JP2001097846A - 体用洗浄料及びその製造方法 - Google Patents
体用洗浄料及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2001097846A JP2001097846A JP27331399A JP27331399A JP2001097846A JP 2001097846 A JP2001097846 A JP 2001097846A JP 27331399 A JP27331399 A JP 27331399A JP 27331399 A JP27331399 A JP 27331399A JP 2001097846 A JP2001097846 A JP 2001097846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ionized
- soap
- sodium chloride
- sio
- hair
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 皮膚の新陳代謝が促進され、頭髪洗浄時のリ
ンス剤が不要である体用洗浄料。 【解決手段】 イオン化石鹸１は、各隅に丸みをもたせ
た矩形板の両面で中央が僅かに突出した形状に成形され
ている。寸法は略６０ｍｍ×８０ｍｍ×２０ｍｍであ
る。このイオン化された石鹸１は、天然油脂を鹸化，塩
析することにより得られた石鹸層にイオン化塩化ナトリ
ウムを加えて型に流し込み、冷却固化して製造される。
イオン化塩化ナトリウムは本願出願人提案の方法により
イオン化されている。イオン化石鹸１はマイナスイオン
を多く含むので、その使用部位にマイナスイオンが供給
される。
ンス剤が不要である体用洗浄料。 【解決手段】 イオン化石鹸１は、各隅に丸みをもたせ
た矩形板の両面で中央が僅かに突出した形状に成形され
ている。寸法は略６０ｍｍ×８０ｍｍ×２０ｍｍであ
る。このイオン化された石鹸１は、天然油脂を鹸化，塩
析することにより得られた石鹸層にイオン化塩化ナトリ
ウムを加えて型に流し込み、冷却固化して製造される。
イオン化塩化ナトリウムは本願出願人提案の方法により
イオン化されている。イオン化石鹸１はマイナスイオン
を多く含むので、その使用部位にマイナスイオンが供給
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、石鹸，全身洗浄
料，シャンプーなどの体用の洗浄料及びその製造方法に
関する。
料，シャンプーなどの体用の洗浄料及びその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ヒトの
皮膚の表面には絶えず分泌される皮脂及び汗と、新陳代
謝により剥がれた角質とが付着している。これらは混合
されて時間と共に変質し、分解されて垢になる。この垢
が皮膚の表面に付着した状態が続くと、皮脂及び汗の分
泌が妨げられ、細菌の繁殖を促して皮膚病になることも
ある。皮膚に付着した垢は石鹸，全身洗浄料などの使用
により皮膚の表面から取り除くことができる。
皮膚の表面には絶えず分泌される皮脂及び汗と、新陳代
謝により剥がれた角質とが付着している。これらは混合
されて時間と共に変質し、分解されて垢になる。この垢
が皮膚の表面に付着した状態が続くと、皮脂及び汗の分
泌が妨げられ、細菌の繁殖を促して皮膚病になることも
ある。皮膚に付着した垢は石鹸，全身洗浄料などの使用
により皮膚の表面から取り除くことができる。
【０００３】また、頭皮は常に皮脂を分泌して頭髪に栄
養を与えている。しかしながら、皮脂が多過ぎると、外
部からの埃，塵などが皮脂に混ざってフケが生じたり、
皮脂が毛根を埋めた状態が続いて毛切れ，裂け毛，抜毛
などの原因になる。毛髪及び頭皮に付着した皮脂，フケ
などはシャンプ−のような頭髪用洗浄料を使用して洗い
流すことができる。
養を与えている。しかしながら、皮脂が多過ぎると、外
部からの埃，塵などが皮脂に混ざってフケが生じたり、
皮脂が毛根を埋めた状態が続いて毛切れ，裂け毛，抜毛
などの原因になる。毛髪及び頭皮に付着した皮脂，フケ
などはシャンプ−のような頭髪用洗浄料を使用して洗い
流すことができる。
【０００４】石鹸は天然油脂から得られる高級脂肪酸の
金属塩であり、全身洗浄料及びシャンプーは石油から得
られる中性洗剤のものが多い。これらはその界面活性能
により垢，皮脂，フケなどを皮膚，毛髪から剥がし、
水，湯などに混和させて洗い流す。しかしながら、頻繁
に洗浄を行なって過剰に皮脂が除去されたり、湿度が低
い冬季には、洗浄後に皮膚の保湿性が失われて肌がカサ
ついたり、また頭髪が乾燥してパサパサになることがあ
る。さらに毛髪同士の摩擦によりプラスの静電気が発生
し易くなり、髪がもつれたり切れたりする。これらを防
止するために、シャンプー後にはリンス剤を使用して毛
髪を柔軟にし、油分を補って静電気を除去しなければな
らなかった。また、石鹸は中性洗剤と比較して水及び湯
に混和されにくく、従って、石鹸で頭髪を洗浄した場合
には、石鹸を完全に洗い流すために多量の水，湯を使っ
て長時間すすがなければならず、煩わしかった。
金属塩であり、全身洗浄料及びシャンプーは石油から得
られる中性洗剤のものが多い。これらはその界面活性能
により垢，皮脂，フケなどを皮膚，毛髪から剥がし、
水，湯などに混和させて洗い流す。しかしながら、頻繁
に洗浄を行なって過剰に皮脂が除去されたり、湿度が低
い冬季には、洗浄後に皮膚の保湿性が失われて肌がカサ
ついたり、また頭髪が乾燥してパサパサになることがあ
る。さらに毛髪同士の摩擦によりプラスの静電気が発生
し易くなり、髪がもつれたり切れたりする。これらを防
止するために、シャンプー後にはリンス剤を使用して毛
髪を柔軟にし、油分を補って静電気を除去しなければな
らなかった。また、石鹸は中性洗剤と比較して水及び湯
に混和されにくく、従って、石鹸で頭髪を洗浄した場合
には、石鹸を完全に洗い流すために多量の水，湯を使っ
て長時間すすがなければならず、煩わしかった。
【０００５】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であり、マイナスイオン化された塩化ナトリウム及び／
又はマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を含むことによ
り、皮膚の新陳代謝を促進させ、洗浄後の皮膚，髪の乾
燥、髪のもつれを防止する体用洗浄料を提供することを
目的とする。
であり、マイナスイオン化された塩化ナトリウム及び／
又はマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を含むことによ
り、皮膚の新陳代謝を促進させ、洗浄後の皮膚，髪の乾
燥、髪のもつれを防止する体用洗浄料を提供することを
目的とする。
【０００６】また石鹸に、イオン化された塩化ナトリウ
ム及び／又はマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を配合す
ることにより、頭髪を洗浄した際に、すすぎが容易で、
短時間で石鹸を洗い流すことができる体用洗浄料を提供
することを目的とする。
ム及び／又はマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を配合す
ることにより、頭髪を洗浄した際に、すすぎが容易で、
短時間で石鹸を洗い流すことができる体用洗浄料を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１発明に係る体用洗浄
料は、マイナスイオン化された塩化ナトリウムを含むこ
とを特徴とする。また、第２発明に係る体用洗浄料は、
マイナスイオン化されたＳｉＯ2 を含むことを特徴とす
る。さらに、第３発明に係る体用洗浄料は、マイナスイ
オン化された塩化ナトリウム及びマイナスイオン化され
たＳｉＯ2 を含むことを特徴とする。
料は、マイナスイオン化された塩化ナトリウムを含むこ
とを特徴とする。また、第２発明に係る体用洗浄料は、
マイナスイオン化されたＳｉＯ2 を含むことを特徴とす
る。さらに、第３発明に係る体用洗浄料は、マイナスイ
オン化された塩化ナトリウム及びマイナスイオン化され
たＳｉＯ2 を含むことを特徴とする。
【０００８】第１，第２及び第３発明にあっては、含ま
れている塩化ナトリウム及び／又はＳｉＯ2 がイオン化
されている。ここでマイナスイオン化とは負電荷を与え
られたことを意味する。マイナスイオンが人体に供給さ
れたとき、人体内の細胞，筋肉及び血液が活性化され、
血圧下降作用，血糖減少作用，血管拡張作用及び利尿促
進作用などの生体作用が生じることが知られている。マ
イナスイオン化された塩化ナトリウムを配合した体用洗
浄料は全体的にマイナスイオンに帯電されており、この
体用洗浄料を使用することにより、マイナスイオンが皮
膚，頭皮又は頭髪に供給される。
れている塩化ナトリウム及び／又はＳｉＯ2 がイオン化
されている。ここでマイナスイオン化とは負電荷を与え
られたことを意味する。マイナスイオンが人体に供給さ
れたとき、人体内の細胞，筋肉及び血液が活性化され、
血圧下降作用，血糖減少作用，血管拡張作用及び利尿促
進作用などの生体作用が生じることが知られている。マ
イナスイオン化された塩化ナトリウムを配合した体用洗
浄料は全体的にマイナスイオンに帯電されており、この
体用洗浄料を使用することにより、マイナスイオンが皮
膚，頭皮又は頭髪に供給される。
【０００９】その結果、皮膚細胞が活性化されて細胞分
裂が活発になり、新陳代謝が促進されて角質が剥がれ易
くなり、垢，皮脂が除去され易くなる。また、新陳代謝
の促進により洗浄後の皮膚の乾燥が防止される。さらに
毛根細胞が活性化されて髪に必要なだけの油分が分泌さ
れて毛髪の乾燥を防ぎ、毛髪が柔軟になる。
裂が活発になり、新陳代謝が促進されて角質が剥がれ易
くなり、垢，皮脂が除去され易くなる。また、新陳代謝
の促進により洗浄後の皮膚の乾燥が防止される。さらに
毛根細胞が活性化されて髪に必要なだけの油分が分泌さ
れて毛髪の乾燥を防ぎ、毛髪が柔軟になる。
【００１０】さらにまた、天然油脂を原料として製造さ
れたマイナスイオン化石鹸（以下、イオン化石鹸とい
う）を用いて洗浄した場合には、イオン化石鹸中のマイ
ナスイオンにより、脂肪酸ナトリウムと無機塩などの不
純物とで水に不溶性の塩を生成する反応が抑制され、頭
髪に付着していた皮脂，汚れなどを吸着した吸着分子が
水，湯に溶けやすくなる。その結果、通常の石鹸では多
量の水，湯を使用して行なっていたすすぎの作業が、イ
オン化石鹸では少量の水，湯で短時間に行なえる。
れたマイナスイオン化石鹸（以下、イオン化石鹸とい
う）を用いて洗浄した場合には、イオン化石鹸中のマイ
ナスイオンにより、脂肪酸ナトリウムと無機塩などの不
純物とで水に不溶性の塩を生成する反応が抑制され、頭
髪に付着していた皮脂，汚れなどを吸着した吸着分子が
水，湯に溶けやすくなる。その結果、通常の石鹸では多
量の水，湯を使用して行なっていたすすぎの作業が、イ
オン化石鹸では少量の水，湯で短時間に行なえる。
【００１１】第４発明に係る体用洗浄料の製造方法は、
塩化ナトリウムを、マイナスイオン化された石英坩堝に
所定時間投入する第１過程と、マイナスイオン化された
粒状又は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦２）をガ
ラス棒に封入してなる負電荷付与手段の所定数を地中に
埋設した場所で、前記第１過程にて処理された塩化ナト
リウムを所定時間焼成する第２過程とを有して生成され
たマイナスイオン化塩化ナトリウムを、界面活性能を有
する材料に混合することを特徴とする。
塩化ナトリウムを、マイナスイオン化された石英坩堝に
所定時間投入する第１過程と、マイナスイオン化された
粒状又は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦２）をガ
ラス棒に封入してなる負電荷付与手段の所定数を地中に
埋設した場所で、前記第１過程にて処理された塩化ナト
リウムを所定時間焼成する第２過程とを有して生成され
たマイナスイオン化塩化ナトリウムを、界面活性能を有
する材料に混合することを特徴とする。
【００１２】第４発明にあっては、第１過程で、負電荷
が与えられた石英坩堝に塩化ナトリウムを投入するの
で、負電荷が塩化ナトリウムに移行して塩化ナトリウム
が負電荷を帯びた状態になる。その後の第２過程にて、
負電荷付与手段が埋設された場所でこの塩化ナトリウム
を焼成することにより、負電荷が塩化ナトリウムに定着
し、負電荷の経時的減少が抑制される。このようにマイ
ナスイオン化された塩化ナトリウムを、界面活性能を有
する体用洗浄料の主原料に混合することにより体用洗浄
料が全体的にマイナスイオン化され、その使用時に皮膚
及び頭髪にマイナスイオンが供給される。
が与えられた石英坩堝に塩化ナトリウムを投入するの
で、負電荷が塩化ナトリウムに移行して塩化ナトリウム
が負電荷を帯びた状態になる。その後の第２過程にて、
負電荷付与手段が埋設された場所でこの塩化ナトリウム
を焼成することにより、負電荷が塩化ナトリウムに定着
