JP2001021430A - 容量式のセラミック製の相対圧力センサ - Google Patents

容量式のセラミック製の相対圧力センサ

Info

Publication number
JP2001021430A
JP2001021430A JP2000180449A JP2000180449A JP2001021430A JP 2001021430 A JP2001021430 A JP 2001021430A JP 2000180449 A JP2000180449 A JP 2000180449A JP 2000180449 A JP2000180449 A JP 2000180449A JP 2001021430 A JP2001021430 A JP 2001021430A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure sensor
substrate
diaphragm
electrode
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000180449A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3205327B2 (ja
Inventor
Frank Dr Hegner
ヘークナー フランク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Envec Mess und Regeltechnik GmbH and Co
Original Assignee
Envec Mess und Regeltechnik GmbH and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Envec Mess und Regeltechnik GmbH and Co filed Critical Envec Mess und Regeltechnik GmbH and Co
Publication of JP2001021430A publication Critical patent/JP2001021430A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3205327B2 publication Critical patent/JP3205327B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/06Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
    • G01L19/0627Protection against aggressive medium in general
    • G01L19/0654Protection against aggressive medium in general against moisture or humidity
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0072Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
    • G01L9/0075Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a ceramic diaphragm, e.g. alumina, fused quartz, glass

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 飽和限界付近まで達する相対湿度において、
事実上ゼロ点のずれが生じないような容量式のセラミッ
ク製の相対圧力センサを提供する。 【解決手段】 第1の電極14が取付けられている表面
を有するダイヤフラム11と、基板12とが設けられて
おり、該基板が、第1の表面から、この第1の表面に向
き合う第2の表面に基準空気をガイドするための孔23
を有しており、前記第1の表面がつや出しされていて、
この第1の表面に少なくとも1つの第2の電極15が取
り付けられており、前記基板と前記ダイヤフラム11と
が縁部において、スペーサホルダ20を用いて室13を
形成しながら互いにはんだ付け又はろう付けされてお
り、前記室13が、はんだ付け又はろう付け後に、前記
孔23を通してもたらされた疎水性の材料より成る層2
4によって、内側から覆われている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、容量式のセラミッ
ク製の相対圧力センサ(capacitive relative-pressure
sensor)に関する。相対圧力センサによって、例えば
液体、ガス又は蒸気等の媒体の圧力を測定することがで
きる。この場合、測定は、存在する大気圧又は周囲圧力
に対して行われ、この大気圧又は周囲圧力が基準圧力と
して用いられる。
【0002】
【従来の技術】アメリカ合衆国特許第5079953号
明細書によれば、3つの変化実施例のうちの1つとし
て、容量式のセラミック製の相対圧力センサで、第1の
電極が取付けられている表面を有するダイヤフラムと、
基板とが設けられており、該基板が、第1の表面から、
この第1の表面に向き合う第2の表面に基準空気をガイ
ドするための孔を有していて、この第2の表面に少なく
とも1つの第2の電極が取り付けられており、前記基板
と前記ダイヤフラムとが縁部において、スペーサホルダ
を用いて室を形成しながら互いにはんだ付け又はろう付
け例えば硬ろうを用いてろう付けされているものが記載
されている。
【0003】このような形式の相対圧力センサ(以下で
は簡単に圧力センサと称呼されている)においては、基
板に設けられた孔を介して大気の空気が室内に達する。
この大気の空気はここでは外気と称呼されていて、いわ
ゆる基準空気であって、もちろん多かれ少なかれ湿って
いる。
【0004】圧力センサが内部に組み込まれているケー
シングの構造的な構成によって、外部空気が湿気で飽和
している場合には、外気は室内に侵入する前に、その露
点(dew point)の温度が支配する箇所を通過又は流過し
なければならないので、その後で、基準空気はもはや露
点の温度を下回ることはない。これは、外気が、センサ
の室の温度と同じか又はそれよりも低い温度のケーシン
グ箇所を通過しなければならないことによって生じ、そ
れによって、この箇所で既に外気が露点に達し、ここで
凝縮されて、室内には湿気でもやは飽和しない基準空気
又は過剰に飽和した基準空気だけが達する。従って基準
空気の相対湿度は、例えば95%まで高くなる。
【0005】圧力センサの室内の相対湿度がこのように
高くなると、容量式の圧力センサが一般的に製造される
形式に関連して次のような問題が生じる。
【0006】ダイヤフラム及び基板のためのブランク(b
lank)は、粉状のセラミック出発材料と結合剤とから予
備成形され、次いで焼結されるいわゆる圧粉体(green c
ompact)であり、従って圧粉体から焼結体が形成され
る。
【0007】セラミック出発材料は、酸化アルミニウム
であってよい。圧力センサの酸化アルミニウム・焼結
体、つまり圧力センサのそれぞれの基板及びそれぞれの
ダイヤフラムは、大抵の場合、96重量%の純度を有し
ていて、特別な場合には、99,重量%の純度を有して
いる。焼結体は、製造技術的に制限されて荒い表面を有
しているだけではなく、この表面から焼結体内に向かっ
て延びる微小亀裂をも有している。
【0008】ダイヤフラム・焼結体と基板・焼結体とか
ら圧力センサを製造するためには、基板とダイヤフラム
の、互いに向き合った表面を、スペーサホルダを介在さ
せながら縁部ではんだ付け又は硬いろうを用いてろう付
け(hartverloeten)し、それによって加熱された室が形
成される。この場合、使用されたはんだ又は活性ろう付
けはんだ(active brazing solder)自体がスペーサホル
ダを形成する。はんだとしては例えばガラスフリット(g
lass frit)が用いられ、活性ろう付けはんだとしては例
えばNiTiZr合金が用いられる。このNiTiZr
合金では、NiZr成分がNiZr共融混合物(eutecti
c)とほぼ同じである(アメリカ合衆国特許第5334
344号明細書参照)。はんだ付け又は硬いろうを用い
たろう付けは、「接合;joining」とも呼ばれる。
【0009】ダイヤフラムと基板とを接合する前に、接
合後に室内で互いに向き合う表面に電極が取り付けられ
る。これらの電極は、例えばタンタル(Tantal)より成っ
ていて(アメリカ合衆国特許第5050034号明細書
参照)、一般的にスパッタリングによって取り付けられ
る。この際に、基板の単数若しくは複数の電極は、前記
活性ろう付けはんだ付けを使用した場合には、接合材料
に対して間隔を維持する必要がある、つまり接合材料に
対して電気的に絶縁しなければならない。何故ならば、
完成された圧力センサにおいては既にダイヤフラムの電
極が接合材料と電気的に接続されているからである。
【0010】従って、基板の単数若しくは複数の電極
は、マスクを通してスパッタリングする必要があり、こ
のマスクは、基板の表面上に面状に固定されていて、表
面の、電極材料に対して保護されるべき領域を覆う。
【0011】しかしながらスパッタリングにおいては、
いわゆるアンダースパッタリングによって、電極材料に
対して保護されている表面上に、互いに電気的に接続さ
れていない微小なアイランド(island)が生じることを避
けることができない。しかも、アンダースパッタリング
では、電極材料が前記微小亀裂内に侵入することもあ
る。
【0012】粗い表面に基準空気の水分子が荒い表面に
溜まり、また微小亀裂内にも侵入するので、電極材料の
各アイランド間に電気的な接続が形成されるので、基板
・電極の面は増大する。しかながらこれによって、圧力
センサのゼロ点のずれ(オフセット)が生じる。この作
用は、基準空気の相対的な湿度が高ければ高いほど大き
い。
【0013】以上述べた問題点は、従来では、完成され
た電極に一般に行われているように、その他の問題点を
優先的に取り除くために用いられる、二酸化珪素(silic
on dioxide)より成るスピンオンガラス層(spin-on glas
s layer)が被着されることによって良好に取り除かれて
いた(アメリカ合衆国特許第54004889号明細書
参照)。しかしながらこれによっては、約80%までの
相対湿度が生じることになる。従ってこのような圧力セ
ンサは、40℃の温度で80%の相対湿度において、1
%までのゼロ点のずれ(オフセット)を有しすることに
なる。これは高精度の測定のためには許容できないもの
である。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、飽和限界付近まで達する相対湿度において、事実上
ゼロ点のずれが生じないような相対圧力センサを提供す
ることである。
【0015】
【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明の容量式のセラミック製の相対圧力センサにおいて
は、第1の電極が取付けられている表面を有するダイヤ
フラムと、基板とが設けられており、該基板が、第1の
表面から、この第1の表面に向き合う第2の表面に基準
空気をガイドするための孔を有しており、前記第1の表
面がつや出し(polisch)されていて、この第1の表面に
少なくとも1つの第2の電極が取り付けられており、前
記基板と前記ダイヤフラムとが縁部において、スペーサ
ホルダを用いて室を形成しながら互いにはんだ付け又は
ろう付け(例えば硬ろうを用いて)されており、前記室
が、はんだ付け又はろう付け後に、前記孔を通してもた
らされた疎水性の材料より成る層によって、内側から覆
われている。
【0016】本発明の有利な実施態様によれば、疎水性
の材料が、弗素化シロキサン又はメチルポリシロキサン
をベースとしたシリコーン油、パラフィン油、又はシリ
コーン樹脂である。
【0017】前記基板及びダイヤフラムが、酸化アルミ
ニウム−セラミックより成っている。
【0018】
【発明の効果】本発明の相対圧力センサによれば、40
℃の温度で95%の相対湿度において、ゼロ点のずれが
0.2%よりも小さいという利点を有している。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に示した実施例を用いて詳しく説明する。
【0020】図1及び図2には、容量式のセラミック製
の圧力センサ10が示されている。セラミック材料は、
例えば96重量%〜99.9重量%純度の前記酸化アル
ミニウムである。圧力センサ10は、互いに平行に延び
る表面を有する円形の円板(ディスク)状の形状を有し
ている。さらに圧力センサ10は基板12を有してお
り、この基板12は、ダイヤフラム11と同じ形状であ
るが、ダイヤフラム11よりも厚く構成されている。
【0021】ダイヤフラム11と基板12とは、その全
周に亙って延びるそれぞれの縁部で、スペーサホルダ2
0を介在させて間隔dを保って互いに前述のようにろう
付け例えば硬ろうを用いてろう付けされている。これは
真空室内で約900℃の温度で行われる。ダイヤフラム
11と基板12とは、間隔dに基づいて室13を形成し
ている。ダイヤフラム11は、薄く弾性的に構成されて
いるので、このダイヤフラム11に作用する圧力下で撓
み、それによって往復運動することができる。
【0022】ダイヤフラム11と基板12との互いに向
き合う表面には電極14若しくは15が取り付けられて
おり、これらの電極14若しくは15は、有利にはタン
タルより成っていて、その互いに向き合う表面は、酸化
タンタル(tantalum dioxide)より成る保護層21若し
くは22によって覆われている(前記アメリカ合衆国特
許第5050034号明細書参照)。基板12上に設け
られた唯一の電極15の代わりに、多数の電極を基板1
2上に設けてもよい。
【0023】勿論基板12の表面は、電極15を取り付
ける前に付加的に、一般的なつや出し(polish)又はラッ
プ仕上げ(lapping)されていて、それによってまだ存在
する荒さ(roughness)をさらに減少させるようになって
おり、これが本発明の課題を解決するための第1の段階
である。荒さは、有利には0.05μmより小さくなる
までつや出しされる。このつや出し作業によって、前述
のように水分子を不都合に付着させる表面の吸着性は著
しく減少される。
【0024】電極14はダイヤフラム11を完全に被覆
し、それによって接合時に、活性ろう付けはんだより成
るスペーサホルダ20に接合される。そのために、電極
14とは異なり、基板12の電極15は、スペーサホル
ダ20と電気的に接続されないように取り付けられる。
電極14,15は、基板12の電極15において前記マ
スクを通って行われる前記スパッタリングによって取り
付けられる。
【0025】基板12にはさらに孔3が設けられてお
り、この孔23は例えばあらかじめ圧粉体の段階(green
-compact phase)で形成される。孔23は電極15を貫
通して延びている。何故ならば室側の開口は電極15の
スパッタリングによって閉鎖されないからである。これ
によって室13は閉鎖されるのではなく、外部と接続さ
れている。これは相対圧力センサの基本的な前提であ
る。
【0026】前記アンダースパッタリング自体は、基板
12のつや出しされた表面においても避けられないの
で、それぞれ完成された、接合された圧力センサ10の
室13は、孔23を通して設けられた、疎水性の材料よ
り成る薄い層24によって内側から覆われている。この
層24は、図2には見やすさの理由により、電極15に
よって覆われていない、基板12の表面においてしか示
されていないが、層24は、室13のすべての内側を制
限する面を覆う。
【0027】疎水性の層24によって、特にアンダース
パッタリングによって前述のように生じる電極材料から
成るアイランドだけではなく、このアイランド間に存在
する基板12の、つや出し後に残る荒さ及び微小亀裂を
備えた表面部分も、その都度の水の吸収に抗してパッシ
ベーション(passivate)されている。これによって、電
極面の前記のような増大は、前記の利点において記載し
た測定値が示すように、事実上完全に避けられる。
【0028】図3には、概略的にコーティング装置9が
示されており、このコーティング装置9内で、圧力セン
サ10の室13は疎水性にされる。この段階の前に洗浄
は必要ではない。何故ならば圧力センサの表面は、前記
焼結プロセス及び接合−高真空プロセスに基づいて非常
にクリーン(清浄)だからである。これは疎水性の層2
4を良好に付着させるための理想的な前提条件である。
【0029】クリーンな圧力センサ10は、コーティン
グ装置9内にもたらされる。このコーティング装置9
は、外気に向かって開放する液体容器91を有してお
り、この液体容器91の下側に第1の弁92が取り付け
られている。これによって大気圧pが液体容器91内の
液体93に働く。
【0030】液体93は、著しく湿っていて、高い蒸気
圧を有する溶剤内で強く希釈された含浸剤例えば弗素化
シロキサン又はメチルポリシロキサンをベースとしたシ
リコーン樹脂、シリコーン油又はパラフィン油である。
有利には含浸材と溶剤との混合比は、1:20と1:1
00との間である。特にヘキサン中のメチルポリシロキ
サン樹脂の1%溶液が適している。
【0031】弁92の下側にはクリーンな圧力センサ1
0が、管94の圧力センサ・収容室94′内で液体94
のための流れ狭窄部95の上側に配置されている。管9
4は、液体93のための収集タンク96内に開口してい
て、この収集タンク96は、第2の弁97を介して、矢
印で示された真空ポンプに接続されている。
【0032】圧力センサ10が満たされてから、弁92
が閉鎖されて弁97が開放され、真空ポンプがスイッチ
オンされ、それによって圧力センサ10の室13から、
この室13内に存在する空気が取り除かれる。排気後に
弁97が閉鎖されて、弁92が開放される。
【0033】それによって、大気圧pの作用下で液体9
3つまり含浸剤+溶剤がセンサ・収容室94′内に流入
し、圧力センサ10の室13内に押しやられる。前もっ
て液体容器91内に満たされた含浸剤+溶剤のすべての
量が圧力センサ・収容室94′内に流入してから、弁9
7が開放される。短時間後に、圧力センサ・収容室9
4′内に大気圧が形成され、その結果、大気圧によっ
て、圧力センサ10の室13が含浸剤+溶剤によって押
圧される。
【0034】こうして含浸された圧力センサ10が取り
出され、有利には室温つまり約20℃で約2時間そのま
まにされるか、又は有利には約5分だけ第2の真空室内
にもたらされる。次いで溶剤が蒸発される。次いで圧力
センサが有利には約200℃に加熱され、これによって
含浸剤が、室を制限する表面内にもたらされて、この表
面が疎水性にされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】圧力センサの平面図である。
【図2】図1のA−B線に沿った圧力センサの断面図で
ある。
【図3】圧力センサの室が疎水性にされる、コーティン
グ装置の概略図である。
【符号の説明】
10 圧力センサ、 11 ダイヤフラム、 12 基
板、 13 室、 14,15 電極、 20 スペー
サホルダ、 91 液体容器、 92 第1の弁、 9
3 液体、 94 管、 94′ 圧力センサ・収容
室、 95 流れ狭窄部、 96 収集タンク、 97
第2の弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 594204055 Colmarer Strasse6,D −79576Weil am Rhein,G ermany

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 容量式のセラミック製の相対圧力センサ
    (10)において、 第1の電極(14)が取付けられている表面を有するダ
    イヤフラム(11)と、基板(12)とが設けられてお
    り、該基板(12)が、第1の表面から、この第1の表
    面に向き合う第2の表面に基準空気をガイドするための
    孔(23)を有しており、 前記第1の表面がつや出しされていて、この第1の表面
    に少なくとも1つの第2の電極(15)が取り付けられ
    ており、 前記基板と前記ダイヤフラム(11)とが縁部におい
    て、スペーサホルダ(20)を用いて室(13)を形成
    しながら互いにはんだ付け又はろう付けされており、 前記室(13)が、はんだ付け又はろう付け後に、前記
    孔(23)を通してもたらされた疎水性の材料より成る
    層(24)によって、内側から覆われている、 ことを特徴とする、容量式のセラミック製の相対圧力セ
    ンサ。
  2. 【請求項2】 疎水性の材料が、弗素化シロキサン又は
    メチルポリシロキサンをベースとしたシリコーン油、パ
    ラフィン油、又はシリコーン樹脂である、請求項1記載
    の相対圧力センサ。
  3. 【請求項3】 前記基板(12)及びダイヤフラム(1
    1)が、酸化アルミニウム−セラミックより成ってい
    る、請求項1又は2記載の相対圧力センサ。
JP2000180449A 1999-06-15 2000-06-15 容量式のセラミック製の相対圧力センサ Expired - Fee Related JP3205327B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP99111580A EP1061351B1 (de) 1999-06-15 1999-06-15 Kapazitiver keramischer Relativdruck-Sensor
EP99111580.9 1999-06-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001021430A true JP2001021430A (ja) 2001-01-26
JP3205327B2 JP3205327B2 (ja) 2001-09-04

Family

ID=8238361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000180449A Expired - Fee Related JP3205327B2 (ja) 1999-06-15 2000-06-15 容量式のセラミック製の相対圧力センサ

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP1061351B1 (ja)
JP (1) JP3205327B2 (ja)
CA (1) CA2311569C (ja)
DE (1) DE59906514D1 (ja)
DK (1) DK1061351T3 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009522550A (ja) * 2005-12-31 2009-06-11 コーニング インコーポレイテッド マイクロリアクターガラスダイヤフラムセンサ
EP2584332A1 (en) 2011-10-19 2013-04-24 Baumer Bourdon Haenni SAS Pressure sensor
CN111693186A (zh) * 2020-05-12 2020-09-22 江苏大学 一种陶瓷电容式压力传感器电极的制备方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10163567A1 (de) * 2001-12-21 2003-07-17 Endress & Hauser Gmbh & Co Kg Drucksensor mit hydrophober Beschichtung
DE10326975A1 (de) 2003-06-12 2005-01-20 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Drucksensor mit Feuchteschutz
DE102008043175A1 (de) 2008-10-24 2010-04-29 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Relativdrucksensor
EP2463635B2 (de) 2010-12-07 2016-01-06 VEGA Grieshaber KG Druckmesszelle
DE102010063065A1 (de) 2010-12-14 2012-06-14 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Drucksensor und Verfahren zu dessen Herstellung+
DE102010063723A1 (de) 2010-12-21 2012-06-21 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Keramischer Drucksensor mit Überlastschutz
DE102014117706A1 (de) * 2014-12-02 2016-06-02 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Kapazitiver Relativdrucksensor
EP3173760A1 (de) 2015-11-30 2017-05-31 VEGA Grieshaber KG Relativdrucksensor
CN113884225A (zh) * 2021-10-09 2022-01-04 广州九思科技有限公司 一种瞬间响应的陶瓷电容压力传感器及其制作方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5050034A (en) * 1990-01-22 1991-09-17 Endress U. Hauser Gmbh U. Co. Pressure sensor and method of manufacturing same
JP3384900B2 (ja) * 1995-01-09 2003-03-10 長野計器株式会社 圧力センサ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009522550A (ja) * 2005-12-31 2009-06-11 コーニング インコーポレイテッド マイクロリアクターガラスダイヤフラムセンサ
EP2584332A1 (en) 2011-10-19 2013-04-24 Baumer Bourdon Haenni SAS Pressure sensor
CN111693186A (zh) * 2020-05-12 2020-09-22 江苏大学 一种陶瓷电容式压力传感器电极的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3205327B2 (ja) 2001-09-04
EP1061351A1 (de) 2000-12-20
DK1061351T3 (da) 2003-11-03
CA2311569C (en) 2004-01-27
CA2311569A1 (en) 2000-12-15
EP1061351B1 (de) 2003-08-06
DE59906514D1 (de) 2003-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3205327B2 (ja) 容量式のセラミック製の相対圧力センサ
US6578427B1 (en) Capacitive ceramic relative-pressure sensor
JP4843012B2 (ja) 圧電デバイスとその製造方法
US6941814B2 (en) Hydrophobically coated pressure sensor
KR100545928B1 (ko) 용량식 진공 측정 셀
JP2548487B2 (ja) 耐高熱性かつ耐真空性の絶縁部品の孔の貫通接続部および該貫通接続部を形成する方法
CN101078663B (zh) 制造使用soi晶片的压力传感器的方法
JP5033913B2 (ja) 静電容量式圧力センサー
JP4701136B2 (ja) 流体スイッチ及びその製造方法
JPH0749277A (ja) 圧力センサ及び圧力センサの製法
KR20080038053A (ko) 기능 소자
EP0622897A2 (en) Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same
JP2010251702A (ja) 電子部品、パッケージおよび赤外線センサ
TWI538268B (zh) 用來連接一第一電子元件及一第二元件之方法
JPH05121989A (ja) 圧電素子の収納容器
JP2000244274A (ja) 圧電振動子
US20060261720A1 (en) Production of flat dielectrically impeded discharge lamps
JPS61191962A (ja) クロマトグラフイ用カラム及びその製造方法
JP2003264447A (ja) 圧電振動子およびその製造方法
JPS62259329A (ja) 螢光表示管
JP2011091685A (ja) 圧電デバイス
JPH05231975A (ja) 静電容量式圧力センサ
JP4095280B2 (ja) 加速度センサ素子
JPH09145510A (ja) 半導体式力学量センサおよびその製造方法
JPH066167A (ja) 水晶振動子とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080629

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090629

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees