JP2001048867A - チオ酢酸アミド化合物及び農園芸用殺菌剤 - Google Patents

チオ酢酸アミド化合物及び農園芸用殺菌剤

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JP2001048867A
JP2001048867A JP11222635A JP22263599A JP2001048867A JP 2001048867 A JP2001048867 A JP 2001048867A JP 11222635 A JP11222635 A JP 11222635A JP 22263599 A JP22263599 A JP 22263599A JP 2001048867 A JP2001048867 A JP 2001048867A
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功 多田
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朋三 小村
Masahiro Tanaka
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 薬剤感受性菌のみならず、薬剤耐性菌にも卓
効を示す、新しいタイプの農園芸用殺菌剤を提供する。 【解決手段】 下記一般式(1)で表されるチオ酢酸ア
ミド化合物。 【化1】 〔式中、Rは水素原子、C1−4アルキル基など、R
及びRは同一又は異なって、水素原子又はC1−4
アルキル基を示す。Xはハロゲン原子、C1−4アルキ
ル基など、Yはハロゲン原子、C1−4アルキル基など
を示す。mは0〜4の整数を示す。nは0〜5の整数を
示す。〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なチオ酢酸ア
ミド化合物及び農園芸用殺菌剤に関する。
【0002】
【従来の技術】殺菌剤の長年にわたる使用により、近
年、薬剤耐性菌が出現したことで、ベンズイミダゾール
剤等の従来の殺菌剤による防除が困難になってきてお
り、新しいタイプの薬剤が要望されている。従来、本発
明のチオ酢酸アミド化合物に類似のものとしては、例え
ば、特開昭56−158769号公報に記載の、下記一
般式(5)で表される複素環置換チオグリコール酸アニ
リドを挙げることができる。しかしながら、該アニリド
の殺菌活性には、アニリド部窒素原子上の置換基「A」
が必須であり、アニリド部窒素原子上に置換基を有しな
い化合物が優れた殺菌活性を有することは該公報には全
く示唆されていない。
【0003】
【化2】
【0004】〔式中、Aは基−CH(A)−CO−A
、基−CH(A)CN又は式(6)の基を示す。A
はC1−3アルキル基、ハロゲン原子、C1−3アル
コキシ基、C1−3アルキルチオ基又はC2−4アルケ
ニル基を示す。Aは水素原子又はC1−3アルキル基
を示す。Aはメチル基又はハロゲン原子を示す。A
及びAは水素原子又はメチル基を示す。Aはヒドロ
キシ基、C1−4アルコキシ基、C1−3アルキルチオ
基、C1−2アルコキシエトキシ基、アミノ基、C1−
2アルキルアミノ基、ジ(C1−2アルキル)アミノ基
又はO−Cat(Catは無機又は有機の塩基の陽イオ
ン当量、好ましくはNa、K、1/2Ca又はアンモニ
ウムを示す)を示す。HetはN、O及びSからなる群
から選ばれた4個までのヘテロ原子を有する5〜6員
の、飽和又は不飽和の、場合によってはベンゼン環と縮
合した複素環基を示す。p及びqはそれぞれ0〜2の整
数を示す。〕
【0005】
【化3】
【0006】また、特開平5−140125号公報に
は、一般式(7)で表されるトリアゾール誘導体が除草
活性を有することが記されている。しかしながら、該ト
リアゾール誘導体の殺菌活性については何ら記載されて
おらず、また、硫黄原子に結合するヘテロ環はトリアゾ
ール環に限られており、ベンズイミダゾール環について
は一切記載されていず、本発明化合物とは構造が相異す
る。
【0007】
【化4】
【0008】〔式中、B及びBは同一又は異なっ
て、水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基、フェニル基、ア
ラルキル基を示すか、又はハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基から選ばれる1種以上の基で置換
されたフェニル基を示すか、又はB及びBは隣接す
る窒素原子と共に飽和ヘテロ環を形成してもよい。B
は水素原子、低級アルキル基、フェニル基を示すか、又
はハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基か
ら選ばれる1種以上の基で置換されたフェニル基を示
す。B及びBは同一又は異なって、低級アルキル
基、低級アルケニル基を示すか、又はBとBで環を
形成する低級アルキレン基を示す。rは0〜2の整数を
示す。〕
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、薬剤
感受性菌のみならず、薬剤耐性菌にも卓効を示す、新し
いタイプの農園芸用殺菌剤を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(1)で表されるチオ酢酸アミド化合物、及び該チオ酢
酸アミド化合物を有効成分として含有する農園芸用殺菌
剤に係る。
【0011】
【化5】
【0012】〔式中、Rは水素原子、C1−4アルキ
ル基、C1−4アルケニル基、C1−4アルキニル基、
C1−4ハロアルキル基、C1−4アルコキシC1−4
アルキル基、C1−4アルキルカルボニル基、C1−4
アルコキシカルボニル基、ベンジル基又はベンゾイル基
を示す。R及びRは同一又は異なって、水素原子又
はC1−4アルキル基を示す。Xはハロゲン原子、C1
−4アルキル基、C1−4ハロアルキル基、C1−4ア
ルコキシ基、C1−4ハロアルコキシ基、C1−4アル
コキシカルボニル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。Y
はハロゲン原子、C1−4アルキル基、C1−4ハロア
ルキル基、C1−4アルコキシ基、C1−4ハロアルコ
キシ基、C1−4アルキルスルフェニル基、C1−4ア
ルキルスルフィニル基、C1−4アルキルスルホニル
基、C1−4アルコキシカルボニル基、フェニル基、フ
ェノキシ基、ベンジル基、ニトロ基又はシアノ基を示
す。mは0〜4の整数を示す。nは0〜5の整数を示
す。〕
【0013】本発明者は鋭意研究を重ねた結果、農業上
問題となる各種の病原菌に対して優れた殺菌活性を有す
る新規チオ酢酸アミド化合物を見い出すことに成功し、
ここに本発明を完成した。上記一般式(1)で表される
本発明のチオ酢酸アミド化合物は、広い殺菌スペクトル
を有し、薬剤感受性菌のみならず、薬剤耐性菌をも防除
し得る優れた殺菌活性を有している。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明において、R、R、R
、X、Y、m及びnで示される各基は、具体的には以
下のものを挙げることができる。ハロゲン原子として
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等を挙げることができる。C1−4アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec
−ブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜4の直
鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。
【0015】C1−4ハロアルキル基としては、例え
ば、フルオロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル
基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−
フルオロエチル基、2−クロロエチル基、1−フルオロ
エチル基、ペンタフルオロエチル基、1−フルオロプロ
ピル基、2−クロロプロピル基、3−フルオロプロピル
基、3−クロロプロピル基、1−フルオロブチル基、1
−クロロブチル基、4−フルオロブチル基等の、1〜9
個のハロゲン原子で置換された、炭素数1〜4の直鎖状
又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。C1
−4アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基
等の炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基
を挙げることができる。
【0016】C1−4ハロアルコキシ基としては、例え
ば、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロモメ
トキシ基、ヨードメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、
トリフルオロメトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2
−クロロエトキシ基、1−フルオロエトキシ基、2,2,
2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ
基、1−フルオロプロポキシ基、2−クロロプロポキシ
基、3−フルオロプロポキシ基、3−クロロプロポキシ
基、1−フルオロブトキシ基、1−クロロブトキシ基、
4−フルオロブトキシ基等の、1〜9個のハロゲン原子
で置換された、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のア
ルコキシ基を挙げることができる。
【0017】C2−4アルケニル基としては、例えば、
エチレン基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1
−メチル−1−プロペニル基、1−メチル−2−プロペ
ニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−
2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、
3−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基等の炭素数2
〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基を挙げること
ができる。C2−4アルキニル基としては、例えば、エ
チニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−
メチル−2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチ
ニル基、3−ブチニル基等の炭素数2〜4の直鎖状又は
分岐鎖状のアルキニル基を挙げることができる。
【0018】C1−4アルコキシC1−4アルキル基と
しては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル
基、2−イソプロポキシエチル基、2−n−ブトキシエ
チル基等の、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアル
キル基に炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキ
シ基が置換したアルコキシアルキル基を挙げることがで
きる。C1−4アルキルカルボニル基としては、例え
ば、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プ
ロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、n−
ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、sec
−ブチルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基
等の、アルキル部分が炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖
状であるアルキルカルボニル基を挙げることができる。
【0019】C1−4アルコキシカルボニル基として
は、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブトキシ
カルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、ter
t−ブトキシカルボニル基等の、アルコキシ部分が炭素
数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状であるアルコキシカルボ
ニル基を挙げることができる。C1−4アルキルスルフ
ェニル基としては、例えば、メタンスルフェニル基、エ
タンスルフェニル基、1−プロパンスルフェニル基、2
−プロパンスルフェニル基、1−ブタンスルフェニル
基、2−メチル−1−プロパンスルフェニル基、2−ブ
タンスルフェニル基、1,1−ジメチルエタンスルフェ
ニル基等の、アルキル部分が炭素数1〜4の直鎖状又は
分岐鎖状であるアルキルスルフェニル基を挙げることが
できる。
【0020】C1−4アルキルスルフィニル基として
は、例えば、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニ
ル基、1−プロパンスルフィニル基、2−プロパンスル
フィニル基、1−ブタンスルフィニル基、2−メチル−
1−プロパンスルフィニル基、2−ブタンスルフィニル
基、1,1−ジメチルエタンスルフィニル基等の、アル
キル部分が炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状であるア
ルキルスルフィニル基を挙げることができる。C1−4
アルキルスルホニル基としては、例えば、メタンスルホ
ニル基、エタンスルホニル基、1−プロパンスルホニル
基、2−プロパンスルホニル基、1−ブタンスルホニル
基、2−メチル−1−プロパンスルホニル基、2−ブタ
ンスルホニル基、1,1−ジメチルエタンスルホニル基
等の、アルキル部分が炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖
状であるアルキルスルホニル基を挙げることができる。
【0021】本発明のチオ酢酸アミド化合物(1)の中
でも、Rがアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
又はハロアルキル基であり、R及びRが水素原子で
ある化合物が好ましく、Rがアルキル基又はハロアル
キル基であり、R及びRが水素原子である化合物が
特に好ましい。本発明のチオ酢酸アミド化合物(1)
は、例えば、下記の反応工程式−1に従って製造でき
る。
【0022】
【化6】 〔式中、R、R、R、X、Y、m及びnは前記に
同じ。Zはハロゲン原子を示す。〕
【0023】即ち反応工程式−1によれば、2−チオベ
ンズイミダゾール(2)と、α−ハロゲノアセトアニリ
ド(3)とを、必要に応じて溶媒及び塩基の存在下で反
応させることにより、本発明のチオ酢酸アミド化合物
(1)を得ることができる。本反応において、2−チオ
ベンズイミダゾール(2)とα−ハロゲノアセトアニリ
ド(3)との使用割合は特に制限されず、広い範囲から
適宜選択できるが、通常は等モル比又はその付近でよ
い。
【0024】本反応を溶媒中で実施する場合、該溶媒と
しては本反応に対して不活性な溶媒であれば特に制限さ
れず、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等
の炭化水素類、ベンゼン、クロルベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニ
トリル等のニトリル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアル
コール等の低級アルコール類、N,N−ジメチルホルム
アミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、ジメチル
スルホキシド等を使用できる。また、これらの溶媒は必
要に応じて2種以上を混合して用いてもよく、更に水と
混合して使用することもできる。
【0025】本反応を触媒としての塩基の存在下に実施
する場合、該塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、カリウ
ムtert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等のア
ルコラート類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基等を使用できる。これらの塩基は、必要に応じて、2
種以上を混合して用いてもよい。塩基の使用量は、通常
化学量論量又はそれ以上とすればよいが、好ましくは化
学量論量かそれより1.0〜5.0倍過剰な量とすればよ
い。また、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を
用いる場合は、大過剰量とし、塩基と溶媒との両方の役
割を兼ねさせてもよい。
【0026】本反応は、通常−20℃〜使用する溶媒の
沸点温度までの温度範囲で実施することができ、通常
0.5〜24時間程度で終了する。また、本発明のチオ
酢酸アミド化合物(1)は、下記の反応工程式−2に従
い、チオ酢酸アミド化合物(1a)とハロゲン化物
(4)とを、必要に応じて溶媒及び塩基の存在下に反応
させることによっても製造できる。
【0027】
【化7】 〔式中、R、R、R、X、Y、Z、m及びnは前
記に同じ。〕
【0028】本反応において、チオ酢酸アミド化合物
(1a)とハロゲン化物(4)との使用割合は特に制限
されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル
比又はその付近とすればよい。本反応を溶媒中で実施す
る場合、該溶媒としては本反応に対して不活性な溶媒で
あれば特に制限されず、例えば、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ヘプタン等の炭化水素類、ベンゼン、クロルベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化
メチレン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニト
リル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル類、メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール等の低級アルコール類、N,N
−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のア
ミド類、ジメチルスルホキシド等を使用できる。また、
これらの溶媒は必要に応じて2種以上を混合して用いて
もよく、更に水と混合して使用することもできる。
【0029】本反応を触媒としての塩基の存在下に実施
する場合、該塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、カリウ
ムtert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等のア
ルコラート類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基等を使用できる。これらの塩基は、必要に応じて、2
種以上を混合して用いてもよい。塩基の使用量は、通常
化学量論量又はそれ以上とすればよいが、好ましくは化
学量論量かそれより1.0〜5.0倍過剰な量とすればよ
い。また、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を
用いる場合は、大過剰量とし、塩基と溶媒との両方の役
割を兼ねさせてもよい。
【0030】本反応は、通常−20℃〜使用する溶媒の
沸点温度までの温度範囲で実施することができ、通常
0.5〜24時間程度で終了する。上記反応により得ら
れる本発明のチオ酢酸アミド化合物(1)は、例えば、
濾過、溶媒抽出、蒸留、再結晶、クロマトグラフィー等
の通常の手段によって、反応系から容易に単離精製でき
る。
【0031】尚、本発明のチオ酢酸アミド化合物(1)
を製造する際に使用する原料化合物のうち、2−チオベ
ンズイミダゾール(2)は商業的に入手できるか、又
は、例えば、Organic Synthesis誌第
30巻56頁(1950年)に記載の方法等の公知の方
法に従って製造できる。例えば、フェニレンジアミン
(例えば、3−アミノ−4−メチルアミノベンゾトリフ
ロリド)とジチオ炭酸塩(例えば、カリウム O−エチ
ルジチオカーボネート)とを不活性な溶媒(例えば、エ
タノール)中で反応させると、2−チオベンズイミダゾ
ール(2)(例えば、1−メチル−2−チオ−5−トリ
フルオロメチルベンズイミダゾール、一般式(2)にお
いて、R=メチル基、(X)m=5−トリフルオロメ
チル基である化合物)が得られる。
【0032】また、α−ハロゲノアセトアニリド(3)
は商業的に入手できるか、又は当業者に周知の手順によ
って製造することが出来る。例示すると、ハロゲン化α
−ハロ酢酸(例えば、クロロ酢酸クロリド)と置換アニ
リド(例えば、2−フルオロアニリン)とを不活性な溶
媒(例えば、酢酸エチル)中、塩基(例えば、ピリジ
ン)存在下で反応させると、α−ハロゲノアセトアニリ
ド(3)(例えば、2−クロロ−2'−フルオロアセト
アニリド、一般式(3)において、R=水素、R
水素、(Y)n=2−F、Z=塩素である化合物)が得
られる。ハロゲン化物(4)は、商業的に入手できる
か、又は当業者に周知の手順によって製造できる。
【0033】本発明のチオ酢酸アミド化合物は、そのま
ま殺菌剤として使用できるが、油剤、乳剤、水和剤、フ
ロアブル剤、粒剤、粉剤、エアゾール剤、煙霧剤等の任
意の形態に製剤化して使用することもできる。この時、
本発明のチオ酢酸アミド化合物(1)の含有量は特に制
限されず、製剤形態、対象病害や作物の種類、病害の程
度、施用場所、施用時期、施用方法、併用する薬剤(殺
虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物成長
調節剤、共力剤、土壌改良剤)の有無や種類、使用量、
併用する肥料の有無や種類、使用量等の種々の条件に応
じて広い範囲から適宜選択できるが、通常製剤全量の
0.01〜95重量%程度、好ましくは0.1〜50重量
%程度とすればよい。
【0034】本発明のチオ酢酸アミド化合物(1)を有
効成分として含有する殺菌剤の製剤は、公知の方法に従
って製造できる。例えば、チオ酢酸アミド化合物(1)
と固形状担体、液状担体、ガス状担体等の担体を混合
し、必要に応じて、界面活性剤、その他の製剤用補助剤
等を添加すればよい。担体としては、この分野で常用さ
れるものをいずれも使用できる。
【0035】固形状担体としては、例えば粘土類(珪藻
土、カオリンクレー、合成含水酸化珪素、ベントナイ
ト、フバサミクレー、酸性白土等)、タルク類、セラミ
ック、ホワイトカーボン、その他の無機鉱物(セライ
ト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ
等)、化学肥料(硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等)等
を挙げることができる。
【0036】液状担体としては、例えば、水、アルコー
ル類(メタノール、エタノール等)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルケトン等)、芳香族炭化水素類(ベン
ゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナ
フタレン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、シクロヘ
キサン、灯油、軽油等)、エステル類(酢酸エチル、酢
酸ブチル等)、ニトリル類(アセトニトリル、イソブチ
ロニトリル等)、エーテル類(ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン等)、酸アミド類(N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、ハロ
ゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、トリクロロエタ
ン、四塩化炭素等)、ジメチルスルホキシド、大豆油、
綿実油等の植物油等を挙げることができる。
【0037】ガス状担体、即ち、噴射剤としては、ブタ
ンガス、LPG(液化石油ガス)、ジメチルエーテル、
炭酸ガス等を挙げることができる。界面活性剤として
は、例えば、アルキル硫酸エステル類、アルキルスルホ
ン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリ
ールエーテル類及びそのピロポキシエチレン化物、ポリ
エチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステ
ル類、糖アルコール化合物等を挙げることができる。
【0038】製剤用補助剤としては、例えば、カゼイ
ン、ゼラチン、多糖類(でんぷん粉、アラビアガム、セ
ルロース化合物、アルギン酸等)、リグニン化合物、ベ
ントナイト、糖類、合成水溶性高分子(ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等)
等の固着剤、PAP(酸性リン酸イソプロピル)、BB
H(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、BHA(2−tert−ブチル−4−メトキシ
フェノールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェ
ノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸とそのエ
ステル等の安定剤等を挙げることができる。
【0039】このように得られる本発明殺菌剤の製剤
は、そのまま使用してもよく又は水、担体等で希釈して
用いてもよい。また、他の殺菌剤、除草剤、殺虫剤、殺
線虫剤、殺ダニ剤、植物生長調節剤、共力剤、土壌改良
剤等と混合して用いてもよく、又は混合せずに同時に用
いることもできる。
【0040】本発明の殺菌剤を農園芸用に用いる場合の
施用量は特に制限されず、有効成分濃度、製剤形態、対
象病害や作物の種類、病害の程度、施用場所、施用時
期、施用方法、併用する薬剤(殺虫剤、殺線虫剤、殺ダ
ニ剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、共力剤、土壌
改良剤)の有無や種類、使用量、併用する肥料の有無や
種類、使用量等の種々の条件に応じて広い範囲から適宜
選択できるが、通常1000m当たり0.001〜1
00g程度とすればよい。乳剤、水和剤、フロアブル剤
等を水で希釈して用いる場合は、その施用濃度は通常
0.1〜1000ppm程度、好ましくは1〜500p
pm程度とすればよい。粒剤、粉剤等は希釈することな
くそのままの製剤で使用される。
【0041】本発明化合物及び殺菌剤は、優れた殺菌活
性と広い活性スペクトルを有することが特徴であり、例
えば、イネいもち病菌、イネ紋枯病菌、リンゴうどんこ
病菌、リンゴ斑点枯葉病菌、カキうどんこ病菌、ブドウ
うどんこ病菌、オオムギうどんこ病菌、コムギうどんこ
病菌、キュウリうどんこ病菌、トマト疫病菌、イチゴう
どんこ病菌、タバコうどんこ病菌等の各種病原菌による
病害の防除に使用することができる。
【0042】
【実施例】以下に本発明化合物の製造例、製剤例及び試
験例を掲げて本発明をより一層明らかにするが、何らこ
れらに限定されるものではない。
【0043】製造例1 2−(ベンズイミダゾール−2
−イル)チオ−5'−クロロ−2'−メチルアセトアニリ
ド(化合物1)の製造 2−チオベンズイミダゾール4.0g(15.2ミリモ
ル)と2,5'−ジクロロ−2'−メチルアセトアニリド
2.3g(15.2ミリモル)とをアセトニトリル90m
lに溶解し、炭酸カリウム2.5g(18.2ミリモル)
を加え、5時間撹拌加熱還流した。得られた反応混合物
に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。抽出液を併
せ、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた固形状残
渣をエーテルで洗浄し、乳白色固体の目的物4.43g
(収率88%)を得た。融点:183−184℃。
【0044】製造例2 5'−クロロ−2'−メチル−2
−(1−メチルベンズイミダゾール−2−イル)チオア
セトアニリド(化合物2)の製造 製造例1で得た2−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオ−5'−クロロ−2'−メチルアセトアニリド2.5
g(7.5ミリモル)と炭酸カリウム1.2g(9.0ミ
リモル)とをアセトニトリル50mlに懸濁し、ヨウ化
メチル1.2g(8.3ミリモル)を加え、4時間撹拌加
熱還流した。得られた反応混合物に水を加え、酢酸エチ
ルで2回抽出した。抽出液を併せ、水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製
し、白色固体の目的物2.2g(収率85%)を得た。
融点:150−152℃。
【0045】製造例3 2−(1−アセチルベンズイミ
ダゾール−2−イル)チオ−5'−クロロ−2'−メチル
アセトアニリド(化合物11)の製造 製造例1で得た2−(ベンズイミダゾール−2−イル)
チオ−5'−クロロ−2'−メチルアセトアニリド2.0
g(6.0ミリモル)とピリジン1.0g(12.0ミリ
モル)とをテトラヒドロフラン10mlに溶解し、塩化
アセチル0.5g(7.2ミリモル)のテトラヒドロフラ
ン(5ml)溶液を加え、室温で1時間撹拌した。得ら
れた反応混合物に水を加え、酢酸エチルで2回抽出し
た。抽出液を併せ、1N塩酸、1N水酸化カリウム及び
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した。得られた残渣をヘキサン−酢酸エ
チル中より結晶化し、乳白色固体状の目的物1.8g
(収率80%)を得た。融点:203−204℃。
【0046】製造例4 2'−フルオロ−2−(1−メ
チル−5−トリフルオロメチルベンズイミダゾール−2
−イル)チオ−5'−トリフルオロメチルアセトアニリ
ド(化合物20)の製造 1−メチル−2−チオ−5−トリフルオロメチルベンズ
イミダゾール0.33g(2.2ミリモル)と2,5'−ジ
クロロ−2'−メチルアセトアニリド0.47g(2.2
ミリモル)とをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、
28%ナトリウムメトキシド0.41g(2.1ミリモ
ル)を加え、30分間撹拌加熱還流した。得られた反応
混合物に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。抽出液
を併せ、1N塩酸、1N水酸化カリウム及び飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を留去した。得られ残渣をヘキサン−酢酸エチル中よ
り結晶化し、乳白色固体状の目的物0.8g(収率89
%)を得た。融点:157−159℃。
【0047】製造例5 2'−フルオロ−2−(1−メ
チルベンズイミダゾール−2−イル)チオ−5'−トリ
フルオロメチルアセトアニリド(化合物71)の製造 1−メチル−2−チオベンズイミダゾール0.33g
(2.0ミリモル)と2−クロロ−2'−フルオロ−5'
−トリフルオロアセトアニリド0.51g(2.0ミリモ
ル)とをアセトニトリル20mlに溶解し、炭酸カリウ
ム0.33g(2.4ミリモル)を加え、5時間撹拌加熱
還流した。得られた反応混合物に水を加え、酢酸エチル
で2回抽出した。抽出液を併せ、水及び飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製し、
白色固体状の目的物0.69g(収率90%)を得た。
融点:139−141℃。
【0048】上記製造例に示した方法に準じて製造した
化合物を表1〜3に示す。なお表において、Meはメチ
ル、Etはエチル、iPrはイソプロピル、nBuはn
-ブチル、Phはフェニルを示す。
【0049】
【表1】
【0050】
【表2】
【0051】
【表3】
【0052】以下に化合物1〜73の物理化学的性質を
示す。尚、1H−NMRはテトラメチルシラン(TM
S)を標準物質として測定した。
【0053】化合物1 融点:183−184℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.25(s,3
H),4.06(s,2H),6.95−7.05(m,
2H),7.2−7.3(m,2H),7.3−7.4
(m,1H),7.5−7.7(m,1H),8.11
(d,1H),9.33(bs,1H),10.21(b
s,1H)
【0054】化合物2 融点:150−152℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),3.71(s,3H),4.10(s,2H),
6.96(dd,1H),7.01(d,1H),7.2
−7.3(m,3H),7.5−7.6(m,1H),8.
15(d,1H),10.40(bs,1H)
【0055】化合物3 融点:162−163℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.43(t,3
H),2.24(s,3H),4.10(s,2H),
4.15(q,2H),6.96(dd,1H),7.0
1(d,1H),7.2−7.3(m,3H),7.65
−7.75(m,1H),8.16(d,1H),10.
43(bs,1H)
【0056】化合物4 融点:122−124℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.65(d,6
H),2.23(s,3H),4.11(s,2H),
4.55−4.7(m,1H),6.9−7.0(m,2
H),7.2−7.3(m,2H),7.47(dd,1
H),7.61(dd,1H),8.16(d,1H),
10.41(bs,1H)
【0057】化合物5 融点:88−89℃ 1H−NMR(CDCl)δ:0.95−1.0(m,
3H),1.3−1.5(m,2H),1.7−1.9
(m,2H),2.23(s,3H),4.06(t,2
H),4.09(s,2H),4.55−4.7(m,1
H),6.96(dd,1H),7.01(d,1H),
7.2−7.3(m,3H),7.5−7.6(m,1
H),8.15(d,1H),10.44(bs,1H)
【0058】化合物6 融点:131−132℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),4.09(s,2H),4.7−4.8(m,2
H),5.12(d,1H),5.28(d,1H),
5.8−6.0(m,1H),6.97(dd,1H),
7.02(d,1H),7.2−7.3(m,3H),7.
6−7.7(m,1H),8.15(d,1H),10.
40(bs,1H)
【0059】化合物7 融点:180−181℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.25(s,3
H),2.41(t,1H),4.10(s,2H),
4.87(d,2H),6.97(dd,1H),7.0
2(d,1H),7.2−7.3(m,2H),7.4−
7.5(m,1H),7.6−7.7(m,1H),8.1
5(d,1H),10.30(bs,1H)
【0060】化合物8 不定形(アモルファス) 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),4.11(s,2H),5.29(s,2H),
6.9−7.1(m,2H),7.1−7.4(m,8
H),7.6−7.7(m,1H),8.14(d,1
H),10.37(bs,1H)
【0061】化合物9 融点:162−163℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.26(s,3
H),4.11(s,2H),4.43(t,1H),
4.47(t,1H),4.68(t,1H),4.83
(t,1H),6.97(dd,1H),7.03(d,
1H),7.2−7.3(m,3H),7.6−7.7
(m,1H),8.14(d,1H),10.34(b
s,1H)
【0062】化合物10 融点:172−173℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.25(s,3
H),3.34(s,1H),4.11(s,2H),
5.45(s,2H),6.97(dd,1H),7.0
2(d,1H),7.2−7.3(m,2H),7.4−
7.5(m,1H),7.55−7.65(m,1H),
8.15(d,1H),10.27(bs,1H)
【0063】化合物11 融点:203−204℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.16(s,3
H),2.85(s,3H),4.10(s,2H),
6.9−7.0(m,2H),7.3−7.4(m,2
H),7.6−7.7(m,2H),8.15(d,1
H),9.53(bs,1H)
【0064】化合物12 融点:203−204℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),4.08(s,2H),6.79(d,1H),
6.9−7.1(m,3H),7.2−7.3(m,1
H),7.5−7.6(m,3H),7.7−7.8(m,
1H),8.18(d,1H),9.76(bs,1H)
【0065】化合物13 融点:185−186℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.15(s,3
H),4.11(s,2H),4.16(s,3H),
6.9−7.0(m,2H),7.3−7.4(m,2
H),7.60(dd,1H),7.90(dd,1
H),8.15(d,1H),9.55(bs,1H)
【0066】化合物14 融点:100−101℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.70(d,3
H),2.24(s,3H),3.68(s,3H),
4.80(q,1H),6.94(dd,1H),6.9
9(d,1H),7.2−7.3(m,3H),7.6−
7.7(m,1H),8.21(d,1H),10.30
(bs,1H)
【0067】化合物15 融点:120−122℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.79(s,6
H),2.40(s,3H),3.80(s,3H),
7.00(dd,1H),7.11(d,1H),7.2
−7.3(m,3H),7.6−7.7(m,1H),7.
86(d,1H),11.29(bs,1H)
【0068】化合物16 融点:134−136℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.22(s,3
H),2.58(s,3H),3.71(s,3H),
4.12(s,2H),6.8−7.2(m,5H),7.
83(bs,1H),10.28(bs,1H)
【0069】化合物17 融点:153−154℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),2.47(s,3H),3.68(s,3H),
4.08(s,2H),6.96(dd,1H),7.0
2(d,1H),7.08(dd,1H),7.16
(d,1H),7.39(s,1H),8.13(d,1
H),10.47(bs,1H)
【0070】化合物18 融点:174−175℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.23(s,3
H),2.49(s,3H),3.67(s,3H),
4.08(s,2H),6.95−7.0(m,2H),
7.05−7.1(m,1H),7.48(d,1H),
8.15(d,1H),10.45(bs,1H)
【0071】化合物19 融点:168−170℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.23(s,3
H),2.72(s,3H),3.39(s,3H),
4.15(s,2H),6.9−7.1(m,3H),7.
15−7.2(m,1H),7.46(d,1H),8.
11(bs,1H),10.36(bs,1H)
【0072】化合物20 融点:157−159℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.07(s,2H),7.0−7.3(m,4
H),7.42(dd,1H),8.79(dd,1
H),11.69(bs,1H)
【0073】化合物21 融点:132−134℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.23(s,3
H),3.68(s,3H),3.86(s,3H),
4.08(s,2H),6.8−7.2(m,5H),8.
14(bs,1H),10.39(bs,1H)
【0074】化合物22 融点:199−201℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.23(s,3
H),3.77(s,3H),4.14(s,2H),
6.9−7.1(m,2H),7.40(d,1H),7.
5−7.6(m,1H),7.90(bs,1H),8.
09(bs,1H),9.87(bs,1H)
【0075】化合物23 融点:174−175℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.22(s,3
H),3.76(s,3H),4.14(s,2H),
6.9−7.1(m,2H),7.37(d,1H),7.
54(d,1H),7.87(bs,1H),8.14
(bs,1H),10.04(bs,1H)
【0076】化合物24 融点:134−135℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.22(s,3
H),3.72(s,3H),4.11(s2H),6.
67(dd,1H),7.02(d,1H),7.16
(dd,1H),7.27(d,1H),7.47(s,
1H),8.17(d,1H),10.10(bs,1
H)
【0077】化合物25 融点:180−182℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),3.74(s,3H),3.96(s,3H),
4.12(s,2H),6.9−7.0(m,2H),7.
31(d,1H),7.9−8.0(m,1H),8.1
3(bs,1H),8.31(bs,1H),10.16
(bs,1H)
【0078】化合物26 融点:271−273℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.22(s,3
H),4.10(s,2H),7.0−7.1(m,2
H),7.3−7.7(m,1H),8.0−8.2(m,
2H),8.3−8.6(m,1H),9.98(bs,
1H),12.95(bs,1H)
【0079】化合物27 融点:194−195℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.21(s,3
H),3.68(s,3H),4.08(s,2H),
6.9−7.1(m,2H),7.39(s,1H),7.
67(s,1H),8.12(d,1H),9.97(b
s,1H)
【0080】化合物28 融点:158−159℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),2.36(s,3H),2.38(s,3H),
3.66(s,3H),4.06(s,2H),6.9−
7.1(m,3H),7.36(d,1H),8.13
(d,1H),10.52(bs,1H)
【0081】化合物29 融点:147−149℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.67(s,3
H),4.01(s,2H),7.0−7.1(m,1
H),7.2−7.4(m,5H),7.54(d,1
H),7.7−7.8(m,1H),11.22(bs,
1H)
【0082】化合物30 融点:130−131℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.17(s,2H),6.98(dt,1H),
7.2−7.3(m,5H),7.65−7.75(m,1
H),8.33(dd,1H),10.62(bs,1
H)
【0083】化合物31 融点:140−142℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.82(s,3
H),4.39(s,2H),7.03(d,1H),
7.19(dd,1H),7.3−7.5(m,4H),
7.83(s,1H),7.8−7.9(m,1H),1
1.30(bs,1H)
【0084】化合物32 融点:125−126℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.71(s,3
H),4.00(s,2H),7.2−7.3(m,5
H),7.4−7.5(m,2H),7.7−7.8(m,
1H),11.43(bs,1H)
【0085】化合物33 融点:158−159℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.68(s,3
H),4.17(s,2H),7.1−7.3(m,5
H),7.6−7.7(m,1H),8.2−8.3(m,
1H),10.82(bs,1H)
【0086】化合物34 融点:171−172℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.69(s,3
H),4.15(s,2H),7.2−7.3(m,5
H),7.6−7.7(m,1H),8.32(d,1
H),11.77(bs,1H)
【0087】化合物35 融点:170−171℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.16(s,2H),6.96(dd,1H),
7.2−7.3(m,4H),7.6−7.7(m,1
H),8.46(d,1H),10.77(bs,1H)
【0088】化合物36 融点:167−168℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.74(s,3
H),4.13(s,2H),7.11(dd,1H),
7.2−7.4(m,5H),7.6−7.7(m,1
H),10.96(bs,1H)
【0089】化合物37 融点:166−167℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.71(s,3
H),3.99(s,2H),7.2−7.4(m,5
H),7.65−7.75(m,1H),7.83(d,
1H),11.70(bs,1H)
【0090】化合物38 融点:165−166℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.72(s,3
H),3.98(s,2H),7.03(bs,1H),
7.2−7.3(m,3H),7.54(s,2H),7.
65−7.75(m,1H),11.32(bs,1H)
【0091】化合物39 融点:145−148℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.74(s,3
H),4.10(s,2H),7.2−7.3(m,3
H),7.34(s,2H),7.55−7.65(m,
1H),11.10(bs,1H)
【0092】化合物40 融点:124−127℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.67(s,3
H),4.07(s,2H),6.9−7.1(m,3
H),7.2−7.3(m,3H),7.7−7.8(m,
1H),8.40(t,1H),11.42(bs,1
H)
【0093】化合物41 融点:130−131℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.19(s,2H),6.94(dd,1H),
7.2−7.3(m,4H),7.47(dd,1H),
7.69(dd,1H),8.22(dd,1H),1
0.30(bs,1H)
【0094】化合物42 融点:131−132℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.26(s,3
H),3.71(s,3H),4.11(s,2H),
7.00(dd,1H),7.10(d,1H),7.1
8(dd,1H),7.2−7.3(m,3H),7.6
−7.65(m,1H),7.99(d,1H),10.
26(bs,1H)
【0095】化合物43 融点:93−95℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.04(t,3
H),2.58(q,2H),3.71(s,3H),
4.13(s,2H),7.0−7.3(m,6H),7.
6−7.65(m,1H),7.95(d,1H),1
0.15(bs,1H)
【0096】化合物44 融点:143−144℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.56(s,3
H),3.69(s,3H),4.18(s,2H),
6.76(dd,1H),6.9−7.0(m,2H),
7.2−7.3(m,3H),7.70(dd,1H),
8.35(dd,1H),10.17(bs,1H)
【0097】化合物45 融点:107−108℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.13(s,2H),7.2−7.3(m,4
H),7.4−7.6(m,3H),7.96(d,1
H),11.29(bs,1H)
【0098】化合物46 融点:139−140℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.14(s,2H),7.14(dd,1H),
7.2−7.3(m,3H),7.5−7.6(m,2
H),7.95−8.05(m,1H),8.20(d,
1H),11.29(bs,1H)
【0099】化合物47 融点:99−100℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.12(s,3
H),3.71(s,3H),4.23(s,2H),
7.03(dd,1H),7.2−7.3(m,4H),
7.35(dd,1H),7.65−7.75(m,1
H),8.18(dd,1H),10.23(bs,1
H)
【0100】化合物48 融点:120−121℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.47(s,3
H),3.74(s,3H),4.10(d,1H),
4.26(d,1H),7.2−7.3(m,4H),7.
47(dd,1H),7.60(dd,1H),7.65
−7.7(m,1H),8.07(d,1H),11.0
5(bs,1H)
【0101】化合物49 融点:163−164℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.44(s,3
H),3.77(s,3H),4.31(s,2H),
7.1−7.3(m,4H),7.55−7.65(m,2
H),7.85(dd,1H),8.32(d,1H),
10.46(bs,1H)
【0102】化合物50 油状物 1H−NMR(CDCl)δ:3.74(s,3
H),3.80(s,3H),4.34(d,2H),
7.06(t,1H),7.1−7.3(m,3H),7.
50(t,1H),7.6−7.7(m,1H),7.9
4(dd,1H),8.64(d,1H),11.60
(bs,1H)
【0103】化合物51 融点:126−128℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.59(s,3
H),4.03(s,2H),6.8−6.95(m,3
H),7.1−7.3(m,8H),7.3−7.4(m,
1H),7.99(d,1H),9.90(bs,1H)
【0104】化合物52 融点:102−103℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.72(s,3
H),4.01(s,2H),6.7−6.8(m,1
H),7.2−7.3(m,5H),7.5−7.55
(m,1H),7.7−7.75(m,1H),11.5
2(bs,1H)
【0105】化合物53 融点:116−118℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.30(s,3
H),3.71(s,3H),4.02(s,2H),
6.86(d,1H),7.15(t,1H),7.25
−7.4(m,4H),7.42(s,1H),7.7−
7.75(m,1H),11.12(bs,1H)
【0106】化合物54 融点:120−121℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.19(t,3
H),2.59(q,2H),3.71(s,3H),
4.02(s,2H),6.88(d,1H),7.17
(t,1H),7.3−7.35(m,4H),7.42
(s,1H),7.7−7.75(m,1H),11.1
5(bs,1H)
【0107】化合物55 融点:120−121℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.19(d,6
H),2.75−2.95(m,1H),3.71(s,
3H),4.02(s,2H),6.92(d,1H),
7.19(t,1H),7.25−7.3(m,3H),
7.35−7.4(m,2H),7.7−7.75(m,1
H),11.18(bs,1H)
【0108】化合物56 融点:102−104℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.71(s,3
H),3.76(s,3H),4.01(s,2H),
6.60(dd,1H),7.01(d,1H),7.1
6(t,1H),7.25−7.35(m,4H),7.
7−7.75(m,1H),11.27(bs,1H)
【0109】化合物57 融点:84−85℃ 1H−NMR(CDCl)δ:1.29(d,6
H),3.71(s,3H),4.01(s,2H),
4.45−4.55(m,1H),6.58(dd,1
H),6.97(d,1H),7.13(t,1H),
7.25−7.3(m,4H),7.7−7.75(m,1
H),11.19(bs,1H)
【0110】化合物58 融点:118−119℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.73(s,3
H),4.02(s,2H),7.25−7.7.4(m,
5H),7.65−7.75(m,2H),7.87
(s,1H),11.73(bs,1H)
【0111】化合物59 融点:14−143℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.74(s,3
H),4.03(s,2H),7.3−7.4(m,4
H),7.44(t,1H),7.77(d,1H),
7.8−7.9(m,2H),8.48(t,1H),1
2.06(bs,1H)
【0112】化合物60 融点:137−138℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.73(s,3
H),4.01(s,2H),7.3−7.4(m,5
H),7.7−7.75(m,2H),8.00(s,1
H),11.83(bs,1H)
【0113】化合物61 融点:139−141℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.71(s,3
H),4.01(s,2H),7.12(d,2H),
7.2−7.3(m,3H),7.56(d,2H),7.
65−7.75(m,1H),11.90(bs,1H)
【0114】化合物62 融点:131−133℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.60(s,3
H),3.98(s,2H),6.9−7.0(m,5
H),7.1−7.3(m,5H),7.52(d,2
H),7.69(d,1H),11.32(bs,1H)
【0115】化合物63 融点:118−119℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.67(s,3
H),3.90(s,2H),4.00(s,2H),
7.05−7.5(m,12H),7.69(d,1
H),11.54(bs,1H)
【0116】化合物64 油状物 1H−NMR(CDCl)δ:2.20(s,3
H),2.23(s,3H),3.70(s,3H),
4.11(s,2H),6.81(dd,1H),6.9
8(d,1H),7.2−7.3(m,3H),7.55
−7.65(m,1H),7.82(s,1H),10.
24(bs,1H)
【0117】化合物65 融点:125−127℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.19(s,3
H),3.70(s,3H),3.77(s,3H),
4.11(s,2H),6.56(dd,1H),6.9
7(d,1H),7.2−7.3(m,3H),7.5−
7.6(m,1H),7.75(d,1H),10.39
(bs,1H)
【0118】化合物66 融点:159−160℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.44(s,3
H),3.73(s,3H),4.13(s,2H),
7.2−7.3(m,4H),7.5−7.6(m,1
H),7.85(dd,1H),9.02(d,1H),
10.80(bs,1H)
【0119】化合物67 融点:193−196℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.61(s,3
H),3.70(s,3H),4.20(s,2H),
6.83(d,1H),7.2−7.3(m,3H),7.
3−7.4(m,3H),7.5−7.6(m,3H),
7.65−7.75(m,1H),8.68(d,1
H),10.22(bs,1H)
【0120】化合物68 融点:140−141℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.24(s,3
H),3.71(s,3H),4.11(s,2H),
6.69(dt,1H),7.01(t,1H),7.2
−7.3(m,3H),7.6−7.7(m,1H),7.
96(dd,1H),10.38(bs,1H)
【0121】化合物69 融点:145−146℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.06(s,2H),6.6−6.7(m,1
H),6.9−7.0(m,1H),7.2−7.3(m,
3H),7.7−7.8(m,1H),8.2−8.3
(m,1H),11.71(bs,1H)
【0122】化合物70 融点:174−176℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.70(s,3
H),4.17(s,2H),7.2−7.3(m,4
H),7.40(d,1H),7.6−7.7(m,1
H),8.73(d,1H),10.94(bs,1H)
【0123】化合物71 融点:139−141℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.71(s,3
H),4.08(s,2H),7.05−7.2(m,1
H),7.2−7.3(m,4H),7.44(dd,1
H),8.89(dd,1H),11.86(bs,1
H)
【0124】化合物72 融点:189−191℃ 1H−NMR(CDCl)δ:3.67(s,2
H),3.75(s,3H),7.25−7.45(m,
3H),7.70(d,1H)
【0125】化合物73 融点:133−134℃ 1H−NMR(CDCl)δ:2.17(s,6
H),3.74(s,3H),7.0−7.1(m,3
H),7.2−7.3(m,3H),7.58(m,1
H),10.17(bs,1H)
【0126】次に製剤例を示す。尚、「部」は「重量
部」を意味する。 製剤例1 乳剤 本発明化合物の各々20部を、ソルベッソ150(45
部)及びN−メチルピロリドン35部に溶解し、これに
乳化剤(商品名:ソルポール3005X、東邦化学製)
10部を加え、撹拌混合して10%乳剤を製造した。
【0127】製剤例2 水和剤 ラウリル硫酸ナトリウム2部、リグニンスルホン酸ナト
リウム4部、合成含水酸化珪素微粉末20部及びクレー
54部を混合し、これに本発明化合物の各々20部を加
え、ジュースミキサーで撹拌混合して20%水和剤を製
造した。
【0128】製剤例3 粒剤 本発明化合物の各々5部に、ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム2部、ベントナイト10部及びクレー83
部を加えて十分撹拌混合した。これに適当量の水を加
え、更に撹拌し、造粒機で造粒し、通風乾燥して5%粒
剤を製造した。
【0129】製剤例4 粉剤 本発明化合物の各々1部を適当量のアセトンに溶解し、
これに合成含水酸化珪素微粉末5部、酸性リン酸イソプ
ロピル(PAP)0.3部及びクレー93.7部を加え、
ジュースミキサーで撹拌混合し、アセトンを蒸発除去し
て1%粉剤を製造した。
【0130】製剤例5 フロアブル剤 本発明化合物の各々20部とポリオキシエチレントリス
チリルフェニルエーテルリン酸エステルトリエタノール
アミン3部、RHODORSIL 426R(0.2部)
を含む水20部とを混合し、ダイノミルを用いて湿式粉
砕後、プロピレングリコール8部、キサンタンガム0.
32部を含む水60部と混合し、20%フロアブル剤を
製造した。
【0131】次に本発明化合物が、殺菌剤の有効成分と
して有用であることを試験例により示す。 試験例1 キュウリうどんこ病に対する殺菌試験 試験化合物のメタノール溶液にソルポール355(東邦
化学製)水溶液(100ppm)を加えて薬液(200
ppm)を調製し、この薬液をポット(径7.5cm)
植えのキュウリ(播種後14日)に散布した後、風乾し
た。これにキュウリうどんこ病胞子懸濁液(1.0×1
個/ml)をスプレーガンで噴霧した。風乾後、ア
クリルハウス内に静置し、10日後に発病度を調査し、
無処理区に対する防除価を算出した。その結果、化合物
番号2,3,17,20,21,23,28,30,3
1,35,38,40,56,64,65,68,69
及び71の化合物が50%以上の防除価を示した。
【0132】 試験例2 コムギうどんこ病に対する殺菌試験 試験化合物のメタノール溶液にソルポール355(東邦
化学製)水溶液(100ppm)を加えて薬液(200
ppm)を調製し、この薬液を育苗ポット(3×3c
m)植えのコムギ(播種後12日)に散布した後、風乾
した。これにコムギうどんこ病分生胞子を噴霧し、恒温
器内(18℃、12時間蛍光灯照明)で生育させた。7
日後に発病度を調査し、無処理区に対する防除価を算出
した。その結果、化合物番号2,20,21,65及び
71の化合物が50%以上の防除価を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 多田 功 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 (72)発明者 小村 朋三 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 (72)発明者 田中 正宏 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 Fターム(参考) 4H011 AA01 BA01 BB09 BC07 BC18 BC20 DA02 DA15 DA16

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるチオ酢酸ア
    ミド化合物。 【化1】 〔式中、Rは水素原子、C1−4アルキル基、C1−
    4アルケニル基、C1−4アルキニル基、C1−4ハロ
    アルキル基、C1−4アルコキシC1−4アルキル基、
    C1−4アルキルカルボニル基、C1−4アルコキシカ
    ルボニル基、ベンジル基又はベンゾイル基を示す。R
    及びRは同一又は異なって、水素原子又はC1−4ア
    ルキル基を示す。Xはハロゲン原子、C1−4アルキル
    基、C1−4ハロアルキル基、C1−4アルコキシ基、
    C1−4ハロアルコキシ基、C1−4アルコキシカルボ
    ニル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。Yはハロゲン原
    子、C1−4アルキル基、C1−4ハロアルキル基、C
    1−4アルコキシ基、C1−4ハロアルコキシ基、C1
    −4アルキルスルフェニル基、C1−4アルキルスルフ
    ィニル基、C1−4アルキルスルホニル基、C1−4ア
    ルコキシカルボニル基、フェニル基、フェノキシ基、ベ
    ンジル基、ニトロ基又はシアノ基を示す。mは0〜4の
    整数を示す。nは0〜5の整数を示す。〕
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のチオ酢酸アミド化合物
    を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102675212A (zh) * 2012-05-09 2012-09-19 昆明理工大学 N-取代苯基-2-((1h-苯并咪唑-2-基)巯基)乙酰胺类衍生物及其用途
EP2691095A2 (en) * 2011-03-31 2014-02-05 Emory University Imidazolyl amide compounds and uses related thereto
US8877940B2 (en) * 2011-02-22 2014-11-04 Institut National De La Recherche Scientifique Antibiotic tolerance inhibitors

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3720686A (en) * 1971-04-01 1973-03-13 Squibb & Sons Inc Mercaptobenzimidazole derivatives
JPS56158769A (en) * 1980-04-12 1981-12-07 Hoechst Ag Novel heterocyclic substituted thioglycolic acid anilide, its manufacture and agricultural bactericide containing it
JPH05140125A (ja) * 1991-11-26 1993-06-08 Hokko Chem Ind Co Ltd トリアゾール誘導体および除草剤
JPH1029986A (ja) * 1996-05-17 1998-02-03 Kowa Co 新規なアニリド化合物及びこれを含有する医薬
WO1998035944A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-20 Bayer Corporation Amides as npy5 receptor antagonists
WO1998035957A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-20 Bayer Corporation Amide derivatives as selective neuropeptide y receptor antagonists
JPH10310575A (ja) * 1997-03-31 1998-11-24 Korea Res Inst Of Chem Technol 新規なキノリンスルフィド誘導体、その製造方法及び用途

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3720686A (en) * 1971-04-01 1973-03-13 Squibb & Sons Inc Mercaptobenzimidazole derivatives
JPS56158769A (en) * 1980-04-12 1981-12-07 Hoechst Ag Novel heterocyclic substituted thioglycolic acid anilide, its manufacture and agricultural bactericide containing it
JPH05140125A (ja) * 1991-11-26 1993-06-08 Hokko Chem Ind Co Ltd トリアゾール誘導体および除草剤
JPH1029986A (ja) * 1996-05-17 1998-02-03 Kowa Co 新規なアニリド化合物及びこれを含有する医薬
WO1998035944A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-20 Bayer Corporation Amides as npy5 receptor antagonists
WO1998035957A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-20 Bayer Corporation Amide derivatives as selective neuropeptide y receptor antagonists
JPH10310575A (ja) * 1997-03-31 1998-11-24 Korea Res Inst Of Chem Technol 新規なキノリンスルフィド誘導体、その製造方法及び用途

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8877940B2 (en) * 2011-02-22 2014-11-04 Institut National De La Recherche Scientifique Antibiotic tolerance inhibitors
EP2691095A2 (en) * 2011-03-31 2014-02-05 Emory University Imidazolyl amide compounds and uses related thereto
US20140080828A1 (en) * 2011-03-31 2014-03-20 Children's Heatlhcare Of Atlanta, Inc. Imidazolyl amide compounds and uses related thereto
EP2691095A4 (en) * 2011-03-31 2014-09-17 Univ Emory IMIDAZOLYLAMIDE COMPOUNDS AND USES THEREOF
US9365523B2 (en) 2011-03-31 2016-06-14 Emory University Imidazolyl amide compounds and uses related thereto
CN102675212A (zh) * 2012-05-09 2012-09-19 昆明理工大学 N-取代苯基-2-((1h-苯并咪唑-2-基)巯基)乙酰胺类衍生物及其用途

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