JP2001095900A - 放射線を選択的に減衰するための材料を有するｕｖ放射線システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 所望の放射線の部分を著しく減少することな
く透過して標的物を照射し、不所望な放射線の部分を選
択的に減衰し得る放射線処理システムを提供する。 【解決手段】 本発明による高エネルギー放射線システ
ムはＵＶ放射線を発生し、選択的に光減衰性の材料によ
り構成されており、当該光減衰性の材料が所望の放射線
の不所望な放射線に対する比率を増大して、この光減衰
性材料に照射する２００ｎｍ以上で２４０ｎｍまでの放
射線の少なくとも３０％を選択的に減衰し、かつ、この
光減衰性材料に照射する２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放
射線の５０％以上を透過することにより標的物に対する
損傷を減少する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は放射線供給源により
与えられる標的物に対する所望の放射線の不所望の放射
線に対する比率を高めるための材料を有するＵＶ放射線
システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＵＶ滅菌処理または消毒の分野におい
て、典型的な標的媒体は金属、セラミックまたは水や塩
類溶液（saline）等の化学的に単純な溶液のような耐久
性（非吸収性、非劣化性）の材料であり、使用されるエ
ネルギーは一般に低く、１パルス当たりの全放射線で
０．１ジュール／ｃｍ² または連続的な放射線供給源の
場合で２０ワット／ｃｍ² 以下である。

【０００３】従来技術において微生物を不活性化するた
めの高エネルギーで幅広いスペクトルの放射線供給源の
使用が開示されている。すなわち、米国特許第５，７６
８，８５３号、同第５，７８６，５９８号、同第５，０
３４，２３５号、同第４，８７１，５５９号および同第
５，９００，２１１号、およびＰＣＴ国際公開第ＷＯ９
６／０９７７５号は食物、水および医療装置における微
生物を不活性化するための幅広いスペクトルの放射線供
給源の使用を開示している。このような幅広いスペクト
ルの放射線供給源を使用する場合に、食物、水および医
療装置のような露光した物品に対する損傷はほとんど考
慮されていなかった。米国特許第５，７６８，８５３号
および同第５，９００，２１１号はフラッシュランプの
周りの冷却流体を冷却用および／または所望のスペクト
ル透過率／吸光率特性を有する特定の液体溶液の使用に
よるスペクトルフィルター処理用の液体に置き換えるこ
とができることを示唆している。しかしながら、スペク
トルフィルター処理液について水以外の材料は示唆され
ておらず、また、フィルター処理する範囲および／また
はその目的については何ら述べられていない。また、米
国特許第５，７６８，８５３号は記載している実施形態
の一例において外側安全ガラスを開示しており、この安
全ガラスが２００ナノメートル（ｎｍ）よりも短い波長
を除去して当該安全ガラスの外側におけるオゾン形成を
阻止しているが、このガラスの組成については何ら開示
されていない。

【０００４】また、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ ９７／３３
６２９号は生物血清および他の汚染流体を一定スペクト
ル範囲のＵＶ放射線に暴露することによる病原体の不活
性化によりこれらの汚染流体を滅菌処理および精製する
方法を開示している。このように精度良く調節された放
射線スペクトルは病原体の分子構造に特異的に作用して
これらを殺菌するが、周囲の細胞、タンパク、およびそ
の他の構成要素が未処理の状態で残る。この場合、生物
血清は約２００ｎｍ乃至約２５０ｎｍのＵＶ放射線によ
り照射される。一方、ウイルス、バクテリア等の微生物
の最適な殺菌作用を与える特定の波長は３．０ｎｍ乃至
約１０．０ｎｍ、好ましくは３ｎｍ乃至５ｎｍの狭い範
囲内に決められている。トランスミッター／レギュレー
ター、回折格子等の光学フィルターを使用して波長の大
きさおよび変化を調節できるが、報告された特定例は存
在していない。血清を置く露光セルウインドウは石英、
サファイア、またはＵＶ級溶融石英シリカにより形成さ
れていて、ＵＶ放射線波長が減衰することなく通過でき
るポリテトラフルオロカーボンのような光透過性の材料
によりコーティングできる。また、テフロン（登録商
標）をＵＶ透過性の廃棄可能なライニングとして使用で
きる。

【０００５】ＥＰＯ ０２７７５０５ Ｂ１号は滅菌処
理ボトルように使用されるＵＶ放射線ランプを開示して
いる。このランプは誘電性コーティングを有する「ミラ
ー（鏡）」として特許に記載されている反射装置を有し
ている。この誘電性コーティング（二色性または干渉フ
ィルター）はＵＶ放射線の選択的な反射を行うために使
用されている。この反射装置はそれぞれが放射線波長の
１／４の厚さを有している数十層の誘電層によりコーテ
ィングできる。このような誘電性コーティング材の適当
な例として、ＡＬ₂ Ｏ₃ ／ＮａＦ、Ｓｃ₂ Ｏ₃ ／ＭｇＦ
₂ 、ＴｈＦ₄ ／Ｎａ₂ ＡｌＦ₆ 、ＨｆＯ₂ ／ＳｉＯ₂ 、
およびＰｂＦ₂ ／Ｎａ₃ ＡｌＦ₆ が含まれる。このよう
な誘電性コーティングはＵＶ放射線の低エネルギー吸収
に適しているが、高エネルギーシステムの需要に答える
ことはできず、このような高エネルギーシステムにおい
ては寿命が短くなる。さらに、誘電性フィルターは極め
て角度依存性が大きく、フィルターにおいて入射角度を
変更できる整形反射装置ほど効果的でない。

【０００６】ランプ製造者はランプ内のランプエンベロ
ープに調合剤を添加してランプの寿命を延ばす場合が多
い。ランプおよびその使用目的により、例えば、レーザ
ー用途において使用されるフラッシュランプのランプエ
ンベロープ内の酸化セリウムのような特定の調合剤を選
択してＵＶ放射線を完全に遮断する。また、別の調合剤
を選択してオゾンを生成する１８０ｎｍ以下のＵＶ放射
線の部分を遮断することもできる。このような調合剤を
有するランプを「オゾンフリーバルブ」と呼ぶ。さら
に、別の調合剤をランプエンベロープに添加してこのラ
ンプエンベロープを熱ショックに対して強化できる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、ポリマー
製の医療装置に高エネルギーＵＶ放射線を供給する場合
に放射線暴露による医療装置への損傷を考慮すべきであ
ると考えた。すなわち、このような放射線はその目的と
は無関係の悪影響を露光した医療装置に与える可能性が
あるからである。そこで、例えば、殺菌作用のある放射
線であるＵＶ放射線の所望の部分を著しく減少すること
なく、ポリマー医療装置を損傷するＵＶ放射線の不所望
な部分を減衰し得る材料をランプシステムに組み込むた
めの材料および方法が必要である。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は選択的光減衰性
の材料から成るＵＶ放射線を発生する高エネルギー放射
線システムを提供するものであり、この選択的光減衰性
の材料は当該光減衰性材料に照射した１８０ｎｍ乃至２
４０ｎｍの放射線の少なくとも３０％を選択的に減少
し、さらに、当該光減衰性材料に照射した２４０ｎｍ乃
至２８０ｎｍの放射線の５０％以上を透過することによ
り不所望の放射線に対する所望の放射線の比率を高めて
標的物に対する放射線による損傷を減少する。

【０００９】本発明の放射線を選択的に減衰する光減衰
性材料から成る放射線システムは１８０ｎｍ乃至２４０
ｎｍのＵＶ放射線に感応する高エネルギーＵＶ放射線標
的に対して露光できる。高エネルギー放射線システムは
不所望および所望の放射線を生じる。光の減衰がなけれ
ば、所望のＵＶ放射線の供給と共に、不所望なＵＶ放射
線が材料を損傷したり標的物の諸特性を変化する。この
標的物はＵＶ感応性の組成物から成る任意の材料とする
ことができる。なお、標的物に対する損傷には、有機性
または無機性色素の変色、ポリマー等の有機性材料の分
子鎖開裂または機械的特性の変化、あるいは有機性材料
の酸化等が含まれる。そこで、不所望な放射線を選択的
に減衰することにより、放射線により損傷する可能性の
ある有機性の製品および無機性の製品を含む製品に高エ
ネルギーＵＶ放射線システムを使用することが可能にな
り、不所望な放射線により処理された場合に損傷を受け
やすいものが含まれる広範囲な材料を処理することが可
能になる。また、本発明はＵＶ感応性の標的物に暴露す
るために使用される放射線システムのためのプロセス制
御を簡単にする。この理由は、減衰された後に供給され
る不所望な放射線の量を標的物に損傷を与える閾値より
も低くまたははるかに低く調節できるので、供給できる
放射線の量の裕度をさらに高めることができるからであ
る。好ましい実施形態において、本発明はポリマーパッ
ケージにおける溶液内のポリマー製コンタクトレンズを
処理するために使用される。このＵＶ放射線はコンタク
トレンズポリマー、コンテナポリマーおよび溶液添加物
を損傷する。なお、以下において本発明をポリマー製の
標的材料について説明するが、別のＵＶ感応性の標的材
料も本発明の方法により処理可能であることが理解され
ると考える。本発明の重要な用途はレーザー用のランプ
システムにおける使用であり、この場合に、標的の材料
は、例えば、ＵＶ放射線に感応するレーザー色素または
他の有機媒体である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の放射線システムは高エネ
ルギーＵＶ放射線供給源により構成されている。この放
射線システムにおいて使用できるＵＶ放射線供給源はフ
ラッシュランプ、アークランプ（連続式または非連続
式）、重水素ランプ、または例えばキセノンガスまたは
水銀蒸気光供給源等の持続波光供給源のような連続性ま
たは不連続性の非干渉性ランプを含む。ＵＶ放射線供給
源は高エネルギー、すなわち、これらはフラッシュラン
プにおいて１パルス当たり０．１ジュール／ｃｍ² また
は連続式放射線供給源において２０ワット／ｃｍ² より
も大きなエネルギーを発生し、好ましくはその放射線の
少なくとも１％が２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍである。な
お、現在において好ましいと思われるＵＶ放射線供給源
はフラッシュランプであり、このランプは少なくとも１
フラッシュ当たり１ジュール／ｃｍ² の幅広いスペクト
ルの放射線（２００ｎｍ乃至３０００ｎｍ）を発生し、
この内の少なくとも１フラッシュ当たり１０ミリジュー
ル／ｃｍ² はＵＶ放射線である。好ましい用途は滅菌処
理、特に、コンタクトレンズ（標的物）の滅菌処理であ
る。滅菌処理の場合に、所望の放射線は殺菌作用を有す
る放射線であり、２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射線を
含み、多くの文献は２５４ｎｍが殺菌作用範囲のピーク
値であると示しているが、コンタクトレンズポリマーの
破壊が３２０ｎｍ以下で約１００ｎｍ（非イオン化ＵＶ
放射線）までの放射線への暴露時に生じる。既に参考文
献として示した「滅菌処理方法」と題する米国特許出願
第０９／２５９，７５８号（代理人整理番号：ＶＴＮ０
３８８）は３２０ｎｍ以下の波長の放射線はコンタクト
レンズポリマーにより吸収されて、ポリマー内の分子鎖
開裂を生じることを開示している。最も損傷性の高い放
射線は１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの範囲である。（この
場合の「乃至」はこの特定範囲の中にその端点が含まれ
ないことを意味する。）そこで、ＵＶ放射線による分子
鎖開裂や他の機構による例えばコンテナや医療装置等の
標的物のポリマーに対する損傷または破壊を防ぐため
に、本発明は光減衰性の材料を提供し、かつ、この材料
を放射線システムに組み込んで標的物に損傷性の放射線
が到達する前にこの損傷性の放射線の線量の不所望な波
長部分を少なくとも部分的に減衰する方法を提供する。
さらに、米国特許出願第０９／２５９，７５８号は微生
物に対する放射線（２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍ）のエネ
ルギーが少なくとも１８ミリジュール／ｃｍ² 必要であ
ると開示している。

