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成するこ
とが出来る光熱写真材料に関する技術が近年特に必要と
なってきた。
【0003】この為の技術として熱処理により写真画像
を形成するハロゲン化銀感光材料が知られており、これ
らは例えば、米国特許第3,152,904号、同第
3,457,075号及びD.モーガン(Morga
n)とB.シェリー(Shely)による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Proc
essed Silver Systems)」、イメ
ージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(I
maging Processes and Mate
rials)Neblette 第8版、スタージ(S
turge)、V.ウォールワース(Walwort
h)、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、19
69年等に開示されている。
を形成するハロゲン化銀感光材料が知られており、これ
らは例えば、米国特許第3,152,904号、同第
3,457,075号及びD.モーガン(Morga
n)とB.シェリー(Shely)による「熱によって
処理される銀システム(Thermally Proc
essed Silver Systems)」、イメ
ージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(I
maging Processes and Mate
rials)Neblette 第8版、スタージ(S
turge)、V.ウォールワース(Walwort
h)、A.シェップ(Shepp)編集、第2頁、19
69年等に開示されている。
【0004】この様な熱現像感光材料は、還元可能な銀
源(例えば、有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例え
ば、感光性ハロゲン化銀)、及び還元剤を通常有機のバ
インダマトリクス中に分散した状態で含有している。熱
現像感光材料は常温で安定であるが、露光後高温に加熱
した場合に還元可能な銀源(酸化剤として作用する)と
還元剤との間の酸化還元反応により金属銀を生成する。
従って熱現像銀塩感光材料はその機構ゆえ、カブリを低
く抑えることが非常に困難であることが知られており、
カブリを低く押さえる技術については、現在まで数多く
研究され、報告されている。
源(例えば、有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例え
ば、感光性ハロゲン化銀)、及び還元剤を通常有機のバ
インダマトリクス中に分散した状態で含有している。熱
現像感光材料は常温で安定であるが、露光後高温に加熱
した場合に還元可能な銀源(酸化剤として作用する)と
還元剤との間の酸化還元反応により金属銀を生成する。
従って熱現像銀塩感光材料はその機構ゆえ、カブリを低
く抑えることが非常に困難であることが知られており、
カブリを低く押さえる技術については、現在まで数多く
研究され、報告されている。
【0005】例えば、カブリ防止剤として水銀化合物を
用いる方法があり、感光材料中にカブリ防止剤として水
銀化合物を使用することについては、例えば米国特許第
3,589,903号に開示されている。しかしなが
ら、水銀化合物の使用は環境上好ましくなく、非水銀系
のカブリ防止剤の開発が望まれていた。非水銀系のカブ
リ防止剤としては、これまで各種のポリハロゲン化合物
が、例えば米国特許第3,874,946号、同第4,
756,999号、同第5,340,712号、欧州特
許第605,981A1号、同第622,666A1
号、同第631,176A1号、特公昭54−165
号、特開平7−2781号等に開示されている。しか
し、これらに記載の化合物はカブリ防止効果が低かった
り、銀の色調を悪化させるという問題があり、改善が必
要であった。更に、熱現像感光材料を加湿、加温の強制
条件下で保存した後、露光、現像を行うと、未露光部に
おけるカブリが上昇するといった問題があり、これらの
問題のないカブリ防止剤の開発が望まれていた。
用いる方法があり、感光材料中にカブリ防止剤として水
銀化合物を使用することについては、例えば米国特許第
3,589,903号に開示されている。しかしなが
ら、水銀化合物の使用は環境上好ましくなく、非水銀系
のカブリ防止剤の開発が望まれていた。非水銀系のカブ
リ防止剤としては、これまで各種のポリハロゲン化合物
が、例えば米国特許第3,874,946号、同第4,
756,999号、同第5,340,712号、欧州特
許第605,981A1号、同第622,666A1
号、同第631,176A1号、特公昭54−165
号、特開平7−2781号等に開示されている。しか
し、これらに記載の化合物はカブリ防止効果が低かった
り、銀の色調を悪化させるという問題があり、改善が必
要であった。更に、熱現像感光材料を加湿、加温の強制
条件下で保存した後、露光、現像を行うと、未露光部に
おけるカブリが上昇するといった問題があり、これらの
問題のないカブリ防止剤の開発が望まれていた。
【0006】これらを解決する方法として例えば、特開
平4−232939号に記載のパーブロミド化合物が提
案されている。これはパーブロミド化合物のもつ強い酸
化作用によりカブリ核を酸化漂白する事でカブリを抑え
るものと考えられるが、これ単独で十分に熱現像におけ
るカブリを抑え、感光材料の保存性を改良する事は難し
かった。
平4−232939号に記載のパーブロミド化合物が提
案されている。これはパーブロミド化合物のもつ強い酸
化作用によりカブリ核を酸化漂白する事でカブリを抑え
るものと考えられるが、これ単独で十分に熱現像におけ
るカブリを抑え、感光材料の保存性を改良する事は難し
かった。
【0007】従って、これらを解決する方法としてさら
に特開平9−160164号、同9−244178号、
同9−258367号、同9−265150号、同9−
281640号、同9−319022号等に上記欠点の
改良されたポリハロゲン化合物が記載されている。しか
しながら、特に、医療用レーザイメージャ用の熱現像感
光材料、或いは硬調化剤を含有し、600〜800nm
に発振波長を有する印刷用レーザイメージセッタの出力
用の熱現像感光材料にこれらの技術を適用した場合でも
上記の欠点はかなり改善されるものの、依然としてカブ
リ抑制不十分、濃度低下、色調劣化等の問題を抱えてい
るのが現状である。
に特開平9−160164号、同9−244178号、
同9−258367号、同9−265150号、同9−
281640号、同9−319022号等に上記欠点の
改良されたポリハロゲン化合物が記載されている。しか
しながら、特に、医療用レーザイメージャ用の熱現像感
光材料、或いは硬調化剤を含有し、600〜800nm
に発振波長を有する印刷用レーザイメージセッタの出力
用の熱現像感光材料にこれらの技術を適用した場合でも
上記の欠点はかなり改善されるものの、依然としてカブ
リ抑制不十分、濃度低下、色調劣化等の問題を抱えてい
るのが現状である。
【0008】特開平6−208193号には前記のハロ
ゲン化カブリ防止化合物単独ではなくこれをイソシアネ
ート基を有する化合物を併用し含有させることによりカ
ブリを改良した熱現像感光材料が開示されている。又、
特開平6−208192号にはビニルスルホン化合物が
熱現像系においてカブリ防止効果が大きいことが記載さ
れている。しかしながらこれらもいまだトータルの写真
性能として十分な効果をもっているとはいえず、更なる
カブリ抑制技術、特に濃度、色調のレベルを維持したカ
ブリ抑制技術が待たれている。
ゲン化カブリ防止化合物単独ではなくこれをイソシアネ
ート基を有する化合物を併用し含有させることによりカ
ブリを改良した熱現像感光材料が開示されている。又、
特開平6−208192号にはビニルスルホン化合物が
熱現像系においてカブリ防止効果が大きいことが記載さ
れている。しかしながらこれらもいまだトータルの写真
性能として十分な効果をもっているとはいえず、更なる
カブリ抑制技術、特に濃度、色調のレベルを維持したカ
ブリ抑制技術が待たれている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低カ
ブリ、高感度、且つ、高濃度の画像が得られる熱現像感
光材料、画像記録方法及び画像形成方法を提供すること
にある。
ブリ、高感度、且つ、高濃度の画像が得られる熱現像感
光材料、画像記録方法及び画像形成方法を提供すること
にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記の項目1〜8によって達成された。
記の項目1〜8によって達成された。
【0011】1.支持体上に、少なくとも有機銀塩、感
光性ハロゲン化銀、還元剤及び疎水性バインダを含有す
る熱現像感光材料において、下記一般式〔1〕〜〔4〕
で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物
及び一般式〔5〕で表される化合物を含有し、且つ、処
理後のDmaxが3.3以上であることを特徴とする熱
現像感光材料。
光性ハロゲン化銀、還元剤及び疎水性バインダを含有す
る熱現像感光材料において、下記一般式〔1〕〜〔4〕
で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物
及び一般式〔5〕で表される化合物を含有し、且つ、処
理後のDmaxが3.3以上であることを特徴とする熱
現像感光材料。
【0012】
【化3】
【0013】一般式〔1〕及び〔2〕において、Y1、
Y2及びY11は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原
子または−CH=CH−基を表し、L1〜L9、L11〜L
15は各々、メチン基を表す。R1、R2、R11及びR12は
各々、脂肪族基を表し、R3、R4、R13及びR14は各
々、アルケニル基、環状アルキル基または複素環基を表
す。W1、W2、W3、W4、W11、W12、W13及びW14は
各々、水素原子、置換基、或いはW1とW2、W3とW4、
W11とW12、W13とW14の間で結合して縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表す。X1及びX11は各
々、分子内の電荷を中和するに必要なイオンを表し、k
1及びk11は各々、分子内の電荷を中和するに必要な
イオンの数を表す。m1は0または1を表し、n1、n
11及びn12は各々、0、1または2を表す。但し、
n11とn12は同時に0とはならない。
Y2及びY11は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原
子または−CH=CH−基を表し、L1〜L9、L11〜L
15は各々、メチン基を表す。R1、R2、R11及びR12は
各々、脂肪族基を表し、R3、R4、R13及びR14は各
々、アルケニル基、環状アルキル基または複素環基を表
す。W1、W2、W3、W4、W11、W12、W13及びW14は
各々、水素原子、置換基、或いはW1とW2、W3とW4、
W11とW12、W13とW14の間で結合して縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表す。X1及びX11は各
々、分子内の電荷を中和するに必要なイオンを表し、k
1及びk11は各々、分子内の電荷を中和するに必要な
イオンの数を表す。m1は0または1を表し、n1、n
11及びn12は各々、0、1または2を表す。但し、
n11とn12は同時に0とはならない。
【0014】
【化4】
【0015】一般式〔3〕〜〔4〕において、Y21、Y
22及びY31は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原
子、−C(Ra)(Rb)−基または−CH=CH−基を
表し、R21、R22、R31及びR32は各々脂肪族基であ
り、Ra,Rb,Rc及びRdは各々、低級アルキル基、シ
クロアルキル基、アラルキル基、アリール基または複素
環基を表わす。W21、W22、W23、W24、W31、W32、
W33及びW34は各々、水素原子、置換基、或いはW21は
W22と、W23はW24と、W31はW32と、W33はW34との
間で結合して縮合環を形成するに必要な非金属原子群を
表す。V21〜V29、V31〜V33は各々、水素原子、ハロ
ゲン原子、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、低級アルキル基、低級アルコキシル基、アリール
基、アリールオキシ基または複素環基を表し、或いはV
21はV23と、V22はV24と、V23はV25と、V24はV26
と、V25はV27と、V26はV28と、V27はV29と、V31
はV33との間で結合して5員〜7員の環を形成するに必
要な非金属原子群を表し、X21及びX31は各々、分子内
の電荷を中和するに必要なイオンを表し、l21及びl
31は各々、分子内の電荷を中和するに必要なイオンの
数を表す。k21及びk22は各々、0または1を表
す。n21、n22、n31及びn32は各々、0〜2
の整数を表わし、n21とn22及びn31とn32が
同時に0になることはない。
22及びY31は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原
子、−C(Ra)(Rb)−基または−CH=CH−基を
表し、R21、R22、R31及びR32は各々脂肪族基であ
り、Ra,Rb,Rc及びRdは各々、低級アルキル基、シ
クロアルキル基、アラルキル基、アリール基または複素
環基を表わす。W21、W22、W23、W24、W31、W32、
W33及びW34は各々、水素原子、置換基、或いはW21は
W22と、W23はW24と、W31はW32と、W33はW34との
間で結合して縮合環を形成するに必要な非金属原子群を
表す。V21〜V29、V31〜V33は各々、水素原子、ハロ
ゲン原子、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、低級アルキル基、低級アルコキシル基、アリール
基、アリールオキシ基または複素環基を表し、或いはV
21はV23と、V22はV24と、V23はV25と、V24はV26
と、V25はV27と、V26はV28と、V27はV29と、V31
はV33との間で結合して5員〜7員の環を形成するに必
要な非金属原子群を表し、X21及びX31は各々、分子内
の電荷を中和するに必要なイオンを表し、l21及びl
31は各々、分子内の電荷を中和するに必要なイオンの
数を表す。k21及びk22は各々、0または1を表
す。n21、n22、n31及びn32は各々、0〜2
の整数を表わし、n21とn22及びn31とn32が
同時に0になることはない。
【0016】一般式〔5〕 Z−SM 式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子を表し、Z
は飽和または不飽和の鎖式脂肪族基、脂環式基または芳
香族基を表す。
は飽和または不飽和の鎖式脂肪族基、脂環式基または芳
香族基を表す。
【0017】2.感光性ハロゲン化銀を銀として0.0
5〜0.15g/m2、一般式〔1〕〜〔4〕で表され
る化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を5×1
0-7〜1.5×10-6モル/m2、且つ、一般式〔5〕
で表される化合物を5×10-5〜1.5×10-4モル/
m2含有することを特徴とする前記1に記載の熱現像感
光材料。
5〜0.15g/m2、一般式〔1〕〜〔4〕で表され
る化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を5×1
0-7〜1.5×10-6モル/m2、且つ、一般式〔5〕
で表される化合物を5×10-5〜1.5×10-4モル/
m2含有することを特徴とする前記1に記載の熱現像感
光材料。
【0018】3.還元剤の含有量が4×10-3〜8×1
0-3モル/m2であることを特徴とする前記1または2
記載の熱現像感光材料。
0-3モル/m2であることを特徴とする前記1または2
記載の熱現像感光材料。
【0019】4.前記1、2または3に記載の熱現像感
光材料を製造するに当たり、有機銀塩が水系で調製さ
れ、次いで、該有機銀塩の含有水分量を0.3%以下に
なるまで乾燥した後、有機溶媒に分散することを特徴と
する熱現像感光材料の製造方法。
光材料を製造するに当たり、有機銀塩が水系で調製さ
れ、次いで、該有機銀塩の含有水分量を0.3%以下に
なるまで乾燥した後、有機溶媒に分散することを特徴と
する熱現像感光材料の製造方法。
【0020】5.25℃、60%RHでの平衡含水率が
0.01%〜1%以下であることを特徴とする前記1、
2または3に記載の熱現像感光材料。
0.01%〜1%以下であることを特徴とする前記1、
2または3に記載の熱現像感光材料。
【0021】6.露光面と走査レーザ光のなす角度が実
質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いて
前記1、2または3に記載の熱現像感光材料の露光を行
うことを特徴とする画像記録方法。
質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いて
前記1、2または3に記載の熱現像感光材料の露光を行
うことを特徴とする画像記録方法。
【0022】7.前記1、2または3に記載の熱現像感
光材料を走査レーザ光が縦マルチであるレーザ走査露光
機による露光を行うことを特徴とする画像記録方法。
光材料を走査レーザ光が縦マルチであるレーザ走査露光
機による露光を行うことを特徴とする画像記録方法。
【0023】8.前記1、2または3に記載の熱現像感
光材料が溶媒を40〜4500ppm含有している状態
において加熱現像することを特徴とする画像形成方法。
光材料が溶媒を40〜4500ppm含有している状態
において加熱現像することを特徴とする画像形成方法。
【0024】以下、本発明を詳細に説明する。
【0025】従来、一般的に用いられている赤外分光増
感色素は、吸着性、安定性に劣り、その結果として、特
に分光増感後の感光材料の保存性に問題がある。従っ
て、充分な感度がでない、カブリが高く、且つ、高濃度
の画像が得られない等の問題点を有している。熱現像感
光材料はハロゲン化銀粒子が有機銀塩粒子と共に、熱に
より軟化する、ゼラチンよりも疎水性のバインダー(ポ
リビニルブチラール等が使われる)中に分散され、加熱
され軟化したバインダー中での溶解物理現像により同一
層中または隣接層中に添加された還元剤により、有機銀
塩が還元され銀画像を形成するというものである。従っ
て、ハロゲン化銀に吸着した分光増感色素は通常のゼラ
チンをマトリクスとするハロゲン化銀感光材料よりも吸
着平衡や色素自身の安定性には不利な系になっていると
考えられる。
感色素は、吸着性、安定性に劣り、その結果として、特
に分光増感後の感光材料の保存性に問題がある。従っ
て、充分な感度がでない、カブリが高く、且つ、高濃度
の画像が得られない等の問題点を有している。熱現像感
光材料はハロゲン化銀粒子が有機銀塩粒子と共に、熱に
より軟化する、ゼラチンよりも疎水性のバインダー(ポ
リビニルブチラール等が使われる)中に分散され、加熱
され軟化したバインダー中での溶解物理現像により同一
層中または隣接層中に添加された還元剤により、有機銀
塩が還元され銀画像を形成するというものである。従っ
て、ハロゲン化銀に吸着した分光増感色素は通常のゼラ
チンをマトリクスとするハロゲン化銀感光材料よりも吸
着平衡や色素自身の安定性には不利な系になっていると
考えられる。
【0026】これらの問題点を改善するために、赤外分
光増感色素と併用することにより、低カブリ、高感度
で、且つ、高濃度の画像が得られるといった効果をもた
らす化合物が要望されていた。
光増感色素と併用することにより、低カブリ、高感度
で、且つ、高濃度の画像が得られるといった効果をもた
らす化合物が要望されていた。
【0027】本発明者らは、この方針により探索を行っ
た結果、赤外増感色素として前記一般式〔1〕〜〔4〕
で表される化合物と硫黄原子を有するメルカプト化合物
或いは前記メルカプト化合物のプレカーサ(前駆体)で
あるジスルフィド化合物とを併用することにより、高感
度、低カブリであり、且つ、現像処理後の濃度(Dma
x)が3.3以上になる熱現像感光材料を得ることが出
来た。
た結果、赤外増感色素として前記一般式〔1〕〜〔4〕
で表される化合物と硫黄原子を有するメルカプト化合物
或いは前記メルカプト化合物のプレカーサ(前駆体)で
あるジスルフィド化合物とを併用することにより、高感
度、低カブリであり、且つ、現像処理後の濃度(Dma
x)が3.3以上になる熱現像感光材料を得ることが出
来た。
【0028】本発明の熱現像感光材料の処理後のDma
xは3.3以上であるが、3.5以上の高濃度画像にお
いても、低カブリの画像を得ることができる。
xは3.3以上であるが、3.5以上の高濃度画像にお
いても、低カブリの画像を得ることができる。
【0029】本発明に係る一般式〔1〕〜〔4〕で表さ
れる化合物について説明する。
れる化合物について説明する。
【0030】前記一般式〔1〕、〔2〕で表される増感
色素においてR1、R2、R11、R12で各々、示される脂
肪族基としては、例えば、炭素原子数1〜10の分岐或
は直鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、i−ペンチル基、2
−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、炭素
原子数3〜10のアルケニル基(例えば、2−プロペニ
ル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル
基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、
4−ヘキセニル基等)、炭素原子数7〜10のアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基等)が挙げら
れる。上述した基は、更に、低級アルキル基(例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基等)、ハロゲン原子
(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ビニ
ル基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル
基、p−ブロモフェニル基等)、トリフルオロメチル
基、アルコキシル基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ
基、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル
基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えば、アミノ基、ビスカルボキシメチルアミノ基等)、
アリール基(例えば、フェニル基、カルボキシフェニル
基等)、複素環基(例えば、テトラヒドロフルフリル、
2−ピロリジノン−1−イル基等)、アシル基(例え
ば、アセチル基、ベンゾイル基等)、ウレイド基(例え
ば、ウレイド基、3−メチルウレイド基、3−フェニル
ウレイド基等)、チオウレイド基(例えば、チオウレイ
ド基、3−メチルチオウレイド基等)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ、エチルチオ基等)、アリールチ
オ基(例えば、フェニルチオ基等)、複素環チオ基(例
えば、2−チエニルチオ基、3−チエニルチオ基、2−
イミダゾリルチオ基等)、カルボニルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチル
アミノ、ベンゾイルアミノ基等)、チオアミド基(例え
ば、チオアセトアミド基、チオベンゾイルアミノ基等)
等の基、あるいは、例えば、スルホ基、カルボキシ基、
ホスフォノ基、スルファート基、ヒドロキシル基、メル
カプト基、スルフィノ基、カルバモイル基(例えば、カ
ルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テ
トラメチレンカルバモイル基等)、スルファモイル基
(例えば、スルファモイル基、N,N−3−オキサペン
タメチレンアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基
(例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミ
ド基等)、スルホニルアミノカルボニル基(例えば、メ
タンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルア
ミノカルボニル基等)、アシルアミノスルホニル基(例
えば、アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミド
スルホニル基等)、アシルアミノカルボニル基(例え
ば、アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカ
ルボニル基等)、スルフィニルアミノカルボニル基(例
えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンス
ルフィニルアミノカルボニル基等)等の親水性の基で置
換されていても良い。
色素においてR1、R2、R11、R12で各々、示される脂
肪族基としては、例えば、炭素原子数1〜10の分岐或
は直鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、i−ペンチル基、2
−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、炭素
原子数3〜10のアルケニル基(例えば、2−プロペニ
ル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル
基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、
4−ヘキセニル基等)、炭素原子数7〜10のアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基等)が挙げら
れる。上述した基は、更に、低級アルキル基(例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基等)、ハロゲン原子
(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ビニ
ル基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル
基、p−ブロモフェニル基等)、トリフルオロメチル
基、アルコキシル基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ
基、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル
基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えば、アミノ基、ビスカルボキシメチルアミノ基等)、
アリール基(例えば、フェニル基、カルボキシフェニル
基等)、複素環基(例えば、テトラヒドロフルフリル、
2−ピロリジノン−1−イル基等)、アシル基(例え
ば、アセチル基、ベンゾイル基等)、ウレイド基(例え
ば、ウレイド基、3−メチルウレイド基、3−フェニル
ウレイド基等)、チオウレイド基(例えば、チオウレイ
ド基、3−メチルチオウレイド基等)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ、エチルチオ基等)、アリールチ
オ基(例えば、フェニルチオ基等)、複素環チオ基(例
えば、2−チエニルチオ基、3−チエニルチオ基、2−
イミダゾリルチオ基等)、カルボニルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチル
アミノ、ベンゾイルアミノ基等)、チオアミド基(例え
ば、チオアセトアミド基、チオベンゾイルアミノ基等)
等の基、あるいは、例えば、スルホ基、カルボキシ基、
ホスフォノ基、スルファート基、ヒドロキシル基、メル
カプト基、スルフィノ基、カルバモイル基(例えば、カ
ルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テ
トラメチレンカルバモイル基等)、スルファモイル基
(例えば、スルファモイル基、N,N−3−オキサペン
タメチレンアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基
(例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミ
ド基等)、スルホニルアミノカルボニル基(例えば、メ
タンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルア
ミノカルボニル基等)、アシルアミノスルホニル基(例
えば、アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミド
スルホニル基等)、アシルアミノカルボニル基(例え
ば、アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカ
ルボニル基等)、スルフィニルアミノカルボニル基(例
えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンス
ルフィニルアミノカルボニル基等)等の親水性の基で置
換されていても良い。
【0031】これら親水性の基を置換した脂肪族基の具
体的例としては、カルボキシメチル、カルボキシエチ
ル、カルボキシブチル、カルボキシペンチル、3−スル
ファートブチル、3−スルホプロピル、2−ヒドロキシ
−3−スルホプロピル基、4−スルホブチル、5−スル
ホペンチル、3−スルホペンチル、3−スルフィノブチ
ル、3−ホスフォノプロピル、ヒドロキシエチル、N−
メタンスルホニルカルバモイルメチル、2−カルボキシ
−2−プロペニル、o−スルホベンジル、p−スルホフ
ェネチル、p−カルボキシベンジル等の各基が挙げられ
る。
体的例としては、カルボキシメチル、カルボキシエチ
ル、カルボキシブチル、カルボキシペンチル、3−スル
ファートブチル、3−スルホプロピル、2−ヒドロキシ
−3−スルホプロピル基、4−スルホブチル、5−スル
ホペンチル、3−スルホペンチル、3−スルフィノブチ
ル、3−ホスフォノプロピル、ヒドロキシエチル、N−
メタンスルホニルカルバモイルメチル、2−カルボキシ
−2−プロペニル、o−スルホベンジル、p−スルホフ
ェネチル、p−カルボキシベンジル等の各基が挙げられ
る。
【0032】R3、R4、R13及びR14で各々、表される
アルケニル基としては例えば、2−プロペニル基、3−
ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペン
テニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニ
ル基等が挙げられ、環状アルキル基としては例えば、シ
クロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等が挙げられ、複素環基としては例えば、2−チエニル
基、3−チエニル基、1−メチル−2−イミダゾリル基
等の基が挙げられ、これらの各基には低級アルキル基
(例えば、メチル基、エチル基等)、低級アルコキシル
基(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)、ヒドロキシ
ル基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子)、アリール基(例えば、フェニル
基、トリル基、クロロフェニル基等)、メルカプト基、
低級アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチ
オ基等)等の基が置換できる。
アルケニル基としては例えば、2−プロペニル基、3−
ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペン
テニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニ
ル基等が挙げられ、環状アルキル基としては例えば、シ
クロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等が挙げられ、複素環基としては例えば、2−チエニル
基、3−チエニル基、1−メチル−2−イミダゾリル基
等の基が挙げられ、これらの各基には低級アルキル基
(例えば、メチル基、エチル基等)、低級アルコキシル
基(例えば、メトキシ基、エトキシ基等)、ヒドロキシ
ル基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子)、アリール基(例えば、フェニル
基、トリル基、クロロフェニル基等)、メルカプト基、
低級アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチ
オ基等)等の基が置換できる。
【0033】W1〜W4、W11〜W14で各々、示される置
換基は具体的には、アルキル基(例えば、メチル基、エ
チル基、ブチル基、i−ブチル基等)、アリール基(単
環並びに多環のものを含み、例えば、フェニル基、ナフ
チル基等)、複素環基(例えば、チエニル基、フリル
基、ピリジル基、カルバゾリル基、ピロリル基、インド
リル基、テトラヒドロフルフリル基、2−ピロリジノン
−1−イル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、ビニル基、アリール基
(例えば、フェニル基、p−トリル基、p−ブロモフェ
ニル基等)、トリフルオロメチル基、アルコキシル基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ
基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、p
−トリルオキシ基等)、アルキルスルホニル基またはア
リールスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、p
−トルエンスルホニル基等)、アルコキシカルボニル基
(例えば、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル
基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、ビスカルボキシ
メチルアミノ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、
ベンゾイル基等)、ウレイド基(例えば、ウレイド基、
3−メチルウレイド基、3−フェニルウレイド基等)、
チオウレイド基(例えば、チオウレイド基、3−メチル
チオウレイド基等)、アルキルチオ基(例えば、メチル
チオ、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ基等)、ヒドロキシル基、スチリル基等が挙
げられる。
換基は具体的には、アルキル基(例えば、メチル基、エ
チル基、ブチル基、i−ブチル基等)、アリール基(単
環並びに多環のものを含み、例えば、フェニル基、ナフ
チル基等)、複素環基(例えば、チエニル基、フリル
基、ピリジル基、カルバゾリル基、ピロリル基、インド
リル基、テトラヒドロフルフリル基、2−ピロリジノン
−1−イル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、ビニル基、アリール基
(例えば、フェニル基、p−トリル基、p−ブロモフェ
ニル基等)、トリフルオロメチル基、アルコキシル基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ
基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、p
−トリルオキシ基等)、アルキルスルホニル基またはア
リールスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、p
−トルエンスルホニル基等)、アルコキシカルボニル基
(例えば、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル
基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、ビスカルボキシ
メチルアミノ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、
ベンゾイル基等)、ウレイド基(例えば、ウレイド基、
3−メチルウレイド基、3−フェニルウレイド基等)、
チオウレイド基(例えば、チオウレイド基、3−メチル
チオウレイド基等)、アルキルチオ基(例えば、メチル
チオ、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ基等)、ヒドロキシル基、スチリル基等が挙
げられる。
【0034】これらの基にはR1等で示される脂肪族基
の説明で挙げた基が置換でき、置換されたアルキル基の
具体例としては、例えば、2−メトキシエチル、2−ヒ
ドロキシエチル、3−エトキシカルボニルプロピル、2
−カルバモイルエチル、2−メタンスルホニルエチル、
3−メタンスルホニルアミノプロピル、ベンジル、フェ
ネチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、アリ
ル、2−フリルエチル等の各基が挙げられ、置換された
アリール基の具体例としては、例えば、p−カルボキシ
フェニル、p−N,N−ジメチルアミノフェニル、p−
モルフォリノフェニル、p−メトキシフェニル、3,4
−ジメトキシフェニル、3,4−メチレンジオキシフェ
ニル、3−クロロフェニル、p−ニトロフェニル等の各
基が挙げられ、置換された複素環基の具体例としては、
例えば、5−クロロ−2−ピリジル、5−エトキシカル
ボニル−2−ピリジル、5−カルバモイル−2−ピリジ
ル等の各基が挙げられる。W1とW2、W3とW4、W11と
W12、W13とW14が各々、互いに連結して形成すること
ができる縮合環としては、例えば、5員、6員の飽和又
は不飽和の縮合炭素環が挙げられる。これらの縮合環上
には任意の位置に置換することができ、これら置換され
る基としては前述の脂肪族基に置換できる基で説明した
基が挙げられる。
の説明で挙げた基が置換でき、置換されたアルキル基の
具体例としては、例えば、2−メトキシエチル、2−ヒ
ドロキシエチル、3−エトキシカルボニルプロピル、2
−カルバモイルエチル、2−メタンスルホニルエチル、
3−メタンスルホニルアミノプロピル、ベンジル、フェ
ネチル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、アリ
ル、2−フリルエチル等の各基が挙げられ、置換された
アリール基の具体例としては、例えば、p−カルボキシ
フェニル、p−N,N−ジメチルアミノフェニル、p−
モルフォリノフェニル、p−メトキシフェニル、3,4
−ジメトキシフェニル、3,4−メチレンジオキシフェ
ニル、3−クロロフェニル、p−ニトロフェニル等の各
基が挙げられ、置換された複素環基の具体例としては、
例えば、5−クロロ−2−ピリジル、5−エトキシカル
ボニル−2−ピリジル、5−カルバモイル−2−ピリジ
ル等の各基が挙げられる。W1とW2、W3とW4、W11と
W12、W13とW14が各々、互いに連結して形成すること
ができる縮合環としては、例えば、5員、6員の飽和又
は不飽和の縮合炭素環が挙げられる。これらの縮合環上
には任意の位置に置換することができ、これら置換され
る基としては前述の脂肪族基に置換できる基で説明した
基が挙げられる。
【0035】前記一般式〔1〕、〔2〕において、L1
〜L9、L11〜L15で示されるメチン基は各々、独立に
メチン基を表す。置換される基の具体例としては、低級
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、i−プロピ
ル基、ベンジル基等)、アルコキシル基(例えば、メト
キシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、
フェノキシ基、ナフトキシ基等)、アリール基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基、p−トリル基、o−カル
ボキシフェニル基等)、−N(V1)(V2)、−SR又
は複素環基(例えば、2−チエニル基、2−フリル基、
N,N′−ビス(メトキシエチル)バルビツール酸基
等)を表す。ここでRは前述したような低級アルキル
基、アリール基または複素環基を表し、V1とV2は各
々、低級アルキル基又はアリール基を表し、V1とV2と
は互いに連結して5員又は6員の含窒素複素環を形成す
ることもできる。また、メチン基はお互いに隣接するメ
チン基同士、或いは一つ隔たったメチン基と互いに連結
して5員又は6員環を形成することができる。
〜L9、L11〜L15で示されるメチン基は各々、独立に
メチン基を表す。置換される基の具体例としては、低級
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、i−プロピ
ル基、ベンジル基等)、アルコキシル基(例えば、メト
キシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、
フェノキシ基、ナフトキシ基等)、アリール基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基、p−トリル基、o−カル
ボキシフェニル基等)、−N(V1)(V2)、−SR又
は複素環基(例えば、2−チエニル基、2−フリル基、
N,N′−ビス(メトキシエチル)バルビツール酸基
等)を表す。ここでRは前述したような低級アルキル
基、アリール基または複素環基を表し、V1とV2は各
々、低級アルキル基又はアリール基を表し、V1とV2と
は互いに連結して5員又は6員の含窒素複素環を形成す
ることもできる。また、メチン基はお互いに隣接するメ
チン基同士、或いは一つ隔たったメチン基と互いに連結
して5員又は6員環を形成することができる。
【0036】前記一般式〔1〕、〔2〕で示される化合
物において、カチオン或いはアニオンの電荷を有する基
が置換されている場合には各々、分子内の電荷が中和す
るように当量のアニオン或いはカチオンで対イオンが形
成される。例えば、X1、X11で各々、示される分子内
の電荷を中和するに必要なイオンに於いてカチオンの具
体例としては、プロトン、有機アンモニウムイオン(例
えば、トリエチルアンモニウム、トリエタノールアンモ
ニウム等の各イオン)、無機カチオン(例えば、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等の各カチオン)が挙げら
れ、酸アニオンの具体例としては例えば、ハロゲンイオ
ン(例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン等)、
p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、4フ
ッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イオン、エ
チル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。
物において、カチオン或いはアニオンの電荷を有する基
が置換されている場合には各々、分子内の電荷が中和す
るように当量のアニオン或いはカチオンで対イオンが形
成される。例えば、X1、X11で各々、示される分子内
の電荷を中和するに必要なイオンに於いてカチオンの具
体例としては、プロトン、有機アンモニウムイオン(例
えば、トリエチルアンモニウム、トリエタノールアンモ
ニウム等の各イオン)、無機カチオン(例えば、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等の各カチオン)が挙げら
れ、酸アニオンの具体例としては例えば、ハロゲンイオ
ン(例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン等)、
p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、4フ
ッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イオン、エ
チル硫酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。
【0037】以下に、上記一般式〔1〕または〔2〕で
表される増感色素の代表的なものを示すが、本発明はこ
れらに限定されない。
表される増感色素の代表的なものを示すが、本発明はこ
れらに限定されない。
【0038】
【化5】
【0039】
【化6】
【0040】
【化7】
【0041】
【化8】
【0042】
【化9】
【0043】
【化10】
【0044】更に、前記一般式〔3〕、〔4〕で表され
る化合物について以下に置換基を説明する。
る化合物について以下に置換基を説明する。
【0045】R21、R22、R31、R32で示される脂肪族
基としては、例えば、炭素原子数1〜10の分岐或は直
鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2
−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、炭素
原子数3〜10のアルケニル基(例えば、2−プロペニ
ル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル
基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、
4−ヘキセニル基等)、炭素原子数7〜10のアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基等)が挙げら
れる。
基としては、例えば、炭素原子数1〜10の分岐或は直
鎖のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2
−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、炭素
原子数3〜10のアルケニル基(例えば、2−プロペニ
ル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル
基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、
4−ヘキセニル基等)、炭素原子数7〜10のアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基等)が挙げら
れる。
【0046】上述した基は、更に、低級アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
ビニル基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリ
ル基、p−ブロモフェニル基等)、トリフルオロメチル
基、アルコキシル基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ
基、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル
基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えば、アミノ基、ビスカルボキシメチルアミノ基等)、
アリール基(例えば、フェニル基、カルボキシフェニル
基等)、複素環基(例えば、テトラヒドロフルフリル
基、2−ピロリジノン−1−イル基等)、アシル基(例
えば、アセチル基、ベンゾイル基等)、ウレイド基(例
えば、ウレイド基、3−メチルウレイド基、3−フェニ
ルウレイド基等)、チオウレイド基(例えば、チオウレ
イド基、3−メチルチオウレイド基等)、アルキルチオ
基(例えば、メチルチオ、エチルチオ基等)、アリール
チオ基(例えば、フェニルチオ基等)、複素環チオ基
(例えば、2−チエニルチオ基、3−チエニルチオ、2
−イミダゾリルチオ基等)、カルボニルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチル
アミノ、ベンゾイルアミノ基等)、チオアミド基(例え
ば、チオアセトアミド基、チオベンゾイルアミノ基等)
等の基、あるいは、例えば、スルホ基、カルボキシ基、
ホスフォノ基、スルファート基、ヒドロキシル基、メル
カプト基、スルフィノ基、カルバモイル基(例えば、カ
ルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テ
トラメチレンカルバモイル基等)、スルファモイル基
(例えば、スルファモイル基、N,N−3−オキサペン
タメチレンアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基
(例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミ
ド基等)、スルホニルアミノカルボニル基(例えば、メ
タンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルア
ミノカルボニル基等)、アシルアミノスルホニル基(例
えば、アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミド
スルホニル基等)、アシルアミノカルボニル基(例え
ば、アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカ
ルボニル基等)、スルフィニルアミノカルボニル基(例
えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタン
スルフィニルアミノカルボニル基等)等の親水性の基で
置換されていても良い。
えば、メチル基、エチル基、プロピル基等)、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、
ビニル基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリ
ル基、p−ブロモフェニル基等)、トリフルオロメチル
基、アルコキシル基(例えば、メトキシ基、エトキシ
基、メトキシエトキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ
基、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリ
フルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル
基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アミノ基(例
えば、アミノ基、ビスカルボキシメチルアミノ基等)、
アリール基(例えば、フェニル基、カルボキシフェニル
基等)、複素環基(例えば、テトラヒドロフルフリル
基、2−ピロリジノン−1−イル基等)、アシル基(例
えば、アセチル基、ベンゾイル基等)、ウレイド基(例
えば、ウレイド基、3−メチルウレイド基、3−フェニ
ルウレイド基等)、チオウレイド基(例えば、チオウレ
イド基、3−メチルチオウレイド基等)、アルキルチオ
基(例えば、メチルチオ、エチルチオ基等)、アリール
チオ基(例えば、フェニルチオ基等)、複素環チオ基
(例えば、2−チエニルチオ基、3−チエニルチオ、2
−イミダゾリルチオ基等)、カルボニルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチル
アミノ、ベンゾイルアミノ基等)、チオアミド基(例え
ば、チオアセトアミド基、チオベンゾイルアミノ基等)
等の基、あるいは、例えば、スルホ基、カルボキシ基、
ホスフォノ基、スルファート基、ヒドロキシル基、メル
カプト基、スルフィノ基、カルバモイル基(例えば、カ
ルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テ
トラメチレンカルバモイル基等)、スルファモイル基
(例えば、スルファモイル基、N,N−3−オキサペン
タメチレンアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基
(例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミ
ド基等)、スルホニルアミノカルボニル基(例えば、メ
タンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルア
ミノカルボニル基等)、アシルアミノスルホニル基(例
えば、アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミド
スルホニル基等)、アシルアミノカルボニル基(例え
ば、アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカ
ルボニル基等)、スルフィニルアミノカルボニル基(例
えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタン
スルフィニルアミノカルボニル基等)等の親水性の基で
置換されていても良い。
【0047】これら親水性の基を置換した脂肪族基の具
体的例としては、カルボキシメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基、3
−スルファートブチル基、3−スルホプロピル基、2−
ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、4−スルホブチル
基、5−スルホペンチル基、3−スルホペンチル基、3
−スルフィノブチル基、3−ホスフォノプロピル基、ヒ
ドロキシエチル基、N−メタンスルホニルカルバモイル
メチル基、2−カルボキシ−2−プロペニル基、o−ス
ルホベンジル基、p−スルホフェネチル基、p−カルボ
キシベンジル基等の各基が挙げられる。
体的例としては、カルボキシメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシブチル基、カルボキシペンチル基、3
−スルファートブチル基、3−スルホプロピル基、2−
ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、4−スルホブチル
基、5−スルホペンチル基、3−スルホペンチル基、3
−スルフィノブチル基、3−ホスフォノプロピル基、ヒ
ドロキシエチル基、N−メタンスルホニルカルバモイル
メチル基、2−カルボキシ−2−プロペニル基、o−ス
ルホベンジル基、p−スルホフェネチル基、p−カルボ
キシベンジル基等の各基が挙げられる。
【0048】Ra、Rbで表される低級アルキル基として
は、炭素数5以下の、直鎖、分岐の基であり、具体的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、イソプロピル基等が挙げられる。シクロアルキル
基としてはシクロアルキル基としては例えば、シクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げ
られ、アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、p−メトキシフェニルメチル基、o−アセ
チルアミノフェニルエチル基等が挙げられ、低級アルコ
キシル基としては炭素原子数4以下の基であり、具体的
にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、iso−
プロポキシ基等の基が挙げられ、アリール基としては置
換、非置換のものを含み、例えば、フェニル基、2−ナ
フチル基、1−ナフチル基、o−トリル基、o−メトキ
シフェニル基、m−クロロフェニル基、m−ブロモフェ
ニル基、p−トリル基、p−エトキシフェニル基等の基
が挙げられ、これらの基にはフェニル基、ハロゲン原
子、アルコキシル基、ヒドロキシル基等の基が置換でき
る。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素
原子、沃素原子が挙げられる。
は、炭素数5以下の、直鎖、分岐の基であり、具体的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、イソプロピル基等が挙げられる。シクロアルキル
基としてはシクロアルキル基としては例えば、シクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げ
られ、アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、p−メトキシフェニルメチル基、o−アセ
チルアミノフェニルエチル基等が挙げられ、低級アルコ
キシル基としては炭素原子数4以下の基であり、具体的
にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、iso−
プロポキシ基等の基が挙げられ、アリール基としては置
換、非置換のものを含み、例えば、フェニル基、2−ナ
フチル基、1−ナフチル基、o−トリル基、o−メトキ
シフェニル基、m−クロロフェニル基、m−ブロモフェ
ニル基、p−トリル基、p−エトキシフェニル基等の基
が挙げられ、これらの基にはフェニル基、ハロゲン原
子、アルコキシル基、ヒドロキシル基等の基が置換でき
る。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素
原子、沃素原子が挙げられる。
【0049】Rc、Rdで表される低級アルキル基として
は炭素数5以下の、直鎖、分岐の基であり、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、イソプロピル基等が挙げられる。シクロアルキル基
としてはシクロアルキル基としては例えば、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げら
れ、アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、p−メトキシフェニルメチル基、o−アセチ
ルアミノフェニルエチル基等が挙げられ、アリール基と
しては置換、非置換のものを含み、例えば、フェニル
基、2−ナフチル基、1−ナフチル基、o−トリル基、
o−メトキシフェニル基、m−クロロフェニル基、m−
ブロモフェニル基、p−トリル基、p−エトキシフェニ
ル基等の基が挙げられ、複素環基としては置換、非置換
のものを含み、例えば、2−フリル基、5−メチル−2
−フリル基、2−チエニル基、2−イミダゾリル基、2
−メチル−1−イミダゾリル基、4−フェニル−2−チ
アゾリル基、5−ヒドロキシ−2−ベンゾチアゾリル
基、2−ピリジル基、1−ピロリル基等の基が挙げられ
る。
は炭素数5以下の、直鎖、分岐の基であり、具体的には
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、イソプロピル基等が挙げられる。シクロアルキル基
としてはシクロアルキル基としては例えば、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げら
れ、アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、p−メトキシフェニルメチル基、o−アセチ
ルアミノフェニルエチル基等が挙げられ、アリール基と
しては置換、非置換のものを含み、例えば、フェニル
基、2−ナフチル基、1−ナフチル基、o−トリル基、
o−メトキシフェニル基、m−クロロフェニル基、m−
ブロモフェニル基、p−トリル基、p−エトキシフェニ
ル基等の基が挙げられ、複素環基としては置換、非置換
のものを含み、例えば、2−フリル基、5−メチル−2
−フリル基、2−チエニル基、2−イミダゾリル基、2
−メチル−1−イミダゾリル基、4−フェニル−2−チ
アゾリル基、5−ヒドロキシ−2−ベンゾチアゾリル
基、2−ピリジル基、1−ピロリル基等の基が挙げられ
る。
【0050】これらの基には更に前述の説明であげたフ
ェニル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、ヒドロキシ
ル基等の基が置換できる。
ェニル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、ヒドロキシ
ル基等の基が置換できる。
【0051】W21〜W24、W31〜W34で表される置換基
は具体的には、アルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、ブチル基、iso−ブチル基等)、アリール基(単
環並びに多環のものを含み、例えば、フェニル基、カル
ボキシフェニル基、p−トリル基、p−ブチルフェニル
基、ナフチル基等)、複素環基(例えば、テトラヒドロ
フリル基、2−ピロリジノン−1−イル基、チエニル
基、フリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ピロリル
基、インドリル基等の各基)、ハロゲン原子(例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ビニル基、トリ
フルオロメチル基、アルコキシル基(例えば、メトキシ
基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等)、アリールオ
キシ基(例えば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基
等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、p
−トルエンスルホニル基等)、アルコキシカルボニル基
(例えば、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル
基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、ビスカルボキシ
メチルアミノ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、
ベンゾイル基等)、ウレイド基(例えば、ウレイド基、
3−メチルウレイド基、3−フェニルウレイド基等)、
チオウレイド基(例えば、チオウレイド基、3−メチル
チオウレイド基等)、アルキルチオ基(例えば、メチル
チオ、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ基等)、ヒドロキシル基、スチリル基等が挙
げられる。
は具体的には、アルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、ブチル基、iso−ブチル基等)、アリール基(単
環並びに多環のものを含み、例えば、フェニル基、カル
ボキシフェニル基、p−トリル基、p−ブチルフェニル
基、ナフチル基等)、複素環基(例えば、テトラヒドロ
フリル基、2−ピロリジノン−1−イル基、チエニル
基、フリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ピロリル
基、インドリル基等の各基)、ハロゲン原子(例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ビニル基、トリ
フルオロメチル基、アルコキシル基(例えば、メトキシ
基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等)、アリールオ
キシ基(例えば、フェノキシ基、p−トリルオキシ基
等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、p
−トルエンスルホニル基等)、アルコキシカルボニル基
(例えば、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル
基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、ビスカルボキシ
メチルアミノ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、
ベンゾイル基等)、ウレイド基(例えば、ウレイド基、
3−メチルウレイド基、3−フェニルウレイド基等)、
チオウレイド基(例えば、チオウレイド基、3−メチル
チオウレイド基等)、アルキルチオ基(例えば、メチル
チオ、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フ
ェニルチオ基等)、ヒドロキシル基、スチリル基等が挙
げられる。
【0052】これらの基にはR21等で示される脂肪族基
の説明で挙げた基が置換でき、置換されたアルキル基の
具体例としては、例えば、2−メトキシエチル基、2−
ヒドロキシエチル基、3−エトキシカルボニルプロピル
基、2−カルバモイルエチル基、2−メタンスルホニル
エチル基、3−メタンスルホニルアミノプロピル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、カルボキシメチル基、カルボ
キシエチル基、アリル基、2−フリルエチル基等の各基
が挙げられ、置換されたアリール基の具体例としては、
例えば、p−カルボキシフェニル基、p−N,N−ジメ
チルアミノフェニル基、p−モルフォリノフェニル基、
p−メトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル
基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、3−クロロ
フェニル基、p−ニトロフェニル基等の各基が挙げら
れ、置換された複素環基の具体例としては、例えば、5
−クロロ−2−ピリジル基、5−エトキシカルボニル−
2−ピリジル基、5−カルバモイル−2−ピリジル等の
各基が挙げられる。
の説明で挙げた基が置換でき、置換されたアルキル基の
具体例としては、例えば、2−メトキシエチル基、2−
ヒドロキシエチル基、3−エトキシカルボニルプロピル
基、2−カルバモイルエチル基、2−メタンスルホニル
エチル基、3−メタンスルホニルアミノプロピル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、カルボキシメチル基、カルボ
キシエチル基、アリル基、2−フリルエチル基等の各基
が挙げられ、置換されたアリール基の具体例としては、
例えば、p−カルボキシフェニル基、p−N,N−ジメ
チルアミノフェニル基、p−モルフォリノフェニル基、
p−メトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル
基、3,4−メチレンジオキシフェニル基、3−クロロ
フェニル基、p−ニトロフェニル基等の各基が挙げら
れ、置換された複素環基の具体例としては、例えば、5
−クロロ−2−ピリジル基、5−エトキシカルボニル−
2−ピリジル基、5−カルバモイル−2−ピリジル等の
各基が挙げられる。
【0053】W21とW22、W23とW24、W31とW32、W
33とW34が各々、互いに連結して形成することができる
縮合環としては、例えば、5員、6員の飽和又は不飽和
の縮合炭素環が挙げられる。これらの縮合環上には任意
の位置に置換基を有することができ、これらの置換基と
しては前述の脂肪族基に置換できる基で説明した基が挙
げられる。
33とW34が各々、互いに連結して形成することができる
縮合環としては、例えば、5員、6員の飽和又は不飽和
の縮合炭素環が挙げられる。これらの縮合環上には任意
の位置に置換基を有することができ、これらの置換基と
しては前述の脂肪族基に置換できる基で説明した基が挙
げられる。
【0054】V21〜V29、V31〜V33で各々、示される
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられ、アミノ基としては置換、非置
換のものを含み、例えば、アミノ基、ジメチルアミノ
基、ジフェニルアミノ基、メチル−フェニルアミノ基等
が挙げられ、アルキルチオ基としては例えば、メチルチ
オ基、エチルチオ基、ベンジルチオ基等が挙げられ、ア
リールチオ基としては置換、非置換のものを含み、例え
ば、フェニルチオ基、m−フルオロフェニルチオ基等の
基が挙げられ、低級アルキル基としては炭素数5以下の
直鎖、分岐の基であり、具体的には、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル
基等が挙げられる。低級アルコキシル基としては炭素原
子数4以下の基であり、具体的にはメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、iso−プロポキシ基等の基が挙
げられ、アリール基としては置換、非置換のものを含
み、例えば、フェニル基、2−ナフチル基、1−ナフチ
ル基、o−トリル基、o−メトキシフェニル基、m−ク
ロロフェニル基、m−ブロモフェニル基、p−トリル
基、p−エトキシフェニル基等の基が挙げられ、アリー
ルオキシ基としては、置換、非置換のものを含み、具体
的にはフェノキシ基、p−トリルオキシ基、m−カルボ
キシフェニルオキシ基等の基があげられ、複素環基とし
ては置換、非置換のものを含み、例えば、2−フリル
基、5−メチル−2−フリル基、2−チエニル基、2−
イミダゾリル基、2−メチル−1−イミダゾリル基、4
−フェニル−2−チアゾリル基、5−ヒドロキシ−2−
ベンゾチアゾリル基、2−ピリジル基、1−ピロリル基
等の基が挙げられる。
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられ、アミノ基としては置換、非置
換のものを含み、例えば、アミノ基、ジメチルアミノ
基、ジフェニルアミノ基、メチル−フェニルアミノ基等
が挙げられ、アルキルチオ基としては例えば、メチルチ
オ基、エチルチオ基、ベンジルチオ基等が挙げられ、ア
リールチオ基としては置換、非置換のものを含み、例え
ば、フェニルチオ基、m−フルオロフェニルチオ基等の
基が挙げられ、低級アルキル基としては炭素数5以下の
直鎖、分岐の基であり、具体的には、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル
基等が挙げられる。低級アルコキシル基としては炭素原
子数4以下の基であり、具体的にはメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、iso−プロポキシ基等の基が挙
げられ、アリール基としては置換、非置換のものを含
み、例えば、フェニル基、2−ナフチル基、1−ナフチ
ル基、o−トリル基、o−メトキシフェニル基、m−ク
ロロフェニル基、m−ブロモフェニル基、p−トリル
基、p−エトキシフェニル基等の基が挙げられ、アリー
ルオキシ基としては、置換、非置換のものを含み、具体
的にはフェノキシ基、p−トリルオキシ基、m−カルボ
キシフェニルオキシ基等の基があげられ、複素環基とし
ては置換、非置換のものを含み、例えば、2−フリル
基、5−メチル−2−フリル基、2−チエニル基、2−
イミダゾリル基、2−メチル−1−イミダゾリル基、4
−フェニル−2−チアゾリル基、5−ヒドロキシ−2−
ベンゾチアゾリル基、2−ピリジル基、1−ピロリル基
等の基が挙げられる。
【0055】これらの基にはフェニル基、ハロゲン原
子、アルコキシル基、ヒドロキシル基等の基が置換でき
る。
子、アルコキシル基、ヒドロキシル基等の基が置換でき
る。
【0056】又、V21とV23、V22とV24、V23と
V25、V24とV26、V25とV27、V26とV28、V27とV
29及びV31とV33の間で結合して形成される5員〜7員
の環としては、例えば、シクロペンテン環、シクロヘキ
セン環、シクロヘプテン環、デカリン環等が挙げられ、
これらの環にはRで挙げた低級アルキル基、低級アルコ
キシル基、アリール基が置換できる。
V25、V24とV26、V25とV27、V26とV28、V27とV
29及びV31とV33の間で結合して形成される5員〜7員
の環としては、例えば、シクロペンテン環、シクロヘキ
セン環、シクロヘプテン環、デカリン環等が挙げられ、
これらの環にはRで挙げた低級アルキル基、低級アルコ
キシル基、アリール基が置換できる。
【0057】前記一般式〔3〕、〔4〕で示される化合
物において、カチオン或いはアニオンの電荷を有する基
が置換されている場合には各々、分子内の電荷が中和す
るように当量のアニオン或いはカチオンで対イオンが形
成される。例えば、X21、X31で各々、示される分子内
の電荷を中和するに必要なイオンに於いてカチオンの具
体例としては、プロトン、有機アンモニウムイオン(例
えば、トリエチルアンモニウム、トリエタノールアンモ
ニウム、ピリジニウム等の各イオン)、無機カチオン
(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等の各カチ
オン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例え
ば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩
素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチ
ル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イ
オン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフ
ルオロりん酸イオン、等が挙げられる。
物において、カチオン或いはアニオンの電荷を有する基
が置換されている場合には各々、分子内の電荷が中和す
るように当量のアニオン或いはカチオンで対イオンが形
成される。例えば、X21、X31で各々、示される分子内
の電荷を中和するに必要なイオンに於いてカチオンの具
体例としては、プロトン、有機アンモニウムイオン(例
えば、トリエチルアンモニウム、トリエタノールアンモ
ニウム、ピリジニウム等の各イオン)、無機カチオン
(例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等の各カチ
オン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例え
ば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩
素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン、硫酸イオン、メチ
ル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンスルホン酸イ
オン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフ
ルオロりん酸イオン、等が挙げられる。
【0058】以下に、一般式〔3〕または〔4〕で表さ
れる感光色素或いは分光増感色素の代表的な化合物例を
示すが、本発明はこれらに限定されない
れる感光色素或いは分光増感色素の代表的な化合物例を
示すが、本発明はこれらに限定されない
【0059】
【化11】
【0060】
【化12】
【0061】
【化13】
【0062】
【化14】
【0063】
【化15】
【0064】
【化16】
【0065】上記の赤外感光色素或いは分光増感色素
は、例えばエフ・エム・ハーマー著、The Chem
istry of Heterocylic Comp
ounds第18巻、The Cyanine Dye
s and RelatedCompounds(A.
