JP2006131525A - ニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体および殺菌剤 - Google Patents
ニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体および殺菌剤 Download PDFInfo
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- 0 CC*C1=N*C(C)=N1 Chemical compound CC*C1=N*C(C)=N1 0.000 description 8
Abstract
【課題】低濃度薬液処理で高い殺菌効果を示す、新しいニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体を提供すること。
【解決手段】一般式(I)
[式中、R1は、−OR3、−SR3、−NR4R5、1−ピペリジル基、4−モルホリノ基あるいは4位がアルキル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよい1−ピペラジニル基を示し、 R2は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基(ただし、トリフルオロメチル基は除く。)、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アミノカルボニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、−C(R6)=NOR7、−C(=O)−XR8あるいは−YR9を示す。]で表わされるニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体。【選択図】なし
【解決手段】一般式(I)
[式中、R1は、−OR3、−SR3、−NR4R5、1−ピペリジル基、4−モルホリノ基あるいは4位がアルキル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよい1−ピペラジニル基を示し、 R2は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基(ただし、トリフルオロメチル基は除く。)、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アミノカルボニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、−C(R6)=NOR7、−C(=O)−XR8あるいは−YR9を示す。]で表わされるニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体。【選択図】なし
Description
本発明は、ニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体およびこの誘導体を有効成分として含有することを特徴とする殺菌剤に関する。
本発明のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体に類似の化合物としては、次のものが公知である。
(1)下記一般式(イ)で表される誘導体が、殺菌活性を示すことが記載されている(特許文献1参照)。
[Xは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などを示し、Yは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などを示し、Zは、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR2−を示し、R1は、水素原子、アルキル基などを示し、R2は、水素原子、アルキル基など示すが、NR1と一緒になって環を形成してもよく、mは、0または1から2の整数を示し、nは、0または1から3の整数を示す。]
(1)下記一般式(イ)で表される誘導体が、殺菌活性を示すことが記載されている(特許文献1参照)。
(2)下記一般式(ロ)で表される誘導体が、殺菌活性を示すことが記載されている(特許文献2参照)。
[Xは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などを示し、Yは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などを示し、Zは、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−NR3−を示し、Qは、単結合または置換されても良いアルキレン基を示し、Rは、水素原子、アルキル基などを示し、R1は、水素原子、アルキル基など示し、R2は、水素原子、アルキル基などを示し、mは、0または1から3の整数を示す(R3は省略)。]
(3)下記一般式(ハ)で表される誘導体が、殺菌活性を示すことが記載されている(特許文献3参照)。
[Yは、−OR’、−NHR’’を示し、Zは、水素原子または(R4)nを示し、R’は、水素原子、アルキル基、アリール基、−C(X)NR1’R2’、−C(O)R3’などを示し、R’’は、−C(O)NR1’’R2’’、−C(O)R3’’などを示し、Xは、酸素原子または硫黄原子を示し、R4は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはニトロ基を示し、nは、0または1から2の整数を示す(R1’、R2’、R3’、R1’’、R2’’およびR3’’は省略)。]
(4)下記一般式(ニ)で表される誘導体が、除草活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はなく、また、上記R1もしくはR2に定義中の置換されてもよいアリール基が、ニトロフェニル基である化合物は全く記載されていない(特許文献4参照)。
[R1およびR2は、いずれか一方が、
を示し、他方がアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基または置換されてもよいアリール基を示し、X1およびはX2は、同一もしくは異なるハロゲン原子を示し、R3は、アルキル基、ハロアルキル基、アリール基などを示す。]
(5)下記一般式(ホ)で表される誘導体が、抗炎症活性、インターロイキン8阻害活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はなく、また上記Rがニトロ基である化合物は全く記載されていない(特許文献5参照)。
[Xは、NまたはCR1を示し、Yは、NまたはCRを示し、Zは、−NR3R4またはヘテロ環基を示し、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基などを示し、Lは、−O−、−S−、−NR2−、−C(O)NR2−などを示し、alkは、分岐してもよいアルキル基を示す(R1、R2、R3、R4およびnは省略する)。]
(6)下記一般式(ヘ)で表される誘導体が、抗炎症活性、インターロイキン8阻害活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はなく、また上記Rがニトロ基である化合物は全く記載されていない(特許文献6参照)。
[Xは、NまたはCR1を示し、Yは、NまたはCRを示し、Zは、−NR3R4またはヘテロ環基を示し、Rは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基などを示し、Lは、−O−、−S−、−NR2−、−C(O)NR2−などを示し、alkは、分岐してもよいアルキル基を示す(R1、R2、R3、R4およびnは省略する)。]
(7)下記一般式(ト)で表される誘導体が、殺ダニ活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はなく、また上記Rが3位にニトロ基のついたフェニル基である化合物は全く記載されていない(特許文献7参照)。
[R1は、(ハロゲン原子、低級アルキル基、(低級アルコキシ基で置換されていてもよい)低級アルコキシ基、低級アルキニルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基または低級アルキルチオ基で置換されていてもよい)フェニル基などを示し、Xは、酸素原子または硫黄原子を示し、Aは、−Cr3r4−、−O−、−S(O)k−、−Nr5−を示し、Bは、−Cr6r7−、−O−、−S(O)k’−、−Nr8−を示し、Dは、−Cr9r10−、−O−、−S(O)k’’ −、−Nr11−を示し、l、m、nは、それぞれ0または1を示し、R2は、−Zr15、低級アルキル基、(ハロゲン原子またはニトロ基で置換されていてもよい)フェニル基、シクロアルキル基などを示し、Zは、酸素原子、硫黄原子または‐Nr15を示し、r3、r4、r6、r7、r9、r10は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基などを示し、r5、r8、r11、r14は、それぞれ水素原子または低級アルキル基を示し、r15は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基などを示し、k、k’、k’’は、それぞれ0、1または2を示す。]
(8)下記一般式(チ)で表される誘導体が、殺ダニ活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はなく、また上記Rが3位にニトロ基のついたフェニル基である化合物は全く記載されていない(特許文献8参照)。
[R1は、(ハロゲン原子、低級アルキル基、(低級アルコキシ基で置換されていてもよい)低級アルコキシ基、低級アルキニルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、フェニル基、フェノキシ基または低級アルキルチオ基で置換されていてもよい)フェニル基などを示し、Xは、酸素原子または硫黄原子を示し、Aは、−Cr3r4−、−O−、−S(O)k−、−Nr5−を示し、Bは、−Cr6r7−、−O−、−S(O)k’−、−Nr8−を示し、Dは、−Cr9r10−、−O−、−S(O)k’’ −、−Nr11−を示し、l、m、nは、それぞれ0または1を示し、R2は、‐Zr15、低級アルキル基、(ハロゲン原子またはニトロ基で置換されていてもよい)フェニル基、シクロアルキル基などを示し、Zは、酸素原子、硫黄原子または‐Nr15を示し、r3、r4、r6、r7、r9、r10は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基などを示し、r5、r8、r11、r14は、それぞれ水素原子または低級アルキル基を示し、r15は、水素原子、低級アルキル基、フェニル基などを示し、k、k’、k’’は、それぞれ0、1または2を示す。]
(9)下記一般式(リ)で表される誘導体が、殺虫活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はない(特許文献9参照)。
[Wは、酸素原子または硫黄原子を示し、R1およびR2は、いずれか一方が、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいシクロアルケニル基、置換されていてもよいアミノ基、アルケニル基、アルキニル基、ハロアルケニル基、ハロアルキニル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、アルキルスルホキサイド基、ハロアルキルスルホキサイド基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、水酸基またはメルカプト基を示し、R1およびR2は、いずれか他方が、3置換、4置換、5置換のフェニル基を示し、その置換基は独立に、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキルチオ基、アルキルスルホキサイド基、ハロアルキルスルホキサイド基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基またはハロアルキルアミノ基を示す。]
(10)下記一般式(ヌ)で表される誘導体が、殺虫活性を示すことが記載されているが、殺菌活性についての記載はない(特許文献10参照)。
[R1は、フルオロメチル基、アルコキシメチル基、(ハロゲン原子またはニトロ基で置換されていてもよい)フェニル基などを示し、R2は、フルオロメチル基、(ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよい)フェニル基、(ハロゲン原子、アルコキシ基またはニトロ基で置換されていてもよい)フェニルメチル基などを示す。]
前記した、本発明と類似のニトロフェニルオキサゾール誘導体およびニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は殺菌活性を示すことが知られている。しかしながら、これらの誘導体は、効果が不十分であり、使用場面が制限される。したがって、これらの誘導体の代わりに、低濃度薬液処理で高い殺菌効果を示す薬剤の開発が望まれている。本発明は、このような要望に合致した、新しいニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体を提供することにある。
本発明者らは、上記の目的を達成するために種々の化合物を合成し、そしてそれらの殺菌活性を検討した。その結果、下記の一般式(I)で表される新規なニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体が高い殺菌効果を示すことが判明し、本発明に至った。
したがって第一の発明は、次の一般式(I)で表される新規なニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体に関するものである。また、第二の発明は、一般式(I)で表される新規なニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体を活性成分として含有することを特徴とする、殺菌剤に関するものである。
一般式(I)
[式中、R1は、−OR3、−SR3、−NR4R5、1−ピペリジル基、4−モルホリノ基あるいは4位がアルキル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよい1−ピペラジニル基を示し、
R2は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基(ただし、トリフルオロメチル基は除く。)、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アミノカルボニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、−C(R6)=NOR7、−C(=O)−XR8あるいは−YR9を示し、
R3は、水素原子、アルキル基、フェニルアルキル基あるいはアルキルカルボニル基を示し、
R4は、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルカルボニル基あるいはハロアルキルカルボニル基を示し、
R5は、水素原子あるいはアルキル基を示し、
R6は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基はハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R7は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基あるいはフェニル部位が置換されていてもよいフェニルアルキル基を示し、
このフェニルアルキル基のフェニル部位の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R8は、アルキル基を示し、
R9は、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
Xは、酸素原子あるいはアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を示し、
Yは、単結合あるいはアルキレン鎖を示す。]
R2は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基(ただし、トリフルオロメチル基は除く。)、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アミノカルボニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、−C(R6)=NOR7、−C(=O)−XR8あるいは−YR9を示し、
R3は、水素原子、アルキル基、フェニルアルキル基あるいはアルキルカルボニル基を示し、
R4は、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルカルボニル基あるいはハロアルキルカルボニル基を示し、
R5は、水素原子あるいはアルキル基を示し、
R6は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基はハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R7は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基あるいはフェニル部位が置換されていてもよいフェニルアルキル基を示し、
このフェニルアルキル基のフェニル部位の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R8は、アルキル基を示し、
R9は、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
Xは、酸素原子あるいはアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を示し、
Yは、単結合あるいはアルキレン鎖を示す。]
前記の一般式(I)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、XおよびYで示される各基は、具体的には以下のものを挙げることができる。
「アルキル基」は、炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、2−メチルブチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、1−メチル−1−エチルプロピル基、1,2−ジメチルブチル基、2−メチル−1−エチルプロピル基、2,2−ジメチルブチル基などであり、好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基である。
「シアノアルキル基」は、アルキル部位が炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、シアノメチル基、ジシアノメチル基、1−シアノエチル基、2,2−ジシアノエチル基、1−シアノプロピル基、2−シアノプロピル基、3−シアノプロピル基、1−シアノ−1−メチルエチル基、2−シアノ−1−メチルエチル基、1−シアノブチル基、2−シアノブチル基、3−シアノブチル基、4−シアノブチル基、1−シアノ−1−メチルプロピル基、2−シアノ−1−メチルプロピル基、3−シアノ−1−メチルプロピル基、1−シアノ−2−メチルプロピル基、2−シアノ−2−メチルプロピル基、3−シアノ−2−メチルプロピル基、2−シアノ−1−エチルエチル基、1−シアノペンチル基、5−シアノペンチル基、6−シアノヘキシル基、などであり、好ましくは、シアノメチル基である。
「アルコキシアルキル基」は、アルコキシ部位が炭素数1〜4個の直鎖状または分岐状であり、アルキル部位が炭素数1〜5個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、tert−ブトキシメチル基、n−ペンチルオキシメチル基、イソペンチルオキシメチル基、1−メトキシエチル基、2−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、2−エトキシエチル基、1−n−プロポキシエチル基、2−n−プロポキシエチル基、1−イソプロポキシエチル基、2−イソプロポキシエチル基、1−n−ブトキシエチル基、2−n−ブトキシエチル基、1−イソブトキシエチル基、2−イソブトキシエチル基、1−sec−ブトキシエチル基、2−sec−ブトキシエチル基、1−tert−ブトキシエチル基、2−tert−ブトキシエチル基、1−メトキシプロピル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロピル基、1−メトキシ−1−メチルエチル基、2−メトキシ−1−メチルエチル基、1−エトキシプロピル基、2−エトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、1−エトキシ−1−メチルエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル基、1−n−プロポキシプロピル基、2−n−プロポキシプロピル基、3−n−プロポキシプロピル基、1−n−プロポキシ−1−メチルエチル基、2−n−プロポキシ−1−メチルエチル基、1−イソプロポキシプロピル基、2−イソプロポキシプロピル基、3−イソプロポキシプロピル基、1−イソプロポキシ−1−メチルエチル基、2−イソプロポキシ−1−メチルエチル基、1−メトキシブチル基、2−メトキシブチル基、3−メトキシブチル基、4−メトキシブチル基、2−メトキシ−1−メチルプロピル基、3−メトキシ−1−メチルプロピル基、3−メトキシ−2−メチルプロピル基、2−メトキシ−1−エチルエチル基、1−エトキシブチル基、2−エトキシブチル基、3−エトキシブチル基、4−エトキシブチル基、2−エトキシ−1−メチルプロピル基、3−エトキシ−1−メチルプロピル基、3−エトキシ−2−メチルプロピル基、2−エトキシ−1−エチルエチル基、1−メトキシペンチル基、2−メトキシペンチル基、3−メトキシペンチル基、4−メトキシペンチル基あるいは5−メトキシペンチル基などであり、好ましくは、メトキシメチル基、エトキシメチル基あるいは2−メトキシエチル基である。
「ジヒドロキシアルキル基」は、アルキル部位が炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、ジヒドロキシメチル基、1,2−ジヒドロキシエチル基、1,2−ジヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピル基、1,3−ジヒドロキシプロピル基、1,2−ジヒドロキシ−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシメチル−2−ヒドロキシエチル基、1,2−ジヒドロキシブチル基、1,3−ジヒドロキシブチル基、1,4−ジヒドロキシブチル基、2,3−ジヒドロキシブチル基、2,4−ジヒドロキシブチル基、3,4−ジヒドロキシブチル基、1,2−ジヒドロキシ−1−メチルプロピル基、1,3−ジヒドロキシ−1−メチルプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−1−メチルプロピル基、1,2−ジヒドロキシ−2−メチルプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−2−メチルプロピル基、1,3−ジヒドロキシ−2−メチルプロピル基、2,3−ジヒドロキシ−1−エチルプロピル基、2,3−ジヒドロキシペンチル基、4,5−ジヒドロキシペンチル基、5,6−ジヒドロキシヘキシル基、などであり、好ましくは、ジヒドロキシメチル基あるいは1,2−ジヒドロキシエチル基である。
「ジアルコキシアルキル基」は、アルコキシ部位が炭素数1〜4個の直鎖状または分岐状であり、アルキル部位が炭素数1〜4個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ジ−n−プロポキシメチル基、ジイソプロポキシメチル基、ジ−n−ブトキシメチル基、ジイソブトキシメチル基、ジ−sec−ブトキシメチル基、ジ−tert−ブトキシメチル基、1,1−ジメトキシエチル基、1,1−ジエトキシエチル基、1,1−ジ−n−プロポキシエチル基、1,1−ジイソプロポキシエチル基、1,1−ジ−n−ブトキシエチル基、1,1−ジイソブトキシエチル基、1,1−ジ−sec−ブトキシエチル基、1,1−ジ−tert−ブトキシエチル基、2,2−ジメトキシエチル基、2,2−ジエトキシエチル基、2,2−ジ−n−プロポキシエチル基、2,2−ジイソプロポキシエチル基、2,2−ジ−n−ブトキシエチル基、2,2−ジイソブトキシエチル基、2,2−ジ−sec−ブトキシエチル基、2,2−ジ−tert−ブトキシエチル基、1,2−ジメトキシエチル基、1,2−ジエトキシエチル基、1,2−ジ−n−プロポキシエチル基、1,2−ジイソプロポキシエチル基、1,2−ジ−n−ブトキシエチル基、1,2−ジ−tert−ブトキシエチル基、1−エトキシ−2−メトキシエチル基、2−エトキシ−1−メトキシエチル基、1,1−ジメトキシプロピル基、1,1−ジエトキシプロピル基、1,1−ジ−n−プロポキシプロピル基、1,1−ジイソプロポキシプロピル基、1,1−ジ−n−ブトキシプロピル基、1,1−ジ−tert−ブトキシプロピル基、2,2−ジメトキシプロピル基、2,2−ジエトキシプロピル基、2,2−ジ−n−プロポキシプロピル基、2,2−ジイソプロポキシプロピル基、2,2−ジ−n−ブトキシプロピル基、2,2−ジ−tert−ブトキシプロピル基、3,3−ジメトキシプロピル基、3,3−ジエトキシプロピル基、3,3−ジ−n−プロポキシプロピル基、3,3−ジイソプロポキシプロピル基、3,3−ジ−n−ブトキシプロピル基、3,3−ジ−tert−ブトキシプロピル基、1,2−ジメトキシプロピル基、1,2−ジエトキシプロピル基、1,2−ジ−n−プロポキシプロピル基、1,3−ジメトキシプロピル基、1,3−ジエトキシプロピル基、1,3−ジ−n−プロポキシプロピル基、2,3−ジメトキシプロピル基、2,3−ジエトキシプロピル基、2,3−ジ−n−プロポキシプロピル基、1−エトキシ−2−メトキシプロピル基、2−エトキシ−1−メトキシプロピル基、2−エトキシ−3−メトキシプロピル基、3−エトキシ−2−メトキシプロピル基、1−エトキシ−3−メトキシプロピル基、3−エトキシ−1−メトキシプロピル基、1,2−ジメトキシ−1−メチルエチル基、1,1−ジメトキシブチル基、1,1−ジエトキシブチル基、1,1−ジ−n−プロポキシブチル基、1,1−ジイソプロポキシブチル基、1,1−ジ−n−ブトキシブチル基、1,1−ジ−tert−ブトキシブチル基、2,2−ジメトキシブチル基、2,2−ジエトキシブチル基、2,2−ジ−n−プロポキシブチル基、2,2−ジイソプロポキシブチル基、2,2−ジ−n−ブトキシブチル基、2,2−ジ−tert−ブトキシブチル基、3,3−ジメトキシブチル基、3,3−ジエトキシブチル基、3,3−ジ−n−プロポキシブチル基、3,3−ジイソプロポキシブチル基、3,3−ジ−n−ブトキシブチル基、3,3−ジ−tert−ブトキシブチル基、4,4−ジメトキシブチル基、4,4−ジエトキシブチル基、4,4−ジ−n−プロポキシブチル基、4,4−ジイソプロポキシブチル基、4,4−ジ−n−ブトキシブチル基、4,4−ジ−tert−ブトキシブチル基、1,2−ジメトキシブチル基、1,2−ジエトキシブチル基、1,2−ジ−n−プロポキシブチル基、1,3−ジメトキシブチル基、1,3−ジエトキシブチル基、1,3−ジ−n−プロポキシブチル基、1,4−ジメトキシブチル基、1,4−ジエトキシブチル基、1,4−ジ−n−プロポキシブチル基、2,3−ジメトキシブチル基、2,3−ジエトキシブチル基、2,3−ジ−n−プロポキシブチル基、2,4−ジメトキシブチル基、2,4−ジエトキシブチル基、2,4−ジ−n−プロポキシブチル基、3,4−ジメトキシブチル基、3,4−ジエトキシブチル基、3,4−ジ−n−プロポキシブチル基、1−エトキシ−2−メトキシブチル基、1−エトキシ−3−メトキシブチル基、1−エトキシ−4−メトキシブチル基、2−エトキシ−1−メトキシブチル基、2−エトキシ−3−メトキシブチル基、4−エトキシ−3−メトキシブチル基、3−エトキシ−2−メトキシブチル基、3−エトキシ−4−メトキシブチル基、1−エトキシ−2−メトキシ−1−メチルプロピル基、1−エトキシ−2−メトキシ−2−メチルプロピル基あるいは1−エトキシ−2−メトキシ−3−メチルプロピル基などであり、好ましくは、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基あるいはジ−n−プロポキシメチル基である。
「シクロアルキル基」は、炭素数3〜7個であり、分岐鎖を持っていてもよく、その例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−メチルシクロプロピル基、2−メチルシクロペンチル基あるいは2−メチルシクロヘキシル基などであり、好ましくは、シクロプロピル基またはシクロヘキシル基である。
「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素の各原子を挙げることができる。
「フェニルアルキル基」は、アルキル部位が炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、1−フェニルプロピル基、2−フェニルプロピル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニル−1−メチルエチル基、2−フェニル−1−メチルエチル基、1−フェニルブチル基、2−フェニルブチル基、3−フェニルブチル基、4-フェニルブチル基、1−フェニル−1−メチルプロピル基、2−フェニル−1−メチルプロピル基、3−フェニル−1−メチルプロピル基、1−フェニル−2−メチルプロピル基、2−フェニル−2−メチルプロピル基、3−フェニル−2−メチルプロピル基、2−フェニル−1−エチルエチル基、1−フェニルペンチル基、5−フェニルペンチル基、6−フェニルヘキシル基、などであり、好ましくは、ベンジル基である。
「ヘテロアリール基」は、5〜6員環であり、その例としては、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、チエニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、チアゾリル基あるいはチアジアゾリル基などであり、好ましくはピリジル基あるいはチエニル基である。
「アルキルカルボニル基」は、アルキル部位が炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニル基、イソペンチルカルボニル基、2−メチルブチルカルボニル基、ネオペンチルカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、4−メチルペンチルカルボニル基、3−メチルペンチルカルボニル基、2−メチルペンチルカルボニル基、3,3−ジメチルブチルカルボニル基、1,1−ジメチルブチルカルボニル基、1,3−ジメチルブチルカルボニル基、2,3−ジメチルブチルカルボニル基、1−エチルブチルカルボニル基、1−メチル−1−エチルプロピルカルボニル基、1,2−ジメチルブチルカルボニル基、2−メチル−1−エチルプロピルカルボニル基あるいは2,2−ジメチルブチルカルボニル基などであり、好ましくは、アセチル基あるいはエチルカルボニル基である。
「ハロアルキルカルボニル基」は、アルキル部位が炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、トリフルオロアセチル基、フルオロアセチル基、クロロアセチル基、ブロモアセチル基、ヨードアセチル基、ジフルオロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、2−フルオロエチルカルボニル基、2−クロロエチルカルボニル基、2−ブロモエチルカルボニル基、1−フルオロエチルカルボニル基、1,1−ジフルオロエチルカルボニル基、2,2,2−トリフルオロエチルカルボニル基、ペンタフルオロエチルカルボニル基、1−フルオロプロピルカルボニル基、3−フルオロプロピルカルボニル基、2−クロロプロピルカルボニル基、3−クロロプロピルカルボニル基、3−ヨードプロピルカルボニル基、ヘプタフルオロイソプロピルカルボニル基、1−フルオロブチルカルボニル基、4−フルオロブチルカルボニル基、1−クロロブチルカルボニル基、5−フルオロペンチルカルボニル基、6−フルオロヘキシルカルボニル基あるいはトリデカフルオロヘキシルカルボニル基などであり、好ましくは、トリフルオロアセチル基あるいはジフルオロアセチル基である。
「アルキレン鎖」は、炭素数1〜4個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、1,1−エタンジイル、1,1−プロパンジイル、1,2−プロパンジイル、1,1−ブタンジイル、1,2−ブタンジイル、1,3−ブタンジイル、2,3−ブタンジイル、2−メチル−1,1−プロパンジイル、2−メチル−1,2−プロパンジイルあるいは2−メチル−1,3−プロパンジイルなどであり、好ましくは、メチレンである。
R2の定義中に示されている「ハロアルキル基」は、炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、1−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、1−フルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、2−クロロプロピル基、3−クロロプロピル基、3−ヨードプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、1−フルオロブチル基、4−フルオロブチル基、1−クロロブチル基、5−フルオロペンチル基、6−フルオロヘキシル基あるいはトリデカフルオロヘキシル基などのような、前記のアルキル基にフッ素、塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン原子が結合したアルキル基であり、好ましくは、クロロメチル基あるいはジクロロメチル基である。
