JP2001056934A

JP2001056934A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2001056934A
Application number: JP11231940A
Authority: JP
Inventors: Takao Kudo; 孝夫工藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1999-08-18
Filing date: 1999-08-18
Publication date: 2001-02-27

Abstract

(57)【要約】【課題】上層磁性層表面におけるスジの発生を抑え、
良好な表面性を有する上層磁性層を形成する。【解決手段】非磁性支持体上に、非磁性粉末及び結合
剤を溶剤とともに分散させることで調製された非磁性塗
料を塗布して下層非磁性層を形成し、当該下層非磁性層
が湿潤状態のうちに、強磁性粉末及び結合剤を溶剤とと
もに分散させることで調製された磁性塗料を塗布して上
層磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、
上記磁性塗料が逆チキソトロピー性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気テープ、磁気デ
ィスク等の磁気記録媒体の製造方法に関し、特に重層塗
布方式（ウェット・オン・ウェット塗布方式）により製
造する磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテープ、オーディオテー
プ、磁気ディスク等としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変成
酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末等の強磁性粉末を結
合剤中に分散させることで調製された磁性塗料を、ＰＥ
Ｔフィルム等の非磁性支持体上に塗布することで磁性層
が形成される、いわゆる塗布型の磁気記録媒体が広く用
いられている。

【０００３】近年、磁気記録の分野においては、記録の
高密度化、短波長化が進行しており、塗布型の磁気記録
媒体においても、そのような記録の高密度化、短波長化
に対応する特性を有することが求められるようになって
いる。

【０００４】ここで、塗布型の磁気記録媒体において、
高記録密度領域での電磁変換特性を改善する手法として
は、磁性層の薄層化が挙げられる。磁性層を薄層化する
と、記録時の自己減磁損失や再生時の厚み損失が減少
し、電磁変換特性が効果的に改善されることになる。し
かしながら、この場合、磁性層の厚さを例えば１μｍ以
下に薄くすると、非磁性支持体の表面形状が磁性層の表
面に浮き出し易くなり、磁性層の表面が粗れた状態にな
る。磁性層の表面が粗れた状態になると、スペーシング
ロスによって電磁変換特性が悪化したり、ドロップアウ
トが多発するようになる。

【０００５】そこで、塗布型の磁気記録媒体では、磁性
層と非磁性支持体の間に比較的厚さの厚い下層非磁性層
を介在させ、これによって非磁性支持体の表面形状が磁
性層表面に現れ難くしたものが提案されている。すなわ
ち、塗布型の磁気記録媒体では、非磁性支持体の主面上
に下層非磁性層及び磁性層が重層されてなる重層塗布型
の磁気記録媒体が提案されている。重層塗布型の磁気記
録媒体では、薄い磁性層が平滑な表面性を有するため、
短波長領域において優れた電磁変換特性が得られること
になる。

【０００６】このような重層塗布型の磁気記録媒体で
は、塗布工程が煩雑であること、薄くて均一な磁性層が
得難いこと等の問題点があったが、下層非磁性層が湿潤
状態のうちに同時または逐次に磁性層を塗布する、いわ
ゆる、ウェット・オン・ウェット塗布方式の提案によっ
て前記問題点はある程度解消されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェッ
ト・オン・ウェット塗布方式を採用して重層塗布型の磁
気記録媒体を製造する場合においても、例えば、上層磁
性層及び下層非磁性層の界面の乱れや上層磁性層のハジ
キ、ピンホール、塗布スジ等の塗工欠陥が発生してしま
うことがあった。特に、塗布スジは、最表面の形状に直
接影響し、Ｓ／Ｎを劣化させたり再生波形の乱れを生じ
させたりする。

【０００８】このような問題に対して、例えば、特開平
５−１２８４９６号公報、特開平５−２６６４６３号公
報及び特開平６−１９５６９０号公報においては、上層
磁性層及び下層磁性層に用いる両塗料の粘弾性特性を規
定することによって前記課題を解決し得る旨の記載があ
るが、これらはいずれも上層及び下層ともに磁性層の場
合であって、下層が非磁性層の場合には前記公報記載の
内容と同様の効果を直接期待することはできない。ま
た、特開平４−３２５９１７公報には、下層が非磁性の
場合に、上下層に用いる両塗料のチキソトロピー性を同
一もしくは近似させることによって、前記塗布欠陥のう
ちハジキおよびピンホールの発生を防ぎ得る旨の記載が
あるが、塗布スジに対する効果についてはまったく言及
されていない。

【０００９】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、上層磁性層表面における
スジの発生を抑え、良好な表面性を有する上層磁性層を
形成できる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、上層磁性層を
形成する磁性塗料に特定のレオロジー特性を付与するこ
とによって、塗布スジが著しく改善するとの知見を得る
に至った。

【００１１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、
このような知見に基づいて完成されたものであって、非
磁性支持体上に、非磁性粉末及び結合剤を溶剤とともに
分散させることで調製された非磁性塗料を塗布して下層
非磁性層を形成し、当該下層非磁性層が湿潤状態のうち
に、強磁性粉末及び結合剤を溶剤とともに分散させるこ
とで調製された磁性塗料を塗布して上層磁性層を形成す
る磁気記録媒体の製造方法において、上記磁性塗料が逆
チキソトロピー性を有することを特徴とするものであ
る。

【００１２】ここで、チキソトロピー性及び逆チキソト
ロピー性について説明する。

【００１３】チキソトロピーとは、「変形を与えること
によって、見掛けの粘度が一時的に減少する現象」（松
本孝芳著『分散系のレオロジー』高分子刊行会、６１頁
より）として定義される。

【００１４】一般に、磁気記録媒体に用いられる各種塗
料は、ある程度チキソトロピー性を有する。チキソトロ
ピー性を有する塗料においては、低い剪断速度下では分
散粒子の凝集性のために高い見掛け粘度を示すが、粒子
間の凝集構造を破壊し得る程度に高い剪断速度を加える
と、見掛け粘度は時間とともに徐々に低下する。ここで
再度低い剪断速度に戻すと、前述の粒子間凝集構造が回
復するために見掛け粘度は時間とともに徐々に増加する
ようになる。

【００１５】このようなチキソトロピー性を有する塗料
において、段階的に増加させた剪断速度に対する剪断応
力を結んだ流動曲線（以下、「上昇流動曲線」と称す）
と、段階的に減少させた剪断速度に対する剪断応力を結
んだ流動曲線（以下、「下降流動曲線」と称す）とは一
致せず、下降流動曲線は上昇流動曲線よりも低い剪断応
力を示す。すなわち、ある特定の剪断速度に注目した場
合、上昇流動曲線における剪断応力τuと、下降流動曲
線における剪断応力τdとの関係はτu＞τdとなる。特
に、チキソトロピー性を有する磁性塗料においては、粒
子間に強い磁気的凝集力が働くために、上述したチキソ
トロピー性はより一層顕著となるのが一般的である。

【００１６】一方、逆チキソトロピーとは、負のチキソ
トロピーとも呼ばれ、前記のチキソトロピーとは逆の現
象を指すレオロジー用語である。すなわち、逆チキソト
ロピー性を有する塗料は、上昇流動曲線が下降流動曲線
よりも低い剪断応力を示し、ある特定の剪断速度に注目
した場合、上昇流動曲線における剪断応力τuと、下降
流動曲線における剪断応力τdとの関係はτu＜τdとな
る。この場合、低い剪断速度における見かけ粘度は時間
とともに徐々に減少するようになる。

【００１７】本発明に係る磁気記録媒体において、磁性
塗料がこのように説明される逆チキソトロピー性を有す
るため、塗布後の流動性が非常に良くなり、レベリング
が速やかに進行することとなって、結果として表面の塗
布スジが解消され、平滑な塗布面が得られることにな
る。これに対して、チキソトロピー性を有する磁性塗料
では、チキソトロピー性と乾燥のために塗布直後から粘
度が著しく増加するため、十分なレベリング効果は期待
できない。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法の具体的な実施の形態について説明する。

【００１９】この手法は、図１に示すように、非磁性支
持体１上に下層非磁性層２と上層磁性層３とが順次形成
されてなる磁気記録媒体を製造するものである。この磁
気記録媒体を製造するには、連続走行する非磁性支持体
１上に、非磁性粉末及び結合剤を溶剤とともに分散させ
ることで調製された非磁性塗料を塗布することで非磁性
塗膜を形成し、この非磁性塗膜上に、磁性粉末及び結合
剤を溶剤とともに分散させることで調製された磁性塗料
を順次塗布することで磁性塗膜を形成する。

【００２０】そして、このように形成した非磁性塗膜及
び磁性塗膜に、乾燥や平坦化処理等を施すことによっ
て、非磁性支持体１上に下層非磁性層２及び上層磁性層
３を形成する。

【００２１】この磁気記録媒体において、上層磁性層３
の膜厚は、０．１〜０．５μｍであることが好ましく、
０．１〜０．３μｍであることがより好ましい。上層磁
性層３の膜厚をこの範囲に規定することによって、磁気
記録媒体は、短波長信号に対する電磁変換特性が優れた
ものとなる。上層磁性層３の膜厚が０．５μｍを越えて
いると、短波長信号で記録する際の自己減磁が発生して
電気的特性が劣化し、例えばデジタル記録方式に適用す
る媒体としては不十分になる虞がある。

【００２２】先ず、上層磁性層３を形成するための磁性
塗料について説明する。この磁性塗料は、この磁性塗料
は、強磁性粉末及び結合剤等を溶剤とともに分散させる
ことにより調製される。

【００２３】強磁性粉末としては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ
含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｒＯ₂、
またマグネタイトに代表されるフェライト類、すなわち
Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ被着Ｆｅ₃Ｏ₄等を挙
げらることができる。また、強磁性粉末としては、Ｆ
ｅ、Ｃｏ等の金属粉末や、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ
系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍ
ｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｍｎ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｐ系、Ｎｉ−Ｃｏ系等、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主
成分とする合金粉末等の金属磁性粉末を挙げることがで
きる。

【００２４】このうちＦｅ系の金属粉末は電気的特性に
優れている。また、耐蝕性および分散性の観点では、Ｆ
ｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ
系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−
Ｍｎ系等のＦｅ−Ａｌ系の合金粉末が好ましい。

【００２５】これら強磁性粉末の形状としては、平均長
軸長が０．５μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．４μ
ｍ、より好ましくは０．０１〜０．３μｍであり、且
つ、軸比（平均長軸長／平均短軸長）としては、好まし
くは１２以下であり、より好ましくは１０以下である。

【００２６】強磁性粉未の磁気特性としては、飽和磁化
量（σｓ）が７０ｅｍｕ／ｇ以上であることが好まし
い。飽和磁化量が７０ｅｍｕ／ｇ未満であると、十分な
電磁変換特性が得られないことがある。また、高密度記
録領域での記録再生を可能にする点から、ＢＥＴ法によ
る比表面積が４５ｍ²／ｇ以上であることが好ましい。

【００２７】一方、結合剤としては、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル系共重合体等の塩化
ビニル系樹脂等が代表的である。

【００２８】これら樹脂は、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、
−ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ’）₂（但し、Ｍは水素原子
またはＮａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ金属を表わし、Ｍ’
は水素原子またはＮａ、Ｋ、Ｌｉ等のアルカリ原子、ア
ルキル基を表わす）及びスルホベタイン基から選ばれる
少なくともー種の極性基を有する繰返し単位を含有して
いることが好ましい。これら極性基は、強磁性粉末の分
散性を向上させる作用があり、含有率は０．１〜８．０
モル％、さらには０．２〜６．０モル％であるのが好ま
しい。極性基の含有率が０．１モル％未満であると、強
磁性粉末の分散性が低下する虞がある。逆に、極性基の
含有率が８．０モル％が超えていると、磁性塗料がゲル
化し易くなる虞がある。また、樹脂の重量平均分子量
は、１０，０００〜５０，０００の範囲であるのが好ま
しい。

【００２９】特に、結合剤としては、スルホン酸塩基及
び／又は４級アンモニウム塩基と水酸基及びエポキシ基
とを有するとともに平均重合度が１００〜２００である
塩化ビニル系共重合体が好適である。

【００３０】塩化ビニル系共重合体において、スルホン
酸塩基、４級アンモニウム塩基は強磁性粉末の分散性を
向上するために導入される。これらスルホン酸塩基及び
／又は４級アンモニウム塩基の含有量は０．３〜３．０
重量％であるのが望ましい。スルホン酸塩基及び／又は
４級アンモニウム塩基の含有量が０．３重量％未満の場
合、強磁性粉末の分散性が低くなる虞があり、上層磁性
層３表面が荒れるために、電磁変換特性が劣化すること
がある。また、スルホン酸塩基及び／又は４級アンモニ
ウム塩基の含有量が３．０重量％を越える場合、塩化ビ
ニル系共重合体の溶剤への溶解性が不良となる虞があ
る。なお、４級アンモニウム塩基は、当該塩化ビニル系
共重合体の水酸基と硬化剤として添加されるイソシアネ
ートとの反応の触媒としても作用する。この触媒作用
も、４級アンモニウム塩基の含有量が０．３重量％以上
である場合に十分に発揮される。

【００３１】また、塩化ビニル系共重合体に導入される
水酸基は、硬化剤であるイソシアネートと反応して架橋
構造を形成する。この水酸基の含有量は、０．１〜１．
５重量％であるのが望ましい。水酸基の含有量が０．１
重量％未満である場合、架橋性が低くなり、磁気記録媒
体全体の強度が不足する虞がある。また、水酸基の含有
量が１．５重量％を越える場合、磁性塗料の粘度が高く
なり、塗布性が不良になる虞がある。

【００３２】さらに、塩化ビニル系共重合体に導入され
るエポキシ基は、塩化ビニル系共重合体の脱塩酸を抑
え、塩化ビニル系共重合体由来の塩酸によって磁性塗膜
に錆が発生するのを防止する。エポキシ基の含有量は、
１．０〜１０．０重量％であるのが望ましい。エポキシ
基の含有量が１．０重量％未満である場合、塩化ビニル
系共重合体の脱塩酸が十分に抑えられず、磁性層に錆が
発生する虞がある。また、エポキシ基の含有量が１０．
０重量％を越える場合、磁性塗料の粘度が高くなり、塗
布性が不良になる虞がある。

【００３３】さらに、塩化ビニル系共重合体では、平均
重合度が１００〜２００と比較的小さいものが好まし
い。平均重合度がこの範囲である場合には、磁性塗料の
逆チキソトロピー性がコントロールされやすい。平均重
合度が２００を越えて大きくなると、磁性粉末に対する
濡れ性が悪くなり、磁性粉末を十分に分散させることが
困難になり、また、塗料粘度も高くなることから塗布性
が損なわれる。平均重合度が１００より低くなると、硬
化剤を併用したとしても十分な強度が得られず、耐久性
が不足する虞がある。

【００３４】なお、極性基を含有する塩化ビニル系共重
合体は、例えば塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体
等の水酸基を有する共重合体と、極性基および塩素原子
を有する化合物との付加反応により合成することができ
る。

【００３５】また、ポリエステルは、ポリオールと多塩
基酸との反応により合成される。なお、他の極性基を導
入したポリエステルも公知の方法で合成することが可能
である。

【００３６】ポリウレタンは、ポリオールとポリイソシ
アネートとの反応により合成される。このポリオールと
しては、ポリオールと多塩基酸との反応によって得られ
るポリエステルポリオールが一般に使用される。なお、
極性基を有するポリエステルポリオールを原料として用
いれば、極性基を有するポリウレタンを合成することが
できる。

【００３７】これらの樹脂は、一種類単独であってもよ
く、二種類以上を組み合わせて用いても良い。例えば、
ポリウレタンおよび／またはポリエステルと、塩化ビニ
ル系樹脂とを混合して用いる場合、その重量比は９０：
１０〜１０：９０、好ましくは７０：３０〜３０：７０
の範囲であるのが良い。

【００３８】さらに、下記の樹脂を全結合剤の５０重量
％以下の使用量で併用するようにしても良い。

【００３９】すなわち、併用する樹脂としては、重量平
均分子量が１０，０００〜２００，０００である塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、
ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹
脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロ
セルロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、
フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、尿
素ホルムアミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等が挙げら
れる。

【００４０】結合剤としては、以上のような樹脂が用い
られるが、これら結合剤の上層磁性層３ヘの混合量は、
強磁性金属粉末１００重量部に対して８〜２５重量部が
適当であり、１０〜２０重量部であるのが好ましい。

【００４１】溶剤としては、磁気記録媒体を製造する際
に通常用いられているもの、例えば、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類；メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコール
セノアセテート等のエステル類；グリコールジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル類；ベンセン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げるこ
とができる。この溶剤は、単独で用いても２種類以上を
混合して用いても構わない。

【００４２】また、上層磁性層３には、走行耐久性等を
改善する目的で、通常、磁気記録媒体で用いられる研磨
剤、潤滑剤、帯電防止剤等の添加剤が添加されても良
い。

【００４３】研磨剤としては、α−アルミナ、溶融アル
ミナ、酸化クロム、酸化チタン、α−酸化鉄、酸化ケイ
素、窒化ケイ素、炭化タングステン、炭化モリブデン、
炭化ホウ素、コランダム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸
化マグネシウム、窒化ホウ素等を挙げることができる。
この研磨剤の平均粒子径としては、好ましくは０．０５
μｍ〜０．６μｍであり、より好ましくは０．０５μｍ
〜０．５μｍであり、更に好ましくは０．０５μｍ〜
０．３μｍである。研磨剤の添加量としては、磁性粉末
１００重量部に対して、好ましくは３〜２０重量部であ
り、より好ましくは５〜１５重量部であり、さらに好ま
しくは５〜１０重量部である。

