JPH10511684A - シリカ研磨組成物 - Google Patents

シリカ研磨組成物

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JPH10511684A JP8533426A JP53342696A JPH10511684A JP H10511684 A JPH10511684 A JP H10511684A JP 8533426 A JP8533426 A JP 8533426A JP 53342696 A JP53342696 A JP 53342696A JP H10511684 A JPH10511684 A JP H10511684A
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サテイツシユ クーマー ウエイソン,
デイビツド アール ライス,
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ジエイ エム ヒユーバー コーポレイシヨン
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Abstract

(57)【要約】 新規な研磨剤を含む口内ゲルおよび練り歯磨き剤のような口内組成物。

Description

【発明の詳細な説明】 シリカ研磨組成物 技術分野 この発明は、口内洗浄効果が高められた例えば練り歯磨き剤を含む歯磨き剤組 成物に関するものである。 発明の背景 合成的に生成されたシリカは、今日の多くの練り歯磨き剤の配合物の成分とし て重要な役割を果たしている。上記の配合物の洗浄能力に加えてこれらの配合物 は比較的安全であり、無毒性であり、さらにグリセリン、ソルビトール(または キシリトール)、増粘剤、洗浄剤、着色物質、芳香物質、および適宜添加される フッ化物(フルオリド)含有組成物を含む他の練り歯磨き剤配合成分と相溶性( compatible)のあるものである。 合成沈降シリカはアルカリ性のシリケート溶液に酸を添加し、攪拌し、次いで 沈降シリカを濾過して生成される。次に、得られた沈降シリカを洗浄し、乾燥し 、所定の大きさの粒度に微粉砕する。合成沈降シリカを調製するときに、目的は 口内組織に与えられる損傷を最少に保ちつゝ最大の洗浄効果を与えるシリカを得 ることである。これらの目的に適合する沈降シリカを見分けることに関して歯科 の分野で研究が絶えず続けられている。 沈降シリカの例が、ここに参考として示す1978年10月24日付けのウエ イソン(Wason )氏の米国特許第4,122,161 号、1991年2月12日付け、1 991年7月30日付けのアルドクロフト(Aldcroft)氏他の米国特許第4,992, 251 号、米国特許第5,035,879 号、1992年3月24日付けのニュートン(Ne wton)氏他の米国特許第5,098,695 号、1994年1月18日付けのウエイソン (Wason )氏他の米国特許第5,279,815 号の各明細書に開示されている。 さらに、各種のシリカの組合わせが技術書に開示されている。種々の異なる粒 子の大きさ、比表面積をもった組成物を含むシリカの組合わせが1971年5月 4日付けのカールハインツ シェラー(Karlheinz Scheller)氏他の米国特許第 3,577,521 号、1986年10月21日付けの前山氏他の米国特許第4,618,488 号の各明細書に開示されている。同様に1992年5月5日付けのラインハーズ (Reinhardt )氏他の米国特許第5,110,574 号明細書には、少なくとも200の 吸油値を有するシリカ組成物を形成するために増粘剤と艶出シリカを組み合わせ ることが開示されている。さらに、シリカ組成物の例が1992年6月23日付 けのムールマン(Muhlemann )氏の米国特許第5,124,143 号および1986年1 2月30日付けのプロガー(Ploger)氏他の米国特許第4,623,826 号の各明細書 に開示されている。 口内洗浄と歯苔予防機能を目的とした組成物に関する多くの開示があるも拘ら ず、依然として最少の研磨作用で改善された薄膜洗浄効果を得ることのできる他 の組成物を必要としている。本発明の発明者は、異なる硬度値をもった粒子を含 むシリカからなる研磨剤は最少の研磨作用で改善された歯の洗浄効果を得ること ができることを発見した。 従って、本発明の目的は、改善された薄膜洗浄力を有し、しかもそれに伴なう 象牙質やエナメル質の研磨値が増加することのない沈降シリカ組成物を得ること にある。本発明の他の目的は、歯の変色を防止し、あるいは歯の変色を取り除く 効果を得ることにある。本発明のさらに別の目的は、歯苔の防止あるいは歯苔を 取り除くための有効な方法を得ることにある。上記の諸目的、他の目的は以下の 説明から明らかになろう。 発明の概要 本発明は、 (a)粒子を含み、この粒子が(i)約5μm から約11μm (s.d.<7 )の平均粒度を有し、(ii)黄銅製スクリーンに対する研磨値については約0. 8から約2.5であり、ポリエステルスクリーンに対する研磨値については約5 から約8以下のアインレーネル(Einlehner )硬度を有し、(iii)95ml/1 00gm(グラム)から約135ml/100gm(グラム)の吸油値を有し、( iv)約25から約80以下の放射性象牙質研磨値を有する、沈降シリカと、 (b)粒子を含み、この粒子が(i)約5μm から約11μm (s.d.<7 )の平均粒度を有し、(ii)黄銅製スクリーンに対する研磨値については約3乃 至約8であり、ポリエステル製スクリーンに対する研磨値については約8から約 11のアインレーネル(Einlehner )硬度を有し、(iii)約70ml/100g m(グラム)から約95ml/100gm(グラム)以下の吸油値を有し、(iv) 80から約200の放射性象牙質研磨値を有する、沈降シリカと、 を含み、 上記粒子全体の少なくとも約70%は約20μm 以下の直径を有し、薄膜洗浄 率(Pellicle Cleaning Ratio :PCR)は約90から約135であり、放射性 象牙質研磨値(Radioactive Dentin Abrasion :RDA)は約60から約100 で、薄膜洗浄率と放射性象牙質研磨値の比(薄膜洗浄率/放射性象牙質研磨値) は約1.25から約1.75であり、上記(a)のシリカと(b)のシリカの比 は約90:10から約40:60である、 沈降シリカ研磨剤組成物に関するものである。 すべての大きさ(レベル)及び比は、別に指示が無いかぎり全組成物の重量に よるものである。さらに別に特記されていない限りすべての測定値は25℃で測 定され値である。 ここに記載されている本発明の組成物の5%水性スラリで測定したときのpH は約4.5から約9.5の範囲にあり、好ましいpHは約6.5から約9.0の 範囲にあり、最も好ましいいpHは7.0乃至約8.5である。 本発明の詳細な説明 本発明の組成物に必須の成分、適宜使用される成分は以下の説明中に記載され ている。 研磨剤 本発明のシリカ組成物を生成するために使用される沈降シリカは、J.Soc.Cosm et.Chem.29、497〜521、(1978年8月)、およびPigment Handbook :Volume 1、Properties and Economics、Second Edition、Peter A.Lewis編集 、John、Wiley & sons、Inc.、1988、P.139 〜159 に記載の定義に基づいて低構 造(Low Structure )あるいは中構造(Medium Structure)のいずれかによって 特徴付けられるものであり、好ましくは合成水和非晶質シリカとして特徴付けら れるもの、また二酸化珪素すなわちSiO2として知られているものである。さ らに、これらのシリカは、50乃至250m2/gの範囲にあるBET表面積を 有するものとして特徴付けることができる。 さらにこれらの組成物は、約5μm から約11μm のメジアン平均粒度を有し 、その粒度分布の少なくとも70%が20μm 以下であるものとして特徴付けら れる。平均粒度(平均値およびメジアンあるいは50%)はリーズアンドノース ラップ(Leeds and Northrup)社のマイクロトラック(Microtrac )II装置を使 用して測定される。具体的に言えば、液体中に懸濁している移動粒子の流れを含 む透明セルにレーザービームを照射する。粒子に当たった光線は、その粒子の大 きさに反比例した角度で散乱される。光検出器アレーによって、予め定められた 角度の光量を測定する。その後、測定された光束値に比例した電気信号がマイク ロコンピュータシステムによって処理されて、粒度分布のマルチチャンネルヒス トグラムが形成される。 本発明の組成物を生成するために使用される沈降シリカは、さらにそれらの各 アインレーネル(Einlehner )硬度値、放射性象牙質研磨値(RDA)、および 吸油値によって区分される。 アインレーネル(Einlehner )硬度値は、Einlehner At−1000磨耗試験 機を使用して次のようにしてシリカの軟度を測定することにより測定される。フ ォードリニエワイヤー(Fourdrinier wire)スクリーンの重量を測定し、これを 10%のシリカ懸濁水溶液の作用のもとにある時間長だけ暴す。次いで100, 000回転当たりのフォードリニエワイヤーのミリグラム重量損失として研磨量 を測定する。黄銅製アインレーネル(Brass Einlehner :BE)、ポリエステル 製アインレーネル(Polyester Einlehner )の結果はミリグラムで表される。 RDAの値は、ここに参考として示すJournal of Dental Researchの1976 年7月、8月号のP563〜573のハファーレン(Hefferren )氏の論文、ウ エイソン(Wason )氏の米国特許第4,340,583 号 、米国特許第4,420,312 号、 および米国特許第4,421,527 号に開示された方法に従って測定される。 本発明の沈降シリカ組成物は200cc/100gより小さい値の吸油値をも つものとして特徴付けることもできる。吸油率はASTM練り合わせ(rub-out )法D281を使用して測定される。表面積は、ブルーノ(Brunaur )氏他によ るJ.Am.Chem.Soc.、60、309(1938)で紹介されているBET窒素 吸着法により測定される。明度を測定するためには、微粉材料をプレスにより平 滑な表面を有するペレットにしたものについて、テクニダイン明度計(Technidy ne Brightmeter)S−5/BCを用いて測定する。この計器は、試料に45°の 角度で光を照射してその反射光を0°で観測(view)する二光ビーム光学系(du al beam optical system)を有しており、TAPPI試験法T452とT646 およびAS基準D985に従ったものである。所望の波長の反射光が一連のフィ ルタによって光電セルに指向するようにされ、この光電セルで出力電圧に変換さ れる。この信号は増幅されてから内部のマイクロコンピュータによって処理され て表示およびプリントアウトされる。 本発明のシリカの沈殿物は、参考としてここに示した例えば1975年7月8 日付け、1976年10月26日付け、1978年1月10日付け、1982年 7月29日付けのウエイソン(Wason )氏の米国特許第3,893,840 号、第3,988, 162 号、第4,046,746 号、および第4,340,583 号の各先行米国特許明細書に開示 された一般的な方法に従って完成される。 この処理の第1段階では、沈降反応パラメータを通常の態様で変化させること によって初期沈降シリカ懸濁液を準備し、約0.8mgから約2.5mgの範囲 の値のBE、約5mgから約8mg以下の範囲の値のPE、約25から約80の 範囲のRDA、95ml/100gmから約135ml/100gmの範囲の吸油率 をもった沈降シリカが得られた。得られたシリカの特性に影響を与える反応パラ メータには、各種の反応体が加えられる割合、各種の反応体の濃度レベル、反応 pH、反応温度、あるいは電解液が加えられる割合が含まれている。 他の沈殿プロセスのステップにおいて、一般に、約3mgから約8mgの範囲 のBE値を有し、8mg乃至11mgの範囲のPE値を有し、約81から約20 0の範囲のRDA値を有し、約70ml/100gmから約95ml/100gm以 下の吸油率を有する沈降シリカが得られる態様で反応パラメータを変化させるこ とによって同様に第2の沈降シリカ懸濁液を調製する。 次いで2種の沈降シリカ懸濁液を、pHが約5.0になるように混合する。混 合懸濁液を濾過し、次いでフィルターケーク(濾塊)(filter cake )から塩を 取り除くために水洗する。このフィルターケークを好ましくは噴霧乾燥によって 乾燥し、約3%乃至10%の水分を含む沈降シリカを生成する。この沈降シリカ の混合物を、粒度(粒子の大きさ)分布の70%が20μm 以下の粒度となるよ うに微粉砕する。あるいは、シリカを歯磨き剤組成物に混入する前に混合するこ ともできる。 上述の必須の成分に加えて、本発明の歯磨き剤組成物は種々の歯磨き剤配合成 分を適宜含むことができる。その配合成分の幾つかが以下に示されている。適宜 添加される配合成分としては、これに限られるものではないが、例えば、接着剤 、発泡剤、香味剤、甘味剤、付加歯苔防止剤、研磨剤、および着色剤が含まれる 。これらの成分およびその他の適宜使用される成分については、ここに参考とし て示す1991年4月2日付けのマジェティ(Majeti)の米国特許第5,004,597 号、1989年12月5日付けのパーラン ジュニア(Parran Jr.)氏他の米国 特許第4,885,155 号、1976年5月25日付けのアグリコーラ(Agricola)氏 他の米国特許第3,959,458 号、および1976年2月10日付けのフェイフェー ル(Faefele )の米国特許第3,937,807 号の各先行米国特許明細書に開示され ている。 歯磨き剤の洗浄特性の測定値である本発明のシリカ混合物の薄膜洗浄率(PC R)は、本発明による沈降シリカについては、90乃至135の範囲、好ましく は100から135の範囲である。歯磨き剤に混合したときの沈降シリカの研磨 の測定値である本発明のシリカによる放射性象牙研磨値(Radioactive Dentin A brasion :RDA)は60から100の範囲、好ましくは80から90の範囲で ある。 PCR(薄膜洗浄率)洗浄値は、J.Dental Research 61、1236〜9、 1982年のストーキー(G.K.Stookey)氏、バークハード(T.A.Burkhard ) 氏、およびシェマホーン(B.R.Schemerhorn)氏の論文“In Vitro Removal of Stain With Dentifrice ”に記載のPCR試験を若干修正した方法で測定される 。洗浄は、修正された薄膜洗浄率試験を用いて生体外(in vitro)で評価される 。この試験は次の点、すなわち(1)汚れたフィルムの適用前に純白(clear ) の人工薄膜フィルムを牛(bovine)のチップに適用し、(2)フィルムの適用期 間中輻射加熱の代わりに溶液加熱を使用し、(3)ブラッシングの往復回数を2 00回に減少し、(4)スラリの濃度を水3部に対して歯磨き剤1部とする、各 点を除けばストーキー(G.K.Stookey)氏他により開示された方法と同じである 。 本発明の沈降シリカ組成物を歯磨き剤組成物に混和することによりPCR/R DA率をさらに改善することができた。PCR/RDA率は、歯磨き剤配合物の 洗浄特性と研磨特性の相対比を決定するために測定される。市販の歯磨き剤配合 物は一般に0.5から1.0以下の範囲のPCR/RDA比をもっている。本発 明の組成物中で使用される沈降シリカは、歯磨き剤配合物に対して1以上、通常 は1.25乃至1.75の範囲、より好ましくは1.6乃至1.75の範囲のP CR/RDA比を得ることができる。 本発明の沈降シリカ組成物の形の研磨剤がここに述べられている組成物に混和 されたとき、歯磨き剤が練り歯磨き剤であれば、上記研磨剤は約6%から約70 %、好ましくは約15%から約35%のレベルで存在した。組成物が歯磨き粉で あれば、95%とというより高いレベルで使用することもできる。 適宜使用される成分 薬学的に許容可能なキャリヤ 本発明の組成物の成分に対するキャリヤは任意であり、口腔で使用するのに適 した任意の歯磨き剤ビヒクルとなり得るものである。このようなキャリヤは練り 歯磨き剤、歯磨き粉、予防ペースト、ロゼンジ(lozenge )、ガム、およびこれ らに類する通常の成分を含み、これについては以下で詳細に説明する。練り歯磨 き剤は好ましい系である。 界面活性剤 本発明の任意の薬剤の1つは界面活性剤であり、サルコシネート(sarcosinat e )系界面活性剤、イセチオネート(isethionate )系界面活性剤、およびタウ レート(taurate )系界面活性剤からなる群から選ばれたものであることが好ま しい。これらの界面活性剤のアルカリ金属塩、あるいはアンモニウム塩がここで 使用するのに適している。ここで使用するのに最も好ましいものは、ラウロイル サルコシネート(lauroyl sarcosinate )、ミリストイルサコシネート(myrist oyl sarcosinate )、パルミトイルサコシネート(palmitoyl sarcosinate )、 ステアロイルサコシネート(stearoyl sarcosinate)、およびオレオイルサルコ シネート(oleoyl sarcosinate)のナトリウム塩およびカリウム塩である。 この界面活性剤は、本発明の組成物中で、全組成物の重量に対して約0.1% から約2.5%、好ましくは約0.3%から約2.5%、最も好ましくは約0. 5%から約2.0%存在し得る。 本発明の組成物中でサルコシネート系界面活性剤と共に他の適当な相溶性界面 活性剤を適宜使用することもできる。適宜使用される好ましい界面活性剤につい は、ここに参考として示す1976年5月25日付けのアグリコーラ(Agricola )氏他の米国特許第3,959,458 号、1976年2月10日付けのフェイフェール (Faefele )の米国特許第3,937,807 号、1988年9月27日付けのジースケ (Gieske)氏他の米国特許第4,051,234 号の各先行米国特許明細書に開示されて いる。 ここで使用するのに有効な好ましいアニオン性界面活性剤には、アルキル基中 に10から18の炭素原子を有する水溶性のアルキルスルフェート(alkyl sulf ate )、10から18の炭素原子を有する脂肪酸の水溶性のスルホン酸モノグリ セリド(sulfonated monoglyceride)の塩が含まれている。ナトリウムラウリル スルフェート(natrium lauryl sulfate)及びナトリウムココナットモノグリセ リドスルホネート(natrium coconut monoglyceride sulfonate )はこの形のア ニオン性界面活性剤の例である。アニオン性界面活性剤の混合物も使用すること ができる。 本発明に有効な好ましいカチオン性界面活性剤は、ラウリルトリメチルアンモ ニウムクロリド(lauryl trimethylammonium chloride )、セチルピリジニウム クロリド(cetyl pyridinium chloride )、セチルトリメチルアンモニウムブロ ミド(cetyl trimethylammonium bromide )、ジ−イソブチルフェノキシエチル −ジメチルベンジルアンモニウムクロリド(di-isobutylphenoxyethyl-dimethyl benzylammonium chloide)、ココナットアルキルトリメチルアンモニウムニトリ ット(coconut alkyltrimethylammonium nitrite)、セチルピリジニウムフルオ リド(cetyl pyridinium fluoride )等、約8から18の炭素原子を含む長いア ルキル鎖を有する脂肪族第4アンモニウム化合物の誘導体として広く定義するこ とができる。好ましい化合物は、ここに参考として示す1970年10月20日 付けのブリナー(Briner)氏他の米国特許第3,535,421 号の明細書に開示されて いる第四アンモニウムフルオリド(quaternary ammonium fluoride)である。上 記の第四アンモニウムフルオリドは洗浄剤としての特性を具えている。ある種の カチオン性界面活性剤はここで述べた組成物中で殺菌剤としても作用する。クロ ロヘキサジン(chlorhexadine )は本発明で使用するのに適しているが、口腔の 硬質組織を汚す可能性があるため好ましくない。当業者はこの可能性に気を付け て上記の制限のみに留意してカチオン性界面活性剤を含ませる必要がある。 本発明の組成物で使用することができる好ましいノニオン性界面活性剤は、ア ルキレンオキシド(alkylene oxide)基(本来親水性)と本質的に例えば脂肪族 (aliphatic )またはアルキル芳香族(alkylaromatic )である有機疏水性化合 物との縮合によって生成された化合物として広く定義されている。適当なノニオ ン性界面活性剤の例として、プルロニック(Pluronic)、アルキルフェノール( alkyl phenol)のポリエチレンオキシド(polyethylene oxide)縮合体、ポリエ チレンオキシドとエチレンジアミン(ethylene diamine)との反応物とエチレン オキシド(ethylene oxide)との縮合体から誘導された生成物、脂肪族アルコー ルのエチレンオキシド縮合体、長鎖第三アミンオキシド(long chain tertiary amine oxide )、長鎖第三ホスフィンオキシド(long chain tertiary phosphin e oxide )、長鎖ジアルキルスルホキシド(long chain dialkyl sulfoxide)、 およびこれらの物質の混合物が含まれる。 本発明で有効な好ましい両性イオン合成界面活性剤は、脂肪族第四アンモニウ ム(aliphatic quaternary ammonium )、ホスホミウム(phosphomium )、スル ホニウム(sulfonium )化合物の誘導体として広く定義することができる。この 場合、脂肪族ラジカル(基)は直鎖あるいは枝分れ鎖でよく、脂肪族置換基の1 つは約8から18の炭素原子を含んでおり、また1つはアニオン性の水溶性の基 (water-solubilizing group)、例えばカルボキシ(caboxy)、スルホネート( sulfonate )、ホスフェート(phosphate )、あるいはホスホネート(phosphon ate )を含んでいる。 好ましいベタイン(betaine )界面活性剤は1993年1月19日付けのポレ フカ(Polefka )氏他の米国特許第5,180,577 号の明細書に開示されている。代 表的なアルキルジメチルベタイン(alkyl dimethyl betaine)は、デシルベタイ ン(decyl betaine )あるいは2−(N−デシル−N,N−ジメチルアンモニオ )アセテート{2−(N−decyl-N,N−dimethylammonio )acetate} 、ココ ベタイン(coco betaine)あるいは2−(N−コク−N,N−ジメチルアンモニ オ)アセテート{2−(N−coc-N,N−dimethylammonio )acetate} 、ミリ スチルベタイン(myristyl betaine)、パルミチルベタイン(palmityl betaine )、ラウリルベタイン(lauryl betaine)、セチルベタイン(cetyl betaine ) 、ステアリルベタイン(stearyl betaine )等を含んでいる。アミドベタイン( amidobetaine)として、ココアミドエチルベタイン(cocoamidoethyl betaine) 、ココアミドプロピルベタイン(cocoamidopropyl betaine )、ラウルアミドプ ロピルベタイン(lauramidopropyl betaine )等をあげることができる。ベタイ ンとしては、ココアミドプロピルベタインを選ぶことが好ましく、さらにラウル アミドプロピルベタインを選ぶことがより好ましい。 キレート剤(Chelating agent ) 適宜使用される他の好ましい薬剤として、酒石酸(tartaric acid )および薬 学的に許容し得るその塩、くえん酸、およびアルカリ金属のくえん酸塩、および これらの混合物から選択されるキレート剤がある。キレート剤はバクテリアの細 胞壁中にカルシウムの錯化合物として見られる。キレート剤は、また、この無傷 のビオマス(biomass intact)の保持を助けるカルシウムのブリッジからカルシ ウムを取り除くことにより歯苔を破壊することができる。しかしながら、非常に 高いカルシウムに対する親和性をもつキレート剤を使用することも可能である。 これは歯の減少をきたし、本発明の目的、意図に反する結果になる。 くえん酸ナトリウムおよびくえん酸カリウムは好ましいアルカリ金属のくえん 酸塩であり、くえん酸ナトリウムが最適である。また、くえん酸/アルカリ金属 のくえん酸塩の組合わせも好ましい。ここでは酒石酸のアルカリ金属塩が好まし い。ここでの使用には、酒石酸二ナトリウム(disodium tartrate )、酒石酸二 カリウム(dipotassium tartrate)、酒石酸ナトリウムカリウム(sodium potas sium tartrate )、酒石酸水素ナトリウム(sodium hydrogen tartrate)、酒石 酸水素カリウム(potassium hydrogen tartrate )が最適である。本発明で使用 するのに適したキレート剤の量は、約0.1%乃至約2.5%、好ましくは約0 .5%から約2.5%、より好ましくは約1.0%から約2.5%である。酒石 酸塩のキレート剤を単独で使用してもよいし、他の任意のキレート剤と組み合わ せて使用してもよい。 その他のキレート剤についても適宜使用することもできる。これらのキレート 剤は約101乃至105のカルシウム結合定数を持っていることが好ましく、歯苔 ならびに唾石の形成を減少させると共に改善された洗浄効果が得られる。 本発明でキレート剤として使用するのに適した他の薬剤の群は可溶性のピロ燐 酸塩である。本発明の組成物で使用されるピロ燐酸塩はアルカリ金属のピロ燐酸 塩の如何なるものでもよい。具体的な塩として、テトラアルカリ金属ピロ燐酸塩 (tetra alkali metal pyrophosphate)、ジアルカリ金属二酸ピロ燐酸塩(dial kali metal diacid pyrophosphate )、トリアルカリ金属一酸ピロ燐酸塩(tria lkali metal monoacid pyrophosphate)、およびこれらの混合物が含まれる。こ の場合、アルカリ金属はナトリウムあるいはカリウムが好ましい。塩はこれらの 水和形式、非水和形式の双方で有効である。本発明の組成物で有効なピロ燐酸塩 の実効量は、一般には少なくとも1.0%のピロ燐酸塩イオン、好ましくは約1 .5%から約6%、さらに好ましくは約3.5%から約6%のピロ燐酸塩イオン を与えるのに十分な量である。ピロ燐酸塩イオンのレベルは、組成物に与えるこ とができるレベル(すなわち、適当なpHにおける理論量)であり、最終製品の pHが設定されたときP27−4(例えば(HP27−3))以外のピロ燐酸塩 の形が存在するようなレベルであることが認められる。 ピロ燐酸塩については、ここで参考として示すEncyclopedia of Chemical Tec hnology 、Second Edition、Volume 15 、Interscience Publishers (1968 )でカーク(Kirk)およびオスマー(Othmer)両氏によりさらに詳細に説明され てい。 本発明で使用するのに適したさらに別のキレート剤の群として、アニオン性の 高分子量ポリカルボキシレート(polymeric polycarboxylate )がある。このよ うな物質は当業者にはよく知られており、それらの遊離酸の形で、あるいは部分 的にあるいは好ましくは十分に中和された水溶性のアルカリ金属(例えば、ナト リウム、好ましくはカリウム)あるいはアンモニウム塩の形で使用される。無水 マレイン酸あるいはマレイン酸と他の重合性エチレン性不飽和モノマー、好まし くは約30,000乃至約1,000,000の分子量(M.W.)をもったメ チルビニルエーテル(メトキシエチレン)との1:4乃至4:1の共重合体であ ることが好ましい。これらの共重合体はジーエーエフ ケミカルズ コーポレー ション(GAF Chemicals Corporation )から、例えばGantrez AN 139(M.W.500,000)、AN 119(M.W.250,000 )、および好ましくはS−97 Pharmaceutical Grade (M.W.70,000 )として市販されている。 他の有効な高分子量ポリカルボキシレート(polycarboxylate )として、無水 マレイン酸とエチルアクリレート(ethyl acrylate)、ヒドロキシエチルメタク リレート(hydroxyethyl methacrylate )、N−ビニル−2−ピロリドン、ある いはエチレンとの1:1の共重合体のようなものが含まれる。後者は例えばMons anto EMA No.1103、M.W.10,000およびEMA Grade 6 1として市販されている。有効な高分子量ポリカルボキシレートとしてさらに、 アクリル酸とメチルあるいはヒドロキシエチルメタクリレート(hydroxyethyl m ethacrylate )、メチルあるいはエチルアクリレート(ethtl acrylate)、イソ ブチルビニルエーテル(isobuthyl vinyl ether )あるいはN−ビニル−2−ピ ロリドン(N−viny−2−pyrrolidone )との1:1の共重合体が含まれる。 有効なさらに別の高分子量ポリカルボキシレートは、ここで参考として示す1 979年2月6日付けのガファー(Gaffar)氏の米国特許第4,138,477 号、19 80年1月15日付けのガファー(Gaffar)氏他の米国特許第4,183,914 号の各 明細書に開示されており、無水マレイン酸とスチレン、イソブチレンあるいはエ チルビニルエーテル、ポリアクリル酸、ポリイタコン酸(polyitaconic acid ) およびポリマレイン酸、およびUniroyal ND−2として市販されている分子量 M.W.がせいぜい1,000のスルホアクリル酸オリゴマー(sulfoacrylic o ligomer )との共重合体を含んでいる。 本発明の歯磨き剤組成物に香味剤(flavor)を含ませることもできる。適当な 香味剤にはひめこうじ(wintergreen )油、はっか(peppermint)油、スペアミ ント(spearmint )油、サッサフラス(sassafras )油、チョウジノキ(clove )油が含まれる。使用可能な甘味剤はアスパラテーム(aspartame )、アセスル フェーム(acesulfame)、サツカリン(saccharin )、デキストロース(dextro se)、レブロース(levulose)およびナトリウムシクラメート(sodium cyclama te)が含まれる。歯磨き剤中では香味剤と甘味剤は一般に重量で約0.005% 乃至約2%のレベルで使用される。 一層のう蝕予防(anticaries)効果を与えるために、25℃で、および/また は使用時に組成物中にフッ化物イオン濃度を付与するのに十分な量で、重量で約 0.0025%から約5.0%、好ましくは約0.005%から約2.0%の濃 度で歯磨き剤あるいは他の口腔用組成物中に水溶性のフッ化物(フルオリド)配 合物を含ませることは普通のことである。本願発明の組成物中では可溶性フッ化 物源として多くの種類のフッ化物イオン生成物質を使用することができる。適当 なフッ化物イオン生成物質の例が、ここに参考として例示する1970年10月 20日付けのブリナー(Briner)氏他の米国特許第3,535,421 号、1972年7 月18日付けのワイダー(Widder)氏他の米国特許第3,678,154 号の各明細書に 開示されてている。ここに開示されているフッ化物イオン源にはフッ化スズ、フ ッ化ナトリウム、フッ化カリウム、ナトリウムモノフルオロホスフェート(sodi um monofluorophosphate)、および他の多くのものが含まれている。フッ化スズ (stannous fluoride )およびフッ化ナトリウム(sodium fluoride )は特に好 ましく、これらの混合物も同様に好ましい。 本発明の練り歯磨き剤中には水が存在する。市販に適した練り歯磨き剤を調製 するために使用される水は、好ましくは脱イオン水であり、有機不純物の存在し ないものであるべきである。この発明の練り歯磨き剤組成物の重量比で、水は通 常約10%から約50%、好ましくは約20%から40%含まれる。これらの水 の量にはソルビトールのような他の物質と共に導入される水に付加される自由水 を含んでいる。 練り歯磨き剤を調製するには適当な粘度を得るために多少の増粘物質を加える 必要がある。好ましい増粘剤には、カルボキシビニル重合体(carboxyvinyl pol ymer)、カラジーナン(carrageenan )、ヒドロキシエチルセルロース(hydrox yethyl celluose )、およびナトリウムカルボキシメチルセルロース(sodium c arboxymethyl cellulose)やナトリウムカルボキシメチルヒドロキシエチルセル ロース(sodium carboxymethyl hydroxyethyl cellulose )のようなセルロース エーテルの水溶性塩がある。カラヤゴム(gum karaya)、キサンタンゴム(xant han gum)、アラビアゴム、トラガントゴム(gum tragacanth)のような天然ゴ ムを使用することもできる。増粘剤は全組成物の重量に対して0.5%から5. 0%の量使用される。 練り歯磨き剤が硬化するのを防ぐために練り歯磨き剤中にいくらかの湿潤剤物 質を含ませることが望ましい。適当な湿潤剤には約15%から約70%のレベル のグリセリン、ソルビトール、その他の多価アルコールが含まれる。 ピロ燐酸スズ(stannous pyrophosphate)、グルコン酸スズ(stannous gluco nate)のような他のスズの塩、および第四アンモニウム塩(quaternary ammouiu m salt)のような抗微生物剤、セチルピリジニウムクロリド(cetyl pyridinium chloride )およびテトラデシルエチルピリジニウムクロリド(tetradecylethy l pyridinium chlorid)、ビス−ビッカーニド塩(bis-biquanide salt)、ビス グリシネート銅(copper bisglycinate )、ノニオン性抗微生物剤のような抗微 生物剤、および香味油を本発明の組成物中に含ませることが望ましい。このよう な薬剤は、ここで参考として例示する1960年7月26日付けのノリス(Norr is)氏他の米国特許第2,946,725 号、1977年9月27日付けのジスゲ(Gies ke)氏他の米国特許第4,051,234 号の各明細書に開示されている。適宜使用され る他の成分に緩衝剤、重炭酸塩、過酸化物、硝酸ナトリウムや硝酸カリウムのよ うな硝酸塩がある。これらの薬剤が存在するとすれば、約0.01%から約30 %のレベルで含まれる。 他の有効なキャリヤとして、ここで参考として例示する1993年5月23日 付け、1992年9月8日付け、1994年1月25日付けのルカコビック(Lu kacovic )氏他の米国特許第5,213,790 号、米国特許第5,145,666 号、米国特許 第5,281,410 号、およびシェーファー(Schaeffer )氏の米国特許第4,849,213 号および米国特許第4,528,180 号の各明細書に開示されているような二相歯磨き 配合物を含む。 適当なロゼンジおよびチューインガム成分については、ここで参考として例示 する1978年4月11日付けのグラベンステター(Grabenstetter )氏他の米 国特許第4,083,955 号明細書中に開示されている。 次に示す各例は本発明の範囲内のさらに好ましい実施例を示し、説明するもの である。次の各例は説明のためにのみ示したもので、本発明をこの例に制限する ことを意図したものではなく、本発明の技術内容、精神から逸脱しない範囲で他 の多くの変形例が考えられることは云う迄もない。 例 I 本発明の歯磨き剤の組成物には以下に示すような成分が含まれている。 成 分 重 量(%) ソルビトール(70%溶液) 24.200 RO水 24.757 グリセリン 7.000 カルボキシメチルセルロース(1) 0.500 REG6 4.000 フッ化ナトリウム 0.243 サッカリンナトリウム 0.130 モノナトリウムホスフェート 0.415 (燐酸一ナトリウム) トリナトリウムホスフェート 0.395 (燐酸三ナトリウム) ナトリウムタルトレート 1.000 (酒石酸ナトリウム) TiO2 0.500 シリカ(2) 35.000 ナトリウムラウロイルサルコシネート 1.060 (95%活性) 香味剤 0.800 (1)アクアロン カンパニー(Aqalon Company)より発売されている。 (2)沈降シリカ配合成分は、APS平均値=8.5μm、吸油率=103cc/10 0g、BE=1.6、PE=7、PCR=106、RDA=67、の諸特性を具 えている。 混合用タンクのジャケット温度を約65℃(150°F)から約71℃(°F )にセットした。混合用タンクに湿潤剤と水を加え、攪拌を開始した。温度が約 50℃(120°F)に到達したとき、フッ化物(フルオリド)、甘味剤、緩衝 剤、キレート剤(chelant )、着色剤、二酸化チタン(titanium dioxide)を加 える。増粘剤を研磨剤に加えて、得られた混合物を混合用タンクに入れて高速攪 拌する。合成物に界面活性剤を加えてさらに混合を続ける。タンクを50℃(1 20°F)に冷却して、香味剤を加える。約5分間混合を続けた。得られた組成 物のpHは約7であった。 例 II 本発明の歯磨き剤の組成物には以下に示すような成分が含まれている。 成 分 重 量(%) ソルビトール(70%溶液) 29.810 RO水 24.757 グリセリン 7.000 カルボキシメチルセルロース(1) 0.750 REG6 4.000 フッ化ナトリウム 0.243 サッカリンナトリウム 0.130 モノナトリウムホスフェート 0.415 (燐酸一ナトリウム) トリナトリウムホスフェート 0.395 (燐酸三ナトリウム) TiO2 0.500 シリカ(2) 30.000 ナトリウムラウリルスルフェート 1.200 香味剤 0.800 (1) アクアロン カンパニー(Aqalon Company)より発売されている。 (2) 沈降シリカ配合成分は、APS 平均値=8.5μm 、吸油率=103cc/1 00g、BE=1.6、PE=7、PCR=106、RDA=67、の諸特性を 具えている。 例 III 本発明のガムの組成物には以下に示すような成分が含まれている。 成 分 重 量(%) ガムベース 30.000 エステルガム30部 クマロン樹脂45部 乾燥ラテックス15部 シリカ(1) 10.00 砂糖 40.000 コーンシロップ 18.175 ナトリウムラウロイルサルコシネート 0.075 酒石酸ナトリウム 0.250 香味剤 1.500 (1) 沈降シリカ配合成分は、APS 平均値=8.5μm 、吸油率=103cc/1 00g、BE=1.9、PE=7.2の諸特性を具えている。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. (a)粒子を含み、この粒子が(i)約5μm から約11μm (s. d.<9)の平均粒度を有し、(ii)黄銅製スクリーンに対する研磨値が約0. 8から約2.5であり、ポリエステルスクリーンに対する研磨値が約5から約8 以下のアインレーネル(Einlehner )硬度を有し、(iii)95ml/100gm (グラム)から約135ml/100gm(グラム)の吸油値を有し、(iv)約2 5から約80以下の放射性象牙質研磨値を有する、沈降シリカと、 (b)粒子を含み、この粒子が(i)約5μm から約11μm (s.d.<9 )の平均粒度を有し、(ii)黄銅製スクリーンに対する研磨値が約3から約8で あり、ポリエステル製スクリーンに対する研磨値が約8から約11のアインレー ネル(Einlehner )硬度を有し、(iii)約70ml/100gm(グラム)から 約95ml/100gm(グラム)以下の吸油値を有し、(iv)80から約200 の放射性象牙質研磨値を有する、沈降シリカと、 を含み、 上記粒子全体の少なくとも約70%は約25μm 以下の直径を有し、薄膜洗浄 率は約90から約135であり、放射性象牙質研磨値は約60から約100で、 薄膜洗浄率と放射性象牙質研磨値の比は約1.25から約1.75であり、上記 (a)のシリカと(b)のシリカ比は約90:10から約40:60である、沈 降シリカ研磨剤組成物。 2.薄膜洗浄率は約90から約135であり、放射性エナメル研磨値は約2 .5から約5で、沈降シリカ研磨組成物の薄膜洗浄率と放射性エナメル研磨値の 比は約30以上である、請求項1記載の沈降シリカ研磨剤組成物。 3.上記シリカの比は約80:20から約35:65である、請求項2記載 の沈降シリカ研磨剤組成物。 4.薄膜洗浄率は約110から約135である、請求項3記載の沈降シリカ 組成物。 5.放射性象牙質研磨値は約65から約85である、請求項4記載の沈降シ リカ研磨剤組成物。 6.上記研磨剤の薄膜洗浄率と放射性象牙質研磨値の比は約1.60から約 1.75である、請求項5記載の沈降シリカ研磨剤組成物。 7.放射性エナメル研磨値は約2.5から約3.5である、請求項6記載の 沈降シリカ研磨剤組成物。 8.上記研磨剤の薄膜洗浄率と放射性エナメル研磨値の比は約35から約4 4である、請求項7記載の沈降シリカ研磨剤組成物。 9.(a)によるシリカの放射性象牙質研磨値は約35から約80である、 請求項8記載の沈降シリカ研磨剤組成物。 10.(b)によるシリカの放射性象牙質研磨値は約110から約200で ある、請求項9記載の沈降シリカ研磨剤組成物。
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