JP2000505804A - フレーバーと相容性のシリカ、その製造方法及びそれを含有する歯磨き組成物 - Google Patents
フレーバーと相容性のシリカ、その製造方法及びそれを含有する歯磨き組成物Info
- Publication number
- JP2000505804A JP2000505804A JP10506654A JP50665498A JP2000505804A JP 2000505804 A JP2000505804 A JP 2000505804A JP 10506654 A JP10506654 A JP 10506654A JP 50665498 A JP50665498 A JP 50665498A JP 2000505804 A JP2000505804 A JP 2000505804A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- organic
- treated
- compound
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Birds (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 10以下のRP/DA研磨性で10%よりも高く、好ましくは15%より も高いフレーバーとの相容性を示し、10よりも高いRP/DA研磨性で少なく とも30%、好ましくは50%よりも高いフレーバーとの相容性を示すことを特 徴とするフレーバーとの向上した相容性を有するシリカ。 2. 珪酸アルカリ金属と無機又は有機酸性薬剤との反応から生じるシリカ(こ のシリカは乾燥状態又は水性懸濁液である)の表面を、該被処理シリカの表面で Si−OHシラノール基又はSiO-陰イオン基とそれぞれ水素結合又はイオン 結合を生じさせることができる有機化合物によって処理し、次いで必要ならば該 処理されたシリカを単離し及び(又は)洗浄し及び(又は)乾燥することを特徴 とする、請求項1に記載の主題をなすフレーバーとの向上した相容性を有するシ リカの製造方法。 3. 被処理シリカが、珪酸アルカリ金属と無機又は有機酸性薬剤との反応から 直接生じるスラリーからなる希釈懸濁液状であることを特徴とする請求項2に記 載の方法。 4. 有機化合物による処理が、反応スラリーと有機処理用化合物を機械的に攪 拌しながら20℃〜100℃程度の温度で1〜10程度、好ましくは3〜6程度 のpHで接触させることによって実施されることを特徴とする請求項3に記載の 方法。 5. 被処理シリカが、珪酸アルカリ金属と無機又は有機酸性薬剤との反応によ って形成された反応スラリーのろ過、随意の水洗から生じるシリカケーキからな る濃厚懸濁液状であることを特徴とする請求項2に記載の方法。 6. フィルターケーキ中に存在するシリカの有機化合物による処理が、フィル ターケーキと有機処理用化合物を機械的に攪拌しながら10℃〜80℃程度、好 ましくは15℃〜40℃程度の温度で3〜10程度、好ましくは5〜8程度のp Hで接触させることによって実施されることを特徴とする請求項5に記載の方法 。 7. 有機化合物により処理しようとするシリカが、珪酸アルカリ金属と無機又 は有機酸性薬剤との反応によって形成された反応スラリーのろ過と洗浄から生じ るシリカケーキの要すればクランブリングした後に乾燥することに得られる、5 0%以下、好ましくは10%以下の水分を示す乾燥形態のシリカであることを特 徴とする請求項2に記載の方法。 8. 有機化合物による処理が有機処理用化合物を乾燥シリカの表面に噴霧する ことによって達成されることを特徴とする請求項7に記載の方法。 9. 被処理シリカが、予め製造した乾燥シリカを水に再分散することによって 得られた濃厚懸濁液状であることを特徴とする請求項2に記載の方法。 10. 該懸濁液中に存在するシリカの有機化合物による処理が、懸濁液と有機 処理用化合物を機械的に攪拌しながら10℃〜80℃程度、好ましくは15℃〜 40℃程度の温度で3〜10程度、好ましくは5〜8程度のpHで接触させるこ とによって実施されることを特徴とする請求項9に記載の方法。 11. 被処理シリカが、予め製造した乾燥シリカを有機処理用化合物の水溶液 に再分散することによって得られた濃厚懸濁液状であることを特徴とする請求項 2に記載の方法。 12. 該懸濁液中に存在するシリカの有機化合物による処理が、機械的に攪拌 しながら10℃〜80℃程度、好ましくは15℃〜40℃程度の温度で3〜10 程度、好ましくは5〜8程度のpHで実施されることを特徴とする請求項11に 記載の方法。 13. 有機処理用化合物が非イオン性又は陽イオン性の水溶性有機化合物であ る請求項2〜12のいずれかに記載の方法。 14. 有機化合物が ・ポリエチレングリコール ・ポリビニルアルコール ・ポリビニルピロリドン ・ポリアルコキシル化ポリジメチルシロキサン ・桂皮酸 ・p−ヒドロキシ安息香酸及びそのエステル ・陽イオン性グアール類 ・第四アンモニウムイオネン ・エピクロルヒドリンとジメチルアミンとから誘導される重合体及びエピクロル ヒドリンとイミダゾールとから誘導される重合体 であることを特徴とする請求項13に記載の方法。 15. 使用される有機処理用化合物の量が、固体物質として表して、シリカ1 00重量部当たり0.1〜30重量部程度、好ましくは0.5〜25重量部程度 であることを特徴とする請求項2〜14のいずれかに記載の方法。 16. 請求項1に記載の主題をなすシリカ又は請求項2〜15のいずれかに記 載の主題をなす方法により得られるシリカからなる歯磨き用組成物における研磨 剤又は増粘剤。 17. 請求項1に記載の主題をなすシリカ又は請求項2〜15のいずれかに記 載の主題をなす方法により得られるシリカを含有する歯磨き用組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9609202A FR2751635B1 (fr) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | Silice compatible avec les aromes, son procede de preparation et compositions dentifrices la contenant |
FR96/09202 | 1996-07-23 | ||
PCT/FR1997/001349 WO1998003153A1 (fr) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Silice compatible avec les aromes, son procede de preparation et compositions dentifrices la contenant |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000505804A true JP2000505804A (ja) | 2000-05-16 |
JP3607299B2 JP3607299B2 (ja) | 2005-01-05 |
Family
ID=9494336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50665498A Expired - Fee Related JP3607299B2 (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | フレーバーと相容性のシリカ、その製造方法及びそれを含有する歯磨き組成物 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5989524A (ja) |
EP (1) | EP0964669B1 (ja) |
JP (1) | JP3607299B2 (ja) |
CN (1) | CN1138520C (ja) |
AU (1) | AU3774997A (ja) |
BR (1) | BR9710390B1 (ja) |
DE (1) | DE69717155T2 (ja) |
ES (1) | ES2186910T3 (ja) |
FR (1) | FR2751635B1 (ja) |
WO (1) | WO1998003153A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004506671A (ja) * | 2000-08-18 | 2004-03-04 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 歯磨き剤組成物の製法及びその生成物 |
JP2004506782A (ja) * | 2000-08-18 | 2004-03-04 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 研磨剤組成物およびその製法 |
JP2006517903A (ja) * | 2003-02-14 | 2006-08-03 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 表面積が低い沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法 |
JP2010514660A (ja) * | 2006-12-27 | 2010-05-06 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 塩化セチルピリジニウムとの高い親和性を示す沈降シリカ物質 |
JP2016037405A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 学校法人神奈川大学 | キラルな金属化合物構造体の製造方法、及び金属化合物構造体 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6479036B1 (en) * | 1998-06-05 | 2002-11-12 | Crosfield Limited | Particulate materials for use in dentifrice compositions |
US6652611B1 (en) | 2000-08-18 | 2003-11-25 | J. M. Huber Corporation | Method for making abrasive compositions and products thereof |
GB0101507D0 (en) * | 2001-01-22 | 2001-03-07 | Crosfield Joseph & Sons | Stabilising beverages |
GB0126244D0 (en) * | 2001-11-01 | 2002-01-02 | Ineos Silicas Ltd | Oral compositions |
WO2004073539A2 (en) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | J. M. Huber Corporation | Precipitated silica product, dentrifices containing same, and processes |
WO2005000253A1 (en) * | 2003-06-23 | 2005-01-06 | Colgate-Palmolive Company | Stable dentifrice compositions |
US8287843B2 (en) * | 2003-06-23 | 2012-10-16 | Colgate-Palmolive Company | Antiplaque oral care compositions |
RU2497496C2 (ru) * | 2008-11-25 | 2013-11-10 | Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани | Антибактериальные композиции для ухода за полостью рта, содержащие аморфный кварц |
US8551457B2 (en) | 2008-11-25 | 2013-10-08 | The Procter & Gamble Company | Oral care compositions comprising spherical fused silica |
EP2413883A1 (en) * | 2009-04-01 | 2012-02-08 | Colgate-Palmolive Company | Dentifrice compositions and methods for treating and preventing damage to tooth surfaces |
WO2011150004A2 (en) | 2010-05-25 | 2011-12-01 | The Procter & Gamble Company | Oral care compositions and methods of making oral care compositions comprising silica from plant materials |
JP2015535262A (ja) | 2012-11-05 | 2015-12-10 | ザ プロクター アンド ギャンブルカンパニー | 熱処理沈殿シリカ |
MX361104B (es) | 2014-02-27 | 2018-11-27 | Procter & Gamble | Composiciones con una percepcion reducida de sabor amargo. |
MX2016011170A (es) * | 2014-02-27 | 2016-12-16 | Procter & Gamble | Composiciones para el cuidado bucal con una percepcion reducida de sabor amargo. |
EP3491077B1 (en) * | 2016-07-26 | 2020-02-26 | Unilever N.V. | Surface treatment composition capable of imparting underwater superoleophobicity |
CN110713191B (zh) * | 2019-06-28 | 2021-04-23 | 浙江大学 | 一种前香二氧化硅纳米粒子及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1063357A (en) * | 1974-05-21 | 1979-10-02 | James J. Benedict | Abrasive composition |
US4340583A (en) * | 1979-05-23 | 1982-07-20 | J. M. Huber Corporation | High fluoride compatibility dentifrice abrasives and compositions |
JPH0784373B2 (ja) * | 1986-12-26 | 1995-09-13 | ライオン株式会社 | 口腔用組成物 |
AU4251693A (en) * | 1992-05-19 | 1993-12-13 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Oral care compositions containing silica based materials with improved compatibility |
AU670961B2 (en) * | 1992-09-24 | 1996-08-08 | Unilever Plc | Process for improving the compatibility of precipitated silicas with flavours |
-
1996
- 1996-07-23 FR FR9609202A patent/FR2751635B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-18 US US08/896,349 patent/US5989524A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-21 CN CNB97196677XA patent/CN1138520C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-21 ES ES97934601T patent/ES2186910T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-21 JP JP50665498A patent/JP3607299B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-21 WO PCT/FR1997/001349 patent/WO1998003153A1/fr active IP Right Grant
- 1997-07-21 EP EP97934601A patent/EP0964669B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-21 DE DE69717155T patent/DE69717155T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-21 BR BRPI9710390-0A patent/BR9710390B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-07-21 AU AU37749/97A patent/AU3774997A/en not_active Abandoned
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004506671A (ja) * | 2000-08-18 | 2004-03-04 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 歯磨き剤組成物の製法及びその生成物 |
JP2004506782A (ja) * | 2000-08-18 | 2004-03-04 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 研磨剤組成物およびその製法 |
JP2006517903A (ja) * | 2003-02-14 | 2006-08-03 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 表面積が低い沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法 |
JP2007524555A (ja) * | 2003-02-14 | 2007-08-30 | ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション | 沈降シリカ生成物、それらを含む歯磨き剤および方法 |
JP2010514660A (ja) * | 2006-12-27 | 2010-05-06 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 塩化セチルピリジニウムとの高い親和性を示す沈降シリカ物質 |
JP2016037405A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 学校法人神奈川大学 | キラルな金属化合物構造体の製造方法、及び金属化合物構造体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR9710390A (pt) | 1999-08-17 |
JP3607299B2 (ja) | 2005-01-05 |
FR2751635A1 (fr) | 1998-01-30 |
FR2751635B1 (fr) | 1998-10-02 |
US5989524A (en) | 1999-11-23 |
EP0964669B1 (fr) | 2002-11-13 |
ES2186910T3 (es) | 2003-05-16 |
WO1998003153A1 (fr) | 1998-01-29 |
DE69717155T2 (de) | 2003-07-24 |
BR9710390B1 (pt) | 2009-08-11 |
EP0964669A1 (fr) | 1999-12-22 |
CN1226155A (zh) | 1999-08-18 |
AU3774997A (en) | 1998-02-10 |
CN1138520C (zh) | 2004-02-18 |
DE69717155D1 (de) | 2002-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000505804A (ja) | フレーバーと相容性のシリカ、その製造方法及びそれを含有する歯磨き組成物 | |
RU2394763C2 (ru) | Высокоэффективно чистящие кремнеземные материалы, получаемые с помощью регулирования морфологии продукта, и содержащее их средство ухода за зубами | |
JP2977905B2 (ja) | 練り歯磨き組成物用の研磨剤シリカ | |
KR950003418B1 (ko) | 특히 아연과 상용성이 있는 치약 조성물용 실리카 | |
MX2007006153A (es) | Materiales de silice de altamente limpiadores/bajamente abrasivos y dentifrico que contiene los mismos. | |
JPH10511684A (ja) | シリカ研磨組成物 | |
WO2006071528A1 (en) | Classified silica for improved cleaning and abrasion in dentifrices | |
EP2007676A2 (en) | High-cleaning silica materials made via product morphology control under high shear conditions | |
WO2007078651A2 (en) | Dentifrices comprising biogenic silica materials | |
KR20070086588A (ko) | 생성물 형태 조절을 통해 제조된 고 세정 실리카 물질 및이러한 물질을 함유하는 치약 | |
MXPA05005207A (es) | Composiciones abrasivas para pasta de dientes transparente. | |
EP0317378B2 (fr) | Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc | |
EP2001560A2 (en) | High-cleaning, low abrasion, high brightness silica materials for dentrifices | |
US7166271B2 (en) | Silica-coated boehmite composites suitable for dentifrices | |
JP2011529024A (ja) | 歯磨剤用の透明なシリカゲル/沈降シリカ複合材料 | |
JP3416890B2 (ja) | 練り歯磨きに使用できる研磨性シリカ | |
CA2591704A1 (en) | Methods of producing improved cleaning abrasives for dentifrices | |
WO2007078630A1 (en) | Dentifrices comprising biogenic silica materials | |
FR2488794A1 (fr) | Compositions de dentifrice | |
WO2024009168A1 (en) | Preparation of silica particles exhibiting globulous morphology |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20031224 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040511 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040914 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041007 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071015 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081015 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091015 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091015 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101015 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111015 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121015 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |