JP2001027620A - ソーラスリットを有するｘ線分析装置 - Google Patents
ソーラスリットを有するｘ線分析装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 構成が複雑になることなく、１つのソーラス
リットにより、試料の大径測定に必要な分解能と、試料
の小径測定に必要な感度と分解能を満たすことのできる
Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 １次Ｘ線Ｂ１が照射された試料Ｓから発
生する２次Ｘ線Ｂ２を検出器６で検出して試料Ｓを分析
するＸ線分析装置において、前記２次Ｘ線Ｂ２の通路
に、前記試料Ｓ上の測定部位Ｍを制限する絞り孔２ａを
有する視野制限用コリメータ２と、複数の平板状の箔７
を重ね前記コリメータ２を通過した２次Ｘ線Ｂ２を平行
化するソーラスリット３とを設ける。前記ソーラスリッ
ト３においては、前記コリメータ２の小径の絞り孔２ａ
1 を通った２次Ｘ線Ｂ２を通過させる小径対応部分Ｄ１
の箔間隔ｄ1 を、他の部分の箔間隔ｄよりも大きく設定
する。
リットにより、試料の大径測定に必要な分解能と、試料
の小径測定に必要な感度と分解能を満たすことのできる
Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 １次Ｘ線Ｂ１が照射された試料Ｓから発
生する２次Ｘ線Ｂ２を検出器６で検出して試料Ｓを分析
するＸ線分析装置において、前記２次Ｘ線Ｂ２の通路
に、前記試料Ｓ上の測定部位Ｍを制限する絞り孔２ａを
有する視野制限用コリメータ２と、複数の平板状の箔７
を重ね前記コリメータ２を通過した２次Ｘ線Ｂ２を平行
化するソーラスリット３とを設ける。前記ソーラスリッ
ト３においては、前記コリメータ２の小径の絞り孔２ａ
1 を通った２次Ｘ線Ｂ２を通過させる小径対応部分Ｄ１
の箔間隔ｄ1 を、他の部分の箔間隔ｄよりも大きく設定
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料の小径測定ま
たはそれよりも大きい径の測定（以下、大径測定とい
う）に兼用できるソーラスリットを有するＸ線分析装置
に関する。
たはそれよりも大きい径の測定（以下、大径測定とい
う）に兼用できるソーラスリットを有するＸ線分析装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】１次Ｘ線
が照射された試料から発生する２次Ｘ線を検出器で検出
して試料を分析するＸ線分析装置の１つとして、ソーラ
スリットで２次Ｘ線を平行化する平行ビーム法を用いる
波長分散型蛍光Ｘ線分析装置がある。この種のＸ線分析
装置は、試料から発生する蛍光Ｘ線（２次Ｘ線）のう
ち、被測定部位および後段の光学系でカットされる周辺
部位からのＸ線のみを通過させる視野制限用コリメー
タ、視野制限用コリメータを通過した２次Ｘ線を平行化
する１次ソーラスリット、２次Ｘ線を分光する分光結
晶、分光した２次Ｘ線を平行化する２次ソーラスリッ
ト、および分光した２次Ｘ線の強度を検出する検出器を
備えている。
が照射された試料から発生する２次Ｘ線を検出器で検出
して試料を分析するＸ線分析装置の１つとして、ソーラ
スリットで２次Ｘ線を平行化する平行ビーム法を用いる
波長分散型蛍光Ｘ線分析装置がある。この種のＸ線分析
装置は、試料から発生する蛍光Ｘ線（２次Ｘ線）のう
ち、被測定部位および後段の光学系でカットされる周辺
部位からのＸ線のみを通過させる視野制限用コリメー
タ、視野制限用コリメータを通過した２次Ｘ線を平行化
する１次ソーラスリット、２次Ｘ線を分光する分光結
晶、分光した２次Ｘ線を平行化する２次ソーラスリッ
ト、および分光した２次Ｘ線の強度を検出する検出器を
備えている。
【０００３】図７は標準的なソーラスリット２１を示す
もので、複数の平板状の鋼箔等からなる金属箔を同一間
隔ｄ1 で平行に重ねることにより、互いに平行で同一間
隔の複数のスリット（通路）２３を形成したものであ
り、通常、試料面に対して２５°ないし５０°の角度と
なるように配置される。この標準的なソーラスリット２
１における前記箔間隔ｄ1 は０．２〜０．５ｍｍ程度に
設定され、また前記箔の厚みは０．０５ｍｍ程度に設定
される。このようなソーラスリット２１を用いた近年の
波長分散型蛍光Ｘ線分析装置では、通常の測定径（直径
３０ｍｍ程度）よりもかなり小さい直径１ｍｍ程度また
はそれより若干小さい小径の測定面（測定部位）を分析
できるようになってきている。
もので、複数の平板状の鋼箔等からなる金属箔を同一間
隔ｄ1 で平行に重ねることにより、互いに平行で同一間
隔の複数のスリット（通路）２３を形成したものであ
り、通常、試料面に対して２５°ないし５０°の角度と
なるように配置される。この標準的なソーラスリット２
１における前記箔間隔ｄ1 は０．２〜０．５ｍｍ程度に
設定され、また前記箔の厚みは０．０５ｍｍ程度に設定
される。このようなソーラスリット２１を用いた近年の
波長分散型蛍光Ｘ線分析装置では、通常の測定径（直径
３０ｍｍ程度）よりもかなり小さい直径１ｍｍ程度また
はそれより若干小さい小径の測定面（測定部位）を分析
できるようになってきている。
【０００４】なお、前記Ｘ線分析装置の波長分解能は、
前記ソーラスリット２１の光路方向の長さを一定とする
と、２次Ｘ線がソーラスリット２１のスリット２３中を
通過するとき制限される分散角度θを主たる因子として
いるので、前記箔間隔ｄ1 が小さいほど分解能は高くな
り、逆に前記箔間隔ｄ1 が大きいほど感度は高くなる。
前記ソーラスリット２１の光路方向の長さを一定とする
と、２次Ｘ線がソーラスリット２１のスリット２３中を
通過するとき制限される分散角度θを主たる因子として
いるので、前記箔間隔ｄ1 が小さいほど分解能は高くな
り、逆に前記箔間隔ｄ1 が大きいほど感度は高くなる。
【０００５】しかし、前記ソーラスリット２１では、複
数のスリット２３の間隔（箔間隔に相当）ｄ1 をすべて
同一としているので、試料の測定面が１ｍｍ程度の小径
である場合には、測定面の径が、ソーラスリット２１の
箔間隔ｄ1 に近づくために、試料からソーラスリット２
１を見込む仰角や、試料に対する個々の箔２２の位置関
係によっては、期待した感度が得られないことがあり、
組み立てられる装置間でも感度にばらつきが生じかねな
い。
数のスリット２３の間隔（箔間隔に相当）ｄ1 をすべて
同一としているので、試料の測定面が１ｍｍ程度の小径
である場合には、測定面の径が、ソーラスリット２１の
箔間隔ｄ1 に近づくために、試料からソーラスリット２
１を見込む仰角や、試料に対する個々の箔２２の位置関
係によっては、期待した感度が得られないことがあり、
組み立てられる装置間でも感度にばらつきが生じかねな
い。
【０００６】すなわち、試料とソーラスリットの位置関
係が、例えば図９に示す状態のときには、試料Ｓの測定
面Ｍの中央部や周辺部から発生する２次Ｘ線Ｂ２がソー
ラスリット２１の箔２２で遮られてしまうので、感度不
良となる。また、前記位置関係が、図１０に示す状態の
ときにも、基本的には感度は良くないが、この場合、試
料Ｓの測定面Ｍの中央部や周辺部から発生する２次Ｘ線
Ｂ２は箔２２で遮られないので、図９の場合ほど感度は
悪くならない。
係が、例えば図９に示す状態のときには、試料Ｓの測定
面Ｍの中央部や周辺部から発生する２次Ｘ線Ｂ２がソー
ラスリット２１の箔２２で遮られてしまうので、感度不
良となる。また、前記位置関係が、図１０に示す状態の
ときにも、基本的には感度は良くないが、この場合、試
料Ｓの測定面Ｍの中央部や周辺部から発生する２次Ｘ線
Ｂ２は箔２２で遮られないので、図９の場合ほど感度は
悪くならない。
【０００７】他方、感度を大きくしたい試料に対して
は、図８に示す高感度ソーラスリット２１Ａが用いられ
る。このソーラスリット２１Ａの箔間隔ｄ2 は、図７の
箔間隔ｄ1 よりも大きく（通常、１〜４ｍｍ程度）設定
されており、これにより、箔２２によって減衰されるＸ
線量が減少し、高い感度が得られる。この高感度ソーラ
スリット２１Ａを用いると、小径の測定面に対する感度
は向上するが、大径の測定面に対する分解能は低下す
る。
は、図８に示す高感度ソーラスリット２１Ａが用いられ
る。このソーラスリット２１Ａの箔間隔ｄ2 は、図７の
箔間隔ｄ1 よりも大きく（通常、１〜４ｍｍ程度）設定
されており、これにより、箔２２によって減衰されるＸ
線量が減少し、高い感度が得られる。この高感度ソーラ
スリット２１Ａを用いると、小径の測定面に対する感度
は向上するが、大径の測定面に対する分解能は低下す
る。
【０００８】そこで、前記ソーラスリット２１または２
１Ａとは別に、スリット間隔を小径測定部位専用に設定
した単スリットやソーラスリットを設置し、測定面の大
きさに応じて使い分けることも考えられるが、この場合
には装置の構成が複雑になってしまう。
１Ａとは別に、スリット間隔を小径測定部位専用に設定
した単スリットやソーラスリットを設置し、測定面の大
きさに応じて使い分けることも考えられるが、この場合
には装置の構成が複雑になってしまう。
【０００９】本発明は、以上の事情に鑑みてなされたも
ので、構成が複雑になることなく、１つのソーラスリッ
トにより、試料の大径測定に必要な分解能または感度
と、試料の小径測定に必要な感度または分解能を満たす
ことのできるソーラスリットを有するＸ線分析装置を提
供することを目的とする。
ので、構成が複雑になることなく、１つのソーラスリッ
トにより、試料の大径測定に必要な分解能または感度
と、試料の小径測定に必要な感度または分解能を満たす
ことのできるソーラスリットを有するＸ線分析装置を提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記した目的を達成する
ために、本発明の請求項１に係るソーラスリットを有す
るＸ線分析装置は、１次Ｘ線が照射された試料から発生
する２次Ｘ線を検出器で検出して試料を分析する装置で
あって、前記２次Ｘ線の通路に、前記試料上の測定部位
を制限する絞り孔を有する視野制限用コリメータと、複
数の平板状の箔を重ね前記コリメータを通過した２次Ｘ
線を平行化するソーラスリットとが設けられ、前記ソー
ラスリットは、前記コリメータの小径の絞り孔を通った
２次Ｘ線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部
分の箔間隔よりも大きく設定されている。
ために、本発明の請求項１に係るソーラスリットを有す
るＸ線分析装置は、１次Ｘ線が照射された試料から発生
する２次Ｘ線を検出器で検出して試料を分析する装置で
あって、前記２次Ｘ線の通路に、前記試料上の測定部位
を制限する絞り孔を有する視野制限用コリメータと、複
数の平板状の箔を重ね前記コリメータを通過した２次Ｘ
線を平行化するソーラスリットとが設けられ、前記ソー
ラスリットは、前記コリメータの小径の絞り孔を通った
２次Ｘ線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部
分の箔間隔よりも大きく設定されている。
【００１１】前記Ｘ線分析装置によれば、ソーラスリッ
トにおいて、コリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ
線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔
間隔よりも大きく設定されているから、箔によって遮ら
れる２次Ｘ線の量が少なくなるので、試料の小径の測定
部位を測定する場合でも、必要な感度を得ることができ
る。また、箔間隔を大きく設定した小径対応部分は全体
の一部であるため、大径測定を行う場合にも、大きな箔
間隔による分解能の低下は殆ど生じない。その結果、構
成が複雑になることなく、１つのソーラスリットによ
り、試料の大径測定に必要な分解能と、試料の小径測定
に必要な感度と分解能とを満たすことができる。
トにおいて、コリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ
線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔
間隔よりも大きく設定されているから、箔によって遮ら
れる２次Ｘ線の量が少なくなるので、試料の小径の測定
部位を測定する場合でも、必要な感度を得ることができ
る。また、箔間隔を大きく設定した小径対応部分は全体
の一部であるため、大径測定を行う場合にも、大きな箔
間隔による分解能の低下は殆ど生じない。その結果、構
成が複雑になることなく、１つのソーラスリットによ
り、試料の大径測定に必要な分解能と、試料の小径測定
に必要な感度と分解能とを満たすことができる。
【００１２】また、本発明の請求項２に係るソーラスリ
ットを有するＸ線分析装置は、請求項１の構成におい
て、前記小径対応部分が通路内部に箔を有しない通路で
形成されている。
ットを有するＸ線分析装置は、請求項１の構成におい
て、前記小径対応部分が通路内部に箔を有しない通路で
形成されている。
【００１３】前記Ｘ線分析装置によれば、試料の大径測
定に期待される分解能が得られる箔間隔としたソーラス
リットにおいて、小径対応部分の箔間隔を他の部分の箔
間隔よりも大きくするだけで、試料の大径測定に必要な
分解能と、試料の小径測定に必要な感度とを満たすソー
ラスリットを簡単に構成することができる。
定に期待される分解能が得られる箔間隔としたソーラス
リットにおいて、小径対応部分の箔間隔を他の部分の箔
間隔よりも大きくするだけで、試料の大径測定に必要な
分解能と、試料の小径測定に必要な感度とを満たすソー
ラスリットを簡単に構成することができる。
【００１４】また、本発明の請求項３に係るソーラスリ
ットを有するＸ線分析装置は、１次Ｘ線が照射された試
料から発生する２次Ｘ線を検出器で検出して試料を分析
するＸ線分析装置であって、前記２次Ｘ線の通路に、前
記試料上の測定部位を制限する絞り孔を有する視野制限
用コリメータと、複数の平板状の箔を重ね前記コリメー
タを通過した２次Ｘ線を平行化するソーラスリットとが
設けられ、前記ソーラスリットは、前記コリメータの小
径の絞り孔を通った２次Ｘ線を通過させる小径対応部分
の箔間隔が、他の部分の箔間隔よりも小さく設定されて
いる。
ットを有するＸ線分析装置は、１次Ｘ線が照射された試
料から発生する２次Ｘ線を検出器で検出して試料を分析
するＸ線分析装置であって、前記２次Ｘ線の通路に、前
記試料上の測定部位を制限する絞り孔を有する視野制限
用コリメータと、複数の平板状の箔を重ね前記コリメー
タを通過した２次Ｘ線を平行化するソーラスリットとが
設けられ、前記ソーラスリットは、前記コリメータの小
径の絞り孔を通った２次Ｘ線を通過させる小径対応部分
の箔間隔が、他の部分の箔間隔よりも小さく設定されて
いる。
【００１５】前記Ｘ線分析装置によれば、ソーラスリッ
トにおいて、コリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ
線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔
間隔よりも小さく設定されているから、２次Ｘ線が通過
するとき制限される分散角度が小さくなるので、試料の
小径測定を行う場合でも、必要な分解能を得ることがで
きる。また、箔間隔を小さく設定した小径対応部分は全
体の一部であるため、大径測定を行う場合にも、小さい
箔間隔による感度の低下は殆ど生じない。したがって、
小径対応部分の箔間隔を他の部分の箔間隔より小さくす
るだけで、構成が複雑になることなく、１つのソーラス
リットにより、試料の大径測定を高感度で行え、かつ、
試料の小径測定に必要な分解能と感度とを満たすことが
できる。
トにおいて、コリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ
線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔
間隔よりも小さく設定されているから、２次Ｘ線が通過
するとき制限される分散角度が小さくなるので、試料の
小径測定を行う場合でも、必要な分解能を得ることがで
きる。また、箔間隔を小さく設定した小径対応部分は全
体の一部であるため、大径測定を行う場合にも、小さい
箔間隔による感度の低下は殆ど生じない。したがって、
小径対応部分の箔間隔を他の部分の箔間隔より小さくす
るだけで、構成が複雑になることなく、１つのソーラス
リットにより、試料の大径測定を高感度で行え、かつ、
試料の小径測定に必要な分解能と感度とを満たすことが
できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
について図面を参照しながら詳述する。図１は本発明の
一実施形態である平行ビーム法を用いる波長分散型蛍光
Ｘ線分析装置の概略図を示す。本装置は、試料Ｓに１次
Ｘ線Ｂ１を照射するＸ線管１、試料表面の特定の形状の
面で形成される測定部位Ｍからの２次Ｘ線（蛍光Ｘ線）
Ｂ２のみを後述する検出器６に取り込むように視野制限
する円形の絞り孔２ａを有する視野制限用コリメータ
２、このコリメータ２を通過した２次Ｘ線Ｂ２を平行化
する１次ソーラスリット３、ブラッグの式を満足する波
長の２次Ｘ線Ｂ２のみを入射角θと同一の回折角θで回
折する分光結晶４、回折した２次Ｘ線Ｂ３を平行化する
２次ソーラスリット５、および２次Ｘ線Ｂ３の強度を検
出する検出器６を備えており、この検出値に基づいて試
料Ｓの元素分析がなされる。分光結晶４と検出器６と
は、図示しないゴニオメータにより、一定の角度関係を
保って回動される。
について図面を参照しながら詳述する。図１は本発明の
一実施形態である平行ビーム法を用いる波長分散型蛍光
Ｘ線分析装置の概略図を示す。本装置は、試料Ｓに１次
Ｘ線Ｂ１を照射するＸ線管１、試料表面の特定の形状の
面で形成される測定部位Ｍからの２次Ｘ線（蛍光Ｘ線）
Ｂ２のみを後述する検出器６に取り込むように視野制限
する円形の絞り孔２ａを有する視野制限用コリメータ
２、このコリメータ２を通過した２次Ｘ線Ｂ２を平行化
する１次ソーラスリット３、ブラッグの式を満足する波
長の２次Ｘ線Ｂ２のみを入射角θと同一の回折角θで回
折する分光結晶４、回折した２次Ｘ線Ｂ３を平行化する
２次ソーラスリット５、および２次Ｘ線Ｂ３の強度を検
出する検出器６を備えており、この検出値に基づいて試
料Ｓの元素分析がなされる。分光結晶４と検出器６と
は、図示しないゴニオメータにより、一定の角度関係を
保って回動される。
【００１７】前記視野制限用コリメータ２は、大きさの
異なる複数の絞り孔２ａを有し、試料Ｓの測定部位の大
きさに応じて、これに対応する絞り孔２ａが選択されて
２次Ｘ線Ｂ２の光路に配置される。
異なる複数の絞り孔２ａを有し、試料Ｓの測定部位の大
きさに応じて、これに対応する絞り孔２ａが選択されて
２次Ｘ線Ｂ２の光路に配置される。
【００１８】前記各ソーラスリット３，５は、複数の平
板状の鋼のような金属製の箔７を重ねて構成され、その
間に２次Ｘ線の通路となるスリット３０を形成する。そ
のうち、１次ソーラスリット３は、図２に示すように、
前記コリメータ２の小径の絞り孔２ａ1 （その孔径とし
て、通常は直径１ｍｍのものを使用）を通った２次Ｘ線
Ｂ２を通過させる小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ1 が、他
の部分の箔間隔ｄよりも大きく設定されている。好まし
くは、前記箔間隔ｄ1 を他の部分の箔間隔ｄの１．５〜
４倍に設定するのが良い。具体的には、前記箔間隔ｄは
０．２〜０．５ｍｍ程度に設定され、前記箔間隔ｄ1 は
１〜４ｍｍ程度に設定される。ここで、小径とは、例え
ば０．５〜５ｍｍ程度であり、大径とは、例えば１０〜
４０ｍｍ程度である。
板状の鋼のような金属製の箔７を重ねて構成され、その
間に２次Ｘ線の通路となるスリット３０を形成する。そ
のうち、１次ソーラスリット３は、図２に示すように、
前記コリメータ２の小径の絞り孔２ａ1 （その孔径とし
て、通常は直径１ｍｍのものを使用）を通った２次Ｘ線
Ｂ２を通過させる小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ1 が、他
の部分の箔間隔ｄよりも大きく設定されている。好まし
くは、前記箔間隔ｄ1 を他の部分の箔間隔ｄの１．５〜
４倍に設定するのが良い。具体的には、前記箔間隔ｄは
０．２〜０．５ｍｍ程度に設定され、前記箔間隔ｄ1 は
１〜４ｍｍ程度に設定される。ここで、小径とは、例え
ば０．５〜５ｍｍ程度であり、大径とは、例えば１０〜
４０ｍｍ程度である。
【００１９】前記構成の装置の動作を説明する。試料Ｓ
上の測定部位Ｍが小径である場合（または小径の試料Ｓ
のＸ線分析を行う場合）、視野制限用コリメータ２で
は、測定部位Ｍの径に対応する小さい絞り孔２ａ1 が選
択されて２次Ｘ線Ｂ２の光路に配置され、以下のように
Ｘ線分析が行われる。まず、Ｘ線管１から発生した１次
Ｘ線Ｂ１が試料Ｓに照射される。試料Ｓからは、２次Ｘ
線Ｂ２として試料Ｓ中の元素の蛍光Ｘ線が発生する。
上の測定部位Ｍが小径である場合（または小径の試料Ｓ
のＸ線分析を行う場合）、視野制限用コリメータ２で
は、測定部位Ｍの径に対応する小さい絞り孔２ａ1 が選
択されて２次Ｘ線Ｂ２の光路に配置され、以下のように
Ｘ線分析が行われる。まず、Ｘ線管１から発生した１次
Ｘ線Ｂ１が試料Ｓに照射される。試料Ｓからは、２次Ｘ
線Ｂ２として試料Ｓ中の元素の蛍光Ｘ線が発生する。
【００２０】前記蛍光Ｘ線Ｂ２は、測定部位Ｍとその周
辺から発生したものがコリメータ２を通過して、１次ソ
ーラスリット３により平行化されることにより、測定部
位Ｍから発生した蛍光Ｘ線Ｂ２のみが１次ソーラスリッ
ト３を通過し、分光結晶４によりブラッグの式を満足す
る所定の波長の蛍光Ｘ線Ｂ２のみが入射角θと同一の回
折角θで回折される。回折された蛍光Ｘ線Ｂ３は、２次
ソーラスリット５により平行化され、検出器６により蛍
光Ｘ線Ｂ３の強度が検出される。
辺から発生したものがコリメータ２を通過して、１次ソ
ーラスリット３により平行化されることにより、測定部
位Ｍから発生した蛍光Ｘ線Ｂ２のみが１次ソーラスリッ
ト３を通過し、分光結晶４によりブラッグの式を満足す
る所定の波長の蛍光Ｘ線Ｂ２のみが入射角θと同一の回
折角θで回折される。回折された蛍光Ｘ線Ｂ３は、２次
ソーラスリット５により平行化され、検出器６により蛍
光Ｘ線Ｂ３の強度が検出される。
【００２１】この場合、小径の測定部位Ｍからの２次Ｘ
線Ｂ２は、コリメータ２の小さい絞り孔２ａ1 で制限さ
れて、１次ソーラスリット３の小径対応部分Ｄ１のスリ
ット３０を通過する。この小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ
1 は、他の部分の箔間隔ｄより大きく設定されているか
ら、箔７によって遮られる２次Ｘ線Ｂ２の量が少なくな
るので、測定部位Ｍが小径であっても、感度よくＸ線分
析を行うことができる。
線Ｂ２は、コリメータ２の小さい絞り孔２ａ1 で制限さ
れて、１次ソーラスリット３の小径対応部分Ｄ１のスリ
ット３０を通過する。この小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ
1 は、他の部分の箔間隔ｄより大きく設定されているか
ら、箔７によって遮られる２次Ｘ線Ｂ２の量が少なくな
るので、測定部位Ｍが小径であっても、感度よくＸ線分
析を行うことができる。
【００２２】また、図３に示すように、試料Ｓ上の測定
部位Ｍが大径である場合、または大径の試料ＳのＸ線分
析を行う場合、視野制限用コリメータ２では、測定部位
Ｍの径に対応する大きい絞り孔２ａ2 （その孔径とし
て、通常は直径３０ｍｍのものを使用）が選択されて２
次Ｘ線Ｂ２の光路に配置され、同様にＸ線分析が行われ
る。
部位Ｍが大径である場合、または大径の試料ＳのＸ線分
析を行う場合、視野制限用コリメータ２では、測定部位
Ｍの径に対応する大きい絞り孔２ａ2 （その孔径とし
て、通常は直径３０ｍｍのものを使用）が選択されて２
次Ｘ線Ｂ２の光路に配置され、同様にＸ線分析が行われ
る。
【００２３】この場合、コリメータ２の大きい絞り孔２
ａ2 で制限される２次Ｘ線Ｂ２は、１次ソーラスリット
３の前記小径対応部分Ｄ１を含み、この部分より十分広
い大径対応部分Ｄ２を通過する。１次ソーラスリット３
の前記小径対応部分Ｄ１を除く他の部分の箔間隔ｄは、
全体の一部に過ぎない前記小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ
1 よりも小さく設定されているので、このとき前記小径
対応部分Ｄ１の影響をほとんど受けることなく、大径の
測定部位Ｍに期待される分解能でＸ線分析できる。
ａ2 で制限される２次Ｘ線Ｂ２は、１次ソーラスリット
３の前記小径対応部分Ｄ１を含み、この部分より十分広
い大径対応部分Ｄ２を通過する。１次ソーラスリット３
の前記小径対応部分Ｄ１を除く他の部分の箔間隔ｄは、
全体の一部に過ぎない前記小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ
1 よりも小さく設定されているので、このとき前記小径
対応部分Ｄ１の影響をほとんど受けることなく、大径の
測定部位Ｍに期待される分解能でＸ線分析できる。
【００２４】また、１つの１次ソーラスリット３によ
り、試料の大径測定に必要な分解能と、試料の小径測定
に必要な感度とを満たすために、１次ソーラスリット３
の前記小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ1 を他の部分の箔間
隔ｄよりも大きく設定するだけでよいので、１次ソーラ
スリット３の構成が複雑になることがない。
り、試料の大径測定に必要な分解能と、試料の小径測定
に必要な感度とを満たすために、１次ソーラスリット３
の前記小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ1 を他の部分の箔間
隔ｄよりも大きく設定するだけでよいので、１次ソーラ
スリット３の構成が複雑になることがない。
【００２５】なお、前記実施形態では、１次ソーラスリ
ット３における小径対応部分Ｄ１にも箔７が有る場合を
示したが、図４に示すように、前記小径対応部分Ｄ１を
通路内部に箔７を有しない通路で形成してもよい。この
場合には、例えば試料の大径測定に期待される分解能が
得られる箔間隔としたソーラスリットにおいて、前記小
径対応部分Ｄ１の箔間隔を他の部分の箔間隔よりも大き
くするだけで、試料の大径測定に必要な分解能と、試料
の小径測定に必要な感度とを満たす１次ソーラスリット
３を容易に構成することができる。
ット３における小径対応部分Ｄ１にも箔７が有る場合を
示したが、図４に示すように、前記小径対応部分Ｄ１を
通路内部に箔７を有しない通路で形成してもよい。この
場合には、例えば試料の大径測定に期待される分解能が
得られる箔間隔としたソーラスリットにおいて、前記小
径対応部分Ｄ１の箔間隔を他の部分の箔間隔よりも大き
くするだけで、試料の大径測定に必要な分解能と、試料
の小径測定に必要な感度とを満たす１次ソーラスリット
３を容易に構成することができる。
【００２６】また、前記実施形態では、１次ソーラスリ
ット３の小径対応部分Ｄ１における箔間隔ｄ1 を他の部
分の箔間隔ｄよりも大きく設定した場合を示したが、図
５および図６に示すように、１次ソーラスリット３の小
径対応部分Ｄ１におけるスリット３０の箔間隔ｄ1 を他
の部分の箔間隔ｄよりも小さく設定してもよい。好まし
くは、前記箔間隔ｄ1 を他の部分の箔間隔ｄの０．１〜
０．７倍に設定するのが良い。なお、ここでは、１次ソ
ーラスリットの交換機構を備えた従来のＸ線分析装置に
採用されている標準ソーラスリット３Ａ（図７）の箔間
隔ｄ1 よりも若干大きい箔間隔ｄ3 を、前記小径対応部
分Ｄ１の箔間隔としており、同じＸ線分析装置に採用さ
れている高感度ソーラスリット３Ｂ（図８）の箔間隔ｄ
2 を他の部分の箔間隔としている。
ット３の小径対応部分Ｄ１における箔間隔ｄ1 を他の部
分の箔間隔ｄよりも大きく設定した場合を示したが、図
５および図６に示すように、１次ソーラスリット３の小
径対応部分Ｄ１におけるスリット３０の箔間隔ｄ1 を他
の部分の箔間隔ｄよりも小さく設定してもよい。好まし
くは、前記箔間隔ｄ1 を他の部分の箔間隔ｄの０．１〜
０．７倍に設定するのが良い。なお、ここでは、１次ソ
ーラスリットの交換機構を備えた従来のＸ線分析装置に
採用されている標準ソーラスリット３Ａ（図７）の箔間
隔ｄ1 よりも若干大きい箔間隔ｄ3 を、前記小径対応部
分Ｄ１の箔間隔としており、同じＸ線分析装置に採用さ
れている高感度ソーラスリット３Ｂ（図８）の箔間隔ｄ
2 を他の部分の箔間隔としている。
【００２７】この実施形態において、図５に示すよう
に、２次Ｘ線Ｂ２の光路に視野制限用コリメータ２の小
さい絞り孔２ａ1 を配置して、試料Ｓ上の小径の測定部
位ＭのＸ線分析を行う場合（または小径の試料ＳのＸ線
分析を行う場合）、小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ3 は、
他の部分の箔間隔ｄ2 より小さく設定されているから、
２次Ｘ線Ｂ２が１次ソーラスリット３を通過するとき制
限される分散角度が小さくなるので、小径測定に必要な
分解能を得ることができる。また、コリメータ２の絞り
孔２ａ1 を小径にして、この絞り孔２ａ1 を通った２次
Ｘ線Ｂ２の大部分が、箔７の前端面に当たることなく、
小径対応部分Ｄ１のスリット３０を通過するように設定
することにより、感度を向上させることができる。
に、２次Ｘ線Ｂ２の光路に視野制限用コリメータ２の小
さい絞り孔２ａ1 を配置して、試料Ｓ上の小径の測定部
位ＭのＸ線分析を行う場合（または小径の試料ＳのＸ線
分析を行う場合）、小径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ3 は、
他の部分の箔間隔ｄ2 より小さく設定されているから、
２次Ｘ線Ｂ２が１次ソーラスリット３を通過するとき制
限される分散角度が小さくなるので、小径測定に必要な
分解能を得ることができる。また、コリメータ２の絞り
孔２ａ1 を小径にして、この絞り孔２ａ1 を通った２次
Ｘ線Ｂ２の大部分が、箔７の前端面に当たることなく、
小径対応部分Ｄ１のスリット３０を通過するように設定
することにより、感度を向上させることができる。
【００２８】さらに、図６に示すように、２次Ｘ線の光
路に視野制限用コリメータ２の大きい絞り孔２ａ2 を配
置して、試料Ｓ上の大径の測定部位ＭのＸ線分析を行う
場合、または大径の試料ＳのＸ線分析を行う場合、コリ
メータ２の大きい絞り孔２ａ 2 で制限される２次Ｘ線Ｂ
２は、１次ソーラスリット３の前記小径対応部分Ｄ１を
含み、この部分より十分広い大径対応部分Ｄ２を通過す
る。１次ソーラスリット３の前記小径対応部分Ｄ１を除
く他の部分の箔間隔ｄは、全体の一部に過ぎない前記小
径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ3 よりも大きく設定されてい
るので、このとき前記小径対応部分Ｄ１の影響で感度低
下を招くことはなく、大径の測定部位Ｍに期待される感
度でＸ線分析できる。
路に視野制限用コリメータ２の大きい絞り孔２ａ2 を配
置して、試料Ｓ上の大径の測定部位ＭのＸ線分析を行う
場合、または大径の試料ＳのＸ線分析を行う場合、コリ
メータ２の大きい絞り孔２ａ 2 で制限される２次Ｘ線Ｂ
２は、１次ソーラスリット３の前記小径対応部分Ｄ１を
含み、この部分より十分広い大径対応部分Ｄ２を通過す
る。１次ソーラスリット３の前記小径対応部分Ｄ１を除
く他の部分の箔間隔ｄは、全体の一部に過ぎない前記小
径対応部分Ｄ１の箔間隔ｄ3 よりも大きく設定されてい
るので、このとき前記小径対応部分Ｄ１の影響で感度低
下を招くことはなく、大径の測定部位Ｍに期待される感
度でＸ線分析できる。
【００２９】また、前記各実施形態では、１次ソーラス
リット３を改造した場合について説明したが、２次ソー
ラスリット５を同様の構成としてもよい。
リット３を改造した場合について説明したが、２次ソー
ラスリット５を同様の構成としてもよい。
【００３０】
【発明の効果】以上のように、本発明の請求項１のソー
ラスリットを有するＸ線分析装置によれば、ソーラスリ
ットにおけるコリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ
線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔
間隔よりも大きく設定されているため、構成が複雑にな
ることなく、１つのソーラスリットにより、試料の大径
測定に必要な分解能と、試料の小径測定に必要な感度と
分解能を満たすことができる。
ラスリットを有するＸ線分析装置によれば、ソーラスリ
ットにおけるコリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ
線を通過させる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔
間隔よりも大きく設定されているため、構成が複雑にな
ることなく、１つのソーラスリットにより、試料の大径
測定に必要な分解能と、試料の小径測定に必要な感度と
分解能を満たすことができる。
【００３１】また、本発明の請求項３のソーラスリット
を有するＸ線分析装置によれば、ソーラスリットにおけ
るコリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ線を通過さ
せる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔間隔よりも
小さく設定されているため、構成が複雑になることな
く、１つのソーラスリットにより、試料の大径測定を高
感度で行え、かつ、試料の小径測定に必要な分解能と感
度とを満たすことができる。
を有するＸ線分析装置によれば、ソーラスリットにおけ
るコリメータの小径の絞り孔を通った２次Ｘ線を通過さ
せる小径対応部分の箔間隔が、他の部分の箔間隔よりも
小さく設定されているため、構成が複雑になることな
く、１つのソーラスリットにより、試料の大径測定を高
感度で行え、かつ、試料の小径測定に必要な分解能と感
度とを満たすことができる。
【図１】本発明の一実施形態に係るソーラスリットを有
するたＸ線分析装置の側面図である。
するたＸ線分析装置の側面図である。
【図２】同Ｘ線分析装置により小径測定部位を測定する
際の１次ソーラスリットを示す部分破断側面図である。
際の１次ソーラスリットを示す部分破断側面図である。
【図３】同Ｘ線分析装置により大径測定部位を測定する
際に１次ソーラスリットを示す部分破断側面図である。
際に１次ソーラスリットを示す部分破断側面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係るＸ線分析装置に
おける１次ソーラスリットを示す部分破断側面図であ
る。
おける１次ソーラスリットを示す部分破断側面図であ
る。
【図５】本発明の第３の実施形態に係るＸ線分析装置に
より小径測定部位を測定する際の１次ソーラスリットを
示す部分破断側面図である。
より小径測定部位を測定する際の１次ソーラスリットを
示す部分破断側面図である。
【図６】同Ｘ線分析装置により大径測定部位を測定する
際の１次ソーラスリットを示す部分破断側面図である。
際の１次ソーラスリットを示す部分破断側面図である。
【図７】１次ソーラスリット交換機構を備えた従来のＸ
線分析装置に採用される標準ソーラスリットを示す部分
破断側面図である。
線分析装置に採用される標準ソーラスリットを示す部分
破断側面図である。
【図８】同Ｘ線分析装置に採用される高感度ソーラスリ
ットを示す部分破断側面図である。
ットを示す部分破断側面図である。
【図９】従来例における１次ソーラスリットと試料との
位置関係を示す部分破断側面図である。
位置関係を示す部分破断側面図である。
【図１０】同１次ソーラスリットと試料との別の位置関
係を示す部分破断側面図である。
係を示す部分破断側面図である。
１…Ｘ線管、２…視野制限用コリメータ、２ａ，２ａ1
…絞り孔、３…１次ソーラスリット、５…２次ソーラス
リット、６…検出器、７…箔、Ｓ…試料、Ｂ１…１次Ｘ
線、Ｂ２，Ｂ３…２次Ｘ線、Ｄ１…ソーラスリットの小
径対応部分、Ｄ２…ソーラスリットの大径対応部分、ｄ
1 ，ｄ2 ，ｄ3 …箔間隔
…絞り孔、３…１次ソーラスリット、５…２次ソーラス
リット、６…検出器、７…箔、Ｓ…試料、Ｂ１…１次Ｘ
線、Ｂ２，Ｂ３…２次Ｘ線、Ｄ１…ソーラスリットの小
径対応部分、Ｄ２…ソーラスリットの大径対応部分、ｄ
1 ，ｄ2 ，ｄ3 …箔間隔
Claims (3)
- 【請求項１】 １次Ｘ線が照射された試料から発生する
２次Ｘ線を検出器で検出して試料を分析するＸ線分析装
置であって、 前記２次Ｘ線の通路に、前記試料上の測定部位を制限す
る絞り孔を有する視野制限用コリメータと、複数の平板
状の箔を重ね前記コリメータを通過した２次Ｘ線を平行
化するソーラスリットとが設けられ、 前記ソーラスリットは、前記コリメータの小径の絞り孔
を通った２次Ｘ線を通過させる小径対応部分の箔間隔
が、他の部分の箔間隔よりも大きく設定されているソー
ラスリットを有するＸ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記小径対応部分は
通路内部に箔を有しない通路で形成されているソーラス
リットを有するＸ線分析装置。 - 【請求項３】 １次Ｘ線が照射された試料から発生する
２次Ｘ線を検出器で検出して試料を分析するＸ線分析装
置であって、 前記２次Ｘ線の通路に、前記試料上の測定部位を制限す
る絞り孔を有する視野制限用コリメータと、複数の平板
状の箔を重ね前記コリメータを通過した２次Ｘ線を平行
化するソーラスリットとが設けられ、 前記ソーラスリットは、前記コリメータの小径の絞り孔
を通った２次Ｘ線を通過させる小径対応部分の箔間隔
が、他の部分の箔間隔よりも小さく設定されているソー
ラスリットを有するＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11198381A JP2001027620A (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | ソーラスリットを有するｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11198381A JP2001027620A (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | ソーラスリットを有するｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001027620A true JP2001027620A (ja) | 2001-01-30 |
Family
ID=16390186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11198381A Pending JP2001027620A (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | ソーラスリットを有するｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001027620A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100710309B1 (ko) * | 2005-08-09 | 2007-04-23 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 |
| US10794845B2 (en) | 2017-12-19 | 2020-10-06 | Bruker Axs Gmbh | Set-up and method for spatially resolved measurement with a wavelength-dispersive X-ray spectrometer |
-
1999
- 1999-07-13 JP JP11198381A patent/JP2001027620A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100710309B1 (ko) * | 2005-08-09 | 2007-04-23 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 |
| US10794845B2 (en) | 2017-12-19 | 2020-10-06 | Bruker Axs Gmbh | Set-up and method for spatially resolved measurement with a wavelength-dispersive X-ray spectrometer |
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