JP2000508332A - ２，５―ジメチル―２，５―ジ―ｔ―ブチルペルオキシヘキサンの製法 - Google Patents
２，５―ジメチル―２，５―ジ―ｔ―ブチルペルオキシヘキサンの製法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- DSAYAFZWRDYBQY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexa-1,5-diene Chemical compound CC(=C)CCC(C)=C DSAYAFZWRDYBQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 3
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 2
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- UJXFNIQSAHCTTA-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxyhexane Chemical compound CCCCCCOOCCCC UJXFNIQSAHCTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZGXMNEKDFYUNDQ-UHFFFAOYSA-N hepta-1,5-diene Chemical compound CC=CCCC=C ZGXMNEKDFYUNDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 claims 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexane-2,5-diol Chemical compound CC(C)(O)CCC(C)(C)O ZWNMRZQYWRLGMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L Magnesium perchlorate Chemical compound [Mg+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- ZRPKFTSDMUNSNB-UHFFFAOYSA-L zinc;acetate;chloride Chemical compound [Cl-].[Zn+2].CC([O-])=O ZRPKFTSDMUNSNB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C409/00—Peroxy compounds
- C07C409/16—Peroxy compounds the —O—O— group being bound between two carbon atoms not further substituted by oxygen atoms, i.e. peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C407/00—Preparation of peroxy compounds
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Abstract
(57)【要約】
２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−ヘキサンを製造するために、２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエンとｔ−ブチルヒドロペルオキシドを酸性触媒の下で完全無水溶剤中の電子対受容体−ルイス酸の存在下に反応させる。工業用の水含有ｔ−ブチルヒドロペルオキシドを使用する場合には、２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエンと混合した後に、硫酸又は塩酸カルシウムの添加の後に水を除去し、引き続き、電子対受容体ルイス酸を添加することができる。
Description
【発明の詳細な説明】
２，５−ジメチル−２，５−
ジ−ｔ−ブチルペルオキシヘキサンの製法
本発明は、２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン及びｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシドから出発する２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ
ヘキサンの製法に関する。
２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−ヘキサン（ＤＨＢＰ
）は、エラストマー及び熱可塑性プラスチックの架橋のため、かつ高分子量のポ
リプロピレンの所望の分解のための重要な過酸化物である。
ＤＨＢＰの慣用の製法は、２，５−ジメチル−ヘキサン−２，５−ジオールか
ら出発する。これを、強酸媒体中で過酸化水素と反応させてジヒドロペルオキシ
ドにする。好適な洗浄工程により、過剰の過酸化水素を除去し、かつジヒドロペ
ルオキシドを同様に強酸媒体中でｔ−ブタノールと更に反応させて、ＤＨＢＰに
する。
この２段階方法の欠点は、さほど高くない収率（使用ジオールに対して６０〜
６５％）、長い処理時間、固体ジヒドロペルオキシド（安全技術的に問題のある
化合物）での処理及び大量の酸性排水及び洗浄溶液の
発生である。
酸性媒体中での２，５−ジメチル−ヘキサン−２，５−ジオールとｔ−ブチル
ヒドロペルオキシド（ＴＢＨＰ）との反応は不可能である。それというのも、ジ
オールは酸の影響下では非常に容易に環化して、２，２，５，５−テトラメチル
テトラヒドロフランになるためである。
酸触媒の使用下での２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエンとＴＢＨＰとの
反応は、フランス特許（ＦＲ−ＰＳ）第１２９１９６５号明細書中に記載されて
いる。好適な酸としては、過塩素酸、硫酸、塩化水素ガス、トルエンスルホン酸
及び同様の強酸が挙げられていれる。有利に無水媒体中で処理するが、例中では
７５％濃度の工業用ＴＢＨＰも使用することが記載されている。しかし２，５−
ジメチル−１，５−ヘキサジエンと７５％ＴＢＨＰ及びｐ−トルエンスルホン酸
との反応は、２６％のＤＨＢＰ収率をもたらすにすぎない。無水条件下でも、前
記の酸を用いるのではより高い収率を達成することは出来ない。更に、例ＦＲ−
ＰＳ中で使用される９８〜９９％の含有率を有するＴＢＨＰは、極めて危険な物
質であり、工業規模では製造することも取り扱うこともできない。更に反応の際
に、大量の不所望な副産物が生じ、これは蒸留精製によってしか除去することが
できない。これは、工業規模では安全技術的に許容不可能な方法である。
従って、ＤＨＢＰを安全に、かつ環境に対して問題なく、良好な収率及び短い
処理サイクルで製造することを可能にする方法が要求される。本発明の課題はこ
の要求を満たすものである。
意外にも、完全無水媒体中のルイス酸の存在下に、２，５−ジメチル−１，５
−ヘキサジエン及びＴＢＨＰからＤＨＢＰが、短い反応時間で良好な収率及び十
分な製品品質で得られることを発見し、本発明はそのことに基づく。
前記の課題は従って本発明で、酸触媒下での２，５−ジメチル−１，５−ヘキ
サジエンとｔ−ブチルヒドロペルオキシドとの反応による２，５−ジメチル−２
，５−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−ヘキサンの製法により解決され、その際、こ
の製法は、反応を電子対受容体−ルイス酸の存在下に完全無水溶剤中で実施する
ことを特徴とする。
安全性の観点から、本発明の主な利点は、無水で、従って危険なＴＢＨＰを使
用する必要がなく、工業用の水含有ＴＢＨＰと２，５−ジメチル−１，５−ヘキ
サジエンとの混合物から、水を、比較的僅かな量の希硫酸又は塩化カルシウムの
添加により分離除去することができることである。ルイス酸−触媒の添加により
次いで反応させ、ＤＨＢＰにする。
好適なルイス酸として、特に次のものを使用することができる：
有機溶剤、例えばエーテル中の三フッ化ホウ素エーテレート、塩化亜鉛−エー
テル−錯体、硫酸とホウ酸との無水錯体、リンタングステン酸又は過塩素酸リチ
ウム又は過塩素酸マグネシウム。
反応を−１０℃〜＋５０℃の温度で、殊には０℃〜３０℃の範囲内で行うのが
有利である。
ＴＢＨＰは高濃度の形で使用することができる。しかし、６０〜８０％濃度の
工業用の水含有ＴＢＨＰが有利である。ＴＢＨＰをモル過剰で使用するのが有利
である。２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン１モルに対して、ＴＢＨＰ２
〜６モル、殊に３〜４モルを使用するのが特に有利である。
ルイス酸−触媒を２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン１モル当たり０．
１〜０．５モルの量で使用するのが有利であるが、それぞれ使用されるルイス酸
及び処理変法に応じて、それよりも多い量又は少ない量を使用しても良い。
本発明の方法は、危険な出発生成物を回避し、かつ簡単な処理法で、かつ殊に
複雑か、又は危険な精製工程を伴わずにＤＨＢＰを、理論量の９０％までの収率
で、８０％を上回る純度でもたらす。
例１
撹拌及び冷却下に、２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン１７０ｇ（１．
５モル）及び７８％ＴＢＨ
Ｐ６００ｇ（５．２５モル）の混合物に、７２％硫酸１００ｇを添加し、５分間
撹拌し、かつ水性相（１８５ｇ）を除去する。撹拌及び冷却下に再度、７２％硫
酸３５ｇを添加し、５分間撹拌し、かつ更に水性相４７ｇを除去する。
撹拌及び冷却下に、約３５分かけて、酢酸エチル５０ｍｌ中の三フッ化ホウ素
−ジエチルエーテレート７０ｇ（０．５モル）の溶液を滴下し、その際、温度を
３０℃に上昇させ、かつ更に３０℃で３時間、後撹拌する。
水４００ｍｌの添加の後に、水性相を除去する。生成物を、１５％水酸化ナト
リウム溶液で２回、かつ水で２回、洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥さ
せ、かつ濾過する。５０℃の空気を用いての排気により揮発性成分を除去した後
に、理論量の５３．７％の収率に相応する８３％のＤＨＢＰ含有率を有する生成
物２８２ｇが得られる。
例２
例１と同様に処理するが、但し、触媒として塩化メチレン中の塩化亜鉛−ジエ
チルエーテル−錯体の２．２モル溶液１４０ｍｌ（０．３モル）を添加し、かつ
４０℃で２．５時間撹拌する。例１中の記載と同様な後処理の後に、理論量の６
１．６％の収率に相応する８７％のＤＨＢＰ含有率を有する生成物３０８．６ｇ
が得られる。
例３
例１と同様に処理するが、但し、触媒として、ジエチルエーテル中の過塩素酸
塩リチウムの５モル溶液５０ｍｌ（０．２５モル）を添加し、かつ３０℃で２時
間撹拌する。例１中の記載と同様の後処理の後に、理論量の７３．９％の収率に
相当する９１．７％のＤＨＢＰ含有率を有する生成物３５１ｇが得られる。
例４
撹拌及び冷却下に２，５−ジメチル−１，５−へキサジエン８５ｇ（０．７５
モル）及び７８％ＴＢＨＰ２６０ｇ（２．２５モル）からなる混合物に７２％硫
酸４５ｇを添加し、５分間撹拌し、かつ水性相（８２ｇ）を除去する。撹拌及び
冷却下に再度、７２％硫酸１５ｇを添加し、５分間撹拌し、かつ更に水性相２２
ｇを除去する。
撹拌及び冷却下に、約１時間かけて、酢酸エチル４０ｇ中の無水過塩素酸マグ
ネシウム２２．３ｇ（０．１モル）の溶液を滴下し、その際、温度を２０℃未満
に保持する。１０〜１２℃で更に２時間撹拌し、次いで水３００ｍｌを添加し、
かつ水性相を除去する。有機相を、１５％水酸化ナトリウム溶液で２回、かつ水
で２回洗浄する。５０℃の空気で排気することによる揮発成分の除去の後に、理
論量の８０％の収率に相応する９４％のＤＨＢＰ含有率を有する生成物１８６ｇ
が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 酸触媒の下での２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエンとｔ−ブチルヒ ドロペルオキシドとの反応による２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルペ ルオキシヘキサンの製法において、反応を完全無水溶剤中の電子対受容体−ルイ ス酸の存在下に実施することを特徴とする、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ −ブチルペルオキシヘキサンの製法。 2. 電子対受容体−ルイス酸として、有機溶剤中の三フッ化ホウ素エーテレー ト、塩化亜鉛−エーテル−錯体、無水硫酸−ホウ酸−錯体及び過塩素酸塩リチウ ム又は火炎竿酸塩マグネシウムからなる群からの少なくとも１種の物質を使用す る、請求項１に記載の製法。 3. 電子対受容体−ルイス酸を２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン１モ ル当たり、０．１〜０．５モルの量で使用する、請求項１又は２に記載の製法。 4. ２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン１モル当たり、ｔ−ヒドロペル オキシド２〜６モルを使用する、請求項１から３のいずれに記載の製法。 5. ２，５−ジメチル−１，５−ヘキサジエン１モル当たり、ｔ−ヒドロペル オキシド３〜４モルを使用する、請求項４に記載の製法。 6. 反応を、−１０〜＋５０℃の温度で実施する、 請求項１から５のいずれかに記載の製法。 7. 工業用の水含有ｔ−ブチルヒドロペルオキシドを使用し、かつ２，５−ジ メチル−１，５−ヘキサジエンと混合した後に、硫酸又は塩化カルシウムの添加 により水を除去し、引き続き、電子対受容体−ルイス酸を添加する、請求項１か ら６のいずれかに記載の製法。 8. 反応の終了後に、生成物相を水で洗浄する、請求項１から７のいずれかに 記載の製法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19615182A DE19615182A1 (de) | 1996-04-17 | 1996-04-17 | Verfahren zur Herstellung von 2,5-Dimethyl-2,5-di-t-butylperoxy-hexan |
| DE19615182.1 | 1996-04-17 | ||
| PCT/EP1997/001937 WO1997038974A1 (de) | 1996-04-17 | 1997-04-17 | Verfahren zur herstellung von 2,5-dimethyl-2,5-di-t-butylperoxyhexan |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000508332A true JP2000508332A (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=7791541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9536759A Ceased JP2000508332A (ja) | 1996-04-17 | 1997-04-17 | ２，５―ジメチル―２，５―ジ―ｔ―ブチルペルオキシヘキサンの製法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6034280A (ja) |
| EP (1) | EP0898561B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000508332A (ja) |
| BR (1) | BR9708681A (ja) |
| CA (1) | CA2251968A1 (ja) |
| DE (2) | DE19615182A1 (ja) |
| ES (1) | ES2158558T3 (ja) |
| WO (1) | WO1997038974A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104910058B (zh) * | 2015-04-20 | 2018-08-17 | 四川宜宾恒德化学有限公司 | 一种2,5-二甲基-2,5-双（叔丁基过氧基）己烷的纯化方法 |
| CN106083683B (zh) * | 2016-06-24 | 2018-02-27 | 江苏强盛功能化学股份有限公司 | 2，5‑二甲基‑2，5‑双（叔丁基过氧基）己烷的脱色方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU38108A1 (ja) * | 1959-01-14 | |||
| US3086966A (en) * | 1959-12-18 | 1963-04-23 | Wallace & Tiernan Inc | 2, 5-dimethyl-2, 5-di(t-butylperoxy) hexane |
| GB954361A (en) * | 1960-06-08 | 1964-04-08 | Konink Ind Mij Voorheen Noury | Improvements in or relating to ditertiary peroxides |
| FR1291963A (fr) * | 1961-06-06 | 1962-04-27 | Bayer Ag | Procédé de préparation de polycarbodiimides |
| DE3633308A1 (de) * | 1986-09-30 | 1988-03-31 | Peroxid Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von t-alkyl-t-aralkylperoxiden |
| US5210320A (en) * | 1992-08-17 | 1993-05-11 | Phillips Petroleum Company | Preparation of 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide and derivatives thereof |
| US5420357A (en) * | 1993-08-04 | 1995-05-30 | Arco Chemical Technology, L.P. | Preparation of dialkyl peroxides |
| US5371298A (en) * | 1993-12-22 | 1994-12-06 | Arco Chemical Technology, L.P. | Preparation of dialkyl peroxides |
-
1996
- 1996-04-17 DE DE19615182A patent/DE19615182A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-04-17 JP JP9536759A patent/JP2000508332A/ja not_active Ceased
- 1997-04-17 US US09/171,233 patent/US6034280A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-17 ES ES97921655T patent/ES2158558T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-17 DE DE59703806T patent/DE59703806D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-17 WO PCT/EP1997/001937 patent/WO1997038974A1/de active IP Right Grant
- 1997-04-17 EP EP97921655A patent/EP0898561B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-17 BR BR9708681A patent/BR9708681A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-04-17 CA CA002251968A patent/CA2251968A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19615182A1 (de) | 1997-10-23 |
| CA2251968A1 (en) | 1997-10-23 |
| WO1997038974A1 (de) | 1997-10-23 |
| EP0898561B1 (de) | 2001-06-13 |
| DE59703806D1 (de) | 2001-07-19 |
| BR9708681A (pt) | 1999-08-03 |
| US6034280A (en) | 2000-03-07 |
| EP0898561A1 (de) | 1999-03-03 |
| ES2158558T3 (es) | 2001-09-01 |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
| A02 | Decision of refusal |
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