JP2001006924A - 吸着用永久磁石 - Google Patents
吸着用永久磁石Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紙やシート等の固定対象物を白板、掲示板等
の吸着対象物に吸着固定したり、これらの固定対象物が
不用意に外れにくい、吸着力を向上させた吸着用永久磁
石を提供する。 【解決手段】 作用面が平面で構成される永久磁石であ
って、永久磁石を構成する磁粉の磁化容易軸が作用面か
ら磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように、配向
同時着磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの
再着磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁
した異方性磁石からなり、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面
の総面積ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ
又は０．５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足す
ることを特徴とする。
の吸着対象物に吸着固定したり、これらの固定対象物が
不用意に外れにくい、吸着力を向上させた吸着用永久磁
石を提供する。 【解決手段】 作用面が平面で構成される永久磁石であ
って、永久磁石を構成する磁粉の磁化容易軸が作用面か
ら磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように、配向
同時着磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの
再着磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁
した異方性磁石からなり、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面
の総面積ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ
又は０．５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足す
ることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は吸着用永久磁石に関
し、更に詳しくは、該永久磁石の吸着力を利用して、紙
やシート等の固定対象物を白板、掲示板等の吸着対象物
に吸着固定したり、これらの固定対象物が不用意に外れ
にくい、吸着力を向上させた吸着用永久磁石に関する。
し、更に詳しくは、該永久磁石の吸着力を利用して、紙
やシート等の固定対象物を白板、掲示板等の吸着対象物
に吸着固定したり、これらの固定対象物が不用意に外れ
にくい、吸着力を向上させた吸着用永久磁石に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の吸着用磁石としては、希
土類系又はフェライト系の焼結磁石や合成樹脂磁石が使
用されている。これらの磁粉の配向方向は、図２０に示
すように、軸方向（厚み方向）異方性磁石であり、従っ
て、吸着力の良し悪しは、使用する原料の種類と含有率
を特定した場合、専ら磁粉の配向度によって決まってい
た。
土類系又はフェライト系の焼結磁石や合成樹脂磁石が使
用されている。これらの磁粉の配向方向は、図２０に示
すように、軸方向（厚み方向）異方性磁石であり、従っ
て、吸着力の良し悪しは、使用する原料の種類と含有率
を特定した場合、専ら磁粉の配向度によって決まってい
た。
【０００３】この点を改良せんとして、特公昭６３−５
９２４３号公報には、吸着力を向上させた永久磁石が提
案されている。
９２４３号公報には、吸着力を向上させた永久磁石が提
案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記公報に記載された
永久磁石は、図２１に示すように、磁化容易軸の方向を
非作用面（作用面以外のすべての面）から作用面に向け
て集束配向させたもので、この磁石によれば単位面積あ
たりの磁束密度を従来よりも大きくすることができる。
しかしながら、上記した集束配向磁石は軸方向配向磁石
に比べれば吸着力は大きいものの、必ずしも十分とは云
い難く、吸着力の更なる向上が望まれている。本発明
は、かかる実情に鑑み、上記集束配向磁石よりも吸着力
を更に向上させた永久磁石を提供するものである。
永久磁石は、図２１に示すように、磁化容易軸の方向を
非作用面（作用面以外のすべての面）から作用面に向け
て集束配向させたもので、この磁石によれば単位面積あ
たりの磁束密度を従来よりも大きくすることができる。
しかしながら、上記した集束配向磁石は軸方向配向磁石
に比べれば吸着力は大きいものの、必ずしも十分とは云
い難く、吸着力の更なる向上が望まれている。本発明
は、かかる実情に鑑み、上記集束配向磁石よりも吸着力
を更に向上させた永久磁石を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明は、作用面が平面で構成される永久磁石であっ
て、永久磁石を構成する磁粉の磁化容易軸が作用面から
磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように、配向同
時着磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再
着磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁し
た異方性磁石からなり、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面の
総面積ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ又
は０．５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足する
ことを特徴とする吸着用永久磁石を内容とするものであ
る（請求項１）。
の本発明は、作用面が平面で構成される永久磁石であっ
て、永久磁石を構成する磁粉の磁化容易軸が作用面から
磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように、配向同
時着磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再
着磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁し
た異方性磁石からなり、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面の
総面積ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ又
は０．５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足する
ことを特徴とする吸着用永久磁石を内容とするものであ
る（請求項１）。
【０００６】また、好ましい態様として、配向同時着
磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再着
磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した
異方性磁石の作用面の着磁パターンの最大幅Ｐmax と厚
みＴとが、０．５×Ｔ＜Ｐmax ＜２．０×Ｔの関係を満
足する請求項１記載の吸着用永久磁石である（請求項
２）。
磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再着
磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した
異方性磁石の作用面の着磁パターンの最大幅Ｐmax と厚
みＴとが、０．５×Ｔ＜Ｐmax ＜２．０×Ｔの関係を満
足する請求項１記載の吸着用永久磁石である（請求項
２）。
【０００７】また、好ましい態様として、配向同時着
磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再着
磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した
異方性磁石の作用面の着磁パターンの幅Ｐの最大値Ｐma
x と最小値Ｐmin との比（Ｐmax／Ｐmin ）が２以下で
ある請求項１又は２記載の吸着用永久磁石である（請求
項３）。
磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再着
磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した
異方性磁石の作用面の着磁パターンの幅Ｐの最大値Ｐma
x と最小値Ｐmin との比（Ｐmax／Ｐmin ）が２以下で
ある請求項１又は２記載の吸着用永久磁石である（請求
項３）。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明者は、上記課題を解決する
べく鋭意研究の結果、まず永久磁石の吸着力を向上させ
るには、磁石を吸着させたときに、非作用面から無駄に
放射される磁力線を少なくすればよいのではないかとの
考えを持つに至った。その意味で、磁粉の磁化容易軸を
作用面から磁石内部に向かわせ、その後再び作用面に戻
す配向が最適と考えた。さらに鋭意検討を加えた結果、
基準極の面積の総和と反対極の面積の総和とが一定の関
係を満たす場合に吸着力が増すことを見出し、本発明に
到達した。
べく鋭意研究の結果、まず永久磁石の吸着力を向上させ
るには、磁石を吸着させたときに、非作用面から無駄に
放射される磁力線を少なくすればよいのではないかとの
考えを持つに至った。その意味で、磁粉の磁化容易軸を
作用面から磁石内部に向かわせ、その後再び作用面に戻
す配向が最適と考えた。さらに鋭意検討を加えた結果、
基準極の面積の総和と反対極の面積の総和とが一定の関
係を満たす場合に吸着力が増すことを見出し、本発明に
到達した。
【０００９】以下、本発明を具体的に説明する．本発明
に係る吸着用永久磁石は、平面からなる作用面を有す
る。これは吸着対象物である軟磁性体の壁、白板、鉄板
製ケースの側面或いは前面、掲示板等の吸着対象面が、
通常、平面であることに対応するものである。本発明で
いう平面とは実質的に平面であればよく、例えば、吸着
対象物が少々曲面で形成される吸着対象面をもつ場合
は、その曲面に沿った作用面を持つ磁石で対応すること
ができる。
に係る吸着用永久磁石は、平面からなる作用面を有す
る。これは吸着対象物である軟磁性体の壁、白板、鉄板
製ケースの側面或いは前面、掲示板等の吸着対象面が、
通常、平面であることに対応するものである。本発明で
いう平面とは実質的に平面であればよく、例えば、吸着
対象物が少々曲面で形成される吸着対象面をもつ場合
は、その曲面に沿った作用面を持つ磁石で対応すること
ができる。
【００１０】本発明の吸着用永久磁石は、永久磁石を構
成する磁粉の磁化容易軸が作用面から磁石内部を通り、
再び作用面に戻ってくるように、配向同時着磁、もしく
は配向同時着磁と同様のパターンでの再着磁、もしくは
同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した異方性磁石の
作用面において、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面の総面積
ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ又は０．
５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足する必要が
あり、好ましくは０．７５×ΣＳ≦ΣＮ≦１．５×ΣＳ
又は０．７５×ΣＮ≦ΣＳ≦１．５×ΣＮ、より好まし
くは０．９×ΣＳ≦ΣＮ≦１．２×ΣＳ又は０．９×Σ
Ｎ≦ΣＳ≦１．２×ΣＮである。特に好ましくは、ΣＳ
＝ΣＮである。ΣＳとΣＮとが、上記関係を満足しない
場合には、吸着力を十分に向上させることができない。
成する磁粉の磁化容易軸が作用面から磁石内部を通り、
再び作用面に戻ってくるように、配向同時着磁、もしく
は配向同時着磁と同様のパターンでの再着磁、もしくは
同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した異方性磁石の
作用面において、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面の総面積
ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ又は０．
５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足する必要が
あり、好ましくは０．７５×ΣＳ≦ΣＮ≦１．５×ΣＳ
又は０．７５×ΣＮ≦ΣＳ≦１．５×ΣＮ、より好まし
くは０．９×ΣＳ≦ΣＮ≦１．２×ΣＳ又は０．９×Σ
Ｎ≦ΣＳ≦１．２×ΣＮである。特に好ましくは、ΣＳ
＝ΣＮである。ΣＳとΣＮとが、上記関係を満足しない
場合には、吸着力を十分に向上させることができない。
【００１１】この理由は必ずしも定かでないが、永久磁
石を鉄などの軟磁性体に吸着させた場合、磁束は作用面
磁極表面から磁石内部の磁化容易軸を伝わって作用面反
対極に到達し、更に軟磁性体内部をたどり再び作用面磁
極表面に戻ってくる磁気回路において、ΣＮとΣＳのバ
ランスがずれると、作用面での磁極総面積の小さい磁極
の方が磁気的に飽和磁束以上のものは許容されないた
め、結果としてこの閉じた磁気回路の総磁束が減少し、
吸着力が低下してしまうものと推定される。
石を鉄などの軟磁性体に吸着させた場合、磁束は作用面
磁極表面から磁石内部の磁化容易軸を伝わって作用面反
対極に到達し、更に軟磁性体内部をたどり再び作用面磁
極表面に戻ってくる磁気回路において、ΣＮとΣＳのバ
ランスがずれると、作用面での磁極総面積の小さい磁極
の方が磁気的に飽和磁束以上のものは許容されないた
め、結果としてこの閉じた磁気回路の総磁束が減少し、
吸着力が低下してしまうものと推定される。
【００１２】また、上記条件下において、配向同時着
磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再着
磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した
異方性磁石の作用面の着磁パターンの最大幅、即ち、最
大ピッチＰmax と厚みＴとの関係は０．５×Ｔ≦Ｐmax
≦２．０×Ｔが好適である。Ｐmax が０．５×Ｔ未満の
場合は非作用面側の磁石組成物は吸着に寄与する磁気回
路から外れ、コスト的に不経済である。一方、Ｐmax が
２．０×Ｔを越える場合は磁化容易軸の配列が大きく湾
曲するために非作用面側に磁束が漏れ、吸着に寄与する
磁気回路に関して磁気抵抗が増し、磁束密度が減少し吸
着力が減少する。
磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの再着
磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁した
異方性磁石の作用面の着磁パターンの最大幅、即ち、最
大ピッチＰmax と厚みＴとの関係は０．５×Ｔ≦Ｐmax
≦２．０×Ｔが好適である。Ｐmax が０．５×Ｔ未満の
場合は非作用面側の磁石組成物は吸着に寄与する磁気回
路から外れ、コスト的に不経済である。一方、Ｐmax が
２．０×Ｔを越える場合は磁化容易軸の配列が大きく湾
曲するために非作用面側に磁束が漏れ、吸着に寄与する
磁気回路に関して磁気抵抗が増し、磁束密度が減少し吸
着力が減少する。
【００１３】更に、配向同時着磁、もしくは配向同時着
磁と同様のパターンでの再着磁、もしくは同様のパター
ンでの逆磁場印加再着磁した異方性磁石の作用面の着磁
パターンの幅Ｐの最大値Ｐmax と最小値Ｐmin との比
（Ｐmax ／Ｐmin ）が２以下が好適で、より好ましくは
1.5 以下、更に好ましくは1.2 以下となるように設計す
ることにより、単位体積あたりの吸着力を一層向上させ
ることができる。
磁と同様のパターンでの再着磁、もしくは同様のパター
ンでの逆磁場印加再着磁した異方性磁石の作用面の着磁
パターンの幅Ｐの最大値Ｐmax と最小値Ｐmin との比
（Ｐmax ／Ｐmin ）が２以下が好適で、より好ましくは
1.5 以下、更に好ましくは1.2 以下となるように設計す
ることにより、単位体積あたりの吸着力を一層向上させ
ることができる。
【００１４】本発明の吸着用永久磁石は、合成樹脂磁石
及び焼結磁石のいずれでもよい。合成樹脂磁石及び焼結
磁石における磁粉としては、フエライト系磁扮、アルニ
コ系磁粉及びサマリウム−コバルト系磁粉やネオジム−
鉄−ボロン系磁粉、サマリウム−鉄−窒素系磁粉等の希
土類系磁粉など、従来公知のものいずれもが使用でき、
その平均粒子径については、通常、フエライト系では
０．５〜２．０μｍ程度、その他のものでは５〜５０μ
ｍ程度が利用される。
及び焼結磁石のいずれでもよい。合成樹脂磁石及び焼結
磁石における磁粉としては、フエライト系磁扮、アルニ
コ系磁粉及びサマリウム−コバルト系磁粉やネオジム−
鉄−ボロン系磁粉、サマリウム−鉄−窒素系磁粉等の希
土類系磁粉など、従来公知のものいずれもが使用でき、
その平均粒子径については、通常、フエライト系では
０．５〜２．０μｍ程度、その他のものでは５〜５０μ
ｍ程度が利用される。
【００１５】バインダーとしての合成樹脂についても、
従来公知のものいずれもが使用できる。その代表例を示
すと、ポリアミド６、ポリアミド１２、ポリアミド６６
などのポリアミド系合成樹脂；ポリ塩化ビニル，塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリエチレン及びポリプロピレンな
どを単独又は共重合したビニル系合成樹脂；ポリウレタ
ン、シリコーン、ポリカーボネート、ＰＢＴ、ＰＥＴな
どのポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ＰＰ
Ｓ、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレ
ン（デュポン社の商品名「ハイパロン」）などの合成樹
脂；イソプレン、ネオプレン、スチレンブタジエン、ブ
タジエン、アクリロニトリルブタジエンなどのゴム；エ
ポキシ系樹脂，フエノール系合成樹脂等が使用できる。
これらは単独で又は必要により２種以上混合して用いら
れる。
従来公知のものいずれもが使用できる。その代表例を示
すと、ポリアミド６、ポリアミド１２、ポリアミド６６
などのポリアミド系合成樹脂；ポリ塩化ビニル，塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリエチレン及びポリプロピレンな
どを単独又は共重合したビニル系合成樹脂；ポリウレタ
ン、シリコーン、ポリカーボネート、ＰＢＴ、ＰＥＴな
どのポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ＰＰ
Ｓ、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレ
ン（デュポン社の商品名「ハイパロン」）などの合成樹
脂；イソプレン、ネオプレン、スチレンブタジエン、ブ
タジエン、アクリロニトリルブタジエンなどのゴム；エ
ポキシ系樹脂，フエノール系合成樹脂等が使用できる。
これらは単独で又は必要により２種以上混合して用いら
れる。
【００１６】磁粉とバインダーとしての合成樹脂との配
合割合は、磁粉が４０〜７０vol%、合成樹脂が６０〜３
０vol%の範囲が好ましい。磁粉が４０vol%未満では吸着
力が不十分で、一方、７０vol%を越えると成形性が悪く
なる傾向がある。なお、その他にも、従来から常用され
る可塑剤や抗酸化剤、表面処理剤などを目的に応じて使
用できることはいうまでもない．
合割合は、磁粉が４０〜７０vol%、合成樹脂が６０〜３
０vol%の範囲が好ましい。磁粉が４０vol%未満では吸着
力が不十分で、一方、７０vol%を越えると成形性が悪く
なる傾向がある。なお、その他にも、従来から常用され
る可塑剤や抗酸化剤、表面処理剤などを目的に応じて使
用できることはいうまでもない．
【００１７】成形方法は合成樹脂磁石の場合、射出成
形、圧縮成形等の既に知られた方法が使用でき、焼結磁
石の場合も既に知られた湿式成形、乾式成形がグリーン
作成方法として使用できる。磁場配向励磁方法は、既に
知られた永久磁石方式と電磁石方式が使用できる。希土
類系の磁粉を用いた場合は、印加磁場が大きく期待でき
る電磁石方式が有利であるが、フェライト系の場合は、
永久磁石使用の方が金型をコンパクトにできる利点があ
る。磁場配向励磁用の永久磁石としては、既に知られた
ネオジム−鉄−ボロン系焼結磁石、サマリウム−コバル
ト系焼結磁石が好適に使用できる。
形、圧縮成形等の既に知られた方法が使用でき、焼結磁
石の場合も既に知られた湿式成形、乾式成形がグリーン
作成方法として使用できる。磁場配向励磁方法は、既に
知られた永久磁石方式と電磁石方式が使用できる。希土
類系の磁粉を用いた場合は、印加磁場が大きく期待でき
る電磁石方式が有利であるが、フェライト系の場合は、
永久磁石使用の方が金型をコンパクトにできる利点があ
る。磁場配向励磁用の永久磁石としては、既に知られた
ネオジム−鉄−ボロン系焼結磁石、サマリウム−コバル
ト系焼結磁石が好適に使用できる。
【００１８】本発明の吸着用永久磁石は、方形状磁石や
円盤状磁石だけではなく、様々な形状の磁石に適用でき
る。例えば、三角形状、五角形状、六角形状、八角形状
等の多角形状、ドーナツ状、円錐状、多角錘状等、ま
た、円盤が２つ以上連なったような形状等が挙げられ
る。
円盤状磁石だけではなく、様々な形状の磁石に適用でき
る。例えば、三角形状、五角形状、六角形状、八角形状
等の多角形状、ドーナツ状、円錐状、多角錘状等、ま
た、円盤が２つ以上連なったような形状等が挙げられ
る。
【００１９】また、本発明の吸着用永久磁石は、非作用
面側に同じ磁石組成物で取っ手をつけてもよい。取っ手
には鍋蓋方式、逆シルクハット形式等の既に知られた形
状を用いることができる。更に、吸着用永久磁石の非作
用面側の吸着にさほど寄与しない部分の磁石組成物をそ
ぎ落として取っ手を設けた形状は、材料の節約にもなり
コスト的にも有利である。また、取っ手を他のエンプラ
でインサート成形、成形後のはめ込み或いは接着により
形成してもよい。
面側に同じ磁石組成物で取っ手をつけてもよい。取っ手
には鍋蓋方式、逆シルクハット形式等の既に知られた形
状を用いることができる。更に、吸着用永久磁石の非作
用面側の吸着にさほど寄与しない部分の磁石組成物をそ
ぎ落として取っ手を設けた形状は、材料の節約にもなり
コスト的にも有利である。また、取っ手を他のエンプラ
でインサート成形、成形後のはめ込み或いは接着により
形成してもよい。
【００２０】図１は、多数個取りの射出成形用金型の一
例を示す概略図で、１はキャビティ、２はスプルー、３
はランナー、４は永久磁石、５はヨーク（強磁性体）、
６は非磁性体、７は突出しピンである。図２は、図１に
おけるＩ−Ｉ断面図、図３はII−II断面図である。磁粉
と合成樹脂とを主成分とする樹脂磁石組成物はスプルー
２、ランナー３を経由してキャビティ１内に充填され、
矢示した如く磁力線に沿って磁粉粒子の磁化容易軸が作
用面から磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように
配向する。尚、図１では永久磁石を用いた例を示した
が、これに代えて電磁石を使用してもよいことは云うま
でもない。また、圧縮成形機も公知のものが使用でき、
射出成形用金型と同様の磁気回路を組めばよい。
例を示す概略図で、１はキャビティ、２はスプルー、３
はランナー、４は永久磁石、５はヨーク（強磁性体）、
６は非磁性体、７は突出しピンである。図２は、図１に
おけるＩ−Ｉ断面図、図３はII−II断面図である。磁粉
と合成樹脂とを主成分とする樹脂磁石組成物はスプルー
２、ランナー３を経由してキャビティ１内に充填され、
矢示した如く磁力線に沿って磁粉粒子の磁化容易軸が作
用面から磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように
配向する。尚、図１では永久磁石を用いた例を示した
が、これに代えて電磁石を使用してもよいことは云うま
でもない。また、圧縮成形機も公知のものが使用でき、
射出成形用金型と同様の磁気回路を組めばよい。
【００２１】
【実施例】以下、本発明は実施例、比較例を挙げて更に
詳細に説明するが、これらは本発明を何ら制限するもの
ではない。
詳細に説明するが、これらは本発明を何ら制限するもの
ではない。
【００２２】実施例１〜８、比較例１〜８ 図１に示した磁気回路を設定した射出成形用金型を用い
て、図４〜図１９に示した如く、それぞれ１辺が３０ｍ
ｍの方形状磁石（実施例１〜６、比較例１〜４）、或い
は直径が３０ｍｍの円盤状磁石（実施例７〜８、比較例
５〜８）を下記の配合及び成形条件で磁場配向射出成形
により作成した。図中、寸法の単位はｍｍである。尚、
図１４、１５において、ピッチは個別磁極の面積を直径
で除することで定義した。
て、図４〜図１９に示した如く、それぞれ１辺が３０ｍ
ｍの方形状磁石（実施例１〜６、比較例１〜４）、或い
は直径が３０ｍｍの円盤状磁石（実施例７〜８、比較例
５〜８）を下記の配合及び成形条件で磁場配向射出成形
により作成した。図中、寸法の単位はｍｍである。尚、
図１４、１５において、ピッチは個別磁極の面積を直径
で除することで定義した。
【００２３】 （配合） 磁粉（フェライト磁粉：マグネトプランバイト系ストロンチウム系フェライト ：平均粒子径１．５μｍ） ６８vol% 合成樹脂（ポリアミド１２） ３１vol% 可塑剤（ＴＴＳ：イソプロピルトリイソステアロイルチタネート） １vol%
【００２４】（成形条件） 射出シリンダー温度：２８０℃ 金型温度：１００℃ 射出圧力：１５００ｋｇ／ｃｍ2 励磁時間：：２０秒 冷却時間：２５秒 射出サイクル：４０秒
【００２５】得られた方形状磁石及び円盤状磁石の配向
同時着磁後における吸着力（吸着対象物：２ミリ厚みの
鉄板）を測定した。結果を表１に示す。尚、吸着力測定
にはオートグラフを利用し、吸着させた方向に対して直
角に引き離す方向で測定した。
同時着磁後における吸着力（吸着対象物：２ミリ厚みの
鉄板）を測定した。結果を表１に示す。尚、吸着力測定
にはオートグラフを利用し、吸着させた方向に対して直
角に引き離す方向で測定した。
【００２６】
【表１】
【００２７】実施例９〜１３、比較例９〜１２ 配合を下記の配合に変更した以外は実施例１〜８、比較
例１〜８と同様にして方形状磁石及び円盤状磁石を作成
した。吸着力の測定結果を表２に示す。
例１〜８と同様にして方形状磁石及び円盤状磁石を作成
した。吸着力の測定結果を表２に示す。
【００２８】 （配合） 磁粉（サマリウム−コバルト磁粉：Ｓｍ2 Ｃｏ17：平均粒子径１０μｍ） ６８vol% 合成樹脂（ポリアミド１２） ３１vol% 可塑剤（ＴＴＳ：イソプロピルトリイソステアロイルチタネート） １vol%
【００２９】
【表２】
【００３０】実施例１４〜１６、比較例１３〜１６ 圧縮成形機を用い、下記の配合及び成形条件で、１辺が
３０ｍｍの方形状磁石又は直径が３０ｍｍの円盤状磁石
を作成した。吸着力の測定結果を表３に示す。
３０ｍｍの方形状磁石又は直径が３０ｍｍの円盤状磁石
を作成した。吸着力の測定結果を表３に示す。
【００３１】 （配合） 磁粉（フェライト磁粉：マグネトプランバイト系ストロンチウム系フェライト ：平均粒子径１．５μｍ） ５０vol% 水 ５０vol%
【００３２】（成形条件） 水抜き方法：チャンバー方式 励磁方法：竪磁場成形 成形温度：２５℃ 焼成温度：１２５０℃
【００３３】
【表３】
【００３４】表１〜表３の結果から明らかな如く、ΣＳ
とΣＮとが特定の範囲にある本発明の吸着用永久磁石
は、この範囲を満たさない永久磁石や、従来の軸方向異
方性永久磁石又は集束配向永久磁石に比べて、吸着力が
最大約３倍と顕著に向上していることが理解される。
尚、実施例３、１０及び１５は、請求項１の要件は満た
しているが、請求項２の要件を満たしていないため、吸
着力が少し低下し、また、実施例４は請求項１の要件は
満たしているが、請求項３の要件を満たしていないた
め、やはり吸着力が少し低下しているが、いずれも実用
的には十分な吸着力を有する。また、実施例５はＰmax
が０．５×Ｔと下限ぎりぎりであるため、非作用面側の
磁石組成物は吸着に寄与する磁気回路から外れるので、
コスト的に不経済となる。
とΣＮとが特定の範囲にある本発明の吸着用永久磁石
は、この範囲を満たさない永久磁石や、従来の軸方向異
方性永久磁石又は集束配向永久磁石に比べて、吸着力が
最大約３倍と顕著に向上していることが理解される。
尚、実施例３、１０及び１５は、請求項１の要件は満た
しているが、請求項２の要件を満たしていないため、吸
着力が少し低下し、また、実施例４は請求項１の要件は
満たしているが、請求項３の要件を満たしていないた
め、やはり吸着力が少し低下しているが、いずれも実用
的には十分な吸着力を有する。また、実施例５はＰmax
が０．５×Ｔと下限ぎりぎりであるため、非作用面側の
磁石組成物は吸着に寄与する磁気回路から外れるので、
コスト的に不経済となる。
【００３５】
【発明の効果】叙上のとおり、本発明によれば、吸着力
が大幅に向上した永久磁石を提供することができる。
が大幅に向上した永久磁石を提供することができる。
【図１】磁場配向射出成形金型の一例を示す概略図であ
る。
る。
【図２】図１のＩ−Ｉ断面図である。
【図３】図１のII−II断面図である。
【図４】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図５】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図６】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図７】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図８】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図９】磁気回路及び配向状態を示す概略図（III −II
I 断面）である。
I 断面）である。
【図１０】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１１】磁気回路及び配向状態を示す概略図（IV−IV
断面）である。
断面）である。
【図１２】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１３】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１４】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１５】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１６】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１７】磁気回路及び配向状態を示す概略図（Ｖ−Ｖ
