JP2000345343A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2000345343A5
JP2000345343A5 JP1999156871A JP15687199A JP2000345343A5 JP 2000345343 A5 JP2000345343 A5 JP 2000345343A5 JP 1999156871 A JP1999156871 A JP 1999156871A JP 15687199 A JP15687199 A JP 15687199A JP 2000345343 A5 JP2000345343 A5 JP 2000345343A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film forming
surface roughness
component
mounting table
storage container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1999156871A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2000345343A (ja
JP4461507B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP15687199A priority Critical patent/JP4461507B2/ja
Priority claimed from JP15687199A external-priority patent/JP4461507B2/ja
Priority to PCT/JP2000/003358 priority patent/WO2000075971A1/ja
Priority to TW89110803A priority patent/TW484175B/zh
Publication of JP2000345343A publication Critical patent/JP2000345343A/ja
Publication of JP2000345343A5 publication Critical patent/JP2000345343A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4461507B2 publication Critical patent/JP4461507B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP15687199A 1999-06-03 1999-06-03 成膜装置 Expired - Fee Related JP4461507B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15687199A JP4461507B2 (ja) 1999-06-03 1999-06-03 成膜装置
PCT/JP2000/003358 WO2000075971A1 (fr) 1999-06-03 2000-05-25 Appareil de formation de film
TW89110803A TW484175B (en) 1999-06-03 2000-06-02 Film forming apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15687199A JP4461507B2 (ja) 1999-06-03 1999-06-03 成膜装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2000345343A JP2000345343A (ja) 2000-12-12
JP2000345343A5 true JP2000345343A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2006-07-27
JP4461507B2 JP4461507B2 (ja) 2010-05-12

Family

ID=15637222

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15687199A Expired - Fee Related JP4461507B2 (ja) 1999-06-03 1999-06-03 成膜装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4461507B2 (enrdf_load_stackoverflow)
TW (1) TW484175B (enrdf_load_stackoverflow)
WO (1) WO2000075971A1 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4639477B2 (ja) * 2001-01-24 2011-02-23 富士電機デバイステクノロジー株式会社 磁気記録媒体の製造方法
JP4597894B2 (ja) * 2006-03-31 2010-12-15 東京エレクトロン株式会社 基板載置台および基板処理装置
JP5347487B2 (ja) * 2008-12-24 2013-11-20 富士電機株式会社 シャワー電極板及びプラズマcvd装置
JP2013166990A (ja) * 2012-02-15 2013-08-29 Fujifilm Corp 機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法
JP7164332B2 (ja) * 2018-06-20 2022-11-01 株式会社ニューフレアテクノロジー 気相成長装置
JP7172717B2 (ja) * 2019-02-25 2022-11-16 三菱マテリアル株式会社 プラズマ処理装置用電極板
JP6733802B1 (ja) * 2019-05-28 2020-08-05 信越半導体株式会社 エピタキシャルウェーハの製造方法及びサセプタ

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01179309A (ja) * 1987-12-30 1989-07-17 Tokyo Electron Ltd 加熱法
JPH03177561A (ja) * 1989-09-19 1991-08-01 Nippon Mining Co Ltd 薄膜形成装置
JPH04232256A (ja) * 1990-12-28 1992-08-20 Nikko Kyodo Co Ltd 薄膜形成装置
JP3052116B2 (ja) * 1994-10-26 2000-06-12 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
JP3788836B2 (ja) * 1996-12-24 2006-06-21 東芝セラミックス株式会社 気相成長用サセプタ及びその製造方法
JP4037956B2 (ja) * 1998-04-28 2008-01-23 東海カーボン株式会社 チャンバー内壁保護部材

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05214536A (ja) 反応炉
JP2000345343A5 (enrdf_load_stackoverflow)
TW202118357A (zh) 薄膜沉積腔、多功能遮蔽盤以及多功能遮蔽盤的使用方法
JP2016103638A (ja) プラズマエッチング装置
JP4391478B2 (ja) ホローカソード型スパッタリングターゲットの包装装置及び包装方法
CN119731366A (zh) 钇质保护膜和其制造方法以及部件
JP2007081381A (ja) プラズマエッチング装置用シリコンリング
JP4769181B2 (ja) ターゲットとバッキングプレート
JP2002105618A (ja) 真空処理室用表面構造
US4196022A (en) Surface hardening method
JP2001181845A5 (ja) 成膜装置及び被処理体の処理方法
JP2010169459A (ja) 試料加工装置
JP5254277B2 (ja) 真空成膜装置用部品の製造方法
JP4670613B2 (ja) 成膜方法及び成膜装置、並びに成膜用ターゲット
CN116103616B (zh) 反射镜表面结合不同合金改善表面粗糙度的方法
JP5692373B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JPH0533140A (ja) 常圧cvd装置用シリコン含有炭化珪素質反応板
JPS63283737A (ja) 真空用反応容器
JP3305654B2 (ja) プラズマcvd装置および記録媒体
JPS62235466A (ja) 蒸着物質発生装置
JPS63238266A (ja) スパツタリング装置
JPH01253238A (ja) プラズマ処理装置
JPH01175738A (ja) ドライエッチング装置
WO2002067312A1 (en) Parts of apparatus for plasma treatment and method for manufacture thereof, and apparatus for plasma treatment
JP5269920B2 (ja) 真空成膜装置用部品の製造方法