JP2001031610A - ヒドロキシエーテルの製造法 - Google Patents
ヒドロキシエーテルの製造法Info
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
た塩等が多量に副生することなく、簡単な操作でヒドロ
キシエーテルを高収率で製造できる方法の提供。 【解決手段】 3価以上の多価アルコールとカルボニル
化合物を、水素圧が常圧から2MPaの水素雰囲気下、
パラジウム系触媒の存在下、10〜200℃で反応させ
た後、加水分解することを特徴とするヒドロキシエーテ
ルの製造法。
Description
油剤、溶剤等として有用なヒドロキシエーテルの工業的
な製造法に関する。
リルグリセリルエーテル等のヒドロキシエーテルは、乳
化作用、血球生成促進作用、抗炎症作用等を有すること
が知られている。
は、例えば(1)アルコールとエピクロロヒドリンをア
ルカリ存在下で反応させ、得られたアルキルグリシジル
エーテルを加水分解する方法、(2)アルキルグリシジ
ルエーテルとカルボニル化合物を酸触媒の存在下に反応
させて4−アルコキシメチル−1,3−ジオキソランと
し、次いでこれを加水分解する方法(特開昭56−13
3281号公報)等が知られている。
では、反応系が水と油の不均一系であるため、均一反応
が困難となり、アルキルグリシジルエーテル同志が付加
した重合物が多量に副生して収率が低下するという問題
がある。また(2)の技術は、ヒドロキシエーテルの製
造法として優れたものであるが、さらに優れた方法、す
なわち有機ハロゲン化物を使用する必要がなく、また塩
等が多量に副生することなく、簡単な操作でヒドロキシ
エーテルを高収率で製造できる方法が求められていた。
の多価アルコールとカルボニル化合物を水素圧が常圧か
ら2MPaの水素雰囲気下、パラジウム系触媒の存在
下、10〜200℃で反応させた(前期反応)後、加水
分解(後期反応)すれば容易にヒドロキシエーテルが得
られることを見出した。そして該方法は、中間体を単
離、精製する必要がなく、前期反応と後期反応を連続し
て行えるため、操作が簡単で高収率であること、有機ハ
ロゲン化物を使用する必要がなく、また塩等が多量に副
生することがないことを見出した。
ールとカルボニル化合物を、水素圧が常圧から2MPa
の水素雰囲気下、パラジウム系触媒の存在下、10〜2
00℃で反応させた後、加水分解することを特徴とする
ヒドロキシエーテルの製造法を提供するものである。
ルコールは、3個以上の奇数個のヒドロキシル基を有す
るものが好ましく、3又は5個のヒドロキシル基を有す
るものがより好ましく、グリセリン、トリメチロールプ
ロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、アラビ
ットが特に好ましい。
ボニル基を1個有する炭素数1〜20の直鎖、分岐鎖又
は環状の化合物が好ましく、カルボニル基を1個有する
炭素数1〜19の脂肪族アルデヒド、炭素数3〜19の
直鎖もしくは分岐鎖のケトン、又は炭素数5〜8の環状
ケトンがより好ましく、カルボニル基を1個有する炭素
数1〜12の脂肪族アルデヒド、炭素数3〜6の直鎖も
しくは分岐鎖のケトン、又は炭素数5〜6の環状ケトン
が特に好ましい。このうちプロピルアルデヒド、ブチル
アルデヒド、イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒ
ド、イソバレルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプ
チルアルデヒド、オクチルアルデヒド、イソノニルアル
デヒド、ドデシルアルデヒド、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが
最も好ましい。本発明においては、かかるカルボニル化
合物を1種以上用いることができる。
は、カーボン、アルミナ、シリカアルミナもしくはシリ
カに担持されたもしくは担持されないパラジウム触媒、
水酸化パラジウム又は酸化パラジウムが好ましく、カー
ボンに担持されたパラジウム触媒が特に好ましい。触媒
は無水物、含水率が20〜60重量%の含水物のいずれ
でもよい。担体に担持する場合、触媒の担持量は、2〜
10重量%が好ましい。触媒の使用量は、例えば担体に
5重量%担持されたものの場合、反応の促進と経済性の
観点から、3価以上の多価アルコールに対して0.1〜
10重量%、特に0.5〜8重量%が好ましい。また本
発明で用いる触媒は、イオン交換水30gに触媒粉末2
gを分散させたときのpHが8以下であることが好まし
い。
合物との反応(前期反応)は、10〜200℃で行うこ
とが必要であり、特にカルボニル化合物の添加方法に応
じて、温度を操作することが好ましい。カルボニル化合
物を初めから滴下して加える場合は、水素雰囲気下、好
ましくは水素を系内に流通させながら、好ましくは70
℃以上、特に好ましくは100〜200℃で反応を行
う。カルボニル化合物の滴下量は、3価のアルコールの
場合、アルコールに対して2〜5倍モル、特に2〜4倍
モルが好ましい。反応時間は、2〜30時間、特に2〜
25時間が好ましい。5価のアルコールの場合のカルボ
ニル化合物滴下量は、3価のアルコールの場合の2倍と
なる。カルボニル化合物を初め滴下せずにアルコールと
ともに仕込む場合は、水素雰囲気下(流通させても、し
なくてもよい)好ましくは10〜100℃で、特に好ま
しくは20〜70℃で、好ましくは0.5〜10時間、
特に好ましくは0.5〜5時間攪拌する。カルボニル化
合物の仕込み量は、3価のアルコールの場合、アルコー
ルに対して、好ましくは1〜1.5倍モル、特に好まし
くは1〜1.2倍モルである。5価のアルコールの場合
は、3価のアルコールの場合の2倍が好ましい。その
後、好ましくは水素を系内に流通させ、反応温度を好ま
しくは70℃以上、特に好ましくは100〜200℃に
昇温し、カルボニル化合物を、3価のアルコールでは、
アルコールに対して、好ましくは1〜3倍モル、特に好
ましくは1〜2倍モル滴下する。反応時間は2〜20時
間、特に2〜15時間が好ましい。
要であり、常圧〜1MPaが好ましい。水素は系内に存
在していればよいが、カルボニル化合物を滴下する場合
には、水素を流通させることが特に好ましい。水素の流
通量は、反応スケールに応じて適宜選択できるが、例え
ば70mLのスケールの場合、0.7〜2100mL/
minが好ましく、0.7〜700mL/minが特に
好ましい。ここでスケールとは、反応容器の容量であ
る。水素の流通は連続的、断続的のいずれでもよいが、
反応をスムーズに進行させるためには連続的に行うこと
が好ましい。また反応系内に流通させた水素は、そのま
ま大気中に放出してもよいが、系外に出た水素を循環ラ
イン等で再度系内に戻して再度流通させることが、水素
の有効使用の観点から好ましい。
ールで0.2〜360g/hr、特に1.2〜120g
/hrが好ましい。1Lスケールで0.2〜360g/
hrであれば、エーテルアセタールを高収率で製造する
ことができる。また滴下時間は0.5〜20時間が好ま
しく、0.5〜12時間がより好ましく、1〜10時間
が特に好ましい。滴下方法は連続的、断続的のいずれで
もよい。また滴下終了後1〜5時間撹拌を継続するのが
好ましい。
解は、特に制限はないが、酸性水またはスチームを用い
る方法が好ましい。酸性水を用いる場合、酸は硫酸、塩
酸、パラトルエンスルホン酸、酢酸等が好ましい。酸の
濃度に特に制限はないが、例えば0.01〜10Nが好
ましい。必要に応じてメタノール、エタノールなどの低
級アルコールを加えてもかまわない。加水分解するにあ
たっては、前期反応で得られた中間体を含む反応液から
触媒を除去してからの方が好ましい。触媒を除去した該
反応液に、酸性水を加え、適宜撹拌することにより、ヒ
ドロキシエーテルが得られる。加水分解する際の温度
は、室温以上、特に30〜200℃が好ましい。また加
水分解の時間に特に制限はないが、例えば1〜10時間
が好ましい。該酸性水を用いる方法は、ヒドロキシエー
テルが低分子量である場合に特に有効である。
た中間体を含む反応液から触媒等を除去することを必要
とせず、該反応液に直接スチームを吹き込むことができ
る。スチーム時の反応槽の温度は、100〜200℃、
特に120〜180℃が好ましい。加水分解の時間は特
に制限はない。反応液をガスクロマトグラフィーなどに
よる分析にて、中間体が完全に加水分解したことを確認
して終了する。
物、必要に応じて触媒等を除去し、適宜精製等すること
により、ヒドロキシエーテルを得ることができる。
ちモノアルキルジヒドロキシエーテルの製造に適してお
り、特にα−モノヘキシルグリセリルエーテル、α−モ
ノペンチルグリセリルエーテル、α−モノ(3−メチル
ブチル)グリセリルエーテル、α−モノオクチルグリセ
リルエーテル、α−モノ(1,3−ジメチルブチル)グ
リセリルエーテル、トリメチロールプロパンモノヘキシ
ルエーテル及びトリメチロールエタンモノヘキシルエー
テルの製造に適している。
テルの製造 水素ガス導入管、撹拌装置及び還流脱水管を備えた20
0mLのオートクレーブに、グリセリン36.8g
(0.4モル)、触媒としてカーボンに対して5重量%
担持されたパラジウム(5%Pd−C、pH7.2)
2.2gを仕込み、水素ガスを170mL/minで連
続的に流通しながら、150℃に昇温後、ヘキシルアル
デヒド96g(0.96モル)を8時間かけて滴下し、
さらにその後2時間撹拌した。次いで反応液から触媒を
濾過により除去し、これに2N硫酸水溶液を100g、
エタノールを20g加え、3時間還流撹拌した。水酸化
ナトリウムで中和後、ヘキサンを加えて有機層を抽出
し、ヘキサン及びヘキシルアルデヒドを除去することに
より、目的のα−モノヘキシルグリセリルエーテル6
0.6g(0.34モル)を無色透明な液体として得
た。単離収率は85%であった。この方法は、中間生成
物を単離、精製する必要がないため操作が容易であり、
有機ハロゲン化物を使用する必要がない優れたものであ
った。
ーテルの製造 水素ガス導入管、撹拌装置及び還流脱水管を備えた20
0mLのオートクレーブに、グリセリン32.2g
(0.35モル)、触媒として5%Pd−C(pH7.
2)1.9gを仕込み、水素ガスを170mL/min
で連続的に流通しながら、150℃に昇温した後、オク
チルアルデヒド112.7g(0.88モル)を8時間
かけて滴下し、さらにその後2時間撹拌した。次いで1
50℃にて、反応液にスチームを1時間吹き込み、その
後触媒をろ過により除去して、目的のα−モノオクチル
グリセリルエーテル58.8g(0.29モル)を無色
透明な液体として得た。単離収率は83%であった。こ
の方法は、中間生成物を単離、精製する必要がないため
操作が容易であり、有機ハロゲン化物を使用する必要が
なく、また塩の副生もない優れたものであった。
じて各ヒドロキシエーテルを製造した。
報に準じた方法によるα−モノオクチルグリセリルエー
テルの合成 (1)オクチルグリシジルエーテルの合成 還流冷却器、温度計、滴下ロート、窒素ガス導入管、攪
拌装置を備えた1Lフラスコに、水酸化ナトリウム80
g及び水87gを仕込み、水酸化ナトリウムを溶解させ
た。50℃まで昇温した後、オクチルアルコール130
g及びテトラブチルアンモニウムブロミド2gを添加
し、50℃で1時間攪拌した。次いでエピクロロヒドリ
ン185gを1時間かけて滴下した後、3時間熟成し
た。析出したNaClを溶解するために、水を150g
加え二層分離した。分別した油層を二回水洗した後、減
圧下で蒸留し、オクチルグリシジルエーテル158g
(収率85%)を得た。 (2)2−ヘプチル−4−オクチルオキシメチル−1,
3−ジオキソランの合成 還流冷却器、温度計、滴下ロート、窒素ガス導入管、撹
拌装置を備えた500mLフラスコに、オクチルアルデ
ヒド192g(1.5モル)、三フッ化ホウ素エーテル
錯体2.1gを仕込み、窒素ガス通気下に撹拌した。次
いで窒素ガス通気下、20〜30℃に保持しながら、滴
下ロートより(1)で得られたオクチルグリシジルエー
テル56g(0.3モル)を1時間かけて滴下した。さ
らにそのまま1時間撹拌し、ガスクロマトグラフィーに
よりオクチルグリシジルエーテルが完全に消失したのを
確認した後、反応混合物を重炭酸ソーダの希薄水溶液に
