JP4249342B2 - プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム - Google Patents
プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4249342B2 JP4249342B2 JP20529999A JP20529999A JP4249342B2 JP 4249342 B2 JP4249342 B2 JP 4249342B2 JP 20529999 A JP20529999 A JP 20529999A JP 20529999 A JP20529999 A JP 20529999A JP 4249342 B2 JP4249342 B2 JP 4249342B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- random copolymer
- component
- propylene
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムに関するものであり、さらに詳しくはプロピレンとエチレンとのプロピレン系二元ランダム共重合体組成物、及びそれを成形したフィルムに関するものである。このフィルムはラミネートや共押出した積層フィルムの少なくとも一層の構成成分として好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】
結晶性プロピレン系重合体組成物のフィルムはその優れた剛性、透明性、及び防湿性等を活かして広く包装用フィルムとして使用されている。包装用フィルムはしばしば袋状に加工して使用されているが、フィルムを袋状に加工し内容物を充填した後に袋口を閉じる一連の操作は、通常加熱した棒により圧締してフィルム同士を溶融接着するヒートシールと呼ばれる操作により行われている。近年これら一連の製袋、包装工程は生産性向上のため大型製膜機による高速製膜化が図られており、ヒートシール性に優れた素材の開発が強く要望されている。またこれら二次加工工程を円滑に行うため、包装用フィルムにはスリップ性、アンチブロッキング性が優れていることが必須の特性として要求されている。
【０００３】
しかし、プロピレン単独重合体のフィルムは、ヒートシールするには高い温度で、かつ長い時間の圧締が必要であるという欠点を有する。そこでこの欠点を改良する目的でエチレンや１―ブテン、及びその他のα―オレフィンとプロピレンとの共重合が広く行われてきた。
しかしながら、チーグラーナッタ触媒を用いてプロピレン系重合体を製造するる従来技術においては、充分なヒートシール性改良効果を得るために多量のエチレンや１―ブテン、及びその他のα―オレフィン等のコモノマーを共重合する必要があった。また、これらのコモノマーはしばしば低分子量成分に集中して含まれており、結晶性に乏しく、べとつきの原因成分（以下べとつき成分と呼ぶ）になっていた。そのため、ポリプロピレンフィルム本来の特徴である剛性が大きく低下したり、フィルム同士がブロッキングして二次加工に支障をきたしたり、ブリード白化による外観不良を起こしたりして実用に耐えるものとはならなかった。
【０００４】
この欠点を改良するため従来技術においては、べとつき成分を不活性溶剤中に溶解し、除去する試みが行われてきた。しかしながら、べとつき成分を効率的に洗い落とし、かつヒートシール性に寄与する低温融解成分が洗浄により減少するのを抑制することは非常に困難であり、工業的に満足のいくものではなかった。
一方、近年いわゆるメタロセン系触媒によるプロピレン系重合体の適用が盛んに検討されている。メタロセン系触媒による重合体は分子量分布や組成分布が極めて狭いことが特徴である。ところが、成形安定性を保持したり、成形体に幾つもの相反する物性を持たせたりするためには分子量分布や組成分布を逆に広げた方が良いことが指摘されており、メタロセン系触媒によるプロピレン系重合体の組成物がいろいろと提案されている。しかしながら、工業的に満足のいく方法によって用途、成形法に合わせた樹脂特性の重合体を自由に得ることは未だにできていない状況である。
また、プロピレン系重合体は加工安定性、耐熱老化性、耐腐食性などの安定性をさらに向上させる必要もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記観点からなされたもので、ポリプロピレンのフィルムが本来有する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なうことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね備えたフィルムを得ることができ、また製膜速度を高速化してもフィルム品質の低下が極めて小さく、さらには、安定性が向上したプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムを提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決しようとする手段】
本出願人は、チーグラーナッタ触媒に関し、重合活性の経時的な低下が小さく、高活性、高立体規則性を発現するオレフィン重合体製造用触媒成分、オレフィン重合体製造用触媒及びオレフィン重合体の製造方法を見出した（特願平１０−７１７５２号）。
【０００７】
そこで本発明者らは、前記の触媒成分を用いて製造して得たプロピレン系重合体のフィルム物性を鋭意検討した結果、その中でプロピレン系ランダム共重合体に、酸化防止剤又は発錆防止剤を配合した組成物が上記の発明目的を非常に高いレベルで満足することを見出し、本発明を完成させるに到った。
すなわち、本発明は以下のプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムを提供するものである。
１．（ｉ）プロピレンとエチレンのランダム共重合体であって、下記の▲１▼〜▲３▼の条件を満たすプロピレン系ランダム共重合体に、（ｉｉ）酸化防止剤及び発錆防止剤から選ばれる少なくとも一種の化合物を配合してなるプロピレン系ランダム共重合体組成物。
▲１▼13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）が０．２〜１０重量％であり、
▲２▼昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ−５）℃〜（Ｔｐ＋５）℃の温度範囲において溶出する量Ｗｐ（重量％）が２０重量％以上であり、
▲３▼昇温分別クロマトグラフの０℃以下の温度範囲において溶出する量Ｗ０（重量％）とαが下記式（１）の関係を満たす。
Ｗ０ ≦ （３＋２α）／４ ・・・（１）
２．（ｉｉ）成分の配合量が合計で、（ｉ）成分１００重量部に対して０．００５〜２重量部である上記１記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
３．さらに、（ｉｉｉ）重金属不活性化剤及び／又は（ｉｖ）ラジカル発生剤を配合してなる上記１又は２に記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
４．（ｉ）成分において、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した共重合体の融点Ｔｍ（℃）とαが、下記式（２）の関係を満たす上記１〜３のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
Ｔｍ ≦ １６０―５α ・・・（２）
５．（ｉ）成分において、昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ＋５）℃以上の温度範囲において溶出する量ＷH （重量％）とαが下記式（３）の関係を満たす上記１〜４のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
０．１ ≦ ＷH ≦ ３α ・・・（３）
６．（ｉ）成分において、共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量Ｅ（重量％）が２．５重量％以下であり、かつＥとαが下記式（４）の関係を満たす上記１〜５のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
Ｅ ≦ （２α＋１５）／１０ ・・・（４）
【０００８】
７．（ｉ）成分において、メルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）が０．１〜２００ｇ／１０ｍｉｎである上記１〜６のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
８．（ｉ）成分において、13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中の立体規則性指標Ｐ（モル％）が９８モル％以上である上記１〜７のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
９．（ｉ）成分において、αが３〜７重量％である上記１〜８のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
１０．（ｉｉ）成分のうち酸化防止剤が、フェノール系、リン系、イオウ系、ビタミン系又はラクトン系の化合物である上記１〜９のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
１１．（ｉｉ）成分のうち発錆防止剤が、高級脂肪酸金属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アルキル乳酸又は乳酸金属塩の化合物である上記１〜１０のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
１２．上記１〜１１のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物からなるフィルム。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明について詳細に説明する。
本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、プロピレンとエチレンのランダム共重合体であって、下記の▲１▼〜▲３▼の条件を満たす。
【００１０】
▲１▼13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）が０．２〜１０重量％である。
好ましくは０．５〜９重量％、より好ましくは１〜８重量％、最も好ましくは３〜７重量％である。
エチレン単位の含有量が少なすぎると、ヒートシール性の改良効果が望めない。またエチレン単位の含有量が多すぎると、フィルムの剛性が満足できないものになり好ましくない。
【００１１】
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した共重合体の融点Ｔｍ（℃）とαが下記式（２）の関係を満たしていることが好ましく、
Ｔｍ ≦ １６０―５α ・・・（２）
より好ましくは、
Ｔｍ ≦ １６０―６α ・・・（５）
を満たしている場合である。
この関係を満たしていない場合は、ヒートシール性が不充分になり易く、またアンチブロッキング性の低いものになる場合がある。
【００１２】
▲２▼昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ−５）℃〜（Ｔｐ＋５）℃の温度範囲において溶出する量Ｗｐ（重量％）が２０重量％以上である。
好ましくは、
２０ ≦ Ｗｐ、かつ（８０−１５α） ≦ Ｗｐ ・・・（６）
であり、より好ましくは、
３０ ≦ Ｗｐ、かつ（９０−１２α） ≦ Ｗｐ ・・・（７）
である。
【００１３】
Ｗｐが２０重量％未満の場合は、主溶出ピークの裾が高温側及び／又は低温側に大きく伸びている場合であり、低温側の成分は製膜したフィルムをべとついたものにするので好ましくなく、高温側の成分はヒートシール性を不充分にし、透明性の成形条件依存性を大きくするので好ましくない。
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、主溶出ピークの高温側の成分が、チルロールリリースなどの成形性や剛性に寄与しているため全く無いよりもある程度の量が存在していた方が好ましく、本発明のプロピレン系ランダム共重合体は（Ｔｐ＋５）℃以上の温度範囲において溶出する量ＷH （重量％）とαが下記式（３）の関係を満たしていることが好ましい。
０．１ ≦ ＷH ≦３α ・・・（３）
さらに好ましくは、
ＷH ≦ （３α−３）、かつ（３α−１５） ≦ ＷH ・・・（８）
を満たしている場合である。
【００１４】
▲３▼昇温分別クロマトグラフの０℃以下の温度範囲において溶出する量Ｗ０（重量％）とαが下記式（１）の関係を満たす。
Ｗ０ ≦ （３＋２α）／４ ・・・（１）
好ましくは、
Ｗ０ ≦ （２＋２α）／４ ・・・（９）
を満たす。
【００１５】
Ｗ０が（１）の関係を満たさない場合、製膜したフィルムがべとついたものなり、添加剤、低分子量成分などのブリードによるトラブルが起こり易くなり好ましくない。
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量Ｅ（重量％) が２．５重量％以下であり、かつＥとαが下記式（４）の関係を満たしていることが好ましい。
Ｅ ≦ （２α＋１５）／１０ ・・・（４）
さらに好ましくは、
Ｅ ≦ （α＋５）／５ ・・・（１０）
を満たしている場合である。
【００１６】
この場合、製膜したフィルムがべとついたものにならずに好ましい。
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、２３０℃、２．１６ｋｇ荷重におけるメルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）が０．１〜２００ｇ／１０ｍｉｎであることが好ましい。より好ましくは１〜４０ｇ／１０ｍｉｎであり、さらに好ましくは２〜２０ｇ／１０ｍｉｎである。メルトインデックスがこの範囲から外れると成形性に劣るものになることがある。
【００１７】
また、本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中の立体規則性指標Ｐ（モル％）が９８モル％以上であることが好ましい。より好ましくは９８．５モル％以上である。
立体規則性指標Ｐが９８モル％未満であると製膜したフィルムの剛性、アンチブロッキング性が不充分になる場合がある。
【００１８】
本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は（Ａ）マグネシウム化合物とチタン化合物とを電子供与性化合物および必要に応じてケイ素化合物の存在下、１２５℃以上１４０℃以下の温度にて接触させた後、１２０℃以上１４０℃以下の温度にて不活性溶媒により洗浄したものからなる固体触媒成分、（Ｂ）有機アルミニウム化合物および必要に応じて（Ｃ）第３成分として電子供与性化合物からなる触媒を用いてプロピレンとエチレンを共重合することにより製造することができる。
以下に、各触媒成分、調製方法、重合方法等について説明する。
【００１９】
各触媒成分
（Ａ) 固体触媒成分
固体触媒成分は、マグネシウム、チタンおよび電子供与体を含有するものであり、以下の（ａ）マグネシウム化合物、（ｂ）チタン化合物、（ｃ）電子供性化合物および必要に応じてケイ素化合物（ｄ）からなる固体触媒成分から形成されるものである。
（ａ）マグネシウム化合物
マグネシウム化合物としては、特に制限はないが、一般式（Ｉ）
ＭｇＲ1 Ｒ2 ・・・（Ｉ）
で表されるマグネシウム化合物を好ましく用いることができる。
【００２０】
上記の一般式（Ｉ）において、Ｒ1 およびＲ2 は、炭化水素基、ＯＲ3 基（Ｒ3 は炭化水素基）またはハロゲン原子を示す。ここで、Ｒ1 およびＲ2 の炭化水素基としては、炭素数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ＯＲ3 基としては、Ｒ3 が炭素数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等を挙げることができる。また、Ｒ1 およびＲ2 は、同一でも異なってもよい。
【００２１】
上記の一般式（Ｉ）で示されるマグネシウム化合物の具体例としては、ジメチルマグネシウム，ジエチルマグネシウム，ジイソプロピルマグネシウム，ジブチルマグネシウム，ジヘキシルマグネシウム，ジオクチルマグネシウム，エチルブチルマグネシウム，ジフェニルマグネシウム，ジシクロヘキシルマグネシウム等のアルキルマグネシウム，アリールマグネシウム；ジメトキシマグネシウム，ジエトキシマグネシウム，ジプロポキシマグネシウム，ジブトキシマグネシウム，ジヘキシロキシマグネシウム，ジオクトキシマグネシウム，ジフェノキシマグネシウム，ジシクロヘキシロキシマグネシウム等のアルコキシマグネシウム，アリロキシマグネシウム；エチルマグネシウムクロリド，ブチルマグネシウムクロリド，ヘキシルマグネシウムクロリド，イソプロピルマグネシウムクロリド，イソブチルマグネシウムクロリド，ｔ−ブチルマグネシウムクロリド，フェニルマグネシウムブロミド，ベンジルマグネシウムクロリド，エチルマグネシウムブロミド，ブチルマグネシウムブロミド，フェニルマグネシウムクロリド，ブチルマグネシウムイオダイド等のアルキルマグネシウムハライド，アリールマグネシウムハライド；ブトキシマグネシウムクロリド，シクロヘキシロキシマグネシウムクロリド，フェノキシマグネシウムクロリド，エトキシマグネシウムブロミド，ブトキシマグネシウムブロミド，エトキシマグネシウムイオダイド等のアルコキシマグネシウムハライド，アリロキシマグネシウムハライド；塩化マグネシウム，臭化マグネシウム，ヨウ化マグネシウム等のハロゲン化マグネシウム等を挙げることができる。
【００２２】
これらのマグネシウム化合物の中でも、重合活性および立体規則性の面から、マグネシウムハライド、アルコキシマグネシウム、アルキルマグネシウム、アルキルマグネシウムハライドが好適に使用できる。
上記のマグネシウム化合物は、金属マグネシウム、またはマグネシウムを含有する化合物から調製することができる。
【００２３】
一例としては、金属マグネシウムにハロゲン及びアルコールを接触させる方法を挙げることができる。
ここで、ハロゲンとしては、ヨウ素，塩素，フッ素，臭素を挙げることができる。アルコールとしては、メタノール，エタノール，プロパノール，ブタノール，シクロヘキサノール，オクタノール等を挙げることができる。
【００２４】
また、他の一例として、Ｍｇ（ＯＲ4 ）2 で表されるマグネシウムアルコキシ化合物（式中、Ｒ4 は、炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。）にハロゲン化物を接触する方法を挙げることができる。
そのハロゲン化物としては、四塩化ケイ素，四臭化ケイ素，四塩化スズ，四臭化スズ，塩化水素等が挙げることができる。これらの中では、重合活性及び立体規則性の面から、四塩化ケイ素が好ましい。上記のＲ4 としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ヘキシル基，オクチル基，シクロヘキシル基等のアルキル基；プロペニル基，ブテニル基等のアルケニル基；フェニル基，トリル基，キシリル基等のアリール基；フェネチル基，３−フェニルプロピル基等のアラルキル基などを挙げることができる。
【００２５】
さらに、マグネシウム化合物は、シリカ，アルミナ，ポリスチレンなどの支持体に担持されていてもよい。
以上のマグネシウム化合物は単独でもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。また、ヨウ素などのハロゲン、珪素、アルミニウムなどの他の元素を含有していてもよく、アルコール、エーテル、エステル類などの電子供与体を含有してもよい。
【００２６】
（ｂ）チタン化合物
チタン化合物としては、特に制限はないが、一般式（II）
ＴｉＸ1 p （ＯＲ5 ）4-p ・・・（II）
で表されるチタン化合物を好ましく用いることができる。
上記の一般式（II）において、Ｘ1 はハロゲン原子を示し、その中でも塩素原子および臭素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。Ｒ5 は炭化水素基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであってもよく、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどのヘテロ原子を含むものであってもよい。好ましくは炭素数１〜１０個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基およびアラルキル基などが好ましく、直鎖または分岐鎖のアルキル基が特に好ましい。ＯＲ5 が複数存在する場合にはそれらは互いに同じでも異なってもよい。Ｒ5 の具体例としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−デシル基，アリル基，ブテニル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基，シクロヘキセニル基，フェニル基，トリル基，ベンジル基，フェネチル基などを挙げることができる。ｐは０〜４の整数を示す。
【００２７】
上記の一般式（II）で示されるチタン化合物の具体例としては、テトラメトキシチタン，テトラエトキシチタン，テトラ−ｎ−プロポキシチタン，テトライソプロポキシチタン，テトラ−ｎ−ブトキシチタン，テトライソブトキシチタン，テトラシクロヘキシロキシチタン，テトラフェノキシチタン等のテトラアルコキシチタン；四塩化チタン，四臭化チタン，四ヨウ化チタン等のテトラハロゲン化チタン；メトキシチタントリクロリド，エトキシチタントリクロリド，プロポキシチタントリクロリド，ｎ−ブトキシチタントリクロリド，エトキシチタントリブロミド等のトリハロゲン化アルコキシチタン；ジメトキシチタンジクロリド，ジエトキシチタンジクロリド，ジイソプロポキシチタンジクロリド，ジ−ｎ−プロポキシチタンジクロリド，ジエトキシチタンジブロミド等のジハロゲン化ジアルコキシチタン；トリメトキシチタンクロリド，トリエトキシチタンクロリド，トリイソプロポキシチタンクロリド，トリ−ｎ−プロポキシチタンクロリド，トリ−ｎ−ブトキシチタンクロリド等のモノハロゲン化トリアルコキシチタンなどを挙げることができる。これらの中で、重合活性の面から、高ハロゲン含有チタン化合物、特に四塩化チタンが好ましい。これらのチタン化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
（ｃ）電子供与性化合物
電子供与性化合物としては、アルコール類、フェノール類、ケトン類、アルデヒド類、有機酸もしくは無機酸のエステル類、モノエーテル、ジエーテルもしくはポリエーテル等のエーテル類等の含酸素電子供与性化合物や、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアネート等の含窒素電子供与性化合物を挙げることができる。これらの中では、多価カルボン酸のエステル類が好ましく、さらに好ましくは、芳香族多価カルボン酸のエステル類である。重合活性の面から、特に芳香族ジカルボン酸のモノエステルおよび／またはジエステルが好ましい。また、エステル部の有機基が直鎖、分岐または環状の脂肪族炭化水素が好ましい。
【００２９】
具体的には、ジカルボン酸のジアルキルエステルを挙げることができる。その場合、ジカルボン酸として、フタル酸、ナフタレン−１, ２−ジカルボン酸、ナフタレン−２，３−ジカルボン酸、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２，３−ジカルボン酸、インダン−４，５−ジカルボン酸、インダン−５，６−ジカルボン酸等を挙げることができる。また、アルキル基として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、２−エチルヘキシル、３−エチルヘキシル、４−エチルヘキシル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−エチルペンチル、３−エチルペンチル等を挙げることができる。これらの中では、フタル酸ジエステル類が好ましく、また、エステル部の有機基の炭素数が４個以上の直鎖または分岐の脂肪族炭化水素が好ましい。
