JP3474516B2 - シリコンを含有する基板とガス状シリコン化合物の形成を防ぐためのバリア層とを有する物品 - Google Patents
シリコンを含有する基板とガス状シリコン化合物の形成を防ぐためのバリア層とを有する物品Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンを含有す
る基板と環境的／熱的保護バリアコーティング層として
機能するバリア層とを有した物品に関する。特に、本発
明は、物品が高温で水分が存在する環境にさらされた場
合にSi化合物、特にSi(OH)Xの形成を防ぐバリア層に関
する。
る基板と環境的／熱的保護バリアコーティング層として
機能するバリア層とを有した物品に関する。特に、本発
明は、物品が高温で水分が存在する環境にさらされた場
合にSi化合物、特にSi(OH)Xの形成を防ぐバリア層に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンを含有するセラミック材
やシリコンを含有する金属合金を高温用途、例えばガス
タービンエンジンや熱交換器、内燃機関エンジン等に用
いることが提案されている。この材質の特に有用な用途
は、水分が存在する高温環境で動作するガスタービンエ
ンジンである。これらのシリコンを含有するセラミック
材や金属合金は、一般にシリコン含有基板あるいはシリ
コン含有サブストレートと称される。
やシリコンを含有する金属合金を高温用途、例えばガス
タービンエンジンや熱交換器、内燃機関エンジン等に用
いることが提案されている。この材質の特に有用な用途
は、水分が存在する高温環境で動作するガスタービンエ
ンジンである。これらのシリコンを含有するセラミック
材や金属合金は、一般にシリコン含有基板あるいはシリ
コン含有サブストレートと称される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このシリコン含有基板
は、高温でかつ水分が存在する環境にさらされた場合、
揮発性のSi化合物、特にSi(OH)XやSiOを形成し、その結
果、縮みや質量損失が生じるおそれがあることが見いだ
されている。例えば、シリコンカーバイドは、１２００
℃で圧力約１ATMの水蒸気が存在する希薄燃料環境下に
曝されると、質量が減少し、１０００時間で約６mil(0.
1524mm)縮小する。この現象の発生プロセスには、シリ
コンカーバイドが酸化してシリカがシリコンカーバイド
表面に形成され、その後にシリカとスチームとが反応し
て、Si(OH)x等の揮発性シリコン化合物が形成されると
信じられる。当然ながら、Si(OH)xやSiO等の揮発性シリ
コン化合物の形成を防ぐことのできる、シリコン含有基
板のための外部バリアコーティングを提供し、これによ
り縮みや質量損失を防ぐことが非常に望ましい。
は、高温でかつ水分が存在する環境にさらされた場合、
揮発性のSi化合物、特にSi(OH)XやSiOを形成し、その結
果、縮みや質量損失が生じるおそれがあることが見いだ
されている。例えば、シリコンカーバイドは、１２００
℃で圧力約１ATMの水蒸気が存在する希薄燃料環境下に
曝されると、質量が減少し、１０００時間で約６mil(0.
1524mm)縮小する。この現象の発生プロセスには、シリ
コンカーバイドが酸化してシリカがシリコンカーバイド
表面に形成され、その後にシリカとスチームとが反応し
て、Si(OH)x等の揮発性シリコン化合物が形成されると
信じられる。当然ながら、Si(OH)xやSiO等の揮発性シリ
コン化合物の形成を防ぐことのできる、シリコン含有基
板のための外部バリアコーティングを提供し、これによ
り縮みや質量損失を防ぐことが非常に望ましい。
【０００４】従って、本発明は、高温で水分が存在する
環境にさらされたときにおけるガス状Si化合物の形成、
特にSi(OH)xの形成を防ぐためのバリア層が形成された
シリコン含有基板を有する物品を提供することを主な目
的とする。
環境にさらされたときにおけるガス状Si化合物の形成、
特にSi(OH)xの形成を防ぐためのバリア層が形成された
シリコン含有基板を有する物品を提供することを主な目
的とする。
【０００５】また、本発明は、基板の熱膨張係数に非常
に近い、熱的保護を与えるバリア層が形成された基板を
有する物品を提供することをも目的とする。
に近い、熱的保護を与えるバリア層が形成された基板を
有する物品を提供することをも目的とする。
【０００６】更に、本発明は、上述の物品を製造するた
めの方法を提供することも目的とする。
めの方法を提供することも目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、バリア層が形
成されているとともにシリコン含有基板を有する物品に
関し、このバリア層は、該物品が高温で水分が存在する
環境にさらされたときに望ましからざるガス状シリコン
化合物が形成されることを防ぐとともに、熱的保護をも
提供する。
成されているとともにシリコン含有基板を有する物品に
関し、このバリア層は、該物品が高温で水分が存在する
環境にさらされたときに望ましからざるガス状シリコン
化合物が形成されることを防ぐとともに、熱的保護をも
提供する。
【０００８】ここでいう高温とは、基板に含まれるシリ
コンが、水分が存在する環境下でSi(OH)x及び/またはSi
Oを生成する温度をいう。また、水分が存在する環境と
は、水及び/またはスチームが存在する環境をいう。シ
リコンを含有する化合物は、好適には、シリコンを含有
するセラミックまたはシリコンを含有する金属や合金を
いう。外部バリア層は、その熱膨張係数が、シリコン含
有基板の熱膨張係数の±3.0ppm／℃にあることを特徴と
する。本発明に係る好適なバリア層は、カルシウムアル
ミノ珪酸塩でバリア層である。本発明の好適実施形態で
は、上述の物品においては、シリコンベースの基板とバ
リア層との間に一層またはそれ以上の中間層を設けるこ
とが可能となっている。中間層によって、バリア層と基
板との間の接着性の向上及び/またはバリア層と基板と
の間の反応の抑制が得られる。
コンが、水分が存在する環境下でSi(OH)x及び/またはSi
Oを生成する温度をいう。また、水分が存在する環境と
は、水及び/またはスチームが存在する環境をいう。シ
リコンを含有する化合物は、好適には、シリコンを含有
するセラミックまたはシリコンを含有する金属や合金を
いう。外部バリア層は、その熱膨張係数が、シリコン含
有基板の熱膨張係数の±3.0ppm／℃にあることを特徴と
する。本発明に係る好適なバリア層は、カルシウムアル
ミノ珪酸塩でバリア層である。本発明の好適実施形態で
は、上述の物品においては、シリコンベースの基板とバ
リア層との間に一層またはそれ以上の中間層を設けるこ
とが可能となっている。中間層によって、バリア層と基
板との間の接着性の向上及び/またはバリア層と基板と
