JP2001096918A

JP2001096918A - 光記録媒体

Info

Publication number: JP2001096918A
Application number: JP28192299A
Authority: JP
Inventors: Sumiko Kitagawa; 寿美子北川; Masahiro Shinkai; 正博新海; Emiko Kanbe; 江美子神戸; Tetsuji Inoue; 鉄司井上
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1999-10-01
Filing date: 1999-10-01
Publication date: 2001-04-10

Abstract

(57)【要約】【課題】５００nm以下のレーザー波長に対して、優れ
た記録特性および再生特性を有する色素を用いた光記録
媒体を提供する。【解決手段】式（１）で示される特定構造のクマリン
誘導体系の色素を含有する記録層を基板上に有する光記
録媒体とする。【化８】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、色素膜を記録層と
して有する光記録ディスクに閑し、特に５００nmないし
これより短い波長のレーザーでの記録再生に適した色素
を用いた追記型の光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明の発明者らは、ＣＤ（コンパクト
ディスク）規格に対応した光記録媒体としてＣＤ−Ｒを
開発、商品化した。次に、更なる高密度光記録媒体が望
まれ、ＣＤ−Ｒ（記録波長780nm）に続いて、ＤＶＤ−
Ｒ（記録波長635〜660nm）が開発され、これを商品化し
た。そして、次世代の記録媒体として、更に短波長レー
ザーを用いた光記録媒体の開発が望まれている。記録レ
ーザー波長は、500nm以下の短波長レーザーと考えられ
ている。しかし、これまでの記録層は、一般に色素等で
構成されていたが、500nm以下に大きな吸収を有する色
素は、あまりない。

【０００３】記録層に用いる色素としては、シアニン系
色素が主に検討の対象とされてきたが、このものは、一
般に、耐光性に劣り、記録の際の信頼性が得られにくい
ため、これにかえて、光、熱、湿度等に対する安定性に
優れた色素を用いることが試みられている。例えば、Ｄ
ＶＤ−Ｒでは、シアニン色素の他にアゾ系色素の検討も
広く行われている。

【０００４】従って、５００nm以下の短波長記録用のも
のにおいても、ポリカーボネート（ＰＣ）等の基板材料
を侵すことなく、かつ取扱いやすい溶媒、例えばアルコ
ール系や脂肪族炭化水素系等の有機溶媒に可溶な色素を
用いることが望まれている。

【０００５】ところで、特開昭63-89388号、特開昭63-8
9389号では、クマリン誘導体を用いた、光学的情報記録
媒体が開示されているが、いずれも記録再生波長は７８
０nm、８００nm、８３０nmといった長波長域にあるもの
である。このため、５００nm以下程度のレーザーでの記
録再生は困難である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、500n
m以下のレーザー波長に対して、優れた記録特性および
再生特性を有する色素を用いた光記録媒体を提供するこ
とである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
の本発明によって達成される。（１）基板上に色素を含有する記録層を有し、光を照
射することによって記録を行う光記録媒体において、前
記記録層が、下記式（Ｉ）で示される色素を含有するこ
とを特徴とする光記録媒体。

【０００８】

【化２】

【０００９】［式（Ｉ）において、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄
およびＲ₅は、それぞれ水素原子、シアノ基、カルボキ
シル基、アルキル基、アリール基、アリールカルボニル
基、アルキルカルボニル基、アリールオキシ基、アルキ
ルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基または複素環残基を示し、これらのう
ち隣接位にあるものは互いに結合して環を形成していて
もよい。Ｒ₆およびＲ₇は、それぞれ、互いに独立した水
素原子、複素環残基または炭素数１〜８のアルキル基も
しくはアルコキシ基を示し、互いに結合して環を形成し
ていてもよい。また、Ｒ₄とＲ₆、およびＲ₅とＲ₇がそれ
ぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。Ｘおよび
Ｙは、それぞれ酸素原子、硫黄原子または−ＮＨを示
す。］（２）式（Ｉ）中のＸおよびＹが、ともに酸素原子で
ある上記（１）の光記録媒体。（３）式（Ｉ）で示される色素の溶液中での吸収極大
波長（λｍａｘ）が５００nm以下である上記（１）また
は（２）の光記録媒体。