し、負電荷の経時的減少が抑制される。このようにマイ
ナスイオン化された塩化ナトリウムを、界面活性能を有
する体用洗浄料の主原料に混合することにより体用洗浄
料が全体的にマイナスイオン化され、その使用時に皮膚
及び頭髪にマイナスイオンが供給される。
【００１３】第５発明に係る体用洗浄料の製造方法は、
ＳｉＯ2 を、マイナスイオン化された石英坩堝に所定時
間投入する第１過程と、マイナスイオン化された粒状又
は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦２）をガラス棒
に封入してなる負電荷付与手段の所定数を地中に埋設し
た場所で、前記第１過程にて処理されたＳｉＯ2 を所定
時間焼成する第２過程とを有して生成されたマイナスイ
オン化ＳｉＯ2 を、界面活性能を有する材料に混合する
ことを特徴とする。
ＳｉＯ2 を、マイナスイオン化された石英坩堝に所定時
間投入する第１過程と、マイナスイオン化された粒状又
は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦２）をガラス棒
に封入してなる負電荷付与手段の所定数を地中に埋設し
た場所で、前記第１過程にて処理されたＳｉＯ2 を所定
時間焼成する第２過程とを有して生成されたマイナスイ
オン化ＳｉＯ2 を、界面活性能を有する材料に混合する
ことを特徴とする。
【００１４】第５発明にあっては、第１過程で、負電荷
がＳｉＯ2 に移行してＳｉＯ2 が負電荷を帯びた状態に
なる。その後の第２過程にて、負電荷がＳｉＯ2 に定着
する。このようにマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を、
界面活性能を有する体用洗浄料の主原料に混合すること
により体用洗浄料が全体的にマイナスイオン化され、そ
の使用時に皮膚及び頭髪にマイナスイオンが供給され
る。
がＳｉＯ2 に移行してＳｉＯ2 が負電荷を帯びた状態に
なる。その後の第２過程にて、負電荷がＳｉＯ2 に定着
する。このようにマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を、
界面活性能を有する体用洗浄料の主原料に混合すること
により体用洗浄料が全体的にマイナスイオン化され、そ
の使用時に皮膚及び頭髪にマイナスイオンが供給され
る。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態を
示す図面に基づき具体的に説明する。 実施の形態１．図１は本発明に係るイオン化石鹸の形状
を示す斜視図である。イオン化石鹸１は、各隅に丸みを
もたせた矩形板の両面中央が僅かに突出した形状に成形
されている。寸法は略６０ｍｍ×８０ｍｍ×２０ｍｍで
ある。イオン化石鹸を製造する際は、まず天然油脂７５
％とＮａＯＨ２５％とを混合加熱して石鹸膠を生成し、
この石鹸膠に通常のＮａＣｌを加えて塩析する。塩析に
より生成された２層液の石鹸層（上層）を廃液層（下
層）から分離せしめ、後述する方法で製造されたマイナ
スイオン化塩化ナトリウム（以下、イオン化塩化ナトリ
ウムという）を加えて型に流し込み、冷却固化する。イ
オン化塩化ナトリウムは、前記石鹸層１００（重量％）
に対して３（重量％）の割合で配合されている。なお、
天然油脂の種類及び他の原料は通常の石鹸と同様であ
り、製造方法も通常の石鹸と同様である。
示す図面に基づき具体的に説明する。 実施の形態１．図１は本発明に係るイオン化石鹸の形状
を示す斜視図である。イオン化石鹸１は、各隅に丸みを
もたせた矩形板の両面中央が僅かに突出した形状に成形
されている。寸法は略６０ｍｍ×８０ｍｍ×２０ｍｍで
ある。イオン化石鹸を製造する際は、まず天然油脂７５
％とＮａＯＨ２５％とを混合加熱して石鹸膠を生成し、
この石鹸膠に通常のＮａＣｌを加えて塩析する。塩析に
より生成された２層液の石鹸層（上層）を廃液層（下
層）から分離せしめ、後述する方法で製造されたマイナ
スイオン化塩化ナトリウム（以下、イオン化塩化ナトリ
ウムという）を加えて型に流し込み、冷却固化する。イ
オン化塩化ナトリウムは、前記石鹸層１００（重量％）
に対して３（重量％）の割合で配合されている。なお、
天然油脂の種類及び他の原料は通常の石鹸と同様であ
り、製造方法も通常の石鹸と同様である。
【００１６】上述した如く石鹸膠に加えるイオン化塩化
ナトリウムを生成する手順を以下に説明する。図２はイ
オン化塩化ナトリウムの製造第１過程に使用するマイナ
スイオン化装置を示す斜視図である。マイナスイオン化
装置は、石英坩堝５，銅板６，コード７，７及び静電気
軽減除去装置８で構成されており、静電気軽減除去装置
８は本願出願人が特開平11−87086 号公報にて提案した
ものである。石英坩堝５はすり鉢形状を有し、その開口
側及び底部側に平行配置された銅板６，６及びコード
７，７を介して静電気軽減除去装置８に接続されてい
る。
ナトリウムを生成する手順を以下に説明する。図２はイ
オン化塩化ナトリウムの製造第１過程に使用するマイナ
スイオン化装置を示す斜視図である。マイナスイオン化
装置は、石英坩堝５，銅板６，コード７，７及び静電気
軽減除去装置８で構成されており、静電気軽減除去装置
８は本願出願人が特開平11−87086 号公報にて提案した
ものである。石英坩堝５はすり鉢形状を有し、その開口
側及び底部側に平行配置された銅板６，６及びコード
７，７を介して静電気軽減除去装置８に接続されてい
る。
【００１７】まず、静電気軽減除去装置８を作動させて
石英坩堝５にマイナスイオンをおよそ３時間供給し、石
英坩堝５から（＋）静電気を十分に除去してマイナスイ
オン化する。ここでマイナスイオン化された石英坩堝５
とは、負電荷を与えられた石英坩堝を意味する。このよ
うにマイナスイオン化された石英坩堝５内に塩化ナトリ
ウム４を１ｋｇ投入し、静電気軽減除去装置８を作動さ
せた状態で、所定時間（３〜１５分間）保持する。第１
過程終了後、塩化ナトリウム４は負電荷に帯電されてい
る。
石英坩堝５にマイナスイオンをおよそ３時間供給し、石
英坩堝５から（＋）静電気を十分に除去してマイナスイ
オン化する。ここでマイナスイオン化された石英坩堝５
とは、負電荷を与えられた石英坩堝を意味する。このよ
うにマイナスイオン化された石英坩堝５内に塩化ナトリ
ウム４を１ｋｇ投入し、静電気軽減除去装置８を作動さ
せた状態で、所定時間（３〜１５分間）保持する。第１
過程終了後、塩化ナトリウム４は負電荷に帯電されてい
る。
【００１８】製造第２過程として、第１過程にて負電荷
に帯電した塩化ナトリウムを焼成する。図３は、本発明
に係るイオン化塩化ナトリウムを焼成する建物及び敷地
を示す側面図であり、図４はその平面図である。略１０
０坪の敷地１２の中央部に、建物１１（底面３．６ｍ×
９．０ｍ）が建てられている。敷地１２の四隅と中央
（建物１１の中央）には、地下５ｍの深さにイオン棒
９，９…がその長手方向を上下方向にして埋設されてい
る。イオン棒９は本願出願人の特許第２８９６７６２号
による負電荷付与手段であり、長さ１．５ｍ，直径８ｃ
ｍのガラス管９１に粒状又は粉末状の珪素（Ｓｉ）９２
を５〜６ｋｇ封入し、密閉したものである。珪素９２は
特許第２８９６７６２号にて記載されている如くマイナ
スイオン化されている。このイオン棒９からマイナスイ
オンが放出されるので、建物１１及びその近傍における
マイナスイオン濃度は高くなっている。
に帯電した塩化ナトリウムを焼成する。図３は、本発明
に係るイオン化塩化ナトリウムを焼成する建物及び敷地
を示す側面図であり、図４はその平面図である。略１０
０坪の敷地１２の中央部に、建物１１（底面３．６ｍ×
９．０ｍ）が建てられている。敷地１２の四隅と中央
（建物１１の中央）には、地下５ｍの深さにイオン棒
９，９…がその長手方向を上下方向にして埋設されてい
る。イオン棒９は本願出願人の特許第２８９６７６２号
による負電荷付与手段であり、長さ１．５ｍ，直径８ｃ
ｍのガラス管９１に粒状又は粉末状の珪素（Ｓｉ）９２
を５〜６ｋｇ封入し、密閉したものである。珪素９２は
特許第２８９６７６２号にて記載されている如くマイナ
スイオン化されている。このイオン棒９からマイナスイ
オンが放出されるので、建物１１及びその近傍における
マイナスイオン濃度は高くなっている。
【００１９】上記の如く第１製造過程において石英坩堝
５内で負電荷に帯電した塩化ナトリウムを、石英坩堝５
から陶器製の坩堝３に移し、これを建物１１内に配設し
た電気炉２に入れ、５００〜７００℃で３０分〜２時間
焼成する。陶器製の坩堝３は上述した石英坩堝５と同様
に予めマイナスイオン化されている。なお、温度及び焼
成時間は塩化ナトリウムの量及び坩堝３の寸法等により
適宜選択される。また、イオン棒９のガラス管９１の長
さ及び直径、並びに珪素９２の封入量は建物１１及び敷
地１２の寸法により適宜選択され、イオン棒９の埋設位
置，深さ及びその個数についても建物１１及び敷地１２
の寸法及び形状を考慮して適宜選択される。さらに、本
実施の形態においては地下埋設されたイオン棒９内に珪
素９２を封入しているが、ＳｉＯｘを封入しても良い。
但し、１．００＜ｘ≦２．０であることが好ましい。
５内で負電荷に帯電した塩化ナトリウムを、石英坩堝５
から陶器製の坩堝３に移し、これを建物１１内に配設し
た電気炉２に入れ、５００〜７００℃で３０分〜２時間
焼成する。陶器製の坩堝３は上述した石英坩堝５と同様
に予めマイナスイオン化されている。なお、温度及び焼
成時間は塩化ナトリウムの量及び坩堝３の寸法等により
適宜選択される。また、イオン棒９のガラス管９１の長
さ及び直径、並びに珪素９２の封入量は建物１１及び敷
地１２の寸法により適宜選択され、イオン棒９の埋設位
置，深さ及びその個数についても建物１１及び敷地１２
の寸法及び形状を考慮して適宜選択される。さらに、本
実施の形態においては地下埋設されたイオン棒９内に珪
素９２を封入しているが、ＳｉＯｘを封入しても良い。
但し、１．００＜ｘ≦２．０であることが好ましい。
【００２０】このように製造第２過程ではイオン棒９に
よるマイナスイオン雰囲気にてイオン化塩化ナトリウム
が焼成されるので、製造第１過程にて塩化ナトリウムに
付与された負電荷が第２製造過程では定着する。これに
より、イオン化塩化ナトリウムからのマイナスイオンの
経時的な減少を抑制する。
よるマイナスイオン雰囲気にてイオン化塩化ナトリウム
が焼成されるので、製造第１過程にて塩化ナトリウムに
付与された負電荷が第２製造過程では定着する。これに
より、イオン化塩化ナトリウムからのマイナスイオンの
経時的な減少を抑制する。
【００２１】以上の如きイオン化石鹸を入浴時に使用し
た結果、肌がスベスベしてカサツキがなかった。これは
マイナスイオンの供給により皮膚の新陳代謝が促進され
て垢が十分に除去され、必要量の皮脂が分泌されたため
であると言える。また、このイオン化石鹸を頭髪洗浄に
使用した。従来の石鹸を頭髪洗浄に用いた場合は毛髪が
乾燥し、もつれたり切れ易くなったりするが、本実施の
形態のイオン化石鹸を使用した場合は、毛髪は柔軟にな
り、切れ毛，もつれがなくなった。これは、イオン化石
鹸からのマイナスイオンの供給により頭髪洗浄後のプラ
スの静電気の帯電が防止しされたためであると言える。
た結果、肌がスベスベしてカサツキがなかった。これは
マイナスイオンの供給により皮膚の新陳代謝が促進され
て垢が十分に除去され、必要量の皮脂が分泌されたため
であると言える。また、このイオン化石鹸を頭髪洗浄に
使用した。従来の石鹸を頭髪洗浄に用いた場合は毛髪が
乾燥し、もつれたり切れ易くなったりするが、本実施の
形態のイオン化石鹸を使用した場合は、毛髪は柔軟にな
り、切れ毛，もつれがなくなった。これは、イオン化石
鹸からのマイナスイオンの供給により頭髪洗浄後のプラ
スの静電気の帯電が防止しされたためであると言える。
【００２２】また、従来の石鹸を使用した場合はそのす
すぎに多量の湯が必要であったが、本実施の形態のイオ
ン化石鹸を使用した際には、少量の湯で短時間にすすぎ
が完全に行なえた。これはイオン化石鹸中のマイナスイ
オンにより、脂肪酸ナトリウムと無機塩などの不純物と
で水に不溶性の塩を生成する反応が抑制され、頭髪に付
着していた皮脂，汚れなどを吸着した吸着分子が水，湯
に溶けやすくなるためと考えられる。
すぎに多量の湯が必要であったが、本実施の形態のイオ
ン化石鹸を使用した際には、少量の湯で短時間にすすぎ
が完全に行なえた。これはイオン化石鹸中のマイナスイ
オンにより、脂肪酸ナトリウムと無機塩などの不純物と
で水に不溶性の塩を生成する反応が抑制され、頭髪に付
着していた皮脂，汚れなどを吸着した吸着分子が水，湯
に溶けやすくなるためと考えられる。
【００２３】なお、上述した体用洗浄料は、イオン化塩
化ナトリウムの配合率が３（重量％／石鹸層）である場
合を説明しているが、これに限るものではなく、１重量
％〜１８重量％の範囲であれば良い。マイナスイオン化
された塩化ナトリウムの配合率が１重量％より少ない場
合はその効果が小さく、１８重量％を超えると石鹸の成
形が困難になる。
化ナトリウムの配合率が３（重量％／石鹸層）である場
合を説明しているが、これに限るものではなく、１重量
