TW484142B - UV radiation system having materials for selectively attenuating radiation - Google Patents

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五、發明説明（ 發明領域 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明針對一種紫外線(UV radiation)輻射系統，其具 有一種材料可用來增加由輻射源提供之想要的輻射線對不 想要的輕射線的比率。 5發明背景 在UV滅菌或消毒範疇中，典型的目標媒介是耐久 (不及收，不退化）材料，例如金屬，陶曼，或化學上單 純之溶液，如水或鹽水，且所涉及的能量典型是低的，也 就是，每脈衝總輻射低於〇·1 J/cm2，或對連續輻射源而言 10 低於 20 Watts/cm2。 習知技藝已揭示使用高能量寬光譜輻射源以使微生物 無活性。美國專利 5,768,853 ; 5,768,598 ; 5,034,235 ; 4,871，559 ;及 5,900,211 ;及 WO 96/09775 皆已揭示使用 見光邊輪射源來使食物、水及醫療器具上的微生物失去活 性。就寬光譜輻射源的應用而言，輻射線對諸如食物、水 及醫療器械等暴露物件所致之傷害並未曾被考慮過。美國 專利5,768,853及5,900,211建議藉由使用具有想要的光 諸傳送/吸收特性之選定的液體溶液，可以冷卻及或/光 譜過濾用液體來取代在閃光燈周圍的冷卻流體。除了水 外，並未提到其他作為光譜過濾用液體之材料，亦未討論 及於過濾一事及/或其目的為何。美國專利5,768,853揭 示其中所述的一個實施例的外安全玻璃可濾掉短於200那 米（nanometers; "nm”)之波長以防止在外安全玻璃之外側形 成臭氧(ozone)，但是該玻璃的組成並未揭露。 15 20 Μ氏張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 89352a I--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ΙΦ .a__ 484142 A7 -----------B7 _ 五、發明説明（) ~~~ --*- 世界專利W0 97733629揭示生物血清及其他受污染流 體之滅f及純化的方法，它藉由暴露這些物質於精確uv 幸射光μ下而使細_失去活性。该精密控制的輻射光譜對 該病原的分子組成而言是特定的，以便殺死他們，但=傷 5害周圍的細胞、蛋白質，及其他組成。使用自約腿 到約250 nm的υν輻射來照射生物血清。這些能最佳的 殺死病毒、細菌與其他微生物的特定波長係介於3 〇到約 10.0 nm的窄範圍内，以3到5 nm為佳。可使用傳送器/ 調整器，光栅，或其他濾光器來控制波長的大小與變化， 1〇 =未，任何特文實例。用來放置血清的曝光窗是由石 英，監寶石或υν熔化的石英矽土所製成，並且塗上可讓 UV輻射波長十足地通過的傳送材料，例如聚四氟碳。鐵 氟龍(Teflon)亦可用作為可讓UV透過之可丟棄式襯料。 歐洲專利EPO 0277505 B1揭示一種UV輻射燈，它 15用來消毒瓶子。這燈有一個反射器，該專利稱之為鏡子， 此鏡子有介電塗層。介電塗層（分光或干涉過濾器）被用 來獲得選擇的UV輻射的反射。反射器可塗上數十層介電 層’每層的厚度是輻射線波長的四分之一。合適的介電塗 層包括 AL2〇3/NaF，Sc203/MgF2, ThF4/Na2AlF6, Hf02/Si〇2, 20 及PbF2/Na3 A1F6。介電塗層適於UV輻射的低能量吸收， 但無法符合高能量系統的需求.，在高能量系統下，介電塗 層的有效壽命很短。再者，介電過濾器對角度非常敏感， 對於會改變在過濾器上的入射角角度的成形的反射器而 言’他們是無效的。 -4- 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） I-------衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 ίφ. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（ 壽命。依據燈:刪殼以便延長燈的 個截掉UV輕射，.例如^;疋，可選擇某些換雜物來整 殼。其他摻雜物被選來截人雷射關光燈的燈 具有這_物=二:: 力添加其他捧雜物到燈毅上可強化燈殼的抗熱 量uv輕射在聚 器 明人已確定輕射對醫療器械所 2 失原定用途，故必須考慮此等傷害=了 及將此等材料併入燈系統的方、去 而要-二材料 =械的那部份υν韓射，且不會減少或顯著 7 4要的那部份UV^，例如，可有效滅菌的輕射 15 發明概要 =發明提供—種產生υν輻射線的高能量輕射系統， ^括選擇性衰減材料，可選擇性衰減至少鄕撞擊於該 哀減材料上之自180nm迄240nm的幸畐射線，而增加想要 的輪射線對不想要的轄射線之比率，以降低輕射線對目伊 之損害，並可導引50%以上撞擊於該衰減材料上之24〇: 至280nm的輻射線。 該輻射系統包括可選擇性衰減輕射線之衰減材料，使 對自18〇nm迄240nm的紫外線敏感的目標，亦能暴露於 高能量UV輕射。高能量UV輻射系統產生想要的和不祁 要的輻射線。未衰減時，在送出想要的輻射線之同時“ 10 20 25 不 I _______-ί)-_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（21 ΟΧ297公釐） 484142

ίο 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 想要的輻射線傷害目標的材料或改變其特性。這目標可能 是含有對紫外線敏感的組成之任何材料。對目標的傷害包 含有機或無機染料之顏色改變，聚合物或其他有機材料之 斷鏈或機械性質改變，料致有機材料氧化。藉選擇性衰 減不想要的輻射線，使高能量UV輻射系統能用在涵蓋有 機或無機產品之產品上（否則此等產品會受輻射傷害），或 使高能量UV輻射系統能較廣類別材料(有^此等㈣在受 到不想要的㈣線時m射傷害的⑽值是低的。本 發明亦簡化輻射系統照射龍射線敏感之目標的程序控 制’因為可依需要使衰減後不想要的輻射量低於或遠低於 對目標產生輪射傷害的門檻值，這也提供更多可送出的輕 射s〜在較佳實施例，本發明用來處理在聚合性包裝内的 溶液中之聚合性隱形眼鏡。旧輻射損害隱形目艮鏡聚合 物’容ϋ聚合物和歸添加物。雖然參考聚合性目標材料 說明本發明，當瞭解亦可用本發明之方法處理其他對轄射 線敏感之目標㈣。本發明之—項重要應肖是雷射用燈系 統’其中目標材料是雷射媒介(如雷射染料)或其他對紫外 線敏感之有機媒介。 ’ 圖式之簡 出可用於本發明之多種液態衰減材料之每波 的吸收度。 ' 圖2示出具有衰減材料之本發明閃光燈之橫剖面。 圖3示出具有衰減材料之另一本發明閃光燈之 面0 長 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-=-口 本紙張尺韻财晒家標^Τ^Τα4規格（21^7^7 484142 A7 B7 五、發明説明（5 ) 圖4示出具有衰減材料之另一本發明閃光燈之橫剖 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 面0 圖5示出具有素減材料之另一本發明閃光燈之橫剖 面。 5 圖6示出具有衰減材料之另一本發明閃光燈之橫剖 面0 圖7示出在具有與不具有本發明衰減材料之系統，隱 形眼鏡聚合物之平衡水含量對聚合物所受到之輻射能量之 圖形。 10 詳細說明 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之輻射系統包括高能量UV輻射源，可用於此 輻射系統之UV輻射源包含不連續的或連續產生之斷續燈 (不相干燈），例如閃光燈，弧光燈（連續或不連續）， 氘燈；或連續波光源，例如，氙氣光源或水銀蒸氣光源。 15 UV輻射源是高能量的，亦即對於閃光燈，他們產生每脈 衝大於0.1 J/cm2的能量，或對於連續輻射源，他們產生大 於20 watts/cm2之能量，其中至少1%的輻射是從240到 280 nm為佳。目前較佳之UV輻射源是每脈衝產生至少1 J/cm2寬光譜輻射(200-300 nm)的閃光燈，該輻射中，至少 20 每閃10 mJ/cm2是UV輻射。滅菌是較佳的應用，更明確 講是隱形眼鏡（目標）的滅菌。就滅菌而言，想要的輻射 是包含從240到280 nm輻射線的殺菌用輻射；有許多參 考資料指出254 nm是殺菌範圍的峰值；但是，當隱形眼 鏡聚合物暴露於低於320 nm到約100 nm (非游離的UV輻 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 484142

10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 射）幸田射下守匕會遭毀壞。美國專利申請案第，乃8 號（名稱為”滅菌方法”，νΤΝ·〇388，前已併入作為參考） 揭示在波長小於320 nm的輻射會被隱形眼鏡聚合物所吸 收並導致聚合物内斷鏈。最具破壞性的輻射是從180 nm 迄(叩to)(當用來描述範圍日夺，”迄"（up叫一詞意謂該端 值未被包含於所指的範圍内）。為了避免因uv㈣使目 標聚合物（例如容减醫療賴）發生斷鏈或損害其他機 制而毁壞此聚合物，本發明提供衰減材料及將此材料併入 輪射系統之方法，以便在該輻射制達目標之前，衰減來 自至少一部份破壞性輻射劑量之不想要的波長。美國專利 申请案第〇9/259,758號又揭示，對於滅菌而言，施加到微 生物之輻射(240到280 nm)能量必須至少為18mJ/cm2。 為了保濩聚合物目標，以衰減從18〇 nm迄24〇 nm的 輻射或該輻射的一部份，或至少大於2〇〇 nm迄24〇 nm的 輻射為佳。但在某些應用中，以衰減從18〇 nm迄25〇 nm 輻射或該輻射的一部份為更佳。為了衰減不想要的輻射線 以保護聚合物目標免於傷害，並且防止臭氧的形成，衰減 從100 nm迄240 nm的不想要的輻射線是有利的。理想 上，不想要的波長的全部輻射線100%可被衰減；即使不 想要的輻射線的波長範圍的衰減百分比是小量的亦是有利 的’因為哀減作用能增加到達目標（例如聚合物，容器及 或產απ )之想要的（例如可有效殺菌的）輻射線對不想要 的（例如破壞性的）輻射線的比率。增加可有效殺菌的輻 射線對破壞性輻射線的比率，便能夠在有滅菌須要時，增 表紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、發明説明（ 5正個輻射$，並且當破壞聚合物的門檻值遠低於滅菌所 須劑量時，亦能較容易控制輻射系統。 I 衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之衰減材料以能夠使撞擊到衰減材料上之全部 5 :想要的輕射線的減少量大於遍為佳，大於嶋的減少 里為更佳，而以大於90%為最佳。就較佳實施例而言，不 二要的軲射線是從100 nm迄240 ，或至少從 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、 nm或至少大於20〇 nm迄240 nm。衰減所指範圍 内的所指輪射線的全部波長的至少一部份是較佳的。典型 1〇地，哀減材料並不會以單一百分比衰減給定範圍内的全部 波長故某些衰減材料會較其他衰減材料適合某些應用， 或者二可使用這些衰減材料的混合物以改進在不想要的輻 射線範圍内的某些或全部波長的減少量。這混合物的一個 例子疋氣仿與乙醇。較佳的是衰減材料可衰減不想要的輕 t線，亚且衰減材料導引想要的輻射線朝向目標。藉由將 15撞擊在衰減材料上的來自輻射源的想要的輻射線予以傳送 及/或反射，及/或藉由將被吸收的不想要的輻射線再放 出成在想要的範圍内的輕射線，衰減材料能把想要的轄射 線導:目標。衰減材料可間接或直接地將想要的輕射線導 向目標，亦即，想要的輕射線在撞擊到目標之前先撞擊其 2〇他衣置，例如反射器，鏡子，光學纖維或類似者。衰減材 料能導引撞擊在衰減材料上的想要的輕射線的5〇%以上為 仏更仫為大於75%的想要的輻射線，最佳為大於9〇%的 想要的輻射線。對滅菌而言，想要的輻射線是24〇到28〇 nm。（衰減材料能否將想要的輻射線導引（例如：傳送，反

484142 A7 B7 五、發明説明（ 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 射，及或再放出）朝向目標將決定衰減材料相對於輻射源 與目標的位置）。較佳地，至少在指定的範圍内的不想要 的幸S射線的全部波長的一部份被衰減材料所傳送，反射或 放出。較佳的材料是那些能衰減大於30%的不想要的輕射 線並且導引大於5 0%的想要的輕射線的材料。更佳的衰減 材料可哀減大於50%的從100迄240 nm的總輻射並且導 引大於90%之撞擊在衰減材料上的從240到280 nm的總 輪射’從而，至少在200迄240 nm間的輕射的一部份被 衰減，以大於30%為佳，大於60%為更佳，最佳者為在 200迄240 nm間的輻射的90%以上被衰減。較佳的是在 所指範圍内的不想要的輻射線的全部波長的至少一部份被 衣減，並且導引至少一部份在所指範圍内的想要的輻射線 的全部波長。 衰減材料以能提供大於1.2的衰減比率為佳，更佳為 大於1.8，最佳為大於2.5。衰減比率定義為：由衰減材料 所導引的想要的輻射線的百分比除以由衰減材料所吸收的 不想要的輻射線的百分比。例如··氧化鑭作成的反射器的 衰減比率是3 (見表1)。 衰減材料可為液體、固體或氣體。為氣體之衰減材料 的範例係臭氧，如空氣中10 ppm之臭氧。液態衰減材料 包括多元醇類，如烧基醇類，更佳者為具有200至1，〇〇〇 之重量平均分子量的丙二醇類，且最佳者為重量平均分子 量為200之丙二醇類。聚乙二醇之範例包括Aldrich Chemical 公司所出產之 PEG 200、PEG 400、PEG 600。 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I---------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -訂 10 15 發明説明（ 可供㈣之液態衰減材料為齒化碳化合物，如、 a物、氯石反化合物、氯仿，更 氟碳化 該些材料較為移^定（土 —王鹵化碳化合物，蓋 (^onnens)^；^^ 奈特之範例包括Fc务，亦為較佳之材料。氣 得，生產自Adrich化學公司HFC，（其可自3M購 成中具有氮。其他之液能^減^土之既奈特係於其之組 為曰顺5θ類’如碳酸伸丙酯。i他可供使用夕 材：，化合物，如魏鈉，更佳者 ： =，如聚二甲基嫩，最佳者為以氮化物為终:： 石夕酿I油。可使用上械游雜 β 而之 核體合物做為液態衰減材料，較 二“化喊化合物與有機碳酸®旨之混合物，更佳 者為虱仿與碳酸伸丙酯 ^ ㈣心、，± 以下將要說明將液態衰 減材枓併入輕射系統中以衰減輪射線之方法。典型上，係 將液態衰減材料泵送通過或環繞於輕射源或輻射目標，因 而，液態衰減材料較佳具有1至i’_ cps之黏度，更佳 /、有1至500 cps之黏度，最佳具有丨至⑽啊之黏度， 最容易泵送之液態衰減材料係具有i至1〇 ¥之黏度。可 將液態衰減材料使用於一適當之液態載體中，較佳之載體 為非離子性液體，或者液態衰減材料可含有於適當液態載 體中之固,¾衰減材料’以形成具有該固體之分散液或膠 體如於水中之2-羥乙基甲基丙烯酸酯（HEMA)或二甲 基丙烯酸乙二醇酯（EDGMA)。 可用作為衰減材料之液體的實例列於圖丨。將試樣液 11- 衣iT------Aw (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20