この具体例としては、フタル酸ジ−ｎ−ブチル，フタル酸ジイソブチル，フタル酸ジ−ｎ−ヘプチル，フタル酸ジエチルなどを好ましく挙げることができる。
また、これらの化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３０】
（ｄ）ケイ素化合物
固体触媒成分の調製に、前記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）成分に加えて、場合により（ｄ）成分として、下記の一般式（III)
Ｓｉ（ＯＲ6 ）q Ｘ2 4-q ……（III)
（Ｒ5 は炭化水素基、Ｘ2 はハロゲン原子、ｑは０〜３の整数を示す。）
で表されるケイ素化合物を用いることができる。ケイ素化合物を用いることにより、触媒活性および立体規則性の向上ならびに生成ポリマー中の微粉量の低減が図れることがある。
【００３１】
上記の一般式（III)において、Ｘ2 はハロゲン原子を示し、これらの中で塩素原子および臭素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。Ｒ6 は炭化水素基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであってもよく、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどのヘテロ原子を含むものであってもよい。好ましくは炭素数１〜１０個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基およびアラルキル基などが好ましい。ＯＲ6 が複数存在する場合にはそれらは互いに同じでも異なってもよい。Ｒ6 の具体例としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−デシル基，アリル基，ブテニル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基，シクロヘキセニル基，フェニル基，トリル基，ベンジル基，フェネチル基などが挙げることができる。ｑは０〜３の整数を示す。
【００３２】
上記の一般式（III)で示されるケイ素化合物の具体例としては、四塩化ケイ素，メトキシトリクロロシラン，ジメトキシジクロロシラン，トリメトキシクロロシラン，エトキシトリクロロシラン，ジエトキシジクロロシラン，トリエトキシクロロシラン，プロポキシトリクロロシラン，ジプロポキシジクロロシラン，トリプロポキシクロロシランなどを挙げることができる。これらの中で特に四塩化ケイ素が好ましい。これらのケイ素化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
（Ｂ）有機アルミニウム化合物
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体の製造に用いられる（Ｂ）有機アルミニウム化合物としては、特に制限はないが、アルキル基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキシ基を有するもの、アルミノキサンおよびそれらの混合物を好ましく用いることができる。具体的には、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムモノクロリド，ジイソプロピルアルミニウムモノクロリド，ジイソブチルアルミニウムモノクロリド，ジオクチルアルミニウムモノクロリド等のジアルキルアルミニウムモノクロリド；エチルアルミニウムセスキクロリド等のアルキルアルミニウムセスキハライド；メチルアルミノキサン等の鎖状アルミノキサン等を挙げることができる。これらの有機アルミニウム化合物の中では、炭素数１〜５個の低級アルキル基を有するトリアルキルアルミニウム、特にトリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリプロピルアルミニウムおよびトリイソブチルアルミニウムが好ましい。また、これらの有機アルミニウム化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
（Ｃ）第３成分（電子供与性化合物）
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造するには、（Ｃ）電子供与性化合物が用いられる。この（Ｃ）電子供与性化合物としては、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物、窒素含有化合物、リン含有化合物、酸素含有化合物を用いることができる。このうち、重合活性および立体規則性の面から、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物、エーテル類およびエステル類を用いることが好ましく、特にＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
【００３５】
このＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン，テトラエトキシシラン，テトラブトキシシラン，テトライソブトキシシラン，トリメチルメトキシシラン，トリメチルエトキシシラン，トリエチルメトキシシラン，トリエチルエトキシシラン，エチルイソプロピルジメトキシシラン，プロピルイソプロピルジメトキシシラン，ジイソプロピルジメトキシシラン，ジイソブチルジメトキシシラン，イソプロピルイソブチルジメトキシシラン，ジ−ｔ−ブチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルメチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルエチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルプロピルジメトキシシラン，ｔ−ブチルイソプロピルジメトキシシラン，ｔ−ブチルブチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルイソブチルジメトキシシラン，ｔ−ブチル（ｓ−ブチル）ジメトキシシラン，ｔ−ブチルアミルジメトキシシラン，ｔ−ブチルヘキシルジメトキシシラン，ｔ−ブチルヘプチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルオクチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルノニルジメトキシシラン，ｔ−ブチルデシルジメトキシシラン，ｔ−ブチル（３，３，３−トリフルオロメチルプロピル）ジメトキシシラン，シクロヘキシルメチルジメトキシシラン，シクロヘキシルエチルジメトキシシラン，シクロヘキシルプロピルジメトキシシラン，シクロペンチル−ｔ−ブチルジメトキシシラン，シクロヘキシル−ｔ−ブチルジメトキシシラン，ジシクロペンチルジメトキシシラン，ジシクロヘキシルジメトキシシラン，ビス（２−メチルシクロペンチル）ジメトキシシラン，ビス（２，３−ジメチルシクロペンチル）ジメトキシシラン，ジフェニルジメトキシシラン，フェニルトリエトキシシラン，メチルトリメトキシシラン，エチルトリメトキシシラン，プロピルトリメトキシシラン，イソプロピルトリメトキシシラン，ブチルトリメトキシシラン，イソブチルトリメトキシシラン，ｔ−ブチルトリメトキシシラン，ｓ−ブチルトリメトキシシラン，アミルトリメトキシシラン，イソアミルトリメトキシシラン，シクロペンチルトリメトキシシラン，シクロヘキシルトリメトキシシラン，ノルボルナントリメトキシシラン，インデニルトリメトキシシラン，２−メチルシクロペンチルトリメトキシシラン，シクロペンチル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，イソプロピル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，ｔ−ブチル（イソブトキシ）ジメトキシシラン，ｔ−ブチル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，テキシルトリメトキシシラン，テキシルイソプロポキシジメトキシシラン，テキシル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，テキシルメチルジメトキシシラン，テキシルエチルジメトキシシラン，テキシルイソプロピルジメトキシシラン，テキシルシクロペンチルジメトキシシラン，テキシルミリスチルジメトキシシラン，テキシルシクロヘキシルジメトキシシランなどを挙げることができる。
また、有機ケイ素化合物として下記の一般式（IV)
【００３６】
【化１】
【００３７】
（式中、Ｒ7 〜Ｒ9 は水素原子または炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ10及びＲ11は炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ12及びＲ13は炭素数が１〜２０のアルキル基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよい。ｍは２以上の整数であり、ｎは２以上の整数である。）
で表されるものを用いることができる。
【００３８】
上記の一般式（IV）において、具体的には、Ｒ7 〜Ｒ9 としては、水素原子，メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基，イソブチル基，ｔ−ブチル基，テキシル基等の分岐状炭化水素基、シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル基，ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基が挙げられる。これらのうち、好ましくは水素、炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくは水素、メチル基、エチル基である。
【００３９】
Ｒ10およびＲ11としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基，イソブチル基，ｔ−ブチル基，テキシル基等の分岐状炭化水素基、シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル基，ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基が挙げられる。また、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これらのうち、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
【００４０】
Ｒ12およびＲ13としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔ−ブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−オクチル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基が挙げられる。また、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これらのうち、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００４１】
上記の一般式（IV）で示されるケイ素化合物の好ましい化合物としては具体的に、ネオペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ブチルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ヘキシルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ヘプチルジメトキシシラン，イソブチルｎ−プロピルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ブチルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ヘキシルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ヘプチルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルプロピルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルブチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルヘキシルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルヘプチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルプロピルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルブチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルヘキシルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルヘプチルｎ−プロピルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ブチルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ヘキシルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ヘプチルジメトキシシラン，イソペンチルイソブチルジメトキシシラン，イソペンチルネオペンチルジメトキシシラン，ジイソペンチルジメトキシシラン，ジイソヘプチルジメトキシシラン，ジイソヘキシルジメトキシシランなどを挙げることができる。
【００４２】
特に好ましい化合物の具体例としては、ネオペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，イソペンチルネオペンチルジメトキシシラン，ジイソペンチルジメトキシシラン，ジイソヘプチルジメトキシシラン，ジイソヘキシルジメトキシシランが挙げられ、さらに好ましい化合物の具体例としては、ネオペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，ジイソペンチルジメトキシシランを挙げることができる。
上記の一般式（IV）で示されるケイ素化合物は、任意の方法によって合成することができる。代表的な合成経路は、下記のとおりである。
【００４３】
【化２】
【００４４】
この合成経路において、原料化合物〔１〕は市販されているか、または公知のアルキル化、ハロゲン化等により得ることができる。化合物〔１〕に対して、公知のグリニャール反応により、一般式（IV）で表される有機ケイ素化合物を得ることができる。
上記有機ケイ素化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
窒素含有化合物の具体例としては、２，６−ジイソプロピルピペリジン，２，６−ジイソプロピル−４−メチルピペリジン，Ｎ−メチル２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの２，６−置換ピペリジン類；２，５−ジイソプロピルアゾリジン，Ｎ−メチル２，２，５，５−テトラメチルアゾリジンなどの２，５−置換アゾリジン類；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルメチレンジアミン，Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類；１，３−ジベンジルイミダゾリジン，１，３−ジベンジル−２−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリジン類等を挙げることができる。
【００４６】
リン含有化合物の具体例としては、トリエチルホスファイト、トリｎ−プロピルホスファイト、トリイソプロピルホスファイト、トリｎ−ブチルホスファイト、トリイソブチルホスファイト、ジエチルｎ−ブチルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイトなどの亜リン酸エステル類等を挙げることができる。
酸素含有化合物の具体例としては、２，２，６，６−テトラメチルテトラヒドロフラン，２，２，６，６−テトラエチルテトラヒドロフランなどの２，６−置換テトラヒドロフラン類；１，１−ジメトキシ−２，３，４，５−テトラクロロシクロペンタジエン，９，９−ジメトキシフルオレン，ジフェニルジメトキシメタンなどのジメトキシメタン誘導体等を挙げることができる。
【００４７】
固体触媒成分の調製
前記（Ａ）の固体触媒成分の調製方法としては、上記の（ａ）マグネシウム化合物、（ｂ）チタン化合物、（ｃ）電子供与性化合物、および必要に応じて（ｄ）ケイ素化合物を、温度を除き通常の方法で接触させればよく、接触手順については特に問わない。例えば、各成分を炭化水素などの不活性溶媒の存在下で接触させてもよいし、予め炭化水素などの不活性溶媒で各成分を希釈して接触させてもよい。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デカン、エチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素またはこれらの混合物を挙げることができる。
【００４８】
ここで、チタン化合物は、上記のマグネシウム化合物のマグネシウム１モルに対して、通常、０．５〜１００モル、好ましくは、１〜５０モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分となることがある。また、上記の電子供与体は、上記のマグネシウム化合物のマグネシウム１モルに対して、通常、０．０１〜１０モル、好ましくは、０．０５〜１．０モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性や立体規則性が不十分となることがある。さらに、ケイ素化合物を用いるときは、上記のマグネシウム化合物のマグネシウム１モルに対して、通常、０．００１〜１００モル、好ましくは、０．００５〜５．０モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮されず、かつ生成ポリマー中の微粉量が多くなることがある。
【００４９】
上記の（ａ）〜（ｄ）成分の接触は、全成分を加えた後、１２５〜１４０℃の温度範囲にて行う。この接触温度が前記範囲外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮されない。また、接触は、通常、１分〜２４時間、好ましくは、１０分〜６時間行われる。このときの圧力は、溶媒を使用する場合はその種類、接触温度などにより、その範囲は変化するが、通常、０〜５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ、好ましくは０〜１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇの範囲にて行う。また、接触操作中は、接触の均一性および接触効率の面から攪拌を行うことが好ましい。
【００５０】
さらに、チタン化合物の接触を２回以上行い、触媒担体としての役割をするマグネシウム化合物に十分担持させることが好ましい。
接触操作において溶媒を使用するときは、チタン化合物１モルに対して、通常、５，０００ミリリットル以下、好ましくは、１０〜１，０００ミリリットルの溶媒を使用する。この比が前記範囲を逸脱すると接触の均一性や接触効率が悪化することがある。
【００５１】
以上の接触で得られた固体触媒成分は、１２０〜１４０℃の温度にて不活性溶媒で洗浄する。この洗浄温度が上記範囲外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮されない。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、テトラクロロエタン、クロロフルオロ炭素類などのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物を挙げることができる。これらのなかでは、脂肪族炭化水素が好ましく使用される。
【００５２】
洗浄方法としては、特に制限はないが、デカンテーション、濾過などの方式が好ましい。不活性溶媒の使用量、洗浄時間、洗浄回数についても特に制限はないが、マグネシウム化合物１モルに対して、通常、１００〜１００，０００ミリリットル、好ましくは、１０００〜５０，０００ミリリットルの溶媒を使用し、通常、１分〜２４時間、好ましくは、１０分〜６時間行われる。この比が前記範囲を逸脱すると洗浄が不完全になることがある。
【００５３】
このときの圧力は、溶媒の種類、洗浄温度などにより、その範囲は変化するが、通常、０〜５０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、好ましくは、０〜１０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇの範囲にて行う。また、洗浄操作中は、洗浄の均一性および洗浄効率の面から攪拌を行うことが好ましい。
なお、得られた固体触媒成分は、乾燥状態または炭化水素などの不活性溶媒中で保存することもできる。
【００５４】
重合方法
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造する際の触媒成分の使用量については、特に制限はないが、前記（Ａ）成分の固体触媒成分は、チタン原子に換算して、反応容積１リットル当たり、通常０．００００５〜１ミリモルの範囲になるような量が用いられ、（Ｂ）成分の有機アルミニウム化合物は、アルミニウム／チタン原子比が通常１〜１０００、好ましくは１０〜５００の範囲になるような量が用いられる。この原子比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分となることがある。また、（Ｃ）第３成分として有機ケイ素化合物等の電子供与性化合物を用いるときは、（Ｃ）電子供与性化合物／（Ｂ）有機アルミニウム化合物モル比が、通常０．００１〜５．０、好ましくは０．０１〜２．０、より好ましくは０．０５〜１．０の範囲になるような量が用いられる。このモル比が前記範囲を逸脱すると十分な触媒活性および立体規則性が得られないことがある。ただし、予備重合を行う場合は、さらに低減することができる。
【００５５】
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体の重合においては、重合活性、立体規則性および重合体パウダー形態の面から、所望に応じ、先ずオレフィンの予備重合を行ったのち、本重合を行ってもよい。この場合、前記（Ａ）固体触媒成分、（Ｂ）有機アルミニウム化合物および必要に応じて（Ｃ）電子供与性化合物を、それぞれ所定の割合で混合してなる触媒の存在下に、オレフィンを通常１〜１００℃の範囲の温度において、常圧ないし５０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ程度の圧力で予備重合させ、次いで触媒と予備重合生成物との存在下に、プロピレンとコモノマーであるエチレンを本重合させる。
【００５６】
予備重合に用いられるオレフィンとしては、一般式（Ｖ）
Ｒ14−ＣＨ＝ＣＨ2 ・・・（Ｖ）
で表されるα−オレフィンが好ましい。
上記の一般式（Ｖ）において、Ｒ14は水素原子または炭化水素基であって、炭化水素基は飽和基や不飽和基であってもよい。具体的にはエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキサン、ブタジエン、イソプレン、ピペリレン等を挙げることができる。これらのオレフィンは１種用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。前記オレフィンの中で、特にエチレン、プロピレンが好適である。
【００５７】
この本重合における重合形式については特に制限はなく、溶液重合、スラリー重合、気相重合、バルク重合等のいずれにも適用可能であり、さらに、回分式重合や連続重合のどちらにも適用可能であり、異なる条件での２段階重合や多段重合にも適用可能である。
さらに、反応条件については、その重合圧は、特に制限はなく、重合活性の面から、通常、大気圧〜８０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、好ましくは２〜５０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは、２０〜９０℃、さらに好ましくは、４０〜９０℃の範囲で適宜選ばれる。重合時間は原料のプロピレンとエチレンの重合温度によって左右され一概に定めることができないが、通常、５分〜２０時間、好ましくは、１０分〜１０時間程度である。プロピレンとエチレンの混合比は、重合温度、圧力などにより左右され一概に定めることができないが、通常、エチレンが０．１〜２０モル％、好ましくは１〜１５モル％程度である。
【００５８】
分子量は、連鎖移動剤の添加、好ましくは水素の添加を行うことで調節することができる。また、窒素等の不活性ガスを存在させてもよい。
異なる重合条件で、２段階以上にわたって重合することもできる。
また、本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造する重合においては、前記触媒成分については、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分とを所定の割合で混合し、接触させたのち、ただちにプロピレンとエチレンを導入して重合をおこなってもよいし、接触後、０．２〜３時間程度熟成させたのち、プロピレンとエチレンを導入して重合を行ってもよい。さらに、この触媒成分は不活性溶媒やプロピレンなどに懸濁して供給することができる。
【００５９】
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体においては、重合後の後処理は常法により行うことができる。すなわち、気相重合法においては、重合後、重合器から導出されるポリマー粉体に、その中に含まれるオレフィンなどを除くために、窒素気流などを通過させてもよいし、また、所望に応じて押出機によりペレット化してもよく、その際、触媒を完全に失活させるために、少量の水、アルコールなどを添加することもできる。また、バルク重合法においては、重合後、重合器から導出されるポリマーから完全にモノマーを分離したのち、ペレット化することができる。
【００６０】
次に、（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体に配合される（ｉｉ）成分の添加剤と、必要に応じて配合される（ｉｉｉ）成分、（ｉｖ）成分の添加剤について説明する。
（ｉｉ）成分
（ｉｉ）成分のうち、酸化防止剤については、特に限定されないが、フェノール系、リン系、イオウ系、トコフェロール系、ラクトン系の酸化防止剤から好適に選択することができる。
【００６１】
フェノール系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているフェノール系の酸化防止剤を使用できる。
具体的には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−アミル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−オクチル−４−ｎ−プロピルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−ｎ−オクチルフェノール、２−イソプロピル−４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−２−エチル−６−ｔ−オクチルフェノール、２−イソブチル−４−エチル−６−ｔ−ヘキシルフェノール、２−シクロヘキシル−４−ｎ−ブチル−６−イソプロピルフェノール、ｄｌ−α−トコフェロール、ｔ−ブチルヒドロキノン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオビス（４−メチブル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−クレゾール］、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデンビス（２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、トリス（４−ｔ−ブチル−２，６−ジメチル−３−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）テレフタレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−（β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、２，２−ビス［４−（２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ））エトキシフェニル］プロパン、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステルなどを挙げることができる。
【００６２】
これらの中では、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステル、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ｄｌ−α−トコフェロール、トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルべンジル）イソシアヌレート、トリス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンが好ましい。
【００６３】
また、フェノール系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばイルガノクス１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ３１２５、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、ＢＨＴ（武田薬品工業社、商標）、シアノクス１７９０（Ｃｙａｎｏｘ１７９０、サイアナミド社、商標）、スミライザーＧＡ−８０（ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０、住友化学社、商標）などを挙げることができる。
【００６４】
リン系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているリン系の酸化防止剤を使用できる。
具体的には、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ12〜Ｃ15混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルジホスファィト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスフアイト、水素化−４，４’−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス［４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）］・１，６−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニル・４，４’−イソプロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔ−ブチルフェノール）］ホスファイト、フェニル・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔ−ブチルフェノール）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９，１０−ジ−ヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）・エチルホスファイト、２−［｛２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ（Ｄ，Ｆ）（１，３，２）−ジオキサホスフェフィン−６−イル｝オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス〔［｛２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ（Ｄ，Ｆ）（１，３，２）−ジオキサホスフェフィン−６−イル｝オキシ］エチル〕エタンアミンなどを挙げることができる。
また、ビス（ジアルキルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトエステルは下記一般式（VI）
【００６５】
【化３】
で示されるスピロ型や下記一般式（VII)
【００６６】
【化４】
【００６７】
で示されるケージ型ものも使用できる。通常はこのようなホスファイトエステルを製造する方法から生じる経済的理由のために両異性体の混合物を最も多く使用できる。
ここで、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17は、水素または炭素原子数１〜９のアルキル基、特に分枝のあるアルキル基、なかでもｔ−ブチル基が好ましく、またフェニル基におけるその置換位置は２，４，６位が最も好ましい。好適なホスファイトエステルは、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェエル）ベンタエリスリトールジホスファイト等であり、また炭素とリンとが直接結合した構造を持つホスフォナイト、例えばテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスフォナイトなどの化合物も挙げることができる。
【００６８】
リン系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばイルガフォス１６８（Ｉｒｇａｆｏｓ１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガフォス１２（Ｉｒｇａｆｏｓ１２、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガフォス３８（Ｉｒｇａｆｏｓ３８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、アデカスタブ３２９Ｋ（ＡＤＫＳＴＡＢ３２９Ｋ、旭電化社、商標）、ＰＥＰ３６（ＰＥＰ３６、旭電化社、商標）、ＰＥＰ−８（ＰＥＰ−８、旭電化社、商標）、Ｓａｒｄｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（クラリアント社、商標）、ウエストン６１８（Ｗｅｓｔｏｎ ６１８、ＧＥ社、商標）、ウエストン６１９Ｇ（Ｗｅｓｔｏｎ ６１９Ｇ、ＧＥ社、商標）、ウエストン−６２４（Ｗｅｓｔｏｎ−６２４、ＧＥ社、商標）などを挙げることができる。
【００６９】
その他に、リン系酸化防止剤として、特開平１０−５３５９５号公報，特開平１０−１０１６８７号公報，特開平１０−１１４７８４号公報，特開平１０−１２０６９１号公報，特開平１０−１２０６９３号公報，特開平１０−１２０６９４号公報，特開平１０−１５２４９４号公報，特開平１０−１５２４９６号公報，特開平１０−１５８２８３号公報，特開平１０−１５８２８５号公報，特開平１０−１８２６７５号公報，特開平１０−２５９１９０号公報，特開平１０−２５９１９３号公報，特開平１０−２７３４９３号公報，特開平１０−２７３４９４号公報，特開平１０−２９８３４８号公報に記載のものも好適に使用することができる。
【００７０】
イオウ系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているイオウ系の酸化防止剤を使用できる。
具体的には、ジラウリルチオジプロピオネート，ジミリスチルチオジプロピオネート，ジステアリルチオジプロピオネート等のジアルキルチオジプロピオネート、ブチルチオプロピオン酸、オクチルチオプロピオン酸、ラウリルチオプロピオン酸、ステアリルチオプロピオン酸等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネート）などを挙げることができる。
【００７１】
イオウ系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばＤＳＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、ＤＬＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、ＤＬＴＯＩＢ（吉富社、商標）、ＤＭＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、Ｓｅｅｎｏｘ ４１２Ｓ（シプロ化成社、商標）、Ｃｙａｎｏｘ １２１２（サイアナミド社、商標）などを挙げることができる。
【００７２】
トコフェロール系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているトコフェロール系の酸化防止剤を使用できる。具体的には、酢酸ｄ−α−トコフェロール，コハク酸ｄ−α−トコフェロール，ｄ−α−トコフェロール，ｄ−β−トコフェロール，ｄ−γ−トコフェロール，ｄ−δ−トコフェロール，ｄ−α−トコトリエノール，ｄ−β−トコフェトリエノール，ｄ−γ−トコフェトリエノール，ｄ−δ−トコフェトリエノール等の天然品、ｄｌ−α−トコフェロール，酢酸ｄｌ−α−トコフェロール，コハク酸ｄｌ−α−トコフェロールカルシウム，ニコチン酸ｄｌ−α−トコフェロール等の合成品を挙げることができる。
【００７３】
トコフェロール系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばトコフェロール（エーザイ社製），イルガノクスＥ２０１（ＩｒｇａｎｏｘＥ２０１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標、化合物名；２，５，７，８−テトラメチル−２（４’，８’，１２’−トリメチルトリデシル）クマロン−６−オール）などを挙げることができる。
【００７４】
ラクトン系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているラクトン系の酸化防止剤を使用できる。例えば、特開平７−２３３１６０号公報、特開平７−２４７２７８号公報に記載されているものを使用できる。また、ＨＰ−１３６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標、化合物名；５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン）などの市販品も使用できる。
【００７５】
（ｉｉ）成分のうち、発錆防止剤については、特に限定されないが、高級脂肪酸金属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アルキル乳酸金属塩、乳酸金属塩の化合物から好適に選択することができる。
高級脂肪酸金属塩として、炭素数８〜２３の脂肪酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を挙げることができる。脂肪酸として、ラウリル酸，ミリスチン酸，パルミチン酸，ステアリン酸，オレイン酸，リノール酸，リノレイン酸を挙げることができ、これらの脂肪酸と塩をつくる金属として、カリウム，ナトリウム，カルシウム，バリウム，マグネシウム，アルミニウムを挙げることができる。
【００７６】
複化合物は、下記一般式（VIII）
Ｍx Ａｌy （ＯＨ）2x+3y-2z（Ａ）z ・ａＨ2 Ｏ ・・・（VIII）
（ＭはＭｇ、ＣａまたはＺｎを示し、ＡはＣＯ3 又はＨＰＯ4 を示し、ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは０又は正数を示す。）
で表される化合物である。具体的には、Ｍｇ6 Ａｌ2 （ＯＨ）16ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ8 Ａｌ2 （ＯＨ）20ＣＯ3 ・５Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ5 Ａｌ2 （ＯＨ）14ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ10Ａｌ2 （ＯＨ）22（ＣＯ3 ）2 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ6 Ａｌ2 （ＯＨ）16ＨＰＯ4 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｃａ6 Ａｌ2 ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｚｎ6 Ａｌ6 （ＯＨ）16ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏなどを挙げることができる。また、特開平７−３１６３５４号公報（Ｍｇ，Ｚｎ，Ａｌ含有化合物），特公平７−２８５８号公報（Ａｌ，Ｌｉ含有化合物）に記載された化合物も使用できる。
【００７７】
アルカリ金属化合物として、酸化ナトリウム，酸化カリウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，アルミン酸ソーダ，ケイ酸ソーダ，炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどを挙げることができる。
アルカリ土類化合物として、酸化カルシウム，酸化マグネシウム，水酸化カルシウム，水酸化マグネシウム，炭素カルシウムなどを挙げることができる。
【００７８】
アルキル乳酸金属塩は、重合度２の乳酸（２−ラクチル乳酸）とステアリン酸エステル化反応物（ステアリル乳酸）のカルシウム塩を主成分とし、これと少量の関連酸類との塩との混合物であるステアリル酸カルシウムが主に使用できる。
乳酸金属塩としては、乳酸カルシウムが一般的であるが、乳酸バリウム，乳酸亜鉛，乳酸マグネシウム等も使用できる。
【００７９】
上記（ｉｉ）成分の配合量は、（ｉ）成分の結晶性ポリプロピレン１００重量部に対して、好ましくは０．００５〜２重量部、さらに好ましくは０．０１〜１重量部、特に好ましくは０．０２〜０．５重量部である。量が少なすぎると、加工安定性，耐熱老化性，耐腐食性等の安定性の向上効果が十分にでない場合があり、量が多すぎると、量に見合った安定性の向上効果がでない場合があり、また引張強度などが低下する場合がある。
【００８０】
（ｉｉｉ）成分
本発明の組成物においては、必要により重金属不活性化剤を併用することによって、耐重金属性（耐金属老化性）を改善することができる。
重金属不活性化剤として、具体的には、ベンゾトリアゾール、２，４，６−トリアミノ−１，３，５−トリアジン、３，９−ビス［２−（３，５−ジアミノ−２，４，６−トリアザフェニル）エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、エチレンジアミン−テトラアセチックアシッド、エチレンジアミン−テトラアセチックアシッドのアルカリ金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）塩、Ｎ，Ｎ’−ジサリシリデン−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジサリシリデン−１，２−プロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ”−ジサリシリデン−Ｎ’−メチル−ジプロピレントリアミン、３−サリシロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、デカメチレンジカルボキシリックアシッド−ビス（Ｎ’−サリシロイルヒドラジド）、ニッケル−ビス（１−フェニル−３−メチル−４−デカノイル−５−ピラゾレート）、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ’，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、オキサリックアシッド−ビス（ベンジリデンヒドラジド）、チオジプロピオニックアシッド−ビス（ベンジリデンヒドラジド）、イソフタリックアシッド−ビス（２−フェノキシプロピオニルヒドラシド）、ビス（サリシロイルヒドラジン）、Ｎ−サリシリデン−Ｎ’−サリシロイルヒドラゾン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、トリス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］ホスファイト、ビス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］ペンタエリスリトール−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−１，６−ヘキサメチレン−ビス（Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルセミカルバジド）ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−１，１０−デカメチレン−ジ−カルボキシリックアシッド−ジ−ヒドロキシエチルカルボニルヒドラジド−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−１，１０−デカメチレン−ジ−カルボキシリックアシッド−ジ−サリシロイルヒドラジド−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−ジ（ヒドロキシエチルカルボニル）ヒドラジド−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド−ジホスファイト、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］オキサミド等を挙げることができる。
【００８１】
上記（ｉｉｉ）成分は、単独で使用しても、二種以上組み合わせて使用してもよく、その配合量は、（ｉ）成分の結晶性ポリプロピレン１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量部である。量が少なすぎると、耐重金属性の向上効果が十分にでない場合があり、量が多すぎると、量に見合った耐重金属性の向上効果がでない場合があり、また引張強度などが低下する場合がある。
【００８２】
（ｉｖ）成分
本発明の組成物においては、必要によりラジカル発生剤を併用することによって、樹脂組成物の流動性を改善することができる。
ラジカル発生剤として、具体的には、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ｔ−ブチルパーアセテート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ヘンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ヘンゾイルパーオキシ）ヘキシン−３、ｔ−ブチル−ジ−パーアジペート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルヘキサノエート、メチル−エチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジキュミルパーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルキュミルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ｐ−サイメンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラ−メチルブチルハイドロパーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ハイドロパーオキシ）ヘキサン、トリメチルシリル−キュミルパーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ビス（トリメチルシリルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ビス（トリメチルシリルパーオキシ）ヘキシン−３、１，３−ビス（トリメチルシリルパーオキシイソプロピル）ベンゼン等を挙げることができる。
【００８３】
上記（ｉｖ）成分は、単独で使用しても、二種以上組み合わせて使用してもよく、その配合量は、（ｉ）成分の結晶性ポリプロピレン１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜０．５重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．２重量部である。量が少なすぎると、流動性改良効果が十分にでない場合があり、量が多すぎると、成形加工が困難となる場合があり、また引張強度などが低下する場合がある。
【００８４】
本願の第二発明であるフィルムは、前記のプロピレン系ランダム共重合体を用いて製膜したフィルムである。フィルムを製造する方法には特に制限はなく、通常のＴダイキャスト製膜法等が用いられる。すなわち、前記のプロピレン系ランダム共重合体のパウダーに必要に応じて各種の添加剤を処方し、混練機にて押出し造粒し、ペレット化し、Ｔダイキャスト製膜することができる。通常、本発明のプロピレン系ランダム共重合体を用いて、Ｔダイキャスト製膜法により、引取速度が５０ｍ／ｍｉｎまたはこれ以上の高速製膜条件においても、厚みが１０〜５００μｍのフィルムを得ることができる。また、前述の好ましい特性を有することから、共押出製膜法による積層フィルムの製造に際して、その少なくとも一層成分として好適に使用できる。製膜法は、大型製膜機により高速製膜が実施されるＴダイキャスト製膜法が好ましいが、特にこれに限らず、溶融押出成形法によりフィルムを製造できる方法であれば、どのような製膜法でもよい。
【００８５】
なお、本発明のフィルムは、所望に応じ前記プロピレン系ランダム共重合体組成物に、帯電防止剤や防曇剤などの表面機能用添加剤、アンチブロッキング剤、耐候剤、滑剤、造核剤、着色剤、無滴剤、難燃剤、難燃助剤、抗菌剤、無機又は有機充填剤などの公知の添加剤を配合して樹脂組成物を調製した上で製造してもよい。
【００８６】
【実施例】
以下、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら制限されるものではない。
〔実施例１〜１４〕
（マグネシウム化合物の調製）
攪拌機付反応層（内容積８０リットル）を窒素ガスで十分に置換し、脱水エタノール２０リットル、金属マグネシウム１．０６ｋｇ及びヨウ素１０６ｇを投入し、攪拌しながら還流条件下で系内から水素ガスの発生が無くなるまで反応させ、固体状反応生成物を得た。この固体状反応生成物を含む反応物を減圧乾燥することにより目的のマグネシウム化合物（固体触媒の担体）を得た。
【００８７】
（固体触媒成分の調製）
窒素で置換した攪拌機付反応層（内容積８０リットル）に前記マグネシウム化合物４．０ｋｇを投入し、さらに、脱水処理したｎ−ヘプタンを２０リットル加えた。４０℃に加熱し四塩化珪素６００ミリリットルを加え、２０分攪拌し、ジ−ｎ−ブチルフタレートを８５０ミリリットル加えた。溶液を７０℃まで昇温し、引き続き四塩化チタンを１９．２５リットル投入した。内温を１２５℃とし２時間接触反応させた。その後、１２５℃の脱水ｎ−ヘプタンを用いて充分洗浄を行った。さらに四塩化チタンを３０．５０リットル加え、内温を１２５℃とし２時間接触反応させた。その後１２５℃の脱水ｎ−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い固体成分［Ａ］を得た。
【００８８】
（予備重合）
窒素で置換した攪拌機付反応層（内容積８０リットル）に固体成分［Ａ］を１．０ｋｇを投入し、さらに脱水処理したｎ−ヘプタンを８．４リットル加えた。４０℃に加熱しトリエチルアルミニウム４３ミリリットルとジシクロペンチルジメトキシシランを１１６ミリリットル加えた。これにプロピレンを常圧で流通させ2 時間反応させた。その後、固体成分を脱水ｎ−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い触媒成分を得た。
【００８９】
（重合）
内容積２００リットルの攪拌器付重合槽に前記の固体触媒成分を成分中のチタン原子換算で３ミリモル／ｋｇ−ＰＰで、トリエチルアルミニウムを４ミリモル／ｋｇ−ＰＰで、ジシクロペンチルジメトキシシランを１ミリモル／ｋｇ−ＰＰでそれぞれ供給し、重合温度８０℃、重合圧力（全圧）２８ｋｇ／ｃｍ2 Ｇでプロピレンとエチレンを反応させた。重合装置内のエチレン濃度を５．０モル％，水素濃度を８．５モル％として重合を行い、その結果、２重量％のエチレン含有量及びＭ．Ｉが７．１のプロピレン系ランダム共重合体を得た。
【００９０】
（ペレット化及び製膜）
プロピレン系ランダム共重合体のパウダーに、第２表に示した添加剤を配合し、東芝機械（株）のＭｏｄｅｌ３５Ｂ押出機にてペレット化した。このペレットについて下記の「樹脂特性評価法」と「安定性の評価法」に従い評価した結果を第３表に示す。なお、安定性の評価のうち耐金属老化性については、別の試験片を作製し評価した。
【００９１】
次に、得られたプロピレン系ランダム共重合体のペレットを三菱重工製７５ｍｍφ押出機を用い、Ｔダイ出口における樹脂温度２４３℃、チルロール温度４０℃、引取速度１２５ｍ/ ｍｉｎの条件にて膜厚３０μｍのフィルムに成形した。得られたフィルムについて、下記の「フィルム品質の評価法」に従い評価した結果を第３表に示す。
【００９２】
「樹脂特性評価法」
▲１▼13Ｃ−ＮＭＲによるα及びＰの測定
13Ｃ−ＮＭＲのスペクトルは日本電子社製のＪＮＭ−ＥＸ４００型ＮＭＲ装置を使用し、以下の条件にて測定した。
ＮＭＲ測定条件
試料濃度：２２０ｍｇ／ＮＭＲ溶媒３ミリリットル
ＮＭＲ溶媒：１，２，４−トリクロルベンゼン／ベンゼン−ｄ６＝９０／１０（体積比）
測定温度：１３０℃
パルス幅：４５°
パルス繰り返し時間：４秒
積算回数：４，０００回
得られたプロピレン系ランダム共重合体の各シグナルの帰属を第１表に示す。なお、Ｐはプロピレン単位、Ｅはエチレン単位を示す。したがって、ＰＰＰは、プロピレン単位が３個連続していることを、また、ＥＥＥは、エチレン単位が３個連続していることを示している。
【００９３】
【表１】
【００９４】
プロピレン系ランダム共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）は各シグナル強度から次式に従い算出した。
α＝２Ｘ／（３００―Ｘ）
Ｘ＝（Ｅｔ／Ｓ）×１００
Ｅｔ＝ＩEEE ＋2/3 （ＩPEE ＋ＩEPE ）＋1/3 （ＩPPE ＋ＩPEP ）
Ｓ＝ＩEPE ＋ＩPPE ＋ＩEEE ＋ＩPPP ＋ＩPEE ＋ＩPEP
ＩEPE ＝Ｉ(4) ＩPPP ＝Ｉ(8)
ＩPPE ＝Ｉ(5) ＩPEE ＝Ｉ(9)
ＩEEE ＝Ｉ(7) ／２＋Ｉ(6) ／４ ＩPEP ＝Ｉ(10)
但し、例えばＩ(1) は表１におけるシグナル番号１のシグナル強度である。
また、立体規則性指標（Ｐ（モル％））は次式から算出した。
Ｐ＝｛Ｉ(11)／（Ｉ(11 ）＋Ｉ(12)＋Ｉ(13)−Ｉ(4) −Ｉ(5))｝×１００
このＰ値は共重合体分子鎖のプロピレン連鎖領域におけるトライアッド単位のアイソタクチック分率である。なお、この式においてはｍｒ領域に現れるＰＰＥ連鎖の中央のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度をＴβδ（５番のシグナル）のシグナル強度により、ｒｒ領域に現れるＥＰＥ連鎖中のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度をＴδδ（４番のシグナル）のシグナル強度により代用している。
【００９５】
▲２▼昇温分別クロマトグラフ（ＴＲＥＦ）
温度１３５℃に調節したＴＲＥＦカラムに試料溶液を導入し、次いで速度５℃／ｈｒにて徐々に０℃まで降温し、試料を充填剤に吸着させる。その後カラムを速度４０℃／ｈｒにて１３５℃まで昇温し、溶出曲線を得た。
以下に測定装置、及び測定条件を示す。
１）測定装置
ＴＲＥＦカラム：ＧＬサイエンス社製シリカゲルカラム（４．６φ×１５０ｍｍ）
フローセル：ＧＬサイエンス社製 光路長 １ｍｍ ＫＢｒセル
送液ポンプ：センシュウ科学社製 ＳＳＣ−３１００ポンプ
バルブオーブン：ＧＬサイエンス社製 ＭＯＤＥＬ５５４オーブン
ＴＲＥＦオーブン：ＧＬサイエンス社製
二系列温調器：理学工業社製 ＲＥＸ−Ｃ１００温調器
検出器：液体クロマトグラフィー用赤外検出器
ＦＯＸＢＯＲＯ社製 ＭＩＲＡＮ １Ａ ＣＶＦ
１０方バルブ：バルコ社製 電動バルブ
ループ：バルコ社製 ５００μリットルループ
２）測定条件
溶媒：オルトジクロルベンゼン
試料濃度：７．５ｇ／リットル
注入量：５００μリットル
ポンプ流量：２．０ミリリットル／分
検出波数：３．４１μｍ
カラム充填剤：クロモソルブＰ（３０〜６０メッシュ）
カラム温度分布：±２．０℃以内
【００９６】
▲３▼示差走査型熱量計（ＤＳＣ）による共重合体の融点Ｔｍ（℃）
パーキンエルマー社製のＤＳＣ７型示差走査型熱量計を用いて測定した。あらかじめ試料１０ｍｇを窒素雰囲気化２３０℃で３ｍｉｎ溶融した後、１０℃／ｍｉｎで２０℃まで降温する。この温度で３ｍｉｎ保持した後、１０℃／ｍｉｎで昇温させて得られた融解吸熱曲線の最大ピークのピークトップ温度を融点とした。
【００９７】
▲４▼共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出量Ｅ（重量％）
１ｍｍφメッシュパスの大きさに粉砕したペレットを円筒ろ紙に３ｇ、抽出溶剤のジエチルエーテルを平底フラスコに１６０ｍｌ入れ、リフラックス頻度を１回／５ｍｉｎ程度にして１０時間のソックスレー抽出を行う。抽出終了後、ロータリーエバポレーターによりジエチルエーテルを回収し、さらに真空乾燥器により恒量になるまで乾燥し沸騰ジエチルエーテル抽出量とした。
▲５▼メルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）
ＪＩＳ Ｋ ７２１０に従い、温度２３０℃、荷重２，１６０ｇで測定した。
【００９８】
「安定性の評価法」
（１）プロセス安定性
最初の溶融混練で得られたペレットのＭＩ（ＭＩ0 ）と、そのペレットを２０ｍｍ単軸混練押出機２７０℃にて更に３回混練造粒して得られたペレットのＭＩ（ＭＩ3 ）の比ＭＩ3 ／ＭＩ0 で比較評価を行った。
（２）発錆防止性
良く研磨した軟鋼板に厚さ５ｍｍのスペーサーを介してペレットを乗せ、２５０℃に加熱したプレス機で３０ｋｇ／ｃｍ2 、３０分間保持した。その後冷却プレスし、鋼板より試料剥取り、鋼板は２５℃、相対湿度１００％に保った容器中に１週間放置した。鋼板表面の発錆状態を標準板（発錆度０〜４）と比較し、評価した。発錆度０は錆なし、発錆度４は全面に非常に発錆した状態を示す。発錆度１以下なら実用上問題ない。
（３）耐金属老化性
樹脂組成物１００重量部に対して、市販の銅粉を０．５重量部配合した混合物を２０ｍｍφ単軸押出機により２００℃にて溶融混練し、次いで成形温度２００℃のプレス成形により厚み１ｍｍ、幅１０ｍｍ、長さ８０ｍｍの試験片を１０本作製した。得られた試験片を１５０℃、空気雰囲気中のギヤオーブン中に試験片の一方を吊るして入れ、試験片１０本中５本が劣化により割れるまでの時間を測定し、この時間を耐金属老化性の指標にした。
なお、安定性の評価のうち耐金属老化性については、別の試験片を作成し評価した。
【００９９】
「フィルム品質の評価法」
製膜したフィルムは全て温度４０℃にて２４時間のアニール処理を行い、更に温度２３±２℃、湿度５０±１０％で１６時間以上の状態調節した後に同じ温度、湿度条件下で測定を行った。
【０１００】
▲１▼ヒートシール温度
ＪＩＳ Ｚ １７０７に準拠して測定した。具体的には表面温度計により較正されたヒートシールバーにより以下の条件にてシールし、室温で一昼夜放置した後、室温で剥離速度を２００ｍｍ/ ｍｉｎにしたＴ型剥離法により剥離強度を測定した。ヒートシール温度は剥離強度が３００ｇ/ １５ｍｍになる温度と定義し、シール温度―剥離強度曲線から計算により求めた。
シール条件
シール面：金属ロール面／金属ロール面
シール面積：１５×１０ｍｍ
シール圧力：２．０Ｋｇ/ ｃｍ2
シール時間：１秒
シール温度：ヒートシール温度を内挿できるように数点
【０１０１】
▲２▼アンチブロッキング性
２枚のフィルムについて、一枚の金属ロール面ともう一枚の反金属ロール面とを以下の条件にて密着させ、１０×１０ｃｍの治具にそれぞれを固定し、１０×１０ｃｍの面積の密着強度を以下の条件の引剥試験により測定した。
密着条件
その１：温度６０℃、３時間、荷重３６ｇ/ ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
その２：温度５０℃、７日間、荷重１５ｇ/ ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
引剥試験条件
テストスピード：２０ｍｍ/ ｍｉｎ
ロードセル：２Ｋｇ
【０１０２】
▲３▼スリップ性
フィルムを張ったスレットを、フィルムを張ったガラス板の上に静置した後、ガラス板を傾けてゆき、スレットが滑り出したときのガラス板の傾き角θのｔａｎで評価した。測定には東洋精機製作所製の摩擦角測定器を使用した。以下に条件を示す。
測定面：金属ロール面／金属ロール面
傾斜速度：２．７°/ ｓｅｃ
スレッド重量：１Ｋｇ
スレッド断面積：６５ｃｍ2
面間圧力：１５ｇ/ ｃｍ2
【０１０３】
▲４▼透明性（ヘイズ）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に従い測定した。
▲５▼耐衝撃性
東洋精機製作所製のフィルムインパクトテスターにおいて１／２インチ衝撃頭を用いた衝撃破壊強度により評価した。
▲６▼引張弾性率
ＪＩＳ Ｋ ７１２７に準拠した引張試験により以下の条件にて測定した。
クロスヘッド速度：５００ｍｍ/ ｍｉｎ
ロードセル：１０Ｋｇ
測定方向：マシン方向（ＭＤ）
【０１０４】
〔実施例１５〕
重合装置内のエチレン濃度を２．５モル％、水素濃度を５．０モル％に、添加剤処方を第２表に示したものに変え三菱重工製７５ｍｍφ押出機を用い、Ｔダイ出口における樹脂温度２６５℃、チルロール温度２５℃、引取速度１５０ｍ/ ｍｉｎの条件にて膜厚３０μｍのフィルムに成形した以外は、実施例１２と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０５】
〔実施例１６〕
重合装置内のエチレン濃度を７．５モル％、水素濃度を１２．２モル％に変えた以外は、実施例１２と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０６】
〔比較例１〕
固体触媒成分の調製において、接触反応温度を１２５℃から１１０℃に変更し、さらに反応後１２５℃脱水ｎ−ヘプタンを用いて洗浄する行程を８０℃脱水ｎ−ヘプタンを用いるように変更した以外は、実施例１２と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０７】
〔比較例２〕
固体触媒成分の調製において、接触反応温度を１２５℃から１１０℃に変更し、さらに反応後１２５℃脱水ｎ−ヘプタンを用いて洗浄する行程を８０℃脱水ｎ−ヘプタンを用いるように変更したこと、酸化防止剤、発錆防止剤を使用しなかったこと以外は、実施例１５と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０８】
【表２】
【０１０９】
【表３】
【０１１０】
【表４】
【０１１１】
【表５】
【０１１２】
なお、実施例と比較例に使用した添加剤は下記の通りである。
Ａ１：テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（イルガノックス１０１０，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，フェノール系酸化防止剤）
Ａ２：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル）ホスファイト（イルガフォス１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，リン系酸化防止剤）
Ａ３：３，３’−チオプロピオン酸ジミリスチル（ＤＭＴＰ「ヨシトミ」，吉富ファインケミカル社製、イオウ系酸化防止剤）
Ａ４：２，５，７，８−テトラメチル−２（４’，８’，１２’−トリメチルトリトリデシル）クマロン−６−オール（イルガノックスＥ２０１，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，トコフェロール系酸化防止剤）
Ａ５：５，７−ジ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（ＨＰ−１３６，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，ラクトン系酸化防止剤）
【０１１３】
Ｂ１：ステアリン酸カルシウム（カルシウムステアレートＧ，日本油脂社製，高級脂肪酸金属塩）
Ｂ２：Ｍｇ4.5 Ａｌ12（ＯＨ）13ＣＯ3 ・３．５Ｈ2 Ｏ（ＤＨＴ−４Ａ，協和化学社製，複化合物）
Ｂ３：酸化カルシウム（アルカリ土類金属化合物）
Ｂ４：乳酸カルシウム（乳酸金属塩）
Ｃ１：Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン（イルガノックスＭＤ１０２４，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
Ｄ１：１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（パーカドックス１４Ｒ，化薬アクゾ社製）
Ｅ１：エルカ酸アミド（ニュートロンＳ，日本精化社製）
Ｆ１：シリカゲル（サイリシア５５０，富士シリシア社製）
【０１１４】
【表６】
【０１１５】
【表７】
【０１１６】
【表８】
【０１１７】
【表９】
【０１１８】
（注）
＊１：アンチブロッキング性評価の密着条件
温度６０℃、３時間、荷重３６ｇ／ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
＊２：アンチブロッキング性評価の密着条件
温度５０℃、７時間、荷重１５ｇ／ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
第３表において、ほぼ同じアンチブロッキング性，ヘイズ，フィルムインパクト，引張弾性率を示す実施例１〜１４と比較例１を比較すると、本発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物は、ヒートシール温度が低く、ヒートヒール性に優れていることがわかる。同様に、実施例１５と比較例２との比較においても同様なことが言える。また、実施例１〜１６と比較例２との比較から、酸化防止剤，発錆防止剤を使用することにより安定性も改良されていることは明らかである。
【０１１９】
【発明の効果】
本発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物は、安定性に優れているとともに、比較的広い分子量分布及び組成分布を有しながら、かつべとつき成分が少ないという特徴を有するので、ポリプロピレンが本来有する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なうことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね備えたフィルムを得ることができ、また、製膜速度を高速化しても品質の低下が極めて小さいフィルムを製造することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムに関するものであり、さらに詳しくはプロピレンとエチレンとのプロピレン系二元ランダム共重合体組成物、及びそれを成形したフィルムに関するものである。このフィルムはラミネートや共押出した積層フィルムの少なくとも一層の構成成分として好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】
結晶性プロピレン系重合体組成物のフィルムはその優れた剛性、透明性、及び防湿性等を活かして広く包装用フィルムとして使用されている。包装用フィルムはしばしば袋状に加工して使用されているが、フィルムを袋状に加工し内容物を充填した後に袋口を閉じる一連の操作は、通常加熱した棒により圧締してフィルム同士を溶融接着するヒートシールと呼ばれる操作により行われている。近年これら一連の製袋、包装工程は生産性向上のため大型製膜機による高速製膜化が図られており、ヒートシール性に優れた素材の開発が強く要望されている。またこれら二次加工工程を円滑に行うため、包装用フィルムにはスリップ性、アンチブロッキング性が優れていることが必須の特性として要求されている。
【０００３】
しかし、プロピレン単独重合体のフィルムは、ヒートシールするには高い温度で、かつ長い時間の圧締が必要であるという欠点を有する。そこでこの欠点を改良する目的でエチレンや１―ブテン、及びその他のα―オレフィンとプロピレンとの共重合が広く行われてきた。
しかしながら、チーグラーナッタ触媒を用いてプロピレン系重合体を製造するる従来技術においては、充分なヒートシール性改良効果を得るために多量のエチレンや１―ブテン、及びその他のα―オレフィン等のコモノマーを共重合する必要があった。また、これらのコモノマーはしばしば低分子量成分に集中して含まれており、結晶性に乏しく、べとつきの原因成分（以下べとつき成分と呼ぶ）になっていた。そのため、ポリプロピレンフィルム本来の特徴である剛性が大きく低下したり、フィルム同士がブロッキングして二次加工に支障をきたしたり、ブリード白化による外観不良を起こしたりして実用に耐えるものとはならなかった。
【０００４】
この欠点を改良するため従来技術においては、べとつき成分を不活性溶剤中に溶解し、除去する試みが行われてきた。しかしながら、べとつき成分を効率的に洗い落とし、かつヒートシール性に寄与する低温融解成分が洗浄により減少するのを抑制することは非常に困難であり、工業的に満足のいくものではなかった。
一方、近年いわゆるメタロセン系触媒によるプロピレン系重合体の適用が盛んに検討されている。メタロセン系触媒による重合体は分子量分布や組成分布が極めて狭いことが特徴である。ところが、成形安定性を保持したり、成形体に幾つもの相反する物性を持たせたりするためには分子量分布や組成分布を逆に広げた方が良いことが指摘されており、メタロセン系触媒によるプロピレン系重合体の組成物がいろいろと提案されている。しかしながら、工業的に満足のいく方法によって用途、成形法に合わせた樹脂特性の重合体を自由に得ることは未だにできていない状況である。
また、プロピレン系重合体は加工安定性、耐熱老化性、耐腐食性などの安定性をさらに向上させる必要もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記観点からなされたもので、ポリプロピレンのフィルムが本来有する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なうことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね備えたフィルムを得ることができ、また製膜速度を高速化してもフィルム品質の低下が極めて小さく、さらには、安定性が向上したプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムを提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決しようとする手段】
本出願人は、チーグラーナッタ触媒に関し、重合活性の経時的な低下が小さく、高活性、高立体規則性を発現するオレフィン重合体製造用触媒成分、オレフィン重合体製造用触媒及びオレフィン重合体の製造方法を見出した（特願平１０−７１７５２号）。
【０００７】
そこで本発明者らは、前記の触媒成分を用いて製造して得たプロピレン系重合体のフィルム物性を鋭意検討した結果、その中でプロピレン系ランダム共重合体に、酸化防止剤又は発錆防止剤を配合した組成物が上記の発明目的を非常に高いレベルで満足することを見出し、本発明を完成させるに到った。
すなわち、本発明は以下のプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムを提供するものである。
１．（ｉ）プロピレンとエチレンのランダム共重合体であって、下記の▲１▼〜▲３▼の条件を満たすプロピレン系ランダム共重合体に、（ｉｉ）酸化防止剤及び発錆防止剤から選ばれる少なくとも一種の化合物を配合してなるプロピレン系ランダム共重合体組成物。
▲１▼13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）が０．２〜１０重量％であり、
▲２▼昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ−５）℃〜（Ｔｐ＋５）℃の温度範囲において溶出する量Ｗｐ（重量％）が２０重量％以上であり、
▲３▼昇温分別クロマトグラフの０℃以下の温度範囲において溶出する量Ｗ０（重量％）とαが下記式（１）の関係を満たす。
Ｗ０ ≦ （３＋２α）／４ ・・・（１）
２．（ｉｉ）成分の配合量が合計で、（ｉ）成分１００重量部に対して０．００５〜２重量部である上記１記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
３．さらに、（ｉｉｉ）重金属不活性化剤及び／又は（ｉｖ）ラジカル発生剤を配合してなる上記１又は２に記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
４．（ｉ）成分において、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した共重合体の融点Ｔｍ（℃）とαが、下記式（２）の関係を満たす上記１〜３のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
Ｔｍ ≦ １６０―５α ・・・（２）
５．（ｉ）成分において、昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ＋５）℃以上の温度範囲において溶出する量ＷH （重量％）とαが下記式（３）の関係を満たす上記１〜４のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
０．１ ≦ ＷH ≦ ３α ・・・（３）
６．（ｉ）成分において、共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量Ｅ（重量％）が２．５重量％以下であり、かつＥとαが下記式（４）の関係を満たす上記１〜５のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
Ｅ ≦ （２α＋１５）／１０ ・・・（４）
【０００８】
７．（ｉ）成分において、メルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）が０．１〜２００ｇ／１０ｍｉｎである上記１〜６のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
８．（ｉ）成分において、13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中の立体規則性指標Ｐ（モル％）が９８モル％以上である上記１〜７のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
９．（ｉ）成分において、αが３〜７重量％である上記１〜８のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
１０．（ｉｉ）成分のうち酸化防止剤が、フェノール系、リン系、イオウ系、ビタミン系又はラクトン系の化合物である上記１〜９のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
１１．（ｉｉ）成分のうち発錆防止剤が、高級脂肪酸金属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アルキル乳酸又は乳酸金属塩の化合物である上記１〜１０のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
１２．上記１〜１１のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物からなるフィルム。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明について詳細に説明する。
本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、プロピレンとエチレンのランダム共重合体であって、下記の▲１▼〜▲３▼の条件を満たす。
【００１０】
▲１▼13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）が０．２〜１０重量％である。
好ましくは０．５〜９重量％、より好ましくは１〜８重量％、最も好ましくは３〜７重量％である。
エチレン単位の含有量が少なすぎると、ヒートシール性の改良効果が望めない。またエチレン単位の含有量が多すぎると、フィルムの剛性が満足できないものになり好ましくない。
【００１１】
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した共重合体の融点Ｔｍ（℃）とαが下記式（２）の関係を満たしていることが好ましく、
Ｔｍ ≦ １６０―５α ・・・（２）
より好ましくは、
Ｔｍ ≦ １６０―６α ・・・（５）
を満たしている場合である。
この関係を満たしていない場合は、ヒートシール性が不充分になり易く、またアンチブロッキング性の低いものになる場合がある。
【００１２】
▲２▼昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ−５）℃〜（Ｔｐ＋５）℃の温度範囲において溶出する量Ｗｐ（重量％）が２０重量％以上である。
好ましくは、
２０ ≦ Ｗｐ、かつ（８０−１５α） ≦ Ｗｐ ・・・（６）
であり、より好ましくは、
３０ ≦ Ｗｐ、かつ（９０−１２α） ≦ Ｗｐ ・・・（７）
である。
【００１３】
Ｗｐが２０重量％未満の場合は、主溶出ピークの裾が高温側及び／又は低温側に大きく伸びている場合であり、低温側の成分は製膜したフィルムをべとついたものにするので好ましくなく、高温側の成分はヒートシール性を不充分にし、透明性の成形条件依存性を大きくするので好ましくない。
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、主溶出ピークの高温側の成分が、チルロールリリースなどの成形性や剛性に寄与しているため全く無いよりもある程度の量が存在していた方が好ましく、本発明のプロピレン系ランダム共重合体は（Ｔｐ＋５）℃以上の温度範囲において溶出する量ＷH （重量％）とαが下記式（３）の関係を満たしていることが好ましい。
０．１ ≦ ＷH ≦３α ・・・（３）
さらに好ましくは、
ＷH ≦ （３α−３）、かつ（３α−１５） ≦ ＷH ・・・（８）
を満たしている場合である。
【００１４】
▲３▼昇温分別クロマトグラフの０℃以下の温度範囲において溶出する量Ｗ０（重量％）とαが下記式（１）の関係を満たす。
Ｗ０ ≦ （３＋２α）／４ ・・・（１）
好ましくは、
Ｗ０ ≦ （２＋２α）／４ ・・・（９）
を満たす。
【００１５】
Ｗ０が（１）の関係を満たさない場合、製膜したフィルムがべとついたものなり、添加剤、低分子量成分などのブリードによるトラブルが起こり易くなり好ましくない。
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量Ｅ（重量％) が２．５重量％以下であり、かつＥとαが下記式（４）の関係を満たしていることが好ましい。
Ｅ ≦ （２α＋１５）／１０ ・・・（４）
さらに好ましくは、
Ｅ ≦ （α＋５）／５ ・・・（１０）
を満たしている場合である。
【００１６】
この場合、製膜したフィルムがべとついたものにならずに好ましい。
また、本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、２３０℃、２．１６ｋｇ荷重におけるメルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）が０．１〜２００ｇ／１０ｍｉｎであることが好ましい。より好ましくは１〜４０ｇ／１０ｍｉｎであり、さらに好ましくは２〜２０ｇ／１０ｍｉｎである。メルトインデックスがこの範囲から外れると成形性に劣るものになることがある。
【００１７】
また、本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は、13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中の立体規則性指標Ｐ（モル％）が９８モル％以上であることが好ましい。より好ましくは９８．５モル％以上である。
立体規則性指標Ｐが９８モル％未満であると製膜したフィルムの剛性、アンチブロッキング性が不充分になる場合がある。
【００１８】
本発明を構成する（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体は（Ａ）マグネシウム化合物とチタン化合物とを電子供与性化合物および必要に応じてケイ素化合物の存在下、１２５℃以上１４０℃以下の温度にて接触させた後、１２０℃以上１４０℃以下の温度にて不活性溶媒により洗浄したものからなる固体触媒成分、（Ｂ）有機アルミニウム化合物および必要に応じて（Ｃ）第３成分として電子供与性化合物からなる触媒を用いてプロピレンとエチレンを共重合することにより製造することができる。
以下に、各触媒成分、調製方法、重合方法等について説明する。
【００１９】
各触媒成分
（Ａ) 固体触媒成分
固体触媒成分は、マグネシウム、チタンおよび電子供与体を含有するものであり、以下の（ａ）マグネシウム化合物、（ｂ）チタン化合物、（ｃ）電子供性化合物および必要に応じてケイ素化合物（ｄ）からなる固体触媒成分から形成されるものである。
（ａ）マグネシウム化合物
マグネシウム化合物としては、特に制限はないが、一般式（Ｉ）
ＭｇＲ1 Ｒ2 ・・・（Ｉ）
で表されるマグネシウム化合物を好ましく用いることができる。
【００２０】
上記の一般式（Ｉ）において、Ｒ1 およびＲ2 は、炭化水素基、ＯＲ3 基（Ｒ3 は炭化水素基）またはハロゲン原子を示す。ここで、Ｒ1 およびＲ2 の炭化水素基としては、炭素数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ＯＲ3 基としては、Ｒ3 が炭素数１〜１２個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等を挙げることができる。また、Ｒ1 およびＲ2 は、同一でも異なってもよい。
【００２１】
上記の一般式（Ｉ）で示されるマグネシウム化合物の具体例としては、ジメチルマグネシウム，ジエチルマグネシウム，ジイソプロピルマグネシウム，ジブチルマグネシウム，ジヘキシルマグネシウム，ジオクチルマグネシウム，エチルブチルマグネシウム，ジフェニルマグネシウム，ジシクロヘキシルマグネシウム等のアルキルマグネシウム，アリールマグネシウム；ジメトキシマグネシウム，ジエトキシマグネシウム，ジプロポキシマグネシウム，ジブトキシマグネシウム，ジヘキシロキシマグネシウム，ジオクトキシマグネシウム，ジフェノキシマグネシウム，ジシクロヘキシロキシマグネシウム等のアルコキシマグネシウム，アリロキシマグネシウム；エチルマグネシウムクロリド，ブチルマグネシウムクロリド，ヘキシルマグネシウムクロリド，イソプロピルマグネシウムクロリド，イソブチルマグネシウムクロリド，ｔ−ブチルマグネシウムクロリド，フェニルマグネシウムブロミド，ベンジルマグネシウムクロリド，エチルマグネシウムブロミド，ブチルマグネシウムブロミド，フェニルマグネシウムクロリド，ブチルマグネシウムイオダイド等のアルキルマグネシウムハライド，アリールマグネシウムハライド；ブトキシマグネシウムクロリド，シクロヘキシロキシマグネシウムクロリド，フェノキシマグネシウムクロリド，エトキシマグネシウムブロミド，ブトキシマグネシウムブロミド，エトキシマグネシウムイオダイド等のアルコキシマグネシウムハライド，アリロキシマグネシウムハライド；塩化マグネシウム，臭化マグネシウム，ヨウ化マグネシウム等のハロゲン化マグネシウム等を挙げることができる。
【００２２】
これらのマグネシウム化合物の中でも、重合活性および立体規則性の面から、マグネシウムハライド、アルコキシマグネシウム、アルキルマグネシウム、アルキルマグネシウムハライドが好適に使用できる。
上記のマグネシウム化合物は、金属マグネシウム、またはマグネシウムを含有する化合物から調製することができる。
【００２３】
一例としては、金属マグネシウムにハロゲン及びアルコールを接触させる方法を挙げることができる。
ここで、ハロゲンとしては、ヨウ素，塩素，フッ素，臭素を挙げることができる。アルコールとしては、メタノール，エタノール，プロパノール，ブタノール，シクロヘキサノール，オクタノール等を挙げることができる。
【００２４】
また、他の一例として、Ｍｇ（ＯＲ4 ）2 で表されるマグネシウムアルコキシ化合物（式中、Ｒ4 は、炭素数１〜２０の炭化水素基を示す。）にハロゲン化物を接触する方法を挙げることができる。
そのハロゲン化物としては、四塩化ケイ素，四臭化ケイ素，四塩化スズ，四臭化スズ，塩化水素等が挙げることができる。これらの中では、重合活性及び立体規則性の面から、四塩化ケイ素が好ましい。上記のＲ4 としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ヘキシル基，オクチル基，シクロヘキシル基等のアルキル基；プロペニル基，ブテニル基等のアルケニル基；フェニル基，トリル基，キシリル基等のアリール基；フェネチル基，３−フェニルプロピル基等のアラルキル基などを挙げることができる。
【００２５】
さらに、マグネシウム化合物は、シリカ，アルミナ，ポリスチレンなどの支持体に担持されていてもよい。
以上のマグネシウム化合物は単独でもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。また、ヨウ素などのハロゲン、珪素、アルミニウムなどの他の元素を含有していてもよく、アルコール、エーテル、エステル類などの電子供与体を含有してもよい。
【００２６】
（ｂ）チタン化合物
チタン化合物としては、特に制限はないが、一般式（II）
ＴｉＸ1 p （ＯＲ5 ）4-p ・・・（II）
で表されるチタン化合物を好ましく用いることができる。
上記の一般式（II）において、Ｘ1 はハロゲン原子を示し、その中でも塩素原子および臭素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。Ｒ5 は炭化水素基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであってもよく、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどのヘテロ原子を含むものであってもよい。好ましくは炭素数１〜１０個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基およびアラルキル基などが好ましく、直鎖または分岐鎖のアルキル基が特に好ましい。ＯＲ5 が複数存在する場合にはそれらは互いに同じでも異なってもよい。Ｒ5 の具体例としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−デシル基，アリル基，ブテニル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基，シクロヘキセニル基，フェニル基，トリル基，ベンジル基，フェネチル基などを挙げることができる。ｐは０〜４の整数を示す。
【００２７】
上記の一般式（II）で示されるチタン化合物の具体例としては、テトラメトキシチタン，テトラエトキシチタン，テトラ−ｎ−プロポキシチタン，テトライソプロポキシチタン，テトラ−ｎ−ブトキシチタン，テトライソブトキシチタン，テトラシクロヘキシロキシチタン，テトラフェノキシチタン等のテトラアルコキシチタン；四塩化チタン，四臭化チタン，四ヨウ化チタン等のテトラハロゲン化チタン；メトキシチタントリクロリド，エトキシチタントリクロリド，プロポキシチタントリクロリド，ｎ−ブトキシチタントリクロリド，エトキシチタントリブロミド等のトリハロゲン化アルコキシチタン；ジメトキシチタンジクロリド，ジエトキシチタンジクロリド，ジイソプロポキシチタンジクロリド，ジ−ｎ−プロポキシチタンジクロリド，ジエトキシチタンジブロミド等のジハロゲン化ジアルコキシチタン；トリメトキシチタンクロリド，トリエトキシチタンクロリド，トリイソプロポキシチタンクロリド，トリ−ｎ−プロポキシチタンクロリド，トリ−ｎ−ブトキシチタンクロリド等のモノハロゲン化トリアルコキシチタンなどを挙げることができる。これらの中で、重合活性の面から、高ハロゲン含有チタン化合物、特に四塩化チタンが好ましい。これらのチタン化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
（ｃ）電子供与性化合物
電子供与性化合物としては、アルコール類、フェノール類、ケトン類、アルデヒド類、有機酸もしくは無機酸のエステル類、モノエーテル、ジエーテルもしくはポリエーテル等のエーテル類等の含酸素電子供与性化合物や、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアネート等の含窒素電子供与性化合物を挙げることができる。これらの中では、多価カルボン酸のエステル類が好ましく、さらに好ましくは、芳香族多価カルボン酸のエステル類である。重合活性の面から、特に芳香族ジカルボン酸のモノエステルおよび／またはジエステルが好ましい。また、エステル部の有機基が直鎖、分岐または環状の脂肪族炭化水素が好ましい。
【００２９】
具体的には、ジカルボン酸のジアルキルエステルを挙げることができる。その場合、ジカルボン酸として、フタル酸、ナフタレン−１, ２−ジカルボン酸、ナフタレン−２，３−ジカルボン酸、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２，３−ジカルボン酸、インダン−４，５−ジカルボン酸、インダン−５，６−ジカルボン酸等を挙げることができる。また、アルキル基として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、２−メチルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシル、２−エチルヘキシル、３−エチルヘキシル、４−エチルヘキシル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−エチルペンチル、３−エチルペンチル等を挙げることができる。これらの中では、フタル酸ジエステル類が好ましく、また、エステル部の有機基の炭素数が４個以上の直鎖または分岐の脂肪族炭化水素が好ましい。
この具体例としては、フタル酸ジ−ｎ−ブチル，フタル酸ジイソブチル，フタル酸ジ−ｎ−ヘプチル，フタル酸ジエチルなどを好ましく挙げることができる。
また、これらの化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３０】
（ｄ）ケイ素化合物
固体触媒成分の調製に、前記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）成分に加えて、場合により（ｄ）成分として、下記の一般式（III)
Ｓｉ（ＯＲ6 ）q Ｘ2 4-q ……（III)
（Ｒ5 は炭化水素基、Ｘ2 はハロゲン原子、ｑは０〜３の整数を示す。）
で表されるケイ素化合物を用いることができる。ケイ素化合物を用いることにより、触媒活性および立体規則性の向上ならびに生成ポリマー中の微粉量の低減が図れることがある。
【００３１】
上記の一般式（III)において、Ｘ2 はハロゲン原子を示し、これらの中で塩素原子および臭素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。Ｒ6 は炭化水素基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであってもよく、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどのヘテロ原子を含むものであってもよい。好ましくは炭素数１〜１０個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基およびアラルキル基などが好ましい。ＯＲ6 が複数存在する場合にはそれらは互いに同じでも異なってもよい。Ｒ6 の具体例としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−ヘプチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−デシル基，アリル基，ブテニル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基，シクロヘキセニル基，フェニル基，トリル基，ベンジル基，フェネチル基などが挙げることができる。ｑは０〜３の整数を示す。
【００３２】
上記の一般式（III)で示されるケイ素化合物の具体例としては、四塩化ケイ素，メトキシトリクロロシラン，ジメトキシジクロロシラン，トリメトキシクロロシラン，エトキシトリクロロシラン，ジエトキシジクロロシラン，トリエトキシクロロシラン，プロポキシトリクロロシラン，ジプロポキシジクロロシラン，トリプロポキシクロロシランなどを挙げることができる。これらの中で特に四塩化ケイ素が好ましい。これらのケイ素化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３３】
（Ｂ）有機アルミニウム化合物
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体の製造に用いられる（Ｂ）有機アルミニウム化合物としては、特に制限はないが、アルキル基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキシ基を有するもの、アルミノキサンおよびそれらの混合物を好ましく用いることができる。具体的には、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムモノクロリド，ジイソプロピルアルミニウムモノクロリド，ジイソブチルアルミニウムモノクロリド，ジオクチルアルミニウムモノクロリド等のジアルキルアルミニウムモノクロリド；エチルアルミニウムセスキクロリド等のアルキルアルミニウムセスキハライド；メチルアルミノキサン等の鎖状アルミノキサン等を挙げることができる。これらの有機アルミニウム化合物の中では、炭素数１〜５個の低級アルキル基を有するトリアルキルアルミニウム、特にトリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリプロピルアルミニウムおよびトリイソブチルアルミニウムが好ましい。また、これらの有機アルミニウム化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
（Ｃ）第３成分（電子供与性化合物）
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造するには、（Ｃ）電子供与性化合物が用いられる。この（Ｃ）電子供与性化合物としては、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物、窒素含有化合物、リン含有化合物、酸素含有化合物を用いることができる。このうち、重合活性および立体規則性の面から、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物、エーテル類およびエステル類を用いることが好ましく、特にＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
【００３５】
このＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン，テトラエトキシシラン，テトラブトキシシラン，テトライソブトキシシラン，トリメチルメトキシシラン，トリメチルエトキシシラン，トリエチルメトキシシラン，トリエチルエトキシシラン，エチルイソプロピルジメトキシシラン，プロピルイソプロピルジメトキシシラン，ジイソプロピルジメトキシシラン，ジイソブチルジメトキシシラン，イソプロピルイソブチルジメトキシシラン，ジ−ｔ−ブチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルメチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルエチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルプロピルジメトキシシラン，ｔ−ブチルイソプロピルジメトキシシラン，ｔ−ブチルブチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルイソブチルジメトキシシラン，ｔ−ブチル（ｓ−ブチル）ジメトキシシラン，ｔ−ブチルアミルジメトキシシラン，ｔ−ブチルヘキシルジメトキシシラン，ｔ−ブチルヘプチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルオクチルジメトキシシラン，ｔ−ブチルノニルジメトキシシラン，ｔ−ブチルデシルジメトキシシラン，ｔ−ブチル（３，３，３−トリフルオロメチルプロピル）ジメトキシシラン，シクロヘキシルメチルジメトキシシラン，シクロヘキシルエチルジメトキシシラン，シクロヘキシルプロピルジメトキシシラン，シクロペンチル−ｔ−ブチルジメトキシシラン，シクロヘキシル−ｔ−ブチルジメトキシシラン，ジシクロペンチルジメトキシシラン，ジシクロヘキシルジメトキシシラン，ビス（２−メチルシクロペンチル）ジメトキシシラン，ビス（２，３−ジメチルシクロペンチル）ジメトキシシラン，ジフェニルジメトキシシラン，フェニルトリエトキシシラン，メチルトリメトキシシラン，エチルトリメトキシシラン，プロピルトリメトキシシラン，イソプロピルトリメトキシシラン，ブチルトリメトキシシラン，イソブチルトリメトキシシラン，ｔ−ブチルトリメトキシシラン，ｓ−ブチルトリメトキシシラン，アミルトリメトキシシラン，イソアミルトリメトキシシラン，シクロペンチルトリメトキシシラン，シクロヘキシルトリメトキシシラン，ノルボルナントリメトキシシラン，インデニルトリメトキシシラン，２−メチルシクロペンチルトリメトキシシラン，シクロペンチル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，イソプロピル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，ｔ−ブチル（イソブトキシ）ジメトキシシラン，ｔ−ブチル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，テキシルトリメトキシシラン，テキシルイソプロポキシジメトキシシラン，テキシル（ｔ−ブトキシ）ジメトキシシラン，テキシルメチルジメトキシシラン，テキシルエチルジメトキシシラン，テキシルイソプロピルジメトキシシラン，テキシルシクロペンチルジメトキシシラン，テキシルミリスチルジメトキシシラン，テキシルシクロヘキシルジメトキシシランなどを挙げることができる。
また、有機ケイ素化合物として下記の一般式（IV)
【００３６】
【化１】
（式中、Ｒ7 〜Ｒ9 は水素原子または炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ10及びＲ11は炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ12及びＲ13は炭素数が１〜２０のアルキル基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよい。ｍは２以上の整数であり、ｎは２以上の整数である。）
で表されるものを用いることができる。
【００３８】
上記の一般式（IV）において、具体的には、Ｒ7 〜Ｒ9 としては、水素原子，メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基，イソブチル基，ｔ−ブチル基，テキシル基等の分岐状炭化水素基、シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル基，ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基が挙げられる。これらのうち、好ましくは水素、炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくは水素、メチル基、エチル基である。
【００３９】
Ｒ10およびＲ11としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピル基，イソブチル基，ｔ−ブチル基，テキシル基等の分岐状炭化水素基、シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル基，ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基が挙げられる。また、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これらのうち、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基である。
【００４０】
Ｒ12およびＲ13としては、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔ−ブチル基，ｎ−ペンチル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−オクチル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基が挙げられる。また、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これらのうち、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくはメチル基である。
【００４１】
上記の一般式（IV）で示されるケイ素化合物の好ましい化合物としては具体的に、ネオペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ブチルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ヘキシルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ヘプチルジメトキシシラン，イソブチルｎ−プロピルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ブチルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ヘキシルジメトキシシラン，イソブチルｎ−ヘプチルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルプロピルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルブチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルヘキシルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロヘキシルヘプチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルプロピルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルブチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルヘキシルｎ−プロピルジメトキシシラン，２−シクロペンチルヘプチルｎ−プロピルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ブチルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ヘキシルジメトキシシラン，イソペンチルｎ−ヘプチルジメトキシシラン，イソペンチルイソブチルジメトキシシラン，イソペンチルネオペンチルジメトキシシラン，ジイソペンチルジメトキシシラン，ジイソヘプチルジメトキシシラン，ジイソヘキシルジメトキシシランなどを挙げることができる。
【００４２】
特に好ましい化合物の具体例としては、ネオペンチルｎ−プロピルジメトキシシラン，ネオペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，イソペンチルネオペンチルジメトキシシラン，ジイソペンチルジメトキシシラン，ジイソヘプチルジメトキシシラン，ジイソヘキシルジメトキシシランが挙げられ、さらに好ましい化合物の具体例としては、ネオペンチルｎ−ペンチルジメトキシシラン，ジイソペンチルジメトキシシランを挙げることができる。
上記の一般式（IV）で示されるケイ素化合物は、任意の方法によって合成することができる。代表的な合成経路は、下記のとおりである。
【００４３】
【化２】
この合成経路において、原料化合物〔１〕は市販されているか、または公知のアルキル化、ハロゲン化等により得ることができる。化合物〔１〕に対して、公知のグリニャール反応により、一般式（IV）で表される有機ケイ素化合物を得ることができる。
上記有機ケイ素化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
窒素含有化合物の具体例としては、２，６−ジイソプロピルピペリジン，２，６−ジイソプロピル−４−メチルピペリジン，Ｎ−メチル２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの２，６−置換ピペリジン類；２，５−ジイソプロピルアゾリジン，Ｎ−メチル２，２，５，５−テトラメチルアゾリジンなどの２，５−置換アゾリジン類；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルメチレンジアミン，Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類；１，３−ジベンジルイミダゾリジン，１，３−ジベンジル−２−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリジン類等を挙げることができる。
【００４６】
リン含有化合物の具体例としては、トリエチルホスファイト、トリｎ−プロピルホスファイト、トリイソプロピルホスファイト、トリｎ−ブチルホスファイト、トリイソブチルホスファイト、ジエチルｎ−ブチルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイトなどの亜リン酸エステル類等を挙げることができる。
酸素含有化合物の具体例としては、２，２，６，６−テトラメチルテトラヒドロフラン，２，２，６，６−テトラエチルテトラヒドロフランなどの２，６−置換テトラヒドロフラン類；１，１−ジメトキシ−２，３，４，５−テトラクロロシクロペンタジエン，９，９−ジメトキシフルオレン，ジフェニルジメトキシメタンなどのジメトキシメタン誘導体等を挙げることができる。
【００４７】
固体触媒成分の調製
前記（Ａ）の固体触媒成分の調製方法としては、上記の（ａ）マグネシウム化合物、（ｂ）チタン化合物、（ｃ）電子供与性化合物、および必要に応じて（ｄ）ケイ素化合物を、温度を除き通常の方法で接触させればよく、接触手順については特に問わない。例えば、各成分を炭化水素などの不活性溶媒の存在下で接触させてもよいし、予め炭化水素などの不活性溶媒で各成分を希釈して接触させてもよい。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デカン、エチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素またはこれらの混合物を挙げることができる。
【００４８】
ここで、チタン化合物は、上記のマグネシウム化合物のマグネシウム１モルに対して、通常、０．５〜１００モル、好ましくは、１〜５０モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分となることがある。また、上記の電子供与体は、上記のマグネシウム化合物のマグネシウム１モルに対して、通常、０．０１〜１０モル、好ましくは、０．０５〜１．０モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性や立体規則性が不十分となることがある。さらに、ケイ素化合物を用いるときは、上記のマグネシウム化合物のマグネシウム１モルに対して、通常、０．００１〜１００モル、好ましくは、０．００５〜５．０モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮されず、かつ生成ポリマー中の微粉量が多くなることがある。
【００４９】
上記の（ａ）〜（ｄ）成分の接触は、全成分を加えた後、１２５〜１４０℃の温度範囲にて行う。この接触温度が前記範囲外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮されない。また、接触は、通常、１分〜２４時間、好ましくは、１０分〜６時間行われる。このときの圧力は、溶媒を使用する場合はその種類、接触温度などにより、その範囲は変化するが、通常、０〜５０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ、好ましくは０〜１０ｋｇ／ｃｍ2Ｇの範囲にて行う。また、接触操作中は、接触の均一性および接触効率の面から攪拌を行うことが好ましい。
【００５０】
さらに、チタン化合物の接触を２回以上行い、触媒担体としての役割をするマグネシウム化合物に十分担持させることが好ましい。
接触操作において溶媒を使用するときは、チタン化合物１モルに対して、通常、５，０００ミリリットル以下、好ましくは、１０〜１，０００ミリリットルの溶媒を使用する。この比が前記範囲を逸脱すると接触の均一性や接触効率が悪化することがある。
【００５１】
以上の接触で得られた固体触媒成分は、１２０〜１４０℃の温度にて不活性溶媒で洗浄する。この洗浄温度が上記範囲外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮されない。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、テトラクロロエタン、クロロフルオロ炭素類などのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物を挙げることができる。これらのなかでは、脂肪族炭化水素が好ましく使用される。
【００５２】
洗浄方法としては、特に制限はないが、デカンテーション、濾過などの方式が好ましい。不活性溶媒の使用量、洗浄時間、洗浄回数についても特に制限はないが、マグネシウム化合物１モルに対して、通常、１００〜１００，０００ミリリットル、好ましくは、１０００〜５０，０００ミリリットルの溶媒を使用し、通常、１分〜２４時間、好ましくは、１０分〜６時間行われる。この比が前記範囲を逸脱すると洗浄が不完全になることがある。
【００５３】
このときの圧力は、溶媒の種類、洗浄温度などにより、その範囲は変化するが、通常、０〜５０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、好ましくは、０〜１０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇの範囲にて行う。また、洗浄操作中は、洗浄の均一性および洗浄効率の面から攪拌を行うことが好ましい。
なお、得られた固体触媒成分は、乾燥状態または炭化水素などの不活性溶媒中で保存することもできる。
【００５４】
重合方法
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造する際の触媒成分の使用量については、特に制限はないが、前記（Ａ）成分の固体触媒成分は、チタン原子に換算して、反応容積１リットル当たり、通常０．００００５〜１ミリモルの範囲になるような量が用いられ、（Ｂ）成分の有機アルミニウム化合物は、アルミニウム／チタン原子比が通常１〜１０００、好ましくは１０〜５００の範囲になるような量が用いられる。この原子比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分となることがある。また、（Ｃ）第３成分として有機ケイ素化合物等の電子供与性化合物を用いるときは、（Ｃ）電子供与性化合物／（Ｂ）有機アルミニウム化合物モル比が、通常０．００１〜５．０、好ましくは０．０１〜２．０、より好ましくは０．０５〜１．０の範囲になるような量が用いられる。このモル比が前記範囲を逸脱すると十分な触媒活性および立体規則性が得られないことがある。ただし、予備重合を行う場合は、さらに低減することができる。
【００５５】
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体の重合においては、重合活性、立体規則性および重合体パウダー形態の面から、所望に応じ、先ずオレフィンの予備重合を行ったのち、本重合を行ってもよい。この場合、前記（Ａ）固体触媒成分、（Ｂ）有機アルミニウム化合物および必要に応じて（Ｃ）電子供与性化合物を、それぞれ所定の割合で混合してなる触媒の存在下に、オレフィンを通常１〜１００℃の範囲の温度において、常圧ないし５０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ程度の圧力で予備重合させ、次いで触媒と予備重合生成物との存在下に、プロピレンとコモノマーであるエチレンを本重合させる。
【００５６】
予備重合に用いられるオレフィンとしては、一般式（Ｖ）
Ｒ14−ＣＨ＝ＣＨ2 ・・・（Ｖ）
で表されるα−オレフィンが好ましい。
上記の一般式（Ｖ）において、Ｒ14は水素原子または炭化水素基であって、炭化水素基は飽和基や不飽和基であってもよい。具体的にはエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキサン、ブタジエン、イソプレン、ピペリレン等を挙げることができる。これらのオレフィンは１種用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。前記オレフィンの中で、特にエチレン、プロピレンが好適である。
【００５７】
この本重合における重合形式については特に制限はなく、溶液重合、スラリー重合、気相重合、バルク重合等のいずれにも適用可能であり、さらに、回分式重合や連続重合のどちらにも適用可能であり、異なる条件での２段階重合や多段重合にも適用可能である。
さらに、反応条件については、その重合圧は、特に制限はなく、重合活性の面から、通常、大気圧〜８０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、好ましくは２〜５０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは、２０〜９０℃、さらに好ましくは、４０〜９０℃の範囲で適宜選ばれる。重合時間は原料のプロピレンとエチレンの重合温度によって左右され一概に定めることができないが、通常、５分〜２０時間、好ましくは、１０分〜１０時間程度である。プロピレンとエチレンの混合比は、重合温度、圧力などにより左右され一概に定めることができないが、通常、エチレンが０．１〜２０モル％、好ましくは１〜１５モル％程度である。
【００５８】
分子量は、連鎖移動剤の添加、好ましくは水素の添加を行うことで調節することができる。また、窒素等の不活性ガスを存在させてもよい。
異なる重合条件で、２段階以上にわたって重合することもできる。
また、本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造する重合においては、前記触媒成分については、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分とを所定の割合で混合し、接触させたのち、ただちにプロピレンとエチレンを導入して重合をおこなってもよいし、接触後、０．２〜３時間程度熟成させたのち、プロピレンとエチレンを導入して重合を行ってもよい。さらに、この触媒成分は不活性溶媒やプロピレンなどに懸濁して供給することができる。
【００５９】
本発明の（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体においては、重合後の後処理は常法により行うことができる。すなわち、気相重合法においては、重合後、重合器から導出されるポリマー粉体に、その中に含まれるオレフィンなどを除くために、窒素気流などを通過させてもよいし、また、所望に応じて押出機によりペレット化してもよく、その際、触媒を完全に失活させるために、少量の水、アルコールなどを添加することもできる。また、バルク重合法においては、重合後、重合器から導出されるポリマーから完全にモノマーを分離したのち、ペレット化することができる。
【００６０】
次に、（ｉ）成分のプロピレン系ランダム共重合体に配合される（ｉｉ）成分の添加剤と、必要に応じて配合される（ｉｉｉ）成分、（ｉｖ）成分の添加剤について説明する。
（ｉｉ）成分
（ｉｉ）成分のうち、酸化防止剤については、特に限定されないが、フェノール系、リン系、イオウ系、トコフェロール系、ラクトン系の酸化防止剤から好適に選択することができる。
【００６１】
フェノール系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているフェノール系の酸化防止剤を使用できる。
具体的には、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−アミル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−オクチル−４−ｎ−プロピルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−ｎ−オクチルフェノール、２−イソプロピル−４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−２−エチル−６−ｔ−オクチルフェノール、２−イソブチル−４−エチル−６−ｔ−ヘキシルフェノール、２−シクロヘキシル−４−ｎ−ブチル−６−イソプロピルフェノール、ｄｌ−α−トコフェロール、ｔ−ブチルヒドロキノン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオビス（４−メチブル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−クレゾール］、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデンビス（２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、トリス（４−ｔ−ブチル−２，６−ジメチル−３−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）テレフタレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−（β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、２，２−ビス［４−（２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ））エトキシフェニル］プロパン、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステルなどを挙げることができる。
【００６２】
これらの中では、β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステル、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ｄｌ−α−トコフェロール、トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルべンジル）イソシアヌレート、トリス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンが好ましい。
【００６３】
また、フェノール系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばイルガノクス１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガノクス３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ３１２５、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、ＢＨＴ（武田薬品工業社、商標）、シアノクス１７９０（Ｃｙａｎｏｘ１７９０、サイアナミド社、商標）、スミライザーＧＡ−８０（ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０、住友化学社、商標）などを挙げることができる。
【００６４】
リン系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているリン系の酸化防止剤を使用できる。
具体的には、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ12〜Ｃ15混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルジホスファィト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスフアイト、水素化−４，４’−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス［４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）］・１，６−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニル・４，４’−イソプロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔ−ブチルフェノール）］ホスファイト、フェニル・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔ−ブチルフェノール）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９，１０−ジ−ヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）・エチルホスファイト、２−［｛２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ（Ｄ，Ｆ）（１，３，２）−ジオキサホスフェフィン−６−イル｝オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス〔［｛２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ（Ｄ，Ｆ）（１，３，２）−ジオキサホスフェフィン−６−イル｝オキシ］エチル〕エタンアミンなどを挙げることができる。
また、ビス（ジアルキルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトエステルは下記一般式（VI）
【００６５】
【化３】
【００６６】
【化４】
で示されるケージ型ものも使用できる。通常はこのようなホスファイトエステルを製造する方法から生じる経済的理由のために両異性体の混合物を最も多く使用できる。
ここで、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17は、水素または炭素原子数１〜９のアルキル基、特に分枝のあるアルキル基、なかでもｔ−ブチル基が好ましく、またフェニル基におけるその置換位置は２，４，６位が最も好ましい。好適なホスファイトエステルは、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェエル）ベンタエリスリトールジホスファイト等であり、また炭素とリンとが直接結合した構造を持つホスフォナイト、例えばテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスフォナイトなどの化合物も挙げることができる。
【００６８】
リン系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばイルガフォス１６８（Ｉｒｇａｆｏｓ１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガフォス１２（Ｉｒｇａｆｏｓ１２、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、イルガフォス３８（Ｉｒｇａｆｏｓ３８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標）、アデカスタブ３２９Ｋ（ＡＤＫＳＴＡＢ３２９Ｋ、旭電化社、商標）、ＰＥＰ３６（ＰＥＰ３６、旭電化社、商標）、ＰＥＰ−８（ＰＥＰ−８、旭電化社、商標）、Ｓａｒｄｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（クラリアント社、商標）、ウエストン６１８（Ｗｅｓｔｏｎ ６１８、ＧＥ社、商標）、ウエストン６１９Ｇ（Ｗｅｓｔｏｎ ６１９Ｇ、ＧＥ社、商標）、ウエストン−６２４（Ｗｅｓｔｏｎ−６２４、ＧＥ社、商標）などを挙げることができる。
【００６９】
その他に、リン系酸化防止剤として、特開平１０−５３５９５号公報，特開平１０−１０１６８７号公報，特開平１０−１１４７８４号公報，特開平１０−１２０６９１号公報，特開平１０−１２０６９３号公報，特開平１０−１２０６９４号公報，特開平１０−１５２４９４号公報，特開平１０−１５２４９６号公報，特開平１０−１５８２８３号公報，特開平１０−１５８２８５号公報，特開平１０−１８２６７５号公報，特開平１０−２５９１９０号公報，特開平１０−２５９１９３号公報，特開平１０−２７３４９３号公報，特開平１０−２７３４９４号公報，特開平１０−２９８３４８号公報に記載のものも好適に使用することができる。
【００７０】
イオウ系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているイオウ系の酸化防止剤を使用できる。
具体的には、ジラウリルチオジプロピオネート，ジミリスチルチオジプロピオネート，ジステアリルチオジプロピオネート等のジアルキルチオジプロピオネート、ブチルチオプロピオン酸、オクチルチオプロピオン酸、ラウリルチオプロピオン酸、ステアリルチオプロピオン酸等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネート）などを挙げることができる。
【００７１】
イオウ系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばＤＳＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、ＤＬＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、ＤＬＴＯＩＢ（吉富社、商標）、ＤＭＴＰ（ヨシトミ）（吉富社、商標）、Ｓｅｅｎｏｘ ４１２Ｓ（シプロ化成社、商標）、Ｃｙａｎｏｘ １２１２（サイアナミド社、商標）などを挙げることができる。
【００７２】
トコフェロール系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているトコフェロール系の酸化防止剤を使用できる。具体的には、酢酸ｄ−α−トコフェロール，コハク酸ｄ−α−トコフェロール，ｄ−α−トコフェロール，ｄ−β−トコフェロール，ｄ−γ−トコフェロール，ｄ−δ−トコフェロール，ｄ−α−トコトリエノール，ｄ−β−トコフェトリエノール，ｄ−γ−トコフェトリエノール，ｄ−δ−トコフェトリエノール等の天然品、ｄｌ−α−トコフェロール，酢酸ｄｌ−α−トコフェロール，コハク酸ｄｌ−α−トコフェロールカルシウム，ニコチン酸ｄｌ−α−トコフェロール等の合成品を挙げることができる。
【００７３】
トコフェロール系酸化防止剤としては市販品を使用することもでき、例えばトコフェロール（エーザイ社製），イルガノクスＥ２０１（ＩｒｇａｎｏｘＥ２０１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標、化合物名；２，５，７，８−テトラメチル−２（４’，８’，１２’−トリメチルトリデシル）クマロン−６−オール）などを挙げることができる。
【００７４】
ラクトン系酸化防止剤としては、従来から酸化防止剤として使用されているラクトン系の酸化防止剤を使用できる。例えば、特開平７−２３３１６０号公報、特開平７−２４７２７８号公報に記載されているものを使用できる。また、ＨＰ−１３６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社、商標、化合物名；５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン）などの市販品も使用できる。
【００７５】
（ｉｉ）成分のうち、発錆防止剤については、特に限定されないが、高級脂肪酸金属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アルキル乳酸金属塩、乳酸金属塩の化合物から好適に選択することができる。
高級脂肪酸金属塩として、炭素数８〜２３の脂肪酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を挙げることができる。脂肪酸として、ラウリル酸，ミリスチン酸，パルミチン酸，ステアリン酸，オレイン酸，リノール酸，リノレイン酸を挙げることができ、これらの脂肪酸と塩をつくる金属として、カリウム，ナトリウム，カルシウム，バリウム，マグネシウム，アルミニウムを挙げることができる。
【００７６】
複化合物は、下記一般式（VIII）
Ｍx Ａｌy （ＯＨ）2x+3y-2z（Ａ）z ・ａＨ2 Ｏ ・・・（VIII）
（ＭはＭｇ、ＣａまたはＺｎを示し、ＡはＣＯ3 又はＨＰＯ4 を示し、ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは０又は正数を示す。）
で表される化合物である。具体的には、Ｍｇ6 Ａｌ2 （ＯＨ）16ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ8 Ａｌ2 （ＯＨ）20ＣＯ3 ・５Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ5 Ａｌ2 （ＯＨ）14ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ10Ａｌ2 （ＯＨ）22（ＣＯ3 ）2 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｍｇ6 Ａｌ2 （ＯＨ）16ＨＰＯ4 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｃａ6 Ａｌ2 ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏ，Ｚｎ6 Ａｌ6 （ＯＨ）16ＣＯ3 ・４Ｈ2 Ｏなどを挙げることができる。また、特開平７−３１６３５４号公報（Ｍｇ，Ｚｎ，Ａｌ含有化合物），特公平７−２８５８号公報（Ａｌ，Ｌｉ含有化合物）に記載された化合物も使用できる。
【００７７】
アルカリ金属化合物として、酸化ナトリウム，酸化カリウム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，アルミン酸ソーダ，ケイ酸ソーダ，炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどを挙げることができる。
アルカリ土類化合物として、酸化カルシウム，酸化マグネシウム，水酸化カルシウム，水酸化マグネシウム，炭素カルシウムなどを挙げることができる。
【００７８】
アルキル乳酸金属塩は、重合度２の乳酸（２−ラクチル乳酸）とステアリン酸エステル化反応物（ステアリル乳酸）のカルシウム塩を主成分とし、これと少量の関連酸類との塩との混合物であるステアリル酸カルシウムが主に使用できる。
乳酸金属塩としては、乳酸カルシウムが一般的であるが、乳酸バリウム，乳酸亜鉛，乳酸マグネシウム等も使用できる。
【００７９】
上記（ｉｉ）成分の配合量は、（ｉ）成分の結晶性ポリプロピレン１００重量部に対して、好ましくは０．００５〜２重量部、さらに好ましくは０．０１〜１重量部、特に好ましくは０．０２〜０．５重量部である。量が少なすぎると、加工安定性，耐熱老化性，耐腐食性等の安定性の向上効果が十分にでない場合があり、量が多すぎると、量に見合った安定性の向上効果がでない場合があり、また引張強度などが低下する場合がある。
【００８０】
（ｉｉｉ）成分
本発明の組成物においては、必要により重金属不活性化剤を併用することによって、耐重金属性（耐金属老化性）を改善することができる。
重金属不活性化剤として、具体的には、ベンゾトリアゾール、２，４，６−トリアミノ−１，３，５−トリアジン、３，９−ビス［２−（３，５−ジアミノ−２，４，６−トリアザフェニル）エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、エチレンジアミン−テトラアセチックアシッド、エチレンジアミン−テトラアセチックアシッドのアルカリ金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）塩、Ｎ，Ｎ’−ジサリシリデン−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジサリシリデン−１，２−プロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ”−ジサリシリデン−Ｎ’−メチル−ジプロピレントリアミン、３−サリシロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、デカメチレンジカルボキシリックアシッド−ビス（Ｎ’−サリシロイルヒドラジド）、ニッケル−ビス（１−フェニル−３−メチル−４−デカノイル−５−ピラゾレート）、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ’，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、オキサリックアシッド−ビス（ベンジリデンヒドラジド）、チオジプロピオニックアシッド−ビス（ベンジリデンヒドラジド）、イソフタリックアシッド−ビス（２−フェノキシプロピオニルヒドラシド）、ビス（サリシロイルヒドラジン）、Ｎ−サリシリデン−Ｎ’−サリシロイルヒドラゾン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、トリス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］ホスファイト、ビス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］ペンタエリスリトール−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−１，６−ヘキサメチレン−ビス（Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルセミカルバジド）ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−１，１０−デカメチレン−ジ−カルボキシリックアシッド−ジ−ヒドロキシエチルカルボニルヒドラジド−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−１，１０−デカメチレン−ジ−カルボキシリックアシッド−ジ−サリシロイルヒドラジド−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−ジ（ヒドロキシエチルカルボニル）ヒドラジド−ジホスファイト、テトラキス［２−ｔ−ブチル−４−チオ（２’−メチル−４’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−メチルフェニル］−Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド−ジホスファイト、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］オキサミド等を挙げることができる。
【００８１】
上記（ｉｉｉ）成分は、単独で使用しても、二種以上組み合わせて使用してもよく、その配合量は、（ｉ）成分の結晶性ポリプロピレン１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量部である。量が少なすぎると、耐重金属性の向上効果が十分にでない場合があり、量が多すぎると、量に見合った耐重金属性の向上効果がでない場合があり、また引張強度などが低下する場合がある。
【００８２】
（ｉｖ）成分
本発明の組成物においては、必要によりラジカル発生剤を併用することによって、樹脂組成物の流動性を改善することができる。
ラジカル発生剤として、具体的には、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ｔ−ブチルパーアセテート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ヘンゾイルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ヘンゾイルパーオキシ）ヘキシン−３、ｔ−ブチル−ジ−パーアジペート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルヘキサノエート、メチル−エチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジキュミルパーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルキュミルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジ−イソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ｐ−サイメンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラ−メチルブチルハイドロパーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ハイドロパーオキシ）ヘキサン、トリメチルシリル−キュミルパーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ビス（トリメチルシリルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ビス（トリメチルシリルパーオキシ）ヘキシン−３、１，３−ビス（トリメチルシリルパーオキシイソプロピル）ベンゼン等を挙げることができる。
【００８３】
上記（ｉｖ）成分は、単独で使用しても、二種以上組み合わせて使用してもよく、その配合量は、（ｉ）成分の結晶性ポリプロピレン１００重量部に対して、好ましくは０．００１〜０．５重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．２重量部である。量が少なすぎると、流動性改良効果が十分にでない場合があり、量が多すぎると、成形加工が困難となる場合があり、また引張強度などが低下する場合がある。
【００８４】
本願の第二発明であるフィルムは、前記のプロピレン系ランダム共重合体を用いて製膜したフィルムである。フィルムを製造する方法には特に制限はなく、通常のＴダイキャスト製膜法等が用いられる。すなわち、前記のプロピレン系ランダム共重合体のパウダーに必要に応じて各種の添加剤を処方し、混練機にて押出し造粒し、ペレット化し、Ｔダイキャスト製膜することができる。通常、本発明のプロピレン系ランダム共重合体を用いて、Ｔダイキャスト製膜法により、引取速度が５０ｍ／ｍｉｎまたはこれ以上の高速製膜条件においても、厚みが１０〜５００μｍのフィルムを得ることができる。また、前述の好ましい特性を有することから、共押出製膜法による積層フィルムの製造に際して、その少なくとも一層成分として好適に使用できる。製膜法は、大型製膜機により高速製膜が実施されるＴダイキャスト製膜法が好ましいが、特にこれに限らず、溶融押出成形法によりフィルムを製造できる方法であれば、どのような製膜法でもよい。
【００８５】
なお、本発明のフィルムは、所望に応じ前記プロピレン系ランダム共重合体組成物に、帯電防止剤や防曇剤などの表面機能用添加剤、アンチブロッキング剤、耐候剤、滑剤、造核剤、着色剤、無滴剤、難燃剤、難燃助剤、抗菌剤、無機又は有機充填剤などの公知の添加剤を配合して樹脂組成物を調製した上で製造してもよい。
【００８６】
【実施例】
以下、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら制限されるものではない。
〔実施例１〜１４〕
（マグネシウム化合物の調製）
攪拌機付反応層（内容積８０リットル）を窒素ガスで十分に置換し、脱水エタノール２０リットル、金属マグネシウム１．０６ｋｇ及びヨウ素１０６ｇを投入し、攪拌しながら還流条件下で系内から水素ガスの発生が無くなるまで反応させ、固体状反応生成物を得た。この固体状反応生成物を含む反応物を減圧乾燥することにより目的のマグネシウム化合物（固体触媒の担体）を得た。
【００８７】
（固体触媒成分の調製）
窒素で置換した攪拌機付反応層（内容積８０リットル）に前記マグネシウム化合物４．０ｋｇを投入し、さらに、脱水処理したｎ−ヘプタンを２０リットル加えた。４０℃に加熱し四塩化珪素６００ミリリットルを加え、２０分攪拌し、ジ−ｎ−ブチルフタレートを８５０ミリリットル加えた。溶液を７０℃まで昇温し、引き続き四塩化チタンを１９．２５リットル投入した。内温を１２５℃とし２時間接触反応させた。その後、１２５℃の脱水ｎ−ヘプタンを用いて充分洗浄を行った。さらに四塩化チタンを３０．５０リットル加え、内温を１２５℃とし２時間接触反応させた。その後１２５℃の脱水ｎ−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い固体成分［Ａ］を得た。
【００８８】
（予備重合）
窒素で置換した攪拌機付反応層（内容積８０リットル）に固体成分［Ａ］を１．０ｋｇを投入し、さらに脱水処理したｎ−ヘプタンを８．４リットル加えた。４０℃に加熱しトリエチルアルミニウム４３ミリリットルとジシクロペンチルジメトキシシランを１１６ミリリットル加えた。これにプロピレンを常圧で流通させ2 時間反応させた。その後、固体成分を脱水ｎ−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い触媒成分を得た。
【００８９】
（重合）
内容積２００リットルの攪拌器付重合槽に前記の固体触媒成分を成分中のチタン原子換算で３ミリモル／ｋｇ−ＰＰで、トリエチルアルミニウムを４ミリモル／ｋｇ−ＰＰで、ジシクロペンチルジメトキシシランを１ミリモル／ｋｇ−ＰＰでそれぞれ供給し、重合温度８０℃、重合圧力（全圧）２８ｋｇ／ｃｍ2 Ｇでプロピレンとエチレンを反応させた。重合装置内のエチレン濃度を５．０モル％，水素濃度を８．５モル％として重合を行い、その結果、２重量％のエチレン含有量及びＭ．Ｉが７．１のプロピレン系ランダム共重合体を得た。
【００９０】
（ペレット化及び製膜）
プロピレン系ランダム共重合体のパウダーに、第２表に示した添加剤を配合し、東芝機械（株）のＭｏｄｅｌ３５Ｂ押出機にてペレット化した。このペレットについて下記の「樹脂特性評価法」と「安定性の評価法」に従い評価した結果を第３表に示す。なお、安定性の評価のうち耐金属老化性については、別の試験片を作製し評価した。
【００９１】
次に、得られたプロピレン系ランダム共重合体のペレットを三菱重工製７５ｍｍφ押出機を用い、Ｔダイ出口における樹脂温度２４３℃、チルロール温度４０℃、引取速度１２５ｍ/ ｍｉｎの条件にて膜厚３０μｍのフィルムに成形した。得られたフィルムについて、下記の「フィルム品質の評価法」に従い評価した結果を第３表に示す。
【００９２】
「樹脂特性評価法」
▲１▼13Ｃ−ＮＭＲによるα及びＰの測定
13Ｃ−ＮＭＲのスペクトルは日本電子社製のＪＮＭ−ＥＸ４００型ＮＭＲ装置を使用し、以下の条件にて測定した。
ＮＭＲ測定条件
試料濃度：２２０ｍｇ／ＮＭＲ溶媒３ミリリットル
ＮＭＲ溶媒：１，２，４−トリクロルベンゼン／ベンゼン−ｄ６＝９０／１０（体積比）
測定温度：１３０℃
パルス幅：４５°
パルス繰り返し時間：４秒
積算回数：４，０００回
得られたプロピレン系ランダム共重合体の各シグナルの帰属を第１表に示す。なお、Ｐはプロピレン単位、Ｅはエチレン単位を示す。したがって、ＰＰＰは、プロピレン単位が３個連続していることを、また、ＥＥＥは、エチレン単位が３個連続していることを示している。
【００９３】
【表１】
プロピレン系ランダム共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）は各シグナル強度から次式に従い算出した。
α＝２Ｘ／（３００―Ｘ）
Ｘ＝（Ｅｔ／Ｓ）×１００
Ｅｔ＝ＩEEE ＋2/3 （ＩPEE ＋ＩEPE ）＋1/3 （ＩPPE ＋ＩPEP ）
Ｓ＝ＩEPE ＋ＩPPE ＋ＩEEE ＋ＩPPP ＋ＩPEE ＋ＩPEP
ＩEPE ＝Ｉ(4) ＩPPP ＝Ｉ(8)
ＩPPE ＝Ｉ(5) ＩPEE ＝Ｉ(9)
ＩEEE ＝Ｉ(7) ／２＋Ｉ(6) ／４ ＩPEP ＝Ｉ(10)
但し、例えばＩ(1) は表１におけるシグナル番号１のシグナル強度である。
また、立体規則性指標（Ｐ（モル％））は次式から算出した。
Ｐ＝｛Ｉ(11)／（Ｉ(11 ）＋Ｉ(12)＋Ｉ(13)−Ｉ(4) −Ｉ(5))｝×１００
このＰ値は共重合体分子鎖のプロピレン連鎖領域におけるトライアッド単位のアイソタクチック分率である。なお、この式においてはｍｒ領域に現れるＰＰＥ連鎖の中央のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度をＴβδ（５番のシグナル）のシグナル強度により、ｒｒ領域に現れるＥＰＥ連鎖中のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度をＴδδ（４番のシグナル）のシグナル強度により代用している。
【００９５】
▲２▼昇温分別クロマトグラフ（ＴＲＥＦ）
温度１３５℃に調節したＴＲＥＦカラムに試料溶液を導入し、次いで速度５℃／ｈｒにて徐々に０℃まで降温し、試料を充填剤に吸着させる。その後カラムを速度４０℃／ｈｒにて１３５℃まで昇温し、溶出曲線を得た。
以下に測定装置、及び測定条件を示す。
１）測定装置
ＴＲＥＦカラム：ＧＬサイエンス社製シリカゲルカラム（４．６φ×１５０ｍｍ）
フローセル：ＧＬサイエンス社製 光路長 １ｍｍ ＫＢｒセル
送液ポンプ：センシュウ科学社製 ＳＳＣ−３１００ポンプ
バルブオーブン：ＧＬサイエンス社製 ＭＯＤＥＬ５５４オーブン
ＴＲＥＦオーブン：ＧＬサイエンス社製
二系列温調器：理学工業社製 ＲＥＸ−Ｃ１００温調器
検出器：液体クロマトグラフィー用赤外検出器
ＦＯＸＢＯＲＯ社製 ＭＩＲＡＮ １Ａ ＣＶＦ
１０方バルブ：バルコ社製 電動バルブ
ループ：バルコ社製 ５００μリットルループ
２）測定条件
溶媒：オルトジクロルベンゼン
試料濃度：７．５ｇ／リットル
注入量：５００μリットル
ポンプ流量：２．０ミリリットル／分
検出波数：３．４１μｍ
カラム充填剤：クロモソルブＰ（３０〜６０メッシュ）
カラム温度分布：±２．０℃以内
【００９６】
▲３▼示差走査型熱量計（ＤＳＣ）による共重合体の融点Ｔｍ（℃）
パーキンエルマー社製のＤＳＣ７型示差走査型熱量計を用いて測定した。あらかじめ試料１０ｍｇを窒素雰囲気化２３０℃で３ｍｉｎ溶融した後、１０℃／ｍｉｎで２０℃まで降温する。この温度で３ｍｉｎ保持した後、１０℃／ｍｉｎで昇温させて得られた融解吸熱曲線の最大ピークのピークトップ温度を融点とした。
【００９７】
▲４▼共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出量Ｅ（重量％）
１ｍｍφメッシュパスの大きさに粉砕したペレットを円筒ろ紙に３ｇ、抽出溶剤のジエチルエーテルを平底フラスコに１６０ｍｌ入れ、リフラックス頻度を１回／５ｍｉｎ程度にして１０時間のソックスレー抽出を行う。抽出終了後、ロータリーエバポレーターによりジエチルエーテルを回収し、さらに真空乾燥器により恒量になるまで乾燥し沸騰ジエチルエーテル抽出量とした。
▲５▼メルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）
ＪＩＳ Ｋ ７２１０に従い、温度２３０℃、荷重２，１６０ｇで測定した。
【００９８】
「安定性の評価法」
（１）プロセス安定性
最初の溶融混練で得られたペレットのＭＩ（ＭＩ0 ）と、そのペレットを２０ｍｍ単軸混練押出機２７０℃にて更に３回混練造粒して得られたペレットのＭＩ（ＭＩ3 ）の比ＭＩ3 ／ＭＩ0 で比較評価を行った。
（２）発錆防止性
良く研磨した軟鋼板に厚さ５ｍｍのスペーサーを介してペレットを乗せ、２５０℃に加熱したプレス機で３０ｋｇ／ｃｍ2 、３０分間保持した。その後冷却プレスし、鋼板より試料剥取り、鋼板は２５℃、相対湿度１００％に保った容器中に１週間放置した。鋼板表面の発錆状態を標準板（発錆度０〜４）と比較し、評価した。発錆度０は錆なし、発錆度４は全面に非常に発錆した状態を示す。発錆度１以下なら実用上問題ない。
（３）耐金属老化性
樹脂組成物１００重量部に対して、市販の銅粉を０．５重量部配合した混合物を２０ｍｍφ単軸押出機により２００℃にて溶融混練し、次いで成形温度２００℃のプレス成形により厚み１ｍｍ、幅１０ｍｍ、長さ８０ｍｍの試験片を１０本作製した。得られた試験片を１５０℃、空気雰囲気中のギヤオーブン中に試験片の一方を吊るして入れ、試験片１０本中５本が劣化により割れるまでの時間を測定し、この時間を耐金属老化性の指標にした。
なお、安定性の評価のうち耐金属老化性については、別の試験片を作成し評価した。
【００９９】
「フィルム品質の評価法」
製膜したフィルムは全て温度４０℃にて２４時間のアニール処理を行い、更に温度２３±２℃、湿度５０±１０％で１６時間以上の状態調節した後に同じ温度、湿度条件下で測定を行った。
【０１００】
▲１▼ヒートシール温度
ＪＩＳ Ｚ １７０７に準拠して測定した。具体的には表面温度計により較正されたヒートシールバーにより以下の条件にてシールし、室温で一昼夜放置した後、室温で剥離速度を２００ｍｍ/ ｍｉｎにしたＴ型剥離法により剥離強度を測定した。ヒートシール温度は剥離強度が３００ｇ/ １５ｍｍになる温度と定義し、シール温度―剥離強度曲線から計算により求めた。
シール条件
シール面：金属ロール面／金属ロール面
シール面積：１５×１０ｍｍ
シール圧力：２．０Ｋｇ/ ｃｍ2
シール時間：１秒
シール温度：ヒートシール温度を内挿できるように数点
【０１０１】
▲２▼アンチブロッキング性
２枚のフィルムについて、一枚の金属ロール面ともう一枚の反金属ロール面とを以下の条件にて密着させ、１０×１０ｃｍの治具にそれぞれを固定し、１０×１０ｃｍの面積の密着強度を以下の条件の引剥試験により測定した。
密着条件
その１：温度６０℃、３時間、荷重３６ｇ/ ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
その２：温度５０℃、７日間、荷重１５ｇ/ ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
引剥試験条件
テストスピード：２０ｍｍ/ ｍｉｎ
ロードセル：２Ｋｇ
【０１０２】
▲３▼スリップ性
フィルムを張ったスレットを、フィルムを張ったガラス板の上に静置した後、ガラス板を傾けてゆき、スレットが滑り出したときのガラス板の傾き角θのｔａｎで評価した。測定には東洋精機製作所製の摩擦角測定器を使用した。以下に条件を示す。
測定面：金属ロール面／金属ロール面
傾斜速度：２．７°/ ｓｅｃ
スレッド重量：１Ｋｇ
スレッド断面積：６５ｃｍ2
面間圧力：１５ｇ/ ｃｍ2
【０１０３】
▲４▼透明性（ヘイズ）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に従い測定した。
▲５▼耐衝撃性
東洋精機製作所製のフィルムインパクトテスターにおいて１／２インチ衝撃頭を用いた衝撃破壊強度により評価した。
▲６▼引張弾性率
ＪＩＳ Ｋ ７１２７に準拠した引張試験により以下の条件にて測定した。
クロスヘッド速度：５００ｍｍ/ ｍｉｎ
ロードセル：１０Ｋｇ
測定方向：マシン方向（ＭＤ）
【０１０４】
〔実施例１５〕
重合装置内のエチレン濃度を２．５モル％、水素濃度を５．０モル％に、添加剤処方を第２表に示したものに変え三菱重工製７５ｍｍφ押出機を用い、Ｔダイ出口における樹脂温度２６５℃、チルロール温度２５℃、引取速度１５０ｍ/ ｍｉｎの条件にて膜厚３０μｍのフィルムに成形した以外は、実施例１２と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０５】
〔実施例１６〕
重合装置内のエチレン濃度を７．５モル％、水素濃度を１２．２モル％に変えた以外は、実施例１２と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０６】
〔比較例１〕
固体触媒成分の調製において、接触反応温度を１２５℃から１１０℃に変更し、さらに反応後１２５℃脱水ｎ−ヘプタンを用いて洗浄する行程を８０℃脱水ｎ−ヘプタンを用いるように変更した以外は、実施例１２と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０７】
〔比較例２〕
固体触媒成分の調製において、接触反応温度を１２５℃から１１０℃に変更し、さらに反応後１２５℃脱水ｎ−ヘプタンを用いて洗浄する行程を８０℃脱水ｎ−ヘプタンを用いるように変更したこと、酸化防止剤、発錆防止剤を使用しなかったこと以外は、実施例１５と同様に行った。結果を第３表に示す。
【０１０８】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
なお、実施例と比較例に使用した添加剤は下記の通りである。
Ａ１：テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（イルガノックス１０１０，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，フェノール系酸化防止剤）
Ａ２：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル）ホスファイト（イルガフォス１６８，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，リン系酸化防止剤）
Ａ３：３，３’−チオプロピオン酸ジミリスチル（ＤＭＴＰ「ヨシトミ」，吉富ファインケミカル社製、イオウ系酸化防止剤）
Ａ４：２，５，７，８−テトラメチル−２（４’，８’，１２’−トリメチルトリトリデシル）クマロン−６−オール（イルガノックスＥ２０１，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，トコフェロール系酸化防止剤）
Ａ５：５，７−ジ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（ＨＰ−１３６，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，ラクトン系酸化防止剤）
【０１１３】
Ｂ１：ステアリン酸カルシウム（カルシウムステアレートＧ，日本油脂社製，高級脂肪酸金属塩）
Ｂ２：Ｍｇ4.5 Ａｌ12（ＯＨ）13ＣＯ3 ・３．５Ｈ2 Ｏ（ＤＨＴ−４Ａ，協和化学社製，複化合物）
Ｂ３：酸化カルシウム（アルカリ土類金属化合物）
Ｂ４：乳酸カルシウム（乳酸金属塩）
Ｃ１：Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン（イルガノックスＭＤ１０２４，チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
Ｄ１：１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（パーカドックス１４Ｒ，化薬アクゾ社製）
Ｅ１：エルカ酸アミド（ニュートロンＳ，日本精化社製）
Ｆ１：シリカゲル（サイリシア５５０，富士シリシア社製）
【０１１４】
【表６】
【表７】
【表８】
【表９】
（注）
＊１：アンチブロッキング性評価の密着条件
温度６０℃、３時間、荷重３６ｇ／ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
＊２：アンチブロッキング性評価の密着条件
温度５０℃、７時間、荷重１５ｇ／ｃｍ2 、面積１０×１０ｃｍ
第３表において、ほぼ同じアンチブロッキング性，ヘイズ，フィルムインパクト，引張弾性率を示す実施例１〜１４と比較例１を比較すると、本発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物は、ヒートシール温度が低く、ヒートヒール性に優れていることがわかる。同様に、実施例１５と比較例２との比較においても同様なことが言える。また、実施例１〜１６と比較例２との比較から、酸化防止剤，発錆防止剤を使用することにより安定性も改良されていることは明らかである。
【０１１９】
【発明の効果】
本発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物は、安定性に優れているとともに、比較的広い分子量分布及び組成分布を有しながら、かつべとつき成分が少ないという特徴を有するので、ポリプロピレンが本来有する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なうことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね備えたフィルムを得ることができ、また、製膜速度を高速化しても品質の低下が極めて小さいフィルムを製造することができる。
Claims (12)
- （ｉ）プロピレンとエチレンのランダム共重合体であって、下記（Ａ）と（Ｂ）からなる触媒、又は下記（Ａ）と（Ｂ）と（Ｃ）からなる触媒を用いてプロピレンとエチレンを共重合することにより製造され、下記の（イ）〜（ハ）の条件を満たすプロピレン系ランダム共重合体に、（ｉｉ）酸化防止剤及び発錆防止剤から選ばれる少なくとも一種の化合物を配合してなるプロピレン系ランダム共重合体組成物。
（Ａ）マグネシウム化合物とチタン化合物と電子供与性化合物との存在下、又はマグネシウム化合物とチタン化合物と電子供与性化合物とケイ素化合物の存在下、１２５℃以上１４０℃以下の温度にて接触させた後、１２０℃以上１４０℃以下の温度にて不活性溶媒により洗浄したものからなる固体触媒成分
（Ｂ）有機アルミニウム化合物
（Ｃ）電子供与性化合物
（イ） 13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中のエチレン単位の含有量α（重量％）が０．２〜１０重量％であり、
（ロ）昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ−５）℃〜（Ｔｐ＋５）℃の温度範囲において溶出する量Ｗｐ（重量％）が２０重量％以上であり、
（ハ）昇温分別クロマトグラフの０℃以下の温度範囲において溶出する量Ｗ０（重量％））とαが下記式（１）の関係を満たす。
Ｗ０ ≦ （３＋２α）／４・・・（１） - （ｉｉ）成分の配合量が合計で、（ｉ）成分１００重量部に対して０．００５〜２重量部である請求項１記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- さらに、（ｉｉｉ）重金属不活性化剤及び／又は（ｉｖ）ラジカル発生剤を配合してなる請求項１又は２に記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- （ｉ）成分において、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した共重合体の融点Ｔｍ（℃）とαが、下記式（２）の関係を満たす請求項１〜３のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
Ｔｍ ≦ １６０―５α・・・（２） - （ｉ）成分において、昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をＴｐ（℃）としたとき、（Ｔｐ＋５）℃以上の温度範囲において溶出する量ＷH（重量％）とαが下記式（３）の関係を満たす請求項１〜４のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
０．１ ≦ ＷH ≦ ３α・・・（３） - （ｉ）成分において、共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量Ｅ（重量％）が２．５重量％以下であり、かつＥとαが下記式（４）の関係を満たす請求項１〜５のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
Ｅ ≦ （２α＋１５）／１０・・・（４） - （ｉ）成分において、メルトインデックスＭＩ（ｇ／１０ｍｉｎ）が０．１〜２００ｇ／１０ｍｉｎである請求項１〜６のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- （ｉ）成分において、13Ｃ−ＮＭＲにより測定した共重合体中の立体規則性指標Ｐ（モル％）が９８モル％以上である請求項１〜７のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- （ｉ）成分において、αが３〜７重量％である請求項１〜８のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- （ｉｉ）成分のうち酸化防止剤が、フェノール系、リン系、イオウ系、トコフェロール系又はラクトン系の化合物である請求項１〜９のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- （ｉｉ）成分のうち発錆防止剤が、高級脂肪酸金属塩、複化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、アルキル乳酸又は乳酸金属塩の化合物である請求項１〜１０のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物。
- 請求項１〜１１のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合体組成物からなるフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20529999A JP4249342B2 (ja) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20529999A JP4249342B2 (ja) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001031805A JP2001031805A (ja) | 2001-02-06 |
| JP4249342B2 true JP4249342B2 (ja) | 2009-04-02 |
Family
ID=16504671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20529999A Expired - Fee Related JP4249342B2 (ja) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4249342B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089734A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ポリプロピレン樹脂組成物 |
-
1999
- 1999-07-19 JP JP20529999A patent/JP4249342B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001031805A (ja) | 2001-02-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6287705B1 (en) | Propylene random copolymer, propylene resin composition, film of these, and multilayered propylene resin laminate | |
| KR960016863B1 (ko) | 올레핀 중합체 조성물 | |
| JP2000313777A (ja) | プロピレン系共重合体及び該共重合体を成形してなる成形体 | |
| JP4936885B2 (ja) | マグネシウム化合物、オレフィン重合用触媒及びオレフィン重合体の製造方法 | |
| KR920007040B1 (ko) | 올레핀 중합용 촉매와 그 촉매의 성분 및 그 촉매에 의한 올레핀 중합법과 그 폴리올레핀에 의한 필름 및 사출성형품 | |
| JPH0616884A (ja) | ポリプロピレン組成物及びそのフィルム | |
| US6270911B1 (en) | Propylene-based random copolymers and propylene-based resin compositions, films thereof and propylene-based resin laminates | |
| JP4414506B2 (ja) | 結晶性ポリプロピレン並びにその成形体及びフィルム | |
| JP4249342B2 (ja) | プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム | |
| JP4249326B2 (ja) | 結晶性ポリプロピレン樹脂組成物及びそれを成形してなる成形体 | |
| JP4514248B2 (ja) | プロピレン系樹脂組成物及びそのフィルム | |
| JP4249343B2 (ja) | プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム | |
| JP4503115B2 (ja) | プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム | |
| US6639038B2 (en) | Crystalline polypropylene and its moldings and films | |
| JP2001114908A (ja) | ポリプロピレン二軸延伸フィルム | |
| JP4249341B2 (ja) | 耐候性に優れたプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム | |
| JP2001019813A (ja) | プロピレン−エチレンブロック共重合体組成物及びそれを成形してなる成形体 | |
| JP2000143731A (ja) | プロピレン系ランダム共重合体及びそれからなるフィルム | |
| JP2795481B2 (ja) | ポリプロピレン射出成形体 | |
| JP2000248147A (ja) | プロピレン系樹脂組成物並びに該樹脂組成物からなる成形体及び容器 | |
| JP4172872B2 (ja) | プロピレン樹脂製スプール | |
| JP2795480B2 (ja) | ポリプロピレンフィルム | |
| WO1999061495A1 (fr) | Polypropylene cristallin et objet moule qu'il permet d'obtenir | |
| JP4798593B2 (ja) | ポリプロピレン樹脂組成物および二軸延伸フィルム | |
| JP2001058380A (ja) | プロピレン系樹脂多層積層体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040902 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060515 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060515 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080825 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081031 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090106 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090115 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120123 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130123 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140123 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |