JP2001093412A - 陰極線管およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】陰極線管の色選択電極のド−ミングを抑制する
電子ビ−ム反射膜形成工程を簡素化する。 【解決手段】蛍光面１４を有するパネル部１１と、電子
銃１９を収容するネック部１２と、このネック部１２と
前記パネル部１１を連接するファンネル部１３とからな
る外囲器と、この外囲器内で前記蛍光面１４に近接して
配置された色選択電極１５と、この色選択電極１５を保
持するマスクフレ−ム１６と、前記外囲器内にゲッタ−
膜を形成するゲッタ−構造体ＧＡを備えると共に、色選
択電極１５の表面１５ｂに電子ビ−ム反射膜１５ａを形
成する為の蒸発源を含む反射膜形成用構造体２０を予め
外囲器内に組み込み、真空排気後、外部より加熱して上
記蒸発源を蒸発させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー受像管、カ
ラーディスプレー管などの陰極線管に係り、特にシャド
ウマスクのような色選択電極の表面に電子ビ−ム反射膜
を形成して所謂ドーミング（以下、マスクド−ミング）
の発生を防止した陰極線管及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の陰極線管、例えばＯＡ機器端末
用モニタに用いられるカラ−ディスプレー管は一般に３
色の蛍光体絵素を塗布した蛍光面及びこの蛍光面に近接
して対向配置された色選択電極であるシャドウマスクを
有するパネル部と、電子銃を収容するネック部、および
上記パネル部とネック部を連接するファンネル部とから
なる外囲器を有し、更に管内真空度を維持するためにゲ
ッタ−組立体を例えば前記電子銃に固定している。

【０００３】上記した陰極線管に用いられる電子銃は、
３本の電子ビ−ムを水平方向に発生する為の陰極と、こ
の陰極に連なる複数個の電極を有し、前記電子ビ−ムは
その進行方向に沿って形成される主電子レンズを通り、
所要の加速、集束を受けて蛍光面方向に出射する。一
方、前記蛍光面は、ドットあるいはストライプの形状か
らなる３色の蛍光体絵素が一定の配列ピッチで配置され
て構成されている。

【０００４】この様な陰極線管において、長寿命を確保
するためには長時間に亘り高真空度を保持し、電子銃の
陰極からの電子放射能力を高い状態で長時間維持するこ
とが必要であり、陰極線管の管球内の真空度を高真空と
することは必須の技術である。

【０００５】このため、陰極線管はその製造工程中、前
記ネック部の排気用細管を介して管球内を高真空に排気
した後、前記排気用細管を封緘して密封し、その後管球
内に組み込んであったゲッタ−構造体のゲッタ−材を飛
散させている。

【０００６】このゲッタ−材としては、通常バリウムゲ
ッタ−が用いられ、バリウムを管球内で蒸発、飛散させ
てゲッタ−作用を実現させており、管球内に構成された
バリウム蒸着膜により管球内を１０^-7ｔｏｒｒ程度の高
真空に保持している。

【０００７】一方、この様な陰極線管では、電子銃から
でた電子ビ−ムは前記シャドウマスクに設けられた多数
の電子ビ−ム通過孔を通して蛍光面に達し、所定の蛍光
体絵素を発光させ、管球として所要のカラ−画像を表示
している。

【０００８】しかしながら、この様な陰極線管では前記
シャドウマスクの電子ビ−ム透過率は通常１０乃至２０
％程度であり、通過出来ない電子ビ−ムは前記シャドウ
マスク内を電流として流れ、この電流によるジュ−ル熱
で前記シャドウマスクが熱膨張して、前記蛍光体絵素と
電子ビ−ムスポットとの位置関係が若干変化し、電子ビ
−ムにランディングエラ−が発生する。

【０００９】この様なランディングエラ−は、表示画像
に色ずれを生じさせるもので、この様な現象をマスクド
−ミングと呼んでいる。カラ−陰極線管にマスクド−ミ
ングが生じると、その表示画像の色純度及び白色均一性
が大幅に劣化する。

【００１０】このマスクド−ミングの抑圧手段として
は、シャドウマスクを熱膨張率の低い金属、例えばアン
バ−合金で構成し、かつシャドウマスクの電子ビ−ム衝
突面に電子ビ−ム反射膜、例えば酸化ビスマス膜を形成
してシャドウマスクに入力される電子ビ−ムエネルギ−
を減少させ、もって、シャドウマスクの熱膨張を抑圧
し、マスクド−ミング量を減少させるものである。

【００１１】この場合、シャドウマスクに電子ビ−ム反
射膜を形成する方法としては、 （１）電子ビ−ム衝突面に電子ビ−ム反射膜を形成する
為のシャドウマスク単体と、前記電子ビ−ム反射膜を形
成する為の蒸発源を含む反射膜形成用構造体の両者を、
別に設けた真空装置内の所定の位置にそれぞれセット
し、前記真空装置内を所定の真空度迄排気した後、前記
蒸発源を含む反射膜形成用構造体を加熱して前記蒸発源
の例えば酸化ビスマスを加熱、蒸発させてシャドウマス
クに電子ビ−ム反射膜を形成する方法。

【００１２】（２）電子ビ−ム反射膜を形成する物質の
懸濁液を用い、これをスプレ−または刷毛塗りによりシ
ャドウマスク表面に被着し、乾燥させて電子ビ−ム反射
膜を形成する方法。

【００１３】等が提案されている。これらは例えば特開
平９−１４７７５８号公報に開示されている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法は、何れも以下に述べるような種々の問題
を有している。

【００１５】まず、前者のシャドウマスク単体を別に設
けた真空装置内にセットして電子ビ−ム反射膜を形成す
る方法は、全く新しい工程が増加すること、シャドウマ
スクを単体で取り扱うためシャドウマスクに変形が発生
する恐れがあること、パネル部とシャドウマスクとの脱
着作業を要し、作業工程及びシャドウマスク変形発生要
因の増加、更には蒸着用専用装置の設置等種々の問題が
あり、加えて工程増加による作業歩留まりの低下は否め
ず陰極線管のコストアップ要因と、信頼性の点で問題と
なる。

【００１６】また、後者のスプレ−、刷毛塗り等の塗布
による電子ビ−ム反射膜形成方法では、前述の前者の問
題点の他に、電子ビ−ム通過孔の形状に不都合が生じ、
ハレ−ションの増加やマスクパタ−ンの忠実度が低下す
ると共に、表示画面の色純度及び白色均一性を劣化させ
る問題がある。

【００１７】本発明の目的は、上記従来技術の諸欠点を
解消し、低コストで、かつ高信頼性の陰極線管及びその
製造方法を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の典型的な構成を記述すれば次の通りであ
る。すなわち、 （１）蛍光面を有するパネル部と、電子銃を収容するネ
ック部と、このネック部と前記パネル部を連接するファ
ンネル部とからなる外囲器と、この外囲器内で前記蛍光
面に近接して配置された色選択電極と、この色選択電極
を保持するマスクフレ−ムと、前記外囲器内にゲッタ−
膜を形成するゲッタ−構造体を備えた陰極線管であっ
て、前記色選択電極の表面に電子ビ−ム反射膜を形成す
る為の蒸発源を含む反射膜形成用構造体を前記外囲器内
に備えた。

【００１９】（２）前記電子ビ−ム反射膜は酸化ビスマ
スとした。

【００２０】（３）前記反射膜形成用構造体を前記マス
クフレ−ムに固定した。

【００２１】（４）前記反射膜形成用構造体を前記ファ
ンネル部に固定した。

【００２２】（５）前記反射膜形成用構造体を前記ゲッ
タ−構造体から離隔して配置した。

【００２３】（６）蛍光面を有するパネル部と、電子銃
を収容するネック部と、このネック部と前記パネル部を
連接するファンネル部とからなる外囲器と、この外囲器
内で前記蛍光面に近接して配置された色選択電極と、こ
の色選択電極を保持するマスクフレ−ムと、前記外囲器
内にゲッタ−膜を形成するゲッタ−構造体を備えた陰極
線管の製造方法であって、前記外囲器内を排気した後、
前記外囲器内に配置された前記色選択電極の表面に電子
ビ−ム反射膜を形成する為の蒸発源を含む反射膜形成用
構造体を加熱して前記色選択電極表面に電子ビ−ム反射
膜を形成した後、ゲッタ−構造体を加熱して前記ゲッタ
−膜を形成することとした。

【００２４】上記（１）乃至（６）の構成とすることに
より、電子ビ−ム反射膜の形成が、予め外囲器内に配置
された蒸発源を含む反射膜形成用構造体を加熱すること
で達成できるため、本来の目的であるマスクド−ミング
の抑圧の効果が得られることは勿論のこと、シャドウマ
スク単体を対象とした蒸着の為の特別な作業工程の増加
及び専用装置の設置も不要であり、またシャドウマスク
変形要因も増加せず、更に表示画面の色純度及び白色均
一性の確保が可能となり、低コストで、かつ高信頼性の
陰極線管を得る事が出来る。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき、
実施例の図面を参照して詳細に説明する。

【００２６】図１は本発明の一実施例を示すシャドウマ
スク形カラ−陰極線管の全体構造例を説明するための断
面図である。図１において、符号１１はパネル部、符号
１２はネック部、符号１３はファンネル部、符号１４は
蛍光面、符号１５は多数の電子ビーム通過孔を有するシ
ャドウマスク、符号１６はマスクフレーム、符号１７は
磁気シールド、符号１８はシャドウマスク懸架機構、符
号１９は３本の電子ビームＢｃ（センター電子ビー
ム），Ｂｓ（２本のサイド電子ビーム）を発射する電子
銃、符号ＧＡはゲッタ−構造体で、このゲッタ−構造体
ＧＡはその一端側を、前記シャドウマスク１５とマスク
フレーム１６及び磁気シールド１７からなるシャドウマ
スク構造体ＳＡのマスクフレーム１６に固定している。
符号１５ａは電子ビ−ム反射膜で、この電子ビ−ム反射
膜１５ａはシャドウマスク１５の電子ビームＢｃ、Ｂｓ
が衝突する面１５ｂに厚さ１μｍ未満、好ましくは０．
６μｍ以下で形成されている。この膜厚が厚くなると電
子ビ−ム通過孔の形状に問題が生じる恐れがでてくる。
符号２０は前記電子ビ−ム反射膜１５ａを形成するため
の蒸発源を含む反射膜形成用構造体で、この反射膜形成
用構造体２０は前記ゲッタ−構造体ＧＡと管軸を挾んだ
反対側の位置で前記マスクフレーム１６に固定されてい
る。ＤＹは電子ビームを水平と垂直に偏向する偏向ヨー
ク、ＭＡはピュリティ補正等の外部磁気装置、ＡＢはア
ノ−ドボタンである。

【００２７】同図において、蛍光面１４を内面に有する
パネル部１１と、ファンネル部１３とは、パネル部１１
とファンネル部１３で形成されるバルブ内部にシャドウ
マスク構造体ＳＡをシャドウマスク懸架機構１８で装架
し、パネル部１１と、ファンネル部１３とをフリットガ
ラスで溶着固定し、ネック部１２に電子銃１９を封入し
て真空封止する。

【００２８】電子銃１９から発射された電子ビームＢ
ｃ、Ｂｓはネック部１２とファンネル部１３の遷移部分
に装着された偏向ヨークＤＹで水平と垂直の２方向に偏
向を受け、色選択機構であるシャドウマスク１５の電子
ビーム通過孔を通して蛍光面１４を構成する所定色の蛍
光体絵素に射突することにより画像を形成する。

【００２９】図２は、図１に示す本発明のシャドウマス
ク形カラ−陰極線管の要部を拡大して示す一部断面図で
あり、図１と同じ部分には同一符号を付してある。

【００３０】図２において、反射膜形成用構造体２０は
サポ−トスプリング２１の一端側をマスクフレーム１６
に固定スプリング２２で固定し、他端側をファンネル部
１３の内壁に沿ってネック部１２側へ延長しその先端部
に電子ビ−ム反射材を収容したコンテナ２３を保持して
いる。このコンテナ２３はその開口を電子ビ−ム反射材
飛散方向がシャドウマスク１５方向を向くようにして前
記サポ−トスプリング２１に固定されている。一方、コ
ンテナ２３の裏側には支持片２４が取り付けられてお
り、反射膜形成用構造体２０とファンネル部１３の内壁
との緩衝作用及びバルブクラック防止の効果を備えてい
る。符号２５は電子ビ−ム反射材飛散用として用いられ
る高周波加熱コイルで、これは陰極線管の製造装置の一
部を構成しており、加熱されるべき陰極線管が搬送され
て所定のポジションに来たとき、コンテナ２３とほぼ同
心でファンネル部１３の外壁に近接して配置され、高周
波により前記コンテナ２３を加熱して電子ビ−ム反射材
を飛散させる。

【００３１】図３は、前記図１及び図２に示す反射膜形
成用構造体２０の一例の詳細図で、（ａ）は平面図、
（ｂ）は正面図であり、図１及び図２と同じ部分には同
一符号を付してある。

【００３２】図３（ａ）、（ｂ）においてサポ−トスプ
リング２１は、その他端側に電子ビ−ム反射材３１を収
容したコンテナ２３を支持バ−３２を利用して固定し、
その裏側に支持片２４を取り付けている。一方これとは
反対側の一端側には前記マスクフレーム１６に穿孔され
たとほぼ同じ寸法、形状の角孔３３が設けられており、
又前記マスクフレーム１６との位置決め用の切り起し部
３４が設けられている。更にこのサポ−トスプリング２
１は補強用として複数個の補強突起３５、３６を備えて
いる。そして、前記角孔３３と前記マスクフレーム１６
に穿孔された孔との位置決めを行ない、図２に示すよう
に固定スプリング２２を両者を挿通して固定する。さら
に、この場合磁気シールド１７も同時に挾持する事も可
能である。

【００３３】次に、図４は本発明のシャドウマスク形カ
ラ−陰極線管の他の例の要部を拡大して示す一部断面図
であり、図１乃至図３と同じ部分には同一符号を付して
ある。

【００３４】図４において、反射膜形成用構造体４０は
ファンネル部１３に封着されたアノ−ドボタン４１にサ
ポ−トスプリング４２の一端側を固定し、他端側はファ
ンネル部１３の内壁に沿ってネック部１２側へ延長しそ
の先端部に電子ビ−ム反射材３１を収容したコンテナ２
３を保持している。一方、図示しないがゲッタ−構造体
ＧＡは管軸ＣＬを挾んだ反対側の位置で前記マスクフレ
ーム１６に固定されている。

【００３５】図５は、前記図４に示す反射膜形成用構造
体４０の一例の詳細図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は側
面図であり、図１乃至図４と同じ部分には同一符号を付
してある。

【００３６】図５（ａ）、（ｂ）においてサポ−トスプ
リング４２は、その他端側に電子ビ−ム反射材３１を収
容したコンテナ２３を支持バ−３２を利用して固定し、
その裏側に支持片２４を取り付けている。一方これとは
反対側の一端側には前記アノ−ドボタン４１に嵌合する
孔５１が設けられており、しかも孔５１は嵌合するアノ
−ドボタン４１よりやや小径で、かつその周辺に４個の
切り込み５２を有している。このサポ−トスプリング４
２は前述のサポ−トスプリング２１と同様にコンテナ２
３、６３とは異なる材質の金属材で構成するのが望まし
い。

【００３７】更に、図６（ａ）（ｂ）は本発明の陰極線
管に用いられる一例の反射膜形成用構造体のコンテナと
それに収容された電子ビ−ム反射材とを示す平面図及び
Ａ−Ａ断面図である。 図６（ａ）（ｂ）において、コ
ンテナ６３は、リング状の収容部６３ａを備えており、
リングの内径に相当する中央底部６３ｂは底部６３ｃを
基点に外壁６３ｄと略平行に開口端６３ｅ側へ伸びて先
端は閉止されている。フランジ６３ｆは前記外壁６３ｄ
の先端で外方に伸びている。電子ビ−ム反射材６４は前
記収容部６３ａに厚さＴの寸法で充填されている。符号
Ｂはフランジ６３ｆの外径、Ｃは外壁６３ｄのコンテナ
外径、Ｄは中央底部６３ｂのコンテナ内径、Ｈはコンテ
ナ高さをそれぞれ示している。

【００３８】上記コンテナ２３、６３は、白金（Ｐｔ）
又は白金（Ｐｔ）合金製、好ましくはイリジウム（Ｉ
ｒ）−白金（Ｐｔ）合金材から形成されており、その板
厚は０．１〜０．３ｍｍが良好で、０．１ｍｍ未満では
流通時に変形の恐れがあり、又０．３ｍｍを越えると昇
温に時間を要し実用性に欠ける恐れがある。又、充填さ
れる電子ビ−ム反射材は、好ましくは酸化ビスマス（Ｂ
ｉ₂ Ｏ₃ ）粉末を高密度プレスしコンテナ内にプレス圧
入したものである。電子ビ−ム反射材の充填量は、被着
されるシャドウマスクの面積及び陰極線管の動作電圧等
から要求される被着厚さ等を基に設定する。更に、コン
テナの高さＨは、コンテナ内外径Ｄ、Ｃ及び厚さＴ等か
ら設定されるもので、略２〜７ｍｍとすればよく、又前
記コンテナ内外径Ｄ、Ｃ及び厚さＴの例としては、Ｄ：
７ｍｍ、Ｃ：２０ｍｍ、Ｔ：１ｍｍが用いられる。

【００３９】ここで、上述の実施例では反射膜形成用構
造体を、マスクフレ−ム及びファンネル部にそれぞれ固
定し、電子ビ−ムの偏向磁界を乱し画像表示を劣下させ
る事を防止したが、例えば電子銃の蛍光面側の先端に固
定しても良いことは勿論である。又、電子ビ−ム反射材
としては、前記酸化ビスマスの他に例えば原子番号７２
以上の重金属又はその酸化物が、更にコンテナ材として
は白金単体、白金と他の金属、例えばオスミウム（Ｏ
ｓ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニ
ウム（Ｒｕ）等の一種又は複数種を含んだ白金合金でも
よい。

【００４０】次に、本発明の陰極線管の製造方法につい
て前述した図１乃至図４を参照して説明する。

【００４１】先ず、図１に示すシャドウマスク形カラ−
陰極線管の製造方法について説明すると、蛍光面１４を
有するファンネル部１１内に、シャドウマスク構造体Ｓ
Ａをシャドウマスク懸架機構１８により組み込む。次
に、ゲッタ−構造体ＧＡ及び反射膜形成用構造体２０を
それぞれ固定スプリング２２でマスクフレ−ム１６の図
示の位置に固定する。それ以降の工程は従来と同様にフ
リットシ−ル、電子銃の封止を行なった後、ネック部の
排気用細管を介して管球内を高真空に排気し、前記排気
用細管を封緘して密封する。

【００４２】続いて、図２の符号２５で示す様な外径約
６０ｍｍの高周波加熱コイルを有する高周波加熱設備を
使用し、３００ｋＨｚの高周波で反射膜形成用構造体２
０を誘導加熱する。コンテナに収容された電子ビ−ム反
射材を高周波で加熱すると、前記コンテナの底面に渦電
流が生じ、これにより電子ビ−ム反射材が加熱され、こ
の電子ビ−ム反射材を蒸発飛散させてシャドウマスク１
５の電子ビ−ムが衝突する面１５ｂに電子ビ−ム反射膜
１５ａを形成する。

【００４３】この形成時、飛散した電子ビ−ム反射材は
他の例えば磁気シ−ルド１７やマスクフレ−ム１６等に
は被着させず、シャドウマスク１５のみに被着させるよ
うに指向性を持たせることが望ましい。その後管球内に
組み込んであったゲッタ−構造体ＧＡのゲッタ−材を前
述と同様に高周波加熱コイルを有する高周波加熱設備を
使用して誘導加熱により飛散させて陰極線管を製造す
る。

【００４４】ここで、上述の例では電子ビ−ム反射膜
を、管球内を排気し排気用細管を封緘して密封した後に
被着形成したが、管球内を所定の高真空に排気した後、
排気用細管を封緘する以前に電子ビ−ム反射膜を被着形
成し、その後再度管球内を排気した後、排気用細管を封
緘して密封し、その後にゲッタ−を飛散させても良い。
この工程を採れば、完成した後の管球内の真空度を一層
高めることができる。

【００４５】この電子ビ−ム反射材の加熱時、電子ビ−
ム反射材が全面均一に昇温すれば形成される膜も均質、
均等なものとなるが、局部的に温度差が発生すると、電
子ビ−ム反射材が突沸する恐れがあり、従ってコンテナ
の底面が均一に発熱して所望の飛散を得るには、発明者
等の実験によればコンテナの底面面積に対し、電子ビ−
ム反射材の充填量を膜厚１μｍ未満を基に適切に選ぶこ
とが重要であることが確認できた。これにより、飛散し
た電子ビ−ム反射材の塊による電子ビ−ム通過孔の目詰
まりや塊の欠落が発生し難く、高信頼性の陰極線管を可
能にできるものである。

【００４６】上記実施例では、所謂湾曲面をもつ形式の
色選択電極における電子ビームの射突による温度上昇で
生じるドーミング（マスクドーミング）を抑制するため
の電子反射層の形成にかかるものとしてあるが、本発明
はこれに限らず、例えば１方向または２方向に張力を印
加して装架する形式の色選択電極における電子ビームの
射突による温度上昇で発生する電子ビーム通過孔の位置
ずれ等の不具合を抑制するための電子反射層の形成にも
同様に適用できる。

【００４７】本発明は、上記の実施例に限定されるもの
ではなく、特許請求の範囲に記載した本発明の思想を逸
脱しない範囲で種々の変更が可能である。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に依れば、
色選択電極の電子ビ−ム反射膜の形成が、予め外囲器内
に配置された蒸発源を含む反射膜形成用構造体を加熱す
ることで達成できるため、本来の目的であるマスクド−
ミングの抑圧の効果が得られることは勿論のこと、色選
択電極単体を対象とした蒸着の為の特別な作業工程の増
加及び専用装置の設置も不要であり、また色選択電極の
変形要因も増加せず、更に色選択電極の表面及び電子ビ
−ム通過孔の形状劣化も生じないことから蛍光体絵素の
形状劣化も無く、従って表示画面の色純度及び白色均一
性の確保が可能となり、更に低コストで、しかも高信頼
性が高く優れた特性を持つ陰極線管を提供することが出
来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示すシャドウマスク形カラ
−陰極線管の全体構造例を説明するための断面図であ
る。

【図２】図１に示す本発明のシャドウマスク形カラ−陰
極線管の要部を拡大して示す一部断面図である。

【図３】図３（ａ）、（ｂ）は図１及び図２に示すゲッ
タ−構造体２０の一例の詳細を示す平面図及び正面図で
ある。

【図４】図４は本発明のシャドウマスク形カラ−陰極線
管の他の例の要部を拡大して示す一部断面図である。

【図５】図５（ａ）、（ｂ）は図４に示すゲッタ−構造
体４０の一例の詳細を示す平面図及び側面図である。

【図６】図６（ａ）、（ｂ）は本発明の陰極線管に用い
られる一例の反射膜形成用構造体のコンテナとそれに収
容された電子ビ−ム反射材とを示す平面図及びＡ−Ａ断
面図である。

【符号の説明】

１１：パネル部、１２：ネック部、１３：ファンネル
部、１４：蛍光面、１５：シャドウマスク、１５ａ：電
子ビ−ム反射膜、１９：電子銃、２０、４０：反射膜形
成用構造体、２１、４２：サポ−トスプリング、２３、
６３：コンテナ、３１、６４：電子ビ−ム反射材。

フロントページの続き (72)発明者 成田 勝壽 千葉県佐倉市太田字新開2306番地 日立千 葉エレクトロニクス株式会社内 Ｆターム(参考） 5C012 AA02 5C027 HH25 5C032 JJ02 JJ07

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】蛍光面を有するパネル部と、電子銃を収容
   するネック部と、このネック部と前記パネル部を連接す
   るファンネル部とからなる外囲器と、この外囲器内で前
   記蛍光面に近接して配置された色選択電極と、この色選
   択電極を保持するマスクフレ−ムと、前記外囲器内にゲ
   ッタ−膜を形成するゲッタ−構造体を備えた陰極線管で
   あって、 前記色選択電極の表面に電子ビ−ム反射膜を形成する為
   の蒸発源を含む反射膜形成用構造体を前記外囲器内に備
   えたことを特徴とする陰極線管。
2. 【請求項２】前記電子ビ−ム反射膜は酸化ビスマスであ
   ることを特徴とする請求項１に記載の陰極線管。
3. 【請求項３】前記反射膜形成用構造体を前記マスクフレ
   −ムに固定したことを特徴とする請求項１または２の何
   れかに記載の陰極線管。
4. 【請求項４】前記反射膜形成用構造体を前記ファンネル
   部に固定したことを特徴とする請求項１または２の何れ
   かに記載の陰極線管。
5. 【請求項５】前記反射膜形成用構造体を前記ゲッタ−構
   造体から離隔して配置したことを特徴とする請求項１な
   いし４の何れかに記載の陰極線管。
6. 【請求項６】蛍光面を有するパネル部と、電子銃を収容
   するネック部と、このネック部と前記パネル部を連接す
   るファンネル部とからなる外囲器と、この外囲器内で前
   記蛍光面に近接して配置された色選択電極と、この色選
   択電極を保持するマスクフレ−ムと、前記外囲器内にゲ
   ッタ−膜を形成するゲッタ−構造体を備えた陰極線管の
   製造方法であって、 前記外囲器内を排気した後、前記外囲器内に配置された
   前記色選択電極の表面に電子ビ−ム反射膜を形成する為
   の蒸発源を含む反射膜形成用構造体を加熱して前記色選
   択電極表面に電子ビ−ム反射膜を形成した後、ゲッタ−
   構造体を加熱して前記ゲッタ−膜を形成することを特徴
   とする陰極線管の製造方法。