JP2001047524A - プラスチック光学素子の製造方法、その製造装置、及びその製造方法により製造したプラスチック光学素子 - Google Patents

プラスチック光学素子の製造方法、その製造装置、及びその製造方法により製造したプラスチック光学素子

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JP2001047524A
JP2001047524A JP11345992A JP34599299A JP2001047524A JP 2001047524 A JP2001047524 A JP 2001047524A JP 11345992 A JP11345992 A JP 11345992A JP 34599299 A JP34599299 A JP 34599299A JP 2001047524 A JP2001047524 A JP 2001047524A
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plastic optical
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slow cooling
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Hidenobu Kishi
秀信 岸
Yasuo Yamanaka
康生 山中
Toshiharu Hatakeyama
寿治 畠山
Jun Watabe
順 渡部
Kiyotaka Sawada
清孝 沢田
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Ricoh Co Ltd
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    • B29L2011/0016Lenses

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高形状精度、低複屈折性、低屈折率分布を同
時に満たし、低コストなプラスチック光学素子及びその
製造装置、製造方法を提供する。 【解決手段】 熱可塑性の非晶質プラスチック材料から
形成されているプラスチック光学素子Aは、中央部の副
走査方向中央50%範囲の屈折率分布を2×10 -5以下
としている。このプラスチック光学素子Aは、製造過程
の樹脂冷却段階において、使用樹脂材料のガラス転移点
以下の所定温度範囲のうち、少なくとも5℃以上の範囲
で毎分3℃以下の速度の徐冷工程を実施することで作成
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック光学
素子及びその製造装置、製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】量産性、軽量性あるいは形状の自由度な
どの点から近年、プラスチック製の光学素子が増加して
いるが、この背景には低吸水性と低複屈折性を同時に満
たす光学樹脂の開発や、形状精度や低複屈折性を同時に
満たす射出圧縮成形法などの成形法の開発などがある。
しかし、より高精度なプラスチック光学素子が求められ
るに連れて、形状精度や低複屈折性の他に、光学素子内
部の屈折率分布が小さいことも要求されてきている。
【0003】屈折率分布は、成形品の表面に近いほど大
きく、逆に中心に近づくほど小さくなっており、結像レ
ンズとしては結像位置ずれを起こす原因となる。例えば
光走査レンズの場合、特開平10−288749号公報
で説明されているように、屈折率分布は被走査面上に集
光すべき光スポットが設計上の位置よりも光偏向器から
遠ざかるように作用し、その結果、被走査面上における
光スポット径が設計値よりも大きくなり、光走査により
書き込まれる記録画像の像質の低下を生じてしまう。
【0004】なお、この屈折率分布が生じる原因は、成
形中の樹脂冷却固化過程において、すなわち、材料のガ
ラス転移点以上あるいは熱変形温度以上において、冷却
が速過ぎて樹脂密度が不均一になるためと従来考えられ
てきた。
【0005】この屈折率分布による影響を回避するた
め、従来、以下のような技術が提案されている。例え
ば、特開平8−201717号公報(第1の従来例)で
は、ビーム進行方向の厚さtとそれに対して垂直方向の
高さhの関係がh/t>2とレンズ形状を規定してい
る。高さを大きくすることで樹脂冷却時のビーム透過領
域の温度分布が相対的に小さくなるため、ビーム透過領
域の屈折率分布が低下する。
【0006】また、特開平9−49976号公報(第2
の従来例)では、結像レンズの屈折率分布による結像位
置ずれを、結像レンズの被走査面側の屈折力を増して被
走査面上にビームを結像できるようにすることで補正し
ている。
【0007】また、特開平9−109165号公報(第
3の従来例)には、光学樹脂材料のガラス転移点を基準
として、−55℃〜−25℃の範囲で2時間以上のアニ
ール工程を射出圧縮成形品に対して実施することで屈折
率分布の低減を行う方法が提案されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記第1の従来
例では、使用樹脂量の増加及び冷却時間の増加を招くた
め生産コストが大きく増加する。また第2の従来例で
は、成形条件を固定した状態で成形加工したレンズを評
価した後に改めて補正値を決定することになる。従っ
て、成形条件に変更があった場合は再び補正値を変更し
て、再度形状補正を実施することになるし、多数個取り
の金型の場合、キャビティごとに補正する必要があり、
金型開発コストが非常に高くなる。また、成形条件が安
定せず屈折率分布が若干でも変化した場合、成形品はす
べてNG品となってしまい、大きな歩留り低下を招くこ
とになってしまう。
【0009】また第3の従来例では、屈折率分布を一定
のレベルにまで低減することが可能であるが、より高精
度なレンズに対しては不十分なレベルであり、またアニ
ール時間が数時間と長く、アニール工程に要するコスト
が高い。従って、さらに低コストで高精度な光学素子を
得るためには、大幅に屈折率分布を低減する技術を開発
する必要がある。
【0010】本発明は、上記従来技術の問題点を解決
し、高精度、即ち、高形状精度、低複屈折性、低屈折率
分布を同時に満たし、低コストなプラスチック光学素子
及びその製造装置、製造方法を提供することを目的とす
るものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、プラスチック光学素子を製
造する製造方法であって、プラスチック光学素子製造過
程の樹脂冷却段階において、該樹脂内部の温度下降速度
が、該樹脂材料のガラス転移点以下の所定温度範囲のう
ち、少なくとも5℃以上の範囲で毎分3℃以下となるよ
うに徐冷工程を実施することを特徴とするものである。
【0012】また上記目的を達成するために、請求項2
記載の発明は、請求項1記載のプラスチック光学素子の
製造方法において、 前記樹脂内部の温度を所定温度範
囲内に3分以上保持する工程を前記徐冷工程前に実施す
ることを特徴とするものである。
【0013】また上記目的を達成するために、請求項3
記載の発明は、請求項1または請求項2記載のプラスチ
ック光学素子の製造方法において、前記所定温度範囲下
限値以下にあるプラスチック光学素子を加熱して、所定
温度域まで昇温させた後に徐冷工程を実施することを特
徴とするものである。
【0014】また上記目的を達成するために、請求項4
記載の発明は、請求項1または請求項2記載のプラスチ
ック光学素子の製造方法において、成形し離型した直後
のプラスチック光学素子に対し、光学素子が所定温度範
囲下限値以上の高温域にある状態から、温度保持工程及
び徐冷工程、または徐冷工程のみを連続して実施するこ
とを特徴とするものである。
【0015】また上記目的を達成するために、請求項5
記載の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記
載のプラスチック光学素子の製造方法において、前記所
定温度範囲は、使用樹脂材料のガラス転移点を基準とし
て−40℃から−10℃の範囲であることを特徴とする
ものである。
【0016】また上記目的を達成するために、請求項6
記載の発明は、請求項1、請求項2、及び請求項5のい
ずれかに記載のプラスチック光学素子の製造方法におい
て、離型前の成形過程内で、徐冷工程を含む温度制御工
程を実施することを特徴とするものである。
【0017】また上記目的を達成するために、請求項7
記載の発明は、請求項6記載のプラスチック光学素子の
製造方法において、キャビティ内に樹脂が充填された
後、一定の段階で金型を成形機から切り離し、その後、
自然空冷あるいは温度制御装置内での温度制御により、
徐冷工程を含む温度制御工程を実施することを特徴とす
るものである。
【0018】また上記目的を達成するために、請求項8
記載の発明は、請求項6記載のプラスチック光学素子の
製造方法において、金型内に、ヒータ、冷却素子、温調
管の少なくともいずれか1つを配置し、これを制御する
ことで徐冷工程を含む温度制御工程を実施することを特
徴とするものである。
【0019】また上記目的を達成するために、請求項9
記載の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれかに記
載のプラスチック光学素子の製造方法において、内部温
度を制御可能な装置内にプラスチック光学素子を収納し
た後、装置内部の温度を制御して徐冷工程を含む温度制
御工程を実施することを特徴とするものである。
【0020】また上記目的を達成するために、請求項1
0記載の発明は、請求項1ないし請求項9のいずれかに
記載のプラスチック光学素子の製造方法において、内部
を移動可能で移動方向に温度分布を制御された装置内
に、光学素子またはキャビティ内に樹脂が充填されてい
る金型を通過させることで、徐冷工程を含む温度制御工
程を実施することを特徴とするものである。
【0021】また上記目的を達成するために、請求項1
1記載の発明は、請求項10記載のプラスチック光学素
子の製造方法によりプラスチック光学素子を製造する製
造装置であって、光学素子またはキャビティ内に樹脂が
充填されている金型が内部を移動可能であり、かつ移動
方向に温度分布を制御されていることを特徴とするもの
である。
【0022】また上記目的を達成するために、請求項1
2記載の発明は、請求項1ないし請求項10のいずれか
に記載のプラスチック光学素子の製造方法により製造
し、内部の屈折率分布を低減したことを特徴とするもの
である。
【0023】また上記目的を達成するために、請求項1
3記載の発明は、請求項12記載のプラスチック光学素
子において、矩形状であり、長手方向の任意の位置で、
光軸及び長手方向と相直交する短手方向の屈折率分布が
板厚の中央部50%の範囲において、2×10-5以下で
あることを特徴とするものである。
【0024】また上記目的を達成するために、請求項1
4記載の発明は、請求項12または請求項13に記載の
プラスチック光学素子において、熱可塑性の非晶質プラ
スチック材料から形成されていることを特徴とするもの
である。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従って説明する。図1は光走査レンズの寸法関係を示
す図である。光走査レンズAの材質は、熱可塑性非晶質
プラスチック、環状ポリオレフィンである。また、レン
ズ高さ6mm(中央高さhC :6mm)、中央厚さ
C :16mm、端部厚さ:5mm、長さ:80mmの
ものを使用している。但し、以下に示す各実施例におい
て、レンズ高さ10mm(中央高さhc :10mm)の
ものでも同様の効果が得られることを確認している。
【0026】屈折率分布の測定方法として、本出願人が
提案した特開平8−122210号公報の請求項1記載
の測定方法を採用し、非破壊で測定を実施する。そし
て、レンズ中央(像高0位置)での副走査方向(Z方
向)の屈折率分布を光路方向(X方向)について積算さ
れた平均値として求め、さらにその屈折率分布のうち中
央50%範囲での屈折率の最大値と最小値の差をΔn
1/2 として評価する(図2参照)。
【0027】以下、各実施例について説明する。 (実施例1)プラスチック光学素子Aを射出圧縮成形に
て成形し、成形過程内で徐冷工程を含む温度制御を実施
する。また、キャビティ近傍にヒータを設置し、自動温
度制御可能な金型を使用する。射出成形時型温設定はガ
ラス転移点(Tg)−5℃である。射出後4分間型温保
持した後、離型温度(T1 )まで毎分x℃の速度で徐冷
し、その後、離型温度で30秒保持して成形品を取り出
す(図3参照)。
【0028】徐冷速度を3段階、離型温度を4段階振っ
て成形を行い、各成形品について上述の方法で屈折率分
布を測定する。測定結果を図4(a)に示す。比較用と
して、型温一定で6分間または15分間冷却したものに
ついても、成形及び測定を実施する。その結果は図4
(b)に示す通りである。
【0029】次に実施例1についての結果を考察する。
型温一定の場合、冷却時間6分以上では屈折率分布の差
は生じない。一方、徐冷工程を実施した場合の結果を見
ると、実施しない場合に比べ明らかに屈折率分布が低減
でき、徐冷する温度幅が大きいほど、また冷却速度が遅
いほど、大きく屈折率分布を低減できることが判る。例
えば、Tg−40℃まで毎分1℃の速度で冷却したもの
の屈折率分布Δn1/2 は0.7×10-5であり、徐冷し
ないものに対して1/20以下に大幅に低減できてい
る。
【0030】特開平9−109165号公報記載等の通
常のアニール工程では、屈折率分布Δn1/2 は最小でも
3.0×10-5程度にしか低減できないので、Tg−4
0℃〜Tg−5℃の温度域で徐冷工程を実施することが
通常アニール工程を実施するよりも非常に有効であると
いえる。なお、ここでは成形工程内で徐冷工程を実施し
ているため、成形時間が長くなるものの、アニール等の
別工程の必要がなく、1工程のみで高精度な成形品を得
ることができるため、低コストで高精度なプラスチック
光学素子を作製できる。
【0031】これまで射出成形の常識では、高精度な成
形品を得るためには熱変形温度(Tg−10℃程度)ま
では徐冷した方がよいが、熱変形温度以下ではサイクル
短縮のためにも徐冷の必要は全くないとされていた。し
かし、Tg−40℃程度までは出来るだけ離型温度を低
くして徐冷した方が屈折率分布低減のためによいことを
本実施例の結果は示している。
【0032】(実施例2)プラスチック光学素子Aを射
出圧縮成形にて成形し、離型した成形品は室温下に24
時間自然放置する(図5参照)。その後、温度制御可能
なオーブンに収納して、徐冷工程を含むアニール工程を
実施する。射出成形時型温設定はガラス転移点(Tg)
−10℃、冷却時間6分である。
【0033】アニール工程では、温度T1 (Tg−15
℃)で一定時間(1時間)保温過程を実施し、その後、
取り出し温度(T2 )まで毎分x℃の速度で徐冷過程を
実施し、さらに取り出し温度にて5分間保持する(図6
参照)。成形品にとっては、室温からTg近傍の所定温
度域への昇温過程、所定温度域内での温度保持過程、徐
冷過程を順に経ることになる。
【0034】そして、徐冷速度を3段階、取り出し温度
を4段階振ってアニールを行い、各成形品について上記
の方法で屈折率分布を測定した。測定結果は図7(a)
に示す通りである。比較用として、徐冷工程なしの温度
一定設定でアニールを実施した。その結果は図7(b)
に示す通りである。
【0035】次に実施例2についての結果を考察する。
徐冷工程なしの温度一定でのアニールの場合、屈折率分
布Δn1/2 は3.8×10-5程度にしかならない。一
方、徐冷工程を実施した場合、徐冷速度が遅いほど、ま
た徐冷温度幅が大きいほど屈折率分布が低減されること
が判る。徐冷速度3℃/分以下ではその傾向が顕著であ
り、徐冷温度幅が5℃だけでも明らかに通常アニール工
程の場合より低減できている。
【0036】そして例えば、毎分1℃の速度でTg−4
0℃まで徐冷した場合、アニール時間は90分と短いに
も係わらず、屈折率分布Δn1/2 は0.6×10-5と大
幅に低減できている。なお、温度保持工程は1時間以上
伸ばしても屈折率分布に変化はなかったが、それより短
くした場合は若干屈折率分布が大きくなったので、温度
保持過程は樹脂内の温度均一化のためにも重要であると
いえる。
【0037】本方法は成形工程とアニール工程と2工程
にはなるが、アニール時間は数十分程度と短くて済み、
また汎用オーブンにて大量の成形品を一括して処理でき
る利点があるので、低コストにて高精度なプスラチック
光学素子を製造できる。
【0038】(実施例3)プラスチック光学素子Aを射
出圧縮成形にて成形し、離型した成形品をすぐに自動ア
ニール装置に移動し、徐冷工程を含むアニール工程を実
施する。射出成形における成形条件は実施例2と同様で
ある。
【0039】図8はアニール装置の外観図、図9はアニ
ール工程の第2の例を示す温度特性図、図10は成形品
の成形・冷却工程からアニール装置における徐冷工程を
示す模式図である。図8に示す自動アニール装置1は、
内部が温度分布制御され、ベルトコンベヤ2が内部を移
動することにより、光学素子Aに対して徐冷工程を含む
アニールを実施できるようになっている。
【0040】アニール工程では、温度T1 (Tg−15
℃)で一定時間(10分)保温過程を実施し、その後、
取り出し温度(T2)まで毎分x℃の速度で徐冷を実施
し、さらに取り出し温度にて5分間保持する(図9参
照)。そして、徐冷速度、取り出し温度を3条件ずつ振
ってアニール実施する。
【0041】次に実施例3についての結果を考察する。
実施例3でも、図7(a)と同様の結果が得られ、通常
アニール工程の場合よりも大幅に屈折率分布を低減でき
ることが判った。なお、温度保持工程は10分以上に伸
ばしても屈折率分布に変化は無かったが、それより短く
した場合は若干屈折率分布が大きくなり、特に3分以下
にした場合は顕著に増加した。
【0042】このように、実施例2の場合よりも温度保
持工程の時間を大幅に短縮しても同様の結果が得られた
のは、アニール開始時に既に成形品がTg近傍の高温で
あり、実施例2において成形品の昇温及び温度均一化に
要した時間分を短縮できたためと考えられる。
【0043】本方法は2工程にはなるが、射出成形工程
からアニール工程までの全自動化による人件コスト削
減、アニール時間を短縮できるための生産コスト削減に
より、低コストにて高精度なプラスチック光学素子を製
造できる。
【0044】(実施例4)プラスチックス光学素子Aを
特許2550086号記載のゲートシール射出成形方法
により成形する。樹脂がキャビティ内に充填されて一定
時間経過した段階で、金型ユニットを成形機から外して
移動し、その後、Tg−20℃以下まで徐冷を実施す
る。ここで上下にヒータを内蔵し温度制御可能なプレー
トで金型を挟んで、そのプレートを温度制御する方法で
徐冷工程を実施した。
【0045】次に実施例4についての結果を考察する。
実施例1と同様に、Tg以下での徐冷速度が遅いほど、
または離型温度が低いほど屈折率分布が低減された。値
も実施例1と同様であった。実施例1でも述べたが、熱
変形温度以下ではサイクル短縮のためにも徐冷の必要は
全くないという射出成形の常識のもと、これまでゲート
シール成形方法においても熱変形温度(Tg−10℃程
度)にて成形品が取り出されていた。しかし、本成形方
法においても、Tg−40℃程度までは出来るだけ離型
温度を低くして徐冷した方が屈折率分布低減のためにも
よいことが本実施例の結果より明らかとなった。
【0046】なお、ここでは温度制御可能なプレートで
金型ユニットを挟むことで徐冷工程を実施したが、この
方法に限らず、徐冷さえ実施できればどんな方法でもよ
い。例えば、金型ユニットを数点の点接触で支えて空冷
する方法、あるいは実施例3に示したようなライン移動
により自動で温度制御できる装置内に金型ユニットごと
通過させる方法なども同様の結果を得ることができる。
【0047】図7(b)に示すように、温度一定で実施
する通常のアニール工程や、通常の成形工程のみ(型温
一定あるいは熱変形温度程度までしか徐冷しない成形方
法)では、屈折率分布Δn1/2 は最小でも3.0×10
-5程度にしかならないが、徐冷工程を実施する本発明に
おいては、2.0×10-5以下と大幅に低減する。
【0048】なお、実施例1ないし実施例4で述べた方
法及び装置以外でも、請求項1記載の徐冷工程を実施で
きるならば、どのような手段でも構わない。また、成形
工程も射出成形に限らず、所望の形状精度及び低複屈折
性を得られるならばどんな成形方法及び成形条件を使用
しても構わない。また、最終冷却過程において、請求項
1記載の徐冷過程が含まれていれば、屈折率分布を低減
することができるので、徐冷以前にはどのような温度過
程を経ても構わない。
【0049】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、光学素子
内部の屈折率分布を大幅に低減させることができる。請
求項2記載の発明によれば、樹脂内の温度分布が均一化
されてから徐冷工程を経るので、確実に屈折率分布を低
減することができる。請求項3記載の発明によれば、一
度冷却され大きな屈折率分布を持った光学素子について
も屈折率分布を大幅に低減できる。請求項4記載の発明
によれば、より短い時間で屈折率分布低減効果を得るこ
とができる。
【0050】請求項5記載の発明によれば、使用樹脂材
料のガラス転移点を基準として確実に屈折率分布低減効
果を得ることができる。請求項6,7,8記載の発明に
よれば、成形工程1工程のみで低屈折率分布のプラスチ
ック光学素子を低コストで得ることができる。請求項9
記載の発明によれば、汎用的な装置を利用して大量の光
学素子を一括して処理し、屈折率分布を大幅に低減する
ことができる。請求項10記載の発明によれば、全工程
を全自動で行い、低コストで低屈折率分布のプラスチッ
ク光学素子を得ることができる。
【0051】請求項11記載の発明によれば、低コスト
で低屈折率分布のプラスチック光学素子を得ることがで
きる。請求項12,13記載の発明によれば、結像位置
ずれを低減できるため、より高精度な光学系を作製でき
る。請求項14記載の発明によれば、高精度なプラスチ
ック光学素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】光走査レンズの寸法関係を示す図である。
【図2】屈折率分布を示す特性図である。
【図3】成形品の徐冷過程を示す特性図である。
【図4】(a)は本発明による屈折率分布の測定結果の
第1の例を示す図である。(b)は比較例を示す図であ
る。
【図5】成形品を室温化で自然放置する様子を示す外観
図である。
【図6】本発明によるアニール工程の第1の例を示す温
度特性図である。
【図7】(a)は本発明による屈折率分布の測定結果の
第2の例を示す図である。(b)は比較例を示す図であ
る。
【図8】アニール装置の外観図である。
【図9】本発明によるアニール工程の第2の例を示す温
度特性図である。
【図10】成形品の成形・冷却工程からアニール装置に
おける徐冷工程を示す模式図である。
【符号の説明】
A 光走査レンズ 1 自動アニール装置 2 ベルトコンベア
フロントページの続き (72)発明者 渡部 順 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 沢田 清孝 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 4F213 AR06 WA05 WA53 WA84 WB01 WC01

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラスチック光学素子を製造する製造方
    法であって、プラスチック光学素子製造過程の樹脂冷却
    段階において、 該樹脂内部の温度下降速度が、該樹脂材料のガラス転移
    点以下の所定温度範囲のうち、少なくとも5℃以上の範
    囲で毎分3℃以下となるように徐冷工程を実施すること
    を特徴とするプラスチック光学素子の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のプラスチック光学素子の
    製造方法において、前記樹脂内部の温度を所定温度範囲
    内に3分以上保持する工程を前記徐冷工程前に実施する
    ことを特徴とするプラスチック光学素子の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載のプラスチ
    ック光学素子の製造方法において、 前記所定温度範囲下限値以下にあるプラスチック光学素
    子を加熱して、所定温度域まで昇温させた後に徐冷工程
    を実施することを特徴とするプラスチック光学素子の製
    造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1または請求項2記載のプラスチ
    ック光学素子の製造方法において、 成形し離型した直後のプラスチック光学素子に対し、光
    学素子が所定温度範囲下限値以上の高温域にある状態か
    ら、温度保持工程及び徐冷工程、または徐冷工程のみを
    連続して実施することを特徴とするプラスチック光学素
    子の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし請求項4のいずれかに記
    載のプラスチック光学素子の製造方法において、 前記所定温度範囲は、使用樹脂材料のガラス転移点を基
    準として−40℃から−10℃の範囲であることを特徴
    とするプラスチック光学素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1、請求項2、及び請求項5のい
    ずれかに記載のプラスチック光学素子の製造方法におい
    て、 離型前の成形過程内で、徐冷工程を含む温度制御工程を
    実施することを特徴とするプラスチック光学素子の製造
    方法。
  7. 【請求項7】 請求項6記載のプラスチック光学素子の
    製造方法において、 キャビティ内に樹脂が充填された後、一定の段階で金型
    を成形機から切り離し、その後、自然空冷あるいは温度
    制御装置内での温度制御により、徐冷工程を含む温度制
    御工程を実施することを特徴とするプラスチック光学素
    子の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項6記載のプラスチック光学素子の
    製造方法において、 金型内に、ヒータ、冷却素子、温調管の少なくともいず
    れか1つを配置し、これを制御することで徐冷工程を含
    む温度制御工程を実施することを特徴とするプラスチッ
    ク光学素子の製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項1ないし請求項5のいずれかに記
    載のプラスチック光学素子の製造方法において、 内部温度を制御可能な装置内にプラスチック光学素子を
    収納した後、装置内部の温度を制御して徐冷工程を含む
    温度制御工程を実施することを特徴とするプラスチック
    光学素子の製造方法。
  10. 【請求項10】 請求項1ないし請求項9のいずれかに
    記載のプラスチック光学素子の製造方法において、 内部を移動可能で移動方向に温度分布を制御された装置
    内に、光学素子またはキャビティ内に樹脂が充填されて
    いる金型を通過させることで、徐冷工程を含む温度制御
    工程を実施することを特徴とするプラスチック光学素子
    の製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項10記載のプラスチック光学素
    子の製造方法によりプラスチック光学素子を製造する製
    造装置であって、光学素子またはキャビティ内に樹脂が
    充填されている金型が内部を移動可能であり、かつ移動
    方向に温度分布を制御されていることを特徴とするプラ
    スチック光学素子の製造装置。
  12. 【請求項12】 請求項1ないし請求項10のいずれか
    に記載のプラスチック光学素子の製造方法により製造
    し、内部の屈折率分布を低減したことを特徴とするプラ
    スチック光学素子。
  13. 【請求項13】 請求項12記載のプラスチック光学素
    子において、 矩形状であり、長手方向の任意の位置で、光軸及び長手
    方向と相直交する短手方向の屈折率分布が板厚の中央部
    50%の範囲において、2×10-5以下であることを特
    徴とするプラスチック光学素子。
  14. 【請求項14】 請求項12または請求項13に記載の
    プラスチック光学素子において、 熱可塑性の非晶質プラスチック材料から形成されている
    ことを特徴とするプラスチック光学素子。
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