【００１０】なお、特開昭63-89388号、特開昭63-89389
号では、クマリン誘導体を用いた、光学的情報記録媒体
が開示されているが、本発明の色素構造とは異なり、な
おかつ吸収極大波長が、本発明より長波長域のものであ
る。このため、５００nm以下程度のレーザーでの記録再
生は困難である。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光記録媒体は、基板上に色素を含有する
記録層を有する。この場合の色素は式（Ｉ）で示される
色素である。

【００１２】この構造を示す色素は、メタノール、クロ
ロホルム等を溶媒とする溶液中での吸収極大波長（λma
x）が５００nm以下程度、具体的には３２０〜５００nm
の範囲となり、溶液中で測定したモル吸光係数εも大き
めで、１５０００以上であり、短波長のレーザーに対す
る良好な記録特性、再生特性が実現される。特に、５０
０nm以下、好ましくは４００〜４４０nmの波長域での記
録に適する。

【００１３】なお、薄膜状態で測定したλmaxも上記と
同程度である。

【００１４】また、これらの色素の中には、蛍光を発す
るものも多くあり、再生時に蛍光を読み出すことも可能
である。

【００１５】次に式（Ｉ）について説明する。

【００１６】

【化３】

【００１７】式（Ｉ）において、Ｒ₁〜Ｒ₅は、それぞれ
水素原子、シアノ基、カルボキシル基、アルキル基、ア
リール基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニル
基、アリールオキシ基、アルキルオキシ基、アルキルオ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基または
複素環残基を示し、これらのうち隣接位にあるものは互
いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ₆およびＲ
₇は、それぞれ、互いに独立した水素原子、複素環残基
または炭素数１〜８のアルキル基もしくはアルコキシ基
を示し、互いに結合して環を形成していてもよい。ま
た、Ｒ₄とＲ₆、およびＲ₅とＲ₇はそれぞれ互いに結合し
て環を形成していてもよい。ＸおよびＹは、それぞれ酸
素原子、硫黄原子または−ＮＨ−を示す。

【００１８】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアルキル基としては、
炭素数１〜８のものが好ましく、置換基を有していても
よく、直鎖状であっても分岐を有するものであってもよ
い。具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペン
チル、トリフルオロメチル等がある。

【００１９】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアリール基としては、
炭素数６〜１５のものが好ましく、置換基を有していて
もよく、単環であっても多環であってもよく、具体的に
は、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル等が挙げら
れ、なかでもフェニル等が好ましい。

【００２０】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアリールカルボニル基
としては、炭素数７〜１６のものが好ましく、置換基を
有していてもよく、具体的には、ベンゾイル等がある。

【００２１】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアルキルカルボニル基
としては、炭素数２〜１６のものが好ましく、置換基を
有していてもよく、具体的には、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル等がある。

【００２２】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアリールオキシ基とし
ては、炭素数６〜１６のものが好ましく、置換基を有し
ていてもよく、具体的には、フェノキシ等がある。

【００２３】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアルキルオキシ基とし
ては、炭素数１〜１６のものが好ましく、置換基を有し
ていてもよく、具体的には、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ
−ブトキシ、ｔ−ブトキシ等がある。

【００２４】Ｒ₁〜Ｒ₅で示されるアルキルオキシカルボ
ニル基としては、炭素数２〜１６のものが好ましく、置
換基を有していてもよく、具体的にはメトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基等がある。

【００２５】Ｒ₁〜Ｒ₅で示される複素環残基としては、
５員または６員環が好ましく、単環であっても縮合環を
有するものであってもよく、置換基を有していてもよ
く、具体的には、イミダゾリル、ピリジル、ベンゾイミ
ダゾリル、１−メチルベンゾイミダゾリル等がある。

【００２６】Ｒ₁〜Ｒ₅のなかで隣接位にあるものは互い
に結合して環（例えばベンゼン環、ナフタレン環）を形
成してもよい。

【００２７】Ｒ₆およびＲ₇で示される複素環残基として
は、５員または６員環が好ましく、単環であっても縮合
環を有するものであってもよく、置換基を有していても
よく、具体的には、イミダゾリル、ピリジル等がある。

【００２８】Ｒ₆およびＲ₇で示される炭素数１〜８のア
ルキル基としては、置換基を有していてもよく、直鎖状
であっても分岐を有するものであってもよく、具体的に
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、
イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、１−メチ
ルブチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、トリフルオ
ロメチル等がある。

【００２９】Ｒ₆およびＲ₇で示される炭素数１〜８のア
ルコキシ基としては、置換基を有していてもよく、アル
キル部分が上記のアルキル基と同じものであるものを挙
げることができる。具体的には、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ等がある。

【００３０】Ｒ₆とＲ₇は互いに結合して環（例えばピペ
リジン環）を形成してもよく、Ｒ₄とＲ₆、Ｒ₅とＲ₇がそ
れぞれ互いに結合して環（例えば一部水素化されたピリ
ジン環）を形成してもよく、これらによって形成される
環は互いに縮合していてもよい。

【００３１】ＸおよびＹは、それぞれ酸素原子、硫黄原
子または−ＮＨ−を示すが、ＸおよびＹは、ともに酸素
原子であることが好ましい。

【００３２】以下に、本発明色素の具体例を示すが、本
発明はこれらに限定されるものではない。ここでは、式
（Ｉ）の表示に従って、Ｒ₁との組合せで示しているも
のもある。

【００３３】

【化４】

【００３４】

【化５】

【００３５】

【化６】

【００３６】式（Ｉ）で示される色素は１種のみ用いて
も２種以上を併用してもよい。

【００３７】これらの色素は、J.Org.Chem.,43,1975(19
78)、米国特許第4147552号、特公昭59-42684号に記載の
方法で合成することができる。

【００３８】色素は、塗布溶剤に溶解させてスピンコー
トするか、蒸着等の方法で薄膜を形成してもよい。塗布
法としてはスピンコート法のほか、グラビア塗布、スプ
レーコート、ディッピングなどがある。特に、回転する
基板上に塗布液を展開塗布するスピンコート法によるこ
とが好ましい。

【００３９】このようにして形成される記録層の厚さ
は、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるもの
であるが、通常、20〜300nm程度である。

【００４０】なお、塗布液における色素含有量は、好ま
しくは0.2〜10wt%とするのがよい。なお、塗布液には適
宜バインダー、分散剤、安定剤等を含有させてもよい。

【００４１】本発明の色素は溶解性が良好であるので、
このような含有量の塗布液を容易に調製することができ
る。具体的に言えば、本発明の色素は、主に極性溶媒に
良好な溶解性を示し、アルコールやセロソルブ系ないし
アルコキシアルコール系、ジアセトンアルコールなどの
ケトアルコール、シクロヘキサンなどのケトン、２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素
化アルコールなどに０．２〜１０wt% 溶解する。特にポ
リカーボネート製ディスク基板に塗布する際に好適な塗
布溶媒である、エチルセロソルブや２，２，３，３−テ
トラフルオロプロパノールに０．５wt% 以上溶解し、短
時間に良質なスピンコート膜を成膜することが可能であ
る。

【００４２】本発明の光記録媒体の記録層には本発明の
色素のほか、他の種類の光吸収色素を含有させてもよ
い。このような色素としては、シアニン系色素、金属錯
体色素、スチリル系色素、ポリフィリン系色素、アゾ色
素、ホルマザン金属錯体などが挙げられる。このような
場合には、塗布液中にこのような色素を含有させて記録
層を設層すればよい。

【００４３】本発明に用いられる塗布溶媒として、具体
的には、アルコール系（ケトアルコール系、エチレング
リコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコ
ール系を含む。）、脂肪族炭化水素系、ケトン系、エス
テル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系
等から適宜選択すればよい。

【００４４】このなかで、アルコール系、脂肪族炭化水
素系などが好ましい。アルコール系のなかでは、アルコ
キシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。
アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子
数が１〜４であることが好ましく、かつアルコール部分
の炭素原子数が１〜５、さらには２〜５であることが好
ましく、総炭素原子数が３〜７であることが好ましい。
具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル
（メチルセロソルブ）やエチレングリコールモノエチル
エーテル（エチルセロソルブ、エトキシエタノールとも
いう）やブチルセロソルブ、２−イソプロポキシ−１−
エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル（セロソルブ）系や１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１−メトキシ−２−ブタノール、３−メトキシ−１
−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、１−エ
トキシ−２−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコ
ール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。
さらには２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
などのフッ素化アルコールも用いることができる。