【００４４】潤滑剤としては、脂肪酸や脂肪酸エステル
等が単独あるいは混合して使用される。脂肪酸は、一塩
基酸であっても二塩基酸であってもよく、炭素数は６〜
３０が好ましく、１２〜２２であるのがより好ましい。
また、上記脂肪酸、脂肪酸エステルとともに、公知の澗
滑剤を併用しても良い。併用する潤滑剤としては、シリ
コーンオイル、弗化カーボン、脂肪酸アミド、オレフィ
ンオキサイド等を挙げることができる。

【００４５】帯電防止剤としては、第４級アミン等のカ
チオン界面活性剤や、スルホン酸、硫酸、燐酸、燐酸エ
ステル、カルボン酸等の酸基を含むアニオン界面活性剤
や、アミノスルホン酸等の両性界面活性剤等を挙げるこ
とができる。これら帯電防止剤の添加量は、結合剤に対
して０．０１〜４０重量％の範囲とするのが良い。この
他、帯電防止剤としては、導電性微粉末を添加しても良
い。この導電性微粉末としては、例えば、カーボンブラ
ック、グラファイト、酸化錫、銀粉、酸化銀、硝酸銀、
銀の有機化合物、銅粉等の金属粒子や、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、酸化チタン等の金属酸化物等の顔料を、酸化
錫被膜又はアンチモン固溶酸化錫被膜等の導電性物質で
コーティング処理したものを挙げることができる。これ
ら導電性微粉未の平均粒子径としては、好ましくは５〜
７００ｎｍであり、より好ましくは５〜２００ｎｍであ
る。

【００４６】上述したような、磁性粉末及び結合剤を溶
剤中で分散して磁性塗料を調整するにあたっては、必要
に応じて混練を行うようにしてもよい。

【００４７】この混練を行う混練機（図示せず。）とし
ては、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、オー
プンニーダー、連続二軸混練機、加圧ニーダー等が挙げ
られ、いずれも使用可能である。特に、０．０５〜０．
５ｋＷ（粉末１ｋｇ当たり）の消費電力負荷が提供でき
ることから、加圧ニーダー、オープンニーダー、連続二
軸混練機、二本ロールミル、三本ロールミルが適当であ
り、特に、連続二軸混練機、多段階で稀釈が可能な連続
二軸混練機がさらに好適である。

【００４８】さらに、この混練機にて混練を行う際に
は、分散剤を添加してもよい。分散剤としては、シラン
カップリング剤等を挙げることができる。この分散剤
は、強磁性粉末に対して０．５〜５重量％の範囲で用い
るのが適当である。

【００４９】このように構成された磁性塗料は、上述し
た各種材料や調整方法を適宜選択することにより逆チキ
ソトロピー性を有している。特に、磁性塗料には、結合
剤としてスルホン酸塩基及び／又は４級アンモニウム塩
基と水酸基及びエポキシ基とを有するとともに平均重合
度が１００〜２００である塩化ビニル系共重合体を使用
することによって、逆チキソトロピー性を付与すること
ができる。

【００５０】磁性塗料は、逆チキソトロピー性を有する
ため、上昇流動曲線が下降流動曲線よりも低い剪断応力
を示し、ある特定の剪断速度に注目した場合、上昇流動
曲線における剪断応力τuと、下降流動曲線における剪
断応力τdとの関係はτu＜τdとなる。逆チキソトロピ
ー性を有する磁性塗料は、低い剪断応力における見かけ
粘度が時間とともに減少するようになる。

【００５１】次に、下層非磁性層２を形成するための非
磁性塗料について説明する。この非磁性塗料は、非磁性
粉末及び結合剤等を溶剤中に分散させることで調製され
る。

【００５２】非磁性粉末としては、カーボンブラック、
グラファイト、ＴｉＯ₂、硫酸バリウム、ＺｎＳ、Ｍｇ
ＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＺｎＯ、ＣａＯ、二硫化タングステ
ン、二硫化モリブデン、窒化硼素、ＭｇＯ、ＳｎＯ₂、
ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α−Ａｌ₂Ｏ₃、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、α
−ＦｅＯＯＨ、ＳｉＣ、酸化セリウム、コランダム、人
造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ざくろ石、ガーネット、
珪石、窒化珪素、炭化珪素、炭化モリブデン、炭化硼
素、炭化タングステン、チタンカーバイド、珪藻土、ド
ロマイト等を挙げることができる。このうち、非磁性粉
末としては、特に、カーボンブラック、ＴｉＯ₂、α−
Ｆｅ₂Ｏ₃、α−ＦｅＯＯＨ等の無機粉末が好ましく、な
かでもα−Ｆｅ₂Ｏ₃が最も好ましい。また、これら非磁
性粉末は、表面処理されていても良い。

【００５３】特に、非磁性粉末としては、長軸長が０．
２μｍ以下のα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子を用いることが好まし
い。針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子は、他の非磁性粉末に比べて
分散性に優れるため、下層非磁性層２表面の平滑性が向
上し、その結果、この上に積層される上層磁性層３の表
面も平滑なものになる。さらに長軸長を０．２μｍ以下
とすることで、下層非磁性層２及び上層磁性層３の表面
はより平滑なものとなる。

【００５４】また、非磁性粉末としては、その形状が針
状であることが望ましい。針状の非磁性粉末を用いるこ
とで、下層非磁性層２表面の平滑性が向上し、その結
果、この上に積層される磁性層３の表面も平滑なものに
なる。この場合、非磁性粉末の軸比（長軸長／短軸長）
としては、好ましくは２〜２０であり、より好ましくは
５〜１５であり、更に好ましくは５〜１０である。ま
た、この非磁性粉末の比表面積としては、好ましくは１
０〜２５０ｍ²／ｇであり、より好ましくは２０〜１５
０ｍ²／ｇであり、更に好ましくは３０〜１００ｍ²／ｇ
である。

【００５５】さらに、この非磁性粉末の混合量として
は、下層非磁性層２の全成分の合計量に対して、好まし
くは５０〜９９重量％であり、より好ましくは６０〜９
５重量％であり、更に好ましくは７０〜９５重量％であ
る。この手法において、非磁性粉末の混合量をこの範囲
とすることで、下層非磁性層２の表面性を良好なものに
することができ、結果として、磁性層３の表面性を良好
なものとすることができる。

【００５６】一方、結合剤としては、磁性塗料を説明す
る際に例示した、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、塩化ビニル系共重合体等の塩化ビニル系樹脂
等を挙げることができる。

【００５７】これらの樹脂は、結合剤として一種類を単
独で用いても良く、二種類以上を組み合わせて用いても
良い。例えば、ポリウレタン及び／又はポリエステル
と、塩化ビニル系樹脂とを混合して用いる場合、その重
量比は９０：１０〜１０：９０、好ましくは７０：３０
〜３０：７０の範囲である。

【００５８】さらに、他の樹脂を全結合剤中５０重量％
以下の使用量で併用するようにしても良い。

【００５９】すなわち、併用する他の樹脂としては、重
量平均分子量が１０，０００〜２００，０００である塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミ
ド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（ニ
トロセルロース等）、スチレン−ブタジエン共重合体、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹
脂、尿素ホルムアミド樹脂、各種の合成ゴム系樹脂等を
挙げることができる。

【００６０】これら併用される他の樹脂は、一種類を単
独で使用してもよく、二種類以上を組み合わせて使用し
ても良い。

【００６１】結合剤としては、以上のような樹脂が用い
られるが、これら結合剤の下層非磁性層３ヘの混合量
は、前記針状酸化鉄微粉末１００重量部に対して１５〜
１００重量部が好ましい。

【００６２】一方、溶剤としては、磁気記録媒体を製造
する際に通常用いられているもの、例えば、上述した磁
性塗料の説明で例示したものを使用することができる。
上述したような、非磁性粉末及び結合剤を溶剤中で分散
して非磁性塗料を調整するにあたっては、必要に応じて
混練を行うようにしてもよい。この混練を行う混練機と
しては、例えば、上述した磁性塗料の説明で例示したも
のを使用することができる。

【００６３】さらに、この混練機にて混練を行う際に
は、分散剤を添加してもよい。分散剤としては、シラン
カップリング剤等を挙げることができる。この分散剤
は、非磁性粉末に対して０．５〜５重量％の範囲で用い
るのが適当である。

【００６４】さらにまた、この下層非磁性層２には、媒
体の走行耐久性等を改善する目的で、通常、磁気記録媒
体で用いられる研磨剤、潤滑剤、帯電防止剤等の添加剤
が添加されても良い。これら研磨剤、潤滑剤、帯電防止
剤等の添加剤は、上述した磁性塗料の説明で例示したも
のを使用することができる。

【００６５】以上のように調製された非磁性塗料及び磁
性塗料には、非磁性支持体１上に塗布される際、硬化剤
が添加される。

【００６６】この硬化剤としては、ポリイソシアネート
等を挙げることができる。ポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）と活性水素化
合物との付加体等の芳香族ポリイソシアネートや、ヘキ
サメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）と活性水素化
合物との付加体等の脂肪族ポリイソシアネート等を例示
することができる。これらポリイソシアネートの重量平
均分子量は、１００〜３，０００の範囲であることが望
ましい。

【００６７】一方、上述した非磁性塗料及び磁性塗料が
塗布される非磁性支持体１としては、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレ
フイン類、セルローストリアセテート、セルロースダイ
アセテート等のセルロース誘導体、ポリアミド、アラミ
ド樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック等を挙げる
ことができる。これら非磁性支持体１は、単層構造であ
っても多層構造であってもよい。また、例えば、コロナ
放電処理等の表面処理が施されていてもよいし、易接着
層等の有機物層が表面に形成されていてもよい。

【００６８】非磁性支持体１の厚みとしては、特に制限
されないが、例えば、媒体がフィルム状やシート状の場
合には、好ましくは２〜１００μｍであり、より好まし
くは３〜５０μｍである。また、ディスク状やカード状
の場合には、非磁性支持体１の厚みは３０μｍ〜１０ｍ
ｍ程度であることが望ましく、ドラム状の場合にはレコ
ーダ等の設計に応じて適宣に選択される。

【００６９】次に、上述したように調製された非磁性塗
料及び磁性塗料を非磁性支持体１に塗布する手法を説明
する。

【００７０】非磁性塗料及び磁性塗料を非磁性支持体１
上に塗布する際には、非磁性塗料を塗布してなる非磁性
塗膜が湿潤状態のときに、磁性塗料を塗布して磁性塗膜
を形成する、いわゆるウェット・オン・ウェット方式が
用いられる。なお、下層非磁性層２は必要に応じて複数
の層から構成されていてもよいが、その場合には、少な
くとも磁性層３に隣接する下層非磁性層２と上層磁性層
３とがウェット・オン・ウェット方式で重層塗布される
ようにする。

【００７１】具体的に、非磁性支持体１上に下層非磁性
層２及び上層磁性層３をウェット・オン・ウェット方式
にて形成する際には、例えば、図２に示すような塗膜形
成装置１０が用いられる。

【００７２】塗膜形成装置１０は、長尺状に形成された
非磁性支持体１を巻装するとともに非磁性支持体１を掛
け渡してなる巻取りロール１２及び供給ロール１３と、
この供給ロール１３から引き出された非磁性支持体１上
に非磁性塗料及び磁性塗料を塗布する塗布装置１４と、
磁性層の磁化方向を決定させる配向用磁石１５と、塗料
を乾燥させる乾燥器１６と、カレンダー処理を行うカレ
ンダー装置１７とを備える。

【００７３】すなわち、この塗膜形成装置１０では、非
磁性支持体１が供給ロール１３から巻取りロール１２に
向かって搬送されるようになされており、この搬送方向
に沿って塗布装置１４、配向用磁石１５、乾燥器１６、
カレンダー装置１７がこの順に配置されている。

【００７４】このような塗膜形成装置１０では、先ず塗
布装置１４によって非磁性塗料及び磁性塗料が非磁性支
持体１上に重層塗布される。この塗布装置１４は、図３
に示すように、非磁性塗料を塗布する第１の押し出しコ
ーター１８と、磁性塗料を塗布する第２の押し出しコー
ター１９とを備える。また、この塗布装置１４では、第
２の押し出しコーター１９が非磁性支持体１の送り出し
側、第１の押し出しコーター１８が非磁性支持体１の導
入側となるように配置されている。

【００７５】これら第１の押し出しコーター１８と第２
の押し出しコーター１９には、その先端部に塗料が押し
出されるスリット部２０、２１がそれぞれ形成され、こ
のスリット部２０、２１の背面側に塗料が供給される塗
料溜まり２２、２３がそれぞれ設けられている。このよ
うな第１の押し出しコーター１８及び第２の押し出しコ
ーター１９では、塗料溜まり２２、２３に供給された非
磁性塗料又は磁性塗料が、スリット部２０、２１を通っ
てコーター先端部にそれぞれ押し出される。

【００７６】そして、塗料が塗布される非磁性支持体１
は、この第１の押し出しコーター１８及び第２の押し出
しコーター１９の先端面に沿って図３中矢印Ｄの方向に
搬送される。

【００７７】このようにして搬送される非磁性支持体１
上には、まず第１の押し出しコーター１８を通過する際
に、スリット部２０から押し出された非磁性塗料が塗布
されて非磁性塗膜２４が形成される。そして、第２の押
し出しコーター１９を通過する際に、スリット部２１か
ら押し出された磁性塗料が湿潤状態の非磁性塗膜２４上
に塗布され、磁性塗膜２５が形成される。

【００７８】なお、これら第１の押し出しコーター１８
及び第２の押し出しコーター１９への塗料の供給は、イ
ンラインミキサーを介して行うようにしても良い。

【００７９】このように、非磁性塗膜２４と磁性塗膜２
５とが形成された非磁性支持体１は、配向用磁石１５、
乾燥器１６、カレンダー装置１７に順次搬送される。

【００８０】配向用磁石１５では、磁性層となる磁性塗
膜２５が磁場配向処理される。なお、配向用磁石１５と
しては、長手配向用磁石又は垂直配向用磁石、或いは磁
気ディスク等を製造する場合にはランダム配向用磁石が
用いられる。これら配向用磁石１５は、磁性層３に含有
される磁性粉末の種類に応じて適宜選択される。これら
配向用磁石１５の磁場は、一般に２０〜１０，０００ガ
ウス程度であるのが望ましいが、ランダム配向の場合に
はその限りではない。

【００８１】乾燥器１６では、当該乾燥器１６内の上下
に配されたノズルからの熱風によって、非磁性塗膜２４
及び磁性塗膜２５が乾燥される。このときの乾燥条件と
しては、温度が約３０〜１２０℃、乾燥時間が約０．１
〜１０分間程度であることが好ましい。

【００８２】そして、乾燥器１６を通過した非磁性支持
体１は、さらにカレンダー装置１７に導かれ、表面平滑
処理が施される。このカレンダー装置１７による表面平
滑処理では、温度、線圧力及び搬送スピード等が重要と
なる。すなわち、表面平滑処理条件として、温度は５０
〜１４０℃、線圧力は５０〜１０００ｋｇ／ｃｍ²、搬
送スピードは２０〜１０００ｍ／分であることが好まし
い。これらの条件を満足しない場合には、磁性層３の表
面性が損なわれる虞れがある。

【００８３】なお、この塗膜形成装置１０では、非磁性
塗料及び磁性塗料が分離された別々のコーターで塗布さ
れていたが、このような塗布装置１４に限定されるもの
ではない。すなわち、図４に示すように、第１の押し出
しコーター１８と第２の押し出しコーター１９とが一体
化してなる押し出しコーター２６を備える塗布装置２７
であってもよい。

【００８４】また、上述した塗膜形成装置１０では、非
磁性塗料と磁性塗料とが逐次的に塗布されような塗布装
置１４，２７を用いたが、これに限定されず、非磁性塗
料及び磁性塗料を同時に塗布するような塗布装置であっ
てもよい。すなわち、図５に示すように、２つのスリッ
トが近接して形成された押し出しコーター２８を備える
塗布装置２９を用い、この押し出しコーター２８によっ
て非磁性塗料、磁性塗料を同時に塗布するようにしても
良い。

【００８５】この塗布装置２９は、押し出しコーター２
８の先端部に塗料が押し出される第１のスリット部３０
及び第２のスリット部３１が近接して形成され、これら
２つのスリット部３０，３１の背面側に非磁性塗料が供
給される第１の塗料溜まり３３及び磁性塗料が供給され
る第２の塗料溜まり３４がそれぞれ設けられている。

【００８６】この塗布装置２９では、第１の塗料溜まり
３３に供給された非磁性塗料が第１のスリット部３０か
ら非磁性支持体１上へ塗布され、非磁性塗膜２４が形成
される。そして、第２の塗料溜まり３４に供給された磁
性塗料が第２のスリット部３１から湿潤状態の非磁性塗
膜２４上にほぼ同時に塗布され、磁性塗膜２５が形成さ
れる。

【００８７】また、上述した塗布装置１４，２７，２９
において、押し出しコーターが用いられたが、バースロ
ール、グラビアロール、エアドクターコーター、ブレー
ドコーター、エアナイフコーター、スクイズコーター、
含浸コーター、トランスファロールコーター、キスコー
ター、キャストコーター、スプレイコーター等を用いる
ようにしても良い。このとき非磁性塗料の塗布方式と磁
性塗料の塗布方式は同じであっても異なっていても良
い。したがって、例えば、リバースロールと押し出しコ
ーターとを組合せたり、グラビアロールと押し出しコー
ターとを組合わせて磁性塗料及び非磁性塗料を塗布する
ことも可能である。

【００８８】なお、磁気ディスクのごとく両面を使用す
る磁気記録媒体を製造する場合には、非磁性支持体１の
両面に、上述したような方法によって下層非磁性層２及
び磁性層３を形成する必要があることは言うまでもな
い。

【００８９】なお、このように非磁性支持体１の上に、
下層非磁性層２及び磁性層３が形成された磁気記録媒体
は、この後、バーニッシュ処理あるいはブレード処理等
が必要に応じて行われる。

【００９０】また、このように製造された磁気記録媒体
は、その形状がテープ状、フィルム状、シート状、カー
ド状、ディスク状又はドラム状等通常用いられる形状が
いずれも採用可能である。

【００９１】以上のように、本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法では、磁性塗料に逆チキソトロピー性を付与
するため、湿潤状態の下層非磁性層上に塗布された磁性
塗料がレベリング性を発揮する。レベリング性とは、一
般に、塗布直後の塗料が、その表面張力によって塗膜表
面を平滑化するように流動する現象をいう。上述した手
法では、逆チキソトロピー性を有する磁性塗料を用いる
ため、磁性塗料が塗布された直後において、当該磁性塗
料の流動性が非常に良くなる。その結果、この手法によ
れば、レベリングが速やかに進行することとなって、上
層磁性層３の表面の塗布スジが解消され、平滑な塗布面
を有する上層磁性層３を形成することができる。したが
って、この手法により製造された磁気記録媒体は、電磁
変換特性に優れるとともにＲＦエンベロープの形状も良
好であり、またドロップアウトの発生が低く抑えられた
ものとなる。

【００９２】

【実施例】以下、本発明のに係る磁気記録媒体の製造方
法を用いて作製した実施例について説明する。また、こ
の実施例と比較するために比較例を作製し、これら実施
例及び比較例に関して特性評価を行った。

【００９３】実施例１下記の組成に準じて、磁性塗料の各成分を秤り取り、連
続二軸混練機を用いて多段階希釈を行いながら混練し、
続いて、サンドミルを用いて分散処理を行いながら溶剤
（メチルエチルケトン：トルエン：シクロヘキサノン
（重量比）＝１：１：１なる組成の混合溶剤）を加えて
重量固形分を２８％とした磁性塗料を調整した。

【００９４】＜磁性塗料＞強磁性鉄微粉末１００重量部（同和鉱業（株）社製、保磁力Ｈｃ：２２００Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ、長軸長：０．１μｍ、針状比：３、飽和磁化量σｓ：１４５ｅｍｕ／ｇ）結合剤：４級アンモニウム塩基含有塩化ビニル系樹脂１６重量部（日本ゼオン（株）社製、平均重合度：約１５０）ポリウレタン系樹脂４重量部（東洋紡績（株）社製、分子量Ｍｗ：約４００００） α−アルミナ（住友化学工業（株）社製、基本粒径：０．２μｍ）５重量部ミリスチン酸（花王（株）製）１重量部ブチルステアレート（松本油脂（株）製）１重量部また、下記の組成に準じて、非磁性塗料の各成分を秤り
取り、連続二軸混練機を用いて多段階希釈を行いながら
混練し、続いて、サンドミルを用いて分散処理を行いな
がら溶剤（メチルエチルケトン：トルエン：シクロヘキ
サノン（重量比）＝１：１：１なる組成の混合溶剤）を
加えて重量固形分を３４％とした非磁性塗料を調整し
た。

【００９５】＜非磁性塗料＞ α−Ｆｅ₂Ｏ₃ １００重量部（戸田工業（株）社製、ＢＥＴ法による比表面積：５２．６ｍ²／ｇ、長軸径：０．１５μｍ、針状比：６．５）カーボンブラック２４重量部（デグサ（株）製「ＰＲＩＮＴＥＸ５５」、平均粒径：２５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：４８ｍｌ／１００ｇ）結合剤：塩化ビニル系樹脂（日本ゼオン（株）製）１６重量部ポリウレタン樹脂（東洋紡績（株）製）１１重量部ミリスチン酸（花王（株）製）２重量部ヘプチルステアレート（松本油脂（株）製）１重量部上述のように調製された磁性塗料について、回転粘度計
を用いて流動曲線を測定した。回転粘度計としてはレオ
メトリック・サイエンティフィック社製のＲＦＳ−２を
使用した。測定範囲は０．１〜１０００ｓ^-1とし対数軸
において等間隔となるよう、各桁５点ずつ剪断応力を測
定した。はじめに、上記測定範囲内で剪断速度を段階的
に増加させながら測定した場合の上昇流動曲線を測定
し、続いて上記測定範囲内で剪断速度を段階的に減少さ
せながら測定した場合の下降流動曲線を測定した。この
測定結果から、上昇流動曲線の剪断速度１ｓ^-1における
剪断応力τｕと、下降流動曲線の剪断速度１ｓ^-1におけ
る剪断応力τｄとの比、τｄ／τｕを求めた。なお、磁
性塗料が逆チキソトロピー性を示す場合には、τｄ／τ
ｕ＞１となる。

【００９６】このようにして調製された磁性塗料、非磁
性塗料のそれぞれに、ポリイソシアネート化合物５重量
部を添加した後、ウェット・オン・ウェット塗布方式に
よって、厚さ６２μｍのポリエチレンテレフタレート支
持体の両面に重層塗布し、塗膜が未乾燥状態である間に
磁場配向処理を行い、続いて乾燥、カレンダーによる表
面平滑処理を行うことで厚さ１．５μｍの下層非磁性
層、厚さ０．１５μｍの上層磁性層をポリエチレンテレ
フタレート支持体の両面にそれぞれ形成した。

【００９７】このようにして得られた原反磁気テープ
を、直径３．５インチの円形状に打ち抜き、磁気ディス
クを作製した。

【００９８】実施例２〜実施例５、比較例１〜比較例４磁性塗料に使用した「４級アンモニウム塩基含有塩化ビ
ニル系樹脂」の配合比或いは使用する樹脂の種類、及び
重量固形分を表１に示すようにした以外は、実施例１と
同様にして磁気ディスクを作製した。