【００１１】ポリマー標的物を保護するためには、１８
０ｎｍ乃至２４０ｎｍ、または少なくとも２００ｎｍ以
上で２４０ｎｍまでの放射線の少なくとも一部分を減衰
することが好ましい。しかしながら、特定の用途におい
ては、１８０ｎｍ乃至２５０ｎｍの放射線の少なくとも
一部分を減衰ことがさらに好ましい場合がある。また、
不所望の放射線を減衰してポリマー標的物を損傷から保
護したりオゾン形成を防止するために、１００ｎｍ乃至
２４０ｎｍの不所望な放射線を減衰することが有利であ
る。不所望な波長における全ての放射線を１００％減衰
することが理想的であるが、この不所望な放射線の波長
範囲における僅かな割合の減衰処理でも有効である。こ
の理由は、この減衰処理により、例えばポリマー製のコ
ンテナおよび／または製品のような標的物に到達する、
所望の（例えば殺菌効果を有する）放射線の不所望な
（例えば損傷性を有する）放射線に対する比率が増加す
るからである。さらに、この殺菌効果のある放射線の損
傷性のある放射線に対する比率を増加することにより、
滅菌処理において必要な場合に、全体の放射線の線量が
増加でき、ポリマーの損傷の閾値が滅菌処理のための線
量よりもはるかに低い場合にシステムを制御することが
容易になる。

【００１２】好ましくは、本発明の光減衰性材料は不所
望な放射線の全体における３０％以上の減少、さらに好
ましくは６０％以上の減少、最も好ましくは、当該光減
衰性材料に照射する不所望放射線の全体の９０％の減少
を生じる。好ましい実施形態において、上記の不所望な
放射線は１００ｎｍ乃至２４０ｎｍ、少なくとも１８０
ｎｍ乃至２４０ｎｍ、さらに少なくとも２００ｎｍ以上
で２４０ｎｍまでの範囲である。また、この特定範囲に
おける特定の放射線の波長の少なくとも一部分を減衰す
るのが好ましい。一般に、上記の光減衰性材料は単一の
存在率で任意の範囲の波長の全てを減衰するわけではな
く、それゆえ、特定の光減衰性材料がある用途において
は好適であるが他の用途には適さないことがあり、ある
いは、これらの光減衰性の材料の混合物により不所望な
波長の一定または全ての範囲における減少度が改善でき
る場合がある。この混合物の一例がクロロホルムと無水
エタノールである。上記の光減衰性材料は不所望な放射
線を減衰して、所望の放射線を標的物に照射するのが好
ましい。すなわち、この光減衰性材料は当該光減衰性材
料に照射した放射線供給源からの所望の放射線を透過お
よび／または反射するか、所望の放射線の範囲内の放射
線として吸収した不所望な放射線を再発光することによ
り所望の放射線を標的物に当てることができる。また、
この光減衰性材料は所望の放射線を直接的または間接的
に標的物に当てることができる、すなわち、所望の放射
線は標的物を照射する前に、例えば、反射装置、ミラ
ー、光ファイバー等の別の装置を照射することもある。
好ましくは、この光減衰性材料は当該光減衰性材料を照
射する所望の放射線の５０％以上、さらに好ましくは７
５％以上、最も好ましくは９０％以上を標的物に当て
る。なお、滅菌処理の場合は、所望の放射線は２４０ｎ
ｍ乃至２８０ｎｍである。（光減衰性材料が標的物に対
して所望の放射線を例えば透過、反射および／または再
発光により当てたか否かは当該光減衰性材料の放射線供
給源および標的物に対する位置により決まる。）好まし
くは、特定範囲内の不所望な放射線の全ての波長の少な
くとも一部分が光減衰性材料により透過、反射または再
発光される。好ましい材料は不所望な放射線を３０％以
上減衰して所望の放射線を５０％以上照射するものであ
る。さらに、好ましい光減衰性材料は当該光減衰性材料
に照射する１００ｎｍ乃至２４０ｎｍの全放射線の５０
％以上を減衰して２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの全放射線
の９０％以上を照射し、２００ｎｍ乃至２４０ｎｍの放
射線の少なくとも一部分を減衰して、好ましくは当該２
００ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射線の３０％以上、さらに
好ましくは６０％以上、最も好ましくは９０％以上が減
衰される。好ましくは、上記の特定範囲内の不所望な放
射線の全ての波長の少なくとも一部分が減衰され、上記
の特定範囲内の所望の放射線の全ての波長の少なくとも
一部分が照射される。

【００１３】好ましくは、上記の光減衰性材料は１．２
以上、好ましくは１．８以上、最も好ましくは２．５以
上の減衰比率を示す。この減衰比率は光減衰性材料によ
り吸収された不所望な放射線の％値で割った当該光減衰
性材料により照射された所望の放射線の％値として定義
される。例えば、酸化ランタンの反射装置の減衰比率は
３になる（表１参照）。

【００１４】光減衰性の材料としては、液体、固体また
は気体（ガス）が含まれる。このような光減衰性の一例
として例えば空気中の１０ｐｐｍオゾンのようなオゾン
ガスがある。また、液体の光減衰性材料としては、アル
キルアルコールのようなポリオール、さらに好ましくは
２００乃至１，０００の重量平均分子量を有するプロピ
レングリコール、最も好ましくは２００の重量平均分子
量を有するプロピレングリコールが含まれる。また、ポ
リエチレングリコールの例として、Aldrich Chemical社
のＰＥＧ２００，ＰＥＧ４００，ＰＥＧ６００が含まれ
る。さらに、他の有用な光減衰性材料として、フルオロ
カーボン、クロロカーボン、クロロホルムのようなハロ
ゲン化炭素化合物があり、さらに好ましくは完全にハロ
ゲン化した炭素化合物があり、これらはフレオンのよう
に安定性が比較的高い。なお、フルオリナート（fluori
nerts)も完全にハロゲン化されていないが例外的にさら
に好ましい。このフルオリナートの例として、３Ｍから
市販され、Aldrich Chemical社により入手可能なＦＣ−
４０，ＦＣ−４３，ＦＣ−７０等がある。なお、好まし
いフルオリナートはその組成中に窒素を含有している。
さらに別の光減衰性材料として、有機カーボネート、好
ましくはプロピレンカーボネートのような脂肪族カーボ
ネートがある。また、他の有用な液体の光減衰性材料と
して、ソジウムシリケートのようなシリコン化合物、さ
らに好ましくはポリジメチルシロキサンのようなポリシ
ロキサン化合物、最も好ましくは水素化物−末端シリコ
ンオイルが含まれる。上記の液体の混合物もまた液体光
減衰性材料として使用できる。好ましい混合物はハロゲ
ン化炭素化合物および有機カーボネート、さらに好まし
くはクロロホルムおよびプロピレンカーボネートであ
る。このような液体の光減衰性材料を放射線システム内
に組み込んで放射線を減衰する方法を以下に説明する。
一般に、上記の液体光減衰性材料は放射線供給源または
放射線の標的物の中または周りにポンプ送給する必要が
あるので、好ましくは、この液体光減衰性材料は１ｃｐ
ｓ乃至１，０００ｃｐｓ、さらに好ましくは１乃至５０
０ｃｐｓ、最も好ましくは１ｃｐｓ乃至１００ｃｐｓの
粘度を有している。さらに、ポンプ送給処理が最も容易
な液体光減衰性材料は１ｃｐｓ乃至１０ｃｐｓの粘度を
有している。また、この液体光減衰性材料は適当な液体
キャリヤ、好ましくは非イオン性の液体中で使用でき、
また、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレート（Ｈ
ＥＭＡ）またはエチレングリコールジメタクリレート
（ＥＤＧＭＡ）および水から成る適当な液体キャリヤに
おいて固体の分散液またはコロイドを形成する固体の光
減衰性材料により構成できる。

【００１５】図１に光減衰性材料として使用できる液体
の例を示す。図１における各曲線は分光光度計内にサン
プル液体で満たした１０ｍｍの経路長を有するキュベッ
トを置くことによりそれぞれ得たものであり、各サンプ
ルを通った光を記録している。

【００１６】液体の光減衰性材料は所定の放射線を減衰
するために種々の場所において使用できる。このような
液体の光減衰性材料を使用する実施形態の第１の組を図
２において説明する。図２は従来のフラッシュランプ１
０の断面を示している図である。なお、アークランプ
（連続式または非連続式）、重水素ランプ、または１８
０ｎｍ乃至２４０ｎｍまたは２００ｎｍ以上２４０ｎｍ
までの少なくとも一部分、および２４０ｎｍ乃至２８０
ｎｍの少なくとも一部分、および最も好ましくは１００
ｎｍ乃至４００ｎｍを連続的に生じる任意の他の光供給
源のような、既に説明した他の放射線供給源も本発明の
放射線システムにおいて使用できる。このフラッシュラ
ンプ１０は、それぞれ中空のランプエンベロープ１２の
端部に接続している２個の電極（図示せず）により構成
されているランプ１１を備えている。このランプエンベ
ロープ１２はガラス、石英、またはサファイア等の高温
および熱ショックに耐える耐久性の高い透明な材料によ
り形成されている。このランプはアーク放電が電気的な
接続部の間に形成されるときに放射線を発生する。この
ランプエンベロープ１２は図示のようにフローチューブ
（流通管）１３の内側に配置されている。このフローチ
ューブ１３はランプエンベロープ１２を保護する。一般
に、冷却水がランプエンベロープ１２とフローチューブ
１３との間に形成された通路１６内にポンプ送給されて
ランプ１１により発生した熱を消散する。本発明の一実
施形態において、１個以上の液体の光減衰性材料をフロ
ーチューブ１３とランプエンベロープ１２との間の通路
１６の中の冷却水の代わりに使用して所定の波長を減衰
すると共にランプ１１を冷却することができる。このよ
うな実施形態において、これらの光減衰性材料はランプ
エンベロープ１２とフローチューブ１３との間の通路１
６の中にポンプ送給される。このランプエンベロープと
フローチューブとの間にポンプ送給された光減衰性材料
は、ランプ内の短絡の可能性を考慮して、好ましくは１
メガオーム以上、さらに好ましくは１０メガオーム以
上、最も好ましくは１８メガオーム以上の高抵抗性であ
る必要がある。

【００１７】本発明の別の実施形態を図３に示す。この
図３におけるフラッシュランプ１０は図２に示すフラッ
シュランプと同様であり、反射装置１４および保護ウイ
ンドウ１５（図２および図３においては、同一または類
似の構成要素を同一参照番号で示す）を備えている。た
だし、通路２８および２９が反射装置１４または保護ウ
インドウ１５の近くに付加されていて、これらを通して
液体の光減衰性材料が供給またはポンプ送給されて放射
線の所定の波長を減衰する。これらの通路はガラス、石
英、サファイア等により構成できる。これら両方の通路
２８，２９は単独で使用して光減衰性材料を保持するこ
とにより不所望な放射線を減衰できる。

【００１８】この液体の光減衰性材料の放射線に対する
感度は当該液体光減衰性材料の放射線に対する暴露量に
より決まる。この液体光減衰性材料の放射線を吸収また
は減衰する能力が放射線に対する１回の暴露の後に低下
する場合は、このような液体光減衰性材料を各通路を通
して連続的にポンプ送給して放射線に１回だけ暴露した
後に廃棄できる。また、放射線に対する感度が低い場合
は、この液体光減衰性材料を数回のフラッシュに暴露し
てから廃棄でき、また、放射線に１回暴露してから付加
的な液体光減衰性材料を取り出して暴露することのでき
る液だめの中の材料と混合することも可能である。さら
に、液だめの液を廃棄して新鮮な液体光減衰性材料と交
換する段階まで液だめ内の液体光減衰性材料の放射線を
減衰する能力が低下したと決定されるまで、このような
処理を繰り返すことができる。この液体光減衰性材料の
減衰能力は分光光度計によりモニターできる。液体光減
衰性の材料を保持する各通路の組成および個々の液体光
減衰性材料の不所望な放射線を減衰する能力は当該液体
光減衰性材料を保持する各通路（波長および経路長）の
厚さを決定する場合の考慮点になる。

【００１９】固体の光減衰性材料としては、アルカリ金
属化合物（酸化物およびハロゲン化物）、重金属酸化物
（例えば、バリウム）、２価金属酸化物（例えば、マグ
ネシウム）、および多価金属酸化物（例えば、イッテル
ビウムまたはアルミニウム）等が含まれるがこれらに限
らない。さらに、固体の光減衰性材料は組成式Ｍ_a Ｏ _b
Ｘ_c Ｈ_d に従って選択することができ、この式におい
て、Ｍは単一または混合の金属、好ましくは希土類金属
であり、Ｏは酸素、Ｘは硫黄、窒素、およびリン等のヘ
テロ原子、およびＨはハロゲン化物、好ましくはフッ素
であり、ａは１乃至２０、好ましくは１乃至１２、ｂは
０乃至２０、好ましくは０乃至１２、ｃは０乃至２０、
好ましくは０乃至１２、およびｄは０乃至２０、好まし
くは０乃至１２であり、少なくともｂ，ｃまたはｄは１
とする。これらの材料は不純物の量が反射装置の特性を
低下しない程度に十分な純度を有する必要がある。好ま
しくは、これらの材料の純度は９９．９％以上であり、
さらに好ましくは９９．９９％以上である。表１に有用
な固体の材料の例を示す。また、表１には固体の光減衰
性材料の平均屈折能の％値を示している。これらの屈折
能の％値はキュベット内に固体材料サンプルの乾燥パウ
ダーを詰めて、このキュベットをサンプルから反射した
放射線を測定する一体の球面を有する分光光度計内に入
れることにより決定した。 表１ 光減衰性材料 観測 ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ 目視 平均 標準偏差 平均 標準偏差 平均 標準偏差 材料 色 200- 200- 240- 240- 200- 200- 400 400 280 280 240 240 チタン酸− ベージュ 18.55 10.11 14.42 0.27 21.44 9.04 バリウム 酸化セリウム ベージュ 62.69 26.63 55.84 18.08 23.08 11.18 酸化エルビウム ピンク 62.69 26.63 55.84 18.08 23.08 11.18 酸化− 白 54.79 34.3 45.1 1.26 23.78 10.73 ユーロピウム 酸化− 白 84.13 21.32 72.83 10.51 50.72 14.64 ゲルマニウム 酸化ハフニウム ベージュ 32.26 7.49 25.83 0.51 31.04 9.69 酸化ホルミウム ピンク 66.75 27.37 67.18 20.46 20.88 9.31 酸化ランタン 白 82.99 28.39 88.23 11.97 29.49 12.36 酸化− 白 97.27 14.21 101.44 0.52 19.68 24.49 マグネシウム 酸化− 黒 13.67 5.59 12.13 0.33 20.7 9.49 プラセオジミウム 酸化サマリウム 明黄色 68.84 27.62 51.32 23.08 27.58 6.59 酸化テルビウム 褐色 13.11 6.09 11.55 0.58 21.15 9.99 酸化チタン 白 14.92 5.17 13.12 0.28 20.75 9.14 酸化− 白 70.72 33.16 45.8 26.02 23.2 11.84 イッテルビウム 酸化− 白 85.81 24.14 89.38 6.51 41.14 15.4 イットリウム 酸化亜鉛 白 15.85 13.39 10.99 0.35 20.72 11.36

【００２０】上記の固体光減衰性材料の組成式におい
て、ａが１乃至６、ｂが１乃至１１、およびｃおよびｄ
が０の場合に、この固体光減衰性材料は酸化カルシウム
（ＣａＯ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ₂ ）、酸化ランタ
ン（Ｌａ₂ Ｏ₃ ）、酸化鉄（Ｆｅ₃ Ｏ₄ ）、酸化テルビ
ウム（Ｔｂ₄ Ｏ₇ ）、酸化プラセオジミウム（Ｐｒ₆ Ｏ
₁₁）、およびチタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ₃ ）のよう
な金属酸化物になる。ａが１で、ｄが２で、ｂおよびｃ
が０である固体光減衰性材料の一例はフッ化マグネシウ
ム（ＭｇＦ₂ ）である。別の固体の光減衰性材料とし
て、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化アルミニウム
（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、チタン酸バ
リウム（ＢａＴｉＯ₃ ）、酸化ホルミウム（Ｈｏ
₂ Ｏ₃ ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ランタン
（Ｌａ₂ Ｏ₃ ）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ₂ ）、酸化
テルビウム（ＴｅＯ₂ ）、酸化ユーロピウム（Ｅｕ₂ Ｏ
₃ ）、酸化エルビウム（Ｅｒ₂ Ｏ₃ ）、酸化ネオジミウ
ム（Ｎｄ₂ Ｏ₃ ）、酸化サマリウム（Ｓｍ ₂ Ｏ₃ ）、酸
化イッテルビウム（Ｙｂ₂ Ｏ₃ ）、酸化イットリウム
（Ｙ₂ Ｏ₃ ）、および酸化ジスプロジウム（Ｄｙ
₂ Ｏ₃ ）が含まれる。さらに別の例として、他の希土類
元素の無反応性酸化物、希土類ハロゲン化物、および金
属混合酸化物が含まれる。好ましい光減衰性材料は酸化
マグネシウム、酸化エルビウム、酸化ホルミウム、酸化
サマリウム、酸化テルビウム、酸化ランタン、酸化イッ
トリウム、および酸化イッテルビウムであり、酸化ラン
タン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムが
最も好ましい。

【００２１】上記の固体光減衰性材料は放射線供給源
（例えば、ランプエンベロープ、保護ウインドウまたは
フローチューブ）の中に組み込んで損傷性の放射線が露
光されるポリマー、製品および／またはパッケージのよ
うな目的物に到達するのを防ぐ。既に述べたように、放
射線供給源の例はパルス化した光供給源（例えば、キセ
ノンガス）または連続波光供給源（例えば、水銀蒸気）
を含む。これらの固体光減衰性材料はランプエンベロー
プおよび／またはフローチューブおよび／または保護ウ
インドウの製造中にガラス（例えば、サファイア、石
英、ガラス、結晶材料等）を作成する供給材料に、ガラ
ス工業において一般に称される調合物として、添加され
る。さらに、フローチューブまたはランプエンベロープ
用の調合剤を適正に選択することにより、熱ショック、
ソラリゼーション、蛍光、燐光を減少してランプの性能
を向上すると共に吸収または吸収および所望または少な
くとも不所望でない波長における再発光により不所望な
放射線を減少できる。とりわけ、不所望な波長において
放射線を吸収して所望の波長において再発光できる減衰
性の材料が好ましい。

【００２２】上記の光減衰性材料は放射線が標的物を照
射する前に通過して標的物に到達する前に不所望な波長
を減衰するフィルターを形成するために使用でき、ある
いは、パッケージ材料に添加することができる。なお、
これらの実施形態については、以下に詳述する。

【００２３】ガラス、石英またはサファイアフローチュ
ーブ、ランプエンベロープまたは保護ウインドウに添加
し、放射線がポリマー標的物を照射する前に通過するフ
ィルターやパッケージ材料の形成に使用し、さらに、以
下に述べるような他の実施形態において使用する調合材
の量を概算するために、以下のベール−ランバートの式
により特定の調合剤または光減衰材による放射線の吸収
量を定量化する。 I（λ）／I₀ （λ）＝ｅｘｐ（−α（λ）ｃｘ） この式において、I（λ）は波長（λ）の関数としての
減衰した放射線の強度であり、I₀ （λ）は波長の関数
としての初期の放射線強度であり、α（λ）は波長の関
数としての調合剤（光減衰性材料）のモル吸光度であ
り、ｃは調合剤の濃度、およびｘは放射線が通過する経
路長（調合剤が存在する物質の厚さ）である。α（λ）
は表２におけるデータを生じるために説明するような分
光吸光測定等の方法により決定できる。

【００２４】本発明の別の実施形態は、例えば、図４お
よび図５に基づいて説明するような反射装置の部分のよ
うな放射線供給源の別の部分に固体の光減衰性材料を添
加することである。図４において、図２に示すものと同
様の（同一または類似の構成要素を同一参照番号で示
す）フラッシュランプ１０の断面が示されている。さら
に、図４は反射装置１４の一部分として減衰性コーティ
ング３６を示している図である。この反射装置１４はま
た反射装置支持体３５により構成されている。この減衰
性コーティングは塗布、スプレー、プラズマコーティン
グ、浸漬、キャステイング、コンバージョンコーティン
グ、ゲルコーティング、エッチング、化学蒸着、スパッ
タリング、または、例えば、減衰性材料から成るフィル
ムを反射装置支持体３５に接着する等の化学的または機
械的結合により適用できる。なお、この光減衰性コーテ
ィングの好ましい適用方法は当該減衰性材料を反射装置
支持体３５に塗布またはスプレーすることである。この
材料を支持体３５に塗布またはスプレーするためには、
光減衰性材料および結合剤から成る水性または非水性の
懸濁液を形成するのが好ましい。有用な結合剤はポリマ
ー、無機物、またはゾル−ゲルであり、さらに好ましく
は無機物またはゾル−ゲル、最も好ましくは無機物であ
る。また、好ましい懸濁液は０．１％乃至５０％の結合
剤、０．１％乃至９９．９％の光減衰性材料、および
０．１％乃至９０％のキャリヤにより構成されている。
このキャリヤはコーティングとして適用できるように光
減衰性材料および結合剤の希釈液を形成するために使用
される液体である。有用なキャリヤの例は水、アルコー
ル、アルカン、フレオン等であり、水が最も好ましい。

【００２５】また、光減衰性材料から成るコーティング
を作成するのに有用なポリマー結合材の例はポリビニル
アルコール、シアノアクリレート、アクリル樹脂、およ
びシリコーンである。現在において、ポリマー結合剤は
高エネルギーＵＶ放射線において劣化する傾向があるの
でその使用が制限されている。また、光減衰性材料から
成るコーティングを作成するのに有用な無機結合剤の例
はケイ酸ナトリウム、低温焼結ガラス、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウムおよびケイ酸リチウムのようなアル
カリ酸化物ケイ酸塩である。さらに、光減衰性材料から
成るコーティングを作成するのに有用なゾル−ゲル結合
剤前駆体の例はアルミニウムターシャリーブトキシド、
ケイ酸ナトリウム、テトラエチルオルトシリケート（Ｔ
ＥＯＳ）、金属イソプロポキシド、イソプロパノール中
におけるジスプロジウムエチルヘキサノ−ジイソプロポ
キシド、ヘキサン中におけるジスプロジウム２−エチル
ヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中におけ
るジスプロジウムイソプロポキシド、２−メトキシエタ
ノール中におけるジスプロジウム２−メトキシエトキシ
ド、イソプロパノール中におけるエルビウムエチルヘキ
サノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるエルビ
ウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパ
ノール中におけるエルビウムイソプロポキシド、イソプ
ロパノール中におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイ
ソプロポキシド、トルエン−イソプロパノール中におけ
るホルミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノー
ル中におけるホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸
ランタン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキ
サノエート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシ
エタノール中におけるランタン２−メトキシエトキシ
ド、エタノール中におけるマグネシウムエトキシド、メ
タノール中におけるマグネシウムメトキシド、２−メト
キシエタノール中におけるマグネシウム２−メトキシエ
トキシド、イソプロパノール中におけるネオジミウムエ
チルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけ
るネオジミウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−
イソプロパノール中におけるネオジミウムイソプロポキ
シド、２−メトキシエタノール中におけるネオジミウム
２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール
中におけるサマリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポ
キシド、ヘキサン中におけるサマリウム２−エチルヘキ
サノエート、トルエン−イソプロパノール中におけるサ
マリウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中
におけるサマリウム２−メトキシエトキシド、トルエン
−イソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロ
ポキシド、２−メトキシエタノール中におけるイッテル
ビウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパ
ノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソ
プロポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中に
おけるイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキ
シド等がある。さらに、好ましいゾル−ゲル前駆体はイ
ソプロパノール中におけるエルビウムエチルヘキサノ−
ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるエルビウム２
−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール
中におけるエルビウムイソプロポキシド、イソプロパノ
ール中におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイソプロ
ポキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるホル
ミウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中に
おけるホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸ランタ
ン、ヘキサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエ
ート、ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノ
ール中におけるランタン２−メトキシエトキシド、エタ
ノール中におけるマグネシウムエトキシド、メタノール
中におけるマグネシウムメトキシド、２−メトキシエタ
ノール中におけるマグネシウム２−メトキシエトキシ
ド、トルエン−イソプロパノール中におけるサマリウム
エチルヘキサノ−モノイソプロポキシド、ヘキサン中に
おけるサマリウム２−エチルヘキサノエート、トルエン
−イソプロパノール中におけるサマリウムイソプロポキ
シド、２−メトキシエタノール中におけるサマリウム２
−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中
におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−メトキ
シエタノール中におけるイッテルビウム２−メトキシエ
トキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッ
トリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、および
トルエン−イソプロパノール中におけるイットリウムエ
チルヘキサノ−モノイソプロポキシドである。さらに好
ましいゾル−ゲル前駆体は酢酸ランタン、ヘキサン中に
おけるランタン２−エチルヘキサノエート、ランタンイ
ソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるラ
ンタン２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパ
ノール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２
−メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メ
トキシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中にお
けるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシ
ド、およびトルエン−イソプロパノール中におけるイッ
トリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドであ
る。

【００２６】上記結合剤の幾つかは光減衰性材料として
単独で使用でき、特に、懸濁液において上述したように
適用可能で焼結されることにより固体の減衰性材料を形
成できるゾル−ゲルとして使用できる。光減衰性材料と
して単独で使用できる結合材の例として、ジスプロジウ
ムイソプロポキシド、イソプロパノール中におけるジス
プロジウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキ
サン中におけるジスプロジウム２−エチルヘキサノエー
ト、トルエン−イソプロパノール中におけるジスプロジ
ウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中にお
けるジスプロジウム２−メトキシエトキシド、イソプロ
パノール中におけるエルビウムエチルヘキサノ−ジイソ
プロポキシド、ヘキサン中におけるエルビウム２−エチ
ルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノール中にお
けるエルビウムイソプロポキシド、イソプロパノール中
におけるホルミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシ
ド、トルエン−イソプロパノール中におけるホルミウム
イソプロポキシド、２−メトキシエタノール中における
ホルミウム２−メトキシエトキシド、酢酸ランタン、ヘ
キサン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、
ランタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中
におけるランタン２−メトキシエトキシド、エタノール
中におけるマグネシウムエトキシド、メタノール中にお
けるマグネシウムメトキシド、２−メトキシエタノール
中におけるマグネシウム２−メトキシエトキシド、イソ
プロパノール中におけるネオジミウムエチルヘキサノ−
ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるネオジミウム
２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノー
ル中におけるネオジミウムイソプロポキシド、２−メト
キシエタノール中におけるネオジミウム２−メトキシエ
トキシド、トルエン−イソプロパノール中におけるサマ
リウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド、ヘキサ
ン中におけるサマリウム２−エチルヘキサノエート、ト
ルエン−イソプロパノール中におけるサマリウムイソプ
ロポキシド、２−メトキシエタノール中におけるサマリ
ウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノ
ール中におけるイッテルビウムイソプロポキシド、２−
メトキシエタノール中におけるイッテルビウム２−メト
キシエトキシド、トルエン−イソプロパノール中におけ
るイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、
およびトルエン−イソプロパノール中におけるイットリ
ウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシドが含まれ
る。

【００２７】本明細書に開示する光減衰性材料は薄層内
および／または誘電フィルターとしても呼ばれる２色フ
ィルターと同様の異なる減衰性材料から成る多層内にお
いて使用できるが、本明細書に開示する光減衰性材料は
誘電フィルターと同一の機構により作用しない。すなわ
ち、これらの材料は異なる屈折率を有する交互の材料か
ら成る構造に依存しない。すなわち、本発明の材料は放
射線を選択的に減衰するための吸光または吸収機構を用
いている。

【００２８】上記の光減衰性のコーティングは好ましく
は０．１ミクロン乃至２５００ミクロンの厚さ、さらに
好ましくは０．５ミクロン乃至２５００ミクロンの厚さ
を有するコーティングの形態で適用される。（２５００
ミクロンよりも厚いコーティングは材料のブロックとし
て考えられる。）このようなコーティングは同一で単一
または複数の光減衰性材料の多数層、好ましくは同一の
コーティング成分の多数層の形態で適用される。この反
射装置における光減衰性材料から成るコーティングは当
該光減衰性材料に２回照射する（１回は反射装置に向か
う放射線で他の１回は反射装置から反射する放射線）不
所望な放射線を減少する。このことは反射装置に適用す
る光減衰性材料を配合する場合、および、光減衰性材料
の有効寿命を推定する場合（特に、液体の光減衰性材料
を反射装置の前方における通路内に配置する場合）に考
慮すべき点である。さらに、放射線供給源における１個
以上の反射装置の形状に応じて、放射線の多くが標的物
に到達する前に多数回にわたって反射装置から反射され
る。

【００２９】光減衰性材料から成るコーティング３６に
より構成されている反射装置１４は反射性材料、あるい
は反射性コーティング（フィルム状または金属箔のいず
れでもよい）が保持される非反射性または反射性の反射
装置支持体３５により構成できる。この反射性材料の例
は金属である。また、反射性の反射装置支持体３５の例
は固体の研磨処理したアルミニウムであり、この材料は
その形状を保持できる程度に十分厚く、ランプ１１の周
囲にボルトまたは他の手段により取り付けられる。

【００３０】さらに、反射装置支持体３５として単独で
使用できる他の反射性材料の例は硫酸バリウム、酸化ア
ルミニウム、フッ化マグネシウム、および酸化マグネシ
ウムの成形固体材料である。この成形固体材料は上記の
反射性材料を金属酸化物またはパウダー化したガラスと
混合してこれらを焼結することにより反射性の支持体を
形成するか、反射性材料を結合剤と混合して支持体の形
状に成形するかまたは機械加工することにより形成でき
る。さらに、反射性または非反射性の反射装置支持体３
５に適用または取り付けできる反射性材料から成るコー
ティングの例として、酸化マグネシウム、フッ化マグネ
シウム、硫酸バリウム、および酸化アルミニウムがあ
り、反射装置支持体３５に取り付けできるアルミニウ
ム、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、硫酸バリ
ウム、および酸化マグネシウムの薄いシートが含まれ
る。これらのコーティングまたはフィルムは反射性材料
をガラス組成物と共に焼結するか、結合剤により反射性
材料のフィルムを形成することにより作成できる。な
お、非反射性の反射装置支持体３５として使用できる材
料の例として木材、ポリマー、金属およびセラミックが
含まれる。

【００３１】この反射装置支持体３５の反射性コーティ
ングは塗布、プラズマコーティング、スプレー、浸漬、
キャステイング、コンバージョンコーティング、ゲルコ
ーティング、エッチング、化学蒸着、スパッタリング、
または、例えば、反射性材料の薄膜または箔を反射性ま
たは非反射性の支持体に機械的または機械的に結合する
ことにより形成できる。好ましい反射装置１４の一部分
であるこの反射性材料の適用方法はこれらを反射装置支
持体３５に塗布またはスプレーすることである。なお、
支持体３５にこれらの材料を塗布またはスプレーするた
めには、水性または非水性の懸濁液を結合剤と共に形成
するのが好ましい。好ましい結合剤はポリマー、無機
物、またはゾル−ゲルであり、さらに好ましいのは無機
物またはゾル−ゲルである。ポリマー結合剤の例はポリ
ビニルアルコール、シアノアクリレート、アクリル樹脂
およびシリコーンである。なお、現在においてポリマー
結合剤は、ＵＶ放射線がこれらを劣化させやすいと考え
られるために、最も好まれていない。また、無機物の結
合剤の例はケイ酸ナトリウム、低温焼結ガラス、ナトリ
ウム、カリウムおよびリチウムケイ酸化物のようなアル
カリ酸化物のケイ酸化物である。さらに、ゾル−ゲル前
駆体の例は上記の光減衰性材料において記載したもので
ある。

【００３２】光減衰性コーティング組成物の一例は１部
のケイ酸ナトリウム（結合剤）、１０部の酸化ランタン
（光減衰材料）および１０の水（キャリヤ）により構成
されている。さらに、この懸濁液から成る１０個の層が
硫酸バリウムコーティング（反射性材料）を有するアル
ミニウム基板（反射装置支持体）により構成された反射
装置の上にスプレーにより形成される。この硫酸バリウ
ムコーティングは１部のケイ酸ナトリウム（結合剤）、
１０部の硫酸バリウム（反射性材料）および１０部の水
（キャリヤ）から成る組成物の２０個の層をアルミニウ
ム基板にスプレーすることにより形成されている。な
お、各コーティングはコーティング形成処理の間に空気
乾燥した。

【００３３】また、別の実施形態においては、上記の反
射性材料および光減衰性材料および選択的な結合剤を混
合して反射性または非反射性の反射装置支持体３５に適
用することにより、所望の例えば殺菌作用のある放射線
を反射して不所望な放射線を減衰する単一のコーティン
グを形成することができる。この光減衰性材料は反射性
材料の結合剤として作用することができ、それゆえ、組
成物中に結合剤を添加する必要がなくなる。このような
結合剤および光減衰性材料として作用し得る材料の例は
ジスプロジウムイソプロポキシド、ポリシロキサン、上
記のおよび全てのゾルゲルである。また、上記の光減衰
性材料および反射性材料を焼結して放射線減衰特性を有
する反射装置コーティング３６の組成物を形成できる。
この焼結材料として使用できる材料の例は低融点ガラス
組成物であり、この材料に上記の光減衰性材料および反
射性材料を添加できる。このようなコーティングは０．
１乃至２５００ミクロンの厚さを有するのが好ましい。

【００３４】あるいは、図１に示すものと同様の反射装
置１４が光減衰性材料、反射性材料および選択的結合剤
から成る成形固体材料により形成できる。すなわち、こ
の組成物は反射装置１４の形状に成形されるか、あるい
は、反射装置１４が光減衰性材料、反射性材料、および
選択的な結合剤から成る成形固体材料により機械加工で
きる。さらに、上記の光減衰性材料は金属酸化物または
パウダー化ガラスおよび反射性材料と混合して焼結する
ことにより光減衰性および反射特性を有する図１に示す
ものと同様の反射装置１４を形成できる。なお、ここで
説明している成形固体材料は２５００ミクロン以下の厚
さを有している。

【００３５】なお、現在において、反射性材料と光減衰
性材料を混合することは好まれていない。この理由は、
混合されている光減衰性材料が不所望な波長を吸収する
前にこの不所望な波長における放射線が反射性材料によ
り反射される可能性があるからである。

【００３６】好ましい光減衰性材料は１００ｎｍ乃至２
４０ｎｍの不所望な放射線を吸収し、２４０ｎｍ乃至２
８０ｎｍの所望な放射線を反射して、単独あるいは選択
的な結合剤および／または添加物と共に使用されて上記
の実施形態のいずれかにおける反射装置を形成すること
ができる。このような光減衰性材料の例は酸化ランタ
ン、酸化イットリウム、および酸化イッテルビウムであ
る。これらの反射性／光減衰性の材料により反射装置ま
たは反射装置支持体用のコーティングを形成することが
本発明の最も好ましい実施形態である。反射装置の一部
分として光減衰性材料を添加すると、標的物に到達する
前にまず反射装置を照射しない不所望な放射線が減衰さ
れない。必要であれば、ランプから直接に標的物に照射
する放射線から標的物をさらに保護するために、反射性
の遮断要素を用いて不所望な放射線を減衰した反射され
た放射線のみが標的物に照射するようにできる。この反
射性の遮断要素３９が図４に示されている。このような
反射性遮断要素は単純な形態であるのが好ましく、さら
に好ましくは光学的に集中性のある形態、最も好ましく
は反射光学素子の一体の形態を有している。有用な形状
の例は三角形（図４参照）および半円形である。この反
射性の遮断要素は本出願において記載した反射性組成物
の任意のものより構成でき、光減衰性材料または光減衰
性材料のコーティングを伴っていてもいなくてもよい。
好ましくは、上記の反射性遮断要素は光減衰性材料によ
り構成されており、液体または固体の光減衰性材料のい
ずれかにより構成されているのがさらに好ましい。ま
た、この反射性遮断要素は拡散反射面を備えているのが
好ましい。さらに、この遮断要素は放射線供給源から標
的物に向かうあらゆる放射線を遮る大きさであるのが好
ましい。

【００３７】図５は本発明の別の実施形態を示している
図である。図５において、反射装置１４は反射装置支持
体３５、材料層４７、および透明支持体４６により構成
されている。この透明支持体４６は当該支持体を照射す
る放射線の少なくとも一部分に対して透過性を有してい
る。反射装置支持体３５は反射性または非反射性の支持
体、あるいは、上記のような支持体上のコーティングの
組合せのいずれかにより構成できる。また、材料層４７
は１種類以上の固体光減衰性材料により構成でき、ま
た、図４において説明したような光減衰性材料から成る
組成物のいずれかとすることができるが、この実施形態
は詰め込んだパウダーのような透明支持体４６の存在が
なくては保持されない固体の光減衰性材料に特に適して
いる。この材料層４７は、詰め込んだパウダーとするこ
とができる点を除いて、単独の光減衰性材料、反射性材
料および光減衰性材料の混合物、または図４において説
明したような所望の放射線を反射することもできる光減
衰性材料により構成できる。この反射装置が分離してい
る光減衰性材料および反射性材料により構成されている
場合は、この光減衰性材料が反射性材料と放射線供給源
との間に位置しているのが好ましく、これによって、所
望の例えば殺菌作用のある放射線が反射性材料により反
射されて標的物に向かう前に、光減衰性材料により不所
望な放射線が減衰できる。この材料層４７は０．１ミク
ロン乃至２５００ミクロンの厚さを有しているのが好ま
しい。

【００３８】透明支持体４６はこの支持体を照射する波
長の大部分または全てに対して完全に透明でるか、１種
類以上の放射線の不所望な波長を減衰する固体の光減衰
性材料により構成できる。あるいは、この透明支持体４
６は液体光減衰性材料をポンプ送給できる、または、内
部（図示せず）に保持できる通路を有することができ
る。この透明支持体４６はフローチューブ１３、ランプ
エンベロープ１２、および／または保護ウインドウ１５
用の上記のガラス、石英またはサファイア材により構成
されているのが好ましい。なお、固体の光減衰性材料を
透明支持体４６を形成するのに使用する供給材料におけ
る調合剤として当該透明支持体４６に添加できる。ある
いは、光減衰材料を透明支持体４６の片面または両面上
のコーティングとして適用できる。この光減衰材料を透
明支持体４６の片面に適用する場合は、この面はランプ
から最も遠い方の面４９であるのが好ましい。なお、こ
のようなコーティングを適用する方法は上記の実施形態
において既に説明した方法と同様である。あるいは、必
要であれば、反射性材料をコーティングとしてランプか
ら最も遠い透明支持体４６の面４９に適用して、固体の
光減衰性材料を当該透明支持体の反対側の面４８に適用
することもできる。このような実施形態においては、材
料層４７および反射装置支持体３５（図示せず）必要な
くなる。存在する場合に、透明支持体４６上の上記コー
ティングは０．１ミクロン乃至２５００ミクロンである
のが好ましい。

【００３９】透明支持体４６との組合せにおいて使用す
る材料層４７における好ましい光減衰性材料は上記の好
ましい固体の光減衰性材料から成るパウダーの詰め込ま
れた層である。上記のように、最も好ましい固体の光減
衰性材料は酸化ランタン、酸化イットリウムまたは酸化
イッテルビウムまたはこれらのパウダーの混合物であ
る。

【００４０】別の好ましい実施形態は固体の光減衰性材
料のコーティングの下の反射性材料（コーティング、固
体ブロックまたはパウダーのいずれか）により構成され
ている。この好ましい実施形態における反射性材料およ
び光減衰性材料の好ましい組合せは硫酸バリウム（反射
性材料）および酸化ランタン（光減衰性材料）、または
フッ化マグネシウム（反射性材料）および酸化イットリ
ウム（光減衰性材料）、または酸化マグネシウム（反射
性材料）および酸化イッテルビウム（光減衰性材料）、
または酸化アルミニウム（反射性材料）および酸化ラン
タン（光減衰性材料）、またはこれらの反射性材料およ
び光減衰性材料の異なる組合せ、あるいは個々の反射性
材料の混合物および個々の光減衰性材料の混合物の組合
せである。

【００４１】好ましい販社装置は拡散反射装置および／
または楕円形反射装置であり、本明細書に参考文献とし
て含まれる１９９９年７月１３日に出願された米国特許
仮特許出願第６０／１４３，６０８号である「ＵＶ放射
線供給源用の反射装置」に対応する本出願と同時に出願
された米国特許出願第 号（代理人整理番号：ＶＴ
Ｎ−０４６３）に開示および記載されている。好ましい
ランプシステムはそれぞれが整形反射装置であって、好
ましくは楕円形反射装置である２個のランプにより構成
されており、このシステムにおいて、標的物の放射線へ
の暴露中に反射装置と標的物との間の空間が最適または
最少になるように標的の体積（標的コンテナおよび／ま
たは製品により支配される体積）が調整されている。す
なわち、標的物の面積または体積に近接する空間は放射
線が標的物を通過することなく標的物のそばを通ること
を可能にする。それゆえ、特に多数個のランプおよび／
または反射装置の放射線システムにおいては、このよう
な空間を最少にする必要がある。なお、拡散反射装置は
標的物の面積または体積に対して均一のエネルギーを供
給する。

【００４２】本発明の別のシステムは放射線供給源およ
び標的物の間に取外し可能な固体の光減衰性材料を有す
る放射線システムである。図６は取外し可能な固体の光
減衰性材料がランプ１０の保護ウインドウ１５に近接し
て取り付けられているフィルム５６である実施形態を示
している図である。この取外し可能な固体の光減衰性材
料５６は上記の固体光減衰性材料の任意のものにより構
成でき、これらの材料は結合剤と混合されて取外し可能
な固体光減衰性材料５６を形成するか、付加的なガラス
または金属酸化物と共に焼結されて固体を形成するか、
乾燥パウダーを詰め込んでガラス支持体を形成するもの
のいずれかである。これらの取外し可能な固体材料５６
および上記実施形態用の反射装置は、コーティングと同
様に、極めて耐久性が高い。この取外し可能な固体の光
減衰性材料５６はブロックまたはプレート材とすること
ができる。このブロックまたはプレート材は１００ミク
ロン乃至２５００ミクロンの厚さを有している。このよ
うな取外し可能な固体の光減衰性材料５６の別の実施形
態は、好ましくは、例えば、ポリアミド（ナイロン）、
またはポリプロピレンのようなポリオレフィン、好まし
くはナイロン−６およびナイロン−６，６のようなナイ
ロン等のポリマー材料により構成されているシートまた
はフィルム材である。このシートまたはフィルム材は一
時的な作用効果を有するのみであり、新しいまたは異な
る部材片との交換や当該取外し可能な固体光減衰性材料
の領域の取り替えを必要とする。好ましい実施形態にお
いて、上記の取外し可能な固体の光減衰性材料５６はロ
ール（図示せず）上に巻かれたフィルムであり、ＵＶ放
射線供給源による特定量の露光の後に、露光した取外し
可能な固体の光減衰材料５６の領域がまだ露光していな
い部分に進行できる。好ましくは、このフィルムは１０
ミクロン乃至１００ミクロンの厚さを有している。

【００４３】ＵＶ放射線に対して露光される製品がコン
テナ内に収容されている実施形態の場合において、別の
変形例として、光減衰性材料をコンテナに添加するも
の、またはコンテナを光減衰性材料により形成するも
の、光減衰性材料を製品に添加するもの、または光減衰
性材料を例えばコンタクトレンズ溶液のような製品を貯
蔵する溶液に添加するものがある。上記の光減衰性材
料、好ましくは固体の光減衰性材料は例えばコーティン
グや浸漬等の上記の全ての方法によりコンテナに適用で
き、あるいは、当該光減衰性材料はコンテナを作成する
ために使用されるコンテナ配合物に含まれることがで
き、あるいは、当該コンテナ用の材料は不所望な放射線
を減衰して所望の放射線を透過する能力により選択でき
る。例えば、好ましい実施形態において、コンテナは滅
菌処理するコンタクトレンズを収容するために使用され
る。このコンテナはボウルおよび蓋材により構成されて
いる。さらに、この蓋材はナイロン層および／または酸
化ランタンのような光減衰性材料、またはアジピン酸
（ヘキサン二酸）およびアジピン酸バリウム、アジピン
酸カルシウム、アジピン酸マグネシウム、アジピン酸ナ
トリウム等の種々のアジピン酸塩、またはカルボン酸に
より構成でき、これらの材料は蓋材やボウルを射出成形
する前に溶融ポリプロピレンまたはポリスチレンに添加
できる。また、別の有用なコンテナ用の材料が本明細書
に参考文献として含まれる「医療装置ようのパッケー
ジ」と題するPeck他の米国特許出願第 号（代理人
整理番号：ＶＴＮ−０４４５）に記載されている。

【００４４】あるいは、ポリアミド（ナイロン）のよう
な光減衰性材料をポリプロピレンと同時射出成形して損
傷性の放射線を除去できる多層構造のボウルを形成する
ことができる。

【００４５】あるいは、光減衰性材料、例えばゾル−ゲ
ルを蓋材に化学蒸着して製品をＵＶ放射線から保護して
蓋材を通る水分量を制限することができる。酸化ランタ
ンはこの目的に有用な光減衰性材料の一例である。ま
た、蓋材に有用な別のゾル−ゲル前駆体として、バリウ
ムヘキサフルオロアセチルアセトネート、バリウム
（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジ
オネート）、ランタンアセチルアセトネート水和物、ラ
ンタン（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプ
タンジオネート）、マグネシウムアセチルアセトネート
二水和物、マグネシウム（２，２，６，６−テトラメチ
ル−３，５−ヘプタンジオネート）、イッテルビウムア
セチルアセトネート、イッテルビウムヘキサフルオロア
セチルアセトネート、イッテルビウム（２，２，６，６
−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、イッ
トリウムアセチルアセトネート、イットリウムヘキサフ
ルオロアセチルアセトネート、およびイットリウム
（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジ
オネート）が含まれる。

【００４６】好ましい光減衰性材料は不所望な放射線を
減衰して所望の放射線を反射、透過または再発光する材
料であり、不所望な放射線の吸収と所望の放射線の反
射、透過または再発光との間に鋭い遷移特性を有してい
る。好ましくは、放射線の所望の波長から不所望の波長
に遷移する場所における放射線スペクトル領域において
２％以上、さらに好ましくは３％以上、最も好ましくは
４％以上で反射能／ｎｍが変化する。不所望な放射線が
損傷性の放射線であり、所望の放射線が殺菌効果を有す
る放射線である好ましい実施形態の場合に、上記の鋭い
遷移は２３０ｎｍ乃至２５０ｎｍで生じるのが好まし
く、２３５ｎｍ乃至２４５ｎｍがさらに好ましく、２３
９ｎｍ乃至２４０ｎｍが最も好ましい。

【００４７】上記の実施形態の組合せもまた本発明の範
囲内であり、不所望な放射線を減少する付加的な効果お
よび所望な放射線の不所望な放射線に対する比率を高め
るために構成される。この最も好ましい実施形態はモニ
ターされるまたは取り替える場合の少ない耐久性の高い
光減衰性の材料を使用するものである。このような光減
衰性材料は不所望な放射線を減衰する能力が著しく変化
するまでに好ましくは３ジュール／ｃｍ² で１００パル
ス、さらに好ましくは１０，０００パルス以上、最も好
ましくは３ジュール／ｃｍ² で１，０００，０００パル
ス以上の使用回数に耐えることができる。好ましい実施
形態は固体の光減衰性材料をランプエンベロープおよび
／またはランプエンベロープの周囲のフローチューブに
添加するか、当該光減衰性材料を反射装置に対するコー
ティングとして付加するものである。

【００４８】本発明を以下の実施例によりさらに詳細に
説明する。実施例１ 処理したレンズ それぞれ５００μｌのホウ酸塩バッファー化塩類溶液を
満たしたポリプロピレンボウル内に入れてこのボウルに
透明な蓋材をヒートシールした−１．００ＤのAcuvue
（登録商標）（Etafilcon A)コンタクトレンズをPurePu
lseブライトライトシステムの空孔部内に６個同時にい
れた。コンテナ内の各レンズに２個のキセノンフラッシ
ュランプを同時に発光して４回フラッシュ光を当てて２
００ｎｍ乃至３０００ｎｍの約１２ジュール／ｃｍ² の
放射線を供給し、この内の８５０ミリジュール／ｃｍ²
が２４０乃至２８０ｎｍの放射線であった。各コンタク
トレンズを屈折率および重量法（GRAVIMETRIC）の両方
により含水量について試験した。また、弾性率および基
本曲線も測定した。測定結果を表２に示す。

【００４９】光減衰性材料により処理したレンズ 上述のようにパッケージ化した−１．００ＤのAcuvue
（登録商標）コンタクトレンズを上記のように処理し
た。ただし、１２μｍ厚のナイロンフィルムの部材片を
コンテナのボウル側のコンテナの下方に配置した。上記
と同じ測定を行ってその結果を表２にまとめた。

【００５０】未処理のレンズ ４８個の未処理の−１．００ＤのAcuvue（登録商標）コ
ンタクトレンズの特性も測定してこれらの結果を表２に
まとめた。 表２ 特性 未処理レンズ 処理レンズ 処理レンズ＋ 光減衰性材料 線量（mJ/cm² 無し ８５０ ８５０ @240nm-280nm) ナイロンフィルム 無し 無し 有り 基本曲線（ｍｍ） ８．８２ ８．７９ ８．８２ 弾性率（ｐｓｉ） ４２．３ ３６．３ ４０．２ 含水量（％） ５８．４ ５９．５ ５８．９ 屈折率法 含水量（％） ５９．５ ６０．２ ５９．６ 重量法

【００５１】この実施例からナイロンが不所望な放射線
を減衰してコンタクトレンズポリマーを損傷から部分的
に保護することが分かる。

【００５２】実施例２ 光減衰性材料なしで処理したレンズ それぞれ５００μｌのホウ酸塩バッファー化塩類溶液を
満たしたポリプロピレンボウル内に入れてこのボウルに
透明な蓋材をヒートシールしたAcuvue（登録商標）（Et
afilcon A)コンタクトレンズをPurepulseブライトライ
トシステムの空孔部内にいれた。コンテナ内の各レンズ
に２個のキセノンフラッシュランプを同時に発光して種
々の量のエネルギーを供給した。異なるエネルギーレベ
ルでの処理の後に、各コンタクトレンズのボウル側の含
水率をアッベ（Abbe）法により測定した。（グラフ上の
各点は１０個のコンタクトレンズの平均測定値を表
す。）これらの測定値を図７にプロットした。

【００５３】光減衰性材料により処理したレンズ 上述のようにパッケージ化したAcuvue（登録商標）コン
タクトレンズを上記のように処理した。ただし、空孔部
内における鏡面研磨したアルミニウムPurePulse 反射装
置を使用する代わりに、鏡面反射装置を３０層の硫酸バ
リウムを塗布してから当該硫酸バリウム上の１０層の酸
化ランタンを塗布して形成した。これらのコーティング
材は室温でスプレーコーティングして、各塗膜の供給の
間に乾燥処理を行った。硫酸バリウムコーティング材は
１：１：０．１の重量比の硫酸バリウム、水およびケイ
酸ナトリウムにより構成されている。また、酸化ランタ
ンコーティング材は１：１：０．１の重量比の酸化ラン
タン、水およびケイ酸ナトリウムにより構成されてい
る。これらの光減衰性材料による反射装置を有するシス
テムにより処理した各コンタクトレンズに対して上記と
同一の測定を繰り返して、これらの測定結果を図７にプ
ロットした。

【００５４】図７により、各反射装置上の光減衰性コー
ティングがコンタクトレンズを損傷から保護することが
分かり、このことは、反射装置に光減衰性材料を含まな
いシステムに比して反射装置に光減衰性材料を含むシス
テムにより処理した場合のコンタクトレンズにおける平
衡含水量における減少変化により確認できる。

【００５５】表３における各材料を表１における材料と
同一の方法で測定した結果、これらの材料は本発明にお
ける光減衰性材料として有用でないと考えられる。 表３ 観測 ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ ％Ｒ 目視 平均 標準偏差 平均 標準偏差 平均 標準偏差 材料 色 200- 200- 240- 240- 200- 200- 400 400 280 280 240 240 酸化 黒 13.67 5.59 12.13 0.33 20.7 9.49 プラセオジミウム 酸化チタン 白 14.92 5.17 13.12 0.28 20.75 9.14 酸化亜鉛 白 15.85 13.39 10.99 0.35 20.72 11.36

【００５６】以上本発明を特定の実施形態に基づいて説
明したが、当該技術分野の通常の熟練者であれば、特許
請求の範囲およびその実施態様に定める本発明の範囲お
よび趣旨に逸脱することなく上記の実施形態の変形およ
び変更が可能である。

【００５７】本発明の実施態様は以下の通りである。 （１）前記選択的に減衰される放射線が１００ｎｍ乃至
２４０ｎｍの範囲である請求項１に記載のシステム。 （２）前記選択的に減衰される放射線が１８０ｎｍ乃至
２４０ｎｍの範囲である請求項１に記載のシステム。 （３）前記システムが１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射
線の少なくとも６０％を選択的に減衰する実施態様
（２）に記載のシステム。 （４）前記システムが１８０ｎｍ乃至２４０ｎｍの放射
線の少なくとも９０％を選択的に減衰する実施態様
（２）に記載のシステム。 （５）前記システムが２００ｎｍ以上で２４０ｎｍまで
の放射線の少なくとも９０％を選択的に減衰する請求項
１に記載のシステム。

【００５８】（６）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８
０ｎｍの放射線の７５％以上を透過する請求項１に記載
のシステム。 （７）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射
線の７５％以上を透過する実施態様（３）に記載のシス
テム。 （８）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射
線の９０％以上を透過する実施態様（３）に記載のシス
テム。 （９）前記システムが２４０ｎｍ乃至２８０ｎｍの放射
線の９０％以上を透過し、かつ、１００ｎｍ乃至２４０
ｎｍの放射線の少なくとも９０％を選択的に減衰する実
施態様（１）に記載のシステム。 （１０）前記光減衰性材料が１．２の減衰比率を有して
いる請求項１に記載のシステム。

【００５９】（１１）前記光減衰性材料が１．８の減衰
比率を有している請求項１に記載のシステム。 （１２）前記光減衰性材料がガスにより構成されている
請求項１に記載のシステム。 （１３）前記光減衰性材料が液体により構成されている
請求項１に記載のシステム。 （１４）前記液体がポリオール、ハロゲン化炭素化合
物、有機カーボネート、シリコン化合物、これらの液体
の混合物、および液体キャリヤ中の固体の光減衰性材料
から成る群から選択される実施態様（１３）に記載のシ
ステム。 （１５）前記液体がアルキルアルコール、２００乃至
１，０００の重量平均分子量を有するプロピレングリコ
ール、フルオロカーボン、クロロカーボン、クロロホル
ム、完全ハロゲン化カーボン化合物、フレオン、フルオ
リナート、組成中に窒素を含有するフルオリナート、脂
肪族カーボネート、プロピレンカーボネート、ケイ酸ナ
トリウム、ポリシロキサン化合物、ポリジメチルシロキ
サン、水素化物末端シリコーンオイル、およびこれらの
液体の混合物から成る群から選択される実施態様（１
３）に記載のシステム。

【００６０】（１６）前記液体がクロロホルムおよびプ
ロピレンカーボネートにより構成されている実施態様
（１３）に記載のシステム。 （１７）前記液体の光減衰性材料の位置がランプエンベ
ロープとフローチューブとの間、フローチューブと保護
ウインドウとの間、反射装置の近くの通路内、保護ウイ
ンドウの近くの通路内、および標的物と前記放射線供給
源との間に位置する通路内から成る群から選択される実
施態様（１４）に記載のシステム。 （１８）前記光減衰性材料が固体により構成されている
請求項１に記載のシステム。 （１９）前記固体がアルカリ金属化合物、重金属酸化
物、２価金属酸化物、および多価金属酸化物、希土類金
属酸化物、希土類金属ハロゲン化物、およびこれらの金
属酸化物の組合せから成る群から選択される実施態様
（１８）に記載のシステム。 （２０）前記固体が組成式Ｍ_a Ｏ_b Ｘ_c Ｈ_d により構成
されていて、Ｍが単一または混合の金属であり、Ｏが酸
素であり、Ｘがヘテロ原子であり、およびＨがハロゲン
化物であって、ａが１乃至２０、ｂが０乃至２０、ｃが
０乃至２０、およびｄが０乃至２０であって、少なくと
もｂ、ｃまたはｄが１である実施態様（１８）に記載の
システム。

【００６１】（２１）前記固体材料が９９．９％以上の
純度を有している実施態様（１８）に記載のシステム。 （２２）前記固体材料が酸化カルシウム、酸化ハフニウ
ム、酸化ランタン、酸化鉄、酸化テルビウム、酸化プラ
セオジミウム、チタン酸バリウム、フッ化マグネシウ
ム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化バリウ
ム、チタン酸バリウム、酸化ホルミウム、酸化カルシウ
ム、酸化ランタン、酸化ゲルマニウム、酸化テルビウ
ム、酸化ユーロピウム、酸化エルビウム、酸化ネオジミ
ウム、酸化サマリウム、酸化イッテルビウム、酸化イッ
トリウム、および酸化ジスプロジウムから成る群から選
択される実施態様（１８）に記載のシステム。 （２３）前記固体材料が酸化マグネシウム、酸化エルビ
ウム、酸化ホルミウム、酸化サマリウム、酸化テルビウ
ム、酸化ランタン、酸化イットリウム、および酸化イッ
テルビウムから成る群から選択される実施態様（１８）
に記載のシステム。 （２４）前記固体材料が酸化ランタン、酸化イットリウ
ム、および酸化イッテルビウムから成る群から選択され
る実施態様（１８）に記載のシステム。 （２５）前記光減衰性材料がランプエンベロープ、保護
ウインドウ、フローチューブ、反射装置、通路、透明支
持体、遮断要素または取外し可能な固体材料内において
前記システムに調合剤として組み込まれる固体の光減衰
性材料である実施態様（２）に記載のシステム。

【００６２】（２６）前記光減衰性材料がランプエンベ
ロープ、保護ウインドウ、フローチューブ、反射装置、
通路、透明支持体、遮断要素または取外し可能な固体材
料内において前記システムにコーティング材として組み
込まれる固体の光減衰性材料である実施態様（２）に記
載のシステム。 （２７）前記コーティング材が塗布、スプレー、プラズ
マコーティング、浸漬、キャスティング、コンバージョ
ンコーティング、ゲルコーティング、エッチング、化学
蒸着、スパッタリング、または化学的または機械的結合
処理により適用できる実施態様（２６）に記載のシステ
ム。 （２８）前記固体の光減衰性材料がポリビニルアルコー
ル、シアノアクリレート、アクリル樹脂、シリコーンか
ら成る群から選択される材料により構成されている実施
態様（１８）に記載のシステム。 （２９）前記固体の光減衰性材料がケイ酸ナトリウム、
低温焼結ガラス、ケイ酸ナトリウム、アルカリ酸化物ケ
イ酸塩、ナトリウム、カリウムおよびリチウムのケイ酸
塩、ゾル−ゲル結合剤前駆体、アルミニウムターシャリ
ーブトキシド、ケイ酸ナトリウム、テトラエチルオルト
シリケート（ＴＥＯＳ）、金属イソプロポキシド、イソ
プロパノール中におけるジスプロジウムエチルヘキサノ
−ジイソプロポキシド、ヘキサン中におけるジスプロジ
ウム２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパ
ノール中におけるジスプロジウムイソプロポキシド、２
−メトキシエタノール中におけるジスプロジウム２−メ
トキシエトキシド、イソプロパノール中におけるエルビ
ウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘキサン中
におけるエルビウム２−エチルヘキサノエート、トルエ
ン−イソプロパノール中におけるエルビウムイソプロポ
キシド、イソプロパノール中におけるホルミウムエチル
ヘキサノ−ジイソプロポキシド、トルエン−イソプロパ
ノール中におけるホルミウムイソプロポキシド、２−メ
トキシエタノール中におけるホルミウム２−メトキシエ
トキシド、酢酸ランタン、ヘキサン中におけるランタン
２−エチルヘキサノエート、ランタンイソプロポキシ
ド、２−メトキシエタノール中におけるランタン２−メ
トキシエトキシド、エタノール中におけるマグネシウム
エトキシド、メタノール中におけるマグネシウムメトキ
シド、２−メトキシエタノール中におけるマグネシウム
２−メトキシエトキシド、イソプロパノール中における
ネオジミウムエチルヘキサノ−ジイソプロポキシド、ヘ
キサン中におけるネオジミウム２−エチルヘキサノエー
ト、トルエン−イソプロパノール中におけるネオジミウ
ムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中におけ
るネオジミウム２−メトキシエトキシド、トルエン−イ
ソプロパノール中におけるサマリウムエチルヘキサノ−
モノイソプロポキシド、ヘキサン中におけるサマリウム
２−エチルヘキサノエート、トルエン−イソプロパノー
ル中におけるサマリウムイソプロポキシド、２−メトキ
シエタノール中におけるサマリウム２−メトキシエトキ
シド、トルエン−イソプロパノール中におけるイッテル
ビウムイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中に
おけるイッテルビウム２−メトキシエトキシド、トルエ
ン−イソプロパノール中におけるイットリウムエチルヘ
キサノ−ジイソプロポキシド、およびトルエン−イソプ
ロパノール中におけるイットリウムエチルヘキサノ−モ
ノイソプロポキシドから成る群から選択される材料によ
り構成されている実施態様（２８）に記載のシステム。 （３０）前記固体の光減衰性材料が酢酸ランタン、ヘキ
サン中におけるランタン２−エチルヘキサノエート、ラ
ンタンイソプロポキシド、２−メトキシエタノール中に
おけるランタン２−メトキシエトキシド、トルエン−イ
ソプロパノール中におけるイッテルビウムイソプロポキ
シド、２−メトキシエタノール中におけるイッテルビウ
ム２−メトキシエトキシド、トルエン−イソプロパノー
ル中におけるイットリウムエチルヘキサノ−ジイソプロ
ポキシド、およびトルエン−イソプロパノール中におけ
るイットリウムエチルヘキサノ−モノイソプロポキシド
から成る群から選択される材料により構成されている実
施態様（２８）に記載のシステム。

【００６３】（３１）前記光減衰性コーティング材の厚
さが０．１ミクロン乃至２５００ミクロンである実施態
様（２６）に記載のシステム。 （３２）前記反射装置がさらに研磨処理したアルミニウ
ム、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、フッ化マグネシ
ウム、および酸化マグネシウムから成る群から選択され
る反射性材料により構成される請求項１に記載のシステ
ム。 （３３）前記反射装置が硫酸バリウムおよび酸化ランタ
ンにより構成されている請求項１に記載のシステム。 （３４）前記反射装置が前記反射性材料および前記光減
衰性材料から成る成形した固体材料を機械加工すること
により形成できる請求項１に記載のシステム。 （３５）前記光減衰性材料が酸化ランタン、酸化イット
リウム、および酸化イッテルビウムから成る群から選択
される実施態様（３３）に記載のシステム。

【００６４】（３６）さらに、遮断要素から成る請求項
１に記載のシステム。 （３７）前記遮断要素が前記光減衰性材料により構成さ
れており、拡散反射表面を有している実施態様（３６）
に記載のシステム。 （３８）前記放射線供給源から直接的な放射線が全く標
的物に照射しない請求項１に記載のシステム。 （３９）さらに、前記放射線供給源用の少なくとも１個
の反射装置から成り、当該反射装置が楕円形状を有する
拡散反射装置である請求項１に記載のシステム。 （４０）さらに、前記選択的に減衰性の材料により構成
される取外し可能な固体材料から成り、当該固体材料が
放射線供給源と標的物との間に配置されている請求項１
に記載のシステム。

【００６５】（４１）前記取外し可能な固体材料がフィ
ルム、ブロック、プレート、および支持体内に詰め込ま
れたパウダーから成る群から選択される形態を有してい
る実施態様（４０）に記載のシステム。 （４２）前記フィルムがポリアミドおよびポリオレフィ
ンから成る群から選択されるポリマー材料により構成さ
れている実施態様（４１）に記載のシステム。 （４３）さらに、標的物により構成されていて、当該標
的物が前記光減衰性材料により構成されている請求項１
に記載のシステム。 （４４）前記標的物がナイロン、酸化ランタン、アジピ
ン酸、アジピン酸バリウム、アジピン酸カルシウム、ア
ジピン酸マグネシウム、アジピン酸二ナトリウム、カル
ボン酸、およびゾル−ゲル前駆体から成る群から選択さ
れる材料により構成されている実施態様（４３）に記載
のシステム。 （４５）前記標的物がコンテナおよび製品により構成さ
れており、当該コンテナがバリウムヘキサフルオロアセ
チルアセトネート、バリウム（２，２，６，６−テトラ
メチル−３，５−ヘプタンジオネート）、ランタンアセ
チルアセトネート水和物、ランタン（２，２，６，６−
テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート）、マグネ
シウムアセチルアセトネート二水和物、マグネシウム
（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジ
オネート）、イッテルビウムアセチルアセトネート、イ
ッテルビウムヘキサフルオロアセチルアセトネート、イ
ッテルビウム（２，２，６，６−テトラメチル−３，５
−ヘプタンジオネート）、イットリウムアセチルアセト
ネート、イットリウムヘキサフルオロアセチルアセトネ
ート、およびイットリウム（２，２，６，６−テトラメ
チル−３，５−ヘプタンジオネート）から成る群から選
択される材料により構成されている実施態様（４３）に
記載のシステム。 （４６）前記光減衰性材料が２３０ｎｍ乃至２５０ｎｍ
の範囲で２％より大きな反射能／ｎｍで変化する請求項
１に記載のシステム。 （４７）前記光減衰性材料が２３５ｎｍ乃至２４５ｎｍ
の範囲で３％より大きな反射能／ｎｍで変化する請求項
１に記載のシステム。

【００６６】

【発明の効果】従って、本発明によれば、所望の放射線
の部分を著しく減少することなく透過して、不所望な放
射線の部分を選択的に減衰し得るための材料および方法
と、当該材料により構成した放射線処理システムが提供
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明において有用な種々の液体光減衰性材料
における吸光度と波長の関係のグラフである。

【図２】光減衰性材料を有する本発明のフラッシュラン
プの断面図である。

【図３】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュ
ランプの断面図である。

【図４】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュ
ランプの断面図である。

【図５】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュ
ランプの断面図である。

【図６】光減衰性材料を有する本発明の別のフラッシュ
ランプの断面図である。

【図７】本発明の光減衰性材料を有している、および有
していないシステムの場合のポリマーに対する放射線線
量の関数としてのコンタクトレンズポリマーの平衡含水
量のグラフである。

【符号の説明】

１０ フラッシュランプ １１ ランプ １２ ランプエンベロープ １３ フローチューブ１３ １４ 反射装置 １５ 保護ウインドウ １６ 通路

フロントページの続き (71)出願人 500092561 7500 Ｃｅｎｔｕｒｉｏｎ Ｐａｒｋｗａ ｙ−Ｓｕｉｔｅ 100， Ｊａｃｋｓｏｎ ｖｉｌｌｅ， Ｆｌｏｒｉｄａ 32256, Ｕ．Ｓ．Ａ. (72)発明者 アラン・ダブリュ・キンブル アメリカ合衆国、32217 フロリダ州、ジ ャクソンビル、ブラッドフォード・ロード 5085 (72)発明者 ジョン・ビー・エンス アメリカ合衆国、32257 フロリダ州、ジ ャクソンビル、ジェイバード・サークル・ イースト 9251 (72)発明者 ジェイムズ・エイ・エーベル アメリカ合衆国、32256 フロリダ州、ジ ャクソンビル、ロック・ヒル・レーン 8220

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＵＶ放射線供給源から成る光エネルギー
   放射線システムにおいて、前記システムが選択的に光減
   衰性の材料により構成されており、当該光減衰性の材料
   が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大し
   て、この光減衰性材料に照射する２００ｎｍ以上で２４
   ０ｎｍまでの放射線の少なくとも３０％を選択的に減衰
   し、かつ、この光減衰性材料に照射する２４０ｎｍ乃至
   ２８０ｎｍの放射線の５０％以上を透過することにより
   標的物に対する損傷を減少するシステム。
2. 【請求項２】 ＵＶ放射線供給源から成る光エネルギー
   放射線システムにおいて、前記システムが選択的に光減
   衰性の材料により構成されており、当該光減衰性の材料
   が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大し
   て、この光減衰性材料に照射する２００ｎｍ以上で２５
   ０ｎｍまでの放射線の少なくとも３０％を選択的に減衰
   し、かつ、この光減衰性材料に照射する２５０ｎｍ乃至
   ２８０ｎｍの放射線の５０％以上を透過することにより
   標的物に対する損傷を減少するシステム。