JP2001066934A - 加熱装置及び画像形成装置 - Google Patents

加熱装置及び画像形成装置

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JP2001066934A
JP2001066934A JP24098199A JP24098199A JP2001066934A JP 2001066934 A JP2001066934 A JP 2001066934A JP 24098199 A JP24098199 A JP 24098199A JP 24098199 A JP24098199 A JP 24098199A JP 2001066934 A JP2001066934 A JP 2001066934A
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heating device
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Takeo Tsunemi
常見  健夫
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 特別なヒータへの印加バイアスコントローラ
を必要とせず、安価でかつリップルのほとんど無い安定
した、装置内又は像担持体、若しくは光学系などの装置
内の部材の加熱を行なうことが可能な加熱装置及び画像
形成装置を提供する。 【解決手段】 潜像を担持する感光ドラム1を備える画
像形成装置内を加熱する加熱装置として、感光ドラム1
の内部に設けられたドラムヒータ13を備え、このドラ
ムヒータ13がPositive Temperature Coefficient抵
抗素子を用いていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、加熱装置及び画像
形成装置に関し、特に好適には、像担持体を備える電子
写真方式の画像形成装置及びこのような画像形成装置に
用いられる加熱装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、画像形成装置は広く用いられてい
るが、まず、一例として図6の概略断面図をもとにその
動作概略を説明する。図6に、本発明及び従来の画像形
成装置の概略断面図を示す。
【0003】図6において、1は像担持体としての感光
ドラム1であって、この感光ドラム1の表面は一次コロ
ナ帯電器2によって一様に例えば−700Vに帯電され
る。その後、原稿に対応した画像露光であるレーザ露光
3が感光ドラム1上に照射されて感光ドラム1上に静電
潜像が形成される。
【0004】次いで現像装置4によって上記静電潜像が
現像されてトナー像として顕像化され、このトナー像
は、レジストローラ対22により所定のタイミングで給
送される転写材Pに、感光ドラム1に対向配置された転
写帯電器8によって転写される。
【0005】そして、トナー像の転写を受けた転写材P
は分離帯電器9によって感光ドラム1から分離された
後、定着装置10に搬送され、定着装置10でトナー像
の定着を受けることによって最終画像が得られる。
【0006】なお、感光ドラム1上に残留した転写残ト
ナーはドラムクリーニング装置11により除去され、更
に前露光ランプ12による光照射によって残留電位が除
電されて次の画像形成に備えられる。
【0007】なお、転写材Pは本例では3つの収納部
(カセット)24,25及び26より選択されて給送さ
れる。手差しトレイ23は最小給紙サイズのものから最
大給紙サイズの間の任意のサイズの転写材が収納及び給
紙できるようになっている。
【0008】従来、上記のような画像形成装置において
は、例えば、冬などの低温環境に電源オフの状態で一晩
以上放置された画像形成装置内部の部品は冷えきってい
るため、電源オンにした直後は、感光ドラムやミラーや
レンズ等が結露することがある。
【0009】この結果、ミラーやレンズ等において乱反
射及び複屈折などが起こって画像露光に異常をきたして
感光ドラム上の静電潜像が正しく形成されなかったり、
また、たとえ画像露光が正しく照射されたとしても感光
ドラム表面が結露しているとやはり静電潜像が正しく形
成されず最終的に得られる画像がぼやけたものになって
しまうという現象が生じる。
【0010】また、これとは別に帯電露光現像、転写及
びクリーニングといった画像形成プロセスを長期間反復
することによって感光体表面は、湿度に敏感になり、水
分を表面に吸着しやすくなる。その結果、表面抵抗が下
がるために表面電荷が横方向に移動することによって画
像がぼやけるといういわゆる画像流れという問題を引き
起こしてしまう。
【0011】この現象は特に湿度の高い時に顕著に表わ
れる。この理由として、一次帯電器や転写・分離帯電
器、あるいは現像〜転写間や、転写・分離〜クリーナ間
に主に現像剤の帯電を補助するために用いられる補助帯
電器などに用いられるコロナ放電器により生じたオゾン
やオゾン生成物が、感光体表面に付着したり現像剤に含
まれる樹脂や添加物又は転写紙に含まれる添加剤等が付
着し、これが水分を付着するものと考えられている。
【0012】そこで、従来技術では、上記不具合を回避
すべく、光学系近傍や感光ドラム内部や近傍にヒータを
設けて加熱することにより、上記各種付着物の水分吸着
を抑制し、画像流れの発生を防止する方策がとられてい
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来技術
では、通常感光ドラム内部や近傍に設けられた温度セン
サの出力に基づいて電熱線などのヒータへの印加バイア
スをコントロールするヒータバイアスコントローラがヒ
ータへの印加バイアスをオン・オフ制御して感光ドラム
表面温度が常に一定範囲にあるようにしている。
【0014】しかしながら、印加バイアスをオン・オフ
制御しているために制御温度にリップルが生じ、そのた
め感光体の感度や帯電電位が変化して、画像毎にその濃
度にムラが生じるという欠点があった。
【0015】また、温度センサや印加バイアスコントロ
ーラを必要とするために、装置全体のコストアップ及び
装置の大型化という問題も生ずる。
【0016】制御バイアスのリップルを小さくするた
め、オン・オフ制御ではなく、印加バイアス値を連続
的、若しくは段階的に制御することも技術的には可能で
あるが、印加バイアスコントローラ、高圧電源の複雑
化、大型化及びコストアップという問題を招いてしま
う。
【0017】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、特別なヒータへの印加バイアスコントローラを必要
とせず、安価でかつリップルのほとんど無い安定した、
装置内又は像担持体、若しくは光学系などの装置内の部
材の加熱を行なうことが可能な加熱装置及び画像形成装
置を提供することを目的とする。
【0018】また、画像形成装置本体の電源スイッチを
オンにした場合、若しくはスタンバイモード、予熱モー
ド等複数のモードを有して、動作モードが切り替わった
場合にも、制御温度のリップルがほとんど無く、かつ所
定時間内に光学系や感光ドラム等を速やかに所定温度に
到達させることが可能な加熱装置及び画像形成装置を提
供することを目的とする。
【0019】また、画像形成装置本体内、若しくは周囲
環境が画像流れ等の発生しやすい状況にある時において
のみ、画像形成装置本体の電源スイッチをオンにした
時、若しくはスタンバイモード、予熱モード等複数のモ
ードを有する場合に動作モードが切り替わった時に、制
御温度のリップルがほとんど無く常に画像流れ等を発生
させないように速やかに所定温度に光学系や感光ドラム
等を到達させることにより、必要以上に印加バイアスを
大きくして、もれ電流や放射ノイズ等の弊害や、制御温
度のリップル及びヒータの耐久寿命を低下させることの
ないようにすることが可能な加熱装置及び画像形成装置
を提供することを目的とする。
【0020】さらに、画像形成装置本体の連続動作時等
に装置本体の発する熱による昇温が起こる場合に、必要
以上に温度が上がるのを防止するように加熱装置の発熱
量を制御することが可能な加熱装置及び画像形成装置を
提供することを目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る加熱装置は、潜像を担持する像担持体
を備える画像形成装置内を加熱する加熱装置において、
該加熱装置がPositiveTemperature Coefficient抵抗素
子を用いていることを特徴とする。
【0022】また、前記加熱装置が、前記像担持体の近
傍に配置され、該像担持体の加熱をも行なうことを特徴
とする。
【0023】また、前記画像形成装置が、前記像担持体
を照射する光を導く、少なくとも1以上のレンズにより
構成される光学系を備え、前記加熱装置が、前記光学系
の近傍に配置され、該光学系の加熱をも行なうことを特
徴とする。
【0024】また、前記画像形成装置本体の電源スイッ
チをオンにした後の所定時間、前記Positive Temperat
ure Coefficient抵抗素子への印加バイアスを大きくす
ることを特徴とする。
【0025】また、前記画像形成装置が備える、スタン
バイモード、若しくは予熱モードその他の動作モードが
切り換えられた後の所定時間、前記Positive Temperat
ureCoefficient抵抗素子への印加バイアスを大きくする
ことを特徴とする。
【0026】また、前記画像形成装置内の温度、前記画
像形成装置内の湿度、前記像担持体の表面温度及び前記
像担持体を照射する光を導く、少なくとも1以上のレン
ズにより構成される光学系の温度うちの少なくとも1つ
を検知する環境センサを備え、該環境センサにより検知
された値が所定の値の範囲内である場合であり、かつ、
前記画像形成装置本体の電源スイッチをオンにした際
に、所定の時間、前記Positive Temperature Coeffic
ient抵抗素子への印加バイアスの大きさを制御すること
を特徴とする。
【0027】また、前記画像形成装置内の温度、前記画
像形成装置内の湿度、前記像担持体の表面温度及び前記
像担持体を照射する光を導く、少なくとも1以上のレン
ズにより構成される光学系の温度うちの少なくとも1つ
を検知する環境センサを備え、該環境センサにより検知
された値が所定の値の範囲内である場合であり、かつ、
前記画像形成装置が備える、スタンバイモード、若しく
は予熱モードその他の動作モードが切り換えられた際
に、所定の時間、前記Positive Temperature Coeffic
ient抵抗素子への印加バイアスの大きさを制御すること
を特徴とする。
【0028】また、前記画像形成装置内の温度、前記像
担持体の表面温度及び前記像担持体を照射する光を導
く、少なくとも1以上のレンズにより構成される光学系
の温度うちの少なくとも1つを検知する温度センサを備
え、前記画像形成装置が動作中である場合に、前記温度
センサの検知結果に基づいて、前記Positive Temperat
ure Coefficient抵抗素子への印加バイアスの大きさを
制御することを特徴とする。
【0029】また、前記Positive Temperature Coeff
icient抵抗素子が、BaTiO3(チタン酸バリウム)
を用いて形成されていることを特徴とする。
【0030】また、前記Positive Temperature Coeff
icient抵抗素子が、V23(三酸化バナジウム)を用い
て形成されていることを特徴とする。
【0031】さらに、本発明に係る画像形成装置は、前
記像担持体を備え、上記加熱装置により加熱されること
を特徴とする。
【0032】したがって、本発明によれば、上記構成に
おいて加熱装置としてPositive Temperature Coeffic
ient抵抗素子(以下、PTC抵抗素子ともいう。)を使
用している。PTC抵抗素子は、上記のようにPosi
tive Temperature Coeffici
entの略で名前の示すとおりに温度上昇に伴って電気
抵抗が増大するが、特に電気抵抗の変化の再現性が良
く、かつ温度係数の大きいものがヒータ材料として用い
られており、現在大きなPTC効果をもつものとしては
BaTiO3(チタン酸バリウム)やV23(三酸化パ
ナジウム)等のセラミックスが知られている。
【0033】また、最近PTC材料粉末を他の材料と混
ぜてペースト状にした後、樹脂シート等にプリントして
作る面状ヒータとしてのPTCヒータも実用化されてい
る。
【0034】PTCヒータは、キューリー温度付近で電
気抵抗率が急変し、この温度以上になると、自己加熱に
よって電気抵抗が急増し電流が急減する。この結果、P
TCヒータの温度はキューリー温度よりわずかに高いと
ころで一定となる。
【0035】したがって、加熱装置のための温度センサ
や印加バイアスコントローラを必要とせず、制御温度リ
ップルのほとんど無い安定した、装置内、若しくは像担
持体や光学系などの部材の加熱が可能となる。
【0036】一方、上述したようにPTC抵抗素子をヒ
ータとして使うことによって種々のメリットを有する加
熱が可能になるものの、PTC抵抗素子から感光ドラム
などの被加熱体への熱伝導が悪い場合にはPTC抵抗素
子は所定温度に比較的早く到達してしまうためにPTC
抵抗素子への電力入力も小さくなってしまうので、ます
ます被加熱体の温度上昇に時間がかかってしまう。
【0037】画像形成装置におけるヒータの効果は前述
したように、特に、電源スイッチ投入直後、若しくは動
作モードへの移行直後が重要であるため、温度立ち上が
りが遅いことは大きな問題点となり得る。
【0038】しかしながら、PTC抵抗素子の形状、画
像形成装置の構成上の制約のもとに、PTC抵抗素子と
被加熱体との絶縁性確保及び良好な熱伝導性の確保を両
立させることは困難なことが多い。
【0039】そこで、本発明によれば、上記構成のよう
に、電源スイッチ投入後、若しくは動作モードへの移行
後の所定時間は印加バイアスを大きくすることによって
温度立ち上がりを早くすることができる。
【0040】一方、上述したように、画像形成装置の電
源スイッチをオンした時、若しくは動作モードが切り替
えられた直後に印加バイアスを大きくすることによっ
て、被加熱体の温度立ち上がりは向上するものの、印加
バイアスアップによる弊害、例えば、PTC抵抗素子
からの装置本体へのもれ電流の発生、電圧切替時の電
気ノイズによる画像処理系や制御系への障害、PTC
抵抗素子自体の物性変化による制御温度の耐久変動が比
較的大きくなりやすいこと、などがあるため、PTC抵
抗素子への印加電圧アップとすることは必要最小限の時
だけ行なうことが望ましい。
【0041】したがって、本発明によれば、上記構成の
ように所定の時間、温度や湿度などの環境センサの出力
結果に基づいて、PTC抵抗素子への印加バイアスを制
御するようにしたため、必要最小限の時だけ印加バイア
スを大きくして温度立ち上がりを早くすることなどが可
能となる。
【0042】ここで、上記の必要最小限の時とは、上記
所定の時間に、画像形成装置の周囲や内部が低温の状態
にあり、被加熱体を所望の温度に立ち上げるのに比較的
長い時間を要する場合、また、湿度が高く、光学系の結
露や感光ドラム表面が水分を吸着しやすい場合などであ
る。
【0043】一方、画像形成装置の連続動作時は装置本
体から発生する熱により昇温し、加熱装置による加熱は
不要となることがある。しかしながら装置の昇温によっ
て加熱手段であるPTC抵抗素子の温度が設定温度を超
えたとしても、PTC抵抗素子へ流れる電流が完全にゼ
ロにはならないために過熱して種々の問題の原因となる
こともある。
【0044】そこで、本発明によれば、画像形成装置の
動作中に、温度センサが温度を検知し、この検知結果に
基づいてPTC抵抗素子への印加バイアスを制御するこ
とによって、装置各部の過熱を防止することができる。
【0045】また、低温環境下に放置されていた転写材
を用いた場合など、逆に像担持体表面温度が下がってし
まうような場合には、印加バイアスを大きくしてこれを
防止するようにも制御できる。
【0046】なお、環境センサの種類・検知内容や設置
場所については特に限定しない。例えば光学系のミラー
等の近傍や、現像器や像担持体のクリーニング手段近
傍、また現像剤収納部や廃現像剤収納・搬送部近傍ある
いは装置機外に設けても良く、さらに検知内容も湿度や
温湿度の両方を検知してその検知結果にもとづいて制御
しても良い。
【0047】また、印加バイアスの制御の仕方も、オン
・オフ制御や直流電圧・電流の大きさ、交流バイアスの
大きさや全波・半波制御との組み合わせ、周波数制御と
の組み合わせなど種々の制御が可能である。
【0048】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、この発明
の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。ただ
し、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、
材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載が
ない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣
旨のものではない。
【0049】(第1の実施形態)本発明に係る加熱装置
が適用される画像形成装置の概略については、すでに
「従来の技術」の項で述べた図6に示す画像形成装置を
もとに具現化され、その構成、基本的な動作は前述の説
明と同じであるので、その詳細な説明は省略する。
【0050】また、本発明に係る加熱装置の第1の実施
形態を具備した画像形成装置が、本発明に係る画像形成
装置の第1の実施形態となるため、以下の説明において
は、本発明に係る加熱装置の第1の実施形態の説明によ
り、本発明に係る画像形成装置の第1の実施形態の説明
も兼ねることとする。このことは、第1の実施形態以外
の、以下に説明する他の実施形態においても同様であ
る。
【0051】まず、図1を参照して、本発明に係る加熱
装置の第1の実施形態の構造について説明する。図1
に、本発明に係る加熱装置の第1の実施形態が加熱する
像担持体としての感光ドラムの断面図を示す。
【0052】図1において、感光ドラム1の内部に面状
のPTC抵抗素子を使用した、加熱装置としてのドラム
ヒータ13が入っており、印加バイアスの端子は後端側
フランジに接続されている。感光ドラム1の外側近傍に
は、環境センサ、若しくは温度センサとしての温度セン
サ17が配置されており、感光ドラム表面の温度を検知
するようになっている。ただし、この温度センサ17
は、湿度を検知する湿度センサと共に用いても、若しく
は置き換えても良い。
【0053】次に、図1に示される感光ドラム1の後端
につけられている後端フランジを図2に示す。図2に、
図1に示される感光ドラム1の後端につけられている後
端フランジの概略図を示す。
【0054】図2に示されるように、画像形成装置本体
に取り付けられている接触子18が後端フランジ19の
電極部分に当接され、感光ドラム1の回転に合わせて摺
動することによってPTC抵抗素子を使用したドラムヒ
ータ13へ給電する。本実施形態においてPTC抵抗素
子は40℃で一定になるように素子材料が調整されてい
る。従って、前述の温度センサ17は温度モニタのため
に配置されているが、無くても良い。
【0055】PTC抵抗素子は例えば粉末状のものをバ
インダーと混ぜ合わせ、樹脂シート上にプリントされた
くし形電極の上に薄く塗布されたものを使用する。
【0056】ここで、上記PTC抵抗素子の一例につい
て、図4を参照して説明する。図4に、図1に示される
加熱装置としてのドラムヒータ13に用いられるPCT
抵抗素子の概略図を示す。
【0057】図4に示されるPTC抵抗素子は一例であ
り、樹脂シート20の上に1組のくし形電極21が互い
に一定の距離をもってプリントされているものである。
【0058】ただし、本発明に係る加熱装置において
は、電極の形状、間隔及び材質などは種々のものが使用
でき、またPTC抵抗素子の厚さ及び形状も上記のもの
に限定するものではなく、例えば固体形状のものでも良
い。
【0059】さて、上記PTC抵抗素子を感光ドラムヒ
ータとして用いた場合の感光ドラム1表面の温度の立ち
上がり特性を図3を参照して説明する。図3に、PTC
抵抗素子をドラムヒータに用いた場合の、図1に示され
る感光ドラム1表面の温度の立ち上がり特性のグラフを
示す。
【0060】図3において、縦軸は感光ドラム表面温度
[℃]、横軸は時間[分]を示す。図3の曲線に示さ
れるように、初期23℃程度の常温にあった場合には、
印加バイアス100[V]、5分程度で所定の温度40
℃に達し、以降ほとんどリップルの無い抵抗制御が可能
となる。
【0061】ここで、比較例として、従来から広く用い
られている電熱線タイプの感光ドラムヒータ及びその温
度制御特性について、図7及び図8を参照して説明す
る。図7に、従来から広く用いられている電熱線タイプ
の感光ドラムヒータの概略構造図を示し、図8に、図7
に示される感光ドラムヒータの温度特性のグラフを示
す。
【0062】図7において、樹脂シート上に電熱線を配
置したドラムヒータ13′を感光ドラム1の内側に曲率
を合わせて入れ、中央空間部を利用して温度センサ14
と、ドラムヒータ13′へのバイアスのオン・オフを制
御するコントローラ15を配置している。
【0063】コントローラ15への給電は前述の図2の
後端フランジ19が使用できる。この場合、温度センサ
14の検知結果が所定の温度40℃よりも低くなったら
ドラムヒータ13′へバイアスを印加し、40℃を越え
ればバイアスをオフになるように制御される。
【0064】比較例の温度制御特性は、図8の曲線に
示すように、立ち上がり特性は比較的良いものの、制御
目標温度40℃に対して常に温度が上下にふれるリップ
ルが生じている。ここで、図8において、縦軸は感光ド
ラム表面温度[℃]、横軸は時間[分]を示す。
【0065】温度リップルがあると、前述したように感
光体の感度、帯電電位の変化により、画像毎にその濃度
にムラが生じるという問題が生じる。
【0066】その他画像形成装置各部への弊害、例えば
温度が大きく上にふれた時にクリーニングブレードの硬
度が低下してクリーニング性が低下したり、トナーが融
着するなどの問題が起こることがあり、これらを防止し
ようとすると制御目標温度を下げなければならず、ドラ
ムヒータとしての効果が減少してしまう。
【0067】以上述べたように、本発明に係る加熱装置
及び画像形成装置の第1の実施形態によれば、像担持
体、若しくは画像形成装置の雰囲気温度を加熱する手段
としてPTC抵抗素子を使用することにより、温度セン
サや印加バイアスコントローラを必要とせず、制御温度
リップルのほとんど無い安定した、装置内、若しくは像
担持体及び光学系などの装置内の部材の加熱が可能とな
る。
【0068】(第2の実施形態)前述の第1の実施形態
においては、感光ドラム表面温度の立ち上がり特性は、
図3の曲線に示すように5分程度で所定の温度に達し
ている。
【0069】これは画像形成装置内の初期温度が23℃
程度と常温にあった場合であるが、一方初期温度が7.
5℃程度と低温にあった時には、図3の曲線に示すよ
うに、印加バイアス100[V]では、所定の温度まで
10分以上の時間を必要とする。
【0070】比較例として、従来から広く用いられてい
る電熱機タイプの感光ドラムヒータの温度立ち上がり特
性は、図8の曲線に示すように7.5℃の低温からで
も5〜6分で所定の温度に達している。
【0071】このように第1の実施形態のようにドラム
ヒータにPTC抵抗素子を用いた場合には、所定温度に
到達した後では、温度リップルの無い安定した制御が可
能であるが、温度立ち上がりが比較的遅いのが難点であ
る。
【0072】この原因としては、PTC抵抗素子自体の
温度立ち上がり特性は問題無いとしてもPTC抵抗素子
を塗布し、かつ感光ドラム基体と絶縁する働きをもつ樹
脂シートを介して熱を伝えようとするために、熱伝導率
が悪いためと考えられる。
【0073】通常、画像形成装置本体は電源スイッチを
オンにした時、あるいは複数のモードを有する場合には
動作モードが切り替えられた時から所定の時間は、定着
装置の加熱のために、5分程度を要することが多い。
【0074】転写ベルト等の転写材担持体を有する画像
形成装置の場合にはこの時間を利用して清掃を行なった
りする。
【0075】しかしながら、感光ドラム表面温度の立ち
上がりが遅い場合、画像毎の濃度が変動したり、また感
光ドラム表面温度が所定温度に達するまで画像形成装置
の動作を止める場合には、画像形成装置自体の立ち上が
りのための待ち時間が長くなるなどの欠点がある。
【0076】また、近年定着装置に無端状薄膜フィルム
を使用して数秒程度で動作可能となるものも実用に供さ
れている。
【0077】この場合、画像形成装置の立ち上がり時間
は、感光ドラム表面温度の立ち上がり時間が律速となっ
て長くなるか、あるいは温度が立ち上がる前に画像形成
を可能にするならば、上記の濃度変化などの問題がより
顕著になってしまう。
【0078】そこで、本発明に係る加熱装置及び画像形
成装置の第2の実施形態においては、画像形成装置の電
源スイッチをオンにした時、あるいは複数のモードを有
する場合には動作モードが切り替えられた時から所定の
時間は、PTC抵抗素子に印加されるバイアスを大きく
することによって温度立ち上がり特性を改善させること
が可能となる。
【0079】例えば、印加バイアスを100Vから20
0Vにすることによって、温度立ち上がりは、図3の曲
線から曲線のように改善される。すなわち、図3の
曲線が、本発明に係る加熱装置及び画像形成装置の第
2の実施形態における、感光ドラム表面温度の特性曲線
となる。
【0080】ここで、上記の所定時間とは、定着装置が
所定の温度に達するまでの時間とすれば画像形成装置の
立ち上がり時間が感光ドラム表面温度で律速になること
はなく、または感光ドラム表面温度が所定の温度まで達
する時間とすれば画像形成装置の動作開始後の温度変化
はほとんど無いので濃度変化も少なくすることができ
る。
【0081】また、上記所定時間を、例えば5分間など
で一定時間とすることも可能であり、この場合は感光ド
ラム表面温度を測定する手段を持たなくても良い。
【0082】以上述べたように、本発明に係る加熱装置
及び画像形成装置の第2の実施形態においては、画像形
成装置の電源オン時、若しくは動作モードの移行時から
所定の時間、PTC抵抗素子への印加バイアスを大きく
することによって、温度立ち上がり特性を改善すること
が可能になるとともに、所定時間後はもとのバイアスに
戻すのでPTC抵抗素子から感光ドラムなどへのもれ電
流や電気ノイズの低減及びPTC抵抗素子自体の物性変
化による制御温度の耐久変動など種々の問題を回避しつ
つ、常に安定した温度制御が可能となる。
【0083】(第3の実施形態)上記第2の実施形態に
おいては、画像形成装置の電源スイッチがオンになった
時、若しくは動作モードに移行した時から所定の時間、
PTC抵抗素子への印加バイアスを大きく切り替えるよ
うに制御した。
【0084】しかしながら、その制御が効果的に生かさ
れたのは感光ドラム表面温度が比較的低温にある時であ
り、それ以外の時に印加バイアスを上げる必要性は小さ
いだけでなく、もれ電流や電気ノイズやPTC抵抗素子
の耐久変動等のような前述したような種々の問題を発生
させる。
【0085】そこで、本発明に係る加熱装置及び画像形
成装置の第3の実施形態においては、図1に示すように
感光ドラム近傍に、感光ドラム表面温度を検知する温度
センサ17を設け、その検知結果がある温度以下になっ
た時のみ、上記のタイミングでPTC抵抗素子への印加
バイアスが大きくなるように制御する。
【0086】このような制御により、本発明に係る加熱
装置及び画像形成装置の第3の実施形態においては、感
光ドラム表面温度が比較的低温になった場合、温度立ち
上がり特性を改善し、その他の場合には不必要に印加バ
イアスを変えないことから、PTC抵抗素子から感光ド
ラムなどへのもれ電流や電気ノイズの低減及びPTC抵
抗素子自体の物性変化による制御温度の耐久変動などの
種々の問題が起きないようにすることができる。
【0087】(第4の実施形態)前述の第2の実施形態
及び第3の実施形態においては、主に画像形成装置の電
源オン時、若しくは動作モードに移行した時からの温度
立ち上がり特性について述べてきたが、第4の実施形態
では画像形成装置の動作中にPTC抵抗素子への印加バ
イアスを制御するものである。
【0088】例えば、画像形成を続けていると、各部モ
ータやランプからの放熱や定着装置からの伝熱・放熱な
どにより、画像形成装置内の温度が上昇する。またこの
現象は一度定着装置を通って温められた転写材が、再び
転写部を通過する両面多重モードの場合には、さらに著
しく、PTC抵抗素子の制御温度まで越えてしまうこと
もある。
【0089】このような場合、感光体の感度変化による
濃度変化や、クリーニングブレードの硬度のダウンによ
るクリーニング不良やトナー融着・固着などといった種
々の問題を生じるため装置内温度の所定の値以下にする
必要がある。
【0090】装置内温度がPTC抵抗素子の制御温度を
越えるような場合には、すでに加熱の必要は全く無い
が、PTC抵抗素子の特性上、完全な絶縁性になり得な
いため、わずかに電流が流れてしまう。
【0091】この電流が装置内昇温をより大きなものに
してしまうので、これを防ぐには、印加バイアスを小さ
くするか、ゼロにしてしまえば良い。
【0092】すなわち所定温度を検知結果が越えた時に
バイアスを小さくしたりゼロにする。あるいは何階段か
または直続的にバイアスを制御しても良い。
【0093】一方、低温環境下に画像形成装置が設置さ
れていたり、また放置されていた転写材を使用した場合
にほぼ連続して動作させると逆に転写材に感光ドラム表
面の熱が奪われて温度が下がることもある。
【0094】この場合も感光特性、特に感度の変化によ
って画像濃度が変わったり、クリーニングブレードの硬
度アップによるクリーニング不良といった問題を生じ
る。
【0095】従って、画像形成動作中に感光ドラム表面
温度が下がってしまった場合にはPTC抵抗素子への印
加バイアスを大きくして温度が下がらないようにすれば
良い。
【0096】ここで、本発明に係る加熱装置及び画像形
成装置の第4の実施形態における温度特性について、図
5を参照して説明する。図5に、本発明に係る加熱装置
及び画像形成装置の第4の実施形態における温度特性の
グラフを示す。
【0097】図5において、縦軸は画像形成中のPTC
抵抗素子への印加バイアス[V]、横軸は感光ドラム表
面温度[℃]である。
【0098】図5の曲線で示すように、感光ドラム表
面温度が40℃を超えたら印加バイアス50V、また4
2.5℃を超えたらゼロにするものであり、昇温時のP
TC抵抗素子への電力供給を抑えることができる。
【0099】また、低温側は、図5の曲線のように印
加バイアスがアップするように制御してもよく、低温環
境時、また低温環境に放置された転写材使用時の感光ド
ラム表面温度の低下をPTC抵抗素子への印加バイアス
をアップすることによって防止することもできる。
【0100】以上述べたように、本発明に係る加熱装置
及び画像形成装置の第4の実施形態においては、感光ド
ラム等の像担持体表面近傍の温度を検知し、その検知結
果にもとづいてPTC抵抗素子への印加バイアスを制御
することによって、使用環境、状況によらず感光ドラム
表面の温度をほぼ一定値にすることができるので安定し
た画像が得られるとともに、画像形成装置内の過度の昇
温も抑えることができる。
【0101】なお、上記第1の実施形態から第4の実施
形態においては感光ドラム表面近傍に温度センサを設け
たが、設置場所や検知内容をこれらに限定するものでは
なく、例えば光学系のミラー等の近傍や、現像器や像担
持体のクリーニング手段近傍、また現像剤収納部や廃現
像剤収納・搬送部近傍あるいは装置機外に設けても良
く、さらに検知内容も湿度や、温度及び湿度の両方を検
知してその検知結果にもとづいて制御しても良い。
【0102】また、上記第1の実施形態から第4の実施
形態においては加熱装置としてドラムヒータを想定し、
このドラムヒータが感光ドラムを加熱するとしたが、本
発明に係る加熱装置としては、このようなドラムヒータ
に限定するものではなく、その他にも、例えば、光学系
のミラー等を加熱するものであったり、現像器や像担持
体のクリーニング手段を加熱するものであったり、画像
形成装置の内部全般を加熱するものであったり、又は、
これらを組み合わせて加熱するものであって良い。
【0103】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る加熱
装置及び画像形成装置によれば、潜像を担持する像担持
体を備える画像形成装置を加熱する加熱装置において、
この加熱装置はPTC抵抗素子を使用したものであり、
特に像担持体や光学系の近傍に配置して像担持体や光学
系の加熱を行なうことを特徴とする。
【0104】したがって、加熱装置のための温度センサ
や印加バイアスコントローラを必要とせず、制御温度リ
ップルのほとんど無い安定した像担持体、光学系などの
加熱が可能となり、結果的に画像流れや露光のボケを防
止し、かつ濃度の安定した画像形成が可能な加熱装置及
び画像形成装置を提供することができる。
【0105】また、画像形成装置本体の電源スイッチを
オンにした時、若しくはスタンバイモード、予熱モード
等、複数のモードを有する場合には、動作モードが切り
替えられた時から所定の時間はPTC抵抗素子への印加
バイアスを大きく制御することを特徴とする。
【0106】上記構成により、像担持体表面や光学系の
温度立ち上がりを早くすることができ、また、所定時間
後はもとのバイアスに戻すのでPTC抵抗素子を像担持
体内部に設置した場合の、もれ電流や電気ノイズの低
減、PTC抵抗素子自体の物性変化による制御温度の耐
久変化などの種々の問題を回避しつつ、常に安定した温
度制御が可能な加熱装置及び画像形成装置を提供するこ
とができる。
【0107】また、画像形成装置本体内、若しくは画像
形成装置の設置されている周囲環境の温度又は湿度、若
しくは画像形成装置内の特に像担持体表面や光学系近傍
の温度を検知する環境センサを有し、画像形成装置本体
の電源スイッチをオンにした時、若しくはスタンバイモ
ード、予熱モード等、複数のモードを有する場合には動
作モードが切り替えられた時から所定の時間は、環境セ
ンサの検知結果に基づいて、PTC抵抗素子への印加バ
イアスを制御することから、特に感光ドラム表面温度や
光学系が比較的低温にあった時には温度立ち上がり特性
を改善し、その他の場合には不必要に印加バイアスを変
えないことによって、もれ電流や電気ノイズやPTC抵
抗素子の耐久変動等の種々の問題を起きないように、若
しくは抑制することが可能な加熱装置及び画像形成装置
を提供することができる。
【0108】また、逆に比較的高温にあって、PTC抵
抗素子の加熱が必要無い時には、バイアスをオフにした
り小さくするような制御をしても良く、制御内容を上記
の例に限定するものではない。
【0109】さらに、画像形成装置本体内の特に像担持
体表面や光学系近傍の少なくとも温度を検知する温度セ
ンサを有し、画像形成装置の動作中にこの温度センサの
検知結果にもとづいてPTC抵抗素子への印加バイアス
を制御することから、連続動作中の装置の昇温が問題と
なる場合には印加バイアスを小さくするか、オフにする
ことによって昇温を抑制し、逆に温度が下がってしまう
場合には印加バイアスを大きくするなどの制御を行なう
ことによって、使用環境、状況によらず感光ドラム表面
の温度をほぼ一定値にすることができるので、安定した
画像が得られると共に、画像形成装置内の過度の昇温を
抑えることが可能な加熱装置及び画像形成装置を提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る加熱装置の第1の実施形態が加熱
する像担持体としての感光ドラムの断面図である。
【図2】図1に示される感光ドラムの後端につけられて
いる後端フランジの概略図である。
【図3】PTC抵抗素子をドラムヒータに用いた場合
の、図1に示される感光ドラム表面の温度の立ち上がり
特性のグラフである。
【図4】図1に示されるドラムヒータに用いられるPT
C抵抗素子の概略図である。
【図5】本発明に係る加熱装置及び画像形成装置の第4
の実施形態における温度特性のグラフである。
【図6】本発明及び従来の画像形成装置の概略断面図で
ある。
【図7】従来から広く用いられている電熱線タイプの感
光ドラムヒータの概略構造図である。
【図8】図7に示される感光ドラムヒータの温度特性の
グラフである。
【符号の説明】
1 感光ドラム 2 一次コロナ帯電器 3 レーザ露光 4 現像装置 8 転写帯電器 9 分離帯電器 10 定着装置 11 ドラムクリーニング装置 12 前露光ランプ 13,13′ ドラムヒータ 14 温度センサ 15 コントローラ 17 温度センサ 18 接触子 19 後端フランジ 20 樹脂シート 21 くし形電極 22 レジストローラ対 23 手差しトレイ 24,25,26 収納部 P 転写材

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 潜像を担持する像担持体を備える画像形
    成装置内を加熱する加熱装置において、 該加熱装置がPositive Temperature Coefficient抵抗
    素子を用いていることを特徴とする加熱装置。
  2. 【請求項2】 前記加熱装置が、 前記像担持体の近傍に配置され、該像担持体の加熱をも
    行なうことを特徴とする請求項1に記載の加熱装置。
  3. 【請求項3】 前記画像形成装置が、 前記像担持体を照射する光を導く、少なくとも1以上の
    レンズにより構成される光学系を備え、 前記加熱装置が、 前記光学系の近傍に配置され、該光学系の加熱をも行な
    うことを特徴とする請求項1又は2に記載の加熱装置。
  4. 【請求項4】 前記画像形成装置本体の電源スイッチを
    オンにした後の所定時間、 前記Positive Temperature Coefficient抵抗素子への
    印加バイアスを大きくすることを特徴とする請求項1か
    ら3のいずれか1項に記載の加熱装置。
  5. 【請求項5】 前記画像形成装置が備える、スタンバイ
    モード、若しくは予熱モードその他の動作モードが切り
    換えられた後の所定時間、 前記Positive Temperature Coefficient抵抗素子への
    印加バイアスを大きくすることを特徴とする請求項1か
    ら4のいずれか1項に記載の加熱装置。
  6. 【請求項6】 前記画像形成装置内の温度、前記画像形
    成装置内の湿度、前記像担持体の表面温度及び前記像担
    持体を照射する光を導く、少なくとも1以上のレンズに
    より構成される光学系の温度うちの少なくとも1つを検
    知する環境センサを備え、 該環境センサにより検知された値が所定の値の範囲内で
    ある場合であり、 かつ、 前記画像形成装置本体の電源スイッチをオンにした際
    に、所定の時間、 前記Positive Temperature Coefficient抵抗素子への
    印加バイアスの大きさを制御することを特徴とする請求
    項1から5のいずれか1項に記載の加熱装置。
  7. 【請求項7】 前記画像形成装置内の温度、前記画像形
    成装置内の湿度、前記像担持体の表面温度及び前記像担
    持体を照射する光を導く、少なくとも1以上のレンズに
    より構成される光学系の温度うちの少なくとも1つを検
    知する環境センサを備え、 該環境センサにより検知された値が所定の値の範囲内で
    ある場合であり、 かつ、 前記画像形成装置が備える、スタンバイモード、若しく
    は予熱モードその他の動作モードが切り換えられた際
    に、所定の時間、 前記Positive Temperature Coefficient抵抗素子への
    印加バイアスの大きさを制御することを特徴とする請求
    項1から6のいずれか1項に記載の加熱装置。
  8. 【請求項8】 前記画像形成装置内の温度、前記像担持
    体の表面温度及び前記像担持体を照射する光を導く、少
    なくとも1以上のレンズにより構成される光学系の温度
    うちの少なくとも1つを検知する温度センサを備え、 前記画像形成装置が動作中である場合に、 前記温度センサの検知結果に基づいて、 前記Positive Temperature Coefficient抵抗素子への
    印加バイアスの大きさを制御することを特徴とする請求
    項1から7のいずれか1項に記載の加熱装置。
  9. 【請求項9】 前記Positive Temperature Coefficie
    nt抵抗素子が、 BaTiO3(チタン酸バリウム)を用いて形成されて
    いることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に
    記載の加熱装置。
  10. 【請求項10】 前記Positive Temperature Coeffic
    ient抵抗素子が、 V23(三酸化バナジウム)を用いて形成されているこ
    とを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の
    加熱装置。
  11. 【請求項11】 前記像担持体を備え、 上記請求項1から10のいずれか1項に記載の加熱装置
    により加熱されることを特徴とする画像形成装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2017048014A1 (ko) * 2015-09-15 2017-03-23 엘지이노텍 주식회사 카메라 모듈용 박막 히터 및 이를 갖는 카메라 모듈

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