の間の反応の抑制が得られる。
【０００９】本発明は、更に、シリコン含有基板とバリ
ア層とを有する物品の製造方法に関し、上述したよう
に、このバリア層は、物品が高温で水分が存在する環境
にさらされたときに、ガス状シリコン化合物の形成の抑
制及び/または熱からの保護を行う。また、グリットブ
ラスト処理は、約150/m/s〜約200/m/sで行うことが好ま
しい。
ア層とを有する物品の製造方法に関し、上述したよう
に、このバリア層は、物品が高温で水分が存在する環境
にさらされたときに、ガス状シリコン化合物の形成の抑
制及び/または熱からの保護を行う。また、グリットブ
ラスト処理は、約150/m/s〜約200/m/sで行うことが好ま
しい。
【００１０】本発明の更なる目的及び利点は、以下の実
施形態の記述により明らかとされる。
施形態の記述により明らかとされる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明は、バリア層とシリコン含
有基板を有する物品に関し、このバリア層は、該物品が
高温で水分が存在する環境にさらされたときに望ましか
らざるシリコンガス状化合物が形成されることを防ぐも
のである。また、本発明は、このような物品の製造方法
にも関する。加えて、このバリア層は特に環境的バリア
層に関するものの、該バリア層は、熱バリア層としても
機能する。従って、本発明は、シリコン含有基板や同等
の熱膨張係数を有する基板上に形成された環境的／熱的
バリア層、その製造、使用等を広く包含するものであ
る。
有基板を有する物品に関し、このバリア層は、該物品が
高温で水分が存在する環境にさらされたときに望ましか
らざるシリコンガス状化合物が形成されることを防ぐも
のである。また、本発明は、このような物品の製造方法
にも関する。加えて、このバリア層は特に環境的バリア
層に関するものの、該バリア層は、熱バリア層としても
機能する。従って、本発明は、シリコン含有基板や同等
の熱膨張係数を有する基板上に形成された環境的／熱的
バリア層、その製造、使用等を広く包含するものであ
る。
【００１２】本発明によれば、シリコン含有基板は、シ
リコンセラミック基板やシリコン含有金属合金とするこ
ともできる。好適実施形態においては、シリコン含有基
板は、シリコン含有セラミック材、例えばシリコンカー
バイド(silicon carbide)、シリコン窒化物(silicon ni
tride)、シリコンカーバイドニトリド(silicon carbide
nitride)、シリコンオキシニトリド(silicon odxynitr
ide)、シリコンアルミニウムオキシニトリド(silicon a
luminum oxynitride)としている。本発明のある実施形
態においては、シリコン含有セラミック基板は、ファイ
バーやパーティクル等の強化材を含有したシリコン含有
マトリクスが用いられ、より具体的には、繊維強化され
たシリコンベースマトリクスが用いられる。特に好適な
セラミック基板としては、シリコンカーバイドコートさ
れたシリコンカーバイド繊維強化シリコンカーバイドパ
ーティクル及びシリコンマトリクス(silicon carbide c
oated silicon carbide fiber-reinforced silicon car
bide particle and silicon matrix)、カーボン繊維強
化シリコンカーバイドマトリクス(carbon fiber-reinfo
rced silicon carbide matrix)、及びシリコンカーバイ
ド繊維強化シリコンニトリドマトリクス(silicon carbi
de fiber-reinforced silicon nitride matrix)が挙げ
られる。本発明に係る物品の基板として用いるのに特に
有用なシリコン−金属合金としては、モリブデン−シリ
コン合金、ニオブ−シリコン合金、及び鉄−シリコン合
金が挙げられる。
リコンセラミック基板やシリコン含有金属合金とするこ
ともできる。好適実施形態においては、シリコン含有基
板は、シリコン含有セラミック材、例えばシリコンカー
バイド(silicon carbide)、シリコン窒化物(silicon ni
tride)、シリコンカーバイドニトリド(silicon carbide
nitride)、シリコンオキシニトリド(silicon odxynitr
ide)、シリコンアルミニウムオキシニトリド(silicon a
luminum oxynitride)としている。本発明のある実施形
態においては、シリコン含有セラミック基板は、ファイ
バーやパーティクル等の強化材を含有したシリコン含有
マトリクスが用いられ、より具体的には、繊維強化され
たシリコンベースマトリクスが用いられる。特に好適な
セラミック基板としては、シリコンカーバイドコートさ
れたシリコンカーバイド繊維強化シリコンカーバイドパ
ーティクル及びシリコンマトリクス(silicon carbide c
oated silicon carbide fiber-reinforced silicon car
bide particle and silicon matrix)、カーボン繊維強
化シリコンカーバイドマトリクス(carbon fiber-reinfo
rced silicon carbide matrix)、及びシリコンカーバイ
ド繊維強化シリコンニトリドマトリクス(silicon carbi
de fiber-reinforced silicon nitride matrix)が挙げ
られる。本発明に係る物品の基板として用いるのに特に
有用なシリコン−金属合金としては、モリブデン−シリ
コン合金、ニオブ−シリコン合金、及び鉄−シリコン合
金が挙げられる。
【００１３】本発明に係る物品に特に有用なバリア層と
しては、アルカリ土類金属のアルミノ珪酸塩が挙げられ
る。好適な実施形態においては、カルシウムアルミノ珪
酸塩を用いる。好適な一実施形態においては、バリア層
は、約２０wt%より多量のCaO、約３８wt%より多量のAl2
O3、及び約３０wt%より多量のSiO2を含む。不定比カル
シウムアルミノ珪酸塩(non-stoichiometric aluminosil
icate)を用いることが好適である。
しては、アルカリ土類金属のアルミノ珪酸塩が挙げられ
る。好適な実施形態においては、カルシウムアルミノ珪
酸塩を用いる。好適な一実施形態においては、バリア層
は、約２０wt%より多量のCaO、約３８wt%より多量のAl2
O3、及び約３０wt%より多量のSiO2を含む。不定比カル
シウムアルミノ珪酸塩(non-stoichiometric aluminosil
icate)を用いることが好適である。
【００１４】本発明では、シリコン含有基板とバリア層
それぞれの熱膨張係数を、互いに適合する値、即ち近い
値に維持することが重要な特徴となっている。本発明に
よれば、バリア層の熱膨張係数は、シリコン含有基板の
熱膨張係数と比較して、１℃あたり±3.0ppm以内の値と
すべきであり、好適には、１℃あたり±0.5ppm以内の値
とする。シリコン含有セラミック基板、例えばシリコン
カーバイドまたはシリコンニトリドマトリクス等を、上
述のように強化ファイバーを含有させてあるいは含有さ
せずに、本発明に係る好適なカルシウムアルミノ珪酸塩
バリア層とともに用いる場合、シリコン含有基板とバリ
ア層との間での膨張係数を熱的に適合する値(両者をと
もに用いることができる程度に近い値)とするために、
両者の熱膨張係数の差が±2.00ppm／℃以下となるよう
にすべきである。
それぞれの熱膨張係数を、互いに適合する値、即ち近い
値に維持することが重要な特徴となっている。本発明に
よれば、バリア層の熱膨張係数は、シリコン含有基板の
熱膨張係数と比較して、１℃あたり±3.0ppm以内の値と
すべきであり、好適には、１℃あたり±0.5ppm以内の値
とする。シリコン含有セラミック基板、例えばシリコン
カーバイドまたはシリコンニトリドマトリクス等を、上
述のように強化ファイバーを含有させてあるいは含有さ
せずに、本発明に係る好適なカルシウムアルミノ珪酸塩
バリア層とともに用いる場合、シリコン含有基板とバリ
ア層との間での膨張係数を熱的に適合する値(両者をと
もに用いることができる程度に近い値)とするために、
両者の熱膨張係数の差が±2.00ppm／℃以下となるよう
にすべきである。
【００１５】物品におけるバリア層の厚みは、約0.0127
mm(0.5mil＝0.0005インチ)以上、好適には約0.0762mm
(３mil)〜約0.762mm(３０mil)、更に好適には約0.0762m
m(３mil)〜約0.127mm(5mil)とする。バリア層は、シリ
コンベース基板上に、適宜任意の従来の手法によって形
成することができるが、好適には、バリア層は、後述す
るように溶射(thermal spray)により形成する。
mm(0.5mil＝0.0005インチ)以上、好適には約0.0762mm
(３mil)〜約0.762mm(３０mil)、更に好適には約0.0762m
m(３mil)〜約0.127mm(5mil)とする。バリア層は、シリ
コンベース基板上に、適宜任意の従来の手法によって形
成することができるが、好適には、バリア層は、後述す
るように溶射(thermal spray)により形成する。
【００１６】本発明の他の実施形態においては、シリコ
ン含有基板とバリア層との間に、中間層が設けられる。
この中間層により、バリア層と基板との間の接着力向上
及び/またはバリア層と基板との間の反応の抑制がなさ
れる。例えば、中間層は、SiO 2、ムライト、ムライト−
バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イ
ットリウム珪酸塩、ムライト−カルシウムアルミノ珪酸
塩、及び金属シリコン(silicon metal)により形成する
ことができる。特に、ムライトは、中間層として好適で
あることがわかった。しかし、ムライト自体は、溶射ス
テップの結果としてクラックを生じる傾向がある。従っ
て、バリア層は、好適には、ムライト−バリウムストロ
ンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イットリウム珪酸
塩、またはムライト−カルシウムアルミノ珪酸塩とし、
約４０wt%〜約８０wt%をムライト、約２０〜６０wt%を
バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩又はイットリウ
ム珪酸塩又はカルシウムアルミノ珪酸塩とする。中間層
の厚みは、上述のバリア層に関する厚みと同様であり、
また、中間層の形成も、同様に従来の手法により行うこ
とができ、好適には、後述するように溶射により行う。
ン含有基板とバリア層との間に、中間層が設けられる。
この中間層により、バリア層と基板との間の接着力向上
及び/またはバリア層と基板との間の反応の抑制がなさ
れる。例えば、中間層は、SiO 2、ムライト、ムライト−
バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イ
ットリウム珪酸塩、ムライト−カルシウムアルミノ珪酸
塩、及び金属シリコン(silicon metal)により形成する
ことができる。特に、ムライトは、中間層として好適で
あることがわかった。しかし、ムライト自体は、溶射ス
テップの結果としてクラックを生じる傾向がある。従っ
て、バリア層は、好適には、ムライト−バリウムストロ
ンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イットリウム珪酸
塩、またはムライト−カルシウムアルミノ珪酸塩とし、
約４０wt%〜約８０wt%をムライト、約２０〜６０wt%を
バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩又はイットリウ
ム珪酸塩又はカルシウムアルミノ珪酸塩とする。中間層
の厚みは、上述のバリア層に関する厚みと同様であり、
また、中間層の形成も、同様に従来の手法により行うこ
とができ、好適には、後述するように溶射により行う。
【００１７】中間層に加えて、シリコン含有基板と中間
層との間にボンド層を形成してもよい。好適なボンド層
としては、膜厚約0.0762mm(３mil)〜約0.1524mm(６mil)
のシリコンが挙げられる。あるいは、シリコン含有基板
をSi02ボンド層が得られるように予め酸化させた後に中
間層を形成するようにしてもよい。
層との間にボンド層を形成してもよい。好適なボンド層
としては、膜厚約0.0762mm(３mil)〜約0.1524mm(６mil)
のシリコンが挙げられる。あるいは、シリコン含有基板
をSi02ボンド層が得られるように予め酸化させた後に中
間層を形成するようにしてもよい。
【００１８】本発明に係る方法では、バリア層とシリコ
ン含有基板部を有する物品が提供される。このバリア層
は、該物品が高温で水分が存在する環境にさらされたと
きに望ましからざるガス状シリコン化合物が形成される
ことを防ぐものである。本発明において、バリア層は、
溶射により形成することが望ましい。バリア層は、溶射
されてスプラットクエンチされたマイクロストラクチャ
ーを平衡状態とするため、また、層間剥離を防ぐための
張力を調整するための手段を得るために、約８７０℃〜
１２００℃で溶射を行うべきであることが見いだされ
た。
ン含有基板部を有する物品が提供される。このバリア層
は、該物品が高温で水分が存在する環境にさらされたと
きに望ましからざるガス状シリコン化合物が形成される
ことを防ぐものである。本発明において、バリア層は、
溶射により形成することが望ましい。バリア層は、溶射
されてスプラットクエンチされたマイクロストラクチャ