本紙張尺錢财_家標準（CNsTI4規格（210X297公釐T 484142 A7 B7 五、發明説明（10) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 體裝滿於路徑長度為-10 mm的比色器（cuvette)中，將該比 色器置於分光光度計内’記錄通過試樣的光線而得到圖1 的曲線。 ♦ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可在不同位置使用液態衰減材料以衰減選定的輻射 5線。參照圖2來說明使用液態衰減材料之第丨組實施例。 圖2顯示傳統閃光燈1〇的剖面，但應了解稍早前說明的 其他輻射源可用在本發明的輻射系統，例如：弧光燈（連 續的或不連續的），氘燈，或其他輻射源，他們能夠產生 至少一部份從180迄240 nm，或大於2〇〇迄240 nm的輻 10 射，及至少一部份從240到280 nm的輕射，及最佳為在 100與400 nm間連績的輪射。閃光燈1 〇包括燈11 ’燈11 包括二個電極（未繪出），各電極連接到中空燈殼12的末 端。燈殼12由可承受高溫及熱衝擊之堅固的透明材料製 成，例如：玻璃、石英或藍寶石，或類似者。當該電極間 15 產生電弧時，該燈產生輻射線。如圖示，燈殼12可位在 流管13内部。流管13可保護燈殼12。典型地，冷卻水被 泵入在燈殼12與流管π間形成的通道16以便移除由燈 11所產生的熱量。在本發明之一個實施例中，使用一或多 種液態衰減材料以取代在流管13與燈殼12間的通道16 20内的冷卻水，以衰減選定的波長且冷卻燈11。在此實施例 中，衰減材料可泵入燈殼12與流管13間的通道16内。 因為在燈11内有短路的可能，故，被泵入燈殼與流官間 的衰減材料必須是高電阻的，以大於丨百萬歐姆為佳，大 於10百萬歐姆為更佳，大於18百萬歐姆為最佳。 本紙張尺度適用中國國----—-----' 半（CNS ) A4規格（210X297公釐） 484142 A7 五 發明説明（ 冬發呀之另一 5 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 類似於圖2中之„丄， 、〗。團3中之閃光燈10 中類似的元件以相同數 及保叹肉15(圖 設在反射器u附近Hr)。通道28和通道29可増 過通道28和通^9Γ、Γ 15附近，液態衰減材料可透 、s 而被添加或泵送並用來衰減選定的輻 射線波長。通道可用玻璃， =⑽ 圖3顯示有兩個通道28 h、、， 作成。 中，可單獨使用1一、通道29，但在替代的實施例 -d· 個通道28或通道29來保持衰減封粗 以哀減不想要的轄射線。 *干㈣減材枓 液態衰減材料對輕射線的敏感 輻射線的曝光量。芒达< 4 1 心從〜、农减材枓對 衰減韓射線的能力：材料吸收輕射線的能力或者 力在衣減材料暴露於輻射線中一次後 =、’ «減材料可被m料過通 只在輻射線中暴露一，徭 是低的，則w / 若對輕射線的敏感性 吳露歸射線㈣ΐ材料可暴露於數次閃光後才丢棄，或 二! _存的«衰減材料混合’額外 ==料可自貯存的液態衰減材料抽出並暴露，並 且以何重硬—段時間，—直到確定貯存的 料的衰減輻射線的能力已減少到該貯存的液態衰 需丟某亚以新的液態衰減材料取代的情況為止。可用 =::!態衰減材料的衰減能力。在決定保持液衰 厚度（波長路徑長度）時，内部保持著 的通道的組成和各別液態衰減材料衰減不想 要的輻射線的能力將是被考慮的因素。

本纸張尺度適财關研(CNS)7^7l^^i 484142 A7 ------— B7_ 五、發明説明（12) - 、~ 固態衰減材料包-括（但非僅限於此） (氧化物與_化物）、重金屬氧化物（如鋇）、二:物 氧化物（如鎂）、以及多價金屬氧化物（如 U屬 態衰減材料亦可選自於具下式之化合物Mc^ °固 5 Μ為單-金屬或金屬之混合，較佳者為稀yy’其中 氧，x為雜原子如硫、氮蝴，且η為南化物屬 為氟，至20,較佳者為= 者為0至12，C為0至20 ’較佳者為〇至12，且d : 土〇 至20，較佳者為〇至12 ;其之先決條件係至少匕、c或d 10係至少為卜該些材料必須具足夠之純度以使雜質之量 不致對反射器之表現產生降解之結果。較佳者，該些材才= 具有超過99.9%之純度，更佳者，具有超過99 99%之純 度了七、使用之固恶材料的範例係列於表1中。表1中所 列者係為固態衰減材料之平均百分比反射係數，該百分比 15反射係數係以下法測定之：將一固態材料之乾燥粉末試樣 填裝於一比色器中，將該比色器置於一具有積分球之分光 光度計中，言亥分光光度計係可測定自試樣反射的放射線。 I 衣------、訂------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14- 本紙張尺度適用中國國家;CNS ) A4規格（21〇χ297公釐） 13 五、 發明説明（ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表1 ·衣減材料 材料 觀祭到 之視覺 顏色 %R 平均值 200- 400 %R 標準誤 差 200- 400 %R 平均值 240- 280 %R 標準誤 差 240- 280 %R 平均值 200- 240 %R 標準誤 差 200- 240 立人2义姜只 米黃色 18.55 10.11 14.42 0.27 21.44 9.04 米責色 62.69 26.63 55.84 18.08 23.08 11.18 氧化铒 p | k. I. 粉紅色 * ~τ~~~~— 62.69 26.63 55.84 18.08 23.08 11.18 氧化銪 白色 54.79 34.3 45.1 1.26 23.78 10.73 一乳化 ---- 84.13 21.32 72.83 10.51 50.72 14.64 氧化铪 P ^ Jl tt 米黃色 —----- 32.26 7.49 25.83 0.51 31.04 9.69 ~ 氧化钬 粉紅色 66.75 27.37 67.18 20.46 20.88 9.31 氧化· 白色 82.99 28.39 88.23 11.97 29.49 12.36 氧化鎮 白色 92.27 14.21 101.44 0.52 19.68 24.49 氧化镨 黑色 —-~-—. 13.67 5.59 12.13 0.33 20.7 9.49 乳化彭 淡黃色 68.84 27.62 51.32 23.08 27.58 6.59 氧化試 棕色 13.11 6.09 11.55 0.58 21.15 9.99 —氧化 鈦 白色 14.92 5.17 13.12 0.28 20.75 9.14 氧化鏡 白色 70.72 33.16 45.8 26.02 23.2 11.84 氧化釔 白色 85.81 24.14 89.38 6.51 41.14 15.4 ~ 氧化辞 白色 15.85 13.39 10.99 0.35 20.72 11.36 固悲衣減材料之式子中，當a為1至6且b為1至 11，及C與d為0時，則固態衰減材料為金屬氧化物，如 氧化鈣（CaO)及氧化铪(Hf02)、氧化鑭(La2〇3)、氧化鐵 (Fe304)、氧化铽（Tb407)，氧化镨（pr6〇ll)及鈦酸鋇 (BaTi03) 為1且d為2且1^與（：為〇之固態衰減材料 的範例為氟化鎂(MgF2)。固態衰減材料另外之範例包括氧 -15- 尽紙張尺度通用宁國國豕標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、發明説明（） 14 化鎮（MgO)、氧化鋁（A1 〇、 m τ·η、, 从）、乳化鋇（Ba〇)、鈦酸鋇 aT1〇3)、乳化鈥（Η〇2〇3)、氧化詞（㈤）、氧化 fa2〇3：) '氧化鍺_2) '氧化碲(Te〇2)、氧化帅 : 礼化餌(Er203)、氧化物(Nd2〇3)、氧化釤伽⑹、上3 | (外2〇3)、氧化記(γ2〇3)及氧化鏑①成）。其他範例包括^ 他稀土族之对火氧化物’稀土族i化物及金屬混合氣^ 物。較佳之衰減材料為氧化鎂、氧化铒、氧化鈥 彭、氧化碲、氧化鋼、氧化紀及氧化镱，且最佳者 鑭、氧化紀及氧化鏡。 ” 10 15 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -訂 φ 可將固態衰減材料併入輕射源（如燈殼，保護窗或攻 管），它可防止傷害性輻射線到達目標，如待暴露之^ 口物，產品及/或包裝材。如前所說明，輕射源的範 含脈衝光源(如山气燈）或連續波光源(如水銀蒸氣）。在^ 燈殼及/或流管及/或保護窗期間，可將固態衰減材料添= 用來製造玻璃(例如藍寶石，石英，玻璃，晶體材料 類似者）的原料中，這在玻璃業通常稱為播雜物。恰當、愛 擇用於流管或燈殼之摻雜物可降低熱衝擊、^ ^ 7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 光、鱗光，而增加燈的性能，及/或也可藉吸二;、或吸= 並再放出想要的波長（或至少不是不想要的波長），而降低 不想要的韓射線。那些能夠吸收不想要的波長的輕射線並 再放出想要的波長的輻射線的衰減材料是較佳的。 … 衰減材料亦能形成一個過濾器，輻射線通過過濾哭後 核擊到目標，如此，不想要的波長在接觸目標之&被 衰減了，或者衰減材料可加到包裝材料中。下文將更气述 本紙張尺^?^國家^cNS) 2ιϋχϋ 15 發明説明（ 這些實施例。 ； 罐*道添加到破璃’石英或藍寶石，流管，燈殼或保 =、g /雜物的量’或為了形成過濾、器或包裝材料(輕射 、么、過過慮為或包褒材料後才撞擊到聚合性目標），及 μ〜I述的其他實施例’以比爾（Beer_Lambert)方程式將 、“雜物或衰減材料之輕射線吸收舒以量化： K^)/lo(X)-Qxp(-a(k)cx) 10 八中Ι(λ)疋被衰減輻射線的強度，它是波長认)的函 Ι〇(λ)是輻射線起始強度，它是波長的函數；α(λ) 疋払雜物（衰減材料）的莫耳吸收率，它是波長的函 數，C疋摻雜物的濃度；和X是輻射線通過的路徑長 度（内有摻雜物存在之材料的厚度）。α(λ)可如前所述 以分光光度計或類似者來決定以產生表2的數據。 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本t明的一替代實施例是將固態衰減材料添加到輻射 源的其他部份，例如作為參照圖4和5說明之反射器的一 口Η刀圖4顯示與圖2所示者相似之閃光燈1〇橫剖面（類 似兀件以相同代號標示）。圖4顯示作為反射器14之一部 份之衰減塗層36。反射器14包括反射器支撐件35。塗層 36包括衰減材料。施加衰減塗層之方式可為：刷塗、喷 20灑、電漿塗佈、浸潰、澆鑄、轉化塗佈、凝膠塗佈、蝕 刻、化學蒸汽沉積、濺鍍，或者，化學或機械結合（例如 把含有衰減材料的薄膜黏到反射器支撐件35上）。施加 衰減塗層之優選的方法是把衰減材料刷塗或噴灑到反射器 支撐件上。為將衰減材料刷塗或喷灑至反射器支撐件35 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公釐） 484142 A7 B7 五、發明説明（） 16 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上，以形成包括衰減材料及粘合劑之水的或非水的懸浮液 為佳。有用之黏合劑為聚合性的、無機的或溶膠，更佳為 無機的或溶膠，及最佳為無機的。較佳之懸浮液包含0.1 至50%之黏合劑、0.1至99.9%之衰減材料及0.1至90%之 5 載體。載體為用以形成衰減材料與黏合劑之稀釋液以施加 塗層之液體。有用之載體的範例為水、醇類、烷類、氟氯 烧類等，最佳為水。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可用於製造包含衰減材料之塗層的聚合性黏合劑範例 為聚乙烯醇類、氰基丙烯酸酯類、丙烯酸類及矽酮類。目 10 前聚合性黏合劑之使用受限，因彼等於高能量UV輻射下 易於降解。可用於製造包含衰減材料之塗層的無機黏合劑 範例為矽酸鈉、低溫燒結玻璃、驗性氧化物矽酸鹽，例如 矽酸鈉、鉀及鋰。可用於製造包含衰減材料之塗層的溶膠 黏合劑先質範例為第三丁氧化鋁、矽酸鈉、四乙基原矽酸 15 m (TEOS)、金屬異丙氧化物、異丙醇中之乙基己醯二 異丙氧化鏑、己烷中之2-乙基己酸鏑、曱苯-異丙醇中之 異丙氧化鏑、2-甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化鏑、異丙 醇中之乙基己醯二異丙氧化铒、己烷中之2-乙基己酸铒、 甲苯-異丙醇中之異丙氧化铒、異丙醇中之乙基己醯二異 20 丙氧化鈥、甲苯-異丙醇中之異丙氧化鈥、2-甲氧乙醇中之 2-甲氧乙氧化鈥、乙酸鑭、己烷中之2-乙基己酸鑭、異丙 氧化鑭、2-甲氧基乙醇中之2-曱氧基乙氧化鑭、乙醇中之 乙氧化鎂、甲醇中之甲氧化鎂、2-曱氧基乙醇中之2-甲氧 基乙氧化鎂、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化鈥，己烷中 __-1^_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 17484142 五、發明説明（ 5 10 15 20 之^乙基己g夂鈥、曱笨_異丙醇中之異丙氧化鈥、甲氧基 乙醇=之2-甲氧基乙氧化鉉、甲苯異丙醇中之乙基己酿單 異丙，化知’己烧中之2_乙基己酸彭、甲苯異丙醇中之 異丙乳化釤、2-甲氧基乙醇中之2_甲氧基乙氧化彭、甲苯_ 〃丙醇中之異丙氧化鏡、2_甲氧基乙醇中之2·甲氧基乙氧 化鏡、甲苯異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化紀、甲苯-異 丙醇中之乙基己酿單異丙氧化紀。較佳之溶膠先質為異丙 醇：之乙基己醯二異丙氧化餌、己烷中之2-乙基己酸铒、 甲，”丙醇中之異丙氧化铒、異丙醇中之乙基己酿二異 丙氧化鈥、甲苯-異丙醇中之異丙氧化鈥、2_甲氧基乙醇^ 之\甲氧基乙氧化鈥、乙酸鑭、己院中之2-乙基己酸鑭、 =丙氧化鑭、2-甲氧基乙醇中之2_甲氧基乙氧化鋼、乙醇 中，乙氧化鎂、甲醇中之甲氧化鎂、2-甲氧基乙醇中之2_ 甲乳基乙氧化鎂、甲苯異丙醇中之乙基己酿單異丙氧化 釤、己烧中之2-乙基己酸彭、甲苯_異丙醇中之異丙氧化 釤广甲氧乙料之2_甲氧乙氧化釤、甲苯_異丙醇中之異 丙乳化镱、2-甲氧基乙醇中之2_甲氧基乙氧化鐘、甲苯-異 丙醇Γ之乙基己酿二異丙氧化紀、甲苯-異丙醇中之乙基 己醯單異丙氧化1卜更佳之溶膠先質為乙酸鑭、己院中： 2=基己酸鑭、異丙氧化鑭、2_甲氧基乙醇中之甲氧基 乙氧化鑭、甲苯異丙醇中之異丙氧化镱、2•甲氧基乙= 之2-甲氧基乙氧化镱、甲苯_異丙醇中之 氧化妃、甲苯-異丙醇中之乙基己醢單異丙氧化紀。—，、丙 某些黏合劑可單獨用作衰減材料，特別是可如上述應 訂 Α4· ( 484142 A7

10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 用於懸浮μ錢結軸@騎灿_ ΓΤ材料之黏合劑的範例包括異丙氧化鋼:里2 己:二異丙氧化鏑、己烧中之2·乙基己酸鏑、ΐ 本-異丙㈣之異輯化錦、2_f氧基乙醇中之 氧化鏑、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化餌、己燒中= 铒里甲笨-異丙醇中之異丙氧化餌、異丙醇中之 甲i乙ir丙氧化鈥、曱苯·異丙醇中之異丙氧化鈥、2-甲乳乙知中之2-甲氧乙氧化鈦、乙酸鑭、己 :酸鋼:異丙氧化鋼、2-甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙= 1乙醇中之乙乳化鎮、甲醇中之曱氧化鎂、2-甲氧基乙 醇中之2甲氧基乙氧化鎮、異丙醇中之乙基己酸二異二氧 化鈥，己燒中之2一乙基己酸鈥、甲苯-異丙醇中之 二甲氧，中U甲氧基乙氧化歛、如^ 广乙'己&早異丙氧化釤，己烷中之2-乙基己酸釤、甲 笨”丙醇中之異丙氧化彭、曱氧基乙醇中之2·甲其 氧化f、甲苯-異丙醇中之異丙氧化鏡、2_甲氧基乙醇中之 2-甲氧基乙氧化鏡、甲笨·異丙醇中之乙基㈣二異丙氧化 釔、曱苯-異丙醇丰之乙基己醯單異丙氧化釔。 ^本文所揭示的衰減材料以薄層方式使用及/或以類似 分光過濾器（亦稱作介電過渡器）之多層不同衰減材料的 方式使用但疋，本文所揭示的衰減材料並不以相同的介 電過濾器機制而作用，亦即本文所揭示的衰減材料並非二 據由父錯的不同折射率的材料所組成的結構而作用。本發 明的衰減材料使用吸收機制以選擇性衰減輻射線。

---------夤-----丨、玎|·-----· (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 484142 A7 B7 五、發明説明（ 19 衰減塗層以作成厚度為〇1到25〇〇微米之塗層為佳’ 以厚度為0.5到2500微米為更佳。（大於2500微米的塗 層視為該材料之團塊(bl〇ck))。塗層是以多層相同衰減材 料之形式為佳’以相同塗層組成為佳。在一個反射器上的 衰減材料塗層可衰減撞擊到衰減材料上的不想要的輻射線 二次： 10 15 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 20 次是在輻射線到反射器的途中，一次是在輻射線 已被反射器反射後，{這是在調製反射器所欲用的衰減材 料的時候’以及在估計衰減材料的有用壽命的時候（尤其 是若液態衰減材料是放置在反射器前方的通道内）要考慮 的因素}又，很多輻射線在它抵達目標之前將被反射器反 射多次，這隨輻射源的一或多個反射器的形狀而不同。 包括由衰減材料製成的塗層36的反射器η可包括反 射材料，或一個非反射性或反射性的反射器支撐件35，而 反射塗層（此塗層可㈣膜或箱片）則保持在反射器支樓 件。^上。反射材料的一個實例是金屬。反射性的反射器 支撐件35的一個實例是磨光的固體鋁，它足夠厚以保^ 它的形狀，並且以螺釘或其他方式安裝固定於燈u上。 其他可單獨使用為反射器支撐件％的反射材料的實 例包含··硫酸鋇、氧化!呂、氟化鎂與氧化鎮之成形固體： 可將反射性材料與金屬氧化物或麵粉末結合後，择 =成形固體以形狀㈣支料；㈣將反射材^_ 口劑結合並形成固體，可使這固體有支撐件之形狀，或 :斤形成的固體切削形成反射器。其他可使用或‘貼附二反 射性或非反射性的反射器支擇件35上之反射材料塗層的 ——-------21 - 本纸張尺度ϋΛΙ t( CNS ) A4M ( 210X297^ (請先閱讀背面之注意事項存填寫本頁)

20484142 A7 五、發明説明（ 範例包括.氧化鎂、氟化鎮、硫酸鋇及氧化銘，並 貼附於反射器支撐件35上之銘、氧化銘、氣化鎮匕硫酸 鋇及氧化鎂等的薄片。該些塗層或薄膜可藉著燒社反射材 料與玻璃組合物，或藉著以黏合劑形成反射材料^薄膜而 形成之。可使用做為非反射性反射器支撐件35的材料範 例包括·木材、聚合物、金屬與陶兗。 10 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 反射器支樓件35之反射塗層可由刷塗、電装塗佈、 喷灑、浸潰、澆鑄、轉化塗佈、凝膠塗佈、蝕刻、化學蒸 汽沉積、濺鍍、或用化學或機械粘合方式將衰減材料2薄 膜或箔片黏到反射性或非反射性支撐件上。施加本身為反 射器14 一部份之反射材料之較佳方法係將反射材料刷塗 或f灑至反射器支撐件3 5上。為將之刷塗或喷丨麗至支撐 件35上，以粘合劑形成水的或非水的懸浮液。較佳之黏 合劑係為聚合性、無機或溶膠者，更佳者係為無機或溶 15膠。聚合性黏合劑之範例為聚乙烯醇類、氰基丙烯酸酯 類、丙烯酸類、以及矽酮類。現所使用之聚合性黏合劑為 最低限度之較佳者，蓋咸信UV輻射線將會使其降解。無 機黏合劑之範例為>5夕酸納、低溫燒結之玻璃、驗性氧化物 矽酸鹽，如矽酸鈉、鉀與鋰。溶膠先質之範例如上所列供 20 做衰減材料所使用者。 衰減塗層組合物之範例為1份之矽酸鈉（黏合劑）， 10份之氧化鑭（衰減材料）與10份之水（載體）。將10 層該懸浮液喷灑於包含具有硫酸鋇塗層（反射材料）之鋁 基材（反射器支撐件）的反射器上，並喷灑20層包括1 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 邾 4142 A7 B7 五 、發明説明（ 21 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 份矽酸鈉（黏合劑）、10份硫酸鋇（反射材料）和1〇份 水（載體）的組合物於鋁基材上，以製成硫酸鋇塗層，於 施加每一塗層間以空氣乾燥每一塗層。 在替代的實例中，反射材料和衰減材料和選用的.占合 劑經結合後以單一塗層方式施加到反射性或非射性的反射 器支撐件35上，這塗層反射想要的（例如，有效殺菌 的）輪射線’且衷減不想要的輕射線。衰減材料可作為反 射材料的黏合劑，如此，在組成中可無需黏合劑。可兼作 為衣減材料和黏合劑的材料的實例是上述的異丙氧化鋼， 聚石夕氧烧及所有的溶膠。衰減材料和反射材料可經燒結以 形成具有哀減輪射線性質的反射器塗層3 6的組成。可當 作燒結材料使用的材料實例是低熔點玻璃組成，衰減材料 和反射材料可加到這個燒結材料。這些塗層以具有〇丨到 2500微米間的厚度為佳。 替代地，一個與圖1所示之反射器相似的反射器14 可由一個成形固體予以成形，該成形固體包括衰減材料， 反射材料，及選用的黏合劑。這些組成被作成反射器14 的形狀’或者將包括反射器材料，衰減材料及選用的黏合 劑的成形固體予以切削形成反射器14。又，衰減材料可與 金屬氧化物或玻璃粉末和反射性材料結合後，經燒結以形 成類似於圖丨所示反射器之反射器14，這反射器14具衰 減與反射特性。上述成形固體以具有大於2500微米間的 厚度為佳。 目前，將反射性材料與衰減材料結合並非為較佳，因 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS ) A4^洛（210X297公釐） ----------衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 484142 A7 ______ ___B7__ ;、發明説明（22T~ ~S-- 為在衰減材料有機會吸收不想要的波長之前，不想要 長的輛射線就會被反射材料所反射。 、、 較么的衷減材料是那種吸收1〇〇迄240 nm不拇要的 輻射線並且反射240到280 nm想要的輻射線的材二，1 5種材料可單獨使用，或與選用的黏合劑及/或添加劑一= 使用，形成前述任-實施例中的反射器。這衰減材料的範 例是氧化鑭、氧化釔與氧化鏡。利用這些反射/衰減材= 來製造反射器或反射器支撐件的塗層是本發明之最佳實施 例。 、 10 添加衰減材料作為反射器的一部份並不能衰減那些到 達目標之前未撞擊到反射器的不想要的輻射線。若有須 要，為了進一步保護目標免於受到那些自燈直接撞擊到目 標的輻射，可使用一種反射阻斷元件，使得僅有那些被反 射的輻射才能撞擊到目標，而該被反射的輻射中之不想要 15的輻射線已先被衰減。反射阻斷元件39顯示在圖4。反射 阻斷元件以具有簡單幾何形狀為佳，以光學上集中形狀為 更佳，以該反射光學件的一個整體形體為最佳。有用的形 狀的貫例是三角形（圖4所示）及半圓形。反射阻斷元件 可包括任何本案所述的反射器組成，且製成後可有或亦可 20 ’又有衣減材料或哀減材料的塗層。反射阻斷元件以包括衰 減材料為佳，以液體或固體衰減材料為佳。以反射阻斷元 件具有漫反射表面為佳。反射阻斷元件的尺寸應能使反射 阻斷7L件可吸收任何自輻射源到目標之直接輻射線為佳。 圖5顯示本發明之另一替代實施例。圖5中之反射器 :__-24- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4驗（210X297^57- 訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 484142 i、發明説明（23) 14包括反射器支擇斧35，材料層47及透明支標件46。透 明支樓件46對撞擊到它的輻射線的至少_部份是透明 的。反射為支撐件35可包括前述反射或不反射支撐件， 或支撐件上的塗層的任一組合。材料層47包括—或多種 5固體衰減材料，或包括為圖4所作說明之衰減材料的任何 組成，但沒個貫施例特別適於那種沒有透明支撐件恥就 無法固疋位置的固體衰減材料，例如填裝的粉末。材料層 47可包括早獨的衰減材料，反射㈣與衰減材料的混合 物，或與圖4相關說明所述的那種也能夠反射想要 H)線的衰減材料，除了材料層47可為填裝的粉末。若^射 器包括分離的衰減材料和反射材料，則使衰減材料位在反 射材料與幸S射源間為佳，使得在想要的（例如，可有效 菌）輕射被反射材料反射朝向目標之前，不想要的輕射= 先被哀減材料所衰減。材料層47具有Q i到⑽ 15厚度為佳。 做木的 透明支撐件46對大部份或全部撞擊到 是透明的，或透明支撐件46可包括能夠衰 射=的固態衰減材料。替代的，透 有-通遏，液㈣減材料被泵送通過此通道或 20裡面（未繪出）。透明支撐件46包含上述流管13 = 12及保« 15所使社玻璃，石英或”石材 风 固態衰減材料可以原料中之摻雜物添加到透件土° 以形成透明支料，或衰減材料可為被塗佈在透明支^牛 46的一側面或一側面上的塗層。若衰減材料被施加到‘明 ______二25- M氏張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2i〇xl^Jy —--------— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 484142 A7 五、發明説明（ B7 24 5 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 朴^ 6的—側面上’則該側面以離燈最遠的側面49為 加塗層的方法如先前實施例的說明—般。替代地， 齡料可以塗層形式施加到透明支撐件46之離燈最遠 主斤49上，而若須要時，固態衰減材料可施加到透明 反射哭^之另一側面48上。在那實施例，材料層47和 透明：i撐件35 (如圖式）可能都不必要，但若有的話， 芽件46上的塗層的厚度為〇1到25〇〇微米。 2明支撐件46結合—起仙的材料層a的衰減材 :疋二由上述優選的固態衰減材料所構成的填裝粉繼 於上14，最優選的固態衰減材料是氧化鑭、氧化紀或 乳化％ ’或他們的混合物。 其他較佳之實施例包括於固態衰減材料塗層之下的反 車乂仏反射材料與衰減材料的結合係為硫酸鋇（反射材料） 與氧化銀1(衰減材料）；或氟化鎂（反射材料）與氧化紀 =減材料或氧化鎮（反射材料）與氧化鏡（衰減材 料）；或氧化銘（反射材料與）與氧化網（衰減材料）； 或不同之反射材料與衰減材料之組合；或_反射材料與 個別衰減材料之混合物的混合物。 。。較佳的反射器是漫射反射器"或擴圓形狀的反射 益，這些已被揭露並描述在美國臨時專利申靖案 60/M3,繼號（申請日為1999年7月13日，名稱為；；^ 射源用反射器”（VTN-0463)) ’其與本案同時申請，併入本 文作為參考。較佳的《統包括二個燈’各燈有一個成形 第輻 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T Φ -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 484142 A7 B7 五、發明説明（ 25 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 的反射器，以橢圓形反射器為佳，在反射器内部有一目標 合積（即目彳示谷為及/或產品所佔據的容積），此目標容 積具有在目標《於減之㈣内，在目標與反射器間之 取佳$的空間或最小空間。㈣線會從目標區域附近的空 間或容積旁邊經過’而不通過目標，因此，特別是對多個 燈及/或反射器輪射系統，該空間必須最小化。漫射反射 器提供均勻能量到目標區域或容積。 本發明的另-實施例是-種輻射系統，它有位在輕射 源與目標間之可去除固態衰減材料。目6顯示這實施例， 其中可去除1¾衰減材料是安裝在閃光燈1()的保護窗15 附近的薄膜56。（閃光燈10如同先前圖式所示一般）。 可去除固態衰減材料56可包括任何前述的固態衰減材 料，這些固態衰減材料可與黏合劑結合以形成可去除固態 衣減材料56 ’或這固態衰減材料可與選用的玻璃或金屬氧 勿-起燒結以形成固體’或者乾粉末可填I人玻璃支撐 些可去除固態衰減材料％，如同前述實_所用 ^層與反射器-般，是非常耐用的。可去除固態衰 枓56可為塊體或板片。這塊體或板片具有 =度。另一實施例中，可去除固態衰減㈣二::::生材料的片或薄膜，這些材料例如聚酿胺(尼龍)， 或來㈣，如聚丙烯，以尼龍(例如尼龍6 選。這片或薄膜可能僅有暫雜的制同片或不同區域的可去除固態衰減材料來取==不 施例中’可去除固態衰減材料56是放置在輥筒= 私紙張尺度適用中國iii^TcNs) 1' In * : I. II - I i m -- -- --- —!— - -I-I- 、一h - 二 I - I ...... (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 27- 484142 Α7

出）上的薄膜，在受到uv 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 筒將可去除固態衰減材料56田的暴露量之後，4 未暴露的地方。這薄膜4露的區域前移到{ 佳。 _具有刚微米的厚I 例而言，另-替代方式是添加 ^在^内時之實名 材料來形成該容器，或添加衰減材料器或以衰》 減材料到保存產品用的溶液1上’或添加) 述衰減材料（以固態衰減材料$ 鏡溶液。任何」 來製造容器的容器配方内，或者==可包含在月 傳送想要的輻射線的能力來選擇容 15例如氧化彌；；：包括一層尼龍及，或衰減材料， 』如减鑭或己一酸，及在射出成形 一鈉^竣酸類添加到炼融的聚丙烯或聚苯乙歸中。其他可 用之谷器材料揭露在Peck等人的美國專利申請案第 2〇 ^稱為”醫療裝置的包裝”（VTN_〇445))，併入本i作為 替代的，衰減材料如聚醯胺（尼龍）可和聚 出形成可濾掉傷害性輻射線的多層碗。 或者’衰減材料（如溶膠）可化學蒸汽沉積於保護產 品不受到UV輻射線並限制水之傳輸透過蓋片之蓋片材料 --— -^/ Q - 本’氏張尺度適用中國國家檩準（⑽）Μ規格（2獻297公釐） -― 衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂 • I I— n · 1·. 484142 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（ 27 上，氧化鑭係為可供此目的使用 # 〈哀减材料的範例。豆他 可供使用於盍片中之溶膠先質包括· /、 钼、田苴、 、匕括·/、氟乙醯基丙酮酸 / ，’， 土"3,5-庚二酸鋇、乙醯基丙_酸鑭水合物、2,2,6,6-四甲基·3,5_庚二酸鑭、乙酿基丙嗣_ ^乙酿基丙嗣酸镱、2,2,6,6_四甲基_3,5_庚二酸鏡^酿基丙 2酸記、六氟乙酿基丙酮敎、以及2,2,6,6_四甲基-仏 庚二酸記。 車交佳的衰減材料是那些能衰減不想要的輻射線並且反 射、傳送或再放出想要的輻射線，並且在吸收不想要的輕 射線契反射#运或再放出想要的輻射線之間有急劇轉變 的材料。從想要的輻射波長到不想要的輕射波長的轉變所 在：輻射光譜區域内，反射率/麵的變化百分比以大於2 大於3為更仏，大於4為最佳。對於在較佳實施例 f，不想要的輻射線是傷害性輻射且想要的輻射線是有效 殺菌的輻射時的情況下，急劇轉變以發生於230到250 nm 為佳’以235到245 nm為更佳，且239到240 nm為最 佳。 本电明預期上述實施例的組合可產生在減少不想要的 幸田射線方面的附加效果，並且增加想要的輻射對不想要的 幸田射的比率。較佳的實施例是那些使用不需監視或不需經 常更換的耐久衰減材料的實施例。在衰減材料的衰減不想 要的輕射線的能力發生顯著變化之前，衰減材料以於3 J/cm2總輻射能承受100次以上脈衝為佳，以大於1〇,〇〇〇 15 20 -29- 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS )八4麟（21〇><297公酱 — 衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 28484142 A7 B7 五、發明説明（ 5 10 15 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 JL 消 費 合 作 社 印 製 20 次脈衝為更佳，以於·3 J/cm2總輻射能大於次以 上脈衝為最佳。較佳的實施例是把固態衰減材料添加到燈 殼及/或在燈殼周圍的流管，或把衰減材料以塗層方式添 加到反射器。 本發明藉由下列實例作進一步說明。 實例1 經處理的鏡片 一次放入 6 片-1.00 D Acuvue® (Etafllc〇n Α)隱形眼鏡 於Pure Pulse亮光系統的腔内，每片鏡片放置在盛有5〇〇 μΐ硼酸鹽緩衝鹽水溶液的聚丙烯碗内，且透明蓋片經熱封 住該碗。二個氙閃光燈同時對容器内的鏡片閃光4次，以 提供來自200-300 nm的12 J/cm2的輻射，其中約85〇 mJ/cm2來自240到280 nm。使用折射率和比重計 (GRAVIMETRIC)二種方法檢驗這些鏡片的水含量。也測 量模數與基本曲線。量測值列在表2。 附衰減材料的經虛採镑y 以上述方式包裝並以上述方式處理4 〇〇 D Ααπ, 隱形眼鏡，其差別是在容器下方的容器側面放置一片12 μηι厚的尼龍薄膜。 也做了上述相同的量測。量測值列在表2。 未處理的鏟Μ 也量測48片未處理的— loo D Acuvu,隱形眼鏡的特 性。量測值列在表2。 訂 届 -30- 本紙張尺度適财_家標準（ϋΓΓΜ規格（2丨0><297公幻 484142 A7 B7 五、發明説明（ 29 表2 特性 未處理的鏡片 劑量(mJ/cm2在 j40j〇j80 nm) 尼龍薄膜 基主線(mm) 模數(psi) 水(％) 111(折¥率） 水(％)GRA^(比重計) 經處理的鏡片 850^ 附衰撕料的 片 850^^— 無 8.82 42.3 58.4 59.5

59.5 60.2 58.9 59.6 ---------^^衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 10 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15 這個貫例顯示尼龍衣減不想要的輕射線且部份地保護 隱形眼鏡聚合物免於受損。 實例2 玉股衰減材料的經處理鏡片 將 Acuvue® (Etafilcon A)隱形眼鏡放進 pure pulse 亮光 系統的腔内，每片鏡片放置在盛有5〇〇 μ1侧酸鹽緩衝鹽水 溶液的聚丙烯碗内，且透明蓋片經熱封住該碗。二個氙閃 光燈同時對容器内的鏡片閃光，以提供不同量的能量。在 經不同能量的處理後，以Abbe方法測量隱形眼鏡的碗側 面的水含量（圖上的每一點代表1〇片鏡片的平均量 值）這些量測值繪於圖7。 附衰減材1 斗之經處理鏡片 除了不於腔中使用鏡狀磨光鋁purePulse反射器外 均以上述之方式處理如上述包裝之Aciivue®隱形眼鏡， 測 Μ 訂 -31- 本紙張尺度通用〒圏囤家榡準（CNS ) Α4規格（210X297公餐） 484142 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 材料 觀察到 之視覺 顏色 %R 平均值 200- 400 %R 標準誤差 200-400 %R^~~ 平均值 240- 280 %R 標準誤差 240- 280 %R 平均值 200- 240 %R 標準誤差 200-240 乳化镨 黑色 13.67 5.59 12.13 0.33 20.7 9 49 二氧彳hi太 艮 l\ 白色 14.92— 5.17 13.12 0.28 20.75 9AA 乳化鋅 15.85 13.39 10.99 0.35 20.72 11 36 ——---1 A7 B7 五、發明説明（） 30 以30層硫酸鋇之塗層塗佈鏡狀反射器，再以1〇層氧化鑭 塗層塗佈於上述之硫酸鋇塗層上。於室溫下，喷灑塗佈塗 層材料，並於施用每一層塗層間乾燥之。硫酸鋇塗層係由 1:1:0.1重量比例之硫酸鋇、水與矽酸鈉所組成；氧化鑭塗 5層則係由ι:ι:〇·ΐ重量比例之氧化鑭、水與矽酸鈉所組 成。以上述相同之方法，重覆測定經具有含衰減材料之反 射器的系統處理之隱形眼鏡，其結果示於圖7中。 圖7顯示反射器上之衰減塗層可保護隱形眼鏡，使其. 免於受損，此一結果可為當以反射器中具衰減材料之系統 10處理日卞，隱形眼鏡之平衡水含量改變降低（與以反射器中 不具哀減材料之系統處理時相較）所證實。 比較實例 以對表1材料相同之方法測定表3所列之材料。該些 材料並不使用本發明之衰減材料。 15 表3 本發明已芩考特定之實施例描述如上，任何改變之實 20施態樣係為該項技藝之一般人仕所熟知者，且落於以下本 案之申睛專利範圍中。 I-------衣------IT (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

484142 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（3i ) 圖示之主要部分代號說明： 10 閃光燈 11 燈 ’ 12 燈殼 13 流管 14 反射器 15 保護窗 16 通道 28 通道 29 通道 35 反射器支撐件 36 塗層 39 反射阻斷元件 46 透明支撐件 47 材料層 48 另一側面 49 側面 56 薄膜 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -33- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

Claims (1)

1. 4M142 --^D8 六、申請專利範圍 '-〜—— h 高能量輕射系統，包括UV輻射源，其中該系統包 、、k擇性衰減材料，可選擇性衰減至少30%撞擊於該衰 減材料上之高於2〇〇 迄24〇 nm的輕射線，而增加想 要=輕射線對不想要的韓射線之比率，以降低輕射線對 目標之損害，其並可導引5〇%以上撞擊於該衰減材料上 之240 nm至280 nm的輻射線。 2·根據巾請專利範圍第1項之系統，其中該經選擇性衰減 之輪射線係100nm迄240nm。 3·根據申请專利範圍第1項之系統，其中該經選擇性衰減 之輪射線係180nm迄240nm。 4·根據申请專利範圍第3項之系統，其中該系統可選擇性 农減至少60°/。之igOnm迄240nm的輕射線。 5·根據申請專利範圍第3項之系統，其中該系統可選擇性 哀減至少90%之I80nm迄240nm的輻射線。 6·根據申凊專利範圍第1項之系統，其中該系統可選擇性 衰減90%以上之高於2〇〇nm迄240nm的輻射線。 7·根據申請專利範圍第1項之系統，其中該系統可導引 75%以上之240nm至280nm的輕射線。 8·根據申請專利範圍第4項之系統，其中該系統可導引 75%以上之240nm至280nm的輻射線。 9·根據申請專利範圍第4項之系統，其中該系統可導引 90%以上之240nm至280nm的輻射線。 10·根據申請專利範圍第2項之系統，其中該系統可導引 90%以上之240nm迄280nm的輻射線，且其中該系統可 34 ----------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（210X297公釐）89352 daim 484142 A8 B8 C8 -*~^ _^ 六、申請專利範圍 ~^— k擇丨生农減至少90%之lOOnm至240nm的輕射線。 11. 根據申請專利範圍第i項之系統，其中該衰減 有1·2之衰減比率。 12. 根據申請專利範圍第3項之系統，其中該衰減材料係具 有1.8之衰減比率。 13·根據申請專利範圍第丨項之系統，其中該衰減材料係八 有一氣體。 、名 1屯根據申請專利範圍第丨項之系統，其中該衰減材料係含 有一液體。 、& 15·根據申請專利範圍第14項之系統，其中該液體係選自於 多醇類、_化碳化合物、有機碳酸酯類、矽化合物、上 述液體之混合物、以及於液體載體中之固態衰減材料中 者。 16·根據申請專利範圍第14項之系統，其中該液體係選自於 烷基醇、具有200至1，〇〇〇之重量平均分子量的丙二醇 類、氟碳化合物、氯碳化合物、氣仿、全鹵化碳化合 物、氟利昂（freon)、氟奈特（fluorinerts)、於其組成 中具有氮之氟奈特（fluorinerts)、脂族碳酸酯類、碳酸 伸丙酯類、矽酸鈉、聚矽氧烷化合物、聚二甲基矽氧烷 類、以氫化物為終端之矽酮油、以及上述液體之混合物 中者。 17. 根據申請專利範圍第14項之系統，其中該液體係包括氯 仿與碳酸伸丙酯。 18. 根據申請專利範圍第15項之系統，其中液態衰減材料之 尽紙浪尺度通用中國國家標準（CNS )八4規格（2ι〇χ297公釐 ----------— f請先閱讀背面之注意事頊再填寫本頁，> 訂 經濟部智慧財4局員工消費合作社印製 ^+^142

   申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 位置係選自於介於燈殼與流管之間、介於流管與保護窗 之間、於鄰近反射器之通道内、於鄰近保護窗之通^ 内、以及於介於目標與輻射源間之通道内中者。 a根據中請專利範圍第i項之系統’其中該衰減材 有一固體。 各 2 〇 ·根據中請專利範圍第丨9項之系統，其中該固體係選自於 驗金屬化合物、重金屬氧化物、二價金屬氧化物盘多严 金屬氧化物、稀土金屬氧化物、稀土金屬鹵化物二 金屬結合氧化物中者。 、1T 2h根據中請專利範圍第19項之系統，其中該固體係包括 MaObXeHd ’其巾μ為單-金屬或金屬之混合，〇為氧， X為雜原子，且Η為鹵化物，a為J至2〇，b在、羊， 2至0 Z為0至2〇4°^0至2〇,但至少b、c或0di 22·^㈣請細_ 19項之系統，其中該固體材 有一大於99.9%之純度。 〜、 23=據中請專利範圍第19項之系、統，其中該固體材料 二於乳簡、氧化铪、氧化鑭、氧化鐵、 化 錯、鈦酸锅、氟化鎂、氧化鎮、氧化結、氧化鋇、 ::氧化鈥、f化鈣、氧化鑭、氧化鍺、氧化碲、氧： 銷中二⑽、减敍、氧化釤、氧化镱、氧化紀及氧化 24.根據申請專利範圍第19項之系統，其中該固體材 自於氧她、氧化铒、氧化鈥、氧化釤、氧化蹄、氧^ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍 鋼、氧化鑄、以及氧化紀中者。 25:=專;]範圍第19項之系統’其㈣^ 虱化鑭、氧化鏡、以及氧化釔中者。 26·=ιπ範圍第i項之系統，其中衰減材料係為併 …、之垃设、保護窗、流管、反射器、通道、透明 撐件、阻斷元件、或可去除固態材料中 固態衰減材料。 外雜物的 27·=中請專利範圍第3項之系統，其中衰減材料係為併 二糸統之燈罩、保護窗、流管、反射器、it道、透明 支樓件、阻斷元件、或可去除固態材料上做為塗層 態衰減材料。 9 28·根據申請專利範圍第27項之系統，其中該塗層係可藉由 刷塗、喷灑、電漿塗佈、浸潰、繞鑄、轉化塗佈、凝膠 塗佈、蝕刻、化學蒸氣沉積、濺鍍、或化學或機械黏合 的方式被施予。 ° 29·根據申請專利範圍第19項之系統，其中該固態衰減材料 係包含選自於聚乙烯醇類、氰基丙烯酸酯類、丙烯酸 類、矽酮類中之材料。 30.根據申請專利範圍第29項之系統，其中該固態衰減材料 係包括選自於矽酸鈉、低溫燒結玻璃、鹼性氧化物矽酸 鹽、矽酸鈉、鉀與鋰、溶膠黏合劑先質、第三丁氧化 鋁、矽酸鈉、四乙基原矽酸g旨（TE0S)、金屬異丙氧化 物、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化鏑、己烷中之2-乙 基己酸鏑、甲笨-異丙醇中之異丙氧化鏑、2_甲氧基乙醇 37 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） ---------0------、玎------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 484142 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 中之2-甲氧基乙氧化鏑、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧 化铒、己烷中之2-乙基己酸铒、甲苯-異丙醇中之異丙氧 化铒、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化鈥、甲苯-異丙醇 中異丙氧化鈥、2-曱氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化鈥、 乙酸鑭、己烷中之2-乙基己酸鑭、異丙氧化鑭、2-甲氧 基乙醇中之2-甲氧基乙氧化鑭、乙醇中之乙氧化鎂、甲 醇中之甲氧化鎂、2-甲氧基乙醇中之2-曱氧基乙氧化 鎂、異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化鈥、己烷中之2-乙 基己酸鈥、甲苯-異丙醇中異丙氧化鈥、2-甲氧基乙醇中 之2-甲氧基乙氧化鈥、甲苯異丙醇中之乙基己醯單異丙 氧化釤、己烷中之2-乙基己酸釤、甲苯-異丙醇中異丙氧 化釤、2-甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化釤、甲苯-異丙 醇中之異丙氧化鏡、2-甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化 镱、甲苯-異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化釔、以及甲苯 異丙醇中之乙基己醯單異丙氧化釔中之材料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 31. 根據申請專利範圍第29項之系統，其中該固態衰減材料 係包括選自於乙酸鋼、己烧中之2-乙基己酸鑭、異丙氧 化鑭、2-甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化鑭、甲苯-異丙 醇中之異丙氧化鏡、2-甲氧基乙醇中之2-甲氧基乙氧化 镱、甲苯-異丙醇中之乙基己醯二異丙氧化镱、以及甲苯 異丙醇中之乙基己醯單異丙氧化釔中之材料。 32. 根據申請專利範圍第27項之系統，其中衰減塗層之厚度 係介於0.1至2500微米之間。 33. 根據申請專利範圍第1項之系統，其中該反射器係更進 __38_ ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印 39 申明專利範圍 步包括選自於磨光之鋁 ^ ^ 氧化鎂中之反射材料。4鋇、乳⑽、統鎂與 34·根據申請專利範圍第i 硫酸鋇與氧化鑭。、系、、先’其中該反射器係包括 申請專利範圍第1項之系統，其中反射器係可自含 36^1與衰減材料之成型固體切削出來。 36.根據申請專利範圍第34 於氧化潮JL t 統’其中衰減材料係選自 於乳化鑭、乳化釔與氧化镱中者。 37:據申請專利範圍帛丨項之系統，其更包括—阻斷元 3M艮據申請專利範圍第37項之系統，其中該阻斷元件 括衰減材料，並具有一漫反射表面。 ，、 39.根據申請專利範圍第】項之系統，其中輕射源不會產生 直接撞擊目標之輻射線。 4〇·根據申請專利範圍第}項之系統，其更進一步包括至少 -，射源之反射器’其中該反射器係為—橢圓形之漫^ 射器。 41·根據申請專利範圍第丨項之系統，其更進一步包括一含 有遙擇性衰減材料之可去除固態材料，該固態材料係位 於輻射源與目標之間者。 42. 根據申請專利範圍第41項之系統，其中該可去除固態材 料係具有選自於薄膜、團塊、板片以及填裝於支撐件中 之粉末中的形式者。 43. 根據申請專利範圍第42項之系統，其中薄膜係包括選自 、紙張尺度適财關家縣（CNS ) Α4· ( 210χ297公董） ---------------、玎------φ— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁；> 圍範利 專請 中 8 8 8 8 ABCD ;胺與聚烯烴中之聚合性材料者。 44·3ΓίΓ_1項之系統，其中該系統係更進-L括-目標，其中該目標係包括上進 45·根據申請專利範圍第44項之系統，其中m料。 二酸匕鑭、己二酸、己二酸鋇、己二酸每、己 、、己一酸一鈉、羧酸類與溶膠先質中之材 46==_範圍第44項之系統，其中該目標係更進一 凡-容器與一產品，其中該容器係包括選自於 乙隨基丙_鋇、2,2,6,6_四甲基办庚二酸鋇、乙· 丙酮酸鑭水合物、2,2,6細甲基_3,5_紅酸鑭、乙^ 丙晴鎮二水合物、2,2,6，卜四曱基办庚二酸鎮、乙酿 基丙_酸鏡、六氟乙醯基丙酮酸鏡、2,2,6,6_四甲基 庚二酸镱、乙醯基丙酮酸釔、六氟乙醯基丙酮酸釔、以 及2,2,6,6-四曱基_3,5-庚二酸纪中之材料。 4入根據申請專利範圍第丨項之系統，其中衰減材料係於 230至250nm間進行大於2之％反射率/nm變化。 48·根據申請專利範圍第1項之系統，其中衰減材料係於 235至245nm間進行大於3之％反射率/nm變化。 49· 一種高能量輻射系統，包括uv輻射源，其中該系統包 括選擇性衰減材料，可選擇性衰減至少30%撞擊於該衰 減材料上之高於200 nm迄250 nm的輻射線，而增加想 要的輻射線對不想要的輻射線之比率，以降低輻射線對 目標之損害，並可導引50%以上撞擊於該衰減材料上之 250nm至280nm的輻射線。 本紙張尺度適用中國國家標·準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製