断面）である。
断面）である。
【図１８】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図１９】磁気回路及び配向状態を示す概略図である。
【図２０】従来の軸方向異方性永久磁石を示す概略図で
ある。
ある。
【図２１】従来の集束配向永久磁石を示す概略図であ
る。
る。
１ キャビティ ２ スプルー ３ ランナー ４ 永久磁石 ５ ヨーク（強磁性体） ６ 非磁性体 ７ 突出しピン
Claims (3)
- 【請求項１】 作用面が平面で構成される永久磁石であ
って、永久磁石を構成する磁粉の磁化容易軸が作用面か
ら磁石内部を通り再び作用面に戻ってくるように、配向
同時着磁、もしくは配向同時着磁と同様のパターンでの
再着磁、もしくは同様のパターンでの逆磁場印加再着磁
した異方性磁石からなり、Ｓ極面の総面積ΣＳとＮ極面
の総面積ΣＮとが、０．５×ΣＳ≦ΣＮ≦２．０×ΣＳ
又は０．５×ΣＮ≦ΣＳ≦２．０×ΣＮの関係を満足す
ることを特徴とする吸着用永久磁石。 - 【請求項２】 配向同時着磁、もしくは配向同時着磁と
同様のパターンでの再着磁、もしくは同様のパターンで
の逆磁場印加再着磁した異方性磁石の作用面の着磁パタ
ーンの最大幅Ｐmax と厚みＴとが、０．５×Ｔ＜Ｐmax
＜２．０×Ｔの関係を満足する請求項１記載の吸着用永
久磁石。 - 【請求項３】 配向同時着磁、もしくは配向同時着磁と
同様のパターンでの再着磁、もしくは同様のパターンで
の逆磁場印加再着磁した異方性磁石の作用面の着磁パタ
ーンの幅Ｐの最大値Ｐmax と最小値Ｐmin との比（Ｐma
x ／Ｐmin ）が２以下である請求項１又は２記載の吸着
用永久磁石。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17506799A JP2001006924A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 吸着用永久磁石 |
| US09/597,615 US6304162B1 (en) | 1999-06-22 | 2000-06-20 | Anisotropic permanent magnet |
| EP00113406A EP1063659A3 (en) | 1999-06-22 | 2000-06-23 | Anisotropic permanent magnet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17506799A JP2001006924A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 吸着用永久磁石 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001006924A true JP2001006924A (ja) | 2001-01-12 |
Family
ID=15989662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17506799A Pending JP2001006924A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 吸着用永久磁石 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001006924A (ja) |
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| US10867732B2 (en) | 2015-03-24 | 2020-12-15 | Nitto Denko Corporation | Sintered body for forming rare-earth permanent magnet and rotary electric machine having rare-earth permanent magnet |
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| US11101707B2 (en) | 2015-03-24 | 2021-08-24 | Nitto Denko Corporation | Rare-earth permanent magnet and rotary machine including rare-earth permanent magnet |
-
1999
- 1999-06-22 JP JP17506799A patent/JP2001006924A/ja active Pending
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Effective date: 20040928 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050118 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050524 |