JP2000355753A - シリコンを含有する基板とイットリウムを含有するバリア層とを有する物品及びその製造方法 - Google Patents

シリコンを含有する基板とイットリウムを含有するバリア層とを有する物品及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 シリコンを含有する基板と環境的/熱的保護
バリアコーティング層として機能するバリア層とを有し
た物品及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 シリコンを含有する基板のためのバリア
層であって、このバリア層は、イットリウム珪酸塩を含
み、物品が高温で水分の存在する条件にさらされたとき
にガス状Si化合物の形成を防ぐ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンを含有す
る基板と環境的/熱的保護バリアコーティング層として
機能するバリア層とを有した物品に関する。特に、本発
明は、物品が高温で水分が存在する環境にさらされた場
合にSi化合物、特にSi(OH)Xの形成を防ぐバリア層に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコンを含有するセラミック材
やシリコンを含有する金属合金を高温用途、例えばガス
タービンエンジンや熱交換器、内燃機関エンジン等に用
いることが提案されている。この材質の特に有用な用途
は、水分が存在する高温環境で動作するガスタービンエ
ンジンである。これらのシリコンを含有するセラミック
材や金属合金は、一般にシリコン含有基板あるいはシリ
コン含有サブストレートと称される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このシリコン含有基板
は、高温でかつ水分が存在する環境にさらされた場合、
揮発性のSi化合物、特にSi(OH)XやSiOを形成し、その結
果、縮みや質量損失が生じるおそれがあることが見いだ
されている。例えば、シリコンカーバイドは、1200
℃で圧力約1ATMの水蒸気が存在する希薄燃料環境下に
曝されると、質量が減少し、1000時間で約6mil(0.
1524mm)縮小する。この現象の発生プロセスには、シリ
コンカーバイドが酸化してシリカがシリコンカーバイド
表面に形成され、その後にシリカとスチームとが反応し
て、Si(OH)x等の揮発性シリコン化合物が形成されると
信じられる。当然ながら、Si(OH)xやSiO等の揮発性シリ
コン化合物の形成を防ぐことのできる、シリコン含有基
板のための外部バリアコーティングを提供し、これによ
り縮みや質量損失を防ぐことが非常に望ましい。
【0004】従って、本発明は、高温で水分が存在する
環境にさらされたときにおけるガス状Si化合物の形成、
特にSi(OH)xの形成を防ぐためのバリア層が形成された
シリコン含有基板を有する物品を提供することを主な目
的とする。
【0005】また、本発明は、基板の熱膨張係数に非常
に近い、熱的保護を与えるバリア層が形成された基板を
有する物品を提供することをも目的とする。
【0006】更に、本発明は、上述の物品を製造するた
めの方法を提供することも目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、バリア層が形
成されているとともにシリコン含有基板を有する物品に
関し、このバリア層は、該物品が高温で水分が存在する
環境にさらされたときに望ましからざるガス状シリコン
化合物が形成されることを防ぐとともに、熱的保護をも
提供する。
【0008】ここでいう高温とは、基板に含まれるシリ
コンが、水分が存在する環境下でSi(OH)x及び/またはSi
Oを生成する温度をいう。また、水分が存在する環境と
は、水及び/またはスチームが存在する環境をいう。シ
リコンを含有する化合物は、好適には、シリコンを含有
するセラミックまたはシリコンを含有する金属や合金を
いう。外部バリア層は、その熱膨張係数が、シリコン含
有基板の熱膨張係数の±3.0ppm/℃にあることを特徴と
する。本発明に係る好適なバリア層は、イットリウム珪
酸塩で、好適には、バリウム-アルカリ土類アルミノ珪
酸塩である。本発明の好適実施形態では、上述の物品に
おいては、シリコンベースの基板とバリア層との間に一
層またはそれ以上の中間層を設けることが可能となって
いる。中間層によって、バリア層と基板との間の接着性
の向上及び/またはバリア層と基板との間の反応の抑制
が得られる。
【0009】本発明は、更に、シリコン含有基板とバリ
ア層とを有する物品の製造方法に関し、上述したよう
に、このバリア層は、物品が高温で水分が存在する環境
にさらされたときに、ガス状シリコン化合物の形成の抑
制及び/または熱からの保護を行う。また、グリットブ
ラスト処理は、約150/m/s〜約200/m/sで行うことが好ま
しい。
【0010】本発明の更なる目的及び利点は、以下の実
施形態の記述により明らかとされる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明は、バリア層とシリコン含
有基板を有する物品に関し、このバリア層は、該物品が
高温で水分が存在する環境にさらされたときに望ましか
らざるシリコンガス状化合物が形成されることを防ぐも
のである。また、本発明は、このような物品の製造方法
にも関する。加えて、このバリア層は特に環境的バリア
層に関するものの、該バリア層は、熱バリア層としても
機能する。従って、本発明は、シリコン含有基板や同等
の熱膨張係数を有する基板上に形成された環境的/熱的
バリア層、その製造、使用等を広く包含するものであ
る。
【0012】本発明によれば、シリコン含有基板は、シ
リコンセラミック基板やシリコン含有金属合金とするこ
ともできる。好適実施形態においては、シリコン含有基
板は、シリコン含有セラミック材、例えばシリコンカー
バイド(silicon carbide)、シリコン窒化物(silicon ni
tride)、シリコンオキシニトリド(silicon odxynitrid
e)、シリコンアルミニウムオキシニトリド(silicon alu
minum oxynitride)としている。本発明のある実施形態
においては、シリコン含有セラミック基板は、ファイバ
ーやパーティクル等の強化材を含有したシリコン含有マ
トリクスが用いられ、より具体的には、繊維強化された
シリコンベースマトリクスが用いられる。特に好適なセ
ラミック基板としては、シリコンカーバイドコートされ
たシリコンカーバイド繊維強化シリコンカーバイドパー
ティクル及びシリコンマトリクス(silicon carbide coa
ted silicon carbide fiber-reinforced silicon carbi
departicle and silicon matrix)、カーボン繊維強化シ
リコンカーバイドマトリクス(carbon fiber-reinforced
silicon carbide matrix)、及びシリコンカーバイド繊
維強化シリコンニトリドマトリクス(silicon carbide f
iber-reinforcedsilicon nitride matrix)が挙げられ
る。本発明に係る物品の基板として用いるのに特に有用
なシリコン−金属合金としては、モリブデン−シリコン
合金、ニオブ−シリコン合金、鉄−シリコン合金及びア
ルミニウム−シリコン合金。
【0013】本発明に係る物品に特に有用なバリア層と
しては、イットリウム珪酸塩が挙げられる。特に、バリ
ア層は、Y2O3を約66wt%〜78wt%含有し残部がSiO2となっ
ている。好適には、Y2O3は約75wt%〜76wt%含有し残部が
約SiO2となっている。本発明における物品におけるシリ
コン含有セラミック組成物に特に好適なバリア層では、
Y2O3が75.45wt%、SiO2が24.55wt%含有される。
【0014】本発明では、シリコン含有基板とバリア層
それぞれの熱膨張係数を、互いに適合する値、即ち近い
値に維持することが重要な特徴となっている。本発明に
よれば、バリア層の熱膨張係数は、シリコン含有基板の
熱膨張係数と比較して、1℃あたり±3.0ppm以内の値と
すべきであり、好適には、1℃あたり±0.5ppm以内の値
とする。シリコン含有セラミック基板、例えばシリコン
カーバイドまたはシリコンニトリドマトリクス等を、上
述のように強化ファイバーを含有させてあるいは含有さ
せずに、本発明に係る好適なイットリウム珪酸塩バリア
層とともに用いる場合、シリコン含有基板とバリア層と
の間の熱膨張係数に関しては、両者の熱膨張係数の差が
±2.00ppm/℃かそれ以内の値となることが望まれる。
【0015】物品におけるバリア層は、約0.0127mm(0.5
mil=0.0005インチ)以上、好適には約0.0762mm(3mil)
〜約0.762mm(30mil)で、更に好適には約0.0762mm(3m
il)〜約0.127mm(5mil)とする。バリア層は、シリコンベ
ース基板上に、適宜任意の従来の手法によって形成する
ことができるが、好適には、バリア層は、後述するよう
に溶射(thermal spray)により形成する。
【0016】本発明の他の実施形態においては、シリコ
ン含有基板とバリア層との間に、中間層が設けられる。
この中間層により、バリア層と基板との間の接着力向上
及び/またはバリア層と基板との間の反応の抑制がなさ
れる。例えば、中間層は、SiO 2、ムライト、ムライト−
バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イ
ットリウム珪酸塩、ムライト−カルシウムアルミノ珪酸
塩、及び金属シリコン(silicon metal)により形成する
ことができる。特に、ムライトは、中間層として好適で
あることがわかった。しかし、ムライト自体は、溶射ス
テップの結果としてクラックを生じる傾向がある。従っ
て、バリア層は、好適には、ムライト−バリウムストロ
ンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イットリウム珪酸
塩、またはムライト−カルシウムアルミノ珪酸塩とし、
約40wt%〜約80wt%をムライト、約20〜60wt%を
バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩又はイットリウ
ム珪酸塩又はカルシウムアルミノ珪酸塩とする。中間層
の厚みは、上述のバリア層に関する厚みと同様であり、
また、中間層の形成も、同様に従来の手法により行うこ
とができ、好適には、後述するように溶射により行う。
【0017】中間層に加えて、シリコン含有基板と中間
層との間にボンド層を形成してもよい。好適なボンド層
としては、膜厚約0.0762mm(3mil)〜約0.1524mm(6mil)
のシリコンが挙げられる。あるいは、シリコンベース基
板をSi02ボンド層が得られるように予め酸化させた後に
中間層を形成するようにしてもよい。
【0018】本発明に係る方法では、バリア層とシリコ
ン含有基板部を有する物品が提供される。このバリア層
は、該物品が高温で水分が存在する環境にさらされたと
きに望ましからざるガス状シリコン化合物が形成される
ことを防ぐものである。本発明において、バリア層は、
溶射により形成することが望ましい。バリア層は、溶射
されてスプラットクエンチされたマイクロストラクチャ
ーを平衡状態とするため、また、層間剥離を防ぐための
張力を調整するための手段を得るために、約800℃〜
1200℃で溶射を行うべきであることが見いだされ
た。
【0019】バリア層を形成する前に、基板の製造時に
混入した異物が除去されるようにシリコン含有基板の清
浄化を行うことが好ましい。好適には、バリア層を形成
する前にシリコンベースの基板をグリットブラスト処理
する。このグリットブラスト処理ステップは、シリコン
カーバイド繊維強化組成物等のようなシリコン含有基板
の表面が損傷を受けることがないように、注意深く行わ
なければならない。グリットブラスト処理に用いられる
パーティクルは、望ましからざる異物を除去するに十分
な硬度を有し、かつ、浸食により基体の材質が除去され
るまでには硬くないことが必要であることがみいだされ
た。更に、パーティクルは、基体に対しての衝突のダメ
ージを抑えるように小さくせねばならない。シリコンカ
ーバイドセラミック組成物を基板として用いた物品を処
理する場合、グリットブラスト処理は、Al2O3パーティ
クルで行うべきであり、好適には、パーティクルサイズ
を30μm以下とし、パーティクルの速度は約150〜
200m/secとする。これらに加えて、接着性を向上す
るために、中間層及び/またはバリア層の形成を行う前
に、シリコンベースの基板を予め酸化することが特に有
用である。また、接着層は、100nm〜2000nmとす
ることが好適であることが見いだされた。シリコン−カ
ーバイド基板を800℃〜1200℃で約15分〜10
0時間にわたって酸化することで、SiO2接着層をこのよ
うな所望の厚みとすることができる。
【0020】シリコン接着層は、グリットブラスト処理
された表面に、膜厚約0.0762mm(3mil)〜約0.1524mm(6
mil)となるように870℃で直接溶射を行うことで形成
することもできる。
【0021】上述したバリア層の場合と同様にして溶射
を行うことにより、基体及び/またはボンド層と、バリ
ア層と、の間に中間層を形成するか、あるいは、ボンド
層とバリア層との間に中間層を形成することも可能であ
る。上述したように、好適な中間層としては、ムライ
ト、ムライト−バリウムストロンチウムアルミノ珪酸
塩、ムライト−イットリウム珪酸塩、ムライト−カルシ
ウムアルミノ珪酸塩等が挙げられる。
【0022】シリコンベースの基板上に所望の層を形成
した後に、物品に対して熱処理を行う。この熱処理は、
溶射構造の応力緩和、溶射されたパウダー状のパーティ
クル間の接着の促進や各層と基体との間の接着の促進が
なされるように行われる。この熱処理ステップは、約1
250℃で24時間行われる。
【0023】本発明に係る物品の利点は、以下の実施例
により明らかとされる。
【0024】実施例1 モル比0.9/1.1のイットリウム珪酸塩化合物試験体を加
熱プレスにより製造し、アルゴン雰囲気下、1400℃
で250回までの熱サイクルにより、炭化珪素と比較し
た。その結果、図1に示されるように、炭化珪素試験体
では、上記試験の間に8mg/cm2までの質量の減少がみら
れたのに対し、イットリウム珪酸塩においては、質量の
減少はみられなかった。
【0025】実施例2 図2に、イットリウアのシリカに対する比率が0.9/1.1
モルであるという組成を有するイットリウム珪酸塩コー
ティングを、SiC組成物上に形成された厚さ0.1016mm(4
mil)ムライト上に行った状態での断面を示す。イットリ
ウム珪酸塩とムライトとは、炭化水素組成物上に、以下
のパラメータによって溶射された。
【0026】
【表1】
【0027】コーティングに先立って、27ミクロンのア
ルミナパーティクルを用いて衝突速度150〜200mpsのグ
リットブラスト処理によって基板を清浄化した。イット
リウム珪酸塩は、ノーベル社(Novel Technologies, Cay
uga, New York)から-200 + 400メッシュを通過するパウ
ダー(free flowing -200 + 400 mesh powder)として得
られた。本発明は、その趣旨及び本質的特徴を逸脱する
ことなく上述した形態とは異なる形態でも実施可能であ
る。従って、上述の実施形態は、単に例示的なものと解
すべきものであり、本発明の特許請求の範囲に記載され
た範囲を何ら制限するものではない。等価とみなされる
範囲内の変更は、すべて特許請求の範囲に包含されるも
のである。
【0028】尚、本発明は、NASAとの契約No.NAS3-
26385に基づいて米国政府の支援の元になされたもので
あり、米国政府もこの発明に相応の権利を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るバリア層の縮み及び/または質量
損失に対しての安定性を示すグラフ。
【図2】炭化水素基板上の本発明に係るバリア層のサン
プルの状態を示す顕微鏡写真。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 15/04 B32B 15/04 Z 27/00 101 27/00 101 C23C 4/02 C23C 4/02 4/06 4/06 4/18 4/18 8/10 8/10 (71)出願人 500182666 ゼネラル エレクトリック カンパニー GENERAL ELECTRIC CO MPANY アメリカ合衆国,オハイオ 45215,シン シナティ,ワン ニューマン ウェイ(番 地なし) (71)出願人 500182703 ユナイテッド ステイツ オブ アメリカ アズ リプレゼンテッド バイ ジ ア ドミニストレータ オブ ナショナル エ アロノーティクス アンド スペース ア ドミニストレイション UNITED STATES OF AM ERICA AS REPRESENTE D BY THE ADMINISTRA TOR OF NATIONAL AER ONAUTICS AND SPACE ADMINISTRATION アメリカ合衆国,ワシントン ディー.シ ー.20546,エヌエーエスエー ヘッドク ォーターズ(番地なし) (72)発明者 ハリー イー. イートン,ジュニア アメリカ合衆国,コネチカット 06281, ウッドストック,ペリン ロード 391 (72)発明者 ウィリアム ピー.アレン アメリカ合衆国,コネチカット 06480, ポートランド,アップルツリー レーン 5 (72)発明者 ネイザン エス.ジャコブソン アメリカ合衆国,オハイオ 44145,ウェ ストレイク,カロライン サークル 27700ジー (72)発明者 カン エヌ.リー アメリカ合衆国,オハイオ 44145,ウェ ストレイク コース ポスト ラン 1835 (72)発明者 エリザベス ジェー.オピラ アメリカ合衆国,オハイオ 44107,レイ クウッド,オノンダガ アベニュー 1590 (72)発明者 ジェームス エル.スミアレック アメリカ合衆国,オハイオ 44136,スト ロングスビレ,ジョナサン ドライブ 22001 (72)発明者 ホンギュ ワング アメリカ合衆国,ニューヨーク 12309, ニスカユナ オックスフォード ウェイ 195 (72)発明者 ピーター ジェイ.メシュター アメリカ合衆国,ニューヨーク 12309, ニスカユナ,パイン リッジ コート 2207 (72)発明者 クリシャン エル.ルスラ アメリカ合衆国,ニューヨーク 12309, スケネクタディ レッド オーク ドライ ブ 280

Claims (44)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シリコンを含有する基板と、 イットリウムを含有するバリア層と、 を有する物品であって、前記バリア層は、前記物品が高
    温で水分の存在する条件にさらされたときにガス状Si化
    合物の形成を防ぐものであることを特徴とする物品。
  2. 【請求項2】 前記基板は、シリコン含有セラミックと
    シリコン含有金属合金とから選択されることを特徴とす
    る請求項1記載の物品。
  3. 【請求項3】 前記基板は、シリコンカーバイド、シリ
    コン窒化物、シリコンオキシニトリド、及びシリコンア
    ルミニウムオキシニトリドから選択されるシリコン含有
    セラミックであることを特徴とする請求項2記載の物
    品。
  4. 【請求項4】 前記基板は、シリコンベースマトリクス
    と強化材粒子とを含有する組成物であることを特徴とす
    る請求項2記載の物品。
  5. 【請求項5】 前記基板は、シリコンカーバイド繊維強
    化シリコンカーバイドマトリクス、カーボン繊維強化シ
    リコンカーバイドマトリクス、及びシリコンカーバイド
    繊維強化シリコンニトリドから選択されることを特徴と
    する請求項4記載の物品。
  6. 【請求項6】 前記基板は、モリブデン−シリコン合
    金、ニオブシリコン合金、鉄−シリコン合金、及び鉄−
    ニッケル−シリコンベース合金のうちから選択されるシ
    リコン含有金属合金であることを特徴とする請求項2記
    載の物品。
  7. 【請求項7】 前記バリア層は、イットリウム酸化物を
    含むことを特徴とする請求項1記載の物品。
  8. 【請求項8】 前記バリア層は、イットリウム珪酸塩を
    含むことを特徴とする請求項1記載の物品。
  9. 【請求項9】 前記バリア層は、Y2O3を約66wt%〜約
    78wt%含み、残部は実質的にSiO2であることを特徴と
    する請求項1記載の物品。
  10. 【請求項10】 前記バリア層は、Y2O3を約75wt%〜
    約76wt%含み、残部はSiO2であることを特徴とする請
    求項1記載の物品。
  11. 【請求項11】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
    板の熱膨張係数の±3.0ppm/℃以内の値であることを特
    徴とする請求項1記載の物品。
  12. 【請求項12】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
    板の熱膨張係数の±0.5ppm/℃以内の値であることを特
    徴とする請求項1記載の物品。
  13. 【請求項13】 前記バリア層は、その厚みが0.0127mm
    (0.0005インチ)以上で、好ましくは約0.0762mm(3mil)
    〜約0.127mm(5mil)であることを特徴とする請求項1記
    載の物品。
  14. 【請求項14】 前記基板と前記バリア層との間に中間
    層が形成されていることを特徴とする請求項1記載の物
    品。
  15. 【請求項15】 前記中間層は、SiO2、ムライト、ムラ
    イト−バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライ
    ト−イットリウム珪酸塩、ムライト−カルシウムアルミ
    ノ珪酸塩、及び金属シリコンから選択されることを特徴
    とする請求項14記載の物品。
  16. 【請求項16】 前記中間層は、ムライト、バリウムス
    トロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イットリウム
    珪酸塩、カルシウムアルミノ珪酸塩及びこれらの混合物
    のうちから選択されることを特徴とする請求項14記載
    の物品。
  17. 【請求項17】 前記中間層は、ムライトを含むことを
    特徴とする請求項14記載の物品。
  18. 【請求項18】 前記中間層は、約40wt%〜約80wt%
    のムライト、約20〜60wt%のバリウムストロンチウ
    ムアルミノ珪酸塩を含むことを特徴とする請求項14記
    載の物品。
  19. 【請求項19】 前記中間層は、約40wt%〜約80wt%
    のムライト、約20〜60wt%のイットリウム珪酸塩を
    含むことを特徴とする請求項14記載の物品。
  20. 【請求項20】 前記中間層は、約40wt%〜約80wt%
    のムライト、約20〜60wt%のカルシウムアルミノ珪
    酸塩を含むことを特徴とする請求項14記載の物品。
  21. 【請求項21】 前記基板と前記中間層との間にボンド
    層が形成されていることを特徴とする請求項14記載の
    物品
  22. 【請求項22】 前記ボンド層は、シリコンまたはSiO2
    であることを特徴とする請求項14記載の物品。
  23. 【請求項23】 前記中間層の厚みは、約0.0127mm(0.5
    mil)以上であることを特徴とする請求項14記載の物
    品。
  24. 【請求項24】 前記バリア層の厚みは、約0.0762mm
    (3mil)〜約0.762mm(30mil)であることを特徴とする
    請求項9記載の物品。
  25. 【請求項25】 前記バリア層の厚みは、約0.0762mm
    (3mil)〜約0.127mm(5mil)であることを特徴とする請
    求項9記載の物品。
  26. 【請求項26】 前記中間層の厚みは、約0.0762mm(3m
    il)〜約0.762mm(30mil)であることを特徴とする請求
    項14記載の物品。
  27. 【請求項27】 前記バリア層の厚みは、約0.0762mm
    (3mil)〜約0.127mm(5mil)であることを特徴とする請
    求項14記載の物品。
  28. 【請求項28】 前記ボンド層の厚みは、約0.0762mm
    (3mil)〜約0.1524mm(6mil)であることを特徴とする請
    求項21記載の物品。
  29. 【請求項29】 物品の製造方法であって、 シリコン含有基板を用意するステップと、 前記基板上にイットリウムを含有するバリア層を形成す
    るステップを有し、このバリア層は、前記物品が高温で
    水分が存在する環境にさらされたときにガス状シリコン
    化合物の形成を防ぐものであることを特徴とする方法。
  30. 【請求項30】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
    板の熱膨張係数の±3.0ppm/℃以内の値であることを特
    徴とする請求項29記載の方法。
  31. 【請求項31】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
    板の熱膨張係数の±0.5ppm/℃以内の値であることを特
    徴とする請求項29記載の方法。
  32. 【請求項32】 前記バリア層を形成する前に、前記基
    板に対してグリットブラスト処理を行うステップを更に
    有することを特徴とする請求項29記載の方法。
  33. 【請求項33】 前記グリットブラスト処理は、粒子サ
    イズが30ミクロン以下のアルミナパーティクルを用い
    てなされることを特徴とする請求項32記載の方法。
  34. 【請求項34】 前記グリットブラスト処理は、約150m
    /s〜約200m/sで行われることを特徴とする請求項33記
    載の方法。
  35. 【請求項35】 前記バリア層は、溶射により形成され
    ることを特徴とする請求項29記載の方法。
  36. 【請求項36】 前記バリア層を形成する前に、前記基
    板を予め酸化してSiO2層を形成するステップを更に有す
    ることを特徴とする請求項29記載の方法。
  37. 【請求項37】 前記基板を予め酸化してSiO2層を形成
    するステップは、約800℃〜1200℃で約15分〜
    100時間なされることを特徴とする請求項36記載の
    方法。
  38. 【請求項38】 前記バリア層を形成を形成した後に、
    前記物品を熱処理するステップを更に有することを特徴
    とする請求項29記載の方法。
  39. 【請求項39】 約800℃〜約1200℃で前記溶射
    を行うことを特徴とする請求項35記載の方法。
  40. 【請求項40】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
    板の熱膨張係数の±3.0ppm/℃以内の値であることを特
    徴とする請求項29記載の方法。
  41. 【請求項41】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
    板の熱膨張係数の±0.5ppm/℃以内の値であることを特
    徴とする請求項29記載の方法。
  42. 【請求項42】 約1250℃で約24時間にわたって
    熱処理を行うことを特徴とする請求項29記載の方法。
  43. 【請求項43】 前記バリア層は、Y2O3を約66wt%〜
    約78wt%含み、残部は実質的にSiO2であることを特徴
    とする請求項29記載の方法。
  44. 【請求項44】 前記バリア層は、Y2O3を約75wt%〜
    約76wt%含み、残部はSiO2であることを特徴とする請
    求項29記載の方法。
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