Weissberger ed.Interscien
ce社刊、New York 1964年)、特開平3
−138638号、同10−73900号、特表平9−
510022号、米国特許第2,734,900号、英
国特許第774,779号明細書に記載の方法によって
容易に合成することができる。具体的には特願平10−
269843号等に製造方法が記載されている。
は、例えばエフ・エム・ハーマー著、The Chem
istry of Heterocylic Comp
ounds第18巻、The Cyanine Dye
s and RelatedCompounds(A.
Weissberger ed.Interscien
ce社刊、New York 1964年)、特開平3
−138638号、同10−73900号、特表平9−
510022号、米国特許第2,734,900号、英
国特許第774,779号明細書に記載の方法によって
容易に合成することができる。具体的には特願平10−
269843号等に製造方法が記載されている。
【0066】本発明において感光色素は単独で用いても
よいが、2種以上の感光色素を組み合わせて用いること
もできる。本発明の感光色素は単独で用いた場合、及び
組み合わせた場合には、合計で熱現像感光材料1m2当
たり各々、5×10-7〜1.5×10-6モルが好まし
く、更に好ましくは、8×10-7〜1.4×10-6モル
の割合で含有される。
よいが、2種以上の感光色素を組み合わせて用いること
もできる。本発明の感光色素は単独で用いた場合、及び
組み合わせた場合には、合計で熱現像感光材料1m2当
たり各々、5×10-7〜1.5×10-6モルが好まし
く、更に好ましくは、8×10-7〜1.4×10-6モル
の割合で含有される。
【0067】次に、本発明に係る前記一般式〔5〕で表
されるメルカプト化合物について説明する。
されるメルカプト化合物について説明する。
【0068】一般式〔5〕 Z−SM 式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Z
は飽和、不飽和の鎖式脂肪族基、脂環式基、芳香族基を
表しており、1個以上の窒素原子、硫黄原子、酸素原
子、セレン原子または、テルル原子を有することが好ま
しく、さらには芳香環または縮合芳香環であることが好
ましい。具体的には、ベンズイミダゾール、ナフトイミ
ダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベン
ズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾ
ール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリ
ン、またはキナゾリンであるがこれに限定されない。
は飽和、不飽和の鎖式脂肪族基、脂環式基、芳香族基を
表しており、1個以上の窒素原子、硫黄原子、酸素原
子、セレン原子または、テルル原子を有することが好ま
しく、さらには芳香環または縮合芳香環であることが好
ましい。具体的には、ベンズイミダゾール、ナフトイミ
ダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベン
ズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾ
ール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリ
ン、またはキナゾリンであるがこれに限定されない。
【0069】なお、有機酸銀塩及び/またはハロゲン化
銀粒子の分散物中に含有させたときに実質的に上記記載
の一般式〔5〕で表されるメルカプト化合物を生成する
ジスルフィド化合物も本発明において好ましく用いられ
る。
銀粒子の分散物中に含有させたときに実質的に上記記載
の一般式〔5〕で表されるメルカプト化合物を生成する
ジスルフィド化合物も本発明において好ましく用いられ
る。
【0070】中でも、下記の一般式(5−A)で表せる
ジスルフィド化合物が特に好ましい例として挙げられ
る。
ジスルフィド化合物が特に好ましい例として挙げられ
る。
【0071】一般式(5−A) Z1−S−S−Z2 式中のZ1、Z2は上記一般式〔5〕のZと同義である。
【0072】上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原
子(例えば、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、アミ
ノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上
の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有する
もの)及びアルコキシル基(例えば、1個以上の炭素原
子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)か
らなる群から選ばれる置換基を有してもよい。
子(例えば、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、アミ
ノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上
の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有する
もの)及びアルコキシル基(例えば、1個以上の炭素原
子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)か
らなる群から選ばれる置換基を有してもよい。
【0073】以下に、一般式〔5〕で表されるメルカプ
ト化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定され
ない。
ト化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定され
ない。
【0074】 5−1 2−メルカプトベンズイミダゾ−ル 5−2 2―メルカプトベンズオキサゾール 5−3 2−メルカプトベンゾチアゾール 5−4 5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾール 5−5 6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾール 5−6 2,2′−ジチオビス(ベンゾチアゾール) 5−7 3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール 5−8 4,5−ジフェニル−2−イミダゾールチオール 5−9 2−メルカプトイミダゾール 5−10 1−エチル−2−メルカプトベンズイミダゾール 5−11 2−メルカプトキノリン 5−12 8−メルカプトプリン 5−13 2−メルカプト−4(3H)−キナゾリノン 5−14 7−トリフルオロメチル−4−キノリンチオール 5−15 2,3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオール 5−16 4−アミノ−6−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジンモノヒドレ ート 5−17 2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール 5−18 3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール 5−19 4−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン 5−20 2−メルカプトピリミジン 5−21 4,6−ジアミノ−メルカプトピリミジン 5−22 2−メルカプト−4−メチルピリミジンヒドロクロリド 5−23 3−メルカプト−5−フェニル−1,2,4−トリアゾール 5−24 2−メルカプト−4−フェニルオキサゾール 前記一般式〔5〕で表される化合物は、熱現像感光材料
1m2当たり、好ましくは、5×10-5〜1.5×10
-4モルの範囲で用いられるが、特に好ましくは、7×1
0-5〜1×10-4モルの範囲である。
1m2当たり、好ましくは、5×10-5〜1.5×10
-4モルの範囲で用いられるが、特に好ましくは、7×1
0-5〜1×10-4モルの範囲である。
【0075】本発明に係る感光性ハロゲン化銀は、シン
グルジェットもしくはダブルジェット法などの写真技術
の分野で公知の任意の方法により、例えばアンモニア法
乳剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法でも調製でき
る。この様に予め調製し、次いで本発明に用いられる他
の成分と混合して、組成物中に導入する。この場合に感
光性ハロゲン化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるた
め、例えば感光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポ
リマーとして米国特許第3,706,564号、同第
3,706,565号、同第3,713,833号、同
第3,748,143号、英国特許第1,362,97
0号等に記載されたポリビニルアセタール誘導体などの
ゼラチン以外のポリマーを用いる手段や、英国特許第
1,354,186号に記載されているような感光性ハ
ロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、または
米国特許第4,076,539号に記載されているよう
に感光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製
することによって保護ポリマーの使用を省略する手段等
の各手段を適用することが出来る。
グルジェットもしくはダブルジェット法などの写真技術
の分野で公知の任意の方法により、例えばアンモニア法
乳剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法でも調製でき
る。この様に予め調製し、次いで本発明に用いられる他
の成分と混合して、組成物中に導入する。この場合に感
光性ハロゲン化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるた
め、例えば感光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポ
リマーとして米国特許第3,706,564号、同第
3,706,565号、同第3,713,833号、同
第3,748,143号、英国特許第1,362,97
0号等に記載されたポリビニルアセタール誘導体などの
ゼラチン以外のポリマーを用いる手段や、英国特許第
1,354,186号に記載されているような感光性ハ
ロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手段、または
米国特許第4,076,539号に記載されているよう
に感光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製
することによって保護ポリマーの使用を省略する手段等
の各手段を適用することが出来る。
【0076】本発明に係る感光性ハロゲン化銀は、光セ
ンサーとして機能するものであり、画像形成後の白濁を
低く抑える為又、良好な画質を得るためには粒子サイズ
が小さいものが好ましい。平均粒子径としては、0.1
μm以下、好ましくは0.01μm〜0.1μm、特に
0.02μm〜0.08μmが好ましい。
ンサーとして機能するものであり、画像形成後の白濁を
低く抑える為又、良好な画質を得るためには粒子サイズ
が小さいものが好ましい。平均粒子径としては、0.1
μm以下、好ましくは0.01μm〜0.1μm、特に
0.02μm〜0.08μmが好ましい。
【0077】又、感光性ハロゲン化銀の形状としては特
に制限はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶で
ない球状、棒状、平板状等の粒子がある。またはロゲン
化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、
塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであっ
てもよいが、好ましくは沃臭化銀である。本発明におい
て、感光性ハロゲン化銀の量は銀として0.05〜0.
15g/m2の範囲が好ましく、特に好ましくは0.0
8〜0.12g/m2の範囲である。
に制限はなく、立方体、八面体の所謂正常晶や正常晶で
ない球状、棒状、平板状等の粒子がある。またはロゲン
化銀組成としても特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、
塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであっ
てもよいが、好ましくは沃臭化銀である。本発明におい
て、感光性ハロゲン化銀の量は銀として0.05〜0.
15g/m2の範囲が好ましく、特に好ましくは0.0
8〜0.12g/m2の範囲である。
【0078】上記の各種方法によって調製される感光性
ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、白金
化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、クロ
ム化合物またはこれらの組み合わせによって化学増感す
る事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば、米国特許第4,036,650号、英国特
許第1,518,850号、特開昭51−22430
号、同51−78319号、同51−81124号等に
記載されている。またはハロゲン化銀形成成分により有
機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際に、米
国特許第3,980,482号に記載されているよう
に、増感を達成するために低分子量のアミド化合物を共
存させてもよい。
ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、白金
化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、クロ
ム化合物またはこれらの組み合わせによって化学増感す
る事が出来る。この化学増感の方法及び手順について
は、例えば、米国特許第4,036,650号、英国特
許第1,518,850号、特開昭51−22430
号、同51−78319号、同51−81124号等に
記載されている。またはハロゲン化銀形成成分により有
機銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際に、米
国特許第3,980,482号に記載されているよう
に、増感を達成するために低分子量のアミド化合物を共
存させてもよい。
【0079】これらの感光性ハロゲン化銀には、照度不
軌や、階調調整の為に元素周期表の6族から10族に属
する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、Os、Fe
等のイオン、その錯体または錯イオンを含有させること
が出来る。特に錯イオンとして添加するのが好ましく、
例えば照度不軌のためにIrCl6 2-等のIr錯イオン
を添加してもよい。
軌や、階調調整の為に元素周期表の6族から10族に属
する金属、例えばRh、Ru、Re、Ir、Os、Fe
等のイオン、その錯体または錯イオンを含有させること
が出来る。特に錯イオンとして添加するのが好ましく、
例えば照度不軌のためにIrCl6 2-等のIr錯イオン
を添加してもよい。
【0080】本発明に係る有機銀塩は還元可能な銀源で
あり、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中でも
長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂
肪族カルボン酸及び含窒素複素環化合物の銀塩が好まし
い。配位子が銀イオンに対する総安定度常数として4.
0〜10.0の値をもつような有機または無機の錯体も
好ましい。これら好適な銀塩の例としては、Resea
rch Disclosure 第17029及び29
963に記載されており、以下のものが挙げられる。
あり、有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特にこの中でも
長鎖の(炭素数10〜30、好ましくは15〜25)脂
肪族カルボン酸及び含窒素複素環化合物の銀塩が好まし
い。配位子が銀イオンに対する総安定度常数として4.
0〜10.0の値をもつような有機または無機の錯体も
好ましい。これら好適な銀塩の例としては、Resea
rch Disclosure 第17029及び29
963に記載されており、以下のものが挙げられる。
【0081】有機酸の銀塩、例えば、没食子酸、蓚酸、
ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩。銀のカルボキシアルキルチオ
尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ
尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメ
チルチオ尿素等の銀塩、アルデヒドとヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸(例えば、アルデヒド誘導体(ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)、
ヒドロキシ置換酸誘導体(例えば、サリチル酸、安息香
酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサ
リチル酸))とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯体、
チオン誘導体の銀塩または錯体、例えば、3−(2−カ
ルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾ
リン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チ
アゾリン−2−チオン等の銀塩乃至錯体、イミダゾー
ル、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール
及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチ
オ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾール
から選択される窒素酸と銀との錯体または塩、サッカリ
ン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩、及びメ
ルカプタン誘導体の銀塩。これらの中、好ましい銀塩と
してはベヘン酸銀、アラキジン酸銀またはステアリン酸
銀である。
ベヘン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、パルミチン
酸、ラウリン酸等の銀塩。銀のカルボキシアルキルチオ
尿素塩、例えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ
尿素、1−(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメ
チルチオ尿素等の銀塩、アルデヒドとヒドロキシ置換芳
香族カルボン酸(例えば、アルデヒド誘導体(ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)、
ヒドロキシ置換酸誘導体(例えば、サリチル酸、安息香
酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサ
リチル酸))とのポリマー反応生成物の銀塩乃至錯体、
チオン誘導体の銀塩または錯体、例えば、3−(2−カ
ルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−チアゾ
リン−2−チオン、及び3−カルボキシメチル−4−チ
アゾリン−2−チオン等の銀塩乃至錯体、イミダゾー
ル、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール
及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチ
オ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾール
から選択される窒素酸と銀との錯体または塩、サッカリ
ン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩、及びメ
ルカプタン誘導体の銀塩。これらの中、好ましい銀塩と
してはベヘン酸銀、アラキジン酸銀またはステアリン酸
銀である。
【0082】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールダブルジェットにより、前
記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作製
する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールダブルジェットにより、前
記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作製
する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。
【0083】本発明においては、有機銀塩は平均粒径が
2μm以下であり、かつ単分散であることが好ましい。
有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球
状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒
子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒
径は好ましくは0.05μm〜1.5μm、特に0.0
5μm〜1.0μmが好ましい。好ましくは単分散度が
1〜30%である。単分散度は下記で定義される。
2μm以下であり、かつ単分散であることが好ましい。
有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球
状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒
子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒
径は好ましくは0.05μm〜1.5μm、特に0.0
5μm〜1.0μmが好ましい。好ましくは単分散度が
1〜30%である。単分散度は下記で定義される。
【0084】単分散度=((粒径の標準偏差)/(平均
粒径))×100 また、本発明においては、有機銀塩は平板状粒子が全有
機銀の60%以上有することが好ましい。本発明におい
て平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる下記式
で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以上のもの
をいう。
粒径))×100 また、本発明においては、有機銀塩は平板状粒子が全有
機銀の60%以上有することが好ましい。本発明におい
て平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる下記式
で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以上のもの
をいう。
【0085】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀塩をこれらの形状にするためには、前記有機銀結
晶をバインダや界面活性剤などのボールミルなどで分散
粉砕することで得られる。この範囲にすることで濃度の
高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られる。本
発明においては感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲ
ン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換算して1m2当
たり、0.5g以上2.2g以下であることが好まし
い。この範囲にすることで硬調な画像が得られる。ま
た、銀総量に対するハロゲン化銀の量は重量比で50%
以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは0.1%
〜15%の間である。
晶をバインダや界面活性剤などのボールミルなどで分散
粉砕することで得られる。この範囲にすることで濃度の
高く、かつ画像保存性に優れた感光材料が得られる。本
発明においては感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲ
ン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換算して1m2当
たり、0.5g以上2.2g以下であることが好まし
い。この範囲にすることで硬調な画像が得られる。ま
た、銀総量に対するハロゲン化銀の量は重量比で50%
以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは0.1%
〜15%の間である。
【0086】本発明の熱現像感光材料に含有されている
有機銀塩粒子の調製方法に制限はないが、好ましくは下
記のような水系での調製方法が用いられる。水系の母液
中で形成され、多くの場合予め形成されたハロゲン化銀
粒子とここで混合される。最も一般的な製造過程の概略
としては、この後遠心脱水等により母液を除きスラリー
及び/またはウエットケーキを得る。次いで乾燥過程を
経てドライ粉末を形成し、有機溶媒及び/またはバイン
ダ中で分散され、調液の後、支持体に塗布される。本発
明で適用される有機銀粉末の乾燥装置には特に限定はな
く、あらゆる装置を使用することができる。本発明にお
いて用いられる乾燥装置としては、真空乾燥機、凍結乾
燥機、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式乾燥機、噴霧乾燥
機等があるが、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式乾燥機が
好ましく用いられる。熱風温度としては70℃以下が好
ましく、更には40℃〜60℃が好ましい。この際、乾
燥有機銀粉末の含有水分量は0.3%以下であることが
好ましい。更には、0.1%以下であることが好まし
い。
有機銀塩粒子の調製方法に制限はないが、好ましくは下
記のような水系での調製方法が用いられる。水系の母液
中で形成され、多くの場合予め形成されたハロゲン化銀
粒子とここで混合される。最も一般的な製造過程の概略
としては、この後遠心脱水等により母液を除きスラリー
及び/またはウエットケーキを得る。次いで乾燥過程を
経てドライ粉末を形成し、有機溶媒及び/またはバイン
ダ中で分散され、調液の後、支持体に塗布される。本発
明で適用される有機銀粉末の乾燥装置には特に限定はな
く、あらゆる装置を使用することができる。本発明にお
いて用いられる乾燥装置としては、真空乾燥機、凍結乾
燥機、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式乾燥機、噴霧乾燥
機等があるが、熱風加熱式箱型乾燥機、気流式乾燥機が
好ましく用いられる。熱風温度としては70℃以下が好
ましく、更には40℃〜60℃が好ましい。この際、乾
燥有機銀粉末の含有水分量は0.3%以下であることが
好ましい。更には、0.1%以下であることが好まし
い。
【0087】上記記載の含有水分量は、「化学薬品の水
分測定方法」(JIS K 0068)を参考に、カー
ルフィッシャー法により測定することが出来る。
分測定方法」(JIS K 0068)を参考に、カー
ルフィッシャー法により測定することが出来る。
【0088】本発明の熱現像感光材料に用いられる還元
剤としては、一般に知られているものが挙げられ、例え
ば、フェノール誘導体、2個以上のフェノール基を有す
るポリフェノール誘導体、ナフトール誘導体、ビスナフ
トール誘導体、2個以上の水酸基を有するポリヒドロキ
シベンゼン誘導体、2個以上の水酸基を有するポリヒド
ロキシナフタレン誘導体、アスコルビン酸誘導体、3−
ピラゾリドン誘導体、ピラゾリン−5−オン誘導体、ピ
ラゾリン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドロキ
シルアミン誘導体、ハイドロキノンモノエーテル誘導
体、ヒドロオキサミン酸誘導体、ヒドラジド誘導体、ア
ミドオキシム誘導体、N−ヒドロキシ尿素誘導体等があ
り、さらに詳しくは例えば、米国特許第3,615,5
33号、同第3,679,426号、同第3,672,
904号、同第3,751,252号、同第3,78
2,949号、同第3,801,321号、同第3,7
94,488号、同第3893,863号、同第3,8
87,376号、同第3,770,448号、同第3,
819,382号、同第3,773,512号、同第
3,839,048号、同第3,887,378号、同
第4,009,039号、同第4,021,240号、
英国特許第1,486,148号若しくはベルギー特許
第786,086号及び特開昭50−36143号、同
50−36110号、同50−116023号、同50
−99719号、同50−140113号、同51−5
1933号、同51−23721号、同52−8472
7号若しくは特公昭51−35851号に具体的に例示
された還元剤があり、本発明はこのような公知の還元剤
の中から適宜選択して使用することが出来る。選択方法
としては、実際に熱現像感光材料をつくってみてその写
真性能を評価する事により使用した還元剤の優劣を調べ
る方法が最も簡便である。上記の還元剤の中で、有機銀
塩として脂肪族カルボン酸銀塩を使用する場合に好まし
い還元剤としては、2個以上のフェノール基がアルキレ
ン基または硫黄によって連結されたポリフェノール誘導
体、特にフェノール基のヒドロキシ置換位置に隣接した
位置の少なくとも一つにアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル
基等)またはアシル基(例えばアセチル基、プロピオニ
ル基等)が置換したフェノール基の2個以上がアルキレ
ン基または硫黄によって連結されたポリフェノール誘導
体、例えば1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)メタン、(2−
ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)−
(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メタン、6,
6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジ−t−ブチルフ
ェノール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2−t−
ブチル−4−メチルフェノール)、6,6′−ベンジリ
デン−ビス(2,4−ジメチルフェノール)、1,1−
ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
2−メチルプロパン、1,1,5,5−テトラキス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2,4−
エチルペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロパ
ン等の米国特許第3,589,903号、同第4,02
1,249号若しくは英国特許第1,486,148号
及び特開昭51−51933号、同50−36110
号、同50−116023号、同52−84727号若
しくは特公昭51−35727号に記載されたポリフェ
ノール化合物、米国特許第3,672,904号に記載
されたビスナフトール誘導体、例えば、2,2′−ジヒ
ドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ
−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、
6,6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,
1′−ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチ
ル)メタン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒド
ロキシ−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,
801,321号に記載されているようなスルホンアミ
ドフェノールまたはスルホンアミドナフトール誘導体、
例えば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−
ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ
−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼ
ンスルホンアミドナフトール等を挙げることが出来る。
剤としては、一般に知られているものが挙げられ、例え
ば、フェノール誘導体、2個以上のフェノール基を有す
るポリフェノール誘導体、ナフトール誘導体、ビスナフ
トール誘導体、2個以上の水酸基を有するポリヒドロキ
シベンゼン誘導体、2個以上の水酸基を有するポリヒド
ロキシナフタレン誘導体、アスコルビン酸誘導体、3−
ピラゾリドン誘導体、ピラゾリン−5−オン誘導体、ピ
ラゾリン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドロキ
シルアミン誘導体、ハイドロキノンモノエーテル誘導
体、ヒドロオキサミン酸誘導体、ヒドラジド誘導体、ア
ミドオキシム誘導体、N−ヒドロキシ尿素誘導体等があ
り、さらに詳しくは例えば、米国特許第3,615,5
33号、同第3,679,426号、同第3,672,
904号、同第3,751,252号、同第3,78
2,949号、同第3,801,321号、同第3,7
94,488号、同第3893,863号、同第3,8
87,376号、同第3,770,448号、同第3,
819,382号、同第3,773,512号、同第
3,839,048号、同第3,887,378号、同
第4,009,039号、同第4,021,240号、
英国特許第1,486,148号若しくはベルギー特許
第786,086号及び特開昭50−36143号、同
50−36110号、同50−116023号、同50
−99719号、同50−140113号、同51−5
1933号、同51−23721号、同52−8472
7号若しくは特公昭51−35851号に具体的に例示
された還元剤があり、本発明はこのような公知の還元剤
の中から適宜選択して使用することが出来る。選択方法
としては、実際に熱現像感光材料をつくってみてその写
真性能を評価する事により使用した還元剤の優劣を調べ
る方法が最も簡便である。上記の還元剤の中で、有機銀
塩として脂肪族カルボン酸銀塩を使用する場合に好まし
い還元剤としては、2個以上のフェノール基がアルキレ
ン基または硫黄によって連結されたポリフェノール誘導
体、特にフェノール基のヒドロキシ置換位置に隣接した
位置の少なくとも一つにアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル
基等)またはアシル基(例えばアセチル基、プロピオニ
ル基等)が置換したフェノール基の2個以上がアルキレ
ン基または硫黄によって連結されたポリフェノール誘導
体、例えば1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−
メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)メタン、(2−
ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)−
(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メタン、6,
6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジ−t−ブチルフ
ェノール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2−t−
ブチル−4−メチルフェノール)、6,6′−ベンジリ
デン−ビス(2,4−ジメチルフェノール)、1,1−
ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−
2−メチルプロパン、1,1,5,5−テトラキス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2,4−
エチルペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,
5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)プロパ
ン等の米国特許第3,589,903号、同第4,02
1,249号若しくは英国特許第1,486,148号
及び特開昭51−51933号、同50−36110
号、同50−116023号、同52−84727号若
しくは特公昭51−35727号に記載されたポリフェ
ノール化合物、米国特許第3,672,904号に記載
されたビスナフトール誘導体、例えば、2,2′−ジヒ
ドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ
−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、
6,6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,
1′−ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチ
ル)メタン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒド
ロキシ−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,
801,321号に記載されているようなスルホンアミ
ドフェノールまたはスルホンアミドナフトール誘導体、
例えば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−
ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ
−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼ
ンスルホンアミドナフトール等を挙げることが出来る。
【0089】本発明の熱現像感光材料に使用される還元
剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤に
よって変化するが、一般的には5×10-4モル〜1×1
0-1モル/m2で、好ましくは4×10-3モル/m2〜8
×10-3モル/m2の範囲である。又この範囲内におい
て、上述した還元剤は2種以上併用されてもよい。
剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤に
よって変化するが、一般的には5×10-4モル〜1×1
0-1モル/m2で、好ましくは4×10-3モル/m2〜8
×10-3モル/m2の範囲である。又この範囲内におい
て、上述した還元剤は2種以上併用されてもよい。
【0090】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
は透明または半透明で一般に無色であり、天然ポリマー
や合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィルムを形
成する媒体、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リビニルピロリドン、カゼイン、澱粉、ポリアクリル
酸、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸、ポ
リ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、
コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチ
レン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール誘導体、例
えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、
ポリエステル誘導体、ポリウレタン誘導体、フェノキシ
樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド誘導体、ポ
リカーボネート誘導体、ポリビニルアセテート誘導体、
セルロースエステル誘導体、ポリアミド等があり、親水
性でも非親水性でもよい。しかしながら、これらのバイ
ンダの中でも特に好ましいのは、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルブチ
ラールのような非水溶性のポリマーであり、この中で特
に好ましいのはポリビニルブチラールである。本発明に
おいては、感光層のバインダ量が1.5〜6g/m2で
あることが好ましい。更に好ましくは1.7〜5g/m
2である。
は透明または半透明で一般に無色であり、天然ポリマー
や合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィルムを形
成する媒体、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リビニルピロリドン、カゼイン、澱粉、ポリアクリル
酸、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸、ポ
リ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、
コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチ
レン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール誘導体、例
えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、
ポリエステル誘導体、ポリウレタン誘導体、フェノキシ
樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド誘導体、ポ
リカーボネート誘導体、ポリビニルアセテート誘導体、
セルロースエステル誘導体、ポリアミド等があり、親水
性でも非親水性でもよい。しかしながら、これらのバイ
ンダの中でも特に好ましいのは、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルブチ
ラールのような非水溶性のポリマーであり、この中で特
に好ましいのはポリビニルブチラールである。本発明に
おいては、感光層のバインダ量が1.5〜6g/m2で
あることが好ましい。更に好ましくは1.7〜5g/m
2である。
【0091】本発明に係る平衡含水率とは、「25℃、
60%RHでの平衡含水率(D)」とは、25℃、60
%RHの雰囲気下で調湿平衡にある熱現像材料の重量W
と該熱現像材料の水分含量wを用いて以下の式で表され
る。
60%RHでの平衡含水率(D)」とは、25℃、60
%RHの雰囲気下で調湿平衡にある熱現像材料の重量W
と該熱現像材料の水分含量wを用いて以下の式で表され
る。
【0092】D(重量%)=(w/W)×100 本発明では、熱現像材料の25℃、60%RHでの平衡
含水率を0.005重量%以上、2重量%以下にするこ
とが好ましいが、さらに好ましくは0.01重量%〜1
重量%である。平衡含水率の測定としては、例えば得ら
れた熱現像材料を25℃、60%RHの環境下で24時
間調湿した後、同雰囲気下で、フィルム面積として4
6.3cm2を切り出し重量を測定した後、これを5m
m程度に細かく刻んで専用バイアル瓶に収納しセプタム
とアルミキャップで密閉した後、ヒューレット・パッカ
ード社製ヘッドスペースサンプラーHP7694型にセ
ットし、ヘッドスペースサンプラー加熱条件:120
℃、20分で蒸発した水分をカールフィッシャー法にて
定量する方法がある。
含水率を0.005重量%以上、2重量%以下にするこ
とが好ましいが、さらに好ましくは0.01重量%〜1
重量%である。平衡含水率の測定としては、例えば得ら
れた熱現像材料を25℃、60%RHの環境下で24時
間調湿した後、同雰囲気下で、フィルム面積として4
6.3cm2を切り出し重量を測定した後、これを5m
m程度に細かく刻んで専用バイアル瓶に収納しセプタム
とアルミキャップで密閉した後、ヒューレット・パッカ
ード社製ヘッドスペースサンプラーHP7694型にセ
ットし、ヘッドスペースサンプラー加熱条件:120
℃、20分で蒸発した水分をカールフィッシャー法にて
定量する方法がある。
【0093】本発明に係る熱現像感光材料においては、
感光材料中の水分が感光材料中の化合物の分解、劣化反
応等を促すことがあり、その結果、高カブリ化、低感度
化、画像の軟調化または色調劣化を将来することがあ
り、感光材料中の平衡含水率を上記記載のような範囲に
調整することにより、上記のような望ましくない現象を
抑制することが可能となり、本発明に記載の効果を更に
好ましく得ることが出来る。
感光材料中の水分が感光材料中の化合物の分解、劣化反
応等を促すことがあり、その結果、高カブリ化、低感度
化、画像の軟調化または色調劣化を将来することがあ
り、感光材料中の平衡含水率を上記記載のような範囲に
調整することにより、上記のような望ましくない現象を
抑制することが可能となり、本発明に記載の効果を更に
好ましく得ることが出来る。
【0094】本発明においては、熱現像感光材料の露光
はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、感光材
料の露光面と走査レーザ光のなす角が実質的に垂直にな
ることがないレーザ走査露光機を用いることが更に好ま
しい。ここで、「実質的に垂直になることがない」とは
レーザ走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは5
5度〜88度、より好ましくは60度〜86度、更に好
ましくは65度〜84度、最も好ましくは70度〜82
度であることをいう。レーザ光が、感光材料に走査され
るときの感光材料露光面でのビームスポット直径は、好
ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以
下である。これは、スポット径が小さい方がレーザ入射
角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。
なお、ビームスポット直径の下限は10μmである。こ
のようなレーザ走査露光を行うことにより干渉縞様のム
ラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じること
が出来る。
はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、感光材
料の露光面と走査レーザ光のなす角が実質的に垂直にな
ることがないレーザ走査露光機を用いることが更に好ま
しい。ここで、「実質的に垂直になることがない」とは
レーザ走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは5
5度〜88度、より好ましくは60度〜86度、更に好
ましくは65度〜84度、最も好ましくは70度〜82
度であることをいう。レーザ光が、感光材料に走査され
るときの感光材料露光面でのビームスポット直径は、好
ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以
下である。これは、スポット径が小さい方がレーザ入射
角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好ましい。
なお、ビームスポット直径の下限は10μmである。こ
のようなレーザ走査露光を行うことにより干渉縞様のム
ラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じること
が出来る。
【0095】また、本発明の熱現像感光材料の露光は縦
マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を
用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ
光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少す
る。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用す
る、高周波重畳をかける等の方法がよい。なお、縦マル
チとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光
波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上にな
るとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はない
が、通常60nm程度である。
マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を
用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ
光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少す
る。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用す
る、高周波重畳をかける等の方法がよい。なお、縦マル
チとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光
波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上にな
るとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はない
が、通常60nm程度である。
【0096】本発明においては、処理後に高濃度の画像
を得る観点から、熱現像の際、熱現像感光材料が、有機
溶媒を含有していることが好ましく、溶媒としては、例
えば、ケトン誘導体としてアセトン、イソフォロン、エ
チルアミルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等が挙げられる。アルコール誘導体としてメ
チルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル、イソブチルアルコール、ジアセトンアルコール、シ
クロヘキサノール、ベンジルアルコール等があげられ
る。グリコール誘導体としてエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ヘキシレングリコール等が挙げられる。
エーテルアルコール誘導体としてエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル等が挙げられる。エーテル誘導体としてエチルエ
ーテル、ジオキサン、イソプロピルエーテル等が挙げら
れる。エステル誘導体として酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸アミル、酢酸イソプロピル等が挙げられる。炭化水
素誘導体としてn−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
等が挙げられる。塩化物誘導体として塩化メチル、塩化
メチレン、クロロフォルム、ジクロルベンゼン等が挙げ
られる。アミン誘導体としてモノメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、
トリエチルアミン等が挙げられる。その他として水、ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ニトロメタン、ピ
リジン、トルイジン、テトラヒドロフラン、酢酸等が挙
げられる。但しこれらに限定されない。又、これらの溶
媒は、単独、又は、数種類組み合わせる事が出来る。
を得る観点から、熱現像の際、熱現像感光材料が、有機
溶媒を含有していることが好ましく、溶媒としては、例
えば、ケトン誘導体としてアセトン、イソフォロン、エ
チルアミルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等が挙げられる。アルコール誘導体としてメ
チルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル、イソブチルアルコール、ジアセトンアルコール、シ
クロヘキサノール、ベンジルアルコール等があげられ
る。グリコール誘導体としてエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ヘキシレングリコール等が挙げられる。
エーテルアルコール誘導体としてエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル等が挙げられる。エーテル誘導体としてエチルエ
ーテル、ジオキサン、イソプロピルエーテル等が挙げら
れる。エステル誘導体として酢酸エチル、酢酸ブチル、
酢酸アミル、酢酸イソプロピル等が挙げられる。炭化水
素誘導体としてn−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
等が挙げられる。塩化物誘導体として塩化メチル、塩化
メチレン、クロロフォルム、ジクロルベンゼン等が挙げ
られる。アミン誘導体としてモノメチルアミン、ジメチ
ルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、
トリエチルアミン等が挙げられる。その他として水、ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ニトロメタン、ピ
リジン、トルイジン、テトラヒドロフラン、酢酸等が挙
げられる。但しこれらに限定されない。又、これらの溶
媒は、単独、又は、数種類組み合わせる事が出来る。
【0097】本発明においては、予め調製された有機銀
塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシート材
料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一
部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。この
ようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有効に
接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀形成
成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を生成
しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該当し
有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事が出
来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混入し
必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン化銀
に特有のピークがあるかを調べるものである。かかる試
験によって有効であることが確かめられたハロゲン化銀
形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハラ
イド誘導体、ハロゲン化炭化水素誘導体、N−ハロゲン
化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例
については米国特許第4,009,039号、同第3,
457,075号、同第4,003,749号、英国特
許第1,498,956号及び特開昭53−27027
号、同53−25420号等に詳説されるが以下にその
一例を示す。
塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシート材
料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩の一
部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。この
ようにして形成されたハロゲン化銀は有機銀塩と有効に
接触しており好ましい作用を呈する。ハロゲン化銀形成
成分とは有機銀塩と反応して感光性ハロゲン化銀を生成
しうる化合物であり、どのような化合物がこれに該当し
有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別する事が出
来る。即ち、有機銀塩と試験されるべき化合物を混入し
必要ならば加熱した後にX線回折法によりハロゲン化銀
に特有のピークがあるかを調べるものである。かかる試
験によって有効であることが確かめられたハロゲン化銀
形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハラ
イド誘導体、ハロゲン化炭化水素誘導体、N−ハロゲン
化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例
については米国特許第4,009,039号、同第3,
457,075号、同第4,003,749号、英国特
許第1,498,956号及び特開昭53−27027
号、同53−25420号等に詳説されるが以下にその
一例を示す。
【0098】(1)無機ハロゲン化物:例えばMXnで
表されるハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び
金属原子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、M
が金属原子の時はその原子価と同じ数値を表す。金属原
子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリ
ウム、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロ
ム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セ
リウム等がある)。又、臭素水などのハロゲン分子も有
効である。
表されるハロゲン化物(ここでMは、H、NH4、及び
金属原子を表し、nはMがH及びNH4の時は1を、M
が金属原子の時はその原子価と同じ数値を表す。金属原
子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリ
ウム、亜鉛、カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロ
ム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セ
リウム等がある)。又、臭素水などのハロゲン分子も有
効である。
【0099】(2)オニウムハライド誘導体:例えばト
リメチルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチ
ルジメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジ
ルアンモニウムブロマイドの様な第4級アンモニウムハ
ライド、テトラエチルフォスフォニウムブロマイドの様
な第4級フォスフォニウムハライド、トリメチルスルフ
ォニウムアイオダイドの様な第3級スルフォニウムハラ
イドがある。
リメチルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチ
ルジメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジ
ルアンモニウムブロマイドの様な第4級アンモニウムハ
ライド、テトラエチルフォスフォニウムブロマイドの様
な第4級フォスフォニウムハライド、トリメチルスルフ
ォニウムアイオダイドの様な第3級スルフォニウムハラ
イドがある。
【0100】(3)ハロゲン化炭化水素誘導体:例えば
ヨードフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブ
ロム−2−メチルプロパン等。
ヨードフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、2−ブ
ロム−2−メチルプロパン等。
【0101】(4)N−ハロゲン化合物:例えばN−ク
ロロ琥珀酸イミド、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロ
ムフタルイミド、N−ブロムアセトアミド、N−ヨード
琥珀酸イミド、N−ブロムフタラジノン、N−ブロムオ
キサゾリノン、N−クロロフタラジノン、N−ブロモア
セトアニリド、N,N−ジブロモベンゼンスルホンアミ
ド、N−ブロモ−N−メチルベンゼンスルホンアミド、
1,3−ジブロモ−4,4−ジメチルヒダントイン、N
−ブロモウラゾール等。
ロロ琥珀酸イミド、N−ブロム琥珀酸イミド、N−ブロ
ムフタルイミド、N−ブロムアセトアミド、N−ヨード
琥珀酸イミド、N−ブロムフタラジノン、N−ブロムオ
キサゾリノン、N−クロロフタラジノン、N−ブロモア
セトアニリド、N,N−ジブロモベンゼンスルホンアミ
ド、N−ブロモ−N−メチルベンゼンスルホンアミド、
1,3−ジブロモ−4,4−ジメチルヒダントイン、N
−ブロモウラゾール等。
【0102】(5)その他のハロゲン含有化合物:例え
ば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル、2−ブロム酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロ
ベンゾフェノン等がある。
ば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル、2−ブロム酢酸、2−ブロムエタノール、ジクロロ
ベンゾフェノン等がある。
【0103】これらのハロゲン化銀形成成分は有機銀塩
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの
存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの
使用量は有機銀塩1重量部当たり0.01〜100重量
部、好ましくは0.1〜10重量部である。
に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その範
囲は有機銀塩1モルに対し0.001モル乃至0.7モ
ル、好ましくは0.03モル乃至0.5モルである。ハ
ロゲン化銀形成成分は上記の範囲で2種以上併用されて
もよい。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩
の一部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反
応時間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜
設定する事が出来るが、通常、反応温度は−20℃乃至
70℃、その反応時間は0.1秒乃至72時間であり、
その反応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この
反応は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの
存在下に行われることが好ましい。この際のポリマーの
使用量は有機銀塩1重量部当たり0.01〜100重量
部、好ましくは0.1〜10重量部である。
【0104】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
【0105】本発明に用いられる好適な色調剤の例はR
esearch Disclosure第17029号
に開示されており、次のものがある。
esearch Disclosure第17029号
に開示されており、次のものがある。
【0106】イミド誘導体(例えば、フタルイミド);
環状イミド誘導体、ピラゾリン−5−オン誘導体、及び
キナゾリノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル
−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾー
ル、キナゾリン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナ
フタールイミド誘導体(例えば、N−ヒドロキシ−1,
8−ナフタールイミド);コバルト錯体(例えば、コバ
ルトのヘキサアンミントリフルオロアセテート)、メル
カプタン誘導体(例えば、3−メルカプト−1,2,4
−トリアゾール);N−(アミノメチル)アリールジカ
ルボキシイミド誘導体(例えば、N−(ジメチルアミノ
メチル)フタルイミド);ブロックされたピラゾール誘
導体(例えば、N,N´−ヘキサメチレンビス(1−カ
ルバモイル−3,5−ジメチルピラゾール));イソチ
ウロニウム(isothiuronium)誘導体及び
ある種の光漂白剤の組み合わせ、(例えば1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)及び2−(トリブロモメチル
スルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);フタラ
ジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属
塩(例えば、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−
クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジ
ノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオ
ン);フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ
(例えば、6−クロロフタラジノンとベンゼンスルフィ
ン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノンとp−トリ
スルホン酸ナトリウム);フタラジンとフタル酸の組み
合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物を含む)とマ
レイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジ
カルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物
(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロ
フタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択さ
れる少なくとも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリ
ンジオン誘導体、ベンズオキサジン、ナフトキサジン誘
導体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン誘導体(例え
ば、1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン);ピ
リミジン誘導体及び不斉トリアジン誘導体(例えば、
2,4−ジヒドロキシピリミジン)、及びテトラアザペ
ンタレン誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト−1,
4−ジフェニル−1H,4H−2,3a,5,6a−テ
トラアザペンタレン)。好ましい色調剤としてはフタラ
ジノン又はフタラジンである。
環状イミド誘導体、ピラゾリン−5−オン誘導体、及び
キナゾリノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル
−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾー
ル、キナゾリン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナ
フタールイミド誘導体(例えば、N−ヒドロキシ−1,
8−ナフタールイミド);コバルト錯体(例えば、コバ
ルトのヘキサアンミントリフルオロアセテート)、メル
カプタン誘導体(例えば、3−メルカプト−1,2,4
−トリアゾール);N−(アミノメチル)アリールジカ
ルボキシイミド誘導体(例えば、N−(ジメチルアミノ
メチル)フタルイミド);ブロックされたピラゾール誘
導体(例えば、N,N´−ヘキサメチレンビス(1−カ
ルバモイル−3,5−ジメチルピラゾール));イソチ
ウロニウム(isothiuronium)誘導体及び
ある種の光漂白剤の組み合わせ、(例えば1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)及び2−(トリブロモメチル
スルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);フタラ
ジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属
塩(例えば、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−
クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジ
ノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオ
ン);フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ
(例えば、6−クロロフタラジノンとベンゼンスルフィ
ン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノンとp−トリ
スルホン酸ナトリウム);フタラジンとフタル酸の組み
合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物を含む)とマ
レイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジ
カルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物
(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロ
フタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択さ
れる少なくとも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリ
ンジオン誘導体、ベンズオキサジン、ナフトキサジン誘
導体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン誘導体(例え
ば、1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン);ピ
リミジン誘導体及び不斉トリアジン誘導体(例えば、
2,4−ジヒドロキシピリミジン)、及びテトラアザペ
ンタレン誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト−1,
4−ジフェニル−1H,4H−2,3a,5,6a−テ
トラアザペンタレン)。好ましい色調剤としてはフタラ
ジノン又はフタラジンである。
【0107】本発明の効果を損なわない範囲で、製造中
に或いは感光材料の経時保存中に生成するカブリの元と
なる、微小銀クラスターを漂白するためのハロゲン化カ
ブリ防止化合物を含有することが好ましい。写真業界で
一般に微小銀クラスターを漂白することが知られている
化合物を、本発明では適用できるが、特に少なくとも1
個のハロゲン化基をその上に有するアリール化合物が好
ましく、以下の一般式で示され得る。
に或いは感光材料の経時保存中に生成するカブリの元と
なる、微小銀クラスターを漂白するためのハロゲン化カ
ブリ防止化合物を含有することが好ましい。写真業界で
一般に微小銀クラスターを漂白することが知られている
化合物を、本発明では適用できるが、特に少なくとも1
個のハロゲン化基をその上に有するアリール化合物が好
ましく、以下の一般式で示され得る。
【0108】一般式〔6〕 Ar−(SO2)y−CH3-n(X)n 式中、yは0または1であり、Xはハロゲン原子であ
り、nは1、2又は3であり、そしてArは芳香族もし
くは複素芳香族基である。
り、nは1、2又は3であり、そしてArは芳香族もし
くは複素芳香族基である。
【0109】一般式〔6〕に含まれる化合物の詳細な列
挙は、米国特許第4,546,075号、同第4,75
6,999号、同第4,452,885号、同第3,8
74,946号および同第3,955,982号に記載
されている。本発明に有用であると考えられる他のハロ
ゲン化カブリ防止化合物には、特開昭59−57234
号に記載されているようなジハロゲン化化合物が含まれ
る。
挙は、米国特許第4,546,075号、同第4,75
6,999号、同第4,452,885号、同第3,8
74,946号および同第3,955,982号に記載
されている。本発明に有用であると考えられる他のハロ
ゲン化カブリ防止化合物には、特開昭59−57234
号に記載されているようなジハロゲン化化合物が含まれ
る。
【0110】本発明に用いるハロゲン化カブリ防止化合
物は、銀もしくはトップコート層中に合計銀1モルに対
して5×10-4〜0.5モル、好ましくは5×10-3〜
5×10-2モルの含有量で含有される。
物は、銀もしくはトップコート層中に合計銀1モルに対
して5×10-4〜0.5モル、好ましくは5×10-3〜
5×10-2モルの含有量で含有される。
【0111】本発明においては前記ハロゲン化カブリ防
止化合物を特開平6−208193号に記載されたよう
なイソシアネート化合物、米国特許第3,017,28
0号、特開平9−5916号に記載されたようなアジリ
ジン化合物、特開平10−186561号、同9−59
16号に記載されたエポキシ化合物等と併用する事によ
りいっそうのカブリ防止効果を実現できる。又、米国特
許第3,100,704号に記載されたカルボジイミド
化合物も併用したときこれらに次いで効果のあるカブリ
防止化合物である。
止化合物を特開平6−208193号に記載されたよう
なイソシアネート化合物、米国特許第3,017,28
0号、特開平9−5916号に記載されたようなアジリ
ジン化合物、特開平10−186561号、同9−59
16号に記載されたエポキシ化合物等と併用する事によ
りいっそうのカブリ防止効果を実現できる。又、米国特
許第3,100,704号に記載されたカルボジイミド
化合物も併用したときこれらに次いで効果のあるカブリ
防止化合物である。
【0112】一般にイソシアネートやエポキシ化合物等
本発明に係るこれらのカブリ防止化合物は銀1モルに対
して0.002モル以上の量で用いられる。通常は銀1
モルに対して0.002〜2モルの上記化合物、好まし
くは銀1モルに対して0.003〜0.3モルの上記化
合物の範囲で用いられる。
本発明に係るこれらのカブリ防止化合物は銀1モルに対
して0.002モル以上の量で用いられる。通常は銀1
モルに対して0.002〜2モルの上記化合物、好まし
くは銀1モルに対して0.003〜0.3モルの上記化
合物の範囲で用いられる。
【0113】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で一般に無色であり、天然ポリマー
や合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィルムを形
成する媒体、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リビニルピロリドン、カゼイン、澱粉、ポリアクリル
酸、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸、ポ
リ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、
コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチ
レン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール誘導体、例
えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、
ポリエステル誘導体、ポリウレタン誘導体、フェノキシ
樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド誘導体、ポ
リカーボネート誘導体、ポリビニルアセテート誘導体、
セルロースエステル誘導体、ポリアミド等があり、水溶
性でも非水溶性でもよい。しかしながら、これらのバイ
ンダーの中でも特に好ましいのは、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルブチ
ラールのような非水溶性のポリマーであり、この中で熱
現像感光層に用いる特に好ましいポリマーとしてはポリ
ビニルホルマール誘導体があげられ、その中でも特に好
ましいのはポリビニルブチラールであり、保護層バック
コート層として特に好ましいポリマーとしてはセルロー
スアセテート及びセルロースアセテートブチレートがあ
げられる。
ーは透明又は半透明で一般に無色であり、天然ポリマー
や合成ポリマー及びコポリマー、その他、フィルムを形
成する媒体、例えば、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リビニルピロリドン、カゼイン、澱粉、ポリアクリル
酸、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸、ポ
リ塩化ビニル、コポリ(スチレン−無水マレイン酸)、
コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ(スチ
レン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール誘導体、例
えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、
ポリエステル誘導体、ポリウレタン誘導体、フェノキシ
樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド誘導体、ポ
リカーボネート誘導体、ポリビニルアセテート誘導体、
セルロースエステル誘導体、ポリアミド等があり、水溶
性でも非水溶性でもよい。しかしながら、これらのバイ
ンダーの中でも特に好ましいのは、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルブチ
ラールのような非水溶性のポリマーであり、この中で熱
現像感光層に用いる特に好ましいポリマーとしてはポリ
ビニルホルマール誘導体があげられ、その中でも特に好
ましいのはポリビニルブチラールであり、保護層バック
コート層として特に好ましいポリマーとしてはセルロー
スアセテート及びセルロースアセテートブチレートがあ
げられる。
【0114】本発明においては、感光層のバインダー量
が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ま
しくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満で
は未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合
がある。
が1.5〜6g/m2であることが好ましい。更に好ま
しくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満で
は未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合
がある。
【0115】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のために、感光材料の表面にマット剤を配することが好
ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
【0116】また、支持体をはさみ感光層の反対側に非
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜4
0%含有することが好ましい。
感光層を設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中
にマット剤を含有することが好ましく、感光材料のすべ
り性や指紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット
剤を配することが好ましく、そのマット剤を感光層側の
反対側の層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜4
0%含有することが好ましい。
【0117】本発明において用いられるマット剤の材質
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマ
ット剤として用いることができる。有機物としては、米
国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギ
ー特許第625,451号や英国特許第981,198
号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号
等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
は、有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機
物としては、スイス特許第330,158号等に記載の
シリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガ
ラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のア
ルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマ
ット剤として用いることができる。有機物としては、米
国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギ
ー特許第625,451号や英国特許第981,198
号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号
等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第33
0,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタア
クリレート、米国特許第3,079,257号等に記載
のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,16
9号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット
剤を用いることができる。
【0118】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
【0119】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に、好ましくは40%以下であり、特に好ま
しくは30%以下となるマット剤である。
【0120】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
記の式で表される値である。
【0121】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 これらのマット剤は任意の構成層中に含むことができる
が、本発明の目的を達成するためには好ましくは感光層
以外の構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最
も外側の層である。
が、本発明の目的を達成するためには好ましくは感光層
以外の構成層であり、更に好ましくは支持体から見て最
も外側の層である。
【0122】本発明に用いられるマット剤の添加方法
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。
【0123】本発明の熱現像感光材料が特に600〜8
00nmに発振波長を有するイメージセッターの出力用
の熱現像感光材料である場合、ヒドラジン化合物が感材
中に含有される事が好ましい。本発明に用いられる好ま
しいヒドラジン化合物としては、RD23515(19
83年11月号、P.346)及びそこに引用された文
献の他、米国特許第4,080,207号、同第4,2
69,929号、同第4,276,364号、同第4,
278,748号、同第4,385,108号、同第
4,459,347号、同第4,478,928号、同
第4,560,638号、同第4,686,167号、
同第4,912,016号、同第4,988,604
号、同第4,994,365号、同第5,041,35
5号、同第5,104,769号、英国特許第2,01
1,391B号、欧州特許第217,310号、同第3
01,799号、同第356,898号、特開昭60−
179734号、同61−170733号、同61−2
70744号、同62−178246号、同62−27
0948号、同63−29751号、同63−3253
8号、同63−104047号、同63−121838
号、同63−129337号、同63−223744
号、同63−234244号、同63−234245
号、同63−234246号、同63−294552
号、同63−306438号、同64−10233号、
特開平1−90439号、同1−100530号、同1
−105941号、同1−105943号、同1−27
6128号、同1−280747号、同1−28354
8号、同1−283549号、同1−285940号、
同2−2541号、同2−77057号、同2−139
538号、同2−196234号、同2−196235
号、同2−198440号、同2−198441号、同
2−198442号、同2−220042号、同2−2
21953号、同2−221954号、同2−2853
42号、同2−285343号、同2−289843
号、同2−302750号、同2−304550号、同
3−37642号、同3−54549号、同3−125
134号、同3−184039号、同3−240036
号、同3−240037号、同3−259240号、同
3−280038号、同3−282536号、同4−5
1143号、同4−56842号、同4−84134
号、同2−230233号、同4−96053号、同4
−216544号、同5−45761号、同5−457
62号、同5−45763号、同5−45764号、同
5−45765号、同6−289524号、同9−16
0164号等に記載されたものを挙げることが出来る。
00nmに発振波長を有するイメージセッターの出力用
の熱現像感光材料である場合、ヒドラジン化合物が感材
中に含有される事が好ましい。本発明に用いられる好ま
しいヒドラジン化合物としては、RD23515(19
83年11月号、P.346)及びそこに引用された文
献の他、米国特許第4,080,207号、同第4,2
69,929号、同第4,276,364号、同第4,
278,748号、同第4,385,108号、同第
4,459,347号、同第4,478,928号、同
第4,560,638号、同第4,686,167号、
同第4,912,016号、同第4,988,604
号、同第4,994,365号、同第5,041,35
5号、同第5,104,769号、英国特許第2,01
1,391B号、欧州特許第217,310号、同第3
01,799号、同第356,898号、特開昭60−
179734号、同61−170733号、同61−2
70744号、同62−178246号、同62−27
0948号、同63−29751号、同63−3253
8号、同63−104047号、同63−121838
号、同63−129337号、同63−223744
号、同63−234244号、同63−234245
号、同63−234246号、同63−294552
号、同63−306438号、同64−10233号、
特開平1−90439号、同1−100530号、同1
−105941号、同1−105943号、同1−27
6128号、同1−280747号、同1−28354
8号、同1−283549号、同1−285940号、
同2−2541号、同2−77057号、同2−139
538号、同2−196234号、同2−196235
号、同2−198440号、同2−198441号、同
2−198442号、同2−220042号、同2−2
21953号、同2−221954号、同2−2853
42号、同2−285343号、同2−289843
号、同2−302750号、同2−304550号、同
3−37642号、同3−54549号、同3−125
134号、同3−184039号、同3−240036
号、同3−240037号、同3−259240号、同
3−280038号、同3−282536号、同4−5
1143号、同4−56842号、同4−84134
号、同2−230233号、同4−96053号、同4
−216544号、同5−45761号、同5−457
62号、同5−45763号、同5−45764号、同
5−45765号、同6−289524号、同9−16
0164号等に記載されたものを挙げることが出来る。
【0124】この他にも、特公平6−77138号に記
載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報3
頁、4頁に記載された化合物、特公平6−93082号
に記載された一般式(1)で表される化合物で具体的に
は同公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物、特開
平6−23049号に記載の一般式(4)、(5)及び
(6)で表される化合物で、具体的には同公報25頁、
26頁に記載の化合物4−1〜4−10、28頁〜36
頁に記載の化合物5−1〜5−42、及び39頁、40
頁に記載の化合物6−1〜6−7、特開平6−2895
20号に記載の一般式(1)及び(2)で表される化合
物で、具体的には同公報5頁から7頁に記載の化合物1
−1)〜1−17)及び2−1)、特開平6−3139
36号に記載の(化2)及び(化3)で表される化合物
で具体的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物、特開
平6−313951号に記載の(化1)で表される化合
物で、具体的には同公報3頁〜5頁に記載された化合
物、特開平7−5610号に記載の一般式(I)で表さ
れる化合物で、具体的には同公報の5頁〜10頁に記載
の化合物I−1〜I−38、特開平7−77783号に
記載の一般式(II)で表される化合物で、具体的には同
公報10頁〜27頁に記載の化合物II−1〜II−10
2、特開平7−104426号に記載の一般式(H)及
び一般式(Ha)で表される化合物で、具体的には同公
報8頁〜15頁に記載の化合物H−1からH−44に記
載されたもの等を用いることが出来る。
載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報3
頁、4頁に記載された化合物、特公平6−93082号
に記載された一般式(1)で表される化合物で具体的に
は同公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物、特開
平6−23049号に記載の一般式(4)、(5)及び
(6)で表される化合物で、具体的には同公報25頁、
26頁に記載の化合物4−1〜4−10、28頁〜36
頁に記載の化合物5−1〜5−42、及び39頁、40
頁に記載の化合物6−1〜6−7、特開平6−2895
20号に記載の一般式(1)及び(2)で表される化合
物で、具体的には同公報5頁から7頁に記載の化合物1
−1)〜1−17)及び2−1)、特開平6−3139
36号に記載の(化2)及び(化3)で表される化合物
で具体的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物、特開
平6−313951号に記載の(化1)で表される化合
物で、具体的には同公報3頁〜5頁に記載された化合
物、特開平7−5610号に記載の一般式(I)で表さ
れる化合物で、具体的には同公報の5頁〜10頁に記載
の化合物I−1〜I−38、特開平7−77783号に
記載の一般式(II)で表される化合物で、具体的には同
公報10頁〜27頁に記載の化合物II−1〜II−10
2、特開平7−104426号に記載の一般式(H)及
び一般式(Ha)で表される化合物で、具体的には同公
報8頁〜15頁に記載の化合物H−1からH−44に記
載されたもの等を用いることが出来る。
【0125】これらの素材の他、各種の添加剤が目的に
応じ感光性層、非感光性層、又はその他の形成層に添加
されてもよい。本発明の熱現像感光材料には例えば、界
面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を添加することができる。これらの添加
剤及び上述したその他の添加剤はResearchDi
sclosure 17029(1978年6月p.9
〜15)に記載されている化合物を好ましく用いること
ができる。
応じ感光性層、非感光性層、又はその他の形成層に添加
されてもよい。本発明の熱現像感光材料には例えば、界
面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を添加することができる。これらの添加
剤及び上述したその他の添加剤はResearchDi
sclosure 17029(1978年6月p.9
〜15)に記載されている化合物を好ましく用いること
ができる。
【0126】熱現像感光材料に用いる支持体の素材とし
ては各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、
紙、金属(例えばアルミニウム)等が挙げられるが、情
報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシート又
はロールに加工できるものが好適である。従って本発明
の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチッ
クフィルム(例えばセルロースアセテートフィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミド
フィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテ
ートフィルム又はポリカーボネートフィルム等)が好ま
しく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとし
ては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μ
mである。
ては各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、
紙、金属(例えばアルミニウム)等が挙げられるが、情
報記録材料としての取り扱い上は可撓性のあるシート又
はロールに加工できるものが好適である。従って本発明
の熱現像感光材料における支持体としては、プラスチッ
クフィルム(例えばセルロースアセテートフィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミド
フィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテ
ートフィルム又はポリカーボネートフィルム等)が好ま
しく、本発明においては2軸延伸したポリエチレンテレ
フタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとし
ては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μ
mである。
【0127】本発明においては、帯電性を改良するため
に金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電
性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは
いずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、
バッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれ
る。本発明においては米国特許第5,244,773号
カラム14〜20に記載された導電性化合物が好ましく
用いられる。
に金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電
性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは
いずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、
バッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれ
る。本発明においては米国特許第5,244,773号
カラム14〜20に記載された導電性化合物が好ましく
用いられる。
【0128】感光層、保護層及びバックコート層等本発
明の感光材料上に必要な各層を塗設する方法に特に制限
はなく、従来知られている、エアナイフコーティング、
ディップコーティング、バーコーティング、カーテンコ
ーティング、ホッパーコーティングなどの方法を用いる
ことができる。又、これらの層を2層以上同時に塗布し
てもよい。塗布液の溶媒としてはMEK、酢酸エチル、
トルエンの様な有機溶媒が好ましく用いられる。
明の感光材料上に必要な各層を塗設する方法に特に制限
はなく、従来知られている、エアナイフコーティング、
ディップコーティング、バーコーティング、カーテンコ
ーティング、ホッパーコーティングなどの方法を用いる
ことができる。又、これらの層を2層以上同時に塗布し
てもよい。塗布液の溶媒としてはMEK、酢酸エチル、
トルエンの様な有機溶媒が好ましく用いられる。
【0129】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも1層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成してもよいが、感光層の上に少なくとも一層
の非感光層を形成するのが好ましい。例えば感光層の上
には保護層が、熱現像感光層を保護する目的で、又支持
体の反対の面には感光材料間の、或いは感光材料ロール
においてくっつきを防止する為に、バックコート層が設
けられるのが好ましい。又熱現像感光層を透過する光の
量または波長分布を制御するために感光層と同じ側また
は反対の側にフィルター層を形成してもよいし、感光層
に染料又は顔料を含有させてもよい。染料としては特開
平8−201959号の化合物が好ましい。感光層は複
数層にしてもよく、又階調の調節のために高感度層、低
感度層を設け、これを組み合わせてもよい。各種の添加
剤は感光層、非感光層又はその他の形成層のいずれに添
加してもよい。
くとも1層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成してもよいが、感光層の上に少なくとも一層
の非感光層を形成するのが好ましい。例えば感光層の上
には保護層が、熱現像感光層を保護する目的で、又支持
体の反対の面には感光材料間の、或いは感光材料ロール
においてくっつきを防止する為に、バックコート層が設
けられるのが好ましい。又熱現像感光層を透過する光の
量または波長分布を制御するために感光層と同じ側また
は反対の側にフィルター層を形成してもよいし、感光層
に染料又は顔料を含有させてもよい。染料としては特開
平8−201959号の化合物が好ましい。感光層は複
数層にしてもよく、又階調の調節のために高感度層、低
感度層を設け、これを組み合わせてもよい。各種の添加
剤は感光層、非感光層又はその他の形成層のいずれに添
加してもよい。
【0130】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱することで現像される。加熱温
度としては80℃以上200℃以下が好ましく、さらに
好ましいのは100℃以上150℃以下である。加熱温
度が80℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られ
ず、又200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラー
への転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像
機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸
化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応に
より銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水
等の処理液の一切の供給なしに進行する。
るが、露光後高温に加熱することで現像される。加熱温
度としては80℃以上200℃以下が好ましく、さらに
好ましいのは100℃以上150℃以下である。加熱温
度が80℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られ
ず、又200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラー
への転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像
機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸
化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応に
より銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水
等の処理液の一切の供給なしに進行する。
【0131】本発明に適用される分散装置に特に限定は
なく、あらゆる装置を使用することができる。本発明に
おいて用いられる分散装置としては、高圧ホモジナイザ
ー、超音波分散機、メディア分散機等があるが、特にメ
ディア分散機が本発明では好ましく用いられる。メディ
ア分散機としては、ボールミル、ビーズミル、バスケッ
トミル等があるが、ビーズミルが好ましく用いられる。
ビーズミルを運転する際の周速としては3〜20m/s
が好ましく、5〜15m/sがより好ましい。
なく、あらゆる装置を使用することができる。本発明に
おいて用いられる分散装置としては、高圧ホモジナイザ
ー、超音波分散機、メディア分散機等があるが、特にメ
ディア分散機が本発明では好ましく用いられる。メディ
ア分散機としては、ボールミル、ビーズミル、バスケッ
トミル等があるが、ビーズミルが好ましく用いられる。
ビーズミルを運転する際の周速としては3〜20m/s
が好ましく、5〜15m/sがより好ましい。
【0132】上記記載の形状を有する有機銀塩粒子を得
る方法としては、特に限定されないが、有機酸アルカリ
金属塩ソープ形成時の混合状態および/または前記ソー
プに硝酸銀を添加する際の混合状態など各種条件の最適
化が有効である。本発明に用いられる平板状有機銀塩粒
子は必要に応じバインダーや界面活性剤などと共に予備
分散した後、メディア分散機または高圧ホモジナイザな
どで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散にはア
ンカー型、プロペラ型等の一般的撹拌機や高速回転遠心
放射型撹拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型攪拌機
(ホモミキサ)を使用することができる。
る方法としては、特に限定されないが、有機酸アルカリ
金属塩ソープ形成時の混合状態および/または前記ソー
プに硝酸銀を添加する際の混合状態など各種条件の最適
化が有効である。本発明に用いられる平板状有機銀塩粒
子は必要に応じバインダーや界面活性剤などと共に予備
分散した後、メディア分散機または高圧ホモジナイザな
どで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散にはア
ンカー型、プロペラ型等の一般的撹拌機や高速回転遠心
放射型撹拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型攪拌機
(ホモミキサ)を使用することができる。
【0133】また、上記メディア分散機としては、ボー
ルミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミ
ルや、媒体撹拌ミルであるビーズミル、アトライター、
その他バスケットミルなどを用いることが可能であり、
高圧ホモジナイザーとしては壁、プラグなどに衝突する
タイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させ
るタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々
なタイプを用いることができる。
ルミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミ
ルや、媒体撹拌ミルであるビーズミル、アトライター、
その他バスケットミルなどを用いることが可能であり、
高圧ホモジナイザーとしては壁、プラグなどに衝突する
タイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させ
るタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々
なタイプを用いることができる。
【0134】本発明に係る平板状有機銀塩粒子を分散す
る際に用いられる装置類において、該有機銀塩粒子が接
触する部材の材質としてジルコニア、アルミナ、窒化珪
素、窒化ホウ素などのセラミックス類またはダイヤモン
ドを用いることが好ましく、中でも、ジルコニアを用い
ることが好ましい。
る際に用いられる装置類において、該有機銀塩粒子が接
触する部材の材質としてジルコニア、アルミナ、窒化珪
素、窒化ホウ素などのセラミックス類またはダイヤモン
ドを用いることが好ましく、中でも、ジルコニアを用い
ることが好ましい。
【0135】更に、本発明においては、銀1gあたり
0.01mg〜0.5mgのZrを含有する感光層を有
することが好ましく、特に好ましいのは、前記感光層が
0.01mg〜0.3mgのZrを含有する場合であ
る。
0.01mg〜0.5mgのZrを含有する感光層を有
することが好ましく、特に好ましいのは、前記感光層が
0.01mg〜0.3mgのZrを含有する場合であ
る。
【0136】上記分散をおこなう際の、バインダー濃
度、予備分散方法、分散機運転条件、分散回数などを最
適化することは、本発明の有機銀塩粒子を得る方法とし
て非常に好ましい。
度、予備分散方法、分散機運転条件、分散回数などを最
適化することは、本発明の有機銀塩粒子を得る方法とし
て非常に好ましい。
【0137】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらに限定されない。
はこれらに限定されない。
【0138】実施例1 (写真用支持体の作製)濃度0.170(コニカ(株)
製デンシトメータPDA−65にて測定)に青色着色し
た、厚み175μmのPETフィルムの両面に8W/m
2・分のコロナ放電処理を施した。
製デンシトメータPDA−65にて測定)に青色着色し
た、厚み175μmのPETフィルムの両面に8W/m
2・分のコロナ放電処理を施した。
【0139】(バック面塗布液の調製)MEK(メチル
エチルケトン)830gに撹拌しながら、セルロースア
セテートブチレート(Eastman Chemica
l社、CAB381−20)84.2g、ポリエステル
樹脂(Bostic社、VitelPE2200B)
4.5gを添加し溶解した。溶解した液に、0.30g
の赤外染料1を添加し、さらにメタノール43.2gに
溶解したF系活性剤(旭硝子社、サーフロンKH40)
4.5gとF系活性剤(大日本インク社、メガファッグ
F120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に
撹拌を行った。最後に、MEK(メチルエチルケトン)
に1wt%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散
したシリカ(W.R.Grace社、シロイド64×6
000)を75g添加、撹拌しバック面の塗布液を調製
した。
エチルケトン)830gに撹拌しながら、セルロースア
セテートブチレート(Eastman Chemica
l社、CAB381−20)84.2g、ポリエステル
樹脂(Bostic社、VitelPE2200B)
4.5gを添加し溶解した。溶解した液に、0.30g
の赤外染料1を添加し、さらにメタノール43.2gに
溶解したF系活性剤(旭硝子社、サーフロンKH40)
4.5gとF系活性剤(大日本インク社、メガファッグ
F120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に
撹拌を行った。最後に、MEK(メチルエチルケトン)
に1wt%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散
したシリカ(W.R.Grace社、シロイド64×6
000)を75g添加、撹拌しバック面の塗布液を調製
した。
【0140】(バック面の塗布)このように調製した、
バック面塗布液を、乾燥膜厚が3.5μになるように押
し出しコーターにて塗布乾燥を行った。乾燥温度100
℃、露天温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥
した。
バック面塗布液を、乾燥膜厚が3.5μになるように押
し出しコーターにて塗布乾燥を行った。乾燥温度100
℃、露天温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥
した。
【0141】 (感光性ハロゲン化銀乳剤の調製) (A) フェニルカルバモイルゼラチン 88.3g 化合物(A)(10%メタノール水溶液) 10ml 臭化カリウム 0.32g 水で5429mlに仕上げる (B) 0.67N硝酸銀水溶液 2635ml (C) 臭化カリウム 51.55g 沃化カリウム 1.47g 水で660mlに仕上げる (D) 臭化カリウム 154.9g 沃化カリウム 4.41g 塩化イリジウム(1%溶液) 0.93ml 水で1982mlに仕上げる (E) 0.4N臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量 (F) 水酸化カリウム 0.71g 水で20mlに仕上げる (G) 56%酢酸水溶液 18.0ml (H) 無水炭酸ナトリウム 1.72g 水で151mlに仕上げる 化合物(A):HO(CH2CH2O)n−[CH(CH3)CH2O]17−(CH2 CH2O)mH:(m+n=5〜7) 特公昭58−58288号、同58−58289号に示
される混合撹拌機を用いて溶液(A)に溶液(B)の1
/4量及び溶液(C)全量を温度45℃、pAg8.0
9に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要し
て添加し、核形成を行った。1分後、溶液(F)の全量
を添加した。6分間経過後、溶液(B)の3/4量及び
溶液(D)の全量を、温度45℃、pAg8.09に制
御しながら、同時混合法により14分15秒かけて添加
した。
される混合撹拌機を用いて溶液(A)に溶液(B)の1
/4量及び溶液(C)全量を温度45℃、pAg8.0
9に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要し
て添加し、核形成を行った。1分後、溶液(F)の全量
を添加した。6分間経過後、溶液(B)の3/4量及び
溶液(D)の全量を、温度45℃、pAg8.09に制
御しながら、同時混合法により14分15秒かけて添加
した。
【0142】5分間撹拌した後、40℃に降温し、溶液
(G)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。
沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水
を10リットル加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を
沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を
取り除き、更に水を10リットル加え、撹拌後、ハロゲ
ン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残
し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H)を加え、60
℃に昇温し、更に120分撹拌した。最後にpHが5.
8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gに
なるように水を添加した。
(G)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。
沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水
を10リットル加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を
沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を
取り除き、更に水を10リットル加え、撹拌後、ハロゲ
ン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残
し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H)を加え、60
℃に昇温し、更に120分撹拌した。最後にpHが5.
8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gに
なるように水を添加した。
【0143】この乳剤は平均粒子サイズ0.058μ
m、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率9
2%の立方体沃臭化銀粒子であった。
m、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率9
2%の立方体沃臭化銀粒子であった。
【0144】(粉末有機銀塩Aの調製)4720mlの
純水にベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8
g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶解した。次に
高速で撹拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液
540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、
55℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の
有機酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、上
記ハロゲン化銀乳剤(銀0.038モルを含む)と純水
450mlを添加し5分間撹拌した。次に1Mの硝酸銀
溶液760.6mlを2分間かけて添加し、更に20分
撹拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。
純水にベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8
g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶解した。次に
高速で撹拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液
540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、
55℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の
有機酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、上
記ハロゲン化銀乳剤(銀0.038モルを含む)と純水
450mlを添加し5分間撹拌した。次に1Mの硝酸銀
溶液760.6mlを2分間かけて添加し、更に20分
撹拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。
【0145】その後、濾液の電導度が2μS/cmにな
るまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返し、遠心脱
水を実施した後、37℃にて重量減がなくなるまで温風
乾燥を行い、粉末有機銀塩Aを得た。
るまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返し、遠心脱
水を実施した後、37℃にて重量減がなくなるまで温風
乾燥を行い、粉末有機銀塩Aを得た。
【0146】(感光性乳剤分散液の調製)ポリビニルブ
チラール粉末(Monsanto社 Butvar B
−79)12.26gをMEK(メチルエチルケトン)
1223.5gに溶解し、ディゾルバ型ホモジナイザに
て撹拌しながら粉末有機銀塩A420gを徐々に添加し
て十分に混合した。その後1mm径のZr(ジルコニウ
ム)ビーズ(東レ製)を80%充填したメディア型分散
機(gettzmann社製)にて周速13m、ミル内
滞留時間0.5分間にて分散を行ない感光性乳剤分散液
を調製した。
チラール粉末(Monsanto社 Butvar B
−79)12.26gをMEK(メチルエチルケトン)
1223.5gに溶解し、ディゾルバ型ホモジナイザに
て撹拌しながら粉末有機銀塩A420gを徐々に添加し
て十分に混合した。その後1mm径のZr(ジルコニウ
ム)ビーズ(東レ製)を80%充填したメディア型分散
機(gettzmann社製)にて周速13m、ミル内
滞留時間0.5分間にて分散を行ない感光性乳剤分散液
を調製した。
【0147】(感光層塗布液の調製)前記感光性乳剤分
散液1640gおよびMEK(メチルエチルケトン)4
60gを撹拌しながら25℃に保温した。
散液1640gおよびMEK(メチルエチルケトン)4
60gを撹拌しながら25℃に保温した。
【0148】化合物a(11.2wt%メタノール溶液
10.5g)を加え、1時間撹拌した。さらに臭化カル
シウム(11.2wt%メタノール溶液14.0g)を
添加して20分撹拌した。次に下記溶液(A)を添加し
10分攪拌し、下記溶液(B)を添加して、1時間撹拌
した後に温度を13℃まで降温してさらに30分撹拌し
た。13℃に保温したまま、ポリビニルブチラール43
7gを添加して30分攪拌し、テトラクロロフタル酸
5.0gを添加し30分攪拌した。
10.5g)を加え、1時間撹拌した。さらに臭化カル
シウム(11.2wt%メタノール溶液14.0g)を
添加して20分撹拌した。次に下記溶液(A)を添加し
10分攪拌し、下記溶液(B)を添加して、1時間撹拌
した後に温度を13℃まで降温してさらに30分撹拌し
た。13℃に保温したまま、ポリビニルブチラール43
7gを添加して30分攪拌し、テトラクロロフタル酸
5.0gを添加し30分攪拌した。
【0149】 溶液(A) メタノール 10.1g 酢酸カリウム 0.9g 化合物b 0.28g 溶液(B) MEK 110g 2−クロロ安息香酸 2.5g 化合物c 18.6g 増感色素 表1に示す化合物及び量 一般式〔5〕の化合物 表1に示す化合物及び量 (感光層インライン液の調製) インライン液1 MEK 38.6g DesmodurN3300(モーベイ社 脂肪族イソシアネート) 10.87g インライン液2 MEK 335.4g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5− トリメチルヘキサン(還元剤) 101.8g 4−メチルフタル酸 6.7g 赤外染料1 1.46g インライン液3 MEK 147.8g 化合物e 10.4g (保護層塗布液の調製) MEK(メチルエチルケトン) 29.8g ポリメチルメタクリル酸(ローム&ハース社 パラロイドA−21) 0.17g セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社 C AB171−15) 3.85g ベンゾトリアゾール 0.024g F系活性剤(旭硝子社 サーフロンKH40) 0.027g シリカ(富士シリシア サイロイド320) 0.066g ビニルスルホン化合物(HD−1) 0.035g フタラジン 0.21g
【0150】
【化17】
【0151】
【化18】
【0152】
【化19】
【0153】前記感光層塗布液と表面保護層塗布液をエ
クストリュージョンコーターを用いて同時重層塗布し
た。感光層は塗布銀量2.1g/m2、インライン液は
1,2,3それぞれ2.08g/m2、9.35g/
m2、3.99g/m2になるように、塗布直前に添加混
合した。表面保護層は表面保護層液を34.18g/m
2になる様に毎分20mの速度で塗布した。その後、乾
燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて、10
分間乾燥を行った。
クストリュージョンコーターを用いて同時重層塗布し
た。感光層は塗布銀量2.1g/m2、インライン液は
1,2,3それぞれ2.08g/m2、9.35g/
m2、3.99g/m2になるように、塗布直前に添加混
合した。表面保護層は表面保護層液を34.18g/m
2になる様に毎分20mの速度で塗布した。その後、乾
燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて、10
分間乾燥を行った。
【0154】(センシトメトリーの評価)前記塗布済み
試料を3.5cm×15cmに断裁し、810nmダイ
オードを備えたレーザ感光計で露光した後、写真材料を
120℃で15秒間処理(現像)し、得られた画像の評
価を濃度計により行った。測定の結果は、Dmin、感
度(Dminより1.0高い濃度を与える露光量の比の
逆数)、Dmaxを評価し、試料No.1の感度を10
0として相対感度で表1に示した。
試料を3.5cm×15cmに断裁し、810nmダイ
オードを備えたレーザ感光計で露光した後、写真材料を
120℃で15秒間処理(現像)し、得られた画像の評
価を濃度計により行った。測定の結果は、Dmin、感
度(Dminより1.0高い濃度を与える露光量の比の
逆数)、Dmaxを評価し、試料No.1の感度を10
0として相対感度で表1に示した。
【0155】得られた結果を表1、表2に示す。
【0156】
【表1】
【0157】
【表2】
【0158】表1、表2から、比較試料に比べて、本発
明の試料は、低カブリ、高感度であり、且つ、レーザイ
メージャ感材にとっては必要なDmaxが3.3以上の
高濃度画像が得られていることが明かである。
明の試料は、低カブリ、高感度であり、且つ、レーザイ
メージャ感材にとっては必要なDmaxが3.3以上の
高濃度画像が得られていることが明かである。
【0159】実施例2 (露光及び現像処理)実施例1で作製した感光材料の乳
剤面側から、高周波重畳にて波長800nm〜820n
mの縦マルチモード化された半導体レーザを露光源とし
た露光機によりレーザ走査による露光を与えた。この際
に、感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度と
して画像を形成し、その後ヒートドラムを有する自動現
像機を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触する
ようにして、110℃で15秒熱現像処理した。その
際、露光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋
で行った。その結果、本発明の水準は当該角度を90度
とした場合に比べムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等
が良好な画像が得られた。
剤面側から、高周波重畳にて波長800nm〜820n
mの縦マルチモード化された半導体レーザを露光源とし
た露光機によりレーザ走査による露光を与えた。この際
に、感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度と
して画像を形成し、その後ヒートドラムを有する自動現
像機を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触する
ようにして、110℃で15秒熱現像処理した。その
際、露光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋
で行った。その結果、本発明の水準は当該角度を90度
とした場合に比べムラが少なく、かつ予想外に鮮鋭性等
が良好な画像が得られた。
【0160】
【発明の効果】本発明により、低カブリ、高感度、且
つ、高濃度の画像が得られる熱現像感光材料、画像記録
方法及び画像形成方法を提供することが出来た。
つ、高濃度の画像が得られる熱現像感光材料、画像記録
方法及び画像形成方法を提供することが出来た。
Claims (8)
- 【請求項1】 支持体上に、少なくとも有機銀塩、感光
性ハロゲン化銀、還元剤及び疎水性バインダを含有する
熱現像感光材料において、下記一般式〔1〕〜〔4〕で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物及
び一般式〔5〕で表される化合物を含有し、且つ、処理
後のDmaxが3.3以上であることを特徴とする熱現
像感光材料。 【化1】 〔一般式〔1〕及び〔2〕において、Y1、Y2及びY11
は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−C
H=CH−基を表し、L1〜L9、L11〜L15は各々、メ
チン基を表す。R1、R2、R11及びR12は各々、脂肪族
基を表し、R3、R4、R13及びR14は各々、アルケニル
基、環状アルキル基または複素環基を表す。W1、W2、
W3、W4、W11、W12、W13及びW14は各々、水素原
子、置換基、或いはW1とW2、W3とW4、W11とW12、
W13とW14の間で結合して縮合環を形成するのに必要な
非金属原子群を表す。X1及びX11は各々、分子内の電
荷を中和するに必要なイオンを表し、k1及びk11は
各々、分子内の電荷を中和するに必要なイオンの数を表
す。m1は0または1を表し、n1、n11及びn12
は各々、0、1または2を表す。但し、n11とn12
は同時に0とはならない。〕 【化2】 〔一般式〔3〕〜〔4〕において、Y21、Y22及びY31
は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−C(R
a)(Rb)−基または−CH=CH−基を表し、R21、
R22、R31及びR32は各々脂肪族基であり、Ra,Rb,
Rc及びRdは各々、低級アルキル基、シクロアルキル
基、アラルキル基、アリール基または複素環基を表わ
す。W21、W22、W23、W24、W31、W32、W33及びW
34は各々、水素原子、置換基、或いはW21はW22と、W
23はW24と、W31はW32と、W33はW34との間で結合し
て縮合環を形成するに必要な非金属原子群を表す。V21
〜V29、V31〜V33は各々、水素原子、ハロゲン原子、
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、低級アル
キル基、低級アルコキシル基、アリール基、アリールオ
キシ基または複素環基を表し、或いはV21はV23と、V
22はV24と、V23はV25と、V24はV26と、V25は
V27と、V26はV28と、V27はV29と、V31はV33との
間で結合して5員〜7員の環を形成するに必要な非金属
原子群を表し、X21及びX31は各々、分子内の電荷を中
和するに必要なイオンを表し、l21及びl31は各
々、分子内の電荷を中和するに必要なイオンの数を表
す。k21及びk22は各々、0または1を表す。n2
1、n22、n31及びn32は各々、0〜2の整数を
表わし、n21とn22及びn31とn32が同時に0
になることはない。〕 一般式〔5〕 Z−SM 式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子を表し、Z
は飽和または不飽和の鎖式脂肪族基、脂環式基または芳
香族基を表す。 - 【請求項2】 感光性ハロゲン化銀を銀として0.05
〜0.15g/m2、一般式〔1〕〜〔4〕で表される
化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を5×10
-7〜1.5×10-6モル/m2、且つ、一般式〔5〕で
表される化合物を5×10-5〜1.5×10-4モル/m
2含有することを特徴とする請求項1に記載の熱現像感
光材料。 - 【請求項3】 還元剤の含有量が4×10-3〜8×10
-3モル/m2であることを特徴とする請求項1または2
記載の熱現像感光材料。 - 【請求項4】 請求項1、2または3に記載の熱現像感
光材料を製造するに当たり、有機銀塩が水系で調製さ
れ、次いで、該有機銀塩の含有水分量を0.3%以下に
なるまで乾燥した後、有機溶媒に分散することを特徴と
する熱現像感光材料の製造方法。 - 【請求項5】 25℃、60%RHでの平衡含水率が
0.01%〜1%であることを特徴とする請求項1、2
または3に記載の熱現像感光材料。 - 【請求項6】 露光面と走査レーザ光のなす角度が実質
的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いて請
求項1、2または3に記載の熱現像感光材料の露光を行
うことを特徴とする画像記録方法。 - 【請求項7】 請求項1、2または3に記載の熱現像感
光材料を走査レーザ光が縦マルチであるレーザ走査露光
機による露光を行うことを特徴とする画像記録方法。 - 【請求項8】 請求項1、2または3に記載の熱現像感
光材料が溶媒を40〜4500ppm含有している状態
において加熱現像することを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27661199A JP2001100360A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 熱現像感光材料、熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27661199A JP2001100360A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 熱現像感光材料、熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001100360A true JP2001100360A (ja) | 2001-04-13 |
Family
ID=17571865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27661199A Pending JP2001100360A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 熱現像感光材料、熱現像感光材料の製造方法、画像記録方法及び画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001100360A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6703191B1 (en) | 2003-01-14 | 2004-03-09 | Eastman Kodak Company | Thermally developable emulsions and materials containing tirazine-thione compounds |
US6737227B1 (en) | 2003-03-07 | 2004-05-18 | Eastman Kodak Company | Thermally developable emulsions and materials containing heterocyclic disulfide compounds |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP27661199A patent/JP2001100360A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6703191B1 (en) | 2003-01-14 | 2004-03-09 | Eastman Kodak Company | Thermally developable emulsions and materials containing tirazine-thione compounds |
US6849392B2 (en) | 2003-01-14 | 2005-02-01 | Eastman Kodak Company | Thermally developable emulsions and materials containing triazine-thione compounds |
US6737227B1 (en) | 2003-03-07 | 2004-05-18 | Eastman Kodak Company | Thermally developable emulsions and materials containing heterocyclic disulfide compounds |
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