ーを平衡状態とするため、また、層間剥離を防ぐための
張力を調整するための手段を得るために、約８７０℃〜
１２００℃で溶射を行うべきであることが見いだされ
た。
【００１９】バリア層を形成する前に、基板の製造時に
混入した異物が除去されるようにシリコン含有基板の清
浄化を行うことが好ましい。好適には、バリア層を形成
する前にシリコンベースの基板をグリットブラスト処理
する。このグリットブラスト処理ステップは、シリコン
カーバイド繊維強化組成物等のようなシリコン含有基板
の表面が損傷を受けることがないように、注意深く行わ
なければならない。グリットブラスト処理に用いられる
パーティクルは、望ましからざる異物を除去するに十分
な硬度を有し、かつ、浸食により基体の材質が除去され
るまでには硬くないことが必要であることがみいだされ
た。更に、パーティクルは、基体に対しての衝突のダメ
ージを抑えるように小さくせねばならない。シリコンカ
ーバイドセラミック基板を用いた物品を処理する場合、
グリットブラスト処理は、Al2O3パーティクルで行うべ
きであり、好適には、パーティクルサイズを３０μｍ以
下とし、パーティクルの速度は約１５０〜２００m/sec
とする。これらに加えて、接着性を向上するために、中
間層及び/またはバリア層の形成を行う前に、シリコン
ベースの基板を予め酸化することが特に有用である。ま
た、接着層は、１００nm〜２０００nmとすることが好適
であることが見いだされた。シリコン−カーバイド基板
を８００℃〜１２００℃で約１５分〜１００時間にわた
って酸化することで、SiO2接着層をこのような所望の厚
みとすることができる。
混入した異物が除去されるようにシリコン含有基板の清
浄化を行うことが好ましい。好適には、バリア層を形成
する前にシリコンベースの基板をグリットブラスト処理
する。このグリットブラスト処理ステップは、シリコン
カーバイド繊維強化組成物等のようなシリコン含有基板
の表面が損傷を受けることがないように、注意深く行わ
なければならない。グリットブラスト処理に用いられる
パーティクルは、望ましからざる異物を除去するに十分
な硬度を有し、かつ、浸食により基体の材質が除去され
るまでには硬くないことが必要であることがみいだされ
た。更に、パーティクルは、基体に対しての衝突のダメ
ージを抑えるように小さくせねばならない。シリコンカ
ーバイドセラミック基板を用いた物品を処理する場合、
グリットブラスト処理は、Al2O3パーティクルで行うべ
きであり、好適には、パーティクルサイズを３０μｍ以
下とし、パーティクルの速度は約１５０〜２００m/sec
とする。これらに加えて、接着性を向上するために、中
間層及び/またはバリア層の形成を行う前に、シリコン
ベースの基板を予め酸化することが特に有用である。ま
た、接着層は、１００nm〜２０００nmとすることが好適
であることが見いだされた。シリコン−カーバイド基板
を８００℃〜１２００℃で約１５分〜１００時間にわた
って酸化することで、SiO2接着層をこのような所望の厚
みとすることができる。
【００２０】シリコンボンド層は、グリットブラスト処
理された表面に、膜厚約0.0762mm(３mil)〜約0.1524mm
(６mil)となるように８７０℃で直接溶射を行うことで
形成することもできる。
理された表面に、膜厚約0.0762mm(３mil)〜約0.1524mm
(６mil)となるように８７０℃で直接溶射を行うことで
形成することもできる。
【００２１】上述したバリア層の場合と同様にして溶射
を行うことにより、基体及び/またはボンド層と、バリ
ア層と、の間に中間層を形成するか、あるいは、ボンド
層とバリア層との間に中間層を形成することも可能であ
る。上述したように、好適な中間層としては、ムライ
ト、ムライト−バリウムストロンチウムアルミノ珪酸
塩、ムライト−イットリウム珪酸塩、ムライト−カルシ
ウムアルミノ珪酸塩等が挙げられる。
を行うことにより、基体及び/またはボンド層と、バリ
ア層と、の間に中間層を形成するか、あるいは、ボンド
層とバリア層との間に中間層を形成することも可能であ
る。上述したように、好適な中間層としては、ムライ
ト、ムライト−バリウムストロンチウムアルミノ珪酸
塩、ムライト−イットリウム珪酸塩、ムライト−カルシ
ウムアルミノ珪酸塩等が挙げられる。
【００２２】シリコンベースの基板上に所望の層を形成
した後に、物品に対して熱処理を行う。この熱処理は、
溶射構造の応力緩和、溶射されたパウダー状のパーティ
クル間の接着の促進や各層と基体との間の接着の促進が
それぞれなされるように行われる。熱処理ステップで
は、所定時間にわたって物品の熱処理を行うことが必要
であり、この熱処理は、バリア層によるポアの形成及び
/または膨張や隆起等が生じることなくカルシウムアル
ミノ珪酸塩の結晶化が行われるように、加熱をコントロ
ールして行われる。好適には、物品は、室温から約１２
７５℃〜約１３００℃へと、約５℃／分〜約１０℃／分
の昇温速度で加熱され、温度をその時点での温度（中間
温度：intermediate temperature)に固定しながら加熱
を行う。この際の総処理時間は、６８時間以上である。
具体的には、不定比カルシウムアルミノ珪酸塩を含んだ
バリア層においては、膨張や隆起が発生せずに実質的に
ポアのないバリア層を形成するために、以下の熱処理が
特に好適であることが見いだされた。
した後に、物品に対して熱処理を行う。この熱処理は、
溶射構造の応力緩和、溶射されたパウダー状のパーティ
クル間の接着の促進や各層と基体との間の接着の促進が
それぞれなされるように行われる。熱処理ステップで
は、所定時間にわたって物品の熱処理を行うことが必要
であり、この熱処理は、バリア層によるポアの形成及び
/または膨張や隆起等が生じることなくカルシウムアル
ミノ珪酸塩の結晶化が行われるように、加熱をコントロ
ールして行われる。好適には、物品は、室温から約１２
７５℃〜約１３００℃へと、約５℃／分〜約１０℃／分
の昇温速度で加熱され、温度をその時点での温度（中間
温度：intermediate temperature)に固定しながら加熱
を行う。この際の総処理時間は、６８時間以上である。
具体的には、不定比カルシウムアルミノ珪酸塩を含んだ
バリア層においては、膨張や隆起が発生せずに実質的に
ポアのないバリア層を形成するために、以下の熱処理が
特に好適であることが見いだされた。
【００２３】ａ)昇温速度１０℃／分で室温から７００
℃へと加熱して４時間７００℃に維持する。
℃へと加熱して４時間７００℃に維持する。
【００２４】ｂ)７００℃から８００℃へと昇温速度１
０℃／分で加熱して８時間８００℃に維持する。
０℃／分で加熱して８時間８００℃に維持する。
【００２５】ｃ)８００℃から９００℃へと昇温速度１
０℃／分で加熱して１６時間９００℃に維持する。
０℃／分で加熱して１６時間９００℃に維持する。
【００２６】ｄ)９００℃から１０００℃へと昇温速度
１０℃／分で加熱して１６時間１０００℃に維持する。
１０℃／分で加熱して１６時間１０００℃に維持する。
【００２７】ｅ)１０００℃から１１００℃へと昇温速
度１０℃／分で加熱して８時間１１００℃に維持する。
度１０℃／分で加熱して８時間１１００℃に維持する。
【００２８】ｆ)１１００℃から１２００℃へと昇温速
度１０℃／分で加熱して８時間１１００℃に維持する。
度１０℃／分で加熱して８時間１１００℃に維持する。
【００２９】ｇ)１２００℃から１２２５℃へと昇温速
度５℃／分で加熱して２時間１２２５℃に維持する。
度５℃／分で加熱して２時間１２２５℃に維持する。
【００３０】ｈ)１２２５℃から１２５０℃へと昇温速
度５℃／分で加熱して２時間１２５０℃に維持する。
度５℃／分で加熱して２時間１２５０℃に維持する。
【００３１】ｉ)１２５０℃から１２７５℃へと昇温速
度５℃／分で加熱して２時間１２７５℃に維持する。
度５℃／分で加熱して２時間１２７５℃に維持する。
【００３２】ｊ)１２７５℃から１３００℃へと昇温速
度５℃／分で加熱して２時間１３００℃に維持する。
度５℃／分で加熱して２時間１３００℃に維持する。
【００３３】ｋ)炉を室温にまで冷やす。
【００３４】本発明に係る物品の利点は、以下の実施例
により明らかとされる。
により明らかとされる。
【００３５】実施例１
重量比で２４％のCaO、４０％のAl2O3、３６％のSiO2の
組成を有する不定比カルシウムアルミノ珪酸塩(non-sto
ichiometric calcium aluminosilicate:ns-CAS)の加熱
プレスされたバルク試験体を、アルゴンの下で１４００
℃、２時間加熱プレスを行うことで製造し、その後に、
高濃度スチーム(high steam)熱サイクルテストを１２０
０℃で熱サイクルを２５０回まで行い、炭化珪素と比較
した。その結果、図１に示されるように、炭化珪素で
は、試験の間に8mg/cm2までの質量損失がみられ、一
方、ns-CASではそのような質量損失は見られなかった。
組成を有する不定比カルシウムアルミノ珪酸塩(non-sto
ichiometric calcium aluminosilicate:ns-CAS)の加熱
プレスされたバルク試験体を、アルゴンの下で１４００
℃、２時間加熱プレスを行うことで製造し、その後に、
高濃度スチーム(high steam)熱サイクルテストを１２０
０℃で熱サイクルを２５０回まで行い、炭化珪素と比較
した。その結果、図１に示されるように、炭化珪素で
は、試験の間に8mg/cm2までの質量損失がみられ、一
方、ns-CASではそのような質量損失は見られなかった。
【００３６】実施例２
図２に、SiC組成物上に形成された厚さ0.1016mm(4mil)
のムライト上にコーティングされた厚さ0.1016mm(4mil)
のns-CASの断面状態を表す写真を示す。ns-CAS及びムラ
イトは、シリコンカーバイド組成物上に以下のパラメー
タに示される条件で溶射された。
のムライト上にコーティングされた厚さ0.1016mm(4mil)
のns-CASの断面状態を表す写真を示す。ns-CAS及びムラ
イトは、シリコンカーバイド組成物上に以下のパラメー
タに示される条件で溶射された。
【００３７】
【表１】
【００３８】コーティングに先立って、27ミクロンのア
ルミナパーティクルを用いて衝突速度150〜200mpsのグ
リットブラスト処理によって基板を清浄化した。ns-CAS
パウダーは、スペシャリティグラス社(Specialty Glas
s)から-200 + 400メッシュを通過するパウダー(free fl
owing -200 + 400 mesh powder)として得られた。ムラ
イトは、セラミックムライト(アルミニウム酸化物−シ
リコン酸化物)、-150,+325メッシュ、セラック#A-1226
(Cerac # A-1226)を用いた。図２に示されるように、本
発明によって、優れたバリア層構造が得られている。本
発明は、その趣旨及び本質的特徴を逸脱することなく上
述した形態とは異なる形態でも実施可能である。従っ
て、上述の実施形態は、単に例示的なものと解すべきも
のであり、本発明の特許請求の範囲に記載された範囲を
何ら制限するものではない。等価とみなされる範囲内の
変更は、すべて特許請求の範囲に包含されるものであ
る。
ルミナパーティクルを用いて衝突速度150〜200mpsのグ
リットブラスト処理によって基板を清浄化した。ns-CAS
パウダーは、スペシャリティグラス社(Specialty Glas
s)から-200 + 400メッシュを通過するパウダー(free fl
owing -200 + 400 mesh powder)として得られた。ムラ
イトは、セラミックムライト(アルミニウム酸化物−シ
リコン酸化物)、-150,+325メッシュ、セラック#A-1226
(Cerac # A-1226)を用いた。図２に示されるように、本
発明によって、優れたバリア層構造が得られている。本
発明は、その趣旨及び本質的特徴を逸脱することなく上
述した形態とは異なる形態でも実施可能である。従っ
て、上述の実施形態は、単に例示的なものと解すべきも
のであり、本発明の特許請求の範囲に記載された範囲を
何ら制限するものではない。等価とみなされる範囲内の
変更は、すべて特許請求の範囲に包含されるものであ
る。
【００３９】尚、本発明は、ＮＡＳＡとの契約No.NAS3-
26385に基づいて米国政府の支援の元になされたもので
あり、米国政府もこの発明に相応の権利を有する。
26385に基づいて米国政府の支援の元になされたもので
あり、米国政府もこの発明に相応の権利を有する。
【図１】本発明に係るバリア層の縮み及び/または質量
損失に対しての安定性を示すグラフ。
損失に対しての安定性を示すグラフ。
【図２】炭化水素基板上の本発明に係るバリア層のサン
プルの状態を示す顕微鏡写真。
プルの状態を示す顕微鏡写真。
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フロントページの続き
(73)特許権者 500182666
ゼネラル エレクトリック カンパニー
ＧＥＮＥＲＡＬ ＥＬＥＣＴＲＩＣ Ｃ
ＯＭＰＡＮＹ
アメリカ合衆国，オハイオ 45215，シ
ンシナティ，ワン ニューマン ウェイ
（番地なし)
(73)特許権者 500182703
ユナイテッド ステイツ オブ アメリ
カ アズ リプレゼンテッド バイ ジ
アドミニストレータ オブ ナショナ
ル エアロノーティクス アンド スペ
ース アドミニストレイション
ＵＮＩＴＥＤ ＳＴＡＴＥＳ ＯＦ Ａ
ＭＥＲＩＣＡ ＡＳ ＲＥＰＲＥＳＥＮ
ＴＥＤ ＢＹ ＴＨＥ ＡＤＭＩＮＩＳ
ＴＲＡＴＯＲ ＯＦ ＮＡＴＩＯＮＡＬ
ＡＥＲＯＮＡＵＴＩＣＳ ＡＮＤ Ｓ
ＰＡＣＥ ＡＤＭＩＮＩＳＴＲＡＴＩＯ
Ｎ
アメリカ合衆国，ワシントン ディー.
シー．20546，エヌエーエスエー ヘッ
ドクォーターズ（番地なし)
(72)発明者 ハリー イー． イートン，ジュニア
アメリカ合衆国，コネチカット 06281,
ウッドストック，ペリン ロード 391
(72)発明者 ウィリアム ピー．アレン
アメリカ合衆国，コネチカット 06480,
ポートランド，アップルツリー レーン
５
(72)発明者 ロバート エー．ミラー
アメリカ合衆国，オハイオ 44141，ブ
レックスビレ ハイランド ドライブ
9224
(72)発明者 ネイザン エス．ジャコブソン
アメリカ合衆国，オハイオ 44145，ウ
ェストレイク，カロライン サークル
27700ジー
(72)発明者 ジェームス エル．スミアレック
アメリカ合衆国，オハイオ 44136，ス
トロングスビレ，ジョナサン ドライブ
22001
(72)発明者 エリザベス ジェー．オピラ
アメリカ合衆国，オハイオ 44107，レ
イクウッド，オノンダガ アベニュー
1590
(72)発明者 カン エヌ．リー
アメリカ合衆国，オハイオ 44145，ウ
ェストレイク コース ポスト ラン
1835
(72)発明者 バンガロア エー．ナガラ
アメリカ合衆国，オハイオ 45069，ウ
ェスト チェスター，トラバース コー
ト 5196
(72)発明者 ホンギュ ワング
アメリカ合衆国，ニューヨーク 12309,
ニスカユナ オックスフォード ウェイ
195
(72)発明者 ピーター ジェイ．メシュター
アメリカ合衆国，ニューヨーク 12309,
ニスカユナ，パイン リッジ コート
2207
(72)発明者 クリシャン エル．ルスラ
アメリカ合衆国，ニューヨーク 12309,
スケネクタディ レッド オーク ドラ
イブ 280
(56)参考文献 特開 平４−346648（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−316477（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−287479（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−3426（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−279832（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−231453（ＪＰ，Ａ)
特表2002−511833（ＪＰ，Ａ)
米国特許3523881（ＵＳ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B32B 1/00 - 35/00
C04B 41/80 - 41/91
C23C 4/00 - 4/18
Claims (28)
- 【請求項１】 シリコンを含有する基板を有し、 前記基板に含まれるシリコンが水分が存在する環境下で
Si(OH) x 及び/またはSiOを生成する高温でガス状シリコ
ン化合物の形成を防ぐためのバリア層を有し、前記バリ
ア層は、カルシウムを含有するとともに、CaOを２０wt%
より多く含み、Al 2 O 3 を３８wt%より多く含み、SiO 2 を３
０wt%より多く含むこと を特徴とする物品。 - 【請求項２】 前記基板は、シリコン含有セラミックと
シリコン含有金属合金とから選択されることを特徴とす
る請求項１記載の物品。 - 【請求項３】 前記基板は、シリコンカーバイド、シリ
コン窒化物、シリコンオキシニトリド、及びシリコンア
ルミニウムオキシニトリドから選択されるシリコン含有
セラミックであることを特徴とする請求項２記載の物
品。 - 【請求項４】 前記基板は、シリコンベースマトリクス
と強化材粒子とを含有する組成物であることを特徴とす
る請求項２記載の物品。 - 【請求項５】 前記基板は、シリコンカーバイド繊維強
化シリコンカーバイドマトリクス、カーボン繊維強化シ
リコンカーバイドマトリクス、及びシリコンカーバイド
繊維強化シリコンニトリドから選択されることを特徴と
する請求項４記載の物品。 - 【請求項６】 前記基板は、モリブデン−シリコン合
金、ニオブシリコン合金、鉄−シリコン合金、及び鉄−
ニッケル−シリコンベース合金のうちから選択されるシ
リコン含有金属合金であることを特徴とする請求項２記
載の物品。 - 【請求項７】 前記バリア層は、カルシウム酸化物を含
むことを特徴とする請求項１記載の物品。 - 【請求項８】 前記バリア層は、カルシウムアルミノ珪
酸塩を含むことを特徴とする請求項１記載の物品。 - 【請求項９】 前記バリア層は、CaOを２４wt%含み、Al
2O3を４０wt%含み、SiO2を３６wt%含むことを特徴とす
る請求項１記載の物品。 - 【請求項１０】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
板の熱膨張係数の±3.0ppm／℃以内の値であることを特
徴とする請求項１記載の物品。 - 【請求項１１】 前記バリア層の熱膨張係数は、前記基
板の熱膨張係数の±0.5ppm／℃以内の値であることを特
徴とする請求項１記載の物品。 - 【請求項１２】 前記バリア層は、その厚みが0.0127mm
(0.0005インチ)以上であることを特徴とする請求項１記
載の物品。 - 【請求項１３】 前記バリア層は、その厚みが0.0762mm
(３mil)〜0.127mm(5mil)であることを特徴とする請求項
１記載の物品。 - 【請求項１４】 前記基板と前記バリア層との間に中間
層が形成されていることを特徴とする請求項１記載の物
品。 - 【請求項１５】 前記中間層は、SiO2、ムライト、ムラ
イト−バリウムストロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライ
ト−イットリウム珪酸塩、ムライト−カルシウムアルミ
ノ珪酸塩、及び金属シリコンから選択されることを特徴
とする請求項１４記載の物品。 - 【請求項１６】 前記中間層は、ムライト、バリウムス
トロンチウムアルミノ珪酸塩、ムライト−イットリウム
珪酸塩、カルシウムアルミノ珪酸塩及びこれらの混合物
のうちから選択されることを特徴とする請求項１４記載
の物品。 - 【請求項１７】 前記中間層は、ムライトを含むことを
特徴とする請求項１４記載の物品。 - 【請求項１８】 前記中間層は、４０wt%〜８０wt%のム
ライト、２０〜６０wt%のバリウムストロンチウムアル
ミノ珪酸塩を含むことを特徴とする請求項１４記載の物
品。 - 【請求項１９】 前記中間層は、４０wt%〜８０wt%のム
ライト、２０〜６０wt%のイットリウム珪酸塩を含むこ
とを特徴とする請求項１４記載の物品。 - 【請求項２０】 前記中間層は、４０wt%〜８０wt%のム
ライト、２０〜６０wt%のカルシウムアルミノ珪酸塩を
含むことを特徴とする請求項１４記載の物品。 - 【請求項２１】 前記基板と前記中間層との間にボンド
層が形成されていることを特徴とする請求項１４記載の
物品 - 【請求項２２】 前記ボンド層は、シリコンまたはSiO2
であることを特徴とする請求項２１記載の物品。 - 【請求項２３】 前記中間層の厚みは、0.0127mm(0.5mi
l)以上であることを特徴とする請求項１４記載の物品。 - 【請求項２４】 前記バリア層の厚みは、0.0762mm(３m
il)〜0.762mm(３０mil)であることを特徴とする請求項
９記載の物品。 - 【請求項２５】 前記バリア層の厚みは、0.0762mm(３m
il)〜0.127mm(５mil)であることを特徴とする請求項９
記載の物品。 - 【請求項２６】 前記中間層の厚みは、0.0762mm(３mi
l)〜0.762mm(３０mil)であることを特徴とする請求項１
４記載の物品。 - 【請求項２７】 前記バリア層の厚みは、0.0762mm(３m
il)〜0.127mm(５mil)であることを特徴とする請求項１
４記載の物品。 - 【請求項２８】 前記ボンド層の厚みは、0.0762mm(３m
il)〜0.1524mm(６mil)であることを特徴とする請求項２
１記載の物品。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106478153A (zh) * | 2016-09-28 | 2017-03-08 | 陕西科技大学 | 一种碳/碳复合材料β‑Y2Si2O7纳米线增韧莫来石/硅酸盐玻璃涂层的制备方法 |
Families Citing this family (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6485848B1 (en) * | 1998-04-27 | 2002-11-26 | General Electric Company | Coated article and method of making |
| US6478933B1 (en) * | 1999-12-17 | 2002-11-12 | Caterpillar Inc. | Method for creating surface oil reservoirs on coated iron |
| US6444335B1 (en) * | 2000-04-06 | 2002-09-03 | General Electric Company | Thermal/environmental barrier coating for silicon-containing materials |
| US6352790B1 (en) * | 2000-06-29 | 2002-03-05 | United Technologies Corporation | Substrate containing silicon and a barrier layer which functions as a protective/thermal barrier coating |
| US6884386B2 (en) * | 2000-09-21 | 2005-04-26 | Sintokogio, Ltd. | Method of toughening and modifying ceramic and ceramic products |
| US6607852B2 (en) * | 2001-06-27 | 2003-08-19 | General Electric Company | Environmental/thermal barrier coating system with silica diffusion barrier layer |
| US6682820B1 (en) * | 2002-10-31 | 2004-01-27 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Recession resistant coated ceramic part |
| JP3981033B2 (ja) * | 2003-03-24 | 2007-09-26 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| US20040234782A1 (en) * | 2003-05-22 | 2004-11-25 | Sun Ellen Y. | Environmental barrier coating for silicon based substrates |
| US6777093B1 (en) | 2003-05-22 | 2004-08-17 | United Technologies Corporation | Bond layer for silicon containing substrate |
| US7060360B2 (en) * | 2003-05-22 | 2006-06-13 | United Technologies Corporation | Bond coat for silicon based substrates |
| US7056574B2 (en) | 2003-05-22 | 2006-06-06 | United Technologies Corporation | Bond layer for silicon containing substrate |
| US7063894B2 (en) * | 2003-05-22 | 2006-06-20 | United Technologies Corporation | Environmental barrier coating for silicon based substrates |
| US6902836B2 (en) * | 2003-05-22 | 2005-06-07 | United Technologies Corporation | Environmental barrier coating for silicon based substrates such as silicon nitride |
| US6969555B2 (en) * | 2003-10-06 | 2005-11-29 | General Electric Company | Aluminate coating for a silicon containing substrate |
| US6844075B1 (en) | 2003-10-06 | 2005-01-18 | General Electric Company | Environmental barrier coating |
| US20050129973A1 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-16 | Eaton Harry E. | Velocity barrier layer for environmental barrier coatings |
| US20050142393A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-06-30 | Boutwell Brett A. | Ceramic compositions for thermal barrier coatings stabilized in the cubic crystalline phase |
| US6887595B1 (en) | 2003-12-30 | 2005-05-03 | General Electric Company | Thermal barrier coatings having lower layer for improved adherence to bond coat |
| US20050238894A1 (en) * | 2004-04-22 | 2005-10-27 | Gorman Mark D | Mixed metal oxide ceramic compositions for reduced conductivity thermal barrier coatings |
| US7255940B2 (en) * | 2004-07-26 | 2007-08-14 | General Electric Company | Thermal barrier coatings with high fracture toughness underlayer for improved impact resistance |
| US7422671B2 (en) | 2004-08-09 | 2008-09-09 | United Technologies Corporation | Non-line-of-sight process for coating complexed shaped structures |
| US7666512B2 (en) | 2004-08-09 | 2010-02-23 | United Technologies Corporation | Thermal resistant environmental barrier coating |
| US7166373B2 (en) * | 2004-08-19 | 2007-01-23 | General Electric Company | Ceramic compositions for thermal barrier coatings with improved mechanical properties |
| US20060210800A1 (en) * | 2005-03-21 | 2006-09-21 | Irene Spitsberg | Environmental barrier layer for silcon-containing substrate and process for preparing same |
| US20060211241A1 (en) * | 2005-03-21 | 2006-09-21 | Christine Govern | Protective layer for barrier coating for silicon-containing substrate and process for preparing same |
| US7374818B2 (en) | 2005-05-23 | 2008-05-20 | United Technologies Corporation | Coating system for silicon based substrates |
| US20060280954A1 (en) * | 2005-06-13 | 2006-12-14 | Irene Spitsberg | Corrosion resistant sealant for outer EBL of silicon-containing substrate and processes for preparing same |
| US7442444B2 (en) * | 2005-06-13 | 2008-10-28 | General Electric Company | Bond coat for silicon-containing substrate for EBC and processes for preparing same |
| US7354651B2 (en) | 2005-06-13 | 2008-04-08 | General Electric Company | Bond coat for corrosion resistant EBC for silicon-containing substrate and processes for preparing same |
| US20060280955A1 (en) * | 2005-06-13 | 2006-12-14 | Irene Spitsberg | Corrosion resistant sealant for EBC of silicon-containing substrate and processes for preparing same |
| WO2007087423A2 (en) * | 2006-01-25 | 2007-08-02 | Ceramatec, Inc. | Environmental and thermal barrier coating to provide protection in various environments |
| US20080026248A1 (en) * | 2006-01-27 | 2008-01-31 | Shekar Balagopal | Environmental and Thermal Barrier Coating to Provide Protection in Various Environments |
| US20090186237A1 (en) | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Rolls-Royce Corp. | CMAS-Resistant Thermal Barrier Coatings |
| US20100015396A1 (en) * | 2008-07-21 | 2010-01-21 | General Electric Company | Barrier coatings, methods of manufacture thereof and articles comprising the same |
| US10717678B2 (en) * | 2008-09-30 | 2020-07-21 | Rolls-Royce Corporation | Coating including a rare earth silicate-based layer including a second phase |
| US20110206937A1 (en) * | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Schmidt Wayde R | Composite article having a ceramic nanocomposite layer |
| US8470457B2 (en) * | 2010-03-29 | 2013-06-25 | United Technologies Corporation | Composite article having a solid solution protective layer |
| CA2806172C (en) | 2010-07-23 | 2015-04-28 | Rolls-Royce Corporation | Thermal barrier coatings including cmas-resistant thermal barrier coating layers |
| WO2012027442A1 (en) | 2010-08-27 | 2012-03-01 | Rolls-Royce Corporation | Rare earth silicate environmental barrier coatings |
| EP2964591B1 (en) | 2013-03-05 | 2024-04-24 | General Electric Company | High temperature tolerant ceramic matrix composites and environmental barrier coatings |
| US9598777B2 (en) | 2013-03-12 | 2017-03-21 | Rolls-Royce Corporation | Method for fabricating multilayer environmental barrier coatings |
| US10329205B2 (en) * | 2014-11-24 | 2019-06-25 | Rolls-Royce Corporation | Bond layer for silicon-containing substrates |
| US20190017177A1 (en) | 2017-07-17 | 2019-01-17 | Rolls-Royce Corporation | Thermal barrier coatings for components in high-temperature mechanical systems |
| US11655543B2 (en) | 2017-08-08 | 2023-05-23 | Rolls-Royce Corporation | CMAS-resistant barrier coatings |
| US10851656B2 (en) | 2017-09-27 | 2020-12-01 | Rolls-Royce Corporation | Multilayer environmental barrier coating |
| CA3078298A1 (en) | 2017-12-19 | 2019-06-27 | Oerlikon Metco (Us) Inc. | Erosion and cmas resistant coating for protecting ebc and cmc layers and thermal spray coating method |
| KR102203857B1 (ko) * | 2018-12-27 | 2021-01-15 | 국민대학교산학협력단 | 내환경 배리어층의 형성방법 |
| US11702728B2 (en) | 2019-05-28 | 2023-07-18 | Rolls-Royce Corporation | Post deposition heat treatment of coating on ceramic or ceramic matrix composite substrate |
| CN110357573A (zh) * | 2019-06-27 | 2019-10-22 | 上海宝钢工业技术服务有限公司 | 低苯并[a]芘型环保高炉炮泥及制备方法 |
| US20210017090A1 (en) * | 2019-07-19 | 2021-01-21 | Rolls-Royce Corporation | Thermal spray deposited coating |
| US11512379B2 (en) | 2020-07-01 | 2022-11-29 | Rolls-Royce Corporation | Post deposition heat treatment of bond coat and additional layers on ceramic or CMC substrate |
| CN112047737B (zh) * | 2020-07-23 | 2021-07-13 | 西安交通大学 | 一种面向带有微结构特征的碳化硅基陶瓷的熔渗方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3523881A (en) * | 1966-09-01 | 1970-08-11 | Gen Electric | Insulating coating and method of making the same |
| US4357382A (en) * | 1980-11-06 | 1982-11-02 | Fansteel Inc. | Coated cemented carbide bodies |
| JPS59116175A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-04 | 株式会社東芝 | セラミツクス焼結部材 |
| EP0211579B1 (en) * | 1985-08-02 | 1990-03-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of making a silicon nitride sintered member |
| US4714660A (en) * | 1985-12-23 | 1987-12-22 | Fansteel Inc. | Hard coatings with multiphase microstructures |
| DE8717405U1 (de) * | 1987-07-08 | 1989-03-09 | Castolin S.A., Lausanne-St. Sulpice, Waadt/Vaud | Rohr für Vorwärmer und Ekonomiser |
| US5164266A (en) * | 1989-10-24 | 1992-11-17 | Isuzu Ceramics Research Institute Co., Ltd. | Slidable ceramic member and method of manufacturing same |
| US5211991A (en) * | 1992-07-23 | 1993-05-18 | Hughes Aircraft Company | Method of plasma spraying magnetic-cermet dielectric coatings |
| US5391404A (en) * | 1993-03-15 | 1995-02-21 | The United States Of America As Represented By The National Aeronautics And Space Administration | Plasma sprayed mullite coatings on silicon-base ceramics |
| US5952100A (en) * | 1997-05-21 | 1999-09-14 | General Electric Company | Silicon-doped boron nitride coated fibers in silicon melt infiltrated composites |
| US6485848B1 (en) * | 1998-04-27 | 2002-11-26 | General Electric Company | Coated article and method of making |
-
1999
- 1999-04-15 US US09/292,350 patent/US6296942B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-04-14 EP EP00108342A patent/EP1044946B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-14 DE DE60012605T patent/DE60012605T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-15 KR KR10-2000-0019785A patent/KR100390290B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-04-17 JP JP2000115746A patent/JP3474516B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-16 US US09/714,073 patent/US6284325B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106478153A (zh) * | 2016-09-28 | 2017-03-08 | 陕西科技大学 | 一种碳/碳复合材料β‑Y2Si2O7纳米线增韧莫来石/硅酸盐玻璃涂层的制备方法 |
| CN106478153B (zh) * | 2016-09-28 | 2019-02-22 | 陕西科技大学 | 一种碳/碳复合材料β-Y2Si2O7纳米线增韧莫来石/硅酸盐玻璃涂层的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US6296942B1 (en) | 2001-10-02 |
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