JP2001027709A - ウェッジビームスプリッタの製造方法 - Google Patents
ウェッジビームスプリッタの製造方法Info
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- JP2001027709A JP2001027709A JP11200861A JP20086199A JP2001027709A JP 2001027709 A JP2001027709 A JP 2001027709A JP 11200861 A JP11200861 A JP 11200861A JP 20086199 A JP20086199 A JP 20086199A JP 2001027709 A JP2001027709 A JP 2001027709A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 煩雑な手順を経ることのない一連の製造工程
を実施することにより、多数の個片を一度に歩留よく量
産することができ、製造コストを低減することができる
ウェッジビームスプリッタの製造方法を提供する。 【解決手段】 鏡面加工された表裏両面に夫々反射防止
膜を成膜した複数枚の矩形の平板状光学部材50を第1
の仮止め材62により仮止めして積層すると共に、各平
板状光学部材の端縁を結ぶ平面と平板状光学部材の板面
との間の形成角度が88.35度の傾斜角度となるよう
に平板状光学部材の面方向位置を順次ずらして階段状に
積層する積層体形成工程と、積層体61を88.35度
の傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面に
て複数の積層分割体65に切断する切断工程と、仮止め
積層体71を形成する分断工程と、仮止め積層体の鏡面
加工面に波長分離膜80を成膜する波長分離膜成膜工程
と、ウェッジビームスプリッタ連結体形成工程と、複数
のウェッジビームスプリッタを形成する分断工程と、か
ら成る。
を実施することにより、多数の個片を一度に歩留よく量
産することができ、製造コストを低減することができる
ウェッジビームスプリッタの製造方法を提供する。 【解決手段】 鏡面加工された表裏両面に夫々反射防止
膜を成膜した複数枚の矩形の平板状光学部材50を第1
の仮止め材62により仮止めして積層すると共に、各平
板状光学部材の端縁を結ぶ平面と平板状光学部材の板面
との間の形成角度が88.35度の傾斜角度となるよう
に平板状光学部材の面方向位置を順次ずらして階段状に
積層する積層体形成工程と、積層体61を88.35度
の傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面に
て複数の積層分割体65に切断する切断工程と、仮止め
積層体71を形成する分断工程と、仮止め積層体の鏡面
加工面に波長分離膜80を成膜する波長分離膜成膜工程
と、ウェッジビームスプリッタ連結体形成工程と、複数
のウェッジビームスプリッタを形成する分断工程と、か
ら成る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウェッジビームスプ
リッタの製造方法に関し、特に製造工数を削減し、量産
性を大幅に高めて、低コスト化を実現することができる
ウェッジビームスプリッタの製造方法に関する。
リッタの製造方法に関し、特に製造工数を削減し、量産
性を大幅に高めて、低コスト化を実現することができる
ウェッジビームスプリッタの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】デジタル・ビデオ・ディスク(DVD)
は、コンパクト・ディスク(CD)と同じ直径であって
も、CDよりも大容量のデータを記憶することができ、
直径12cmのDVDには映画一本分の画像と音声を収
容することができる。DVDはCDと同様に、光学ピッ
クアップにより読み書きが行われ、CDは波長が780
nmの光源光を用いて読み書きされるのに対して、DV
Dの読み書きには650nmの波長の光源光が用いられ
る。このため、当初、DVD用の記録再生装置(プレー
ヤー)と、CD用の記録再生装置は別個の装置として開
発された。しかし、DVD、CDはディスクサイズが同
じであることから、両ディスクを共用可能な記録再生装
置が求められ既に開発されている。このDVD、CD共
用タイプの記録再生装置は、図4(a) に示した如き2波
長対応型の光ピックアップ装置が使用されている。この
光ピックアップ装置は、ビームスプリッタ1の一方の入
射面に対向配置された第1の光モジュール10と、ビー
ムスプリッタ1の他方の入射面に対向配置された第2の
光モジュール11と、ビームスプリッタの出射面側に順
次配置されたコリメートレンズ12、ミラー13、対物
レンズ14とを備え、対物レンズ14はDVD、CD等
のディスク(記録媒体)15と対向配置されている。こ
の光ピックアップ装置に使用されているビームスプリッ
タ1は、図4(b) に示すように2つの三角柱状のガラス
プリズム2、3をビームスプリッタ膜(波長分離膜)4
を介して接合することにより立方体に構成したものであ
る。このビームスプリッタ膜4は、波長650nmの光
を通過させる一方で、波長750nmの光を反射させる
性質を有する。第1の光モジュール10は、波長650
nmの光を出射する半導体レーザと、ディスク15から
の反射光を入射する光検出器とを一体化した構成を備
え、第2の光モジュール11は、波長780nmの光を
出射する半導体レーザと、光検出器とを一体化した構成
を備えている。
は、コンパクト・ディスク(CD)と同じ直径であって
も、CDよりも大容量のデータを記憶することができ、
直径12cmのDVDには映画一本分の画像と音声を収
容することができる。DVDはCDと同様に、光学ピッ
クアップにより読み書きが行われ、CDは波長が780
nmの光源光を用いて読み書きされるのに対して、DV
Dの読み書きには650nmの波長の光源光が用いられ
る。このため、当初、DVD用の記録再生装置(プレー
ヤー)と、CD用の記録再生装置は別個の装置として開
発された。しかし、DVD、CDはディスクサイズが同
じであることから、両ディスクを共用可能な記録再生装
置が求められ既に開発されている。このDVD、CD共
用タイプの記録再生装置は、図4(a) に示した如き2波
長対応型の光ピックアップ装置が使用されている。この
光ピックアップ装置は、ビームスプリッタ1の一方の入
射面に対向配置された第1の光モジュール10と、ビー
ムスプリッタ1の他方の入射面に対向配置された第2の
光モジュール11と、ビームスプリッタの出射面側に順
次配置されたコリメートレンズ12、ミラー13、対物
レンズ14とを備え、対物レンズ14はDVD、CD等
のディスク(記録媒体)15と対向配置されている。こ
の光ピックアップ装置に使用されているビームスプリッ
タ1は、図4(b) に示すように2つの三角柱状のガラス
プリズム2、3をビームスプリッタ膜(波長分離膜)4
を介して接合することにより立方体に構成したものであ
る。このビームスプリッタ膜4は、波長650nmの光
を通過させる一方で、波長750nmの光を反射させる
性質を有する。第1の光モジュール10は、波長650
nmの光を出射する半導体レーザと、ディスク15から
の反射光を入射する光検出器とを一体化した構成を備
え、第2の光モジュール11は、波長780nmの光を
出射する半導体レーザと、光検出器とを一体化した構成
を備えている。
【0003】ビームスプリッタ1は、第1の光モジュー
ル10からの650nm波長の偏光成分を透過する一方
で、第2の光モジュール11からの780nm波長の偏
光成分を反射する機能を備えている。この例では、ディ
スク15としてDVDを使用する場合には、第1の光モ
ジュール10から出射された光のうちの650nm波長
の偏光成分はビームスプリッタ膜4を透過してDVDの
ディスク15面に照射され、ディスク面で反射した光は
ビームスプリッタ膜4を透過して第1の光モジュール1
0に受光される。また、ディスク15としてCDを使用
する場合には、第2の光モジュール11から出射された
光のうちの780nm波長の偏光成分はビームスプリッ
タ膜4で反射してDVDのディスク15面に照射され、
ディスク面で反射した光はビームスプリッタ膜4にて反
射して第2の光モジュール11に受光される。このタイ
プのビームスプリッタ1は、2つの直角三角形の三角柱
ガラスブロックを傾斜面同士で接合した上で、多数の工
程を経て製造されるため、製造工程が複雑化し生産性が
悪いという欠点を有するばかりでなく、大型である為に
光ピックアップ装置の小型化を妨げる要因となってい
る。このようなところから、最近では図5(a) に示した
如きウェッジ・ビームスプリッタを用いた光ピックアッ
プ装置が多用されるようになっている。このウェッジ・
ビームスプリッタ(以下、ウェッジBSという)20
は、部品点数が少なく、小型であり、かつ光収差が上記
従来のビームスプリッタ1よりも優れるという特性上の
利点をも有しており、高密度に情報が書き込まれている
DVDに使用する光ピックアップ装置に使用するビーム
スプリッタとしてはウェッジBSの方が望まれている。
ル10からの650nm波長の偏光成分を透過する一方
で、第2の光モジュール11からの780nm波長の偏
光成分を反射する機能を備えている。この例では、ディ
スク15としてDVDを使用する場合には、第1の光モ
ジュール10から出射された光のうちの650nm波長
の偏光成分はビームスプリッタ膜4を透過してDVDの
ディスク15面に照射され、ディスク面で反射した光は
ビームスプリッタ膜4を透過して第1の光モジュール1
0に受光される。また、ディスク15としてCDを使用
する場合には、第2の光モジュール11から出射された
光のうちの780nm波長の偏光成分はビームスプリッ
タ膜4で反射してDVDのディスク15面に照射され、
ディスク面で反射した光はビームスプリッタ膜4にて反
射して第2の光モジュール11に受光される。このタイ
プのビームスプリッタ1は、2つの直角三角形の三角柱
ガラスブロックを傾斜面同士で接合した上で、多数の工
程を経て製造されるため、製造工程が複雑化し生産性が
悪いという欠点を有するばかりでなく、大型である為に
光ピックアップ装置の小型化を妨げる要因となってい
る。このようなところから、最近では図5(a) に示した
如きウェッジ・ビームスプリッタを用いた光ピックアッ
プ装置が多用されるようになっている。このウェッジ・
ビームスプリッタ(以下、ウェッジBSという)20
は、部品点数が少なく、小型であり、かつ光収差が上記
従来のビームスプリッタ1よりも優れるという特性上の
利点をも有しており、高密度に情報が書き込まれている
DVDに使用する光ピックアップ装置に使用するビーム
スプリッタとしてはウェッジBSの方が望まれている。
【0004】図5(b) (c) はウェッジBSの構成を示す
斜視図、及び正面図であり、このウェッジBS20は、
一つの角隅部を構成する端縁に沿って面取り部21を有
した楔型の光学ガラス、例えばBK7から構成されたも
のであり、対向し合う鏡面状の2つの主平面22、23
のうちの一方22が他方23に対して1.65°だけ傾
斜した傾斜主平面であると共に、該傾斜主平面22には
反射防止膜24が成膜され、他方の主平面23には波長
分離膜25が成膜されている。上記面取り部21は、2
つの主平面22、23を識別する為の目印であり、傾斜
主平面22のいずれか一方の端縁に面取り部21を設け
ることにより、いずれの主平面が反射防止膜面である
か、或は波長分離膜面であるかを容易に判別できるよう
に構成されている。このウェッジBS20を図5(a) に
示したように光ピックアップ装置に組み込むことによ
り、第1の光モジュール10から出射される波長650
nmの光を用いてDVDに対する記録再生を実施するこ
とができ、また、第2の光モジュール11から出射され
る波長780nmの光を用いてCDに対する記録再生を
実施することができる。
斜視図、及び正面図であり、このウェッジBS20は、
一つの角隅部を構成する端縁に沿って面取り部21を有
した楔型の光学ガラス、例えばBK7から構成されたも
のであり、対向し合う鏡面状の2つの主平面22、23
のうちの一方22が他方23に対して1.65°だけ傾
斜した傾斜主平面であると共に、該傾斜主平面22には
反射防止膜24が成膜され、他方の主平面23には波長
分離膜25が成膜されている。上記面取り部21は、2
つの主平面22、23を識別する為の目印であり、傾斜
主平面22のいずれか一方の端縁に面取り部21を設け
ることにより、いずれの主平面が反射防止膜面である
か、或は波長分離膜面であるかを容易に判別できるよう
に構成されている。このウェッジBS20を図5(a) に
示したように光ピックアップ装置に組み込むことによ
り、第1の光モジュール10から出射される波長650
nmの光を用いてDVDに対する記録再生を実施するこ
とができ、また、第2の光モジュール11から出射され
る波長780nmの光を用いてCDに対する記録再生を
実施することができる。
【0005】ところで、このようなウェッジBS20を
製造する場合には、一枚の長尺板ガラスを台座の傾斜面
に貼り付けた上で各面を研磨したり、鏡面加工を施し、
所定の面に所要の成膜を施したあとで、長尺板ガラスの
長手方向に沿って所定寸法に切断することにより個々の
ウェッジBSを製造していた。しかし、この製造方法
は、工数が極めて多く、煩雑であり、生産性が悪いとい
う欠点を有している。即ち、長尺板ガラスの2つの主平
面を夫々個別に鏡面加工するためには、研磨しない面を
台座等の上に接着固定した上で研磨面に対してロータリ
ー研磨、洗浄、ラップ研磨、洗浄、ポリッシュ研磨を夫
々施す必要があり、一つの面に対する鏡面加工が終了し
た後に、台座から剥離した上で他の面を鏡面加工するた
めに再度台座に接着固定し、鏡面加工後に台座から剥離
するという煩雑な工程を繰り返す必要がある。また、長
尺板ガラスを一枚づつ加工する必要がある為、生産性が
極めて悪かった。
製造する場合には、一枚の長尺板ガラスを台座の傾斜面
に貼り付けた上で各面を研磨したり、鏡面加工を施し、
所定の面に所要の成膜を施したあとで、長尺板ガラスの
長手方向に沿って所定寸法に切断することにより個々の
ウェッジBSを製造していた。しかし、この製造方法
は、工数が極めて多く、煩雑であり、生産性が悪いとい
う欠点を有している。即ち、長尺板ガラスの2つの主平
面を夫々個別に鏡面加工するためには、研磨しない面を
台座等の上に接着固定した上で研磨面に対してロータリ
ー研磨、洗浄、ラップ研磨、洗浄、ポリッシュ研磨を夫
々施す必要があり、一つの面に対する鏡面加工が終了し
た後に、台座から剥離した上で他の面を鏡面加工するた
めに再度台座に接着固定し、鏡面加工後に台座から剥離
するという煩雑な工程を繰り返す必要がある。また、長
尺板ガラスを一枚づつ加工する必要がある為、生産性が
極めて悪かった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、煩雑な手順を経ることのない一連の製造工
程を実施することにより、多数の個片を一度に歩留よく
量産することができ、製造コストを低減することができ
るウェッジビームスプリッタの製造方法を提供すること
を目的としている。
する課題は、煩雑な手順を経ることのない一連の製造工
程を実施することにより、多数の個片を一度に歩留よく
量産することができ、製造コストを低減することができ
るウェッジビームスプリッタの製造方法を提供すること
を目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する為、
請求項1の発明は、対向し合う鏡面状の2つの主平面の
一方が他方に対して角度θだけ傾斜した傾斜主平面であ
ると共に、該傾斜主平面には反射防止膜が成膜され、他
方の主平面には波長分離膜が成膜され、上記傾斜主平面
の一つの端縁には識別用の面取り部が設けられているウ
ェッジビームスプリッタの製造方法であって、鏡面加工
された表裏両面に夫々反射防止膜を成膜した複数枚の矩
形の平板状光学部材を仮止め材により仮止めして積層す
る際に、各平板状光学部材の端縁を結ぶ平面と平板状光
学部材の板面との間の形成角度が90度−θの傾斜角度
となるように平板状光学部材の面方向位置を順次ずらし
て階段状に積層する積層体形成工程と、上記積層体形成
工程において一体化された積層体を、上記90度−θの
傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面にて
複数の積層分割体に切断する切断工程と、上記切断工程
により分割された複数の積層分割体の切断面同士が接合
するように各積層分割体間を仮止め材にて仮止めして積
層する際に、各積層分割体の端縁を結ぶ平面と積層分割
体の切断面との間の形成角度が90度となるように積層
する仮止め工程と、上記仮止め材にて仮止めされた複数
の積層分割体を、上記切断工程における切断面と直交す
る所定ピッチの複数の平行な切断面にて切断して仮止め
積層体を形成する分断工程と、上記分断工程により得ら
れた仮止め積層体の切断面を鏡面加工する鏡面加工工程
と、該仮止め積層体の鏡面加工面に波長分離膜を成膜す
る波長分離膜成膜工程と、波長分離膜を成膜された仮止
め積層体を、上記仮止め材による仮止め状態を解消する
ことにより複数のウェッジビームスプリッタが直列に連
結一体化したウェッジビームスプリッタ連結体に分離す
るウェッジビームスプリッタ連結体形成工程と、上記ウ
ェッジビームスプリッタ連結体を構成する上記傾斜主平
面の一端縁に沿って上記識別用の面取り部を形成する面
取り工程と、面取り工程を経た上記ウェッジビームスプ
リッタ連結体を、上記波長分離膜成膜面と直交する方向
の切断面に沿って、所定の長手方向間隔にて切断するこ
とにより複数のウェッジビームスプリッタを形成する分
断工程と、から成ることを特徴とする。請求項2の発明
は、上記角度θが1.65度であることを特徴とする。
請求項1の発明は、対向し合う鏡面状の2つの主平面の
一方が他方に対して角度θだけ傾斜した傾斜主平面であ
ると共に、該傾斜主平面には反射防止膜が成膜され、他
方の主平面には波長分離膜が成膜され、上記傾斜主平面
の一つの端縁には識別用の面取り部が設けられているウ
ェッジビームスプリッタの製造方法であって、鏡面加工
された表裏両面に夫々反射防止膜を成膜した複数枚の矩
形の平板状光学部材を仮止め材により仮止めして積層す
る際に、各平板状光学部材の端縁を結ぶ平面と平板状光
学部材の板面との間の形成角度が90度−θの傾斜角度
となるように平板状光学部材の面方向位置を順次ずらし
て階段状に積層する積層体形成工程と、上記積層体形成
工程において一体化された積層体を、上記90度−θの
傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面にて
複数の積層分割体に切断する切断工程と、上記切断工程
により分割された複数の積層分割体の切断面同士が接合
するように各積層分割体間を仮止め材にて仮止めして積
層する際に、各積層分割体の端縁を結ぶ平面と積層分割
体の切断面との間の形成角度が90度となるように積層
する仮止め工程と、上記仮止め材にて仮止めされた複数
の積層分割体を、上記切断工程における切断面と直交す
る所定ピッチの複数の平行な切断面にて切断して仮止め
積層体を形成する分断工程と、上記分断工程により得ら
れた仮止め積層体の切断面を鏡面加工する鏡面加工工程
と、該仮止め積層体の鏡面加工面に波長分離膜を成膜す
る波長分離膜成膜工程と、波長分離膜を成膜された仮止
め積層体を、上記仮止め材による仮止め状態を解消する
ことにより複数のウェッジビームスプリッタが直列に連
結一体化したウェッジビームスプリッタ連結体に分離す
るウェッジビームスプリッタ連結体形成工程と、上記ウ
ェッジビームスプリッタ連結体を構成する上記傾斜主平
面の一端縁に沿って上記識別用の面取り部を形成する面
取り工程と、面取り工程を経た上記ウェッジビームスプ
リッタ連結体を、上記波長分離膜成膜面と直交する方向
の切断面に沿って、所定の長手方向間隔にて切断するこ
とにより複数のウェッジビームスプリッタを形成する分
断工程と、から成ることを特徴とする。請求項2の発明
は、上記角度θが1.65度であることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示した形態
例により詳細に説明する。図1(a) 乃至(d) 、図2(a)
乃至(d) 、図3(a) 乃至(d) は、本発明に係るウェッジ
ビームスプリッタの一連の製造方法を説明する為の工程
図である。本発明は、図5(b) (c) に示した如きくさび
形のウェッジビームスプリッタ(以下、ウェッジBS、
という)の製造方法に関するものである。図1(a) は本
発明の製造方法に使用する板ガラスの構成を示す斜視図
であり、均一厚みの板ガラス51の上下両面51a,5
1bは夫々ポリッシュにより鏡面加工を施される。本発
明では、このように全く同一の構成を備えた板ガラス5
1を複数枚使用する。図1(b) に示す工程では各板ガラ
ス51の上下両面51a,51bに夫々蒸着によって均
一膜厚の反射防止膜52a,52bを形成する。板ガラ
ス51の上下両面に反射防止膜52a,52bを形成し
たものが、ガラス平板(平板状光学部材)50である。
図1(c) は積層体形成工程を示す図であり、治具60を
用いて88.35度(90度−1.65度)の傾斜角度
で複数のガラス平板50を積層する状態を示している。
即ち、治具60は、水平な板状のベース60aと、この
ベース60aから88.35度の傾斜角度で上方に傾斜
して固定された傾斜側壁60b等とから成り、一方の反
射防止膜52aを上向きにしたガラス平板50をベース
60aに順次積層する。この際に、各ガラス平板50の
一端縁を傾斜側壁60bに沿って整列させることによ
り、各ガラス平板50が面方向に等距離づつずれた階段
状の積層体61となる。換言すれば、正面形状が略平行
四辺形の積層体となる。なお、積層される各ガラス平板
50間は、パラフィン等の第1の仮止め材62により、
仮止めされる。このように積層体形成工程は、同一構成
の複数枚の矩形ガラス平板50を第1の仮止め材62を
介して積層接着すると共に、各ガラス平板の端縁を結ぶ
平面とガラス平板面との間の形成角度が88.35度の
傾斜角度となるように各ガラス平板の面方向位置を順次
ずらして階段状に積層する工程であり、各ガラス平板間
は後段の工程において剥離可能となるように仮止めされ
る。なお、上記角度1.65度(角度θ)は、製造しよ
うとするビームスプリッタの形状に対応して選定された
角度であり、ビームスプリッタの形状が異なる場合には
この角度θも変更する必要があることは勿論である。
例により詳細に説明する。図1(a) 乃至(d) 、図2(a)
乃至(d) 、図3(a) 乃至(d) は、本発明に係るウェッジ
ビームスプリッタの一連の製造方法を説明する為の工程
図である。本発明は、図5(b) (c) に示した如きくさび
形のウェッジビームスプリッタ(以下、ウェッジBS、
という)の製造方法に関するものである。図1(a) は本
発明の製造方法に使用する板ガラスの構成を示す斜視図
であり、均一厚みの板ガラス51の上下両面51a,5
1bは夫々ポリッシュにより鏡面加工を施される。本発
明では、このように全く同一の構成を備えた板ガラス5
1を複数枚使用する。図1(b) に示す工程では各板ガラ
ス51の上下両面51a,51bに夫々蒸着によって均
一膜厚の反射防止膜52a,52bを形成する。板ガラ
ス51の上下両面に反射防止膜52a,52bを形成し
たものが、ガラス平板(平板状光学部材)50である。
図1(c) は積層体形成工程を示す図であり、治具60を
用いて88.35度(90度−1.65度)の傾斜角度
で複数のガラス平板50を積層する状態を示している。
即ち、治具60は、水平な板状のベース60aと、この
ベース60aから88.35度の傾斜角度で上方に傾斜
して固定された傾斜側壁60b等とから成り、一方の反
射防止膜52aを上向きにしたガラス平板50をベース
60aに順次積層する。この際に、各ガラス平板50の
一端縁を傾斜側壁60bに沿って整列させることによ
り、各ガラス平板50が面方向に等距離づつずれた階段
状の積層体61となる。換言すれば、正面形状が略平行
四辺形の積層体となる。なお、積層される各ガラス平板
50間は、パラフィン等の第1の仮止め材62により、
仮止めされる。このように積層体形成工程は、同一構成
の複数枚の矩形ガラス平板50を第1の仮止め材62を
介して積層接着すると共に、各ガラス平板の端縁を結ぶ
平面とガラス平板面との間の形成角度が88.35度の
傾斜角度となるように各ガラス平板の面方向位置を順次
ずらして階段状に積層する工程であり、各ガラス平板間
は後段の工程において剥離可能となるように仮止めされ
る。なお、上記角度1.65度(角度θ)は、製造しよ
うとするビームスプリッタの形状に対応して選定された
角度であり、ビームスプリッタの形状が異なる場合には
この角度θも変更する必要があることは勿論である。
【0009】次に、図1(d) は上記接着工程において一
体化された積層体61を、上記88.35度の傾斜角度
に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面にて複数の積
層分割体65に切断する切断工程を示している。この切
断工程では、図1(c) において作成された積層体61
を、点線で示す切断ライン63に沿ってワイヤーソーに
より等間隔で切断する。各切断ライン63は、積層体を
構成する各ガラス平板50の位置ずれ角度である88.
35度と平行な線(或は面)であり、各切断ライン間の
間隔は最終的に製造しようとするビームスプリッタの寸
法、形状に応じて設定する。なお、積層分割体65は、
ガラス平板50を第1の仮止め材62を用いて接合した
積層体を切断したものであるため、反射防止膜52a、
板ガラス板51,反射防止膜52b,第1の仮止め材6
2、反射防止膜52a、・・・の順番で積層された構造
を有する。
体化された積層体61を、上記88.35度の傾斜角度
に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面にて複数の積
層分割体65に切断する切断工程を示している。この切
断工程では、図1(c) において作成された積層体61
を、点線で示す切断ライン63に沿ってワイヤーソーに
より等間隔で切断する。各切断ライン63は、積層体を
構成する各ガラス平板50の位置ずれ角度である88.
35度と平行な線(或は面)であり、各切断ライン間の
間隔は最終的に製造しようとするビームスプリッタの寸
法、形状に応じて設定する。なお、積層分割体65は、
ガラス平板50を第1の仮止め材62を用いて接合した
積層体を切断したものであるため、反射防止膜52a、
板ガラス板51,反射防止膜52b,第1の仮止め材6
2、反射防止膜52a、・・・の順番で積層された構造
を有する。
【0010】次に、図2(a) に示した仮止め工程では、
前工程で得られた各積層分割体65の2つの切断面(切
断ライン63による切断面)が上下方向を向くように治
具66の水平な底板66a上に積層分割体65を順次積
層する。この際、治具66の垂直壁66bに各積層分割
体65の端縁を当接させることにより垂直方向に整合さ
せた状態で積層する。この際、各積層分割体65間の接
合面は、パラフィン等の第2の仮止め材67により仮止
めする。図2(b) は第2の仮止め材67にて仮止めされ
た複数の積層分割体65を、上記切断工程における切断
面63と直交する切断面70に沿ってワイヤソーにより
切断して仮止め積層体71を形成する分断工程である。
切断面70は、第1の仮止め材62が塗布された境界面
が2つの切断面70の中間位置に位置するように選定さ
れる。つまり、分断工程は、第2の仮止め材67にて仮
止めされた複数の積層分割体65を、上記切断工程にお
ける切断面と直交する切断面70にて切断して仮止め積
層体71を形成する工程であり、切断ライン70に沿っ
た切断後に形成される各仮止め積層体71は、第1の仮
止め材62により仮止めされた2つのウェッジBS連結
体75から成る矩形棒状体を、第2の仮止め材67を介
して直列に接続した矩形平板状の構成を備えている。次
に、図2(c) は鏡面加工工程であり、前工程において得
られた各仮止め積層体71の両切断面をラップ、ポリッ
シュにより鏡面加工する工程である。図2(d) は、鏡面
加工された仮止め積層体71の両面に夫々波長分離膜8
0を均一厚で蒸着する工程である。なお、波長分離膜8
0とは、高屈折材料と低屈折材料、例えばTiO2とS
iO2の各薄膜を交互に複数層積層することにより形成
される薄膜であり、本発明のウェッジBSにおいては、
図5(c) に示した他方の主平面23に塗布した波長分離
膜25となる。なお、図5(c) に示した傾斜主平面22
は第1の仮止め材62により接合された面であり、傾斜
主平面22には反射防止膜24が既に成膜されている。
この状態では、各ウェッジBS連結体75は、依然とし
て第1の仮止め材62、及び67により仮止めされた状
態にある。
前工程で得られた各積層分割体65の2つの切断面(切
断ライン63による切断面)が上下方向を向くように治
具66の水平な底板66a上に積層分割体65を順次積
層する。この際、治具66の垂直壁66bに各積層分割
体65の端縁を当接させることにより垂直方向に整合さ
せた状態で積層する。この際、各積層分割体65間の接
合面は、パラフィン等の第2の仮止め材67により仮止
めする。図2(b) は第2の仮止め材67にて仮止めされ
た複数の積層分割体65を、上記切断工程における切断
面63と直交する切断面70に沿ってワイヤソーにより
切断して仮止め積層体71を形成する分断工程である。
切断面70は、第1の仮止め材62が塗布された境界面
が2つの切断面70の中間位置に位置するように選定さ
れる。つまり、分断工程は、第2の仮止め材67にて仮
止めされた複数の積層分割体65を、上記切断工程にお
ける切断面と直交する切断面70にて切断して仮止め積
層体71を形成する工程であり、切断ライン70に沿っ
た切断後に形成される各仮止め積層体71は、第1の仮
止め材62により仮止めされた2つのウェッジBS連結
体75から成る矩形棒状体を、第2の仮止め材67を介
して直列に接続した矩形平板状の構成を備えている。次
に、図2(c) は鏡面加工工程であり、前工程において得
られた各仮止め積層体71の両切断面をラップ、ポリッ
シュにより鏡面加工する工程である。図2(d) は、鏡面
加工された仮止め積層体71の両面に夫々波長分離膜8
0を均一厚で蒸着する工程である。なお、波長分離膜8
0とは、高屈折材料と低屈折材料、例えばTiO2とS
iO2の各薄膜を交互に複数層積層することにより形成
される薄膜であり、本発明のウェッジBSにおいては、
図5(c) に示した他方の主平面23に塗布した波長分離
膜25となる。なお、図5(c) に示した傾斜主平面22
は第1の仮止め材62により接合された面であり、傾斜
主平面22には反射防止膜24が既に成膜されている。
この状態では、各ウェッジBS連結体75は、依然とし
て第1の仮止め材62、及び67により仮止めされた状
態にある。
【0011】次に、図3(a) はウェッジBS連結体形成
工程であり、この工程は、波長分離膜80(25)を成
膜された仮止め積層体71を、両仮止め材62、67に
よる仮止め状態を解消することにより、複数のウェッジ
BSが直列に連結一体化したウェッジBS連結体75に
分離する工程である。両仮止め材62、67をパラフィ
ンにて構成する場合には、仮止め積層体71をホットプ
レート上に載置して加熱することによってパラフィンを
溶解させて、個々のウェッジBS連結体75に分離する
ことができる。図3(b) は、ウェッジBS連結体75を
構成する上記傾斜主平面の一端縁全長に沿って上記識別
用の面取り部21を形成する面取り工程である。なお、
面取り位置は、図示と反対側の端縁であってもよい。図
3(c) (d) は、面取り工程を経た上記ウェッジBS連結
体75を、上記波長分離膜成膜面と直交する方向の切断
面85に沿って、ワイヤーソーにより所定の長手方向間
隔にて切断することにより複数のウェッジBS20を形
成する分断工程である。このように本発明によれば、平
板状のガラスを複数枚使用してウェッジBSを製造する
際に、個片に分割されたウェッジBSに対して鏡面加
工、成膜加工、面取り加工を行う等の煩雑な作業が不要
となるため、生産性が高く、実用性の高いビームスプリ
ッタの製造方法を提供することができる。なお、上記形
態例では光学デバイスの製造方法の一例としてビームス
プリッタの製造方法を例示したが、本発明は上記以外の
光学デバイスであって類似の構成を備えたものに対して
も適用することができる。例えば、本発明の製造方法は
ハーフミラー、及びウォラストンプリズムに対しても適
用することができる。
工程であり、この工程は、波長分離膜80(25)を成
膜された仮止め積層体71を、両仮止め材62、67に
よる仮止め状態を解消することにより、複数のウェッジ
BSが直列に連結一体化したウェッジBS連結体75に
分離する工程である。両仮止め材62、67をパラフィ
ンにて構成する場合には、仮止め積層体71をホットプ
レート上に載置して加熱することによってパラフィンを
溶解させて、個々のウェッジBS連結体75に分離する
ことができる。図3(b) は、ウェッジBS連結体75を
構成する上記傾斜主平面の一端縁全長に沿って上記識別
用の面取り部21を形成する面取り工程である。なお、
面取り位置は、図示と反対側の端縁であってもよい。図
3(c) (d) は、面取り工程を経た上記ウェッジBS連結
体75を、上記波長分離膜成膜面と直交する方向の切断
面85に沿って、ワイヤーソーにより所定の長手方向間
隔にて切断することにより複数のウェッジBS20を形
成する分断工程である。このように本発明によれば、平
板状のガラスを複数枚使用してウェッジBSを製造する
際に、個片に分割されたウェッジBSに対して鏡面加
工、成膜加工、面取り加工を行う等の煩雑な作業が不要
となるため、生産性が高く、実用性の高いビームスプリ
ッタの製造方法を提供することができる。なお、上記形
態例では光学デバイスの製造方法の一例としてビームス
プリッタの製造方法を例示したが、本発明は上記以外の
光学デバイスであって類似の構成を備えたものに対して
も適用することができる。例えば、本発明の製造方法は
ハーフミラー、及びウォラストンプリズムに対しても適
用することができる。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、所定の成膜を施した複
数のガラス平板を、各ガラス平板の端縁が88.35度
(90度−θ)の傾斜角度をもって位置ずれするように
階段状に積層、接着した後で、この積層体を上記88.
35度の傾斜に沿って複数個に切断分割する等の複数工
程を経ることにより、ウェッジBSを大量に量産するこ
とができるので、個片に分割した後の煩雑な加工を行わ
ずに、所要面に成膜と、面取り部が施されたウェッジビ
ームスプリッタを得ることができる。
数のガラス平板を、各ガラス平板の端縁が88.35度
(90度−θ)の傾斜角度をもって位置ずれするように
階段状に積層、接着した後で、この積層体を上記88.
35度の傾斜に沿って複数個に切断分割する等の複数工
程を経ることにより、ウェッジBSを大量に量産するこ
とができるので、個片に分割した後の煩雑な加工を行わ
ずに、所要面に成膜と、面取り部が施されたウェッジビ
ームスプリッタを得ることができる。
【図1】(a) 乃至(d) は本発明の光学デバイスの製造方
法を説明する為の工程図。
法を説明する為の工程図。
【図2】(a) 乃至(d) は本発明の光学デバイスの製造方
法を説明する為の工程図。
法を説明する為の工程図。
【図3】(a) 乃至(d) は本発明の光学デバイスの製造方
法を説明する為の工程図。
法を説明する為の工程図。
【図4】(a) 及び(b) は従来のビームスプリッタの使用
方法の説明図及び構成を示す斜視図。
方法の説明図及び構成を示す斜視図。
【図5】(a) は本発明の製造対象物としてのウェッジビ
ームスプリッタの使用方法の説明図、(b) は構成斜視
図、(c) は正面図。
ームスプリッタの使用方法の説明図、(b) は構成斜視
図、(c) は正面図。
1 ビームスプリッタ、2、3 ガラスプリズム、4
波長分離膜、10 第1の光モジュール、11 第2の
光モジュール、12 コリメートレンズ、13 ミラ
ー、14 対物レンズ、15 ディスク(記録媒体)、
20 ウェッジビームスプリッタ(ウェッジBS)、2
1 面取り部、22、23 主平面、24 反射防止
膜、25 波長分離膜、50 ガラス平板(平板状光学
部材)、51 板ガラス、51a,51b 上面、下
面、52a,52b 反射防止膜,60 治具,61
積層体、62 仮止め材,63 切断面、65 積層分
割体、66 治具、67 仮止め材、70切断面、71
仮止め積層体、75 ウェッジBS連結体、80 波
長分離膜。
波長分離膜、10 第1の光モジュール、11 第2の
光モジュール、12 コリメートレンズ、13 ミラ
ー、14 対物レンズ、15 ディスク(記録媒体)、
20 ウェッジビームスプリッタ(ウェッジBS)、2
1 面取り部、22、23 主平面、24 反射防止
膜、25 波長分離膜、50 ガラス平板(平板状光学
部材)、51 板ガラス、51a,51b 上面、下
面、52a,52b 反射防止膜,60 治具,61
積層体、62 仮止め材,63 切断面、65 積層分
割体、66 治具、67 仮止め材、70切断面、71
仮止め積層体、75 ウェッジBS連結体、80 波
長分離膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長友 幸夫 神奈川県高座郡寒川町小谷二丁目1番1号 東洋通信機株式会社内 Fターム(参考) 2H042 AA04 AA16 AA29 2H049 BA05 BB65 BC13 5D119 AA38 AA41 JA10 JA64 JA65 NA05
Claims (2)
- 【請求項1】 対向し合う鏡面状の2つの主平面の一方
が他方に対して角度θだけ傾斜した傾斜主平面であると
共に、該傾斜主平面には反射防止膜が成膜され、他方の
主平面には波長分離膜が成膜され、上記傾斜主平面の一
つの端縁には識別用の面取り部が設けられているウェッ
ジビームスプリッタの製造方法であって、 鏡面加工された表裏両面に夫々反射防止膜を成膜した複
数枚の矩形の平板状光学部材を仮止め材により仮止めし
て積層する際に、各平板状光学部材の端縁を結ぶ平面と
平板状光学部材の板面との間の形成角度が90度−θの
傾斜角度となるように平板状光学部材の面方向位置を順
次ずらして階段状に積層する積層体形成工程と、 上記積層体形成工程において一体化された積層体を、上
記90度−θの傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平
行な切断面にて複数の積層分割体に切断する切断工程
と、 上記切断工程により分割された複数の積層分割体の切断
面同士が接合するように各積層分割体間を仮止め材にて
仮止めして積層する際に、各積層分割体の端縁を結ぶ平
面と積層分割体の切断面との間の形成角度が90度とな
るように積層する仮止め工程と、 上記仮止め材にて仮止めされた複数の積層分割体を、上
記切断工程における切断面と直交する所定ピッチの複数
の平行な切断面にて切断して仮止め積層体を形成する分
断工程と、 上記分断工程により得られた仮止め積層体の切断面を鏡
面加工する鏡面加工工程と、 該仮止め積層体の鏡面加工面に波長分離膜を成膜する波
長分離膜成膜工程と、 波長分離膜を成膜された仮止め積層体を、上記仮止め材
による仮止め状態を解消することにより複数のウェッジ
ビームスプリッタが直列に連結一体化したウェッジビー
ムスプリッタ連結体に分離するウェッジビームスプリッ
タ連結体形成工程と、 上記ウェッジビームスプリッタ連結体を構成する上記傾
斜主平面の一端縁に沿って上記識別用の面取り部を形成
する面取り工程と、 面取り工程を経た上記ウェッジビームスプリッタ連結体
を、上記波長分離膜成膜面と直交する方向の切断面に沿
って、所定の長手方向間隔にて切断することにより複数
のウェッジビームスプリッタを形成する分断工程と、か
ら成ることを特徴とするウェッジビームスプリッタの製
造方法。 - 【請求項2】 上記角度θが1.65度であることを特
徴とする請求項1記載のウェッジビームスプリッタの製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11200861A JP2001027709A (ja) | 1999-07-14 | 1999-07-14 | ウェッジビームスプリッタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11200861A JP2001027709A (ja) | 1999-07-14 | 1999-07-14 | ウェッジビームスプリッタの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001027709A true JP2001027709A (ja) | 2001-01-30 |
Family
ID=16431452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11200861A Pending JP2001027709A (ja) | 1999-07-14 | 1999-07-14 | ウェッジビームスプリッタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001027709A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006220774A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子の製造方法 |
CN113168081A (zh) * | 2018-09-11 | 2021-07-23 | 索尼公司 | 偏振分束器和投影仪 |
-
1999
- 1999-07-14 JP JP11200861A patent/JP2001027709A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006220774A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子の製造方法 |
JP4655659B2 (ja) * | 2005-02-08 | 2011-03-23 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子の製造方法 |
CN113168081A (zh) * | 2018-09-11 | 2021-07-23 | 索尼公司 | 偏振分束器和投影仪 |
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