注ぎ入れ、酸分を中和した。エーテルを加えて撹拌した
後、分液によりエーテル層を採取した。無水芒硝を加え
て脱水した後、オクチルアルデヒドを減圧蒸留によって
除き、無色透明の2−ヘプチル−4−オクチルオキシメ
チル−1,3−ジオキソラン80g(収率85%)を得
た。 (3)α−モノオクチルグリセリルエーテルの合成 撹拌器、温度計、還流冷却器を備えた500mLの反応
容器に、(2)で得られた2−ヘプチル−4−オクチル
オキシメチル−1,3−ジオキソラン62.8g(0.
2モル)を仕込み、これにエタノール20mL及び0.
1N硫酸200mLを加えた。混合物を撹拌しながら8
0〜85℃で加熱還流し、約10時間後にガスクロマト
グラフィーによって1,3−ジオキソラン化合物の加水
分解が完全に行われていることを確認した後、放冷静置
して油層と水層に分離した。水層をエーテルで抽出し、
前記油層と併せて、重炭酸ソーダ水溶液を加えて残存す
る酸を中和した。有機層を分取後、減圧下でオクチルア
ルデヒドを留去し、さらに3時間加熱乾燥して無色透明
のα−モノオクチルグリセリルエーテル38.8g
(0.19モル)を得た。単離収率は95%であり、
(1)〜(3)の総合単離収率は69%であった。該方
法は、実施例4と比べて、反応が3段階のため、操作が
煩雑であり、また塩の副生量が多かった。
化物を使用する必要がなく、また塩等が多量に副生する
ことなく、簡単な操作でヒドロキシエーテルを高収率で
製造できる。
Claims (3)
- 【請求項1】 3価以上の多価アルコールとカルボニル
化合物を、水素圧が常圧から2MPaの水素雰囲気下、
パラジウム系触媒の存在下、10〜200℃で反応させ
た後、加水分解操作を行うことを特徴とするヒドロキシ
エーテルの製造法。 - 【請求項2】 反応時、水素を流通させる操作を含む、
請求項1記載のヒドロキシエーテルの製造法。 - 【請求項3】 反応時、カルボニル化合物を滴下させる
操作を含む請求項1又は2記載のヒドロキシエーテルの
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20149899A JP4045051B2 (ja) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | ヒドロキシエーテルの製造法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20149899A JP4045051B2 (ja) | 1999-07-15 | 1999-07-15 | ヒドロキシエーテルの製造法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2001031610A true JP2001031610A (ja) | 2001-02-06 |
JP4045051B2 JP4045051B2 (ja) | 2008-02-13 |
Family
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JP (1) | JP4045051B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012500849A (ja) * | 2008-08-25 | 2012-01-12 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | ポリオールエーテルおよびその製法 |
-
1999
- 1999-07-15 JP JP20149899A patent/JP4045051B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012500849A (ja) * | 2008-08-25 | 2012-01-12 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | ポリオールエーテルおよびその製法 |
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