％〜１８重量％の範囲であれば良い。マイナスイオン化
された塩化ナトリウムの配合率が１重量％より少ない場
合はその効果が小さく、１８重量％を超えると石鹸の成
形が困難になる。
【００２４】また、イオン化石鹸の形状，寸法はこれに
限らず、所望の形状に成形してあっても良く、成形方法
は型で冷却固化する他、真空押出機で押出成形を行って
も良い。さらに、上述した原料の他に香料，色素などの
添加物を配合してあっても良い。
限らず、所望の形状に成形してあっても良く、成形方法
は型で冷却固化する他、真空押出機で押出成形を行って
も良い。さらに、上述した原料の他に香料，色素などの
添加物を配合してあっても良い。
【００２５】実施の形態２．次に、マイナスイオン化Ｓ
ｉＯ2 （以下、イオン化ＳｉＯ2 という）を含む体用洗
浄料について説明する。天然のケイ砂（主にＳｉＯ2 ）
を、実施の形態１にて述べたイオン化塩化ナトリウムと
同様の手順でマイナスイオン化し、イオン化されたＳｉ
Ｏ2 を用いてイオン化石鹸を製造した。なおＳｉＯ2 の
イオン化条件は、製造第１過程での石英坩堝５内の保持
時間は５〜１０分間であり、製造第２過程での電気炉２
による焼成温度は８００〜１０００℃，焼成時間は５０
分〜２時間焼成である。
ｉＯ2 （以下、イオン化ＳｉＯ2 という）を含む体用洗
浄料について説明する。天然のケイ砂（主にＳｉＯ2 ）
を、実施の形態１にて述べたイオン化塩化ナトリウムと
同様の手順でマイナスイオン化し、イオン化されたＳｉ
Ｏ2 を用いてイオン化石鹸を製造した。なおＳｉＯ2 の
イオン化条件は、製造第１過程での石英坩堝５内の保持
時間は５〜１０分間であり、製造第２過程での電気炉２
による焼成温度は８００〜１０００℃，焼成時間は５０
分〜２時間焼成である。
【００２６】まず天然油脂７５％とＮａＯＨ２５％とを
混合加熱して石鹸膠を生成し、この石鹸膠に通常のＮａ
Ｃｌを加えて塩析する。塩析により生成された２層液の
石鹸層（上層）を廃液層（下層）から分離せしめ、この
石鹸層にイオン化ＳｉＯ2 を加えて型に流し込み、冷却
固化する。このイオン化石鹸の形状及び寸法は実施の形
態１と同様である。イオン化ＳｉＯ2 は、前記石鹸層１
００（重量％）に対して５（重量％）の割合で配合され
ている。なお、天然油脂の種類及び他の原料は通常の石
鹸と同様であり、製造方法も通常の石鹸と同様で良い。
混合加熱して石鹸膠を生成し、この石鹸膠に通常のＮａ
Ｃｌを加えて塩析する。塩析により生成された２層液の
石鹸層（上層）を廃液層（下層）から分離せしめ、この
石鹸層にイオン化ＳｉＯ2 を加えて型に流し込み、冷却
固化する。このイオン化石鹸の形状及び寸法は実施の形
態１と同様である。イオン化ＳｉＯ2 は、前記石鹸層１
００（重量％）に対して５（重量％）の割合で配合され
ている。なお、天然油脂の種類及び他の原料は通常の石
鹸と同様であり、製造方法も通常の石鹸と同様で良い。
【００２７】以上の如く製造された実施の形態２のイオ
ン化石鹸を使用した結果、実施の形態１と同様の効果が
得られた。即ち、イオン化ＳｉＯ2 のマイナスイオンに
より皮膚の新陳代謝が促進されて垢が十分に除去され、
カサツキも生じない。また、頭髪洗浄後のプラスの静電
気の帯電を防止する帯電防止効果が得られた。
ン化石鹸を使用した結果、実施の形態１と同様の効果が
得られた。即ち、イオン化ＳｉＯ2 のマイナスイオンに
より皮膚の新陳代謝が促進されて垢が十分に除去され、
カサツキも生じない。また、頭髪洗浄後のプラスの静電
気の帯電を防止する帯電防止効果が得られた。
【００２８】なお、上述したイオン化石鹸は、イオン化
ＳｉＯ2 の配合率が５（重量％／石鹸層）である場合を
説明しているが、これに限るものではなく、３重量％〜
３０重量％の範囲であれば良い。イオン化ＳｉＯ2 の配
合率が３重量％より少ない場合はその効果が小さく、３
０重量％を超えると石鹸の成形が困難になる。
ＳｉＯ2 の配合率が５（重量％／石鹸層）である場合を
説明しているが、これに限るものではなく、３重量％〜
３０重量％の範囲であれば良い。イオン化ＳｉＯ2 の配
合率が３重量％より少ない場合はその効果が小さく、３
０重量％を超えると石鹸の成形が困難になる。
【００２９】実施の形態３．イオン化塩化ナトリウム及
びイオン化ＳｉＯ2 を含むイオン化石鹸について以下に
説明する。まず、実施の形態１に説明した手順で製造さ
れたイオン化塩化ナトリウムを実施の形態１で述べた石
鹸膠に加え、塩析により２層液が生成される。２層液の
上層の石鹸層に、実施の形態２に説明した手順で製造さ
れたイオン化ＳｉＯ2 を加えて型に流し込み、冷却固化
する。イオン化塩化ナトリウムは１（重量％／石鹸
膠）、イオン化ＳｉＯ2 は２０（重量％／石鹸層）の割
合で配合されている。
びイオン化ＳｉＯ2 を含むイオン化石鹸について以下に
説明する。まず、実施の形態１に説明した手順で製造さ
れたイオン化塩化ナトリウムを実施の形態１で述べた石
鹸膠に加え、塩析により２層液が生成される。２層液の
上層の石鹸層に、実施の形態２に説明した手順で製造さ
れたイオン化ＳｉＯ2 を加えて型に流し込み、冷却固化
する。イオン化塩化ナトリウムは１（重量％／石鹸
膠）、イオン化ＳｉＯ2 は２０（重量％／石鹸層）の割
合で配合されている。
【００３０】以上の如く製造された実施の形態３の体用
洗浄料を使用した結果、実施の形態１と同様の効果が得
られた。即ち、イオン化塩化ナトリウム及びイオン化Ｓ
ｉＯ 2 のマイナスイオンにより皮膚の新陳代謝が促進さ
れて垢が十分に除去され、カサツキも生じない。また、
頭髪洗浄後のプラスの静電気の帯電を防止する帯電防止
効果が得られた。
洗浄料を使用した結果、実施の形態１と同様の効果が得
られた。即ち、イオン化塩化ナトリウム及びイオン化Ｓ
ｉＯ 2 のマイナスイオンにより皮膚の新陳代謝が促進さ
れて垢が十分に除去され、カサツキも生じない。また、
頭髪洗浄後のプラスの静電気の帯電を防止する帯電防止
効果が得られた。
【００３１】なお、イオン化塩化ナトリウムの配合率は
0.3 〜30（重量％／石鹸膠）であれば良く、イオン化Ｓ
ｉＯ2 の配合率は0.3 〜30（重量％／石鹸膠）であれば
良い。イオン化塩化ナトリウム及びイオン化ＳｉＯ2 の
配合率が夫々、0.3 重量％，0.3 重量％より少ない場合
はその効果が小さく、30重量％，30重量％を超えると石
鹸の成形が困難になる。
0.3 〜30（重量％／石鹸膠）であれば良く、イオン化Ｓ
ｉＯ2 の配合率は0.3 〜30（重量％／石鹸膠）であれば
良い。イオン化塩化ナトリウム及びイオン化ＳｉＯ2 の
配合率が夫々、0.3 重量％，0.3 重量％より少ない場合
はその効果が小さく、30重量％，30重量％を超えると石
鹸の成形が困難になる。
【００３２】上述した如き実施の形態１〜実施の形態３
のイオン化石鹸のイオン化の程度を調べた。図５はその
結果を示したグラフである。ファラデーゲージと静電気
測定器SV-77Aとの併用により各イオン化石鹸の電荷量を
測定した。横軸は電荷量（Ｖ）を示し、(a) は実施の形
態１，(b) は実施の形態２，(c) は実施の形態３の結果
を夫々示している。また、市販されている従来の固形石
鹸(d) ，(e) ，(f) についても電荷量を同様に測定し、
図６に示した。図５及び図６から明らかなように、従来
の固形石鹸では電荷量が（＋）であるのに対して、本実
施の形態１，２，３のイオン化石鹸はいずれも−５０Ｖ
〜−１００Ｖの電荷量を示している。これは、イオン化
石鹸が常に負電荷を帯びた状態であることを示してい
る。また、イオン化塩化ナトリウム及びイオン化ＳｉＯ
2 の両方を配合したイオン化石鹸は、最もマイナスイオ
ン化の程度が高いといえる。
のイオン化石鹸のイオン化の程度を調べた。図５はその
結果を示したグラフである。ファラデーゲージと静電気
測定器SV-77Aとの併用により各イオン化石鹸の電荷量を
測定した。横軸は電荷量（Ｖ）を示し、(a) は実施の形
態１，(b) は実施の形態２，(c) は実施の形態３の結果
を夫々示している。また、市販されている従来の固形石
鹸(d) ，(e) ，(f) についても電荷量を同様に測定し、
図６に示した。図５及び図６から明らかなように、従来
の固形石鹸では電荷量が（＋）であるのに対して、本実
施の形態１，２，３のイオン化石鹸はいずれも−５０Ｖ
〜−１００Ｖの電荷量を示している。これは、イオン化
石鹸が常に負電荷を帯びた状態であることを示してい
る。また、イオン化塩化ナトリウム及びイオン化ＳｉＯ
2 の両方を配合したイオン化石鹸は、最もマイナスイオ
ン化の程度が高いといえる。
【００３３】上述した実施の形態１及び実施の形態２で
は、天然油脂を用いた固形のイオン化石鹸を例に挙げて
説明しているが、これに限るものではなく、液状に製造
した場合でも同様の効果を得る。また天然油脂に限ら
ず、合成洗浄料の原料を用いて、実施の形態１〜３と同
様のイオン化全身洗浄料又はイオン化シャンプ−を製造
した場合でも同様の効果を得ることができる。
は、天然油脂を用いた固形のイオン化石鹸を例に挙げて
説明しているが、これに限るものではなく、液状に製造
した場合でも同様の効果を得る。また天然油脂に限ら
ず、合成洗浄料の原料を用いて、実施の形態１〜３と同
様のイオン化全身洗浄料又はイオン化シャンプ−を製造
した場合でも同様の効果を得ることができる。
【００３４】
【発明の効果】以上のように、本発明のイオン化塩化ナ
トリウム及びイオン化ＳｉＯ2 はマイナスイオン化され
ているので、これを含んで製造された体用洗浄料を使用
することにより、使用した箇所、即ち皮膚，頭髪などに
マイナスイオンが供給され、皮膚細胞，毛根細胞が活性
化されて新陳代謝が促進される。その結果、垢が十分に
除去され、カサツキも生じない。また洗浄後のプラスの
静電気の帯電を防止できる。さらに、イオン化石鹸を使
用して頭髪を洗浄した場合に、石鹸のすすぎが容易であ
る等、本発明は今までにない優れた効果を奏する。
トリウム及びイオン化ＳｉＯ2 はマイナスイオン化され
ているので、これを含んで製造された体用洗浄料を使用
することにより、使用した箇所、即ち皮膚，頭髪などに
マイナスイオンが供給され、皮膚細胞，毛根細胞が活性
化されて新陳代謝が促進される。その結果、垢が十分に
除去され、カサツキも生じない。また洗浄後のプラスの
静電気の帯電を防止できる。さらに、イオン化石鹸を使
用して頭髪を洗浄した場合に、石鹸のすすぎが容易であ
る等、本発明は今までにない優れた効果を奏する。
【図１】本実施の形態のイオン化石鹸の形状を示す斜視
図である。
図である。
【図２】本発明に係るイオン化塩化ナトリウムの製造第
１過程に使用するマイナスイオン化装置を示す斜視図で
ある。
１過程に使用するマイナスイオン化装置を示す斜視図で
ある。
【図３】本発明に係るイオン化塩化ナトリウムを焼成す
る建物及び敷地を示す側面図である。
る建物及び敷地を示す側面図である。
【図４】図３の平面図である。
【図５】実施の形態１〜３のイオン化石鹸のイオン化程
度を示すグラフである。
度を示すグラフである。
【図６】市販の固形石鹸のイオン化程度を示すグラフで
ある。
ある。
１ イオン化石鹸 ２ 電気炉 ３ 陶器製の坩堝 ４ 塩化ナトリウム ５ 石英坩堝 ８ 静電気軽減除去装置 ９ 地下埋設されたイオン棒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ▲高▼松 邦明 山形県上山市高松55 (72)発明者 大原 成子 奈良県奈良市あやめ池南７丁目538の18 (72)発明者 仁瓶 禮子 横浜市港北区日吉本町５丁目71番18号 Ｆターム(参考） 4C083 AA122 AB032 AB171 AB172 AB331 AB332 CC23 DD21 EE06 EE10 EE12 4H003 AB03 BA12 DA02 EA19 EA25 FA21 FA23 FA33
Claims (5)
- 【請求項１】 マイナスイオン化された塩化ナトリウム
を含むことを特徴とする体用洗浄料。 - 【請求項２】 マイナスイオン化されたＳｉＯ2 を含む
ことを特徴とする体用洗浄料。 - 【請求項３】 マイナスイオン化された塩化ナトリウム
及びマイナスイオン化されたＳｉＯ2 を含むことを特徴
とする体用洗浄料。 - 【請求項４】 塩化ナトリウムを、マイナスイオン化さ
れた石英坩堝に所定時間投入する第１過程と、マイナス
イオン化された粒状又は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０
＜ｘ≦２）をガラス棒に封入してなる負電荷付与手段の
所定数を地中に埋設した場所で、前記第１過程にて処理
された塩化ナトリウムを所定時間焼成する第２過程とを
有して生成されたマイナスイオン化塩化ナトリウムを、
界面活性能を有する材料に混合することを特徴とする体
用洗浄料の製造方法。 - 【請求項５】 ＳｉＯ2 を、マイナスイオン化された石
英坩堝に所定時間投入する第１過程と、マイナスイオン
化された粒状又は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦
２）をガラス棒に封入してなる負電荷付与手段の所定数
を地中に埋設した場所で、前記第１過程にて処理された
ＳｉＯ2 を所定時間焼成する第２過程とを有して生成さ
れたマイナスイオン化ＳｉＯ2 を、界面活性能を有する
材料に混合することを特徴とする体用洗浄料の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27331399A JP2001097846A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 体用洗浄料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27331399A JP2001097846A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 体用洗浄料及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001097846A true JP2001097846A (ja) | 2001-04-10 |
Family
ID=17526145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27331399A Pending JP2001097846A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 体用洗浄料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001097846A (ja) |
Citations (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56163200A (en) * | 1980-05-22 | 1981-12-15 | Taira Yokozawa | Manufacture of beauty soap from nightingale droppings |
| JPH06305951A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-01 | Kanebo Ltd | 洗浄剤組成物 |
| JPH06345635A (ja) * | 1993-06-07 | 1994-12-20 | Girufuii Kk | 含塩化粧品 |
| JPH083596A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-09 | Pola Chem Ind Inc | 石鹸装飾剤及びそれを含有する固形石鹸 |
| JPH08503480A (ja) * | 1992-11-24 | 1996-04-16 | ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ | 化粧品組成物 |
| JPH09157155A (ja) * | 1995-12-14 | 1997-06-17 | 邦明 ▲高▼松 | 珪素浴材 |
| JPH09249528A (ja) * | 1996-03-12 | 1997-09-22 | Noevir Co Ltd | 非水ゲル状皮膚洗浄料 |
| JPH09249527A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Noevir Co Ltd | 塩化ナトリウム含有ゲル組成物及びその製造方法 |
| JPH09278624A (ja) * | 1996-04-08 | 1997-10-28 | Teruaki Kuwabara | 化粧品 |
| JPH1046200A (ja) * | 1996-05-20 | 1998-02-17 | Imaginative Res Assoc Inc | 高濃度の皮膚軟化剤と粉状シリカを含有する固型洗剤組成物 |
| JPH1087430A (ja) * | 1996-09-13 | 1998-04-07 | Ohara Shigeko | マッサージクリーム |
| JPH10120523A (ja) * | 1996-10-23 | 1998-05-12 | Jewel Power Kaihatsushitsu Kk | フェ−スマスク用繊維集合体 |
| JPH10231236A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-09-02 | Ryuji Teraoka | マイナスイオン発生物質を含有した歯みがき類 |
| JPH10234337A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-08 | Best Fuyuujohn Kk | トルマリン鉱石含有食品及び外用剤 |
| JP2896762B2 (ja) * | 1995-12-14 | 1999-05-31 | 邦明 ▲高▼松 | 帯電防止具及び帯電防止方法 |
| JPH11152216A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Kureitsu:Kk | 歯磨き剤 |
-
1999
- 1999-09-27 JP JP27331399A patent/JP2001097846A/ja active Pending
Patent Citations (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56163200A (en) * | 1980-05-22 | 1981-12-15 | Taira Yokozawa | Manufacture of beauty soap from nightingale droppings |
| JPH08503480A (ja) * | 1992-11-24 | 1996-04-16 | ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ | 化粧品組成物 |
| JPH06305951A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-01 | Kanebo Ltd | 洗浄剤組成物 |
| JPH06345635A (ja) * | 1993-06-07 | 1994-12-20 | Girufuii Kk | 含塩化粧品 |
| JPH083596A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-09 | Pola Chem Ind Inc | 石鹸装飾剤及びそれを含有する固形石鹸 |
| JP2896762B2 (ja) * | 1995-12-14 | 1999-05-31 | 邦明 ▲高▼松 | 帯電防止具及び帯電防止方法 |
| JPH09157155A (ja) * | 1995-12-14 | 1997-06-17 | 邦明 ▲高▼松 | 珪素浴材 |
| JPH09249528A (ja) * | 1996-03-12 | 1997-09-22 | Noevir Co Ltd | 非水ゲル状皮膚洗浄料 |
| JPH09249527A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Noevir Co Ltd | 塩化ナトリウム含有ゲル組成物及びその製造方法 |
| JPH09278624A (ja) * | 1996-04-08 | 1997-10-28 | Teruaki Kuwabara | 化粧品 |
| JPH1046200A (ja) * | 1996-05-20 | 1998-02-17 | Imaginative Res Assoc Inc | 高濃度の皮膚軟化剤と粉状シリカを含有する固型洗剤組成物 |
| JPH1087430A (ja) * | 1996-09-13 | 1998-04-07 | Ohara Shigeko | マッサージクリーム |
| JPH10120523A (ja) * | 1996-10-23 | 1998-05-12 | Jewel Power Kaihatsushitsu Kk | フェ−スマスク用繊維集合体 |
| JPH10231236A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-09-02 | Ryuji Teraoka | マイナスイオン発生物質を含有した歯みがき類 |
| JPH10234337A (ja) * | 1997-02-28 | 1998-09-08 | Best Fuyuujohn Kk | トルマリン鉱石含有食品及び外用剤 |
| JPH11152216A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Kureitsu:Kk | 歯磨き剤 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1523296B1 (en) | Toilet bar having simultaneous exfoliating and moisturizing properties | |
| US3383280A (en) | Dermatological abradant stick-type applicator | |
| MXPA03007232A (es) | Barra de limpieza que contiene elementos discretos. | |
| JP2002053460A (ja) | 発熱性化粧組成物 | |
| US6680285B2 (en) | Skin cleansing bar with high levels of liquid emollient | |
| BRPI0108259B1 (pt) | barra de limpeza de multifases compreendendo emolientes, e, processo para produzir uma barra de limpeza compreendendo emolientes | |
| WO2004009954A1 (en) | Method for completing injection wells | |
| KR960705914A (ko) | 액체 폴리올 및 마그네슘 비누를 함유한 개선된 아실 이세티오네이트 피부 세정 바아(improved acyl isethionate skin cleansing bar containing liquid polyols and magnesium soap) | |
| JP2001518101A (ja) | 付着強化型身体洗浄用バー | |
| WO1998014559A1 (en) | Mild cleansing bar compositions | |
| ES2224612T3 (es) | Composicion en forma de pastilla para la limpieza de la piel. | |
| JP2001097846A (ja) | 体用洗浄料及びその製造方法 | |
| JP2942428B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2004182608A (ja) | 身体用洗浄料及びその製造方法 | |
| JP2001328932A (ja) | ゴマージュ化粧料 | |
| ATE193548T1 (de) | Verfahren zur herstellung von wasch- oder reinigungsmittelformkörpern | |
| AU637580B2 (en) | An ultra-mild skin cleansing bar | |
| JPS63161079A (ja) | 固形洗浄剤組成物 | |
| JPH10147800A (ja) | 透明石鹸組成物およびその製造方法 | |
| JPH01149714A (ja) | 乳濁状浴用剤 | |
| JPH04359999A (ja) | スクラブ剤を含む石けん | |
| JP2588870B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| CN1136588A (zh) | 不经碱化的无碱性透明块状肥皂的制造方法 | |
| EA016833B1 (ru) | Новый вид брусков моющего средства | |
| JPH0221995Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060802 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071114 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071204 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080729 |