【００４５】脂肪族炭化水素系としては、ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン、シクロオクタン、ジメチルシクロヘキサ
ン、ｎ−オクタン、ｉｓｏ−プロピルシクロヘキサン、
ｔ−ブチルシクロヘキサンなどが好ましく、なかでもエ
チルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどが好
ましい。

【００４６】また、ケトン系としてはシクロヘキサノン
などが挙げられる。

【００４７】本発明では、特にエチレングリコールモノ
アルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系が好ま
しく、なかでもエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−
２−ブタノール等が好ましく、さらにはこれらの混合溶
媒であってもよく、例えばエチレングリコールモノエチ
ルエーテルと１−メトキシ−２−ブタノールの組合せの
ようなものが挙げられる。また、フッ素アルコールも好
ましく用いられる。

【００４８】このような色素膜を記録層として基板上に
有する光記録ディスクとして、図１には、その一構成例
が示されている。図１は、部分断面図である。図１に示
される光記録ディスク１は、記録層上に反射層を密着し
て有する密着型光記録ディスクである。図示のように、
光記録ディスク１は、基板２表面に前記のような色素を
主成分とする記録層３を有し、記録層３に密着して、反
射層４、保護層５を有する。なお、反射層は必ずしも設
けなくてもよく、このような態様では保護層はあっても
なくてもよい。

【００４９】基板２は、ディスク状のものであり、基板
２の裏面側からの記録および再生を可能とするために、
記録光および再生光に対し、実質的に透明（好ましくは
透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラスを用いて形成
するのがよい。また、大きさは、直径64〜200mm程度、
厚さ0.2〜1.2mm程度のものとする。

【００５０】基板２の記録層３形成面には、図１に示す
ように、トラッキング用のグルーブ23が形成される。グ
ルーブ23は、スパイラル状の連続型グルーブであること
が好ましい。基板２は、材質的には、樹脂を用いること
が好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ア
モルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリスチレン系樹
脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そして、このよ
うな樹脂を用いて射出成形等の公知の方法に従って製造
することができる。グルーブ23は、基板２の成形時に形
成することが好ましい。なお、基板２製造後に２Ｐ法等
によりグルーブ23を有する樹脂層を形成してもよい。ま
た、場合によってはガラス基板を用いてもよい。

【００５１】図１に示されるように、基板２に設層され
る記録層３は、前記の色素含有塗布液を用い、前記のよ
うに、好ましくはスピンコート法により形成されたもの
である。スピンコートは通常の条件に従い、内周から外
周にかけて、回転数を500〜5000rpmの間で調整するなど
して行えばよい。

【００５２】このようにして形成される記録層３の厚さ
は、乾燥膜厚で、20〜300nmとすることが好ましい。こ
のようにして形成される記録層３は、信号を記録する場
合、その記録光および再生光波長における滑衰係数（複
素屈折率の虚部）ｋは、0.01〜0.30、好ましくは0.02〜
0.20であることが好ましい。ｋが0.02未満となると記録
層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行うこ
とが困難である。また、kが0.20を超えると、反射率が
低くなり、再生を行うことが困難である。また、記録層
３の屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、1.8〜2.6とな
る。ｎ＜1.8では反射率が低下し、また再生信号が小さ
くなり、再生が困難となる傾向にある。ｎ＞2.6では色
素の入手が困難である。

【００５３】なお、記録層のｎおよびｋは、所定の透明
基板上に記録層を例えば40〜100nm程度の厚さに実際の
条件にて設層して、測定用サンプルを作製し、次いで、
この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは記
録層側からの反射率を測定することによって求める。こ
の場合、反射率は、記録再生光波長を用いて銘面反射
（５°程度）にて測定する。また、サンプルの透過率を
測定する。そして、これらの測定値から、例えば、共立
全書「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、ｎ、ｋを算出
すればよい。

【００５４】図１に示されるように、記録層３上には、
直接密着して反射層４が設層される。反射層４として
は、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ等の高反射率金属ないし合金を用
いるのがよく、好ましくは、500nm以下の短波長域でも
高反射を示す、銀または銀合金がよい。反射層４の厚さ
は50nm以上であることが好ましく、蒸着、スパッタ等に
より設層すればよい。また、厚さの上限に特に制限はな
いが、コスト、生産作業時間等を考慮すると、120nm程
度以下であることが好ましい。

【００５５】図１に示されるように、反射層４上には、
保護層５が設層される。保護層５は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、0.5〜100μm 程度
の厚さに設層すればよい。保護層５は、層状であっても
シート状であってもよい。保護層５は、スピンコート、
グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等の通常
の方法により形成すればよい。

【００５６】このような構成の光記録ディスク１に記録
ないし追記を行うには、例えば記録光を、基板２を通し
てパルス状に照射し、照射部の光反射率を変化させる。
なお、記録光を照射すると、記録層３が光を吸収して発
熱し、同時に基板２も加熱される。この結果、基板２と
記録層３との界面近傍において、色素等の記録層材質の
融解や分解が生じ、記録層３と基板２との界面に圧力が
加わり、グルーブの底面や側壁を変形させることがあ
る。

【００５７】本発明の光記録媒体は、図示例のような密
着型の光記録ディスクに限らず、色素を含有する記録層
を有するものであれば、いずれであってもよい。このよ
うなものとしては、エアーサンドイッチ構造のピット形
成型光記録ディスク等が挙げられ、本発明を適用するこ
とによって、同様の効果が得られる。

【００５８】また、本発明の色素膜を記録層として基板
上に有する光記録ディスクとしては、図２の構成のもの
であってもよい。図２で示されるように光記録ディスク
１０は、同様な構造のディスク２枚の保護層１５および
保護層２５の膜面同士を接着剤層５０を介して貼り合わ
せて形成する。接着剤層５０の厚さは、１０〜２００μ
m 程度である。この場合の基板（通常、ポリカーボネー
ト樹脂）一枚当たりの厚さは０．６mmであり、グルーブ
１２３を有する基板１２上に記録層１３、反射層１４、
保護層１５を順次形成し、一方グルーブ２２３を有する
基板２２上に同様に記録層２３、反射層２４、保護層２
５を形成し、上述のように貼り合わされて得られるもの
である。貼り合わせの方法としては、ホットメルト接着
剤、遅効性ＵＶ接着剤、粘着シート等を利用できる。な
お、反射層は必ずしも設けなくてもよく、このような態
様では保護層はあってもなくてもよい。

【００５９】基板１２または２２は、ディスク状のもの
であり、基板２の裏面側からの記録および再生を可能と
するために、記録光および再生光に対し、実質的に透明
（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラス
を用いて形成するのがよい。また、大きさは、直径６４
〜２００mm程度、厚さ０．６mm程度のものとする。

【００６０】基板１２または２２の記録層１３または２
３形成面には、図１に示すように、トラッキング用のグ
ルーブ１２３または２２３が形成される。グルーブ１２
３または２２３は、スパイラル状の連続型グルーブであ
ることが好ましい。

【００６１】基板１２または２２は、材質的には、樹脂
を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アク
リル樹脂、アモルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリ
スチレン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そ
して、このような樹脂を用いて射出成形等の公知の方法
に従って製造することができる。グルーブ１２３または
２２３は、基板１２または２２の成形時に形成すること
が好ましい。なお、基板１２または２２の製造後に２Ｐ
法等によりグルーブ１２３または２２３を有する樹脂層
を形成してもよい。また、場合によってはガラス基板を
用いてもよい。

【００６２】図２に示されるように、基板１２または２
２に設層される記録層１３または２３は、前記の色素含
有塗布液を用い、前記のように、好ましくはスピンコー
ト法により形成されたものである。スピンコートは通常
の条件に従い、内周から外周にかけて、回転数を５００
〜５０００rpm の間で調整するなどして行えばよい。

【００６３】このようにして形成される記録層１３また
は２３の厚さは、５０〜３００nmであり、記録光および
再生光波長における複素屈折率は実部ｎ＝１．８〜２．
６、虚部ｋ＝０．４以下である。

【００６４】上記の範囲外の厚さでは反射率が低下し
て、良好な再生を行うことが難しくなる。

【００６５】また、上記のようにｎ、ｋを規制すること
によって、良好な記録、再生が行える。ｋが０．４を超
えると、十分な反射率が得られない。ｎが１．８未満で
は信号の変調度が小さすぎる。ｎの上限には特に制限は
ないが、色素化合物の合成上の都合等から通常２．６程
度である。また、ｋの下限にも特に制限はないが、通常
０．０１程度である。

【００６６】図２に示されるように、記録層１３または
２３上には、直接密着して反射層１４または２４が設層
される。これも、前記同様、銀または銀合金が好まし
い。

【００６７】図２に示されるように、反射層１４または
２４上には、保護層１５または２５が設層される。保護
層１５または２５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹
脂材質から、通常は、０．５〜１００μm 程度の厚さに
設層すればよい。保護層１５または２５は、層状であっ
てもシート状であってもよい。保護層１５または２５
は、スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、デ
ィッピング等の通常の方法により形成すればよい。

【００６８】このような構成の光記録ディスク１０に記
録ないし追記を行うには、例えば記録光を、基板１２ま
たは２２を通してパルス状に照射し、照射部の光反射率
を変化させる。なお、記録光を照射すると、記録層１３
または２３が光を吸収して発熱し、同時に基板１２また
は２２も加熱される。この結果、基板１２または２２と
記録層１３または２３との界面近傍において、色素等の
記録層材質の融解や分解が生じ、記録層１３と基板１
２、あるいは記録層２３と基板２２との界面に圧力が加
わり、グルーブの底面や側壁を変形させることがある。

【００６９】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を比較例ととも
に示し、本発明をさらに詳細に説明する．実施例１色素No.１で示されるクマリン系色素のメタノール溶液
を用い、吸収スペクトルを測定したところ、λmaxは３
５４nmであり、モル吸光係数εは１．８×１０⁴であっ
た。

【００７０】次に、色素No.１の２，２，３，３−テト
ラフルオロプロパノール（TFP）溶液を用い、ポリカー
ボネート基板上に色素膜をスピンコート法により形成
し、薄膜サンプルの反射、吸収スペクトルを測定した。
なお、膜厚（乾燥膜厚）は１００nmとした。この結果を
図３に示す。

【００７１】図３より、色素No.１は、目的とするレー
ザーの波長（400〜420nm）付近で吸収率が低く、かつ一
定以上の反射率をもつことがわかる。従って、このよう
な波長のレーザーを用いた光記録媒体の記録層に適合す
ることがわかる。

【００７２】さらに、色素No.２についても同様に吸収
スペクトルおよび反射スペクトルを測定したところ、同
様の結果を示した。

【００７３】実施例２ポリカーボネートを射出成形し、120mm径、厚さ0.6mmの
基板を得た。基板の記録層形成面には、グルーブピッチ
0.74μm 、グルーブ幅0.22μm 、グルーブ深さ100nmの
トラッキング用のグルーブを形成した。この樹脂基板上
に、スピンコート法により、色素No.１の0.6wt%ＴＦＰ
溶液を用いて色素膜を形成し、これを記録層とした。記
録層の厚さ（乾燥膜厚）は、グルーブ内で80nm、平均で
65nmとした。さらに、記録層上にスパッタ法により85nm
の厚さのAg反射層を形成し、この上に紫外線硬化型のア
クリル樹脂の保護層（膜厚５μm ）を形成した。このよ
うにして図１に示すような光記録ディスクを得た。

【００７４】これをディスクサンプルNo.１とする。

【００７５】このディスクサンプルNo.１について、410
nmのレーザーを使用して記録特性を調べたところ、変調
度70％、Ｒtop52％であり、良好な特性を示した。

【００７６】実施例３実施例２のディスクサンプルにおいて、色素No.１のか
わりに色素No.２を用い、実施例２と同様に、光記録デ
ィスクを作製した。記録層形成に用いた色素溶液は0．6
w%ＴＦＰ溶液である。これを、ディスクサンプルNo．２
とする。

【００７７】ディスクサンプルNo.２について、実施例
２と同様に、記録・再生特性を調べた。

【００７８】この結果、ディスクサンプルNo．２は、変
調度67％、Ｒtop55％であり、良好な特性を示した。

【００７９】さらに、上記実施例２、３のディスクサン
プルのほか、例示した色素の１種または２種以上を用い
て、種々のディスクサンプルを作製し、上記と同様に、
記録・再生特性を調べた。この結果、いずれのディスク
サンプルも記録可能であり、変調度60％以上（60〜80％
程度）、Ｒtop50％以上（50〜70％程度）の良好な特性
を示した。

【００８０】比較例１実施例２のディスクサンプルNo.１において、記録層用
の色素として比較の色素ａを用い、実施例２と同様に、
光記録ディスクを作製した。

【００８１】

【化７】

【００８２】上記ディスクサンプルaについて、同様に
記録・再生特性を調べたところ、記録できなかった。

【００８３】実施例４ポリカーボネートを射出成形し、120mm径、厚さ0.6mmの
基板を得た。基板の記録層形成面には、グルーブピッチ
0.74μm 、グルーブ幅0.22μm 、グルーブ深さ75nmのト
ラッキング用のグルーブを形成した。この樹脂基板上
に、スピンコート法により、色素No.１の0.4wt%ＴＦＰ
溶液を用いて色素膜を形成し、これを記録層とした。記
録層の厚さ（乾燥膜厚）は、グルーブ内で60nm、平均で
50nmとした。この記録層上に紫外線硬化型のアクリル樹
脂の保護層（膜厚５μm ）を形成した。同様にして形成
したディスク２枚の保護層を内側にして接着剤で貼り付
けて図２に示すような光記録ディスクを得た。

【００８４】これをディスクサンプルNo.１１とする。

【００８５】このディスクサンプルNo.１１について、4
10nmのレーザーを使用して記録特性を調べたところ、変
調度65％、反射率38％であり、良好な特性を示した。

【００８６】

【発明の効果】本発明によれば、式（Ｉ）の色素膜を記
録層に適用することによって、500nm以下のレーザー波
長を用いた、記録再生が良好に行える光記録媒体を得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録ディスクの一例を示す部分断面
図である．

【図２】本発明の光記録ディスクの一例を示す部分断面
図である．

【図３】本発明の色素薄膜の吸収スペクトルおよび反射
スペクトルを示すグラフである。

【符号の説明】

１、１０光記録ディスク２、１２、２２基板２３、１２３、２２３グルーブ３、１３、２３記録層４、１４、２４反射層５、１５、２５保護層５０接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者神戸江美子東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内 (72)発明者井上鉄司東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内Ｆターム(参考） 2H111 FB42 5D029 JA04 JB47 JC02 JC03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に色素を含有する記録層を有し、
光を照射することによって記録を行う光記録媒体におい
て、前記記録層が、下記式（Ｉ）で示される色素を含有
することを特徴とする光記録媒体。【化１】［式（Ｉ）において、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ
₅は、それぞれ水素原子、シアノ基、カルボキシル基、
アルキル基、アリール基、アリールカルボニル基、アル
キルカルボニル基、アリールオキシ基、アルキルオキシ
基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基または複素環残基を示し、これらのうち隣接位
にあるものは互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ₆およびＲ₇は、それぞれ、互いに独立した水素原子、
複素環残基または炭素数１〜８のアルキル基もしくはア
ルコキシ基を示し、互いに結合して環を形成していても
よい。また、Ｒ₄とＲ₆、およびＲ₅とＲ₇がそれぞれ互い
に結合して環を形成していてもよい。ＸおよびＹは、そ
れぞれ酸素原子、硫黄原子または−ＮＨを示す。］
【請求項２】式（Ｉ）中のＸおよびＹが、ともに酸素
原子である請求項１の光記録媒体。
【請求項３】式（Ｉ）で示される色素の溶液中での吸
収極大波長（λｍａｘ）が５００nm以下である請求項１
または２の光記録媒体。