JP2001000829A - 排ガス除害装置及びそれを備えた処理装置 - Google Patents
排ガス除害装置及びそれを備えた処理装置Info
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- JP2001000829A JP2001000829A JP11175537A JP17553799A JP2001000829A JP 2001000829 A JP2001000829 A JP 2001000829A JP 11175537 A JP11175537 A JP 11175537A JP 17553799 A JP17553799 A JP 17553799A JP 2001000829 A JP2001000829 A JP 2001000829A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランニングコストを抑えつつ、効率良く排ガ
スを除害することができる排ガス除害装置及びそれを備
えた処理装置を提供すること。 【解決手段】 排ガスに対して除害処理を行う除害処理
室内に排ガスの供給が開始されると共に、除害処理室内
への排ガス除害用ガスの供給を開始し、除害処理室内へ
の排ガスの供給を停止すると共に、除害処理室内への排
ガス除害用ガスの供給を停止するように、排ガス除害用
ガスの供給タイミングを制御する。このとき、除害処理
室内への排ガスの供給を停止させた時点から所定時間後
に、除害処理室内への排ガス除害用ガスの供給を停止さ
せる。
スを除害することができる排ガス除害装置及びそれを備
えた処理装置を提供すること。 【解決手段】 排ガスに対して除害処理を行う除害処理
室内に排ガスの供給が開始されると共に、除害処理室内
への排ガス除害用ガスの供給を開始し、除害処理室内へ
の排ガスの供給を停止すると共に、除害処理室内への排
ガス除害用ガスの供給を停止するように、排ガス除害用
ガスの供給タイミングを制御する。このとき、除害処理
室内への排ガスの供給を停止させた時点から所定時間後
に、除害処理室内への排ガス除害用ガスの供給を停止さ
せる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は排ガス除害装置に関
し、特に半導体ウエハなどの被処理体に対してエッチン
グ処理などの処理を施す処理装置に備えられた排ガス除
害装置に関する。
し、特に半導体ウエハなどの被処理体に対してエッチン
グ処理などの処理を施す処理装置に備えられた排ガス除
害装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハなどの被処理体に対してエ
ッチング処理などの処理を施す処理装置においては、C
Oのような処理ガスが排ガスとして発生した場合に排ガ
スを除害する装置が備えられている。この排ガス除害装
置、例えばCO除害装置は、COガスを酸化させるCO
酸化器と、そのCO酸化器を加熱するヒータとから主に
構成されている。
ッチング処理などの処理を施す処理装置においては、C
Oのような処理ガスが排ガスとして発生した場合に排ガ
スを除害する装置が備えられている。この排ガス除害装
置、例えばCO除害装置は、COガスを酸化させるCO
酸化器と、そのCO酸化器を加熱するヒータとから主に
構成されている。
【0003】このような構成を有するCO除害装置で
は、COガスをCO酸化器に供給し、CO酸化器をヒー
タで加熱して、CO酸化器内のCOガスをCO2ガスに
酸化し、このCO2ガスを排気する。
は、COガスをCO酸化器に供給し、CO酸化器をヒー
タで加熱して、CO酸化器内のCOガスをCO2ガスに
酸化し、このCO2ガスを排気する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のCO除害装置に
おいては、COガスが処理装置に流れている、流れてい
ないに拘わらず、常にCO酸化器に酸素を約6〜7リッ
トル/分で流している。このように除害するCOガスの
供給に関係なく酸素を供給しているので、酸素のランニ
ングコストが高くなるという問題がある。
おいては、COガスが処理装置に流れている、流れてい
ないに拘わらず、常にCO酸化器に酸素を約6〜7リッ
トル/分で流している。このように除害するCOガスの
供給に関係なく酸素を供給しているので、酸素のランニ
ングコストが高くなるという問題がある。
【0005】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、ランニングコストを抑えつつ、効率良く排ガスを
除害することができる排ガス除害装置及びそれを備えた
処理装置を提供することを目的とする。
あり、ランニングコストを抑えつつ、効率良く排ガスを
除害することができる排ガス除害装置及びそれを備えた
処理装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下の手段を講じた。
に、本発明は以下の手段を講じた。
【0007】本発明は、被処理体に対して処理ガスを用
いて所定の処理を施す処理装置における排ガスを除害す
る装置であって、排ガスに対して除害処理を行う除害処
理室と、前記除害処理室内に排ガスを供給する排ガス供
給手段と、前記除害処理室内に排ガス除害用ガスを供給
する排ガス除害用ガス供給手段と、前記排ガス除害用ガ
スの供給タイミングを制御するタイミング制御手段と、
を具備し、前記除害処理室内への排ガスの供給を開始す
ると共に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガス
の供給を開始し、前記除害処理室内への排ガスの供給を
停止すると共に、前記除害処理室内への前記排ガス除害
用ガスの供給を停止することを特徴とする排ガス除害装
置を提供する。
いて所定の処理を施す処理装置における排ガスを除害す
る装置であって、排ガスに対して除害処理を行う除害処
理室と、前記除害処理室内に排ガスを供給する排ガス供
給手段と、前記除害処理室内に排ガス除害用ガスを供給
する排ガス除害用ガス供給手段と、前記排ガス除害用ガ
スの供給タイミングを制御するタイミング制御手段と、
を具備し、前記除害処理室内への排ガスの供給を開始す
ると共に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガス
の供給を開始し、前記除害処理室内への排ガスの供給を
停止すると共に、前記除害処理室内への前記排ガス除害
用ガスの供給を停止することを特徴とする排ガス除害装
置を提供する。
【0008】この構成によれば、排ガスの供給を開始す
ると共に、排ガス除害用ガスの供給を開始し、排ガスの
供給を停止すると共に、排ガス除害用ガスの供給を停止
するので、排ガス除害用ガスを無駄なく使用することが
できる。したがって、ランニングコストを抑えつつ、効
率良く排ガスを除害することができる。
ると共に、排ガス除害用ガスの供給を開始し、排ガスの
供給を停止すると共に、排ガス除害用ガスの供給を停止
するので、排ガス除害用ガスを無駄なく使用することが
できる。したがって、ランニングコストを抑えつつ、効
率良く排ガスを除害することができる。
【0009】本発明の排ガス除害装置においては、前記
除害処理室内への排ガスの供給を停止させた時点から所
定時間計測する計測手段を具備することが好ましい。
除害処理室内への排ガスの供給を停止させた時点から所
定時間計測する計測手段を具備することが好ましい。
【0010】この構成によれば、排ガス除害用ガスの供
給時間を排ガスの供給時間よりも長くすることができる
ので、排ガスが除害処理されずに排気されることを確実
に防止することができる。
給時間を排ガスの供給時間よりも長くすることができる
ので、排ガスが除害処理されずに排気されることを確実
に防止することができる。
【0011】また、本発明は、被処理体に対して処理ガ
スを用いて所定の処理を施す処理装置であって、被処理
体への処理を行う処理室を備えた装置本体と、前記処理
室内に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、前記処理
ガスの排ガスを除害処理する除害処理部と、を具備し、
前記除害処理部は、排ガスに対して除害処理を行う除害
処理室と、前記除害処理室内に排ガス除害用ガスを供給
する排ガス除害用ガス供給手段と、前記排ガス除害用ガ
スの供給タイミングを制御するタイミング制御手段と、
を具備し、前記処理室から前記除害処理室内に排ガスが
供給されると共に、前記除害処理室内への前記排ガス除
害用ガスの供給を開始し、前記処理室から前記除害処理
室内に排ガスの供給が停止されると共に、前記除害処理
室内への前記排ガス除害用ガスの供給を停止することを
特徴とする処理装置を提供する。
スを用いて所定の処理を施す処理装置であって、被処理
体への処理を行う処理室を備えた装置本体と、前記処理
室内に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、前記処理
ガスの排ガスを除害処理する除害処理部と、を具備し、
前記除害処理部は、排ガスに対して除害処理を行う除害
処理室と、前記除害処理室内に排ガス除害用ガスを供給
する排ガス除害用ガス供給手段と、前記排ガス除害用ガ
スの供給タイミングを制御するタイミング制御手段と、
を具備し、前記処理室から前記除害処理室内に排ガスが
供給されると共に、前記除害処理室内への前記排ガス除
害用ガスの供給を開始し、前記処理室から前記除害処理
室内に排ガスの供給が停止されると共に、前記除害処理
室内への前記排ガス除害用ガスの供給を停止することを
特徴とする処理装置を提供する。
【0012】この構成によれば、排ガスの除害を確実に
しかも効率良く行うことができ、しかも被処理体への処
理を行うことができる。
しかも効率良く行うことができ、しかも被処理体への処
理を行うことができる。
【0013】また、本発明は、被処理体に対して処理ガ
スを用いて所定の処理を施す処理装置における排ガスを
除害する方法であって、排ガスに対して除害処理を行う
除害処理室内に排ガスの供給が開始されると共に、前記
除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの供給を開始
し、前記除害処理室内への排ガスの供給を停止すると共
に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの供給
を停止するように、前記排ガス除害用ガスの供給タイミ
ングを制御することを特徴とする排ガス除害方法を提供
する。
スを用いて所定の処理を施す処理装置における排ガスを
除害する方法であって、排ガスに対して除害処理を行う
除害処理室内に排ガスの供給が開始されると共に、前記
除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの供給を開始
し、前記除害処理室内への排ガスの供給を停止すると共
に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの供給
を停止するように、前記排ガス除害用ガスの供給タイミ
ングを制御することを特徴とする排ガス除害方法を提供
する。
【0014】この方法によれば、排ガスの供給を開始す
ると共に、排ガス除害用ガスの供給を開始し、排ガスの
供給を停止すると共に、排ガス除害用ガスの供給を停止
するので、排ガス除害用ガスを無駄なく使用することが
できる。したがって、ランニングコストを抑えつつ、効
率良く排ガスを除害することができる。
ると共に、排ガス除害用ガスの供給を開始し、排ガスの
供給を停止すると共に、排ガス除害用ガスの供給を停止
するので、排ガス除害用ガスを無駄なく使用することが
できる。したがって、ランニングコストを抑えつつ、効
率良く排ガスを除害することができる。
【0015】本発明の排ガス除害方法においては、前記
除害処理室内への排ガスの供給を停止させた時点から所
定時間後に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガ
スの供給を停止させることが好ましい。
除害処理室内への排ガスの供給を停止させた時点から所
定時間後に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガ
スの供給を停止させることが好ましい。
【0016】この方法によれば、排ガス除害用ガスの供
給時間を排ガスの供給時間よりも長くすることができる
ので、排ガスが除害処理されずに排気されることを確実
に防止することができる。
給時間を排ガスの供給時間よりも長くすることができる
ので、排ガスが除害処理されずに排気されることを確実
に防止することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、添付図面を参照して詳細に説明する。
て、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0018】図1は、本発明の一実施の形態に係る排ガ
ス除害装置を備えた処理装置の概略構成を示す図であ
る。本実施の形態においては、処理装置がエッチング装
置であり、被処理体が半導体ウエハであり、排ガスがC
Oガスである場合について説明する。
ス除害装置を備えた処理装置の概略構成を示す図であ
る。本実施の形態においては、処理装置がエッチング装
置であり、被処理体が半導体ウエハであり、排ガスがC
Oガスである場合について説明する。
【0019】図1に示すエッチング処理装置は、半導体
ウエハに対してエッチング処理を行うエッチング室A1
1を及びエッチング室B12を有するエッチング装置本
体1と、エッチング処理に必要なガスをエッチング室1
1,12に供給するガスボックス2と、排ガス(COガ
ス)に除害処理を行うCO用除害装置3とから主に構成
されている。
ウエハに対してエッチング処理を行うエッチング室A1
1を及びエッチング室B12を有するエッチング装置本
体1と、エッチング処理に必要なガスをエッチング室1
1,12に供給するガスボックス2と、排ガス(COガ
ス)に除害処理を行うCO用除害装置3とから主に構成
されている。
【0020】エッチング装置本体1において、エッチン
グ室11,12には、それぞれ排気系13,14が接続
されており、エッチング室11,12で処理された後の
排ガスを排気するようになっている。
グ室11,12には、それぞれ排気系13,14が接続
されており、エッチング室11,12で処理された後の
排ガスを排気するようになっている。
【0021】また、エッチング室11,12には、それ
ぞれ後述するガスボックス2から処理ガスが供給される
供給系が接続されている。この供給系には、それぞれエ
アオペバルブ(電磁弁)20及びガスフィルタ19が接
続されている。
ぞれ後述するガスボックス2から処理ガスが供給される
供給系が接続されている。この供給系には、それぞれエ
アオペバルブ(電磁弁)20及びガスフィルタ19が接
続されている。
【0022】ガスボックス2は、エッチングに必要なガ
スを供給する複数のガス供給ラインを有している。これ
らのガス供給ラインには、それぞれマニュアルバルブ1
7、レギュレータ18、ガスフィルタ19、エアオペバ
ルブ20、及びマスフローコントローラ(MFC)21
が接続されている。これらにより、それぞれの処理ガス
について、ガスの供給・停止やガス流量の制御、ガスの
フィルタリングを行うことができる。
スを供給する複数のガス供給ラインを有している。これ
らのガス供給ラインには、それぞれマニュアルバルブ1
7、レギュレータ18、ガスフィルタ19、エアオペバ
ルブ20、及びマスフローコントローラ(MFC)21
が接続されている。これらにより、それぞれの処理ガス
について、ガスの供給・停止やガス流量の制御、ガスの
フィルタリングを行うことができる。
【0023】ガスボックス2は、エッチング室11,1
2にCOガスを供給するCOガス供給ライン15,16
を有している。このCOガス供給ライン15,16にお
けるエアオペバルブを図1においてそれぞれ20A,2
0Bと示す。なお、このCOガスは工場から供給され
る。
2にCOガスを供給するCOガス供給ライン15,16
を有している。このCOガス供給ライン15,16にお
けるエアオペバルブを図1においてそれぞれ20A,2
0Bと示す。なお、このCOガスは工場から供給され
る。
【0024】CO用除害装置3は、排ガス中の酸性ガス
を吸着する酸性ガス吸着部23を有している。エッチン
グ装置本体1からの排ガスはドライポンプ22を介して
酸性ガス吸着部23に送られる。
を吸着する酸性ガス吸着部23を有している。エッチン
グ装置本体1からの排ガスはドライポンプ22を介して
酸性ガス吸着部23に送られる。
【0025】また、CO用除害装置3には、除害処理室
であるCO酸化器24が設置されている。このCO酸化
器24の外側には、ヒータ25が配設されており、CO
酸化器24を所定温度、すなわちCO酸化処理が行われ
るために十分な温度、例えば200℃前後に加熱してい
る。
であるCO酸化器24が設置されている。このCO酸化
器24の外側には、ヒータ25が配設されており、CO
酸化器24を所定温度、すなわちCO酸化処理が行われ
るために十分な温度、例えば200℃前後に加熱してい
る。
【0026】CO酸化器24には、工場から酸素が供給
されるように酸素供給ラインが接続されている。この酸
素は、フローメータ26により流量が検出されるように
なっている。また、この酸素供給ラインには、エアオペ
バルブ20Cが接続されている。なお、酸素の代わりに
空気を用いても良い。
されるように酸素供給ラインが接続されている。この酸
素は、フローメータ26により流量が検出されるように
なっている。また、この酸素供給ラインには、エアオペ
バルブ20Cが接続されている。なお、酸素の代わりに
空気を用いても良い。
【0027】上記ガスボックス2のエアオペバルブ20
A,20B及びCO用除害装置のエアオペバルブ20C
は、制御系により、後述するタイミングにより開閉が制
御される。
A,20B及びCO用除害装置のエアオペバルブ20C
は、制御系により、後述するタイミングにより開閉が制
御される。
【0028】次に、上記構成を有する排ガス除害装置の
動作について図2〜図4を用いて説明する。図2は、図
1に示す処理装置の制御系を説明するための概略図であ
る。また、図3,4は、本発明の一実施の形態に係る排
ガス除害装置の酸素供給のタイミングを示すタイミング
図である。
動作について図2〜図4を用いて説明する。図2は、図
1に示す処理装置の制御系を説明するための概略図であ
る。また、図3,4は、本発明の一実施の形態に係る排
ガス除害装置の酸素供給のタイミングを示すタイミング
図である。
【0029】エッチング処理が施される半導体ウエハが
エッチング装置本体1のエッチング室A11,B12に
搬送され、それぞれのエッチング室11,12に、エッ
チング処理に必要な処理ガスが導入される。これによ
り、エッチング室11,12においてそれぞれ半導体ウ
エハに対してエッチング処理が施される。
エッチング装置本体1のエッチング室A11,B12に
搬送され、それぞれのエッチング室11,12に、エッ
チング処理に必要な処理ガスが導入される。これによ
り、エッチング室11,12においてそれぞれ半導体ウ
エハに対してエッチング処理が施される。
【0030】この処理ガスには、それぞれCOガス供給
ライン15,16から供給されたCOガスが含まれてい
る。また、これらの処理ガスは、レギュレータ18によ
り流速調整され、ガスフィルタ19により清浄化され、
MFC21により流量制御される。さらに、マニュアル
バルブ17及びエアオペバルブ20により供給・停止が
制御される。
ライン15,16から供給されたCOガスが含まれてい
る。また、これらの処理ガスは、レギュレータ18によ
り流速調整され、ガスフィルタ19により清浄化され、
MFC21により流量制御される。さらに、マニュアル
バルブ17及びエアオペバルブ20により供給・停止が
制御される。
【0031】エッチング室11,12で処理された後の
ガスは、エッチング装置本体1からドライポンプ22に
入り乾燥された後で、CO用除害装置3に送られ、ま
ず、酸性ガス吸着部23で酸性ガス分が除去され、その
後にCO酸化器24に送られる。CO酸化器24でCO
ガスは酸素により酸化され、排気ラインで排気される。
ガスは、エッチング装置本体1からドライポンプ22に
入り乾燥された後で、CO用除害装置3に送られ、ま
ず、酸性ガス吸着部23で酸性ガス分が除去され、その
後にCO酸化器24に送られる。CO酸化器24でCO
ガスは酸素により酸化され、排気ラインで排気される。
【0032】以下、COガスの供給のシーケンスについ
て説明する。また、酸素供給が停止ている状態から処理
を開始する場合について説明する。
て説明する。また、酸素供給が停止ている状態から処理
を開始する場合について説明する。
【0033】まず、ガスボックス2内のエアオペバルブ
20Aを開く。所定時間経過後に、ガスボックス2内の
エアオペバルブ20Bを開く。このエアオペバルブ20
A,20Bの開信号をCO用除害装置内のシーケンスコ
ントローラに取り込む。すなわち、図2において、電磁
弁コントローラ31によりエアオペバルブ20Aが開か
れると、リレーA32により回路が接続されてシーケン
スコントローラ34にエアオペバルブ20Aの開信号が
入力される。同様に、電磁弁コントローラ31によりエ
アオペバルブ20Bが開かれると、リレーB33により
回路が接続されてシーケンスコントローラ34にエアオ
ペバルブ20Bの開信号が入力される。
20Aを開く。所定時間経過後に、ガスボックス2内の
エアオペバルブ20Bを開く。このエアオペバルブ20
A,20Bの開信号をCO用除害装置内のシーケンスコ
ントローラに取り込む。すなわち、図2において、電磁
弁コントローラ31によりエアオペバルブ20Aが開か
れると、リレーA32により回路が接続されてシーケン
スコントローラ34にエアオペバルブ20Aの開信号が
入力される。同様に、電磁弁コントローラ31によりエ
アオペバルブ20Bが開かれると、リレーB33により
回路が接続されてシーケンスコントローラ34にエアオ
ペバルブ20Bの開信号が入力される。
【0034】次いで、シーケンスコントローラ34は、
ガスボックス2のエアオペバルブ20Aの開信号を受け
て、エアオペバルブ20Cを開いてCO酸化器24へ酸
素を供給する。CO酸化器24はあらかじめ所定温度、
例えば200℃に加熱されているので、CO酸化器24
にCOガス及び酸素が供給されると、COガスが酸素に
より酸化されてCO2ガスになり、除害処理が完了す
る。
ガスボックス2のエアオペバルブ20Aの開信号を受け
て、エアオペバルブ20Cを開いてCO酸化器24へ酸
素を供給する。CO酸化器24はあらかじめ所定温度、
例えば200℃に加熱されているので、CO酸化器24
にCOガス及び酸素が供給されると、COガスが酸素に
より酸化されてCO2ガスになり、除害処理が完了す
る。
【0035】COガスの供給が停止したときに、酸素の
供給を停止する。具体的には、COガスの供給が停止し
た後、所定時間経過後に、酸素の供給を停止する。これ
により、酸素の供給時間をCOガスの供給時間よりも長
くすることができるので、COガスが除害処理されずに
排気されることを確実に防止することができる。
供給を停止する。具体的には、COガスの供給が停止し
た後、所定時間経過後に、酸素の供給を停止する。これ
により、酸素の供給時間をCOガスの供給時間よりも長
くすることができるので、COガスが除害処理されずに
排気されることを確実に防止することができる。
【0036】酸素の供給を停止する場合、除害装置に計
測手段として備えられたタイマーを設定する。タイマー
時間は、エッチング装置内のCOガスがドライポンプ2
2の吸気配管から除害装置のCO酸化器24を通過する
までの時間以上とする。ここでは、約60分とする。
測手段として備えられたタイマーを設定する。タイマー
時間は、エッチング装置内のCOガスがドライポンプ2
2の吸気配管から除害装置のCO酸化器24を通過する
までの時間以上とする。ここでは、約60分とする。
【0037】シーケンスコントローラ34のタイマー
は、ガスボックス2のエアオペバルブ20A,20Bの
開信号が切れたタイミングで計測を開始する。そして、
エッチング室11,12において最後のウエハ処理の終
了まで、除害装置の酸素供給用のエアオペバルブ20C
は開いたままとする。エッチング室11,12において
最後のウエハを処理した後、ガスボックス2内のエアオ
ペバルブ20A,20Bを閉じる。その後、シーケンス
コントローラ34のタイマーの計測を開始する。タイマ
ーの設定時間(60分)終了までの間は酸素供給用のエ
アオペバルブ20Cは開いたままとする。
は、ガスボックス2のエアオペバルブ20A,20Bの
開信号が切れたタイミングで計測を開始する。そして、
エッチング室11,12において最後のウエハ処理の終
了まで、除害装置の酸素供給用のエアオペバルブ20C
は開いたままとする。エッチング室11,12において
最後のウエハを処理した後、ガスボックス2内のエアオ
ペバルブ20A,20Bを閉じる。その後、シーケンス
コントローラ34のタイマーの計測を開始する。タイマ
ーの設定時間(60分)終了までの間は酸素供給用のエ
アオペバルブ20Cは開いたままとする。
【0038】但し、再度エアオペバルブ20A又は20
Bの開信号が入るとカウントがリセットされる。すなわ
ち、図3に示すように、タイマーの計測中でタイマー設
定時間が終了する前にエアオペバルブ20Aが開いて開
信号がシーケンスコントローラ34に入力されると、タ
イマーは停止し、酸素供給用のエアオペバルブ20Cは
開いたままとなる。
Bの開信号が入るとカウントがリセットされる。すなわ
ち、図3に示すように、タイマーの計測中でタイマー設
定時間が終了する前にエアオペバルブ20Aが開いて開
信号がシーケンスコントローラ34に入力されると、タ
イマーは停止し、酸素供給用のエアオペバルブ20Cは
開いたままとなる。
【0039】図4に示すように、タイマーの計測中にエ
アオペバルブ20A又は20Bの開信号がシーケンスコ
ントローラ34に入力されなければ、酸素供給用のエア
オペバルブ20Cを閉じる。
アオペバルブ20A又は20Bの開信号がシーケンスコ
ントローラ34に入力されなければ、酸素供給用のエア
オペバルブ20Cを閉じる。
【0040】このように、上記CO除害装置によれば、
COガスの供給を開始すると共に、酸素の供給を開始
し、COの供給を停止すると共に、酸素の供給を停止す
るので、酸素を無駄なく使用することができる。したが
って、エッチング装置の稼動状況に応じて、CO酸化に
必要な空気や酸素のみを供給することができる。その結
果、ランニングコストを抑えつつ、効率良くCOガスを
除害することができる。
COガスの供給を開始すると共に、酸素の供給を開始
し、COの供給を停止すると共に、酸素の供給を停止す
るので、酸素を無駄なく使用することができる。したが
って、エッチング装置の稼動状況に応じて、CO酸化に
必要な空気や酸素のみを供給することができる。その結
果、ランニングコストを抑えつつ、効率良くCOガスを
除害することができる。
【0041】上記処理装置においては、CO用除害装置
のフローメータ26の代わりにMFC(マスフローコン
トローラ/流量調整器)などを用い、エッチング装置側
での処理条件(例えばCO流量など)に応じて酸素の供
給量を可変としても良い。これにより、COガスを酸化
するために必要最小限の酸素のみを消費するようにでき
る。
のフローメータ26の代わりにMFC(マスフローコン
トローラ/流量調整器)などを用い、エッチング装置側
での処理条件(例えばCO流量など)に応じて酸素の供
給量を可変としても良い。これにより、COガスを酸化
するために必要最小限の酸素のみを消費するようにでき
る。
【0042】また、上記処理装置においては、エッチン
グ装置側で常にCOガスを使用する加工条件の場合に
は、COガス供給ラインのバルブ信号ではなく、エッチ
ング装置自体のRUN信号を用いて上記と同様に酸素供
給を制御することもできる。
グ装置側で常にCOガスを使用する加工条件の場合に
は、COガス供給ラインのバルブ信号ではなく、エッチ
ング装置自体のRUN信号を用いて上記と同様に酸素供
給を制御することもできる。
【0043】本発明は、上記実施の形態に限定されず、
種々変更して実施することが可能である。例えば、上記
実施の形態においては、処理装置がエッチング装置であ
り、被処理体が半導体ウエハであり、排ガスがCOガス
である場合について説明しているが、本発明では、処理
装置が他の処理装置であっても良く、被処理体が他の被
処理体であっても良く、排ガスがCOガス以外のガスで
あっても良い。
種々変更して実施することが可能である。例えば、上記
実施の形態においては、処理装置がエッチング装置であ
り、被処理体が半導体ウエハであり、排ガスがCOガス
である場合について説明しているが、本発明では、処理
装置が他の処理装置であっても良く、被処理体が他の被
処理体であっても良く、排ガスがCOガス以外のガスで
あっても良い。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように本発明の排ガス除害
装置は、排ガスの供給を開始すると共に、排ガス除害用
ガスの供給を開始し、排ガスの供給を停止すると共に、
排ガス除害用ガスの供給を停止するので、排ガス除害用
ガスを無駄なく使用することができる。したがって、ラ
ンニングコストを抑えつつ、効率良く排ガスを除害する
ことができる。
装置は、排ガスの供給を開始すると共に、排ガス除害用
ガスの供給を開始し、排ガスの供給を停止すると共に、
排ガス除害用ガスの供給を停止するので、排ガス除害用
ガスを無駄なく使用することができる。したがって、ラ
ンニングコストを抑えつつ、効率良く排ガスを除害する
ことができる。
【0045】この排ガス除害装置において、除害処理室
内への排ガスの供給を停止させた時点から所定時間後
に、除害処理室内への排ガス除害用ガスの供給を停止さ
せることにより、排ガス除害用ガスの供給時間を排ガス
の供給時間よりも長くすることができるので、排ガスが
除害処理されずに排気されることを確実に防止すること
ができる。
内への排ガスの供給を停止させた時点から所定時間後
に、除害処理室内への排ガス除害用ガスの供給を停止さ
せることにより、排ガス除害用ガスの供給時間を排ガス
の供給時間よりも長くすることができるので、排ガスが
除害処理されずに排気されることを確実に防止すること
ができる。
【0046】また、本発明の処理装置は、排ガスの除害
を確実にしかも効率良く行うことができ、しかも被処理
体への処理を行うことができる。
を確実にしかも効率良く行うことができ、しかも被処理
体への処理を行うことができる。
【図1】本発明の一実施の形態に係る排ガス除害装置を
備えた処理装置の概略構成を示す図である。
備えた処理装置の概略構成を示す図である。
【図2】図1に示す処理装置の制御系を説明するための
概略図である。
概略図である。
【図3】本発明の一実施の形態に係る排ガス除害装置の
酸素供給のタイミングを示すタイミング図である。
酸素供給のタイミングを示すタイミング図である。
【図4】本発明の一実施の形態に係る排ガス除害装置の
酸素供給のタイミングを示すタイミング図である。
酸素供給のタイミングを示すタイミング図である。
1…エッチング装置本体、2…ガスボックス、3…CO
用除害装置、11…エッチング室A、12…エッチング
室B、13,14…排気系、15…CO供給ラインA、
16…CO供給ラインB、17…マニュアルバルブ、1
8…レギュレータ、19…ガスフィルタ、20,20
A,20B,20C…エアオペバルブ、21…MFC、
22…ドライポンプ、23…酸性ガス吸着部、24…C
O酸化器、25…ヒータ、26…フローメータ、31…
電磁弁コントローラ、32…リレーA、33…リレー
B、34…除害装置シーケンスコントローラ。
用除害装置、11…エッチング室A、12…エッチング
室B、13,14…排気系、15…CO供給ラインA、
16…CO供給ラインB、17…マニュアルバルブ、1
8…レギュレータ、19…ガスフィルタ、20,20
A,20B,20C…エアオペバルブ、21…MFC、
22…ドライポンプ、23…酸性ガス吸着部、24…C
O酸化器、25…ヒータ、26…フローメータ、31…
電磁弁コントローラ、32…リレーA、33…リレー
B、34…除害装置シーケンスコントローラ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D002 AA08 AB01 AC10 BA04 BA05 BA12 CA13 CA20 DA70 EA02 GA01 GA02 GA03 GB01 GB02 GB03 GB05 GB11
Claims (5)
- 【請求項1】 被処理体に対して処理ガスを用いて所定
の処理を施す処理装置における排ガスを除害する装置で
あって、 排ガスに対して除害処理を行う除害処理室と、 前記除害処理室内に排ガスを供給する排ガス供給手段
と、 前記除害処理室内に排ガス除害用ガスを供給する排ガス
除害用ガス供給手段と、 前記排ガス除害用ガスの供給タイミングを制御するタイ
ミング制御手段と、を具備し、 前記除害処理室内への排ガスの供給を開始すると共に、
前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの供給を開
始し、前記除害処理室内への排ガスの供給を停止すると
共に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの供
給を停止することを特徴とする排ガス除害装置。 - 【請求項2】 前記除害処理室内への排ガスの供給を停
止させた時点から所定時間計測する計測手段を具備する
ことを特徴とする請求項1記載の排ガス除害装置。 - 【請求項3】 被処理体に対して処理ガスを用いて所定
の処理を施す処理装置であって、 被処理体への処理を行う処理室を備えた装置本体と、 前記処理室内に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、 前記処理ガスの排ガスを除害処理する除害処理部と、を
具備し、前記除害処理部は、 排ガスに対して除害処理を行う除害処理室と、 前記除害処理室内に排ガス除害用ガスを供給する排ガス
除害用ガス供給手段と、 前記排ガス除害用ガスの供給タイミングを制御するタイ
ミング制御手段と、を具備し、 前記処理室から前記除害処理室内に排ガスが供給される
と共に、前記除害処理室内への前記排ガス除害用ガスの
供給を開始し、前記処理室から前記除害処理室内に排ガ
スの供給が停止されると共に、前記除害処理室内への前
記排ガス除害用ガスの供給を停止することを特徴とする
処理装置。 - 【請求項4】 被処理体に対して処理ガスを用いて所定
の処理を施す処理装置における排ガスを除害する方法で
あって、 排ガスに対して除害処理を行う除害処理室内に排ガスの
供給が開始されると共に、前記除害処理室内への前記排
ガス除害用ガスの供給を開始し、前記除害処理室内への
排ガスの供給を停止すると共に、前記除害処理室内への
前記排ガス除害用ガスの供給を停止するように、前記排
ガス除害用ガスの供給タイミングを制御することを特徴
とする排ガス除害方法。 - 【請求項5】 前記除害処理室内への排ガスの供給を停
止させた時点から所定時間後に、前記除害処理室内への
前記排ガス除害用ガスの供給を停止させることを特徴と
する請求項4記載の排ガス除害方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11175537A JP2001000829A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 排ガス除害装置及びそれを備えた処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11175537A JP2001000829A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 排ガス除害装置及びそれを備えた処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001000829A true JP2001000829A (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=15997819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11175537A Withdrawn JP2001000829A (ja) | 1999-06-22 | 1999-06-22 | 排ガス除害装置及びそれを備えた処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001000829A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008272596A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-11-13 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 有機ハロゲン化合物を含む廃棄物の加熱処理方法及び加熱処理装置 |
JP2009082892A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Kanken Techno Co Ltd | 排ガス処理装置の温度制御方法及び該方法を用いた排ガス処理装置と排ガス処理システム |
-
1999
- 1999-06-22 JP JP11175537A patent/JP2001000829A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008272596A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-11-13 | Kobelco Eco-Solutions Co Ltd | 有機ハロゲン化合物を含む廃棄物の加熱処理方法及び加熱処理装置 |
JP2009082892A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Kanken Techno Co Ltd | 排ガス処理装置の温度制御方法及び該方法を用いた排ガス処理装置と排ガス処理システム |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040427 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050825 |