JP2001093673A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス素子Info
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低電圧駆動可能で生産性の高い有機EL素子
を提供すること。 【解決手段】 陽極と、陰極と、該陽極および該陰極に
より挟持された有機EL媒体層とを有する有機EL素子
であって、該有機EL媒体層は、有機発光層を含み、該
陽極および該陰極のうちの少なくとも一方の電極が、印
刷法により形成される導電性微粒子を含有する第1電極
とメッキ法によって形成された第2電極とが積層された
構造である、有機EL素子。
を提供すること。 【解決手段】 陽極と、陰極と、該陽極および該陰極に
より挟持された有機EL媒体層とを有する有機EL素子
であって、該有機EL媒体層は、有機発光層を含み、該
陽極および該陰極のうちの少なくとも一方の電極が、印
刷法により形成される導電性微粒子を含有する第1電極
とメッキ法によって形成された第2電極とが積層された
構造である、有機EL素子。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス素子(本明細書中では、有機EL素子とも
いう)に関する。より詳細には、本発明は平面光源や表
示素子に使用できるエレクトロルミネッセンス素子に関
する。
ミネッセンス素子(本明細書中では、有機EL素子とも
いう)に関する。より詳細には、本発明は平面光源や表
示素子に使用できるエレクトロルミネッセンス素子に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、有機物を用いた電界発光素子が、
注目を集めている。特に、有機薄膜を2層構造にして、
正孔輸送層と電子輸送性の発光層とを真空蒸着法により
積層した素子で高い発光効率が得られることがTnag
らにより報告された後、活発な研究が世界各地で行われ
てきている(Appl.Pheys.Lett.51,
913,1987)。また、この報告の直後に、安達ら
により、正孔輸送性の発光層と電子輸送層とを積層した
素子が報告された(Appl.Pheys.Lett.
56(9),26 February 1990)。ま
た、高分子材料系の有機EL素子も報告されている(W
O9013148)。
注目を集めている。特に、有機薄膜を2層構造にして、
正孔輸送層と電子輸送性の発光層とを真空蒸着法により
積層した素子で高い発光効率が得られることがTnag
らにより報告された後、活発な研究が世界各地で行われ
てきている(Appl.Pheys.Lett.51,
913,1987)。また、この報告の直後に、安達ら
により、正孔輸送性の発光層と電子輸送層とを積層した
素子が報告された(Appl.Pheys.Lett.
56(9),26 February 1990)。ま
た、高分子材料系の有機EL素子も報告されている(W
O9013148)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ここで、高分子系有機
EL素子の最大の特徴は、生産性の高いウエットプロセ
スで膜を作製できる点である。しかし、従来この膜の上
に形成する陰極は真空蒸着法により形成されてきた。こ
のことにより、生産ラインを構成する揚合、陰極作製の
為に真空装置を導入する必要があり、ウエットプロセス
で作製可能な高分子系有機EL素子の生産コスト面、生
産時間での利点が減ぜられてしまう。
EL素子の最大の特徴は、生産性の高いウエットプロセ
スで膜を作製できる点である。しかし、従来この膜の上
に形成する陰極は真空蒸着法により形成されてきた。こ
のことにより、生産ラインを構成する揚合、陰極作製の
為に真空装置を導入する必要があり、ウエットプロセス
で作製可能な高分子系有機EL素子の生産コスト面、生
産時間での利点が減ぜられてしまう。
【0004】この1つの解決法として、ウエットプロセ
ス(印刷法)で陰極を形成する試みがなされている(特
開平5−251186)。しかし、この方法で形成され
る陰極の電気抵抗はρ=10-3〜10-4(Ω・cm)
と、従来の真空蒸着法の場合の電気抵抗ρ≒10-6(Ω
・cm)に比べて非常に高い値となり、その結果、素子
駆動電圧が格段に上がってしまうという間題が生じる。
ス(印刷法)で陰極を形成する試みがなされている(特
開平5−251186)。しかし、この方法で形成され
る陰極の電気抵抗はρ=10-3〜10-4(Ω・cm)
と、従来の真空蒸着法の場合の電気抵抗ρ≒10-6(Ω
・cm)に比べて非常に高い値となり、その結果、素子
駆動電圧が格段に上がってしまうという間題が生じる。
【0005】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
のである。その目的は、低抵抗の電極をウエットプロセ
スで形成することで、低電圧駆動可能で生産性の高い有
機EL素子を提供することである。
のである。その目的は、低抵抗の電極をウエットプロセ
スで形成することで、低電圧駆動可能で生産性の高い有
機EL素子を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な事情を鑑み、有機EL素子において、ウエットプロセ
スによりパターン成膜可能な電極の電気抵抗を下げるた
め鋭意検討を行った。その結果、以下のような特徴を有
する本発明の有機EL素子を完成するに至った。
な事情を鑑み、有機EL素子において、ウエットプロセ
スによりパターン成膜可能な電極の電気抵抗を下げるた
め鋭意検討を行った。その結果、以下のような特徴を有
する本発明の有機EL素子を完成するに至った。
【0007】具体的には、本発明の有機EL素子は、陽
極と、陰極と、該陽極および該陰極により挟持された有
機EL媒体層とを有する有機EL素子であって、該有機
EL媒体層は、有機発光層を含み、該陽極および該陰極
のうちの少なくとも一方の電極が、印刷法により形成さ
れる導電性微粒子を含有する第1電極とメッキ法によっ
て形成された第2電極とが積層された構造を有する。
極と、陰極と、該陽極および該陰極により挟持された有
機EL媒体層とを有する有機EL素子であって、該有機
EL媒体層は、有機発光層を含み、該陽極および該陰極
のうちの少なくとも一方の電極が、印刷法により形成さ
れる導電性微粒子を含有する第1電極とメッキ法によっ
て形成された第2電極とが積層された構造を有する。
【0008】1つの実施態様では、前記陰極が前記第1
電極と前記第2電極との積層構造からなり、前記導電性
微粒子が、4.0eV以下の仕事関数を有する。
電極と前記第2電極との積層構造からなり、前記導電性
微粒子が、4.0eV以下の仕事関数を有する。
【0009】別の実施態様では、前記陽極が前記第1電
極と前記第2電極との積層構造からなり、前記導電性微
粒子が、5.0eV以上の仕事関数を有する。
極と前記第2電極との積層構造からなり、前記導電性微
粒子が、5.0eV以上の仕事関数を有する。
【0010】1つの実施態様では、前記第2電極が、
銅、ニッケル、亜鉛、錫、金、または銀、あるいはそれ
らを含有する合金から選択される。
銅、ニッケル、亜鉛、錫、金、または銀、あるいはそれ
らを含有する合金から選択される。
【0011】ここで、「それらを含有する合金」とは、
銅、ニッケル、亜鉛、錫、金、または銀を含有する合
金、あるいは、それらに加えてさらに任意の導電性金属
を含有する合金をいう。
銅、ニッケル、亜鉛、錫、金、または銀を含有する合
金、あるいは、それらに加えてさらに任意の導電性金属
を含有する合金をいう。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子は、有機発
光層を含む有機EL媒体層が、陽極と陰極により挟持さ
れた有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子であ
る。陽極と陰極のうち、少なくとも一方の電極は、印刷
法により形成された導電性微粒子を含有する第1電極層
とメッキ法によって形成された第2電極層とが積層され
た積層構造を有する。
光層を含む有機EL媒体層が、陽極と陰極により挟持さ
れた有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子であ
る。陽極と陰極のうち、少なくとも一方の電極は、印刷
法により形成された導電性微粒子を含有する第1電極層
とメッキ法によって形成された第2電極層とが積層され
た積層構造を有する。
【0013】(透明基板)本発明の有機EL素子は、好
ましくは、透明基板上に積層された積層体として提供さ
れる。
ましくは、透明基板上に積層された積層体として提供さ
れる。
【0014】透明基板は、基板となり得る透明な材料で
あれば特に限定されない。石英またはガラス等の透明無
機材料からなる基板、あるいはポリエステル、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリイミド、ポリメタクリレー
ト、ポリカーボネート、またはポリサルホン等のプラス
チックフィルムもしくはシートからなる基板が好ましく
用いられる。
あれば特に限定されない。石英またはガラス等の透明無
機材料からなる基板、あるいはポリエステル、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリイミド、ポリメタクリレー
ト、ポリカーボネート、またはポリサルホン等のプラス
チックフィルムもしくはシートからなる基板が好ましく
用いられる。
【0015】透明基板の厚みは、基板として機能し得る
限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10μ〜1
cmであり、より好ましくは、50μm〜3mmであ
り、さらにより好ましくは、100μm〜1.5mmで
ある。
限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10μ〜1
cmであり、より好ましくは、50μm〜3mmであ
り、さらにより好ましくは、100μm〜1.5mmで
ある。
【0016】(有機EL媒体層)本明細書中において、
有機EL媒体層とは、有機発光層、あるいは必要に応じ
て正孔輸送層および/または電子輸送層を有機発光層に
積層して得られた、層もしくは積層体をいう。従って、
有機EL媒体層は、少なくとも1層の有機発光層を有す
る。複数の有機発光層を有してもよい。
有機EL媒体層とは、有機発光層、あるいは必要に応じ
て正孔輸送層および/または電子輸送層を有機発光層に
積層して得られた、層もしくは積層体をいう。従って、
有機EL媒体層は、少なくとも1層の有機発光層を有す
る。複数の有機発光層を有してもよい。
【0017】(有機発光層)有機発光層は、有機発光材
料を必須成分として含む。有機発光材料は、高分子発光
材料もしくは高分子発光材料の前駆体、または低分子発
光材料から選択される。
料を必須成分として含む。有機発光材料は、高分子発光
材料もしくは高分子発光材料の前駆体、または低分子発
光材料から選択される。
【0018】有機発光層は、高分子発光材料、または高
分子発光材料の前駆体から構成され得る。また有機発光
層は、低分子発光材料が高分子材料中に分散されて構成
されても良い。
分子発光材料の前駆体から構成され得る。また有機発光
層は、低分子発光材料が高分子材料中に分散されて構成
されても良い。
【0019】また有機発光層は、正孔輸送材料、電子輸
送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)、または発
光性のドーパントなどを含有しても良い。
送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)、または発
光性のドーパントなどを含有しても良い。
【0020】高分子発光材料としては、有機EL素子の
発光材料に使用され得る公知の任意の高分子発光材料を
選択して用いることができる。例えば、ポリ(2−デシ
ルオキシ−1,4−フェニル)(DO−PPP)、ポリ
[2,5−ビス[2−(N,N,N−トリエチルアンモ
ニウム)エトキシ]−1,4− フェニレン−アルト−
1,4−フェニレン]ジブロマイド(PPP−NEt3
+)、ポリ[2−(2’−エチルヘキシルオキシ)−5
−メトキシ−1,4−フェニレンビニレン](MEH−
PPV)、ポリ(5−メトキシ−(2−プロパノキシサ
ルフォニド)−1,4−フェニレンビニレン)(MPS
−PPV)、ポリ[2,5−ビス(ヘキシルオキシ)−
1,4−フェニレン−(1−シアノビニレン)](CN
−PPV、または、ポリ(ベンゾチアジアゾール−フル
オレン)(PBF)等を好ましく用いることができる
が、本発明はこれらに特に限定されない。
発光材料に使用され得る公知の任意の高分子発光材料を
選択して用いることができる。例えば、ポリ(2−デシ
ルオキシ−1,4−フェニル)(DO−PPP)、ポリ
[2,5−ビス[2−(N,N,N−トリエチルアンモ
ニウム)エトキシ]−1,4− フェニレン−アルト−
1,4−フェニレン]ジブロマイド(PPP−NEt3
+)、ポリ[2−(2’−エチルヘキシルオキシ)−5
−メトキシ−1,4−フェニレンビニレン](MEH−
PPV)、ポリ(5−メトキシ−(2−プロパノキシサ
ルフォニド)−1,4−フェニレンビニレン)(MPS
−PPV)、ポリ[2,5−ビス(ヘキシルオキシ)−
1,4−フェニレン−(1−シアノビニレン)](CN
−PPV、または、ポリ(ベンゾチアジアゾール−フル
オレン)(PBF)等を好ましく用いることができる
が、本発明はこれらに特に限定されない。
【0021】また、高分子発光材料の前駆体としては、
有機EL素子の発光材料に使用される公知の任意の前駆
体を選択して用いることができる。例えば、ポリ(p−
フェニレンビニレン)前駆体(Pre−PPV)、ポリ
(p−フェニレン)前駆体(Pre−PPP)、ポリ
(p−ナフタレンビニレン)前駆体(Pre−PNV)
等を好ましく用いることができるが、本発明はこれらに
特に限定されない。
有機EL素子の発光材料に使用される公知の任意の前駆
体を選択して用いることができる。例えば、ポリ(p−
フェニレンビニレン)前駆体(Pre−PPV)、ポリ
(p−フェニレン)前駆体(Pre−PPP)、ポリ
(p−ナフタレンビニレン)前駆体(Pre−PNV)
等を好ましく用いることができるが、本発明はこれらに
特に限定されない。
【0022】また、低分子発光材料としては、有機EL
素子の発光材料に使用され得る公知の低分子発光材料の
中から任意の材料を選択して用いることができる。例え
ば、芳香族ジメチリデン化合物、オキサジアゾール化合
物、トリアゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導
体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アント
ラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン
誘導体等の蛍光性有機材料、アゾメチン亜鉛錯体、(8
−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体等の蛍光性
有機金属化合物等を好ましく用いることができるが、本
発明はこれらに特に限定されない。
素子の発光材料に使用され得る公知の低分子発光材料の
中から任意の材料を選択して用いることができる。例え
ば、芳香族ジメチリデン化合物、オキサジアゾール化合
物、トリアゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導
体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アント
ラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン
誘導体等の蛍光性有機材料、アゾメチン亜鉛錯体、(8
−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体等の蛍光性
有機金属化合物等を好ましく用いることができるが、本
発明はこれらに特に限定されない。
【0023】また、これら低分子発光材料を分散する高
分子材料としては、任意の公知の高分子材料から選択し
て用いることができる。例えば、ポリカーボネート、ポ
リメタクリレート、ポリカルバゾール等を好ましく用い
ることができるが、本発明はこれらに特に限定されな
い。
分子材料としては、任意の公知の高分子材料から選択し
て用いることができる。例えば、ポリカーボネート、ポ
リメタクリレート、ポリカルバゾール等を好ましく用い
ることができるが、本発明はこれらに特に限定されな
い。
【0024】これらの高分子材料に低分子発光材料を分
散する場合、低分子発光材料の配合量は、有機発光層が
有機発光層としての機能を発揮し得る任意の量とするこ
とができる。好ましくは、高分子材料と低分子発光材料
との合計のうちの0.1〜95重量%であり、より好ま
しくは、1〜80重量%であり、さらに好ましくは、5
〜70重量%である。
散する場合、低分子発光材料の配合量は、有機発光層が
有機発光層としての機能を発揮し得る任意の量とするこ
とができる。好ましくは、高分子材料と低分子発光材料
との合計のうちの0.1〜95重量%であり、より好ま
しくは、1〜80重量%であり、さらに好ましくは、5
〜70重量%である。
【0025】正孔輸送材料としては、従来公知の任意の
正孔輸送材料が使用可能である。正孔輸送材料は、無機
化合物でもよく、また有機化合物でも良い。無機化合物
としては公知の無機半導体を用い得る。有機化合物とし
ては、従来光伝導材料において正孔輸送材料として慣用
されている材料または有機エレクトロルミネッセンス素
子の正孔輸送材料に使用される公知の材料の中から任意
の材料を選択して用いることができる。例えば、ポルフ
ィリン化合物、N,N’−ビス−(3−メチルフェニ
ル)−N,N’−ビス−(フェニル)ベンジジン、N,
N’−ジ(ナフチレン−1−イル)−N,N’−ビジフ
ェニル−ベンジジン等の芳香族第三級アミン化合物、ヒ
ドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン
化合物などの低分子材料が挙げられるが、本発明はこれ
らに限定されない。
正孔輸送材料が使用可能である。正孔輸送材料は、無機
化合物でもよく、また有機化合物でも良い。無機化合物
としては公知の無機半導体を用い得る。有機化合物とし
ては、従来光伝導材料において正孔輸送材料として慣用
されている材料または有機エレクトロルミネッセンス素
子の正孔輸送材料に使用される公知の材料の中から任意
の材料を選択して用いることができる。例えば、ポルフ
ィリン化合物、N,N’−ビス−(3−メチルフェニ
ル)−N,N’−ビス−(フェニル)ベンジジン、N,
N’−ジ(ナフチレン−1−イル)−N,N’−ビジフ
ェニル−ベンジジン等の芳香族第三級アミン化合物、ヒ
ドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン
化合物などの低分子材料が挙げられるが、本発明はこれ
らに限定されない。
【0026】電子輸送材料としては、従来公知の任意の
電子輸送材料が使用され得る。無機化合物でも有機化合
物でも良い。無機化合物としては公知の無機半導体を用
いることができる。有機化合物としては、従来光伝導材
料において電子輸送材料として慣用されている材料また
は有機エレクトロルミネッセンス素子の電子輸送材料に
使用される公知の材料から任意の材料を選択して用いる
ことができる。例えば、オキサジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベン
ゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン
誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体な
どの低分子材料が好ましく使用され得るが、本発明はこ
れらに限定されない。
電子輸送材料が使用され得る。無機化合物でも有機化合
物でも良い。無機化合物としては公知の無機半導体を用
いることができる。有機化合物としては、従来光伝導材
料において電子輸送材料として慣用されている材料また
は有機エレクトロルミネッセンス素子の電子輸送材料に
使用される公知の材料から任意の材料を選択して用いる
ことができる。例えば、オキサジアゾール誘導体、トリ
アゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベン
ゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン
誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体な
どの低分子材料が好ましく使用され得るが、本発明はこ
れらに限定されない。
【0027】ドナーまたはアクセプターなどの添加剤と
しては、公知の任意の添加剤を使用し得る。
しては、公知の任意の添加剤を使用し得る。
【0028】発光性のドーパントとしては、有機EL素
子のドーパントに使用される公知の材料の中から任意の
材料を選択して用いることができる。例えば、クマリン
系色素、ピリジン系色素、ローダミン系色素、アクイジ
ン系色素、フニノキザゾン、DCM、キナクリドン、ル
ブレン等の蛍光性色素等を好ましく用いることができる
が、本発明はこれらに限定されない。
子のドーパントに使用される公知の材料の中から任意の
材料を選択して用いることができる。例えば、クマリン
系色素、ピリジン系色素、ローダミン系色素、アクイジ
ン系色素、フニノキザゾン、DCM、キナクリドン、ル
ブレン等の蛍光性色素等を好ましく用いることができる
が、本発明はこれらに限定されない。
【0029】有機発光層は、上記の材料を用いて、公知
の任意の方法で作製することができる。好ましくは、ス
ピンコーティング、ディッピング、ドクターブレード法
等の塗布法、インクジェット法、ニードルもしくはノズ
ルから塗液を吐出する方法、スクリーン印刷法、凸版、
凹版、平板印刷法、オフセット印刷法等の印刷法、転写
法等のウエットプロセスで形成することができる。
の任意の方法で作製することができる。好ましくは、ス
ピンコーティング、ディッピング、ドクターブレード法
等の塗布法、インクジェット法、ニードルもしくはノズ
ルから塗液を吐出する方法、スクリーン印刷法、凸版、
凹版、平板印刷法、オフセット印刷法等の印刷法、転写
法等のウエットプロセスで形成することができる。
【0030】有機発光層の厚みは、有機発光層として機
能し得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1
nm〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μm
であり、さらに好ましくは、40nm〜200nmであ
る。
能し得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1
nm〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μm
であり、さらに好ましくは、40nm〜200nmであ
る。
【0031】(正孔輸送層)正孔輸送層は、高分子正孔
輸送材料もしくは高分子正孔輸送材料の前駆体、または
低分子正孔輸送材料を必須成分として含む。
輸送材料もしくは高分子正孔輸送材料の前駆体、または
低分子正孔輸送材料を必須成分として含む。
【0032】正孔輸送層は、高分子正孔輸送材料または
高分子正孔輸送材料の前駆体から構成されても良い。ま
た、低分子正孔輸送材料が高分子材料中に分散されて構
成されても良い。
高分子正孔輸送材料の前駆体から構成されても良い。ま
た、低分子正孔輸送材料が高分子材料中に分散されて構
成されても良い。
【0033】正孔輸送層は、アクセプター分子等の添加
剤を含有しても良い。
剤を含有しても良い。
【0034】高分子正孔輸送材料としては、有機EL素
子、光導電性材料の正孔輸送材料に使用される公知の任
意の材料から選択して用いることができる。例えば、ポ
リアニリン(PANI)、3,4−ポリエチレンジオキ
シチオフェン(PEDT)、ポリカルバゾール(PVC
z)、ポリ(トリフェニルアミン誘導体)(Poly−
TPD)等を好ましく用いることができるが、本発明は
これらに特に限定されない。
子、光導電性材料の正孔輸送材料に使用される公知の任
意の材料から選択して用いることができる。例えば、ポ
リアニリン(PANI)、3,4−ポリエチレンジオキ
シチオフェン(PEDT)、ポリカルバゾール(PVC
z)、ポリ(トリフェニルアミン誘導体)(Poly−
TPD)等を好ましく用いることができるが、本発明は
これらに特に限定されない。
【0035】高分子発光材料の前駆体としては、有機E
L素子、または光導電性材料の正孔輸送材料に使用され
る公知の任意の前駆体中から選択して用いることができ
る。例えば、Pre−PPV、Pre−PNV等を用い
ることができるが、本発明はこれらに特に限定されな
い。
L素子、または光導電性材料の正孔輸送材料に使用され
る公知の任意の前駆体中から選択して用いることができ
る。例えば、Pre−PPV、Pre−PNV等を用い
ることができるが、本発明はこれらに特に限定されな
い。
【0036】低分子正孔輸送材料としては、有機発光層
中の材料として上述した材料が使用可能である。
中の材料として上述した材料が使用可能である。
【0037】ここで、低分子正孔輸送材料を分散する高
分子材料としては、例えば、有機発光層中の材料として
上述した材料が使用可能である。すなわち、任意の公知
の高分子材料から選択して用いることができる。例え
ば、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリカル
バゾール等を好ましく用いることができるが、本発明は
これらに特に限定されない。
分子材料としては、例えば、有機発光層中の材料として
上述した材料が使用可能である。すなわち、任意の公知
の高分子材料から選択して用いることができる。例え
ば、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリカル
バゾール等を好ましく用いることができるが、本発明は
これらに特に限定されない。
【0038】これらの高分子材料に低分子正孔輸送材料
を分散する場合、低分子正孔輸送材料の配合量は、正孔
輸送層が正孔輸送層としての機能を発揮し得る任意の量
とすることができる。好ましくは、高分子材料と低分子
正孔輸送材料との合計に対して0.1〜95重量%であ
り、より好ましくは、1〜80重量%であり、さらに好
ましくは、5〜70重量%である。
を分散する場合、低分子正孔輸送材料の配合量は、正孔
輸送層が正孔輸送層としての機能を発揮し得る任意の量
とすることができる。好ましくは、高分子材料と低分子
正孔輸送材料との合計に対して0.1〜95重量%であ
り、より好ましくは、1〜80重量%であり、さらに好
ましくは、5〜70重量%である。
【0039】正孔輸送層の厚みは、正孔輸送層として機
能し得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1
nm〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μm
であり、さらに好ましくは、40nm〜200nmであ
る。
能し得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1
nm〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μm
であり、さらに好ましくは、40nm〜200nmであ
る。
【0040】(電子輸送層)電子輸送層は、高分子電子
輸送材料もしくは高分子電子輸送材料、または低分子電
子輸送材料を含む。
輸送材料もしくは高分子電子輸送材料、または低分子電
子輸送材料を含む。
【0041】電子輸送層は、高分子電子輸送材料または
高分子電子輸送材料の前駆体から構成されても良い。ま
た、低分子電子輸送材料が高分子材料中に分散されて構
成されても良い。
高分子電子輸送材料の前駆体から構成されても良い。ま
た、低分子電子輸送材料が高分子材料中に分散されて構
成されても良い。
【0042】電子輸送層は、ドナー分子等の添加剤を含
有しても良い。
有しても良い。
【0043】高分子電子輸送材料は、有機EL素子また
は光導電材料の電子輸送材料に使用され得る公知の任意
の高分子材料から選択して用いることができる。例え
ば、ポリ(オキサジアゾール誘導体)(Poly−Ox
z)等を用いることができるが、本発明はこれらに特に
限定されない。
は光導電材料の電子輸送材料に使用され得る公知の任意
の高分子材料から選択して用いることができる。例え
ば、ポリ(オキサジアゾール誘導体)(Poly−Ox
z)等を用いることができるが、本発明はこれらに特に
限定されない。
【0044】高分子電子輸送材料の前駆体は、有機EL
素子または光導電材料の電子輸送材料に使用され得る公
知の任意の高分子材料の前駆体から選択して用いること
ができる。
素子または光導電材料の電子輸送材料に使用され得る公
知の任意の高分子材料の前駆体から選択して用いること
ができる。
【0045】低分子電子輸送材料としては、有機発光層
中の電子輸送材料として上述した材料が使用可能であ
る。
中の電子輸送材料として上述した材料が使用可能であ
る。
【0046】低分子電子輸送材料を分散する高分子材料
としては、有機発光層中の材料として上述した材料が使
用可能である。すなわち、任意の公知の高分子材料から
選択して用いることができる。例えば、ポリカーボネー
ト、ポリメタクリレート、ポリカルバゾール等を好まし
く用いることができるが、本発明はこれらに特に限定さ
れない。
としては、有機発光層中の材料として上述した材料が使
用可能である。すなわち、任意の公知の高分子材料から
選択して用いることができる。例えば、ポリカーボネー
ト、ポリメタクリレート、ポリカルバゾール等を好まし
く用いることができるが、本発明はこれらに特に限定さ
れない。
【0047】これらの高分子材料に低分子電子輸送材料
を分散する場合、低分子電子輸送材料の配合量は、電子
輸送層が電子輸送層としての機能を発揮し得る任意の量
とすることができる。好ましくは、高分子材料と低分子
電子輸送材料との合計に対して0.1〜95重量%であ
り、より好ましくは、1〜80重量%であり、さらに好
ましくは、5〜70重量%である。
を分散する場合、低分子電子輸送材料の配合量は、電子
輸送層が電子輸送層としての機能を発揮し得る任意の量
とすることができる。好ましくは、高分子材料と低分子
電子輸送材料との合計に対して0.1〜95重量%であ
り、より好ましくは、1〜80重量%であり、さらに好
ましくは、5〜70重量%である。
【0048】電子輸送層の厚みは、電子輸送層として機
能し得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1
nm〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μm
であり、さらに好ましくは、40nm〜200nmであ
る。
能し得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1
nm〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μm
であり、さらに好ましくは、40nm〜200nmであ
る。
【0049】(陽極)陽極は、導電性物質から形成され
る。正孔をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら使用される導電性物質としては、5.0eV以上の仕
事関数を有する金属、合金、電気伝導性化合物、または
これらの混合物等が好適である。例えば、ニッケル、パ
ラジウム、白金、または金等またはそれらの合金、また
はCuI、ITO、SnO2、ZnO等の透明電極等が
用いられ得るが、これらに限定されない。
る。正孔をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら使用される導電性物質としては、5.0eV以上の仕
事関数を有する金属、合金、電気伝導性化合物、または
これらの混合物等が好適である。例えば、ニッケル、パ
ラジウム、白金、または金等またはそれらの合金、また
はCuI、ITO、SnO2、ZnO等の透明電極等が
用いられ得るが、これらに限定されない。
【0050】これらの導電性物質は、公知の任意の成膜
方法によって、陽極の形状に成形される。好ましくは、
スパッタリングまたは真空蒸着法等によって成膜され
る。印刷法により形成される場合については、第1電極
の形成方法に関して後述する方法と同様である。メッキ
法により形成される場合については、第2電極の形成方
法に関して後述する方法と同様である。
方法によって、陽極の形状に成形される。好ましくは、
スパッタリングまたは真空蒸着法等によって成膜され
る。印刷法により形成される場合については、第1電極
の形成方法に関して後述する方法と同様である。メッキ
法により形成される場合については、第2電極の形成方
法に関して後述する方法と同様である。
【0051】陽極として第1電極および第2電極の積層
体を採用しない場合の陽極の厚みは、陽極として機能し
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10n
m〜10μmであり、より好ましくは、50nm〜1μ
mであり、さらに好ましくは、100nm〜300nm
である。
体を採用しない場合の陽極の厚みは、陽極として機能し
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10n
m〜10μmであり、より好ましくは、50nm〜1μ
mであり、さらに好ましくは、100nm〜300nm
である。
【0052】なお、陽極として、第1電極および第2電
極の積層体を採用する場合については、さらに後述す
る。
極の積層体を採用する場合については、さらに後述す
る。
【0053】(陰極)陰極は、導電性物質から形成され
る。従来公知の任意の導電性物質が使用可能である。電
子をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点から使用
され得る導電性物質としては、4.0eV以下の仕事関
数を有する金属、合金、電気伝導性化合物、またはこれ
らの混合物等が好適である。例えば、マグネシウム、カ
ルシウム、リチウムまたはこれらを含有する合金等の半
透明膜等が用いられるが、これらに限定されない。
る。従来公知の任意の導電性物質が使用可能である。電
子をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点から使用
され得る導電性物質としては、4.0eV以下の仕事関
数を有する金属、合金、電気伝導性化合物、またはこれ
らの混合物等が好適である。例えば、マグネシウム、カ
ルシウム、リチウムまたはこれらを含有する合金等の半
透明膜等が用いられるが、これらに限定されない。
【0054】これらの導電性物質は、公知の任意の方法
で陰極の形状に成形される。好ましくは、スパッタリン
グまたは真空蒸着法等によって膜として形成される。印
刷法により形成される場合については、第1電極の形成
方法に関して後述する方法と同様である。メッキ法によ
り形成される場合については、第2電極の形成方法に関
して後述する方法と同様である。
で陰極の形状に成形される。好ましくは、スパッタリン
グまたは真空蒸着法等によって膜として形成される。印
刷法により形成される場合については、第1電極の形成
方法に関して後述する方法と同様である。メッキ法によ
り形成される場合については、第2電極の形成方法に関
して後述する方法と同様である。
【0055】陰極として第1電極および第2電極の積層
体を採用しない場合の陰極の厚みは、陰極として機能し
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10n
m〜10μmであり、より好ましくは、50nm〜1μ
mであり、さらに好ましくは、100nm〜300nm
である。
体を採用しない場合の陰極の厚みは、陰極として機能し
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10n
m〜10μmであり、より好ましくは、50nm〜1μ
mであり、さらに好ましくは、100nm〜300nm
である。
【0056】なお、陰極として、第1電極および第2電
極の積層体を採用する場合については、さらに以下に説
明する。
極の積層体を採用する場合については、さらに以下に説
明する。
【0057】(第1電極)第1電極は、第2電極と積層
されて陽極または陰極として使用される電極である。第
1電極は、導電性微粒子を含有し、印刷法により形成さ
れる。第1電極には、必要に応じて、高分子材料または
重合性分子が含有されていても良い。
されて陽極または陰極として使用される電極である。第
1電極は、導電性微粒子を含有し、印刷法により形成さ
れる。第1電極には、必要に応じて、高分子材料または
重合性分子が含有されていても良い。
【0058】(印刷法)印刷法としては、従来公知の印
刷法を使用することができる。具体的には、例えば、イ
ンクジェット法、ニードルもしくはノズルから塗液を吐
出する方法、スクリーン印刷法、凸版、凹版、平板印刷
法、オフセット印刷法等が挙げられる。印刷に用いるイ
ンクとしては、導電性微粒子を含有する任意のインクを
使用することができる。インク中の導電性微粒子以外の
成分としては、導電性微粒子を溶解または分散するため
のポリマーまたはモノマー、溶媒もしくは希釈剤など
の、インクとして従来公知の材料を用いることができ
る。例えば、公知のインク用ポリマーまたはポリマーな
どが使用可能である。
刷法を使用することができる。具体的には、例えば、イ
ンクジェット法、ニードルもしくはノズルから塗液を吐
出する方法、スクリーン印刷法、凸版、凹版、平板印刷
法、オフセット印刷法等が挙げられる。印刷に用いるイ
ンクとしては、導電性微粒子を含有する任意のインクを
使用することができる。インク中の導電性微粒子以外の
成分としては、導電性微粒子を溶解または分散するため
のポリマーまたはモノマー、溶媒もしくは希釈剤など
の、インクとして従来公知の材料を用いることができ
る。例えば、公知のインク用ポリマーまたはポリマーな
どが使用可能である。
【0059】(導電性微粒子)導電性微粒子としては、
公知の任意の導電性微粒子が使用可能であり、特に限定
されない。
公知の任意の導電性微粒子が使用可能であり、特に限定
されない。
【0060】導電性微粒子の大きさとしては、電極に導
電性を付与し得る限り、限定されない。好ましくは、
0.001μ〜1000μであり、より好ましくは、
0.01μ〜100μであり、さらに好ましくは、0.
1μ〜10μである。
電性を付与し得る限り、限定されない。好ましくは、
0.001μ〜1000μであり、より好ましくは、
0.01μ〜100μであり、さらに好ましくは、0.
1μ〜10μである。
【0061】導電性微粒子の量としては、第1電極に導
電性を付与し得る量である限り、限定されない。好まし
くは、第1電極の1×10-3〜90重量%であり、より
好ましくは、1×10-2〜70重量%である。さらに好
ましくは、0.1〜50重量%である。
電性を付与し得る量である限り、限定されない。好まし
くは、第1電極の1×10-3〜90重量%であり、より
好ましくは、1×10-2〜70重量%である。さらに好
ましくは、0.1〜50重量%である。
【0062】第1電極および第2電極を陰極とする場
合、電子をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら、仕事関数が4.0eV以下の導電性微粒子が好まし
い。例えば、カルシウム、マグネシウム、リチウムある
いはこれらを含有する合金等を使用する事ができるが、
本発明はこれらに限定されない。なお、仕事関数が4.
0eV以下の導電性微粒子に加えて、仕事関数が4.0
eVを超える導電性微粒子を併用してもよい。
合、電子をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら、仕事関数が4.0eV以下の導電性微粒子が好まし
い。例えば、カルシウム、マグネシウム、リチウムある
いはこれらを含有する合金等を使用する事ができるが、
本発明はこれらに限定されない。なお、仕事関数が4.
0eV以下の導電性微粒子に加えて、仕事関数が4.0
eVを超える導電性微粒子を併用してもよい。
【0063】ここで、仕事関数とは、金属または半導体
の結晶表面からその外側へ、1個の電子を取り出すのに
必要な最小のエネルギーをいう。
の結晶表面からその外側へ、1個の電子を取り出すのに
必要な最小のエネルギーをいう。
【0064】第1電極および第2電極を陽極とする場
合、正孔をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら、仕事関数が5.0eV以下の導電性微粒子が好まし
い。例えば、ニッケル、金、白金、またはパラジウムあ
るいはこれらを含有する合金等が用いられるが、これら
に限定されない。なお、仕事関数が5.0eV以下の導
電性微粒子に加えて、仕事関数が5.0eVを超える導
電性微粒子を併用してもよい。
合、正孔をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら、仕事関数が5.0eV以下の導電性微粒子が好まし
い。例えば、ニッケル、金、白金、またはパラジウムあ
るいはこれらを含有する合金等が用いられるが、これら
に限定されない。なお、仕事関数が5.0eV以下の導
電性微粒子に加えて、仕事関数が5.0eVを超える導
電性微粒子を併用してもよい。
【0065】第1電極の厚みは、第1電極として機能し
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10n
m〜20μmであり、より好ましくは、100nm〜1
0μmであり、さらに好ましくは、500nm〜3μm
である。
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、10n
m〜20μmであり、より好ましくは、100nm〜1
0μmであり、さらに好ましくは、500nm〜3μm
である。
【0066】(第2電極)第2電極は、第1電極に積層
されて陽極または陰極を構成する電極である。
されて陽極または陰極を構成する電極である。
【0067】第2電極は、メッキ法により形成される。
メッキ法は、電解メッキ法でも、無電解メッキ法でもよ
い。抵抗の観点から、電界メッキ法が好ましい。メッキ
に使用する金属は、従来メッキに使用されているもので
あれば特に限定されないが、密着性および環境問題の観
点から、銅、ニッケル、亜鉛、錫、金または銀が好まし
い。また、これらの複合メッキであっても良い。
メッキ法は、電解メッキ法でも、無電解メッキ法でもよ
い。抵抗の観点から、電界メッキ法が好ましい。メッキ
に使用する金属は、従来メッキに使用されているもので
あれば特に限定されないが、密着性および環境問題の観
点から、銅、ニッケル、亜鉛、錫、金または銀が好まし
い。また、これらの複合メッキであっても良い。
【0068】第2電極の厚みは、第2電極として機能し
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1nm
〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μmであ
り、さらに好ましくは、100nm〜1μmである。
得る限り、任意の厚みであり得る。好ましくは、1nm
〜3μmであり、より好ましくは、5nm〜1μmであ
り、さらに好ましくは、100nm〜1μmである。
【0069】第1電極の厚みと第2電極の厚みとの和
は、電極として機能し得る限り、任意の厚みであり得
る。好ましくは、2nm〜6μmであり、より好ましく
は、10nm〜2μmであり、さらに好ましくは、20
nm〜1μmである。
は、電極として機能し得る限り、任意の厚みであり得
る。好ましくは、2nm〜6μmであり、より好ましく
は、10nm〜2μmであり、さらに好ましくは、20
nm〜1μmである。
【0070】第1電極および第2電極の形成法として
は、まず第1電極として、導電性微粒子のみを含有する
塗液または導電性微粒子と高分子材料とを含有する塗液
を印刷法により塗布してパターンを形成し、加熱により
定着させても良い。また、導電性微粒子と重合性分子と
を含有する塗液を印刷法により塗布してパターンを形成
し、加熱または紫外線照射により重合または定着させて
も良い。
は、まず第1電極として、導電性微粒子のみを含有する
塗液または導電性微粒子と高分子材料とを含有する塗液
を印刷法により塗布してパターンを形成し、加熱により
定着させても良い。また、導電性微粒子と重合性分子と
を含有する塗液を印刷法により塗布してパターンを形成
し、加熱または紫外線照射により重合または定着させて
も良い。
【0071】次に、例えば、この第1電極を有する基板
をメッキ液に漬け、第1電極に電流を流して、メッキ法
により第1電極上にのみ第2電極を形成する。
をメッキ液に漬け、第1電極に電流を流して、メッキ法
により第1電極上にのみ第2電極を形成する。
【0072】また、本発明においては、第1電極および
第2電極の2層のみからなる積層体を陽極または陰極と
して採用することが好ましいが、必要に応じて、さら
に、第1電極もしくは第2電極を積層するか、あるいは
他の層を積層して3層以上の電極としてもよい。
第2電極の2層のみからなる積層体を陽極または陰極と
して採用することが好ましいが、必要に応じて、さら
に、第1電極もしくは第2電極を積層するか、あるいは
他の層を積層して3層以上の電極としてもよい。
【0073】(好ましい実施形態)以下、本発明の好ま
しい実施形態について図面を参照して説明する。
しい実施形態について図面を参照して説明する。
【0074】図1は、本発明の第1の実施形態による有
機EL素子を示す断面図である。図1を参照して、有機
EL素子は、透明基板1上に形成された陽極2と、有機
発光層4と、第1電極6と、第2電極7から構成されて
いる。ここで、有機発光層4は、図1に示されるような
1層であっても良いが、必要に応じて多層構造としても
良い。
機EL素子を示す断面図である。図1を参照して、有機
EL素子は、透明基板1上に形成された陽極2と、有機
発光層4と、第1電極6と、第2電極7から構成されて
いる。ここで、有機発光層4は、図1に示されるような
1層であっても良いが、必要に応じて多層構造としても
良い。
【0075】図2は、本発明の第2の実施形態による有
機EL素子を示す断面図である。図2を参照して、有機
EL素子は、透明基板1上に形成された陽極2と、正孔
輸送層3と、有機発光層4と、第1電極6と、第2電極
7とから構成されている。ここで、正孔輸送層3は、図
2に示されるように1層であっても良いが、必要に応じ
て多層構造としても良い。有機発光層4もまた、図2に
示されるように1層であっても良いが、必要に応じて多
層構造としても良い。
機EL素子を示す断面図である。図2を参照して、有機
EL素子は、透明基板1上に形成された陽極2と、正孔
輸送層3と、有機発光層4と、第1電極6と、第2電極
7とから構成されている。ここで、正孔輸送層3は、図
2に示されるように1層であっても良いが、必要に応じ
て多層構造としても良い。有機発光層4もまた、図2に
示されるように1層であっても良いが、必要に応じて多
層構造としても良い。
【0076】図3は、本発明の第3の実施形態による有
機EL素子を示す断面図である。図3を参照して、有機
EL素子は、透明基板1と、陽極2と、有機発光層4
と、電子輸送層5と、第1電極6と、第2電極7とから
構成されている。
機EL素子を示す断面図である。図3を参照して、有機
EL素子は、透明基板1と、陽極2と、有機発光層4
と、電子輸送層5と、第1電極6と、第2電極7とから
構成されている。
【0077】電子輸送層5は、図3に示されるように1
層であっても良いが、必要に応じて多層構造とされても
良い。また有機発光層4は、図3に示されるように1層
であっても良いが、必要に応じて多層構造とされても良
い。
層であっても良いが、必要に応じて多層構造とされても
良い。また有機発光層4は、図3に示されるように1層
であっても良いが、必要に応じて多層構造とされても良
い。
【0078】図4は、本発明の第4の実施形態による有
機EL素子を示す断面図である。図4を参照して、有機
EL素子は、透明基板1と、陽極2と、正孔輸送層3
と、有機発光層4と、電子輸送層5と、第1電極6と、
第2電極7とから構成されている。
機EL素子を示す断面図である。図4を参照して、有機
EL素子は、透明基板1と、陽極2と、正孔輸送層3
と、有機発光層4と、電子輸送層5と、第1電極6と、
第2電極7とから構成されている。
【0079】ここで、正孔輸送層3、有機発光層4、お
よび電子輸送層5は、図4に示されるようにそれぞれ1
層であっても良いが、それぞれ独立して、必要に応じて
多層構造としても良い。
よび電子輸送層5は、図4に示されるようにそれぞれ1
層であっても良いが、それぞれ独立して、必要に応じて
多層構造としても良い。
【0080】(第1電極および第2電極を陽極とする態
様)別の好ましい実施態様において、第1電極および第
2電極の積層構造からなる電極を陽極として用いても良
い。この場合、上述した各実施態様において、図面中に
おいて参照番号2として説明された陽極の場所に、陰極
が用いられる。
様)別の好ましい実施態様において、第1電極および第
2電極の積層構造からなる電極を陽極として用いても良
い。この場合、上述した各実施態様において、図面中に
おいて参照番号2として説明された陽極の場所に、陰極
が用いられる。
【0081】この場合、陰極における導電性物質は、電
子をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点から、
4.0eV以下の仕事関数を有する金属、合金、電気伝
導性化合物、またはこれらの混合物等が好適である。例
えば、マグネシウム、カルシウム、リチウムまたはこれ
らを含有する合金等の半透明膜等が用いられるが、これ
らに限定されない。
子をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点から、
4.0eV以下の仕事関数を有する金属、合金、電気伝
導性化合物、またはこれらの混合物等が好適である。例
えば、マグネシウム、カルシウム、リチウムまたはこれ
らを含有する合金等の半透明膜等が用いられるが、これ
らに限定されない。
【0082】第1電極および第2電極を陽極とする場
合、正孔をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら、第1電極は、仕事関数が5.0eV以下の導電性微
粒子を含む事が好ましい。例えば、ニッケル、金、白
金、またはパラジウムあるいはこれらを含有する合金等
が用いられるが、これらに限定されない。
合、正孔をより効率良く有機EL媒体へ注入する観点か
ら、第1電極は、仕事関数が5.0eV以下の導電性微
粒子を含む事が好ましい。例えば、ニッケル、金、白
金、またはパラジウムあるいはこれらを含有する合金等
が用いられるが、これらに限定されない。
【0083】第1電極および第2電極の積層構造からな
る電極を陽極として用いる場合、例えば、 透明基板/陰極/有機EL媒体層/第1電極/第2電極 の構成が採用され得る。具体的には例えば、 透明基板/陰極/有機発光層/第1電極/第2電極 の構成としてもよく、 透明基板/陰極/有機発光層/正孔輸送層/第1電極/
第2電極 の構成としてもよく、 透明基板/陰極/電子輸送層/有機発光層/第1電極/
第2電極 の構成としてもよく、 透明基板/陰極/電子輸送層/有機発光層/正孔輸送層
/第1電極/第2電極 の構成でも良い。
る電極を陽極として用いる場合、例えば、 透明基板/陰極/有機EL媒体層/第1電極/第2電極 の構成が採用され得る。具体的には例えば、 透明基板/陰極/有機発光層/第1電極/第2電極 の構成としてもよく、 透明基板/陰極/有機発光層/正孔輸送層/第1電極/
第2電極 の構成としてもよく、 透明基板/陰極/電子輸送層/有機発光層/第1電極/
第2電極 の構成としてもよく、 透明基板/陰極/電子輸送層/有機発光層/正孔輸送層
/第1電極/第2電極 の構成でも良い。
【0084】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明を具体的に
説明する。ただし、本発明はこれらの実施例によってな
んら限定されない。
説明する。ただし、本発明はこれらの実施例によってな
んら限定されない。
【0085】(実施例1)50mm角のガラス基板上に
スパッタリングにより成膜した膜厚200nmのインジ
ウム−スズ酸化物(ITO)を、2mm幅のストライプ
状にパターニングした。これを水洗した後、水超音波洗
浄10分、アセトン超音波洗浄10分、およびイソプロ
ピルアルコール蒸気洗浄5分を行い、100℃の乾燥機
中で1時間乾燥した。
スパッタリングにより成膜した膜厚200nmのインジ
ウム−スズ酸化物(ITO)を、2mm幅のストライプ
状にパターニングした。これを水洗した後、水超音波洗
浄10分、アセトン超音波洗浄10分、およびイソプロ
ピルアルコール蒸気洗浄5分を行い、100℃の乾燥機
中で1時間乾燥した。
【0086】この上に、スピンコーターにより、3,4
−ポリエチレンジオキシチオフェンを厚さ50nm形成
し、正孔注入層とした。
−ポリエチレンジオキシチオフェンを厚さ50nm形成
し、正孔注入層とした。
【0087】次に、スピンコーターにより、ポリフェニ
レンビニレン前駆体厚さ50nmを形成した。引き続
き、窒素雰囲気下で150℃で6時間、加熱処理を行っ
て、ポリフェニレンビニレンに変換し、有機発光層とし
た。
レンビニレン前駆体厚さ50nmを形成した。引き続
き、窒素雰囲気下で150℃で6時間、加熱処理を行っ
て、ポリフェニレンビニレンに変換し、有機発光層とし
た。
【0088】次に、アミコンC−940−4(グリース
ジャパン株式会社製)を、スクリーン印刷法を用いて、
4mm間隔で2mm幅、厚さ2μmに塗布し、パターン
電極を作製した。得られたパターン電極中には、導電性
微粒子として、銀がエポキシ樹脂に含まれている。
ジャパン株式会社製)を、スクリーン印刷法を用いて、
4mm間隔で2mm幅、厚さ2μmに塗布し、パターン
電極を作製した。得られたパターン電極中には、導電性
微粒子として、銀がエポキシ樹脂に含まれている。
【0089】その後、陰極を外部電源に結線したまま
で、ニッケルメッキ溶液に漬け、通電して、パターン電
極上に厚さ500nmのニッケル層を積層した。
で、ニッケルメッキ溶液に漬け、通電して、パターン電
極上に厚さ500nmのニッケル層を積層した。
【0090】その後、ニッケルの密着性を向上させる
為、150℃で4時間アニールを行った。
為、150℃で4時間アニールを行った。
【0091】次に、この素子に10Vの電圧を印加し
て、輝度を測定した。その結果、300cd/cm2で
あった。
て、輝度を測定した。その結果、300cd/cm2で
あった。
【0092】(実施例2)アミコンC−940−4に、
サブミクロンオーダーの粒径(約0.1〜1μ)のマグ
ネシウム微粒子を添加し、分散機により分散して塗液を
得た。この塗液を、アミコンC−940−4の代わりに
用いた事以外は、実施例1と同様にEL素子を作製し
た。微粒子を含むパターン電極中のマグネシウム微粒子
濃度は10重量%であった。この素子に10Vの電圧を
印加して、輝度を測定した。その結果、800cd/c
m2であった。
サブミクロンオーダーの粒径(約0.1〜1μ)のマグ
ネシウム微粒子を添加し、分散機により分散して塗液を
得た。この塗液を、アミコンC−940−4の代わりに
用いた事以外は、実施例1と同様にEL素子を作製し
た。微粒子を含むパターン電極中のマグネシウム微粒子
濃度は10重量%であった。この素子に10Vの電圧を
印加して、輝度を測定した。その結果、800cd/c
m2であった。
【0093】(実施例3)マグネシウムの代わりに、サ
ブミクロンオーダーの粒径(約0.1〜1μ)のリチウ
ムを用いた事以外は、実施例2と同様にEL素子を作製
した。微粒子を含むパターン電極中のリチウム微粒子濃
度は10重量%であった。この素子に10Vの電圧を印
加して、輝度を測定した。その結果、1000cd/c
m2であった。
ブミクロンオーダーの粒径(約0.1〜1μ)のリチウ
ムを用いた事以外は、実施例2と同様にEL素子を作製
した。微粒子を含むパターン電極中のリチウム微粒子濃
度は10重量%であった。この素子に10Vの電圧を印
加して、輝度を測定した。その結果、1000cd/c
m2であった。
【0094】(実施例4)ニッケルメッキ溶液の代わり
に銅メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの銅層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、2200cd/cm2であっ
た。
に銅メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの銅層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、2200cd/cm2であっ
た。
【0095】(実施例5)ニッケルメッキ溶液の代わり
に亜鉛メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500
nmの亜鉛層を積層した事以外は、実施例3と同様にE
L素子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加し
て、輝度を測定した。その結果、1100cd/cm2
であった。
に亜鉛メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500
nmの亜鉛層を積層した事以外は、実施例3と同様にE
L素子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加し
て、輝度を測定した。その結果、1100cd/cm2
であった。
【0096】(実施例6)ニッケルメッキ溶液の代わり
に錫メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの錫層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、860cd/cm2であっ
た。
に錫メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの錫層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、860cd/cm2であっ
た。
【0097】(実施例7)ニッケルメッキ溶液の代わり
に金メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの金層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、1800cd/cm2であっ
た。
に金メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの金層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、1800cd/cm2であっ
た。
【0098】(実施例8)ニッケルメッキ溶液の代わり
に銀メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの銀層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、2400cd/cm2であっ
た。
に銀メッキ溶液に漬け、パターン電極上に厚さ500n
mの銀層を積層した事以外は、実施例3と同様にEL素
子を作製した。この素子に10Vの電圧を印加して、輝
度を測定した。その結果、2400cd/cm2であっ
た。
【0099】(比較例1)50mm角のガラス基板上に
スパッタリングにより成膜した膜厚200nmのインジ
ウム−スズ酸化物(ITO)を、2mm幅のストライプ
状にパターニングした。これを水洗した後、水超音波洗
浄10分、アセトン超音波洗浄10分、およびイソプロ
ピルアルコール蒸気洗浄5分を行い、100℃の乾燥機
中で1時間乾燥した。
スパッタリングにより成膜した膜厚200nmのインジ
ウム−スズ酸化物(ITO)を、2mm幅のストライプ
状にパターニングした。これを水洗した後、水超音波洗
浄10分、アセトン超音波洗浄10分、およびイソプロ
ピルアルコール蒸気洗浄5分を行い、100℃の乾燥機
中で1時間乾燥した。
【0100】この上に、スピンコーターにより、3,4
−ポリエチレンジオキシチオフェンを厚さ50nm形成
し、正孔注入層とした。
−ポリエチレンジオキシチオフェンを厚さ50nm形成
し、正孔注入層とした。
【0101】次に、スピンコーターにより、ポリフェニ
レンビニレン前駆体厚さ50nmを形成した。引き続
き、窒素雰囲気下で150℃で6時間、加熱処理を行っ
て、ポリフェニレンビニレンに変換し、有機発光層とし
た。
レンビニレン前駆体厚さ50nmを形成した。引き続
き、窒素雰囲気下で150℃で6時間、加熱処理を行っ
て、ポリフェニレンビニレンに変換し、有機発光層とし
た。
【0102】次に、アミコンC−940−4(グリース
ジャパン株式会社製)を、スクリーン印刷法を用いて、
4mm間隔で2mm幅、厚さ2μmに塗布し、パターン
電極を作製した。このパターン電極には、導電性微粒子
として、銀がエポキシ樹脂に含まれている。
ジャパン株式会社製)を、スクリーン印刷法を用いて、
4mm間隔で2mm幅、厚さ2μmに塗布し、パターン
電極を作製した。このパターン電極には、導電性微粒子
として、銀がエポキシ樹脂に含まれている。
【0103】次に、この素子に10Vの電圧を印加し
て、輝度を測定した。その結果、80cd/cm2であ
った。
て、輝度を測定した。その結果、80cd/cm2であ
った。
【0104】
【発明の効果】本発明により、ウエットプロセスで、低
抵抗の電極を形成することが可能となり、その結果、低
電圧駆動が可能で、コストが安価、作製が容易な有機E
L素子が提供される。
抵抗の電極を形成することが可能となり、その結果、低
電圧駆動が可能で、コストが安価、作製が容易な有機E
L素子が提供される。
【0105】有機発光層が陽極と陰極により挟持された
有機EL素子において、少なくとも一方の電極を、印刷
法により形成された少なくとも導電性微粒子を含有する
第1電極とメッキ法によって形成された第2電極との積
層構造とすることにより、低電圧駆動可能で生産性の高
い有機EL素子が得られる。
有機EL素子において、少なくとも一方の電極を、印刷
法により形成された少なくとも導電性微粒子を含有する
第1電極とメッキ法によって形成された第2電極との積
層構造とすることにより、低電圧駆動可能で生産性の高
い有機EL素子が得られる。
【0106】本発明の少なくとも1層の有機発光層を含
む有機EL媒体が、陽極と陰極により挟持された有機E
L素子において、少なくとも一方の電極が、印刷法によ
り形成される少なくとも導電性微粒子を含有する第1電
極とメッキ法によって形成された第2電極の積層構造で
あれば、低抵抗の電極をウエットプロセスで作製するこ
とが可能となる。
む有機EL媒体が、陽極と陰極により挟持された有機E
L素子において、少なくとも一方の電極が、印刷法によ
り形成される少なくとも導電性微粒子を含有する第1電
極とメッキ法によって形成された第2電極の積層構造で
あれば、低抵抗の電極をウエットプロセスで作製するこ
とが可能となる。
【0107】また、前記第1電極と第2電極の積層構造
を取る電極を陰極として用いる場合には、前記導電性微
粒子が、少なくとも1種類の4.0eV以下の仕事関数
を有する導電性微粒子であれば、電極から有機EL媒体
への電子の注入を向上させる事が可能となる。
を取る電極を陰極として用いる場合には、前記導電性微
粒子が、少なくとも1種類の4.0eV以下の仕事関数
を有する導電性微粒子であれば、電極から有機EL媒体
への電子の注入を向上させる事が可能となる。
【0108】また、前記第1電極と第2電極の積層構造
を取る電極を陽極として用いる場合には、前記導電性微
粒子が、少なくとも1種類の5.0eV以上の仕事関数
を有する導電性微粒子であれば、電極から有機EL媒体
への正孔の注入を向上させる事が可能となる。
を取る電極を陽極として用いる場合には、前記導電性微
粒子が、少なくとも1種類の5.0eV以上の仕事関数
を有する導電性微粒子であれば、電極から有機EL媒体
への正孔の注入を向上させる事が可能となる。
【図1】 本発明の素子の第1の実施態様を示す断面図
である。
である。
【図2】 本発明の素子の第2の実施態様を示す断面図
である。
である。
【図3】 本発明の素子の第3の実施態様を示す断面図
である。
である。
【図4】 本発明の素子の第4の実施態様を示す断面図
である。
である。
1 透明基板 2 陽極 3 正孔輸送層 4 有機発光層 5 電子輸送層 6 印刷法により形成された第1電極 7 メッキ法により形成された第2電極
Claims (4)
- 【請求項1】 陽極と、陰極と、該陽極および該陰極に
より挟持された有機EL媒体層とを有する有機EL素子
であって、 該有機EL媒体層は、有機発光層を含み、 該陽極および該陰極のうちの少なくとも一方の電極が、
印刷法により形成される導電性微粒子を含有する第1電
極とメッキ法によって形成された第2電極とが積層され
た構造を有する、有機EL素子。 - 【請求項2】 請求項1に記載の有機EL素子であっ
て、 前記陰極が前記第1電極と前記第2電極との積層構造か
らなり、 前記導電性微粒子が、4.0eV以下の仕事関数を有す
る、有機EL素子。 - 【請求項3】 請求項1に記載の有機EL素子であっ
て、 前記陽極が前記第1電極と前記第2電極との積層構造か
らなり、 前記導電性微粒子が、5.0eV以上の仕事関数を有す
る、有機EL素子。 - 【請求項4】 前記第2電極が、銅、ニッケル、亜鉛、
錫、金、または銀、あるいはそれらを含有する合金から
選択される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機
EL素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27345199A JP2001093673A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27345199A JP2001093673A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001093673A true JP2001093673A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17528106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27345199A Withdrawn JP2001093673A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001093673A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1999
- 1999-09-27 JP JP27345199A patent/JP2001093673A/ja not_active Withdrawn
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Date | Code | Title | Description |
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