【００９９】

【表１】

【０１００】特性評価試験以上のように作製された実施例１〜５及び比較例１〜４
の各磁気ディスクについて、塗布スジの状態評価、表面
粗さ（Ｒａ）、電磁変換特性、ＲＦエンベロープ及びド
ロップアウトを測定した。

【０１０１】＜塗布スジの状態評価＞上層磁性層表面を
微分干渉式顕微鏡を用いて観察した。このとき、表面が
かなり平滑で塗布スジがまったく見られない状態である
と判断された場合を○、やや荒れていて塗布スジがわず
かに見られると判断された場合を△、かなり荒れていて
塗布スジが多く認められると判断された場合を×とし
た。

【０１０２】＜表面粗さ（Ｒａ）＞表面粗さ（Ｒａ）と
しては、ＪＩＳＢ０６０１で規定される中心線平均
粗さ（Ｒａ）を測定した。この表面粗さ（Ｒａ）はテー
ラーホプソン社製のタリーステップ粗さ計を用いて測定
した。測定条件は、スタイラスが２．５×０．１μｍ、
針圧が２ｍｇ、カット・オフ・フィルターが０．３３Ｈ
ｚ、測定スピードが２．５μｍ／ｓ、基準長が０．５ｍ
ｍである。なお、粗さ曲線においては、０．０１μｍ以
上の凹凸はカットした。

【０１０３】＜電磁変換特性（ＲＦ出力）＞磁気ディス
クドライブ（ソニー社製商品名：ＭＰＦ−４２Ｂ）を
改造して、ディスク回転数を３６００ｒｐｍとし、磁気
ヘッドにギャップ長０．２μｍの薄膜ヘッドを用いて、
各磁気ディスクの最外周トラック上を走行させ、その際
に磁気ヘッドに生ずる３５ＭＨｚの出力成分を測定する
ことで評価した。測定結果としては、実施例１の磁気デ
ィスクでの値を０ｄＢとしたときの相対値とした。

【０１０４】＜ＲＦエンベロープ＞各磁気ディスクを、
電磁変換特性の評価に使用した磁気ディスクドライブ上
で回転させ、そのときのＲＦエンベロープをオシロスコ
ープに映し出し、エンベロープの最大値と最小値の比率
を求めることで評価した。

【０１０５】＜ドロップアウト＞１分間あたりに検出さ
れる−１２ｄＢ／５μｓの出力低下の回数（ドロップア
ウト個数）を測定した。

【０１０６】これらの特性評価試験の結果を表２に示
す。

【０１０７】

【表２】

【０１０８】この表２からわかるように、磁性塗料が逆
チキソトロピー性を示す、すなわちτｄ／τｕ＞１であ
る実施例１〜５の磁気ディスクは、塗布スジが少なく表
面性が良好で、電磁変換特性に優れ、ドロップアウトが
少ない。

【０１０９】これに対して、磁性塗料が逆チキソトロピ
ー性を示さない、すなわちτｄ／τｕ≦１である比較例
１〜４は、塗布スジのために表面粗度が悪化し、電磁変
換特性が劣り、ドロップアウトも多発する。

【０１１０】また、実施例１〜５を比較すると、スルホ
ン酸塩基及び／又は４級アンモニウム塩と水酸基及びエ
ポキシ基とを有する塩化ビニル系樹脂における平均重合
度が１００〜２００である実施例１〜３の磁気ディスク
は、特に優れた表面性を有し、電磁変換特性に最も優
れ、ドロップアウトも比較的少ない。これに対して、実
施例４及び実施例５は、当該平均重合度が１００〜２０
０を外れているため、比較例１〜４と比較して優れた表
面性を有しているが、実施例１〜３と比較して表面性に
劣っている。

【０１１１】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る磁気記録媒体の製造方法によれば、磁性塗料が逆チ
キソトロピー性を有するため、塗布後の流動性が非常に
良くなり、レベリングが速やかに進行することとなっ
て、結果として表面の塗布スジが解消され、平滑な塗布
面が得られることになる。したがって、この手法によれ
ば、電磁変換特性に優れ、ドロップアウトの少ない磁気
記録媒体を確実に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法により製
造される磁気記録媒体の要部縦断面図である。

【図２】ウェット・オン・ウェット塗布方式で下層非磁
性層及び上層磁性層を形成するための塗膜形成装置を示
す模式図である。

【図３】塗膜形成装置の塗布装置のー例を示す模式図で
ある。

【図４】塗布装置の他の例を示す模式図である。

【図５】塗布装置の他の例を示す模式図である。

【符号の説明】

１非磁性支持体、２下層非磁性層、３上層磁性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4J038 CD041 DD001 DG001 GA03 GA07 GA08 GA13 HA066 HA216 KA06 KA07 KA20 LA06 MA14 MA15 NA22 PA13 PA14 PB11 PC08 5D112 AA03 AA05 BB08 BB17 CC02 JJ06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に、非磁性粉末及び結合
剤を溶剤とともに分散させることで調製された非磁性塗
料を塗布して下層非磁性層を形成し、当該下層非磁性層
が湿潤状態のうちに、強磁性粉末及び結合剤を溶剤とと
もに分散させることで調製された磁性塗料を塗布して上
層磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上記磁性塗料が逆チキソトロピー性を有することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】上記磁性塗料に対して剪断速度を増加さ
せながら測定した流動曲線の、剪断速度１ｓ^-1における
剪断応力τｕと、剪断速度を減少させながら測定した流
動曲線の、剪断速度１ｓ^-1における剪断応力τｄとの比
τｄ／τｕが、２≦τｄ／τｕ≦１０であることを特徴
とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】上記磁性塗料中に、スルホン酸塩基及び
／又は４級アンモニウム塩基と水酸基及びエポキシ基と
を有するとともに平均重合度が１００〜２００である塩
化ビニル系共重合体を含有することを特徴とする請求項
１記載の磁気記録媒体の製造方法。