フェニル基またはヘテロアリール基の置換基、ベンジル基のフェニル部位の置換基あるいはR7の定義中に示されている「ハロアルキル基」は、炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、トリフルオロメチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、1−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、1−フルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、2−クロロプロピル基、3−クロロプロピル基、3−ヨードプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、1−フルオロブチル基、4−フルオロブチル基、1−クロロブチル基、5−フルオロペンチル基、6−フルオロヘキシル基あるいはトリデカフルオロヘキシル基などのような、前記のアルキル基にフッ素、塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン原子が結合したアルキル基であり、好ましくは、トリフルオロメチル基あるいはジフルオロメチル基である。
R2の定義中に示されている「ヒドロキシアルキル基」は、アルキル部位が炭素数1〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基、1−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、1−ヒドロキシ-1-メチルエチル基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、1−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、4−ヒドロキシブチル基、1−ヒドロキシ−1−メチルプロピル基、2−ヒドロキシ−1−メチルプロピル基、3−ヒドロキシ−1−メチルプロピル基、1−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基、3−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基、2−ヒドロキシ−1−エチルエチル基、1−ヒドロキシペンチル基、5−ヒドロキシペンチル基あるいは6−ヒドロキシヘキシル基などであり、好ましくは、ヒドロキシメチル基である。
R4およびR7の定義中に示されている「ヒドロキシアルキル基」は、アルキル部位が炭素数2〜6個の直鎖状または分岐状であり、その例としては、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチル基、2−ヒドロキシブチル基、3−ヒドロキシブチル基、4−ヒドロキシブチル基、2−ヒドロキシ−1−メチルプロピル基、3−ヒドロキシ−1−メチルプロピル基、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基、3−ヒドロキシ−2−メチルプロピル基、2−ヒドロキシ−1−エチルエチル基、5−ヒドロキシペンチル基あるいは6−ヒドロキシヘキシル基などであり、好ましくは、2−ヒドロキシエチル基である。
次に、本発明の一般式(I)で表される化合物の具体例として、以下の表1〜7表に示された化合物を挙げることができる。また、一般式(I)で表される化合物の中で後出の一般式(I−a)で表される化合物の具体例として、表8〜表11に示された化合物を挙げることができる。ただし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
なお、表1〜7表および表8〜表11中の化合物番号は、以下の表12〜表14、製剤例および実施例でも参照される。
また、表中で「Me」はメチル基を、「Et」はエチル基を、「iPr」はイソプロピル基を、「sec‐Bu」はsec-ブチル基を、「tBu」はtert-ブチル基を、「Ac」はアセチル基を、「Ph」はフェニル基を示す(以下同様)。
本発明のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体を、農園芸用殺菌剤に用いると、次のような効果がもたらされる。
第1に、ムギのうどんこ病、果樹、野菜のべと病および疫病などに対して、低い濃度の処理で極めて高い殺菌効果を示す。
第2に、本発明の化合物は、有用作物に対して薬害を与えることがない。
第3に、このような、本発明の農園芸用殺菌剤としての効果は、従来の類似化合物に比べ、殺菌効果の点で非常に優れており、農園芸用殺菌剤として有用である。
第1に、ムギのうどんこ病、果樹、野菜のべと病および疫病などに対して、低い濃度の処理で極めて高い殺菌効果を示す。
第2に、本発明の化合物は、有用作物に対して薬害を与えることがない。
第3に、このような、本発明の農園芸用殺菌剤としての効果は、従来の類似化合物に比べ、殺菌効果の点で非常に優れており、農園芸用殺菌剤として有用である。
反応工程(1)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、ニトロ化剤を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(II)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、ニトロ化剤を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、ニトロ化剤および一般式(II)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
本反応に用いられるニトロ化剤としては、例えば、発煙硝酸、硝酸などの酸、硝酸アセチルなどである。
ニトロ化剤の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(II)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、酢酸またはプロピオン酸などの有機酸類、無水酢酸などの酸無水物類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、濃硫酸などの無機酸類、水などがあり、好ましくは、酢酸、無水酢酸あるいは濃硫酸などである。
反応温度は、−40℃から反応系における還流温度であり、好ましくは−20℃〜100℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、反応混合物中に水と、トルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(II)の化合物は公知の化合物であり、例えば特開平2−250873号公報、特開平4−217673号公報および特開平6−100550号公報などに記載された方法に準じて容易に合成できる。
また、下記した本発明の一般式(I−d)で表されるニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、例えば下記の反応工程(2)によっても製造できる。
(式中、R2は、前記と同じ意味を示し、Zは、酸素原子あるいは硫黄原子を表し、R3’は、前記R3の定義において、水素原子を除いた基を示し、Wは、R3’がアルキル基またはフェニルアルキル基を示す時は、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニル基あるいは置換されていてもよいベンゼンスルホニル基を示し、R3’がアルキルカルボニル基を示す時は、ハロゲン原子、ホルミルオキシ基および置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基を示す。)
反応工程(2)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(I−c)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(III)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(I−c)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(I−c)および一般式(III)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
一般式(III)の化合物の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−c)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。また、一般式(III)の化合物を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、アセトン、3−ペンタノンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはトルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフランあるいはN,N−ジメチルホルムアミドなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−c)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−c)の化合物は、例えば前記の反応工程(1)、後記の反応工程(4)、反応工程(8)、反応工程(9)、反応工程(10)、反応工程(11)および反応工程(13)などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。
また、本発明の一般式(I−f)で表されるニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、例えば下記の反応工程(3)によっても製造できる。
(式中、R2およびR5は、前記と同じ意味を示し、R4’は、前記R4の定義において、水素原子を除いた基を示し、Wは、R4’がアルキル基、アルコキシアルキル基またはヒドロキシアルキル基を示す時は、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキルスルホニル基あるいは置換されていてもよいベンゼンスルホニル基を示し、R4’がアルキルカルボニル基およびハロアルキルカルボニル基を示す時は、ハロゲン原子、ホルミルオキシ基あるいは置換されていてもよいアルキルカルボニルオキシ基を示す。)
反応工程(3)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(I−e)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(IV)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(I−e)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(I−e)および一般式(IV)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
一般式(IV)の化合物の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−e)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。また、一般式(IV)の化合物を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、アセトン、3−ペンタノンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはトルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフランあるいはN,N−ジメチルホルムアミドなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−e)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−e)の化合物は、例えば前記の反応工程(1)、後記の反応工程(4)、反応工程(8)、反応工程(9)、反応工程(10)、反応工程(11)および反応工程(13)などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。
また、本発明による一般式(I)のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、例えば下記の反応工程(4)によっても製造できる。
(式中、R1およびR2は、前記と同じ意味を示し、Vは、ハロゲン原子、ホルミルオキシ基あるいは置換されてもよいアルキルカルボニルオキシ基を示し、R’は置換されてもよいアルキル基を示す。)
反応工程(4)は、無溶媒、または反応に不活性な有機溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(V)を無溶媒、または反応に不活性な有機溶媒中に溶かし、これに一般式(VI)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(V)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な有機溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(V)および一般式(VI)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
一般式(VI)の化合物の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(V)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度の量とすればよい。また、一般式(VI)を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な有機溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、アセトン、3−ペンタノンまたはシクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、酢酸またはプロピオン酸などの有機酸類、ジメチルスルホキシドなどがあり、好ましくはトルエンあるいはジオキサンなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(V)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
本反応において、必ずしも酸を必要としないが、酸の存在下に実施してもよい。用いられる酸としては、例えば、塩酸、濃硫酸、三フッ化ホウ素などの無機酸類、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機酸類などである。そしてここで酸を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(V)の化合物に対して化学量論量の0.0001〜10倍とすればよく、好ましくは化学量論量の0.01〜2倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜140℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
反応工程(5)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(VII)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これにヒドロキシルアミンをそのまま加えるか、あるいは、一般式(VII)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(VII)の化合物およびヒドロキシルアミンを加える順序は逆であっても構わない。
ヒドロキシルアミンの使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(VII)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜10倍程度とすればよい。
ここに使用されるヒドロキシルアミンは、無機酸および有機酸の塩になっていてもよい。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはエタノールあるいはプロパノールなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(VII)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜10倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜140℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
反応工程(6)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(VIII)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(IX)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(VIII)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な有機溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(VIII)および一般式(IX)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
一般式(IX)の化合物の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(VIII)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量またはそれよりも1〜10倍程度過剰な量とすればよい。また、一般式(IX)の化合物を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、アセトン、3−ペンタノンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはテトラヒドロフラン、アセトニトリル、メタノールあるいはN,N−ジメチルホルムアミドなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(VIII)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜10倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜140℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(VIII)の化合物は、公知化合物であり、例えば「テトラへドロン(Tetrahedron )」第19巻,11号,第1841頁〜第1848頁(1963年)、米国特許第3162675号明細書などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。また、4−クロロ−3−ニトロベンゾニトリルは、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手できる。
反応工程(7)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、ニトロ化剤を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(X)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、ニトロ化剤を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、ニトロ化剤および一般式(X)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
本反応に用いられるニトロ化剤としては、例えば、発煙硝酸、硝酸などの酸、硝酸アセチルなどである。
ニトロ化剤の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(X)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、酢酸またはプロピオン酸などの有機酸類、無水酢酸などの酸無水物類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、濃硫酸などの無機酸類、水などがあり、好ましくは、酢酸、無水酢酸あるいは濃硫酸などである。
反応温度は、−40℃から反応系における還流温度であり、好ましくは−20℃〜100℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、反応混合物中に水とトルエン、酢酸エチルおよびクロロホルムなどの抽出溶媒を加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(X)の化合物は、有機化学の分野ではよく知られた化合物であり、例えば4−シアノフェノール、4−アミノベンゾニトリル、4−ベンジルオキシベンゾニトリルなどは、東京化成工業株式会社より試薬として入手できる。
また、本発明による一般式(I−b)のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、例えば下記の反応工程(8)によっても製造できる。
反応工程(8)は、無溶媒または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(I−g)の化合物を無溶媒または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(XI)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(I−g)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(I−g)および一般式(XI)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
一般式(XI)の化合物の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−g)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。また、一般式(XI)の化合物を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、アセトン、3−ペンタノンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはトルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフランあるいはN,N−ジメチルホルムアミドなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(XI)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−g)の化合物は、例えば前記の反応工程(1)、反応工程(4)、後記の反応工程(9)、反応工程(10)、反応工程(11)および反応工程(13)などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。
反応工程(9)は、無溶媒または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(I−h)の化合物を無溶媒または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(XII)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(I−h)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(I−h)および一般式(XII)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
ここに使用される一般式(XII)のヒドロキシルアミン誘導体は、無機酸および有機酸の塩になっていてもよい。
一般式(XII)のヒドロキシルアミン誘導体の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−h)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
ここに使用される反応に不活性な有機溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはトルエン、キシレン、テトラヒドロフランあるいはエタノールなどである。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−h)の化合物は、例えば前記の反応工程(1)、反応工程(4)あるいは後記の反応工程(13)などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。
また、一般式(XII)の化合物は、公知化合物であり、例えば「ジャーナル オブ オーガニック ケミストリー(Journal of Organic Chemistry )」第36巻,第24号,第3835頁〜第3837頁(1971年)などに記載された方法に準じて容易に合成できる。
反応工程(10)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、ニトロソ化剤を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(I−i)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、ニトロソ化剤を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、ニトロソ化剤および一般式(I−i)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
本反応に用いられるニトロソ化剤としては、例えば、亜硝酸エチル、亜硝酸tert−ブチルなどの亜硝酸エステル類、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどの亜硝酸塩類などである。
ニトロソ化剤の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−i)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、酢酸またはプロピオン酸などの有機酸類、無水酢酸などの酸無水物類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、塩酸、硫酸などの無機酸類、水などがあり、好ましくは、テトラヒドロフラン、塩酸あるいは硫酸などである。
本反応において、必ずしも酸を必要としないが、酸の存在下に実施してもよい。用いられる酸としては、例えば、塩酸、硫酸などの無機酸類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類などである。そしてここで酸を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−i)の化合物に対して化学量論量の0.0001〜10倍とすればよく、好ましくは化学量論量の0.01〜2倍程度とすればよい。反応温度は、−40℃から反応系における還流温度であり、好ましくは−20℃〜100℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−i)の化合物は、例えば前記の反応工程(4)あるいは後記の反応工程(13)などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。
反応工程(11)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(I−j)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(XII)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(I−j)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(I−j)および一般式(XII)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
ここに使用される一般式(XII)のヒドロキシルアミン誘導体は、無機酸あるいは有機酸の塩になっていてもよい。
一般式(XII)のヒドロキシルアミン誘導体の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−j)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜5倍程度とすればよい。
ここに使用される反応に不活性な有機溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはトルエン、キシレン、テトラヒドロフランあるいはエタノールなどである。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−j)の化合物は、例えば「ジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミストリー(Journal of Heterocyclic Chemistry )」第16巻,第7号,第1469頁〜第1475頁(1979年)に記載された方法に準じた方法、すなわち、下記の反応工程(12)に記載された方法にしたがって容易に合成できる。
(式中、R1は、前記と同じ意味を示し、Uは、ハロゲン原子を示す。)
反応工程(12)の1段階目は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(I−l)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに2級アミンをそのまま加えるか、あるいは、一般式(I−l)の化合物と同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(I−l)および2級アミンを加える順序は逆であっても構わない。
2級アミンの使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(I−l)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜10倍程度とすればよい。また、2級アミンを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはテトラヒドロフランあるいはエタノールなどである。
本反応に用いられる2級アミンとしては、例えば、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、モルホリン、ピペリジンなどである。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、そのまま、もしくは有機溶媒を留去する程度の処理をおこなった後に、2段階目の反応に用いることができる。
反応工程(12)の2段階目は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、上記反応混合物を、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに酸をそのまま加えるか、あるいは、反応に不活性な溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、上記反応混合物および酸を加える順序は逆であっても構わない。
酸の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、2級アミンに対して過剰とすればよく、好ましくは1.2〜5倍程度過剰な量とすればよい。また、酸を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくは水、エタノールあるいはジオキサンなどである。
本反応に用いられる酸としては、例えば、希塩酸、希硫酸などの無機酸類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類などである。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜110℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルあるいはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水とを加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(I−l)の化合物は、例えば前記の反応工程(1)、反応工程(2)、反応工程(3)、反応工程(4)あるいは後記の反応工程(13)などに記載された方法にしたがって容易に合成できる。
また、本発明の一般式(I)で表わされるニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、例えば下記の反応工程(13)によっても製造できる。
(式中、R1およびR2は、前記と同じ意味を示し、Tは、ハロゲン原子を示す。)
反応工程(13)は、無溶媒、または反応に不活性な溶媒中で行なうことができる。すなわち、一般式(XIII)の化合物を無溶媒、または反応に不活性な溶媒中に溶かし、これに一般式(IX)の化合物をそのまま加えるか、あるいは、一般式(XIII)の化合物を溶かしたのと同一(場合によっては異なっていてもよい)の、反応に不活性な有機溶媒に溶かして加えればよい。この反応において、一般式(XIII)および一般式(IX)の化合物を加える順序は逆であっても構わない。
一般式(IX)の化合物の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(XIII)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜10倍程度とすればよい。また、一般式(IX)の化合物を大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
ここに使用される反応に不活性な溶媒の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、1−プロパノールまたはtert−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどのエーテル類、アセトン、3−ペンタノンまたはシクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドまたはN−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類、酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステル類、アセトニトリルまたはプロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、水などがあり、好ましくはテトラヒドロフラン、アセトニトリル、メタノールあるいはN,N−ジメチルホルムアミドなどである。
本反応において、必ずしも塩基を必要としないが、塩基の存在下に実施してもよい。用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基類などである。そしてここで塩基を用いる場合、その使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常一般式(XIII)の化合物に対して化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の1〜10倍程度とすればよい。
反応温度は、0℃から反応系における還流温度であり、好ましくは20℃〜140℃で行なわれる。また、反応は通常、常圧で行なわれる。
反応終了後は、反応混合物中から通常の後処理によって、本発明の化合物を得ることができる。例えば、有機溶媒を留去するか、または反応混合物中にトルエン、酢酸エチルおよびクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて有機層を分取し、水洗後、溶媒を留去することにより得られる。得られた本発明の化合物は、必要ならば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの通常行なわれている方法を用いて精製できる。
一般式(XIII)の化合物は、例えば前記の反応工程(1)あるいは反応工程(4)などに記載された方法に準じて容易に合成できる。
以下に、参考製造例1〜4、実施例1〜17を挙げて本発明による一般式(I)の化合物の製造例を説明する。
なお、これらの化合物は、NMRスペクトルおよびMSスペクトルにて構造を確認した。
なお、これらの化合物は、NMRスペクトルおよびMSスペクトルにて構造を確認した。
参考製造例1(原料の合成:一般式(V)の化合物)4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシムの製造
a)4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンゾニトリルの製造
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した200mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシベンゾニトリル10.0g(83.9mmol)および酢酸40mlを入れ、攪拌しながら65℃まで加熱した。65℃になったところで加熱を止め、70%硝酸9.1g(101.1mmol)を滴下した。そのまま30分間攪拌したのち、得られた反応混合物を5℃まで冷却して、析出した固体をろ取、水洗して乾燥させ、標記の化合物13.1g(79.8mmol)を得た。(収率95%)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した200mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシベンゾニトリル10.0g(83.9mmol)および酢酸40mlを入れ、攪拌しながら65℃まで加熱した。65℃になったところで加熱を止め、70%硝酸9.1g(101.1mmol)を滴下した。そのまま30分間攪拌したのち、得られた反応混合物を5℃まで冷却して、析出した固体をろ取、水洗して乾燥させ、標記の化合物13.1g(79.8mmol)を得た。(収率95%)
b)4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシムの製造
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した1Lの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンゾニトリル10.0g(60.9mmol)およびエタノール400mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩21.2g(305mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム42.1g(305mmol)を加えて加熱し、18時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、1N塩酸を加えてpH7付近にしたのち、析出した固体をろ取、水洗して乾燥し、標記の化合物10.0g(50.7mmol)を得た。(収率83%)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した1Lの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンゾニトリル10.0g(60.9mmol)およびエタノール400mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩21.2g(305mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム42.1g(305mmol)を加えて加熱し、18時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、1N塩酸を加えてpH7付近にしたのち、析出した固体をろ取、水洗して乾燥し、標記の化合物10.0g(50.7mmol)を得た。(収率83%)
参考製造例2(原料の合成:一般式(XIII)の化合物)3−(4−フルオロ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造
a)4−フルオロベンズアミドオキシムの製造
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した1Lの4つ口フラスコ中に、4−フルオロベンゾニトリル12.0g(99.1mmol)およびエタノール500mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩34.4g(495mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム68.5g(496mmol)を加えて加熱し、5時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、水とジエチルエーテルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、標記の化合物13.5g(87.6mmol)を得た。(収率88%)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した1Lの4つ口フラスコ中に、4−フルオロベンゾニトリル12.0g(99.1mmol)およびエタノール500mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩34.4g(495mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム68.5g(496mmol)を加えて加熱し、5時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、水とジエチルエーテルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、標記の化合物13.5g(87.6mmol)を得た。(収率88%)
b)3−(4−フルオロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した100mlの4つ口フラスコ中に、4−フルオロベンズアミドオキシム5.0g(32.4mmol)、パラトルエンスルホン酸一水和物0.18g(0.95mmol)およびトルエン50mlを入れ、攪拌しながらオルトギ酸トリメチル10.3g(97.1mmol)を加え、加熱した。8時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物3.9g(23.8mmol)を得た。(収率73%)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した100mlの4つ口フラスコ中に、4−フルオロベンズアミドオキシム5.0g(32.4mmol)、パラトルエンスルホン酸一水和物0.18g(0.95mmol)およびトルエン50mlを入れ、攪拌しながらオルトギ酸トリメチル10.3g(97.1mmol)を加え、加熱した。8時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物3.9g(23.8mmol)を得た。(収率73%)
c)3−(4−フルオロ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造
攪拌装置、還流冷却器および−50℃から100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−フルオロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール3.9g(23.8mmol)を入れて、−10℃まで冷却して、攪拌しながら濃硫酸15mlを滴下した。さらに発煙硝酸(97%)2.3g(35.4mmol)をゆっくりと加え、同温度で30分間攪拌したのち、室温で2時間攪拌した。得られた反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物3.9g(18.6mmol)を得た。(収率78%)
攪拌装置、還流冷却器および−50℃から100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−フルオロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール3.9g(23.8mmol)を入れて、−10℃まで冷却して、攪拌しながら濃硫酸15mlを滴下した。さらに発煙硝酸(97%)2.3g(35.4mmol)をゆっくりと加え、同温度で30分間攪拌したのち、室温で2時間攪拌した。得られた反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物3.9g(18.6mmol)を得た。(収率78%)
参考製造例3(原料の合成:一般式(V)の化合物)4−ベンジルオキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシムの製造
a)4−ベンジルオキシ−3−ニトロ−ベンゾニトリルの製造
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した100mlの4つ口フラスコ中に、水素化ナトリウム流動パラフィン分散物(水素化ナトリウム60%含有)2.0g(50mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド20mlを入れ、室温で攪拌しながら、ベンジルアルコール5.0g(46.2mmol)をゆっくりと加えた。同温度のまま15分間攪拌したのち、4−クロロ−3−ニトロ−ベンゾニトリル7.0g(38.3mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶かして滴下し、さらに室温で17時間攪拌した。得られた反応混合物に、水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物を、展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:20)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物8.0g(31.5mmol)を得た。(収率82%)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した100mlの4つ口フラスコ中に、水素化ナトリウム流動パラフィン分散物(水素化ナトリウム60%含有)2.0g(50mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド20mlを入れ、室温で攪拌しながら、ベンジルアルコール5.0g(46.2mmol)をゆっくりと加えた。同温度のまま15分間攪拌したのち、4−クロロ−3−ニトロ−ベンゾニトリル7.0g(38.3mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶かして滴下し、さらに室温で17時間攪拌した。得られた反応混合物に、水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物を、展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:20)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物8.0g(31.5mmol)を得た。(収率82%)
b)4−ベンジルオキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシムの製造
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した300mlの4つ口フラスコ中に、4−ベンジルオキシ−3−ニトロ−ベンゾニトリル6.9g(27.1mmol)およびエタノール140mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩9.4g(135mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム18.7g(135mmol)を加えて加熱し、6時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、水と酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、得られた固体をさらにトルエンで洗浄して、標記の化合物7.3g(25.4mmol)を得た。(収率94%)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した300mlの4つ口フラスコ中に、4−ベンジルオキシ−3−ニトロ−ベンゾニトリル6.9g(27.1mmol)およびエタノール140mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩9.4g(135mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム18.7g(135mmol)を加えて加熱し、6時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、水と酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、得られた固体をさらにトルエンで洗浄して、標記の化合物7.3g(25.4mmol)を得た。(収率94%)
参考製造例4(原料の合成:一般式(II)の化合物)5−エトキシカルボニル−3−(4−ベンジルオキシフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造
a)4−ベンジルオキシベンズアミドオキシムの製造
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した300mlの4つ口フラスコ中に、4−ベンジルオキシベンゾニトリル4.0g(17.7mmol)およびエタノール150mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩6.2g(89.2mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム12.4g(89.7mmol)を加えて加熱し、6時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、水と酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、得られた固体をさらにトルエンで洗浄して、標記の化合物3.7g(15.3mmol)を得た。(収率86%)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した300mlの4つ口フラスコ中に、4−ベンジルオキシベンゾニトリル4.0g(17.7mmol)およびエタノール150mlを入れ、攪拌しながらヒドロキシルアミン塩酸塩6.2g(89.2mmol)を加えた。さらに炭酸カリウム12.4g(89.7mmol)を加えて加熱し、6時間加熱還流した。得られた反応混合物から真空ポンプ減圧下で溶媒を留去し、水と酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、得られた固体をさらにトルエンで洗浄して、標記の化合物3.7g(15.3mmol)を得た。(収率86%)
b)5−エトキシカルボニル−3−(4−ベンジルオキシフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した200mlの4つ口フラスコ中に、4−ベンジルオキシベンズアミドオキシム3.7g(15.3mmol)およびジオキサン120mlを入れ、攪拌しながらクロログリオキシル酸エチル2.5g(18.3mmol)を加え、加熱した。4時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物を展開溶媒にヘキサン−トルエン混液(溶媒容量比率 ヘキサン:トルエン=3:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物2.7g(8.32mmol)を得た。(収率54%)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した200mlの4つ口フラスコ中に、4−ベンジルオキシベンズアミドオキシム3.7g(15.3mmol)およびジオキサン120mlを入れ、攪拌しながらクロログリオキシル酸エチル2.5g(18.3mmol)を加え、加熱した。4時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物を展開溶媒にヘキサン−トルエン混液(溶媒容量比率 ヘキサン:トルエン=3:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物2.7g(8.32mmol)を得た。(収率54%)
3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号1)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した100mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム1.1g(5.58mmol)およびジオキサン50mlを入れ、攪拌しながらオルトギ酸トリメチル1.2g(11.3mmol)を加え、加熱した。6時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物を、展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:4)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.7g(3.38mmol)を得た。(収率61%)
融点179〜180℃
融点179〜180℃
3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−5−メチル−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号2)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した100mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム0.86g(4.35mmol)およびジオキサン50mlを入れ、攪拌しながら塩化アセチル0.41g(5.22mmol)を加え、加熱した。4時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:10)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.42g(1.89mmol)を得た。(収率43%)
融点139〜140℃
融点139〜140℃
5−エトキシカルボニル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号31)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した500mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム6.7g(34.0mmol)およびジオキサン300mlを入れ、攪拌しながらクロログリオキシル酸エチル5.6g(41.0mmol)を加え、加熱した。16時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:10)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物7.4g(26.5mmol)を得た。(収率78%)
融点95〜97℃
融点95〜97℃
5−ジクロロメチル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号9)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した200mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム1.3g(6.59mmol)およびジオキサン80mlを入れ、攪拌しながらジクロロアセチルクロリド1.4g(9.50mmol)を加え、加熱した。3時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物1.6g(5.52mmol)を得た。(収率84%)
融点126〜128℃
融点126〜128℃
5−シアノメトキシイミノメチル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号144)
攪拌装置および還流冷却器を装備した50mlのナスフラスコ中に、5−ジクロロメチル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号9)1.0g(3.45mmol)およびモルホリン10ml(115mmol)を入れ、攪拌しながら100℃まで加熱した。同温度で2時間攪拌したのち、その容器のまま、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物に水27mlを加えて室温で攪拌し、濃塩酸3mlを滴下した。同温度のまま5時間攪拌した後に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、反応中間体を含む、黄褐色の油状混合物1.0gを得た。
別の攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した50mlの4つ口フラスコ中に、上記混合物およびエタノール20mlを入れ、攪拌しながらシアノメトキシアミン塩酸塩0.57g(5.21mmol)を加え、加熱した。30分間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:15)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.80g(2.77mmol)を得た。(収率80%)
融点116〜117℃
別の攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した50mlの4つ口フラスコ中に、上記混合物およびエタノール20mlを入れ、攪拌しながらシアノメトキシアミン塩酸塩0.57g(5.21mmol)を加え、加熱した。30分間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒に酢酸エチル−トルエン混液(溶媒容量比率 酢酸エチル:トルエン=1:15)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.80g(2.77mmol)を得た。(収率80%)
融点116〜117℃
5−シアノメチル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号11)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、シアノ酢酸2.6g(30.6mmol)および無水酢酸3.4g(30.3mmol)を入れ、攪拌しながら80℃まで加熱した。同温度で5分間攪拌したのち、室温に戻し、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム1.2g(6.09mmol)を加えて、室温で30分間攪拌した。さらに100℃まで加熱し、同温度のまま3時間攪拌した。室温まで冷却し、1N水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH10付近にして、同温度で1時間攪拌したのちに、1N塩酸を加えてpH4付近にし、酢酸エチルを加えて有機層を分取した。さらに飽和食塩水で洗って、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.78g(3.17mmol)を得た。(収率52%)
融点115〜116℃
融点115〜116℃
5−(1−シアノ−1−ヒドロキシイミノメチル)−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号161)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、5−シアノメチル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号11)0.36g(1.46mmol)およびテトラヒドロフラン15mlを入れ、攪拌しながら濃塩酸0.2ml(1.87mmol)を加えて、5℃まで冷却した。同温度で亜硝酸tert−ブチル0.17g(1.65mmol)を加えて5分間攪拌したのちに、室温で2時間攪拌した。水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にクロロホルム−メタノール混液(溶媒容量比率 クロロホルム:メタノール=50:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.36g(1.31mmol)を得た。(収率90%)
融点160℃(分解)
融点160℃(分解)
3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−5−シアノメチル−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号83)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、シアノ酢酸3.7g(43.5mmol)および無水酢酸4.8g(42.8mmol)を入れ、攪拌しながら80℃まで加熱した。同温度で2時間攪拌したのち、室温に戻し、4−ベンジルオキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム2.5g(8.70mmol)を加えて、室温で3時間攪拌した。さらに60℃まで加熱し、同温度のまま2時間攪拌した。得られた反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpH10付近にし、酢酸エチルを加えて有機層を分取した。さらに飽和食塩水で洗って、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にクロロホルム−トルエン混液(溶媒容量比率 クロロホルム:トルエン=1:40)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.78g(2.32mmol)を得た。(収率27%)
融点154〜155℃
融点154〜155℃
3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−5−(1−シアノ−1−ヒドロキシイミノメチル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号194)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−5−シアノメチル−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号83)0.78g(2.32mmol)およびテトラヒドロフラン20mlを入れ、攪拌しながら濃塩酸0.2ml(1.87mmol)を加えて、5℃まで冷却した。同温度で亜硝酸tert−ブチル0.26g(2.52mmol)を加えて5分間攪拌したのちに、室温で3時間攪拌した。水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエン−酢酸エチル混液(溶媒容量比率 トルエン:酢酸エチル=5:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.77g(2.11mmol)を得た。(収率91%)
融点175〜176℃
融点175〜176℃
3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−5−(1−シアノ−1−メトキシイミノメチル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号195)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−5−(1−シアノ−1−ヒドロキシイミノメチル)−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号194)0.42g(1.15mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド5mlを入れて、攪拌しながら炭酸カリウム0.24g(1.74mmol)を加え、さらにヨードメタン0.25g(1.76mmol)を室温で滴下した。そのまま30分間攪拌したのちに、1N塩酸を加えpH1付近にして、酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.32g(0.84mmol)を得た。(収率73%)
融点162〜164℃
融点162〜164℃
3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−5−(1−シアノ−1−メトキシイミノメチル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号162)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−5−(1−シアノ−1−メトキシイミノメチル)−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号195)0.32g(0.84mmol)および酢酸5mlを入れて、攪拌しながら48%臭化水素酸水溶液0.16g(0.95mmol)を加えて、80℃まで加熱した。同温度で3時間攪拌したのちに、室温まで冷却して、水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、さらに得られた固体をヘキサンで洗って、標記の化合物0.14g(0.48mmol)を得た。(収率57%)
融点145〜146℃
融点145〜146℃
3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−5−(1−メトキシイミノ−1−フェニルメチル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号175、176)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した50mlの4つ口フラスコ中に、4−ヒドロキシ−3−ニトロ−ベンズアミドオキシム1.1g(5.58mmol)およびジオキサン30mlを入れ、攪拌しながらフェニルグリオキシル酸クロリド1.4g(8.30mmol)を加え、加熱した。3時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、反応中間体を含む黄白色固体状混合物1.8gを得た。
別の攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、上記混合物およびエタノール10mlを入れ、攪拌しながらメトキシアミン塩酸塩0.61g(7.30mmol)を加えて、加熱した。1時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物のE体(化合物番号175)を0.40g(1.18mmol、収率21%)、Z体(化合物番号176)を0.60g(1.76mmol、収率32%)でそれぞれ得た。
なお、これらの異性体の構造は、標準物質としてテトラメチルシラン(TMS)、溶媒として重クロロホルム(CDCl3)を用いた1H−NMRスペクトルデータで確認した。E体、Z体それぞれの融点およびNMRデータは下記のとおりである。
E体(化合物番号175)
融点116〜117℃
1H−NMR(δ ppm/CDCl3):4.12(3H,s)、7.32(1H,d,J=8.8Hz)、7.38〜7.50(3H,m)、7.56〜7.63(2H,m)、8.37(1H,dd,J=2.2Hz,J=8.8Hz)、8.94(1H,d,J=2.2Hz)、10.85(1H,s)
Z体(化合物番号176)
融点152〜154℃
1H−NMR(δ ppm/CDCl3):4.19(3H,s)、7.28(1H,d,J=8.8Hz)、7.49〜7.55(3H,m)、7.56〜7.61(2H,m)、8.32(1H,dd,J=2.2Hz,J=8.8Hz)、8.88(1H,d,J=2.2Hz)、10.82(1H,s)
別の攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、上記混合物およびエタノール10mlを入れ、攪拌しながらメトキシアミン塩酸塩0.61g(7.30mmol)を加えて、加熱した。1時間加熱還流したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加え、有機層を分取した。さらにこの有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物のE体(化合物番号175)を0.40g(1.18mmol、収率21%)、Z体(化合物番号176)を0.60g(1.76mmol、収率32%)でそれぞれ得た。
なお、これらの異性体の構造は、標準物質としてテトラメチルシラン(TMS)、溶媒として重クロロホルム(CDCl3)を用いた1H−NMRスペクトルデータで確認した。E体、Z体それぞれの融点およびNMRデータは下記のとおりである。
E体(化合物番号175)
融点116〜117℃
1H−NMR(δ ppm/CDCl3):4.12(3H,s)、7.32(1H,d,J=8.8Hz)、7.38〜7.50(3H,m)、7.56〜7.63(2H,m)、8.37(1H,dd,J=2.2Hz,J=8.8Hz)、8.94(1H,d,J=2.2Hz)、10.85(1H,s)
Z体(化合物番号176)
融点152〜154℃
1H−NMR(δ ppm/CDCl3):4.19(3H,s)、7.28(1H,d,J=8.8Hz)、7.49〜7.55(3H,m)、7.56〜7.61(2H,m)、8.32(1H,dd,J=2.2Hz,J=8.8Hz)、8.88(1H,d,J=2.2Hz)、10.82(1H,s)
3−(4−メチルアミノ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号116)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−フルオロ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール1.0g(4.78mmol)およびメタノール20mlを入れて、攪拌しながら室温で40%メチルアミン−メタノール溶液1.1g(14.2mmol)を加え、同温度で1時間攪拌した。真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して得られた粗生成物に、水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にクロロホルムを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.80g(3.63mmol)を得た。(収率76%)
融点195〜197℃
融点195〜197℃
3−(4−ジメチルアミノ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号119)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−(4−メチルアミノ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号116)0.50g(2.23mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド5mlを入れ、室温で攪拌しながら、水素化ナトリウム流動パラフィン分散物(水素化ナトリウム60%含有)0.11g(2.75mmol)をゆっくりと加えた。同温度のまま15分間攪拌したのち、60℃になるまで加熱した。60℃になったところで加熱を止め、室温まで冷却して、ヨードメタン0.63g(4.43mmol)を加えて、さらに室温で3時間攪拌した。水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にトルエンを用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.35g(1.49mmol)を得た。(収率67%)
融点138〜139℃
融点138〜139℃
3−[4−(ピペラジン−1−イル)−3−ニトロフェニル]−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号135)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、ピペラジン1.6g(18.6mmol)およびメタノール25mlを入れ、室温で攪拌しながら、3−(4−フルオロ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール1.3g(6.22mmol)を加えた。同温度のまま30分間攪拌したのち、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた組成生物に、水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にクロロホルム−メタノール混液(溶媒容量比率 クロロホルム:メタノール=20:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物1.5g(5.44mmol)を得た。(収率87%)
融点96〜99℃
融点96〜99℃
3−[4−(4−アセチルピペラジン−1−イル)−3−ニトロフェニル]−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号139)
攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、3−[4−(ピペラジン−1−イル)−3−ニトロフェニル]−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号135)0.40g(1.45mmol)、トリエチルアミン0.23g(2.27mmol)およびテトラヒドロフラン15mlを入れ、室温で攪拌しながら、塩化アセチル0.17g(2.17mmol)を加えた。同温度のまま1時間攪拌したのち、水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にクロロホルム−メタノール混液(溶媒容量比率 クロロホルム:メタノール=50:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物0.45g(1.42mmol)を得た。(収率98%)
融点165〜168℃
融点165〜168℃
5−エトキシカルボニル−3−(4−ベンジルオキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾールの製造(化合物番号89)
(製造法A) 攪拌装置、還流冷却器および100℃まで測定できる温度計を装備した200mlの4つ口フラスコ中に、5−エトキシカルボニル−3−(4−ヒドロキシ−3−ニトロフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号31)3.0g(10.7mmol)およびN,N−ジメチルホルムアミド30mlを入れ、室温で攪拌しながら、炭酸カリウム1.9g(13.7mmol)をゆっくりと加えた。同温度のまま10分間攪拌したのち、臭化ベンジル2.0g(11.7mmol)を滴下して、65℃まで加熱し、同温度で3時間攪拌した。得られた反応混合物に水および酢酸エチルを加えて有機層を分取し、さらにこの有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。真空ポンプ減圧下に溶媒を留去して、得られた粗生成物を、展開溶媒にヘキサン−トルエン混液(溶媒容量比率 ヘキサン:トルエン=3:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製した。得られた固体をヘキサンで洗って、標記の化合物2.5g(6.77mmol)を得た。(収率63%)
(製造法B)
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、5−エトキシカルボニル−3−(4−ベンジルオキシフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール2.7g(8.32mmol)および酢酸10mlを入れ、攪拌しながら65℃まで加熱した。65℃になったところで加熱を止め、70%硝酸0.91g(10.1mmol)を滴下した。そのまま30分間攪拌したのちに得られた反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にヘキサン−トルエン混液(溶媒容量比率 ヘキサン:トルエン=3:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物2.7g(7.31mmol)を得た。(収率88%)
融点123〜125℃
攪拌装置、還流冷却器および200℃まで測定できる温度計を装備した30mlの4つ口フラスコ中に、5−エトキシカルボニル−3−(4−ベンジルオキシフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール2.7g(8.32mmol)および酢酸10mlを入れ、攪拌しながら65℃まで加熱した。65℃になったところで加熱を止め、70%硝酸0.91g(10.1mmol)を滴下した。そのまま30分間攪拌したのちに得られた反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルを加えて有機層を分取し、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒にヘキサン−トルエン混液(溶媒容量比率 ヘキサン:トルエン=3:1)を用いたシリカゲル(メルク社製商品名:「シリカゲル60H」)クロマトグラフィーにより精製し、標記の化合物2.7g(7.31mmol)を得た。(収率88%)
融点123〜125℃
次に本発明による一般式(I)のニトロフェニルオキサジアゾール誘導体の一般的な製剤化の方法について詳しく説明する。
本発明化合物を農園芸用殺菌剤の有効成分として使用するに際しては、本発明化合物それ自体で用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤およびその他補助剤を配合して、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤、乳濁剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は通常、有効成分0.1〜90重量部で農薬補助剤10〜99.9重量部である。
製剤化に際して使用できる担体としては、農園芸用薬剤に常用されるものであれば、固体担体または液体担体のいずれでも使用でき、特定のものに限定されるものではない
このような例としては、固体担体としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木粉、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、タルク、カオリン、ベントナイト、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ、炭酸カルシウム、塩化カリウム、硫安などの鉱物性粉末が挙げられる。
液体担体としては、例えば水;イソプロピルアルコール、エチレングリコールなどのアルコール類;シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルなどのエーテル類;ケロシン、軽油などの脂肪族炭化水素類;キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水素類;N−メチル−2−ピロリドンなどのアミド類;脂肪酸のグリセリンエステルなどのエステル類;大豆油、ナタネ油などの植物油が挙げられる。
これらの担体は、2種以上を併用することができる。
また、製剤化に際して使用できる界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤などがあり、具体的には次のものが使用できる。
非イオン性界面活性剤の例としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンフェニルエーテルポリマー、ポリオキシエチレンアルキレンアリールフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーなどが挙げられる。
陰イオン性界面活性剤の例としては、例えば、リグニンスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルサルフェート、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルサルフェートなどが挙げられる。
陽イオン性界面活性剤の例としては、例えば、アルキルアミン塩などが挙げられる。
両性界面活性剤の例としては、例えば、第4級アンモニウム塩アルキルベタイン、アミンオキサイドなどが挙げられる。
なお、製剤化に際して使用できる界面活性剤は、これらに限定されるものではなく、これら2種以上を併用することもできる。
その他の補助剤として、粘結剤、増粘剤、固着剤、防腐防かび剤、溶剤、農薬活性成分の安定化剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、結晶析出防止剤、消泡剤、物性向上剤、着色剤などをおのおの必要に応じて添加してもよいが、ここに例示した補助剤に限定されるものではない。
粘結剤、増粘剤、固着剤としては、特に限定されるものではないが、たとえば次のようなものが挙げられる。澱粉、デキストリン、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルデンプン、ルラン、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、グアーガム、ローカストビーンガム、アラビアゴム、キサンタンガム、ゼラチン、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、エチレン・プロピレンブロックポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリビニルピロリドンなど。
上記方法により得られる本発明の殺菌剤の製剤は、次のように使用される。
すなわち、そのまま使用するか、または水などの希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤、またはその希釈物の施用は、通常一般に行なわれている施用方法、即ち、散布(例えば噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用等)、土壌施用(例えば混入、潅注等)、表面施用(例えば塗布、粉衣、被覆等)、浸漬などにより行うことができる。
本発明の殺菌剤の施用量は特に限定されず、有効成分濃度、製剤の形態対象病害や作物の種類、病害による被害の程度、施用場所、施用方法、施用時期、混用併用する薬剤や肥料などの使用量、種類などの種々の条件に応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常100m2当り0.001〜100g程度、好ましくは0.01〜50g程度で使用される。
乳剤、水和剤、フロアブル剤などを水で希釈して用いる場合は、その施用濃度は0.1〜1000ppm程度、好ましくは1〜500ppm程度で使用されるが、これらに限定されるものではない。粒剤、粉剤などは希釈することなく製剤のままで施用される。
なお、本発明の殺菌剤の製剤は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤、共力剤などと混用、併用することができる。
次に、本発明による一般式(I)の化合物の製剤例を示す。製剤例中の「部」は重量部を表わす。
以下に示す製剤例の添加物および添加割合は、これら製剤例に限定されるものではなく、広範囲に変化させることが可能である。
製剤例1 乳剤
本発明化合物(化合物番号2)10部を、1,2−ジメチル−4−エチルベンゼン45部およびN−メチル−2−ピロリドン35部に溶解し、これにソルポール3005X(東邦化学工業(株)製 界面活性剤 商品名)10部を加え、攪拌混合して10%乳剤を得た。また、上記化合物番号2に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の乳剤を調製することができる。
本発明化合物(化合物番号2)10部を、1,2−ジメチル−4−エチルベンゼン45部およびN−メチル−2−ピロリドン35部に溶解し、これにソルポール3005X(東邦化学工業(株)製 界面活性剤 商品名)10部を加え、攪拌混合して10%乳剤を得た。また、上記化合物番号2に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の乳剤を調製することができる。
製剤例2 水和剤
本発明化合物(化合物番号1)20部を、ラウリル硫酸ナトリウム2部、リグニンスルホン酸ナトリウム4部、ホワイトカーボン20部およびクレー54部を混合した中に加え、ジュースミキサーで攪拌混合して20%水和剤を得た。また、上記化合物番号1に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の水和剤を調製することができる。
本発明化合物(化合物番号1)20部を、ラウリル硫酸ナトリウム2部、リグニンスルホン酸ナトリウム4部、ホワイトカーボン20部およびクレー54部を混合した中に加え、ジュースミキサーで攪拌混合して20%水和剤を得た。また、上記化合物番号1に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の水和剤を調製することができる。
製剤例3 粒剤
本発明化合物(化合物番号9)5部に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム2部、カルボキシメチルセルロース2部、ラウリル硫酸ナトリウム2部、ベントナイト20部およびクレー79部を加え十分攪拌混合した。適当量の水を加えさらに攪拌し、造粒機で造粒し通風乾燥して5%粒剤を得た。また、上記化合物番号9に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の粒剤を調製することができる。
本発明化合物(化合物番号9)5部に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム2部、カルボキシメチルセルロース2部、ラウリル硫酸ナトリウム2部、ベントナイト20部およびクレー79部を加え十分攪拌混合した。適当量の水を加えさらに攪拌し、造粒機で造粒し通風乾燥して5%粒剤を得た。また、上記化合物番号9に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の粒剤を調製することができる。
製剤例4 粉剤
本発明化合物(化合物番号41)1部を大豆油2部に溶解し、ホワイトカーボン5部、酸性リン酸イソプロピル(PAP)0.3部およびクレー91.7部を加え、ジュースミキサーで攪拌混合し、1%粉剤を得た。また、上記化合物番号41に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の粉剤を調製することができる。
本発明化合物(化合物番号41)1部を大豆油2部に溶解し、ホワイトカーボン5部、酸性リン酸イソプロピル(PAP)0.3部およびクレー91.7部を加え、ジュースミキサーで攪拌混合し、1%粉剤を得た。また、上記化合物番号41に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の粉剤を調製することができる。
製剤例5 フロアブル剤
本発明化合物(化合物番号116)20部と、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ジアルキルスルホサクシネートナトリウムおよび1,2−ベンズチアゾリン−3−オンをそれぞれ2部、1部および0.2部含む水20部とを混合しダイノミルを用いて湿式粉砕後、プロピレングリコールおよびキサンタンガムをそれぞれ8部および0.32部含む水60部と混合し20%水中懸濁液を得た。また、上記化合物番号116に代えて、表1および表2中の他の化合物を用いても、同様のフロアブル剤を調製することができる。
本発明化合物(化合物番号116)20部と、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ジアルキルスルホサクシネートナトリウムおよび1,2−ベンズチアゾリン−3−オンをそれぞれ2部、1部および0.2部含む水20部とを混合しダイノミルを用いて湿式粉砕後、プロピレングリコールおよびキサンタンガムをそれぞれ8部および0.32部含む水60部と混合し20%水中懸濁液を得た。また、上記化合物番号116に代えて、表1および表2中の他の化合物を用いても、同様のフロアブル剤を調製することができる。
製剤例6 顆粒水和剤
本発明化合物(化合物番号144)20部を、ラウリル硫酸ナトリウム2部、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム3部、デキストリン5部、ホワイトカーボン20部およびクレー50部を混合した中に加え、ジュースミキサーで攪拌混合した。適当量の水を加えてさらに攪拌し、造粒機で造粒したのち、通風乾燥して20%顆粒水和剤を得た。また、上記化合物番号144に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の顆粒水和剤を調製することができる。
本発明化合物(化合物番号144)20部を、ラウリル硫酸ナトリウム2部、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム3部、デキストリン5部、ホワイトカーボン20部およびクレー50部を混合した中に加え、ジュースミキサーで攪拌混合した。適当量の水を加えてさらに攪拌し、造粒機で造粒したのち、通風乾燥して20%顆粒水和剤を得た。また、上記化合物番号144に代えて、表1〜表7および表8〜表11中の他の化合物を用いても、同様の顆粒水和剤を調製することができる。
次に、本発明化合物の有用性を試験例により具体的に示す。
試験例1 オオムギうどんこ病防除効果試験
温室内で直径6cmの大きさのプラスチック製ポットで土耕栽培したオオムギ(品種:アズマゴールデン)の第1葉期苗に、製剤例2に準じて調製した水和剤の希釈液(100ppm)を1ポット当り10ml散布した。薬剤処理をした翌日、あらかじめ別のオオムギ葉上で形成させたオオムギうどんこ病菌(Erysiphe graminis:エリシフェ
グラミニス)の分生胞子を展着剤(ポリオキシエチレンアルキルエーテル)の50ppm水溶液にて胞子濃度を5×105胞子数(個)/mlに調整し、これを前記オオムギの茎葉に噴霧接種した。その後、20℃、湿度100%の接種箱内に一夜保った後、20℃の温室内に移して発病を促した。接種7日後に1葉当りのオオムギうどんこ病の病斑数を調査し、下記の式1により防除価(%)を算出した。
温室内で直径6cmの大きさのプラスチック製ポットで土耕栽培したオオムギ(品種:アズマゴールデン)の第1葉期苗に、製剤例2に準じて調製した水和剤の希釈液(100ppm)を1ポット当り10ml散布した。薬剤処理をした翌日、あらかじめ別のオオムギ葉上で形成させたオオムギうどんこ病菌(Erysiphe graminis:エリシフェ
グラミニス)の分生胞子を展着剤(ポリオキシエチレンアルキルエーテル)の50ppm水溶液にて胞子濃度を5×105胞子数(個)/mlに調整し、これを前記オオムギの茎葉に噴霧接種した。その後、20℃、湿度100%の接種箱内に一夜保った後、20℃の温室内に移して発病を促した。接種7日後に1葉当りのオオムギうどんこ病の病斑数を調査し、下記の式1により防除価(%)を算出した。
本試験は1薬液濃度区当り3ポット制で行い、その平均防除価(%)を求め、下記の表12に従い、防除価(%)を評価値に換算した。
これらの結果を下記の表13に示した。
また、本試験において、オオムギ苗に対する薬害は見られなかった。
また、本試験において、オオムギ苗に対する薬害は見られなかった。
なお、比較化合物は、下記に示した公知化合物であり、本発明に準じて供試した。また、これらの化合物は後記の表においても同様である。
比較化合物A(特許文献1記載の化合物)
比較化合物B(特許文献2記載の化合物)
比較化合物A(特許文献1記載の化合物)
試験例2 キュウリべと病防除効果試験
温室内で直径6cmの大きさのプラスチック製ポットで土耕栽培したキュウリ(品種:相模半白)の第2葉期苗に、製剤例2に準じて調製した水和剤の希釈液(100ppm)を1ポット当り10ml散布した。薬剤処理をした翌日、あらかじめ別のキュウリ葉上で形成させたキュウリべと病菌(Pseudoperonospora cubensis:シュードぺロノスポラ
クベンシス)の胞子を展着剤(ポリオキシエチレンアルキルエーテル)の50ppm水溶液にて胞子濃度を5×105胞子数(個)/mlに調整し、前記キュウリの茎葉に噴霧接種した。その後、20℃、湿度100%の接種箱に一夜保った後、24℃の温室内に移して発病を促した。接種6日後に、1葉当りの病斑面積歩合(%)を調査し、平均病斑面積歩合を求め、下記の式2により防除価(%)を算出した。
温室内で直径6cmの大きさのプラスチック製ポットで土耕栽培したキュウリ(品種:相模半白)の第2葉期苗に、製剤例2に準じて調製した水和剤の希釈液(100ppm)を1ポット当り10ml散布した。薬剤処理をした翌日、あらかじめ別のキュウリ葉上で形成させたキュウリべと病菌(Pseudoperonospora cubensis:シュードぺロノスポラ
クベンシス)の胞子を展着剤(ポリオキシエチレンアルキルエーテル)の50ppm水溶液にて胞子濃度を5×105胞子数(個)/mlに調整し、前記キュウリの茎葉に噴霧接種した。その後、20℃、湿度100%の接種箱に一夜保った後、24℃の温室内に移して発病を促した。接種6日後に、1葉当りの病斑面積歩合(%)を調査し、平均病斑面積歩合を求め、下記の式2により防除価(%)を算出した。
本試験は1薬液濃度区当り3ポット制で行い、その平均防除価(%)を求め、試験例1と同様に、上記表3に従って防除価(%)を評価値に換算した。
これらの結果を下記の表14に示した。
また、本試験において、キュウリ苗に対する薬害は見られなかった。
これらの結果を下記の表14に示した。
また、本試験において、キュウリ苗に対する薬害は見られなかった。
本発明のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、前述のとおり、ムギ類のうどんこ病および野菜、果樹のべと病など、各種作物の種々の病害を効果的に防除することができる。したがって、本発明のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体は、農園芸用分野での殺菌活性成分として有用である。
Claims (4)
- 一般式(I)
R2は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基(ただし、トリフルオロメチル基は除く。)、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アミノカルボニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、−C(R6)=NOR7、−C(=O)−XR8あるいは−YR9を示し、
R3は、水素原子、アルキル基、フェニルアルキル基あるいはアルキルカルボニル基を示し、
R4は、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルカルボニル基あるいはハロアルキルカルボニル基を示し、
R5は、水素原子あるいはアルキル基を示し、
R6は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基はハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R7は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基あるいはフェニル部位が置換されていてもよいフェニルアルキル基を示し、
このフェニルアルキル基のフェニル部位の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R8は、アルキル基を示し、
R9は、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
Xは、酸素原子あるいはアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を示し、
Yは、単結合あるいはアルキレン鎖を示す。]
で表されるニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体。 - 一般式(I)において、
R1は、−OR3、−NR4R5、1−ピペリジル基、4−モルホリノ基あるいは4位がアルキル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよい1−ピペラジニル基を示し、
R2は、水素原子、アルキル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ジアルコキシアルキル基、シクロアルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいフェニル基、アミノカルボニル基、アルキルカルボニル基、−C(R6)=NOR7あるいは−C(=O)−XR8を示し、
このフェニル基の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R3は、水素原子、ベンジル基あるいはアルキルカルボニル基を示し、
R4は、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基あるいはアルキルカルボニル基を示し、
R5は、水素原子あるいはアルキル基を示し、
R6は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基あるいは置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
このフェニル基およびヘテロアリール基の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R7は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基、アルコキシアルキル基あるいはフェニル部位が置換されていてもよいベンジル基を示し、
このベンジル基のフェニル部位の置換基は、ハロゲン原子、アルキル基あるいはハロアルキル基を示し、
R8は、アルキル基を示し、
Xは、酸素原子もしくはアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を示すことを特徴とする、請求項1記載のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体。 - 一般式(I)において、
R1は、−OR3を示し、
R2は、水素原子、アルキル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、シアノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アミノカルボニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、−C(R6)=NOR7あるいは−C(=O)−XR8を示し、
R3は、水素原子、ベンジル基あるいはアルキルカルボニル基を示し、
R6は、水素原子、アルキル基、シアノ基あるいはフェニル基を示し、
R7は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、シアノアルキル基、アルコキシアルキル基あるいはベンジル基を示し、
R8は、アルキル基を示し、
Xは、酸素原子もしくはアルキル基で置換されていてもよい窒素原子を示すことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体。 - 請求項1〜請求項3のいずれかに記載されているニトロフェニル−1,2,4−オキサジアゾール誘導体を有効成分として含有することを特徴とする、殺菌剤。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US20120015957A1 (en) * | 2007-12-17 | 2012-01-19 | Wenying Chai | Piperazinyl derivatives useful as modulators of the neuropeptide y2 receptor |
WO2017110863A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 住友化学株式会社 | オキサジアゾール化合物及びその用途 |
CN114478428A (zh) * | 2022-01-26 | 2022-05-13 | 西安医学院 | 1,2,4-噁唑类化合物及其制备方法和应用 |
CN114933573A (zh) * | 2022-05-06 | 2022-08-23 | 贵州大学 | 3-取代-1,2,4-噁二唑-5-羧酸类衍生物、其制备方法及应用 |
-
2004
- 2004-11-05 JP JP2004321423A patent/JP2006131525A/ja active Pending
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