JP2001031805A - プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム - Google Patents

プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム

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JP2001031805A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定性に優れ、かつ優れたヒートシール
性を発現し、スリップ性及びアンチブロッキング性を備
えたフィルムを得ることができ、また高速製膜化が可能
なプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからな
るフィルムを提供する。 【解決手段】 下記の〜の条件を満たすプロピレン
とエチレンのランダム共重合体に、酸化防止剤及び/又
は発錆防止剤を配合する。13 C- NMRにより測定したエチレン単位の含有量
(α)が0.2〜10重量%、昇温分別クロマトグラ
フの主溶出ピーク温度をTp(℃)としたとき、(Tp
−5)℃〜(Tp+5)℃の温度範囲において溶出する
量(Wp)が20重量%以上、昇温分別クロマトグラ
フの0℃以下の温度範囲において溶出する量(W0)と
αがW0≦(3+2α)/4の関係を満たす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロピレン系ラン
ダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムに関する
ものであり、さらに詳しくはプロピレンとエチレンとの
プロピレン系二元ランダム共重合体組成物、及びそれを
成形したフィルムに関するものである。このフィルムは
ラミネートや共押出した積層フィルムの少なくとも一層
の構成成分として好適に用いられる。
【0002】
【従来の技術】結晶性プロピレン系重合体組成物のフィ
ルムはその優れた剛性、透明性、及び防湿性等を活かし
て広く包装用フィルムとして使用されている。包装用フ
ィルムはしばしば袋状に加工して使用されているが、フ
ィルムを袋状に加工し内容物を充填した後に袋口を閉じ
る一連の操作は、通常加熱した棒により圧締してフィル
ム同士を溶融接着するヒートシールと呼ばれる操作によ
り行われている。近年これら一連の製袋、包装工程は生
産性向上のため大型製膜機による高速製膜化が図られて
おり、ヒートシール性に優れた素材の開発が強く要望さ
れている。またこれら二次加工工程を円滑に行うため、
包装用フィルムにはスリップ性、アンチブロッキング性
が優れていることが必須の特性として要求されている。
【0003】しかし、プロピレン単独重合体のフィルム
は、ヒートシールするには高い温度で、かつ長い時間の
圧締が必要であるという欠点を有する。そこでこの欠点
を改良する目的でエチレンや1―ブテン、及びその他の
α―オレフィンとプロピレンとの共重合が広く行われて
きた。しかしながら、チーグラーナッタ触媒を用いてプ
ロピレン系重合体を製造するる従来技術においては、充
分なヒートシール性改良効果を得るために多量のエチレ
ンや1―ブテン、及びその他のα―オレフィン等のコモ
ノマーを共重合する必要があった。また、これらのコモ
ノマーはしばしば低分子量成分に集中して含まれてお
り、結晶性に乏しく、べとつきの原因成分(以下べとつ
き成分と呼ぶ)になっていた。そのため、ポリプロピレ
ンフィルム本来の特徴である剛性が大きく低下したり、
フィルム同士がブロッキングして二次加工に支障をきた
したり、ブリード白化による外観不良を起こしたりして
実用に耐えるものとはならなかった。
【0004】この欠点を改良するため従来技術において
は、べとつき成分を不活性溶剤中に溶解し、除去する試
みが行われてきた。しかしながら、べとつき成分を効率
的に洗い落とし、かつヒートシール性に寄与する低温融
解成分が洗浄により減少するのを抑制することは非常に
困難であり、工業的に満足のいくものではなかった。一
方、近年いわゆるメタロセン系触媒によるプロピレン系
重合体の適用が盛んに検討されている。メタロセン系触
媒による重合体は分子量分布や組成分布が極めて狭いこ
とが特徴である。ところが、成形安定性を保持したり、
成形体に幾つもの相反する物性を持たせたりするために
は分子量分布や組成分布を逆に広げた方が良いことが指
摘されており、メタロセン系触媒によるプロピレン系重
合体の組成物がいろいろと提案されている。しかしなが
ら、工業的に満足のいく方法によって用途、成形法に合
わせた樹脂特性の重合体を自由に得ることは未だにでき
ていない状況である。また、プロピレン系重合体は加工
安定性、耐熱老化性、耐腐食性などの安定性をさらに向
上させる必要もある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記観点か
らなされたもので、ポリプロピレンのフィルムが本来有
する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なう
ことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製
袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね
備えたフィルムを得ることができ、また製膜速度を高速
化してもフィルム品質の低下が極めて小さく、さらに
は、安定性が向上したプロピレン系ランダム共重合体組
成物及びそれからなるフィルムを提供することを目的と
するものである。
【0006】
【課題を解決しようとする手段】本出願人は、チーグラ
ーナッタ触媒に関し、重合活性の経時的な低下が小さ
く、高活性、高立体規則性を発現するオレフィン重合体
製造用触媒成分、オレフィン重合体製造用触媒及びオレ
フィン重合体の製造方法を見出した(特願平10−71
752号)。
【0007】そこで本発明者らは、前記の触媒成分を用
いて製造して得たプロピレン系重合体のフィルム物性を
鋭意検討した結果、その中でプロピレン系ランダム共重
合体に、酸化防止剤又は発錆防止剤を配合した組成物が
上記の発明目的を非常に高いレベルで満足することを見
出し、本発明を完成させるに到った。すなわち、本発明
は以下のプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれ
からなるフィルムを提供するものである。 1.(i)プロピレンとエチレンのランダム共重合体で
あって、下記の〜の条件を満たすプロピレン系ラン
ダム共重合体に、(ii)酸化防止剤及び発錆防止剤か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物を配合してなるプロ
ピレン系ランダム共重合体組成物。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量α(重量%)が0.2〜10重量%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTp
(℃)としたとき、(Tp−5)℃〜(Tp+5)℃の
温度範囲において溶出する量Wp(重量%)が20重量
%以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0(重量%)とαが下記式(1)の関係
を満たす。 W0 ≦ (3+2α)/4 ・・・(1) 2.(ii)成分の配合量が合計で、(i)成分100
重量部に対して0.005〜2重量部である上記1記載
のプロピレン系ランダム共重合体組成物。 3.さらに、(iii)重金属不活性化剤及び/又は
(iv)ラジカル発生剤を配合してなる上記1又は2に
記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。 4.(i)成分において、示差走査型熱量計(DSC)
により測定した共重合体の融点Tm(℃)とαが、下記
式(2)の関係を満たす上記1〜3のいずれかに記載の
プロピレン系ランダム共重合体組成物。 Tm ≦ 160―5α ・・・(2) 5.(i)成分において、昇温分別クロマトグラフの主
溶出ピーク温度をTp(℃)としたとき、(Tp+5)
℃以上の温度範囲において溶出する量WH (重量%)と
αが下記式(3)の関係を満たす上記1〜4のいずれか
に記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。 0.1 ≦ WH ≦ 3α ・・・(3) 6.(i)成分において、共重合体中の沸騰ジエチルエ
ーテル抽出成分量E(重量%)が2.5重量%以下であ
り、かつEとαが下記式(4)の関係を満たす上記1〜
5のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組
成物。 E ≦ (2α+15)/10 ・・・(4)
【0008】7.(i)成分において、メルトインデッ
クスMI(g/10min)が0.1〜200g/10
minである上記1〜6のいずれかに記載のプロピレン
系ランダム共重合体組成物。 8.(i)成分において、13C−NMRにより測定した
共重合体中の立体規則性指標P(モル%)が98モル%
以上である上記1〜7のいずれかに記載のプロピレン系
ランダム共重合体組成物。 9.(i)成分において、αが3〜7重量%である上記
1〜8のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合
体組成物。 10.(ii)成分のうち酸化防止剤が、フェノール
系、リン系、イオウ系、ビタミン系又はラクトン系の化
合物である上記1〜9のいずれかに記載のプロピレン系
ランダム共重合体組成物。 11.(ii)成分のうち発錆防止剤が、高級脂肪酸金
属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金
属化合物、アルキル乳酸又は乳酸金属塩の化合物である
上記1〜10のいずれかに記載のプロピレン系ランダム
共重合体組成物。 12.上記1〜11のいずれかに記載のプロピレン系ラ
ンダム共重合体組成物からなるフィルム。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳細に説
明する。本発明を構成する(i)成分のプロピレン系ラ
ンダム共重合体は、プロピレンとエチレンのランダム共
重合体であって、下記の〜の条件を満たす。
【0010】13C−NMRにより測定した共重合体中
のエチレン単位の含有量α(重量%)が0.2〜10重
量%である。好ましくは0.5〜9重量%、より好まし
くは1〜8重量%、最も好ましくは3〜7重量%であ
る。エチレン単位の含有量が少なすぎると、ヒートシー
ル性の改良効果が望めない。またエチレン単位の含有量
が多すぎると、フィルムの剛性が満足できないものにな
り好ましくない。
【0011】また、本発明を構成する(i)成分のプロ
ピレン系ランダム共重合体は、示差走査型熱量計(DS
C)により測定した共重合体の融点Tm(℃)とαが下
記式(2)の関係を満たしていることが好ましく、 Tm ≦ 160―5α ・・・(2) より好ましくは、 Tm ≦ 160―6α ・・・(5) を満たしている場合である。この関係を満たしていない
場合は、ヒートシール性が不充分になり易く、またアン
チブロッキング性の低いものになる場合がある。
【0012】昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク
温度をTp(℃)としたとき、(Tp−5)℃〜(Tp
+5)℃の温度範囲において溶出する量Wp(重量%)
が20重量%以上である。好ましくは、 20 ≦ Wp、かつ(80−15α) ≦ Wp ・・・(6) であり、より好ましくは、 30 ≦ Wp、かつ(90−12α) ≦ Wp ・・・(7) である。
【0013】Wpが20重量%未満の場合は、主溶出ピ
ークの裾が高温側及び/又は低温側に大きく伸びている
場合であり、低温側の成分は製膜したフィルムをべとつ
いたものにするので好ましくなく、高温側の成分はヒー
トシール性を不充分にし、透明性の成形条件依存性を大
きくするので好ましくない。また、本発明を構成する
(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体は、主溶出
ピークの高温側の成分が、チルロールリリースなどの成
形性や剛性に寄与しているため全く無いよりもある程度
の量が存在していた方が好ましく、本発明のプロピレン
系ランダム共重合体は(Tp+5)℃以上の温度範囲に
おいて溶出する量WH (重量%)とαが下記式(3)の
関係を満たしていることが好ましい。 0.1 ≦ WH ≦3α ・・・(3) さらに好ましくは、 WH ≦ (3α−3)、かつ(3α−15) ≦ WH ・・・(8) を満たしている場合である。
【0014】昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温
度範囲において溶出する量W0(重量%)とαが下記式
(1)の関係を満たす。 W0 ≦ (3+2α)/4 ・・・(1) 好ましくは、 W0 ≦ (2+2α)/4 ・・・(9) を満たす。
【0015】W0が(1)の関係を満たさない場合、製
膜したフィルムがべとついたものなり、添加剤、低分子
量成分などのブリードによるトラブルが起こり易くなり
好ましくない。また、本発明を構成する(i)成分のプ
ロピレン系ランダム共重合体は、共重合体中の沸騰ジエ
チルエーテル抽出成分量E(重量%) が2.5重量%以
下であり、かつEとαが下記式(4)の関係を満たして
いることが好ましい。 E ≦ (2α+15)/10 ・・・(4) さらに好ましくは、 E ≦ (α+5)/5 ・・・(10) を満たしている場合である。
【0016】この場合、製膜したフィルムがべとついた
ものにならずに好ましい。また、本発明を構成する
(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体は、230
℃、2.16kg荷重におけるメルトインデックスMI
(g/10min)が0.1〜200g/10minで
あることが好ましい。より好ましくは1〜40g/10
minであり、さらに好ましくは2〜20g/10mi
nである。メルトインデックスがこの範囲から外れると
成形性に劣るものになることがある。
【0017】また、本発明の(i)成分のプロピレン系
ランダム共重合体は、13C−NMRにより測定した共重
合体中の立体規則性指標P(モル%)が98モル%以上
であることが好ましい。より好ましくは98.5モル%
以上である。立体規則性指標Pが98モル%未満である
と製膜したフィルムの剛性、アンチブロッキング性が不
充分になる場合がある。
【0018】本発明を構成する(i)成分のプロピレン
系ランダム共重合体は(A)マグネシウム化合物とチタ
ン化合物とを電子供与性化合物および必要に応じてケイ
素化合物の存在下、120℃以上150℃以下の温度に
て接触させた後、100℃以上150℃以下の温度にて
不活性溶媒により洗浄したものからなる固体触媒成分、
(B)有機アルミニウム化合物および必要に応じて
(C)第3成分として電子供与性化合物からなる触媒を
用いてプロピレンとエチレンを共重合することにより製
造することができる。以下に、各触媒成分、調製方法、
重合方法等について説明する。
【0019】各触媒成分 (A) 固体触媒成分 固体触媒成分は、マグネシウム、チタンおよび電子供与
体を含有するものであり、以下の(a)マグネシウム化
合物、(b)チタン化合物、(c)電子供性化合物およ
び必要に応じてケイ素化合物(d)からなる固体触媒成
分から形成されるものである。 (a)マグネシウム化合物 マグネシウム化合物としては、特に制限はないが、一般
式(I) MgR1 2 ・・・(I) で表されるマグネシウム化合物を好ましく用いることが
できる。
【0020】上記の一般式(I)において、R1 および
2 は、炭化水素基、OR3 基(R 3 は炭化水素基)ま
たはハロゲン原子を示す。ここで、R1 およびR2 の炭
化水素基としては、炭素数1〜12個のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、OR
3 基としては、R3 が炭素数1〜12個のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ハ
ロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等を
挙げることができる。また、R1 およびR2 は、同一で
も異なってもよい。
【0021】上記の一般式(I)で示されるマグネシウ
ム化合物の具体例としては、ジメチルマグネシウム,ジ
エチルマグネシウム,ジイソプロピルマグネシウム,ジ
ブチルマグネシウム,ジヘキシルマグネシウム,ジオク
チルマグネシウム,エチルブチルマグネシウム,ジフェ
ニルマグネシウム,ジシクロヘキシルマグネシウム等の
アルキルマグネシウム,アリールマグネシウム;ジメト
キシマグネシウム,ジエトキシマグネシウム,ジプロポ
キシマグネシウム,ジブトキシマグネシウム,ジヘキシ
ロキシマグネシウム,ジオクトキシマグネシウム,ジフ
ェノキシマグネシウム,ジシクロヘキシロキシマグネシ
ウム等のアルコキシマグネシウム,アリロキシマグネシ
ウム;エチルマグネシウムクロリド,ブチルマグネシウ
ムクロリド,ヘキシルマグネシウムクロリド,イソプロ
ピルマグネシウムクロリド,イソブチルマグネシウムク
ロリド,t−ブチルマグネシウムクロリド,フェニルマ
グネシウムブロミド,ベンジルマグネシウムクロリド,
エチルマグネシウムブロミド,ブチルマグネシウムブロ
ミド,フェニルマグネシウムクロリド,ブチルマグネシ
ウムイオダイド等のアルキルマグネシウムハライド,ア
リールマグネシウムハライド;ブトキシマグネシウムク
ロリド,シクロヘキシロキシマグネシウムクロリド,フ
ェノキシマグネシウムクロリド,エトキシマグネシウム
ブロミド,ブトキシマグネシウムブロミド,エトキシマ
グネシウムイオダイド等のアルコキシマグネシウムハラ
イド,アリロキシマグネシウムハライド;塩化マグネシ
ウム,臭化マグネシウム,ヨウ化マグネシウム等のハロ
ゲン化マグネシウム等を挙げることができる。
【0022】これらのマグネシウム化合物の中でも、重
合活性および立体規則性の面から、マグネシウムハライ
ド、アルコキシマグネシウム、アルキルマグネシウム、
アルキルマグネシウムハライドが好適に使用できる。上
記のマグネシウム化合物は、金属マグネシウム、または
マグネシウムを含有する化合物から調製することができ
る。
【0023】一例としては、金属マグネシウムにハロゲ
ン及びアルコールを接触させる方法を挙げることができ
る。ここで、ハロゲンとしては、ヨウ素,塩素,フッ
素,臭素を挙げることができる。アルコールとしては、
メタノール,エタノール,プロパノール,ブタノール,
シクロヘキサノール,オクタノール等を挙げることがで
きる。
【0024】また、他の一例として、Mg(OR4 2
で表されるマグネシウムアルコキシ化合物(式中、R4
は、炭素数1〜20の炭化水素基を示す。)にハロゲン
化物を接触する方法を挙げることができる。そのハロゲ
ン化物としては、四塩化ケイ素,四臭化ケイ素,四塩化
スズ,四臭化スズ,塩化水素等が挙げることができる。
これらの中では、重合活性及び立体規則性の面から、四
塩化ケイ素が好ましい。上記のR4 としては、メチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−
ブチル基,イソブチル基,ヘキシル基,オクチル基,シ
クロヘキシル基等のアルキル基;プロペニル基,ブテニ
ル基等のアルケニル基;フェニル基,トリル基,キシリ
ル基等のアリール基;フェネチル基,3−フェニルプロ
ピル基等のアラルキル基などを挙げることができる。
【0025】さらに、マグネシウム化合物は、シリカ,
アルミナ,ポリスチレンなどの支持体に担持されていて
もよい。以上のマグネシウム化合物は単独でもよいし、
二種以上組み合わせて用いてもよい。また、ヨウ素など
のハロゲン、珪素、アルミニウムなどの他の元素を含有
していてもよく、アルコール、エーテル、エステル類な
どの電子供与体を含有してもよい。
【0026】(b)チタン化合物 チタン化合物としては、特に制限はないが、一般式(I
I) TiX1 p (OR5 4-p ・・・(II) で表されるチタン化合物を好ましく用いることができ
る。上記の一般式(II)において、X1 はハロゲン原子
を示し、その中でも塩素原子および臭素原子が好まし
く、塩素原子が特に好ましい。R5 は炭化水素基であっ
て、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や分枝鎖を
有するもの、あるいは環状のものであってもよく、さら
にはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどのヘテロ原
子を含むものであってもよい。好ましくは炭素数1〜1
0個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニル基、シ
クロアルケニル基、アリール基およびアラルキル基など
が好ましく、直鎖または分岐鎖のアルキル基が特に好ま
しい。OR5 が複数存在する場合にはそれらは互いに同
じでも異なってもよい。R5 の具体例としては、メチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−
ブチル基,sec−ブチル基,イソブチル基,n−ペン
チル基,n−ヘキシル基,n−ヘプチル基,n−オクチ
ル基,n−デシル基,アリル基,ブテニル基,シクロペ
ンチル基,シクロヘキシル基,シクロヘキセニル基,フ
ェニル基,トリル基,ベンジル基,フェネチル基などを
挙げることができる。pは0〜4の整数を示す。
【0027】上記の一般式(II)で示されるチタン化合
物の具体例としては、テトラメトキシチタン,テトラエ
トキシチタン,テトラ−n−プロポキシチタン,テトラ
イソプロポキシチタン,テトラ−n−ブトキシチタン,
テトライソブトキシチタン,テトラシクロヘキシロキシ
チタン,テトラフェノキシチタン等のテトラアルコキシ
チタン;四塩化チタン,四臭化チタン,四ヨウ化チタン
等のテトラハロゲン化チタン;メトキシチタントリクロ
リド,エトキシチタントリクロリド,プロポキシチタン
トリクロリド,n−ブトキシチタントリクロリド,エト
キシチタントリブロミド等のトリハロゲン化アルコキシ
チタン;ジメトキシチタンジクロリド,ジエトキシチタ
ンジクロリド,ジイソプロポキシチタンジクロリド,ジ
−n−プロポキシチタンジクロリド,ジエトキシチタン
ジブロミド等のジハロゲン化ジアルコキシチタン;トリ
メトキシチタンクロリド,トリエトキシチタンクロリ
ド,トリイソプロポキシチタンクロリド,トリ−n−プ
ロポキシチタンクロリド,トリ−n−ブトキシチタンク
ロリド等のモノハロゲン化トリアルコキシチタンなどを
挙げることができる。これらの中で、重合活性の面か
ら、高ハロゲン含有チタン化合物、特に四塩化チタンが
好ましい。これらのチタン化合物は、それぞれ単独で用
いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
【0028】(c)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、アルコール類、フェノール
類、ケトン類、アルデヒド類、有機酸もしくは無機酸の
エステル類、モノエーテル、ジエーテルもしくはポリエ
ーテル等のエーテル類等の含酸素電子供与性化合物や、
アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアネート等の含
窒素電子供与性化合物を挙げることができる。これらの
中では、多価カルボン酸のエステル類が好ましく、さら
に好ましくは、芳香族多価カルボン酸のエステル類であ
る。重合活性の面から、特に芳香族ジカルボン酸のモノ
エステルおよび/またはジエステルが好ましい。また、
エステル部の有機基が直鎖、分岐または環状の脂肪族炭
化水素が好ましい。
【0029】具体的には、ジカルボン酸のジアルキルエ
ステルを挙げることができる。その場合、ジカルボン酸
として、フタル酸、ナフタレン−1, 2−ジカルボン
酸、ナフタレン−2,3−ジカルボン酸、5,6,7,
8−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸、
5,6,7,8−テトラヒドロナフタレン−2,3−ジ
カルボン酸、インダン−4,5−ジカルボン酸、インダ
ン−5,6−ジカルボン酸等を挙げることができる。ま
た、アルキル基として、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチ
ル、n−ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチ
ル、3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1
−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペ
ンチル、4−メチルペンチル、1−エチルブチル、2−
エチルブチル、n−ヘキシル、シクロヘキシル、n−ヘ
プチル、n−オクチル、n−ノニル、2−メチルヘキシ
ル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、2−エ
チルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチルヘキシ
ル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−エ
チルペンチル、3−エチルペンチル等を挙げることがで
きる。これらの中では、フタル酸ジエステル類が好まし
く、また、エステル部の有機基の炭素数が4個以上の直
鎖または分岐の脂肪族炭化水素が好ましい。この具体例
としては、フタル酸ジ−n−ブチル,フタル酸ジイソブ
チル,フタル酸ジ−n−ヘプチル,フタル酸ジエチルな
どを好ましく挙げることができる。また、これらの化合
物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
【0030】(d)ケイ素化合物 固体触媒成分の調製に、前記(a)、(b)および
(c)成分に加えて、場合により(d)成分として、下
記の一般式(III) Si(OR6 q 2 4-q ……(III) (R5 は炭化水素基、X2 はハロゲン原子、qは0〜3
の整数を示す。)で表されるケイ素化合物を用いること
ができる。ケイ素化合物を用いることにより、触媒活性
および立体規則性の向上ならびに生成ポリマー中の微粉
量の低減が図れることがある。
【0031】上記の一般式(III)において、X2 はハロ
ゲン原子を示し、これらの中で塩素原子および臭素原子
が好ましく、塩素原子が特に好ましい。R6 は炭化水素
基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や
分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであってもよ
く、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどの
ヘテロ原子を含むものであってもよい。好ましくは炭素
数1〜10個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アリール基およびアラルキ
ル基などが好ましい。OR6 が複数存在する場合にはそ
れらは互いに同じでも異なってもよい。R6 の具体例と
しては、メチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプ
ロピル基,n−ブチル基,sec−ブチル基,イソブチ
ル基,n−ペンチル基,n−ヘキシル基,n−ヘプチル
基,n−オクチル基,n−デシル基,アリル基,ブテニ
ル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,シクロヘ
キセニル基,フェニル基,トリル基,ベンジル基,フェ
ネチル基などが挙げることができる。qは0〜3の整数
を示す。
【0032】上記の一般式(III)で示されるケイ素化合
物の具体例としては、四塩化ケイ素,メトキシトリクロ
ロシラン,ジメトキシジクロロシラン,トリメトキシク
ロロシラン,エトキシトリクロロシラン,ジエトキシジ
クロロシラン,トリエトキシクロロシラン,プロポキシ
トリクロロシラン,ジプロポキシジクロロシラン,トリ
プロポキシクロロシランなどを挙げることができる。こ
れらの中で特に四塩化ケイ素が好ましい。これらのケイ
素化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以
上を組み合わせて用いてもよい。
【0033】(B)有機アルミニウム化合物 本発明の(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体の
製造に用いられる(B)有機アルミニウム化合物として
は、特に制限はないが、アルキル基、ハロゲン原子、水
素原子、アルコキシ基を有するもの、アルミノキサンお
よびそれらの混合物を好ましく用いることができる。具
体的には、トリメチルアルミニウム,トリエチルアルミ
ニウム,トリイソプロピルアルミニウム,トリイソブチ
ルアルミニウム,トリオクチルアルミニウム等のトリア
ルキルアルミニウム;ジエチルアルミニウムモノクロリ
ド,ジイソプロピルアルミニウムモノクロリド,ジイソ
ブチルアルミニウムモノクロリド,ジオクチルアルミニ
ウムモノクロリド等のジアルキルアルミニウムモノクロ
リド;エチルアルミニウムセスキクロリド等のアルキル
アルミニウムセスキハライド;メチルアルミノキサン等
の鎖状アルミノキサン等を挙げることができる。これら
の有機アルミニウム化合物の中では、炭素数1〜5個の
低級アルキル基を有するトリアルキルアルミニウム、特
にトリメチルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,
トリプロピルアルミニウムおよびトリイソブチルアルミ
ニウムが好ましい。また、これらの有機アルミニウム化
合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み
合わせて用いてもよい。
【0034】(C)第3成分(電子供与性化合物) 本発明の(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体を
製造するには、(C)電子供与性化合物が用いられる。
この(C)電子供与性化合物としては、Si−O−C結
合を有する有機ケイ素化合物、窒素含有化合物、リン含
有化合物、酸素含有化合物を用いることができる。この
うち、重合活性および立体規則性の面から、Si−O−
C結合を有する有機ケイ素化合物、エーテル類およびエ
ステル類を用いることが好ましく、特にSi−O−C結
合を有する有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
【0035】このSi−O−C結合を有する有機ケイ素
化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン,テト
ラエトキシシラン,テトラブトキシシラン,テトライソ
ブトキシシラン,トリメチルメトキシシラン,トリメチ
ルエトキシシラン,トリエチルメトキシシラン,トリエ
チルエトキシシラン,エチルイソプロピルジメトキシシ
ラン,プロピルイソプロピルジメトキシシラン,ジイソ
プロピルジメトキシシラン,ジイソブチルジメトキシシ
ラン,イソプロピルイソブチルジメトキシシラン,ジ−
t−ブチルジメトキシシラン,t−ブチルメチルジメト
キシシラン,t−ブチルエチルジメトキシシラン,t−
ブチルプロピルジメトキシシラン,t−ブチルイソプロ
ピルジメトキシシラン,t−ブチルブチルジメトキシシ
ラン,t−ブチルイソブチルジメトキシシラン,t−ブ
チル(s−ブチル)ジメトキシシラン,t−ブチルアミ
ルジメトキシシラン,t−ブチルヘキシルジメトキシシ
ラン,t−ブチルヘプチルジメトキシシラン,t−ブチ
ルオクチルジメトキシシラン,t−ブチルノニルジメト
キシシラン,t−ブチルデシルジメトキシシラン,t−
ブチル(3,3,3−トリフルオロメチルプロピル)ジ
メトキシシラン,シクロヘキシルメチルジメトキシシラ
ン,シクロヘキシルエチルジメトキシシラン,シクロヘ
キシルプロピルジメトキシシラン,シクロペンチル−t
−ブチルジメトキシシラン,シクロヘキシル−t−ブチ
ルジメトキシシラン,ジシクロペンチルジメトキシシラ
ン,ジシクロヘキシルジメトキシシラン,ビス(2−メ
チルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ビス(2,3
−ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ジフェ
ニルジメトキシシラン,フェニルトリエトキシシラン,
メチルトリメトキシシラン,エチルトリメトキシシラ
ン,プロピルトリメトキシシラン,イソプロピルトリメ
トキシシラン,ブチルトリメトキシシラン,イソブチル
トリメトキシシラン,t−ブチルトリメトキシシラン,
s−ブチルトリメトキシシラン,アミルトリメトキシシ
ラン,イソアミルトリメトキシシラン,シクロペンチル
トリメトキシシラン,シクロヘキシルトリメトキシシラ
ン,ノルボルナントリメトキシシラン,インデニルトリ
メトキシシラン,2−メチルシクロペンチルトリメトキ
シシラン,シクロペンチル(t−ブトキシ)ジメトキシ
シラン,イソプロピル(t−ブトキシ)ジメトキシシラ
ン,t−ブチル(イソブトキシ)ジメトキシシラン,t
−ブチル(t−ブトキシ)ジメトキシシラン,テキシル
トリメトキシシラン,テキシルイソプロポキシジメトキ
シシラン,テキシル(t−ブトキシ)ジメトキシシラ
ン,テキシルメチルジメトキシシラン,テキシルエチル
ジメトキシシラン,テキシルイソプロピルジメトキシシ
ラン,テキシルシクロペンチルジメトキシシラン,テキ
シルミリスチルジメトキシシラン,テキシルシクロヘキ
シルジメトキシシランなどを挙げることができる。ま
た、有機ケイ素化合物として下記の一般式(IV)
【0036】
【化1】
【0037】(式中、R7 〜R9 は水素原子または炭化
水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよ
く、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよ
い。R10及びR11は炭化水素基を示し、それらは互いに
同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して
環を形成していてもよい。R12及びR13は炭素数が1〜
20のアルキル基を示し、それらは互いに同一でも異な
ってもよい。mは2以上の整数であり、nは2以上の整
数である。)で表されるものを用いることができる。
【0038】上記の一般式(IV)において、具体的に
は、R7 〜R9 としては、水素原子,メチル基,エチル
基,n−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピ
ル基,イソブチル基,t−ブチル基,テキシル基等の分
岐状炭化水素基、シクロブチル基,シクロペンチル基,
シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル
基,ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基
が挙げられる。これらのうち、好ましくは水素、炭素数
1〜6の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくは水
素、メチル基、エチル基である。
【0039】R10およびR11としては、メチル基,エチ
ル基,n−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロ
ピル基,イソブチル基,t−ブチル基,テキシル基等の
分岐状炭化水素基、シクロブチル基,シクロペンチル
基,シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニ
ル基,ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素
基が挙げられる。また、これらは同じでも良く、異なっ
ていても良い。これらのうち、好ましくは炭素数1〜6
の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくはメチル基、
エチル基である。
【0040】R12およびR13としては、メチル基,エチ
ル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル
基,イソブチル基,sec−ブチル基,t−ブチル基,
n−ペンチル基,n−ヘキシル基,n−オクチル基等の
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基が挙げられる。ま
た、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これ
らのうち、好ましくは炭素数1〜6の直鎖状炭化水素基
であり、特に好ましくはメチル基である。
【0041】上記の一般式(IV)で示されるケイ素化合
物の好ましい化合物としては具体的に、ネオペンチルn
−プロピルジメトキシシラン,ネオペンチルn−ブチル
ジメトキシシラン,ネオペンチルn−ペンチルジメトキ
シシラン,ネオペンチルn−ヘキシルジメトキシシラ
ン,ネオペンチルn−ヘプチルジメトキシシラン,イソ
ブチルn−プロピルジメトキシシラン,イソブチルn−
ブチルジメトキシシラン,イソブチルn−ペンチルジメ
トキシシラン,イソブチルn−ヘキシルジメトキシシラ
ン,イソブチルn−ヘプチルジメトキシシラン,2−シ
クロヘキシルプロピルn−プロピルジメトキシシラン,
2−シクロヘキシルブチルn−プロピルジメトキシシラ
ン,2−シクロヘキシルペンチルn−プロピルジメトキ
シシラン,2−シクロヘキシルヘキシルn−プロピルジ
メトキシシラン,2−シクロヘキシルヘプチルn−プロ
ピルジメトキシシラン,2−シクロペンチルプロピルn
−プロピルジメトキシシラン,2−シクロペンチルブチ
ルn−プロピルジメトキシシラン,2−シクロペンチル
ペンチルn−プロピルジメトキシシラン,2−シクロペ
ンチルヘキシルn−プロピルジメトキシシラン,2−シ
クロペンチルヘプチルn−プロピルジメトキシシラン,
イソペンチルn−プロピルジメトキシシラン,イソペン
チルn−ブチルジメトキシシラン,イソペンチルn−ペ
ンチルジメトキシシラン,イソペンチルn−ヘキシルジ
メトキシシラン,イソペンチルn−ヘプチルジメトキシ
シラン,イソペンチルイソブチルジメトキシシラン,イ
ソペンチルネオペンチルジメトキシシラン,ジイソペン
チルジメトキシシラン,ジイソヘプチルジメトキシシラ
ン,ジイソヘキシルジメトキシシランなどを挙げること
ができる。
【0042】特に好ましい化合物の具体例としては、ネ
オペンチルn−プロピルジメトキシシラン,ネオペンチ
ルn−ペンチルジメトキシシラン,イソペンチルネオペ
ンチルジメトキシシラン,ジイソペンチルジメトキシシ
ラン,ジイソヘプチルジメトキシシラン,ジイソヘキシ
ルジメトキシシランが挙げられ、さらに好ましい化合物
の具体例としては、ネオペンチルn−ペンチルジメトキ
シシラン,ジイソペンチルジメトキシシランを挙げるこ
とができる。上記の一般式(IV)で示されるケイ素化合
物は、任意の方法によって合成することができる。代表
的な合成経路は、下記のとおりである。
【0043】
【化2】
【0044】この合成経路において、原料化合物〔1〕
は市販されているか、または公知のアルキル化、ハロゲ
ン化等により得ることができる。化合物〔1〕に対し
て、公知のグリニャール反応により、一般式(IV)で表
される有機ケイ素化合物を得ることができる。上記有機
ケイ素化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以
上を組み合わせて用いてもよい。
【0045】窒素含有化合物の具体例としては、2,6
−ジイソプロピルピペリジン,2,6−ジイソプロピル
−4−メチルピペリジン,N−メチル2,2,6,6−
テトラメチルピペリジンなどの2,6−置換ピペリジン
類;2,5−ジイソプロピルアゾリジン,N−メチル
2,2,5,5−テトラメチルアゾリジンなどの2,5
−置換アゾリジン類;N,N,N’,N’−テトラメチ
ルメチレンジアミン,N,N,N’,N’−テトラエチ
ルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類;
1,3−ジベンジルイミダゾリジン,1,3−ジベンジ
ル−2−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリ
ジン類等を挙げることができる。
【0046】リン含有化合物の具体例としては、トリエ
チルホスファイト、トリn−プロピルホスファイト、ト
リイソプロピルホスファイト、トリn−ブチルホスファ
イト、トリイソブチルホスファイト、ジエチルn−ブチ
ルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイトなどの
亜リン酸エステル類等を挙げることができる。酸素含有
化合物の具体例としては、2,2,6,6−テトラメチ
ルテトラヒドロフラン,2,2,6,6−テトラエチル
テトラヒドロフランなどの2,6−置換テトラヒドロフ
ラン類;1,1−ジメトキシ−2,3,4,5−テトラ
クロロシクロペンタジエン,9,9−ジメトキシフルオ
レン,ジフェニルジメトキシメタンなどのジメトキシメ
タン誘導体等を挙げることができる。
【0047】固体触媒成分の調製 前記(A)の固体触媒成分の調製方法としては、上記の
(a)マグネシウム化合物、(b)チタン化合物、
(c)電子供与性化合物、および必要に応じて(d)ケ
イ素化合物を、温度を除き通常の方法で接触させればよ
く、接触手順については特に問わない。例えば、各成分
を炭化水素などの不活性溶媒の存在下で接触させてもよ
いし、予め炭化水素などの不活性溶媒で各成分を希釈し
て接触させてもよい。この不活性溶媒としては、例え
ば、オクタン、デカン、エチルシクロヘキサンなどの脂
肪族炭化水素、脂環式炭化水素またはこれらの混合物を
挙げることができる。
【0048】ここで、チタン化合物は、上記のマグネシ
ウム化合物のマグネシウム1モルに対して、通常、0.
5〜100モル、好ましくは、1〜50モル使用する。
このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分と
なることがある。また、上記の電子供与体は、上記のマ
グネシウム化合物のマグネシウム1モルに対して、通
常、0.01〜10モル、好ましくは、0.05〜1.
0モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触
媒活性や立体規則性が不十分となることがある。さら
に、ケイ素化合物を用いるときは、上記のマグネシウム
化合物のマグネシウム1モルに対して、通常、0.00
1〜100モル、好ましくは、0.005〜5.0モル
使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性
や立体規則性の向上効果が十分に発揮されず、かつ生成
ポリマー中の微粉量が多くなることがある。
【0049】上記の(a)〜(d)成分の接触は、全成
分を加えた後、120〜150℃、好ましくは125〜
140℃の温度範囲にて行う。この接触温度が前記範囲
外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮
されない。また、接触は、通常、1分〜24時間、好ま
しくは、10分〜6時間行われる。このときの圧力は、
溶媒を使用する場合はその種類、接触温度などにより、
その範囲は変化するが、通常、0〜50kg/cm
2 G、好ましくは0〜10kg/cm2 Gの範囲にて行
う。また、接触操作中は、接触の均一性および接触効率
の面から攪拌を行うことが好ましい。
【0050】さらに、チタン化合物の接触を2回以上行
い、触媒担体としての役割をするマグネシウム化合物に
十分担持させることが好ましい。接触操作において溶媒
を使用するときは、チタン化合物1モルに対して、通
常、5,000ミリリットル以下、好ましくは、10〜
1,000ミリリットルの溶媒を使用する。この比が前
記範囲を逸脱すると接触の均一性や接触効率が悪化する
ことがある。
【0051】以上の接触で得られた固体触媒成分は、1
00〜150℃、好ましくは120〜140℃の温度に
て不活性溶媒で洗浄する。この洗浄温度が上記範囲外で
は、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮され
ない。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デ
カンなどの脂肪族炭化水素、メチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、テトラクロロエタン、
クロロフルオロ炭素類などのハロゲン化炭化水素または
これらの混合物を挙げることができる。これらのなかで
は、脂肪族炭化水素が好ましく使用される。
【0052】洗浄方法としては、特に制限はないが、デ
カンテーション、濾過などの方式が好ましい。不活性溶
媒の使用量、洗浄時間、洗浄回数についても特に制限は
ないが、マグネシウム化合物1モルに対して、通常、1
00〜100,000ミリリットル、好ましくは、10
00〜50,000ミリリットルの溶媒を使用し、通
常、1分〜24時間、好ましくは、10分〜6時間行わ
れる。この比が前記範囲を逸脱すると洗浄が不完全にな
ることがある。
【0053】このときの圧力は、溶媒の種類、洗浄温度
などにより、その範囲は変化するが、通常、0〜50k
g/cm2 G、好ましくは、0〜10kg/cm2 Gの
範囲にて行う。また、洗浄操作中は、洗浄の均一性およ
び洗浄効率の面から攪拌を行うことが好ましい。なお、
得られた固体触媒成分は、乾燥状態または炭化水素など
の不活性溶媒中で保存することもできる。
【0054】重合方法 本発明の(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体を
製造する際の触媒成分の使用量については、特に制限は
ないが、前記(A)成分の固体触媒成分は、チタン原子
に換算して、反応容積1リットル当たり、通常0.00
005〜1ミリモルの範囲になるような量が用いられ、
(B)成分の有機アルミニウム化合物は、アルミニウム
/チタン原子比が通常1〜1000、好ましくは10〜
500の範囲になるような量が用いられる。この原子比
が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分となることが
ある。また、(C)第3成分として有機ケイ素化合物等
の電子供与性化合物を用いるときは、(C)電子供与性
化合物/(B)有機アルミニウム化合物モル比が、通常
0.001〜5.0、好ましくは0.01〜2.0、よ
り好ましくは0.05〜1.0の範囲になるような量が
用いられる。このモル比が前記範囲を逸脱すると十分な
触媒活性および立体規則性が得られないことがある。た
だし、予備重合を行う場合は、さらに低減することがで
きる。
【0055】本発明の(i)成分のプロピレン系ランダ
ム共重合体の重合においては、重合活性、立体規則性お
よび重合体パウダー形態の面から、所望に応じ、先ずオ
レフィンの予備重合を行ったのち、本重合を行ってもよ
い。この場合、前記(A)固体触媒成分、(B)有機ア
ルミニウム化合物および必要に応じて(C)電子供与性
化合物を、それぞれ所定の割合で混合してなる触媒の存
在下に、オレフィンを通常1〜100℃の範囲の温度に
おいて、常圧ないし50kg/cm2 G程度の圧力で予
備重合させ、次いで触媒と予備重合生成物との存在下
に、プロピレンとコモノマーであるエチレンを本重合さ
せる。
【0056】予備重合に用いられるオレフィンとして
は、一般式(V) R14−CH=CH2 ・・・(V) で表されるα−オレフィンが好ましい。上記の一般式
(V)において、R14は水素原子または炭化水素基であ
って、炭化水素基は飽和基や不飽和基であってもよい。
具体的にはエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、
1−デセン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−
1−ペンテン、ビニルシクロヘキサン、ブタジエン、イ
ソプレン、ピペリレン等を挙げることができる。これら
のオレフィンは1種用いてもよいし、2種以上組み合わ
せて用いてもよい。前記オレフィンの中で、特にエチレ
ン、プロピレンが好適である。
【0057】この本重合における重合形式については特
に制限はなく、溶液重合、スラリー重合、気相重合、バ
ルク重合等のいずれにも適用可能であり、さらに、回分
式重合や連続重合のどちらにも適用可能であり、異なる
条件での2段階重合や多段重合にも適用可能である。さ
らに、反応条件については、その重合圧は、特に制限は
なく、重合活性の面から、通常、大気圧〜80kg/c
2 G、好ましくは2〜50kg/cm2 G、重合温度
は、通常、0〜200℃、好ましくは、20〜90℃、
さらに好ましくは、40〜90℃の範囲で適宜選ばれ
る。重合時間は原料のプロピレンとエチレンの重合温度
によって左右され一概に定めることができないが、通
常、5分〜20時間、好ましくは、10分〜10時間程
度である。プロピレンとエチレンの混合比は、重合温
度、圧力などにより左右され一概に定めることができな
いが、通常、エチレンが0.1〜20モル%、好ましく
は1〜15モル%程度である。
【0058】分子量は、連鎖移動剤の添加、好ましくは
水素の添加を行うことで調節することができる。また、
窒素等の不活性ガスを存在させてもよい。異なる重合条
件で、2段階以上にわたって重合することもできる。ま
た、本発明の(i)成分のプロピレン系ランダム共重合
体を製造する重合においては、前記触媒成分について
は、(A)成分と(B)成分と(C)成分とを所定の割
合で混合し、接触させたのち、ただちにプロピレンとエ
チレンを導入して重合をおこなってもよいし、接触後、
0.2〜3時間程度熟成させたのち、プロピレンとエチ
レンを導入して重合を行ってもよい。さらに、この触媒
成分は不活性溶媒やプロピレンなどに懸濁して供給する
ことができる。
【0059】本発明の(i)成分のプロピレン系ランダ
ム共重合体においては、重合後の後処理は常法により行
うことができる。すなわち、気相重合法においては、重
合後、重合器から導出されるポリマー粉体に、その中に
含まれるオレフィンなどを除くために、窒素気流などを
通過させてもよいし、また、所望に応じて押出機により
ペレット化してもよく、その際、触媒を完全に失活させ
るために、少量の水、アルコールなどを添加することも
できる。また、バルク重合法においては、重合後、重合
器から導出されるポリマーから完全にモノマーを分離し
たのち、ペレット化することができる。
【0060】次に、(i)成分のプロピレン系ランダム
共重合体に配合される(ii)成分の添加剤と、必要に
応じて配合される(iii)成分、(iv)成分の添加
剤について説明する。 (ii)成分 (ii)成分のうち、酸化防止剤については、特に限定
されないが、フェノール系、リン系、イオウ系、ビタミ
ン系、ラクトン系の酸化防止剤から好適に選択すること
ができる。
【0061】フェノール系酸化防止剤としては、従来か
ら酸化防止剤として使用されているフェノール系の酸化
防止剤を使用できる。具体的には、2,6−ジ−t−ブ
チル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル
−4−エチルフェノール、2,6−ジシクロヘキシル−
4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−アミル−4−
メチルフェノール、2,6−ジ−t−オクチル−4−n
−プロピルフェノール、2,6−ジシクロヘキシル−4
−n−オクチルフェノール、2−イソプロピル−4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール、2−t−ブチル−2
−エチル−6−t−オクチルフェノール、2−イソブチ
ル−4−エチル−6−t−ヘキシルフェノール、2−シ
クロヘキシル−4−n−ブチル−6−イソプロピルフェ
ノール、dl−α−トコフェロール、t−ブチルヒドロ
キノン、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t
−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チ
オビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2−チオビス(4−メチブル−6−t−ブチルフェ
ノール)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−
ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−
(1−メチルシクロヘキシル)−p−クレゾール]、
2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフ
ェノール)、2,2’−ブチリデンビス(2−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)、2−t−ブチル−6−
(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジ
ル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニ
ル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアク
リレート、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒド
ロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、トリエチレ
ングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,
6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、
2,2−チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、
N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート−
ジエチルエステル、トリス(2,6−ジメチル−3−ヒ
ドロキシ−4−t−ブチルベンジル)イソシアヌレー
ト、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)イソシアヌレート、トリス[(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオ
キシエチル]イソシアヌレート、トリス(4−t−ブチ
ル−2,6−ジメチル−3−ヒドロキシベンジル)イソ
シアヌレート、2,4−ビス(n−オクチルチオ)−6
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリ
ノ)−1,3,5−トリアジン、テトラキス[メチレン
−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート]メタン、2,2’−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)テレフタ
レート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼン、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−(β
−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、2,2
−ビス[4−(2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシヒドロシンナモイルオキシ))エトキシフェニ
ル]プロパン、β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステルな
どを挙げることができる。
【0062】これらの中では、β−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステア
リルエステル、テトラキス[メチレン−3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート]メタン、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−
トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、dl−α−
トコフェロール、トリス(2,6−ジメチル−3−ヒド
ロキシ−4−t−ブチルべンジル)イソシアヌレート、
トリス[(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレー
ト、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3
−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テ
トラオキサスピロ[5,5]ウンデカンが好ましい。
【0063】また、フェノール系酸化防止剤としては市
販品を使用することもでき、例えばイルガノクス101
0(Irganox1010、チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ社、商標)、イルガノクス1076(Irg
anox1076、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ
社、商標)、イルガノクス1330(Irganox1
330、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商
標)、イルガノクス3114(Irganox311
4、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標)、イ
ルガノクス3125(Irganox3125、チバ・
スペシャルティ・ケミカルズ社、商標)、BHT(武田
薬品工業社、商標)、シアノクス1790(Cyano
x1790、サイアナミド社、商標)、スミライザーG
A−80(SumilizerGA−80、住友化学
社、商標)などを挙げることができる。
【0064】リン系酸化防止剤としては、従来から酸化
防止剤として使用されているリン系の酸化防止剤を使用
できる。具体的には、トリオクチルホスファイト、トリ
ラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、オク
チル−ジフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−
t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリフェニルホス
ファイト、トリス(ブトキシエチル)ホスファイト、ト
リス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペ
ンタエリスリトールジホスファイト、テトラ(トリデシ
ル)−1,1,3−トリス(2−メチル−5−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフエニル)ブタンジホスファイト、
テトラ(C12〜C15混合アルキル)−4,4’−イソプ
ロピリデンジフェニルジホスファィト、テトラ(トリデ
シル)−4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェノール)ジホスファイト、トリス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ホスフ
ァイト、トリス(モノ・ジ混合ノニルフェニル)ホスフ
アイト、水素化−4,4’−イソプロピリデンジフェノ
ールポリホスファイト、ビス(オクチルフェニル)・ビ
ス[4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)]・1,6−ヘキサンジオールジホ
スファイト、フェニル・4,4’−イソプロピリデンジ
フェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、ト
リス[4,4’−イソプロピリデンビス(2−t−ブチ
ルフェノール)]ホスファイト、フェニル・ジイソデシ
ルホスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、トリス(1,3−ジ−ステアロ
イルオキシイソプロピル)ホスファイト、4,4’−イ
ソプロピリデンビス(2−t−ブチルフェノール)・ジ
(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10−ジ−ヒド
ロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10
−オキサイド、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メ
チルフェニル)・エチルホスファイト、2−[{2,
4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)
ジベンゾ(D,F)(1,3,2)−ジオキサホスフェ
フィン−6−イル}オキシ]−N,N−ビス〔[{2,
4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)
ジベンゾ(D,F)(1,3,2)−ジオキサホスフェ
フィン−6−イル}オキシ]エチル〕エタンアミンなど
を挙げることができる。また、ビス(ジアルキルフェニ
ル)ペンタエリスリトールジホスファイトエステルは下
記一般式(VI)
【0065】
【化3】 で示されるスピロ型や下記一般式(VII)
【0066】
【化4】
【0067】で示されるケージ型ものも使用できる。通
常はこのようなホスファイトエステルを製造する方法か
ら生じる経済的理由のために両異性体の混合物を最も多
く使用できる。ここで、R15、R16、R17は、水素また
は炭素原子数1〜9のアルキル基、特に分枝のあるアル
キル基、なかでもt−ブチル基が好ましく、またフェニ
ル基におけるその置換位置は2,4,6位が最も好まし
い。好適なホスファイトエステルは、ビス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフ
ェエル)ベンタエリスリトールジホスファイト等であ
り、また炭素とリンとが直接結合した構造を持つホスフ
ォナイト、例えばテトラキス(2,4−ジ−t−ブチル
フェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスフォナイト
などの化合物も挙げることができる。
【0068】リン系酸化防止剤としては市販品を使用す
ることもでき、例えばイルガフォス168(Irgaf
os168、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商
標)、イルガフォス12(Irgafos12、チバ・
スペシャルティ・ケミカルズ社、商標)、イルガフォス
38(Irgafos38、チバ・スペシャルティ・ケ
ミカルズ社、商標)、アデカスタブ329K(ADKS
TAB329K、旭電化社、商標)、PEP36(PE
P36、旭電化社、商標)、PEP−8(PEP−8、
旭電化社、商標)、Sardstab P−EPQ(ク
ラリアント社、商標)、ウエストン618(Westo
n 618、GE社、商標)、ウエストン619G(W
eston 619G、GE社、商標)、ウエストン−
624(Weston−624、GE社、商標)などを
挙げることができる。
【0069】その他に、リン系酸化防止剤として、特開
平10−53595号公報,特開平10−101687
号公報,特開平10−114784号公報,特開平10
−120691号公報,特開平10−120693号公
報,特開平10−120694号公報,特開平10−1
52494号公報,特開平10−152496号公報,
特開平10−158283号公報,特開平10−158
285号公報,特開平10−182675号公報,特開
平10−259190号公報,特開平10−25919
3号公報,特開平10−273493号公報,特開平1
0−273494号公報,特開平10−298348号
公報に記載のものも好適に使用することができる。
【0070】イオウ系酸化防止剤としては、従来から酸
化防止剤として使用されているイオウ系の酸化防止剤を
使用できる。具体的には、ジラウリルチオジプロピオネ
ート,ジミリスチルチオジプロピオネート,ジステアリ
ルチオジプロピオネート等のジアルキルチオジプロピオ
ネート、ブチルチオプロピオン酸、オクチルチオプロピ
オン酸、ラウリルチオプロピオン酸、ステアリルチオプ
ロピオン酸等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコ
ール(例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(例えば
ペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネー
ト)などを挙げることができる。
【0071】イオウ系酸化防止剤としては市販品を使用
することもでき、例えばDSTP(ヨシトミ)(吉富
社、商標)、DLTP(ヨシトミ)(吉富社、商標)、
DLTOIB(吉富社、商標)、DMTP(ヨシトミ)
(吉富社、商標)、Seenox 412S(シプロ化
成社、商標)、Cyanox 1212(サイアナミド
社、商標)などを挙げることができる。
【0072】ビタミン系酸化防止剤としては、従来から
酸化防止剤として使用されているビタミン系の酸化防止
剤を使用できる。具体的には、酢酸d−α−トコフェロ
ール,コハク酸d−α−トコフェロール,d−α−トコ
フェロール,d−β−トコフェロール,d−γ−トコフ
ェロール,d−δ−トコフェロール,d−α−トコトリ
エノール,d−β−トコフェトリエノール,d−γ−ト
コフェトリエノール,d−δ−トコフェトリエノール等
の天然品、dl−α−トコフェロール,酢酸dl−α−
トコフェロール,コハク酸dl−α−トコフェロールカ
ルシウム,ニコチン酸dl−α−トコフェロール等の合
成品を挙げることができる。
【0073】ビタミン系酸化防止剤としては市販品を使
用することもでき、例えばトコフェロール(エーザイ社
製),イルガノクスE201(IrganoxE20
1、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標、化合
物名;2,5,7,8−テトラメチル−2(4’,
8’,12’−トリメチルトリデシル)クマロン−6−
オール)などを挙げることができる。
【0074】ラクトン系酸化防止剤としては、従来から
酸化防止剤として使用されているラクトン系の酸化防止
剤を使用できる。例えば、特開平7−233160号公
報、特開平7−247278号公報に記載されているも
のを使用できる。また、HP−136(チバ・スペシャ
ルティ・ケミカルズ社、商標、化合物名;5,7−ジ−
t−ブチル−3−(3,4−ジメチルフェニル)−3H
−ベンゾフラン−2−オン)などの市販品も使用でき
る。
【0075】(ii)成分のうち、発錆防止剤について
は、特に限定されないが、高級脂肪酸金属塩、複化合
物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ルキル乳酸金属塩、乳酸金属塩の化合物から好適に選択
することができる。高級脂肪酸金属塩として、炭素数8
〜23の脂肪酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金
属塩を挙げることができる。脂肪酸として、ラウリル
酸,ミリスチン酸,パルミチン酸,ステアリン酸,オレ
イン酸,リノール酸,リノレイン酸を挙げることがで
き、これらの脂肪酸と塩をつくる金属として、カリウ
ム,ナトリウム,カルシウム,バリウム,マグネシウ
ム,アルミニウムを挙げることができる。
【0076】複化合物は、下記一般式(VIII) Mx Aly (OH)2x+3y-2z(A)z ・aH2 O ・・・(VIII) (MはMg、CaまたはZnを示し、AはCO3 又はH
PO4 を示し、x、y、zは正数、aは0又は正数を示
す。)で表される化合物である。具体的には、Mg6
2 (OH)16CO3 ・4H2O,Mg8 Al2 (O
H)20CO3 ・5H2 O,Mg5 Al2 (OH)14CO
3・4H2 O,Mg10Al2 (OH)22(CO3 2
4H2 O,Mg6 Al2 (OH)16HPO4 ・4H
2 O,Ca6 Al2 CO3 ・4H2 O,Zn6 Al
6 (OH)16CO3 ・4H2 Oなどを挙げることができ
る。また、特開平7−316354号公報(Mg,Z
n,Al含有化合物),特公平7−2858号公報(A
l,Li含有化合物)に記載された化合物も使用でき
る。
【0077】アルカリ金属化合物として、酸化ナトリウ
ム,酸化カリウム,水酸化ナトリウム,水酸化カリウ
ム,アルミン酸ソーダ,ケイ酸ソーダ,炭酸ナトリウ
ム,炭酸カリウムなどを挙げることができる。アルカリ
土類化合物として、酸化カルシウム,酸化マグネシウ
ム,水酸化カルシウム,水酸化マグネシウム,炭素カル
シウムなどを挙げることができる。
【0078】アルキル乳酸金属塩は、重合度2の乳酸
(2−ラクチル乳酸)とステアリン酸エステル化反応物
(ステアリル乳酸)のカルシウム塩を主成分とし、これ
と少量の関連酸類との塩との混合物であるステアリル酸
カルシウムが主に使用できる。乳酸金属塩としては、乳
酸カルシウムが一般的であるが、乳酸バリウム,乳酸亜
鉛,乳酸マグネシウム等も使用できる。
【0079】上記(ii)成分の配合量は、(i)成分
の結晶性ポリプロピレン100重量部に対して、好まし
くは0.005〜2重量部、さらに好ましくは0.01
〜1重量部、特に好ましくは0.02〜0.5重量部で
ある。量が少なすぎると、加工安定性,耐熱老化性,耐
腐食性等の安定性の向上効果が十分にでない場合があ
り、量が多すぎると、量に見合った安定性の向上効果が
でない場合があり、また引張強度などが低下する場合が
ある。
【0080】(iii)成分 本発明の組成物においては、必要により重金属不活性化
剤を併用することによって、耐重金属性(耐金属老化
性)を改善することができる。重金属不活性化剤とし
て、具体的には、ベンゾトリアゾール、2,4,6−ト
リアミノ−1,3,5−トリアジン、3,9−ビス[2
−(3,5−ジアミノ−2,4,6−トリアザフェニ
ル)エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5.5]ウンデカン、エチレンジアミン−テトラアセ
チックアシッド、エチレンジアミン−テトラアセチック
アシッドのアルカリ金属塩(Li,Na,K)塩、N,
N’−ジサリシリデン−エチレンジアミン、N,N’−
ジサリシリデン−1,2−プロピレンジアミン、N,
N”−ジサリシリデン−N’−メチル−ジプロピレント
リアミン、3−サリシロイルアミノ−1,2,4−トリ
アゾール、デカメチレンジカルボキシリックアシッド−
ビス(N’−サリシロイルヒドラジド)、ニッケル−ビ
ス(1−フェニル−3−メチル−4−デカノイル−5−
ピラゾレート)、2−エトキシ−2’−エチルオキサニ
リド、N,N−ジエチル−N’,N’−ジフェニルオキ
サミド、N,N’−ジエチル−N,N’−ジフェニルオ
キサミド、オキサリックアシッド−ビス(ベンジリデン
ヒドラジド)、チオジプロピオニックアシッド−ビス
(ベンジリデンヒドラジド)、イソフタリックアシッド
−ビス(2−フェノキシプロピオニルヒドラシド)、ビ
ス(サリシロイルヒドラジン)、N−サリシリデン−
N’−サリシロイルヒドラゾン、N,N’−ビス[3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニル]ヒドラジン、トリス[2−t−ブチル−
4−チオ(2’−メチル−4’−ヒドロキシ−5’−t
−ブチルフェニル)−5−メチルフェニル]ホスファイ
ト、ビス[2−t−ブチル−4−チオ(2’−メチル−
4’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)−5−
メチルフェニル]ペンタエリスリトール−ジホスファイ
ト、テトラキス[2−t−ブチル−4−チオ(2’−メ
チル−4’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)
−5−メチルフェニル]−1,6−ヘキサメチレン−ビ
ス(N−ヒドロキシエチル−N−メチルセミカルバジ
ド)ジホスファイト、テトラキス[2−t−ブチル−4
−チオ(2’−メチル−4’−ヒドロキシ−5’−t−
ブチルフェニル)−5−メチルフェニル]−1,10−
デカメチレン−ジ−カルボキシリックアシッド−ジ−ヒ
ドロキシエチルカルボニルヒドラジド−ジホスファイ
ト、テトラキス[2−t−ブチル−4−チオ(2’−メ
チル−4’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)
−5−メチルフェニル]−1,10−デカメチレン−ジ
−カルボキシリックアシッド−ジ−サリシロイルヒドラ
ジド−ジホスファイト、テトラキス[2−t−ブチル−
4−チオ(2’−メチル−4’−ヒドロキシ−5’−t
−ブチルフェニル)−5−メチルフェニル]−ジ(ヒド
ロキシエチルカルボニル)ヒドラジド−ジホスファイ
ト、テトラキス[2−t−ブチル−4−チオ(2’−メ
チル−4’−ヒドロキシ−5’−t−ブチルフェニル)
−5−メチルフェニル]−N,N’−ビス(ヒドロキシ
エチル)オキサミド−ジホスファイト、N,N’−ビス
[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]オキサミド
等を挙げることができる。
【0081】上記(iii)成分は、単独で使用して
も、二種以上組み合わせて使用してもよく、その配合量
は、(i)成分の結晶性ポリプロピレン100重量部に
対して、好ましくは0.01〜1重量部、さらに好まし
くは0.05〜0.5重量部である。量が少なすぎる
と、耐重金属性の向上効果が十分にでない場合があり、
量が多すぎると、量に見合った耐重金属性の向上効果が
でない場合があり、また引張強度などが低下する場合が
ある。
【0082】(iv)成分 本発明の組成物においては、必要によりラジカル発生剤
を併用することによって、樹脂組成物の流動性を改善す
ることができる。ラジカル発生剤として、具体的には、
ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエー
ト、t−ブチルパーアセテート、t−ブチルパーオキシ
イソプロピルカーボネート、2,5−ジ−メチル−2,
5−ジ(ヘンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジ
−メチル−2,5−ジ(ヘンゾイルパーオキシ)ヘキシ
ン−3、t−ブチル−ジ−パーアジペート、t−ブチル
パーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエート、
メチル−エチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノ
ンパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ
キュミルパーオキサイド、2,5−ジ−メチル−2,5
−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジ−
メチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン
−3、1,3−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピ
ル)ベンゼン、t−ブチルキュミルパーオキサイド、
1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−
トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチル
パーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)ブタン、p−メンタンハイドロパーオキ
サイド、ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサ
イド、キュメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハ
イドロパーオキサイド、p−サイメンハイドロパーオキ
サイド、1,1,3,3−テトラ−メチルブチルハイド
ロパーオキサイド、2,5−ジ−メチル−2,5−ジ
(ハイドロパーオキシ)ヘキサン、トリメチルシリル−
キュミルパーオキサイド、2,5−ジ−メチル−2,5
−ビス(トリメチルシリルパーオキシ)ヘキサン、2,
5−ジ−メチル−2,5−ビス(トリメチルシリルパー
オキシ)ヘキシン−3、1,3−ビス(トリメチルシリ
ルパーオキシイソプロピル)ベンゼン等を挙げることが
できる。
【0083】上記(iv)成分は、単独で使用しても、
二種以上組み合わせて使用してもよく、その配合量は、
(i)成分の結晶性ポリプロピレン100重量部に対し
て、好ましくは0.001〜0.5重量部、さらに好ま
しくは0.01〜0.2重量部である。量が少なすぎる
と、流動性改良効果が十分にでない場合があり、量が多
すぎると、成形加工が困難となる場合があり、また引張
強度などが低下する場合がある。
【0084】本願の第二発明であるフィルムは、前記の
プロピレン系ランダム共重合体を用いて製膜したフィル
ムである。フィルムを製造する方法には特に制限はな
く、通常のTダイキャスト製膜法等が用いられる。すな
わち、前記のプロピレン系ランダム共重合体のパウダー
に必要に応じて各種の添加剤を処方し、混練機にて押出
し造粒し、ペレット化し、Tダイキャスト製膜すること
ができる。通常、本発明のプロピレン系ランダム共重合
体を用いて、Tダイキャスト製膜法により、引取速度が
50m/minまたはこれ以上の高速製膜条件において
も、厚みが10〜500μmのフィルムを得ることがで
きる。また、前述の好ましい特性を有することから、共
押出製膜法による積層フィルムの製造に際して、その少
なくとも一層成分として好適に使用できる。製膜法は、
大型製膜機により高速製膜が実施されるTダイキャスト
製膜法が好ましいが、特にこれに限らず、溶融押出成形
法によりフィルムを製造できる方法であれば、どのよう
な製膜法でもよい。
【0085】なお、本発明のフィルムは、所望に応じ前
記プロピレン系ランダム共重合体組成物に、帯電防止剤
や防曇剤などの表面機能用添加剤、アンチブロッキング
剤、耐候剤、滑剤、造核剤、着色剤、無滴剤、難燃剤、
難燃助剤、抗菌剤、無機又は有機充填剤などの公知の添
加剤を配合して樹脂組成物を調製した上で製造してもよ
い。
【0086】
〔実施例1〜14〕
(マグネシウム化合物の調製)攪拌機付反応層(内容積
80リットル)を窒素ガスで十分に置換し、脱水エタノ
ール20リットル、金属マグネシウム1.06kg及び
ヨウ素106gを投入し、攪拌しながら還流条件下で系
内から水素ガスの発生が無くなるまで反応させ、固体状
反応生成物を得た。この固体状反応生成物を含む反応物
を減圧乾燥することにより目的のマグネシウム化合物
(固体触媒の担体)を得た。
【0087】(固体触媒成分の調製)窒素で置換した攪
拌機付反応層(内容積80リットル)に前記マグネシウ
ム化合物4.0kgを投入し、さらに、脱水処理したn
−ヘプタンを20リットル加えた。40℃に加熱し四塩
化珪素600ミリリットルを加え、20分攪拌し、ジ−
n−ブチルフタレートを850ミリリットル加えた。溶
液を70℃まで昇温し、引き続き四塩化チタンを19.
25リットル投入した。内温を125℃とし2時間接触
反応させた。その後、125℃の脱水n−ヘプタンを用
いて充分洗浄を行った。さらに四塩化チタンを30.5
0リットル加え、内温を125℃とし2時間接触反応さ
せた。その後125℃の脱水n−ヘプタンを用いて充分
洗浄を行い固体成分[A]を得た。
【0088】(予備重合)窒素で置換した攪拌機付反応
層(内容積80リットル)に固体成分[A]を1.0k
gを投入し、さらに脱水処理したn−ヘプタンを8.4
リットル加えた。40℃に加熱しトリエチルアルミニウ
ム43ミリリットルとジシクロペンチルジメトキシシラ
ンを116ミリリットル加えた。これにプロピレンを常
圧で流通させ2 時間反応させた。その後、固体成分を脱
水n−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い触媒成分を得
た。
【0089】(重合)内容積200リットルの攪拌器付
重合槽に前記の固体触媒成分を成分中のチタン原子換算
で3ミリモル/kg−PPで、トリエチルアルミニウム
を4ミリモル/kg−PPで、ジシクロペンチルジメト
キシシランを1ミリモル/kg−PPでそれぞれ供給
し、重合温度80℃、重合圧力(全圧)28kg/cm
2 Gでプロピレンとエチレンを反応させた。重合装置内
のエチレン濃度を5.0モル%,水素濃度を8.5モル
%として重合を行い、その結果、2重量%のエチレン含
有量及びM.Iが7.1のプロピレン系ランダム共重合
体を得た。
【0090】(ペレット化及び製膜)プロピレン系ラン
ダム共重合体のパウダーに、第2表に示した添加剤を配
合し、東芝機械(株)のModel35B押出機にてペ
レット化した。このペレットについて下記の「樹脂特性
評価法」と「安定性の評価法」に従い評価した結果を第
3表に示す。なお、安定性の評価のうち耐金属老化性に
ついては、別の試験片を作製し評価した。
【0091】次に、得られたプロピレン系ランダム共重
合体のペレットを三菱重工製75mmφ押出機を用い、
Tダイ出口における樹脂温度243℃、チルロール温度
40℃、引取速度125m/ minの条件にて膜厚30
μmのフィルムに成形した。得られたフィルムについ
て、下記の「フィルム品質の評価法」に従い評価した結
果を第3表に示す。
【0092】「樹脂特性評価法」13 C−NMRによるα及びPの測定13 C−NMRのスペクトルは日本電子社製のJNM−E
X400型NMR装置を使用し、以下の条件にて測定し
た。 NMR測定条件 試料濃度:220mg/NMR溶媒3ミリリットル NMR溶媒:1,2,4−トリクロルベンゼン/ベンゼ
ン−d6=90/10(体積比) 測定温度:130℃ パルス幅:45° パルス繰り返し時間:4秒 積算回数:4,000回 得られたプロピレン系ランダム共重合体の各シグナルの
帰属を第1表に示す。なお、Pはプロピレン単位、Eは
エチレン単位を示す。したがって、PPPは、プロピレ
ン単位が3個連続していることを、また、EEEは、エ
チレン単位が3個連続していることを示している。
【0093】
【表1】
【0094】プロピレン系ランダム共重合体中のエチレ
ン単位の含有量α(重量%)は各シグナル強度から次式
に従い算出した。 α=2X/(300―X) X=(Et/S)×100 Et=IEEE +2/3 (IPEE +IEPE )+1/3 (IPPE
+IPEP ) S=IEPE +IPPE +IEEE +IPPP +IPEE +IPEP IEPE =I(4) IPPP =I(8) IPPE =I(5) IPEE =I(9) IEEE =I(7) /2+I(6) /4 IPEP =I(10) 但し、例えばI(1) は表1におけるシグナル番号1のシ
グナル強度である。また、立体規則性指標(P(モル
%))は次式から算出した。 P={I(11)/(I(11 )+I(12)+I(13)−I(4) −
I(5))}×100 このP値は共重合体分子鎖のプロピレン連鎖領域におけ
るトライアッド単位のアイソタクチック分率である。な
お、この式においてはmr領域に現れるPPE連鎖の中
央のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度をTβ
δ(5番のシグナル)のシグナル強度により、rr領域
に現れるEPE連鎖中のプロピレン単位のメチル炭素の
シグナル強度をTδδ(4番のシグナル)のシグナル強
度により代用している。
【0095】昇温分別クロマトグラフ(TREF) 温度135℃に調節したTREFカラムに試料溶液を導
入し、次いで速度5℃/hrにて徐々に0℃まで降温
し、試料を充填剤に吸着させる。その後カラムを速度4
0℃/hrにて135℃まで昇温し、溶出曲線を得た。
以下に測定装置、及び測定条件を示す。 1)測定装置 TREFカラム:GLサイエンス社製シリカゲルカラム
(4.6φ×150mm) フローセル:GLサイエンス社製 光路長 1mm K
Brセル 送液ポンプ:センシュウ科学社製 SSC−3100ポ
ンプ バルブオーブン:GLサイエンス社製 MODEL55
4オーブン TREFオーブン:GLサイエンス社製 二系列温調器:理学工業社製 REX−C100温調器 検出器:液体クロマトグラフィー用赤外検出器 FOXBORO社製 MIRAN 1A CVF 10方バルブ:バルコ社製 電動バルブ ループ:バルコ社製 500μリットルループ 2)測定条件 溶媒:オルトジクロルベンゼン 試料濃度:7.5g/リットル 注入量:500μリットル ポンプ流量:2.0ミリリットル/分 検出波数:3.41μm カラム充填剤:クロモソルブP(30〜60メッシュ) カラム温度分布:±2.0℃以内
【0096】示差走査型熱量計(DSC)による共重
合体の融点Tm(℃) パーキンエルマー社製のDSC7型示差走査型熱量計を
用いて測定した。あらかじめ試料10mgを窒素雰囲気
化230℃で3min溶融した後、10℃/minで2
0℃まで降温する。この温度で3min保持した後、1
0℃/minで昇温させて得られた融解吸熱曲線の最大
ピークのピークトップ温度を融点とした。
【0097】共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出
量E(重量%) 1mmφメッシュパスの大きさに粉砕したペレットを円
筒ろ紙に3g、抽出溶剤のジエチルエーテルを平底フラ
スコに160ml入れ、リフラックス頻度を1回/5m
in程度にして10時間のソックスレー抽出を行う。抽
出終了後、ロータリーエバポレーターによりジエチルエ
ーテルを回収し、さらに真空乾燥器により恒量になるま
で乾燥し沸騰ジエチルエーテル抽出量とした。 メルトインデックスMI(g/10min) JIS K 7210に従い、温度230℃、荷重2,
160gで測定した。
【0098】「安定性の評価法」 (1)プロセス安定性 最初の溶融混練で得られたペレットのMI(MI0
と、そのペレットを20mm単軸混練押出機270℃に
て更に3回混練造粒して得られたペレットのMI(MI
3 )の比MI3 /MI0 で比較評価を行った。 (2)発錆防止性 良く研磨した軟鋼板に厚さ5mmのスペーサーを介して
ペレットを乗せ、250℃に加熱したプレス機で30k
g/cm2 、30分間保持した。その後冷却プレスし、
鋼板より試料剥取り、鋼板は25℃、相対湿度100%
に保った容器中に1週間放置した。鋼板表面の発錆状態
を標準板(発錆度0〜4)と比較し、評価した。発錆度
0は錆なし、発錆度4は全面に非常に発錆した状態を示
す。発錆度1以下なら実用上問題ない。 (3)耐金属老化性 樹脂組成物100重量部に対して、市販の銅粉を0.5
重量部配合した混合物を20mmφ単軸押出機により2
00℃にて溶融混練し、次いで成形温度200℃のプレ
ス成形により厚み1mm、幅10mm、長さ80mmの
試験片を10本作製した。得られた試験片を150℃、
空気雰囲気中のギヤオーブン中に試験片の一方を吊るし
て入れ、試験片10本中5本が劣化により割れるまでの
時間を測定し、この時間を耐金属老化性の指標にした。
なお、安定性の評価のうち耐金属老化性については、別
の試験片を作成し評価した。
【0099】「フィルム品質の評価法」製膜したフィル
ムは全て温度40℃にて24時間のアニール処理を行
い、更に温度23±2℃、湿度50±10%で16時間
以上の状態調節した後に同じ温度、湿度条件下で測定を
行った。
【0100】ヒートシール温度 JIS Z 1707に準拠して測定した。具体的には
表面温度計により較正されたヒートシールバーにより以
下の条件にてシールし、室温で一昼夜放置した後、室温
で剥離速度を200mm/ minにしたT型剥離法によ
り剥離強度を測定した。ヒートシール温度は剥離強度が
300g/ 15mmになる温度と定義し、シール温度―
剥離強度曲線から計算により求めた。 シール条件 シール面:金属ロール面/金属ロール面 シール面積:15×10mm シール圧力:2.0Kg/ cm2 シール時間:1秒 シール温度:ヒートシール温度を内挿できるように数点
【0101】アンチブロッキング性 2枚のフィルムについて、一枚の金属ロール面ともう一
枚の反金属ロール面とを以下の条件にて密着させ、10
×10cmの治具にそれぞれを固定し、10×10cm
の面積の密着強度を以下の条件の引剥試験により測定し
た。 密着条件 その1:温度60℃、3時間、荷重36g/ cm2 、面
積10×10cm その2:温度50℃、7日間、荷重15g/ cm2 、面
積10×10cm 引剥試験条件 テストスピード:20mm/ min ロードセル:2Kg
【0102】スリップ性 フィルムを張ったスレットを、フィルムを張ったガラス
板の上に静置した後、ガラス板を傾けてゆき、スレット
が滑り出したときのガラス板の傾き角θのtanで評価
した。測定には東洋精機製作所製の摩擦角測定器を使用
した。以下に条件を示す。 測定面:金属ロール面/金属ロール面 傾斜速度:2.7°/ sec スレッド重量:1Kg スレッド断面積:65cm2 面間圧力:15g/ cm2
【0103】透明性(ヘイズ) JIS K 7105に従い測定した。 耐衝撃性 東洋精機製作所製のフィルムインパクトテスターにおい
て1/2インチ衝撃頭を用いた衝撃破壊強度により評価
した。 引張弾性率 JIS K 7127に準拠した引張試験により以下の
条件にて測定した。 クロスヘッド速度:500mm/ min ロードセル:10Kg 測定方向:マシン方向(MD)
【0104】〔実施例15〕重合装置内のエチレン濃度
を2.5モル%、水素濃度を5.0モル%に、添加剤処
方を第2表に示したものに変え三菱重工製75mmφ押
出機を用い、Tダイ出口における樹脂温度265℃、チ
ルロール温度25℃、引取速度150m/minの条件
にて膜厚30μmのフィルムに成形した以外は、実施例
12と同様に行った。結果を第3表に示す。
【0105】〔実施例16〕重合装置内のエチレン濃度
を7.5モル%、水素濃度を12.2モル%に変えた以
外は、実施例12と同様に行った。結果を第3表に示
す。
【0106】〔比較例1〕固体触媒成分の調製におい
て、接触反応温度を125℃から110℃に変更し、さ
らに反応後125℃脱水n−ヘプタンを用いて洗浄する
行程を80℃脱水n−ヘプタンを用いるように変更した
以外は、実施例12と同様に行った。結果を第3表に示
す。
【0107】〔比較例2〕固体触媒成分の調製におい
て、接触反応温度を125℃から110℃に変更し、さ
らに反応後125℃脱水n−ヘプタンを用いて洗浄する
行程を80℃脱水n−ヘプタンを用いるように変更した
こと、酸化防止剤、発錆防止剤を使用しなかったこと以
外は、実施例15と同様に行った。結果を第3表に示
す。
【0108】
【表2】
【0109】
【表3】
【0110】
【表4】
【0111】
【表5】
【0112】なお、実施例と比較例に使用した添加剤は
下記の通りである。 A1:テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メ
タン(イルガノックス1010,チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ社製,フェノール系酸化防止剤) A2:トリス(2,4−ジ−t−ブチル)ホスファイト
(イルガフォス168,チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製,リン系酸化防止剤) A3:3,3’−チオプロピオン酸ジミリスチル(DM
TP「ヨシトミ」,吉富ファインケミカル社製、イオウ
系酸化防止剤) A4:2,5,7,8−テトラメチル−2(4’,
8’,12’−トリメチルトリトリデシル)クマロン−
6−オール(イルガノックスE201,チバ・スペシャ
ルティ・ケミカルズ社製,ビタミン系酸化防止剤) A5:5,7−ジ−ブチル−3−(3,4−ジメチルフ
ェニル)−3H−ベンゾフラン−2−オン(HP−13
6,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製,ラクトン
系酸化防止剤)
【0113】B1:ステアリン酸カルシウム(カルシウ
ムステアレートG,日本油脂社製,高級脂肪酸金属塩) B2:Mg4.5 Al12(OH)13CO3 ・3.5H2
(DHT−4A,協和化学社製,複化合物) B3:酸化カルシウム(アルカリ土類金属化合物) B4:乳酸カルシウム(乳酸金属塩) C1:N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン
(イルガノックスMD1024,チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ社製) D1:1,3−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピ
ル)ベンゼン(パーカドックス14R,化薬アクゾ社
製) E1:エルカ酸アミド(ニュートロンS,日本精化社
製) F1:シリカゲル(サイリシア550,富士シリシア社
製)
【0114】
【表6】
【0115】
【表7】
【0116】
【表8】
【0117】
【表9】
【0118】(注) *1:アンチブロッキング性評価の密着条件 温度60℃、3時間、荷重36g/cm2 、面積10×
10cm *2:アンチブロッキング性評価の密着条件 温度50℃、7時間、荷重15g/cm2 、面積10×
10cm 第3表において、ほぼ同じアンチブロッキング性,ヘイ
ズ,フィルムインパクト,引張弾性率を示す実施例1〜
14と比較例1を比較すると、本発明のプロピレン系ラ
ンダム共重合体組成物は、ヒートシール温度が低く、ヒ
ートヒール性に優れていることがわかる。同様に、実施
例15と比較例2との比較においても同様なことが言え
る。また、実施例1〜16と比較例2との比較から、酸
化防止剤,発錆防止剤を使用することにより安定性も改
良されていることは明らかである。
【0119】
【発明の効果】本発明のプロピレン系ランダム共重合体
組成物は、安定性に優れているとともに、比較的広い分
子量分布及び組成分布を有しながら、かつべとつき成分
が少ないという特徴を有するので、ポリプロピレンが本
来有する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損
なうことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高
速製袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を
兼ね備えたフィルムを得ることができ、また、製膜速度
を高速化しても品質の低下が極めて小さいフィルムを製
造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F071 AA15 AA15X AA20 AA20X AA84 AA88 AB18 AB21 AC08 AC09 AC11 AC12 AC13 AC15 AC19 AE05 AE06 AH04 BB06 BC01 4J002 BB151 DE057 DE077 DE087 DE187 DE227 DE237 DE287 DJ007 EF008 EG027 EG037 EG047 EJ016 EJ026 EJ036 EJ046 EJ066 EK019 EK029 EK039 EK049 EK059 EK069 EK079 EK089 EL076 EL086 EL126 EN008 EP026 EP028 EQ028 ER008 ER018 EU128 EU168 EU178 EU188 EU196 EV066 EV076 EV088 EV096 EV346 EW066 EW068 EW086 EW116 EW126 FD076

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (i)プロピレンとエチレンのランダム
    共重合体であって、下記の〜の条件を満たすプロピ
    レン系ランダム共重合体に、(ii)酸化防止剤及び発
    錆防止剤から選ばれる少なくとも一種の化合物を配合し
    てなるプロピレン系ランダム共重合体組成物。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
    位の含有量α(重量%)が0.2〜10重量%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTp
    (℃)としたとき、(Tp−5)℃〜(Tp+5)℃の
    温度範囲において溶出する量Wp(重量%)が20重量
    %以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
    て溶出する量W0(重量%))とαが下記式(1)の関
    係を満たす。 W0 ≦ (3+2α)/4 ・・・(1)
  2. 【請求項2】 (ii)成分の配合量が合計で、(i)
    成分100重量部に対して0.005〜2重量部である
    請求項1記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
  3. 【請求項3】 さらに、(iii)重金属不活性化剤及
    び/又は(iv)ラジカル発生剤を配合してなる請求項
    1又は2に記載のプロピレン系ランダム共重合体組成
    物。
  4. 【請求項4】 (i)成分において、示差走査型熱量計
    (DSC)により測定した共重合体の融点Tm(℃)と
    αが、下記式(2)の関係を満たす請求項1〜3のいず
    れかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。 Tm ≦ 160―5α ・・・(2)
  5. 【請求項5】 (i)成分において、昇温分別クロマト
    グラフの主溶出ピーク温度をTp(℃)としたとき、
    (Tp+5)℃以上の温度範囲において溶出する量WH
    (重量%)とαが下記式(3)の関係を満たす請求項1
    〜4のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体
    組成物。 0.1 ≦ WH ≦ 3α ・・・(3)
  6. 【請求項6】 (i)成分において、共重合体中の沸騰
    ジエチルエーテル抽出成分量E(重量%)が2.5重量
    %以下であり、かつEとαが下記式(4)の関係を満た
    す請求項1〜5のいずれかに記載のプロピレン系ランダ
    ム共重合体組成物。 E ≦ (2α+15)/10 ・・・(4)
  7. 【請求項7】 (i)成分において、メルトインデック
    スMI(g/10min)が0.1〜200g/10m
    inである請求項1〜6のいずれかに記載のプロピレン
    系ランダム共重合体組成物。
  8. 【請求項8】 (i)成分において、13C−NMRによ
    り測定した共重合体中の立体規則性指標P(モル%)が
    98モル%以上である請求項1〜7のいずれかに記載の
    プロピレン系ランダム共重合体組成物。
  9. 【請求項9】 (i)成分において、αが3〜7重量%
    である請求項1〜8のいずれかに記載のプロピレン系ラ
    ンダム共重合体組成物。
  10. 【請求項10】(ii)成分のうち酸化防止剤が、フェ
    ノール系、リン系、イオウ系、ビタミン系又はラクトン
    系の化合物である請求項1〜9のいずれかに記載のプロ
    ピレン系ランダム共重合体組成物。
  11. 【請求項11】(ii)成分のうち発錆防止剤が、高級
    脂肪酸金属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカ
    リ土類金属化合物、アルキル乳酸又は乳酸金属塩の化合
    物である請求項1〜10のいずれかに記載のプロピレン
    系ランダム共重合体組成物。
  12. 【請求項12】請求項1〜11のいずれかに記載のプロ
    ピレン系ランダム共重合体組成物からなるフィルム。
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