JP2000339965A - ローデコーダ及びカラムデコーダを有する半導体メモリ装置 - Google Patents

ローデコーダ及びカラムデコーダを有する半導体メモリ装置

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JP2000339965A JP2000132946A JP2000132946A JP2000339965A JP 2000339965 A JP2000339965 A JP 2000339965A JP 2000132946 A JP2000132946 A JP 2000132946A JP 2000132946 A JP2000132946 A JP 2000132946A JP 2000339965 A JP2000339965 A JP 2000339965A
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    • G11C8/10Decoders

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電力消耗の低減できるローデコーダ及びカラ
ムデコーダを有する半導体メモリ装置を提供する。 【解決手段】 本発明に係る半導体メモリ装置は、半導
体メモリ装置に印加される電源電圧を受信するノード
と、ノーマル動作または待ち状態のいずれかを表わす制
御信号に応答して出力信号を発生させるロー制御部21
1と、多数本のワード線とロー制御部211との間に接
続され、それぞれロー制御部211の出力信号及び外部
から入力されるローアドレス信号Arに応答して対応す
るワード線を活性化させる多数個のローデコーダRD1
〜RDmとを具備し、多数個のローデコーダRD1〜R
Dmのノーマル動作時にロー制御部は高電圧を出力し、
多数個のローデコーダRD1〜RDmの待ち状態時にロ
ー制御部211は接地電圧を出力する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリ装置に
係り、特に、ローデコーダ及びカラムデコーダを有する
半導体メモリ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ装置は、メモリセルアレ
イ、ローデコーダ、カラムデコーダ、感知増幅器及び多
数本の入出力線対を具備する。メモリセルアレイは多数
個のメモリセルを具備し、前記メモリセルに多数本のワ
ード線及び多数本のビット線対が接続される。前記多数
本のビット線対は前記感知増幅器に接続される。前記多
数本の入出力線対は多数本のカラム選択線によって制御
されて前記感知増幅器に電気的に接続される。ローデコ
ーダは、外部から入力されるローアドレスをデコーディ
ングして前記多数本のワード線の一部を選択し、カラム
デコーダは外部から入力されるカラムアドレスをデコー
ディングして前記多数本のカラム選択線の一部を選択す
る。ローデコーダは前記多数本のワード線を駆動するた
めのドライバーを出力端に具備し、カラムデコーダは前
記多数本のカラム選択線を駆動するためのドライバーを
出力端に具備する。
【0003】低電源電圧を用いる半導体メモリ装置のロ
ーデコーダ及びカラムデコーダに具備されるMOSトラ
ンジスタのゲート幅は非常に狭い。このため、前記ロー
デコーダ及びカラムデコーダの待ち状態時に前記MOS
トランジスタのソースとドレインとの間に僅かな電圧差
が発生しても漏れ電流が生じてしまう。前記漏れ電流は
極めて少量であるため、ローデコーダ及びカラムデコー
ダが少数の時には半導体メモリ装置の電力消耗にあまり
影響しない。しかし、半導体メモリ装置の高集積化が次
第に進むにつれて、ローデコーダ及びカラムデコーダの
数も次第に増加しつつある。ローデコーダ及びカラムデ
コーダの数の増加に伴って前記漏れ電流も大量化し、こ
れは半導体メモリ装置の全体的な電力消耗の増大につな
がる。最近、半導体メモリ装置を用いるシステムの小型
化及び低電力化が進んでいる状況である。その結果、電
力消耗の多い半導体メモリ装置は小型システムまたは携
帯用システムに不向きであるため、商業性に劣ってい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みて成されたものであり、その目的は、低電源電圧を内
部電源電圧として用いる半導体メモリ装置において、漏
れ電流が生じないローデコーダを具備する半導体メモリ
装置を提供することである。
【0005】本発明の他の目的は、低電源電圧を内部電
源電圧として用いる半導体メモリ装置において、漏れ電
流が生じないカラムデコーダを具備する半導体メモリ装
置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、多数本のワード線に接続された多数個の
メモリセルを有する半導体メモリ装置において、ノー
ド、ロー制御部及び多数個のローデコーダを具備する。
ノードは、前記半導体メモリ装置に印加される電源電圧
を受信する。ロー制御部は、ノーマル動作または待ち状
態のいずれかを表わす制御信号に応答して出力信号を発
生させる。多数個のローデコーダは、前記多数本のワー
ド線と前記ロー制御部との間に接続される。それぞれの
ローデコーダは、前記ロー制御部の出力信号及び外部か
ら入力されるローアドレス信号に応答して対応するワー
ド線を活性化させる。前記多数個のローデコーダのノー
マル動作時に前記ロー制御部は高電圧を出力し、前記多
数個のローデコーダの待ち状態時に前記ロー制御部は接
地電圧を出力する。
【0007】前記他の目的を達成するために、本発明
は、外部とデータをやり取りする多数本のカラム選択線
に応答して対応する入出力線対に選択的に接続される多
数本のビット線対に接続される多数個のメモリセルを有
する半導体メモリ装置において、カラム制御部及び多数
個のカラムデコーダを具備する。カラム制御部は内部電
源電圧を入力し、ノーマル動作または待ち状態のいずれ
かを表わす第1制御信号に応答して出力信号を発生させ
る。多数個のカラムデコーダは、前記カラム制御部に接
続される。それぞれのカラムデコーダはノーマル動作ま
たは待ち状態のいずれかを表わす第2制御信号、前記カ
ラム制御部の出力信号及びカラムアドレス信号に応答し
て前記多数本のカラム選択線のうち対応するカラム選択
線を活性化させる。前記多数個のカラムデコーダのノー
マル動作時に前記カラム制御部は内部電源電圧を出力
し、前記多数個のカラムデコーダの待ち状態時に前記カ
ラム制御部は接地電圧を出力する。
【0008】本発明によると、低電源電圧を用いる半導
体メモリ装置の電力消耗を減らすことができる。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明及び本発明の動作上の利点
並びに本発明の実施によって成し遂げられる目的を十分
理解するためには、本発明の好適な実施形態を例示する
添付図面及び添付図面に記載の内容を参照しなければな
らない。
【0010】以下、添付した図面に基づき、本発明の好
適な実施形態について詳細に説明する。図面で、同一の
部材には同一の参照符号を使用した。
【0011】図1を参照すると、通常の半導体メモリ装
置101は、メモリセルアレイ111、ローデコーダ1
21、ローアドレスバッファ131、ワード線駆動部1
71、カラムデコーダ141、カラムアドレスバッファ
151、感知増幅及び入出力ゲート部161、入出力バ
ッファ191、制御ロジック181、多数本のカラム選
択線CSL0〜CSLn−1及び多数本の入出力線対I
O0〜IOn−1を具備する。メモリセルアレイ111
は、多数個のワード線対WL0〜WLm−1及び多数本
のビット線対BL0〜BLn−1を具備する。ワード線
駆動部171は、多数個のワード線ドライバーWD1〜
WDmを具備する。
【0012】ローアドレスバッファ131は、外部から
入力されるローアドレスArの電圧レベルを半導体メモ
リ装置101に即した電圧レベルに変換させる。ローデ
コーダ121は制御ロジック181で発生される制御信
号PDPXに応答してローアドレスバッファ131から
出力されるローアドレスArをデコーディングし、ワー
ド線イネーブル信号NWE0〜NWEm−1を発生させ
る。ワード線駆動部171はワード線イネーブル信号N
WE0〜NWEm−1に応答して多数本のワード線WL
0〜WLm−1を高電圧に活性化させる。カラムアドレ
スバッファ141は外部から入力されるカラムアドレス
信号Acの電圧レベルを半導体メモリ装置101に即し
た電圧レベルに変換させる。カラムデコーダ141は制
御ロジック181から出力される第1、第2及び第3制
御信号BANKB、PCSLPB及びPCSLENに応
答してカラムアドレスバッファ151から出力されるカ
ラムアドレスAcをデコーディングし、多数本のカラム
選択線CSL0〜CSLn−1の一部を活性化させる。
前記活性化されたカラム選択線に接続されたビット線対
BL0〜BLn−1は入出力線対IO0〜IOn−1に
電気的に接続される。
【0013】この状態で、半導体メモリ装置101から
の読み出し時には活性化されたワード線によって指定さ
れたメモリセル(図示せず)に記憶されたデータはビッ
ト線対BL0〜BLn−1に載せられ、このうち前記活
性化されたカラム選択線に接続されたビット線対に載せ
られたデータのみが入出力線対IO0〜IOn−1を介
して入出力バッファ191に送られる。半導体メモリ装
置101への書き込み時には外部から入出力バッファ1
91を介して入出力線対 IO0〜IOn−1にデータ
が載せられ、この入出力線対IO0〜IOn−1 に載
せられたデータは前記活性化されたカラム選択線に接続
されたビット線対を介して前記活性化されたワード線に
接続されたメモリセルに格納される。
【0014】図2は、本発明の実施形態によるローアド
レスデコーダ200ブロック図である。ここで、前記ロ
ーアドレスデコーダ200は前記図1に示されたローデ
コーダ121など従来のローアドレスデコーダに置き換
えできる。図2を参照すると、ローアドレスデコーダ2
00は、ロー制御部211、第1〜第mローデコーダR
D1〜RDmを具備する。ロー制御部211は、制御信
号PDPXに応答して出力信号OUT1を発生させる。
第1〜第mローデコーダRD1〜RDmはいずれもロー
制御部211に接続され、それぞれ前記出力信号OUT
1及びローアドレス信号Arに応答して多数個のワード
線イネーブル信号NWE0〜NWEm−1を出力する。
多数個のワード線イネーブル信号NWE0〜NWEm−
1は、図1に示されたワード線ドライバWD1〜WDm
を介して多数本のワード線WL0〜WLm−1を高電圧
に活性化させる。第1〜第mローデコーダRD1〜RD
mはそれぞれ同じ構造及び同じ機能を有する。
【0015】図3は、ロー制御部211の回路図であ
る。図3を参照すると、ロー制御部211はPMOSト
ランジスタ311及びNMOSトランジスタ321を具
備してインバータの役割をする。PMOSトランジスタ
311のソースには高電圧VPPが印加され、NMOS
トランジスタ321のソースには接地電圧Vssのよう
に低電圧が印加される。したがって、ロー制御部211
は制御信号PDPXが論理“ロー”のとき、すなわち、
第1〜第mローデコーダRD1〜RDmのノーマル動作
時には高電圧VPPを出力し、制御信号PDPXが論理
“ハイ”のとき、すなわち、第1〜第mローデコーダR
D1〜RDmの待ち状態時には接地電圧Vss、すなわ
ち、論理“ロー”電圧を出力する。高電圧VPPは電源
電圧Vccよりも高い電圧である場合があり、多数本の
ワード線WL0〜WLm−1を効率良く駆動する上で必
要である。
【0016】前述のようにロー制御部211は、第1〜
第mローデコーダRD1〜RDmのノーマル動作時には
高電圧VPPを、そして第1〜第mローデコーダRD1
〜RDmの待ち状態時には接地電圧Vssを出力する。
【0017】図4は、第1ローデコーダRD1の回路図
である。第1〜第mローデコーダRD1〜RDmはそれ
ぞれ同じ構造及び同じ機能を有するため、ここでは、第
1ローデコーダRD1のみを示し、重複説明を避けてい
る。
【0018】図4を参照すると、第1ローデコーダRD
1は、プルアップ部411、デコーディング部421、
ラッチ部431、ドライバー441及び雑音除去部45
1を具備する。
【0019】プルアップ部411は、ロー制御部211
の出力信号OUT1に応答する。プルアップ部411は
高電圧VPPが印加されるソースと、ロー制御部211
の出力信号OUT1が入力されるゲート、及びノードN
1に接続されたドレインを含む。したがって、前記プル
アップ部411は、ロー制御部211の出力信号OUT
1が接地電圧VssであればターンオンされてノードN
1を高電圧VPPにプルアップさせ、ロー制御部211
の出力信号OUT1が高電圧VPPであればターンオフ
されてノードN1を高電圧VPPにプルアップさせな
い。
【0020】デコーディング部421は、ローアドレス
Arを構成する多数個のローアドレスビットAr1、A
r2、Ar3に応答する。デコーディング部421は多
数個のローアドレスビットAr1、Ar2、Ar3によ
ってそれぞれゲートされるNMOSトランジスタQ1、
Q2、Q3を含む。このNMOSトランジスタQ1、Q
2、Q3はノードN1と接地電圧Vssとの間に直列接
続される。ローアドレスビットAr1、Ar2、Ar3
がいずれも論理“ハイ”であればNMOSトランジスタ
Q1、Q2、Q3はターンオンされてノードN1は接地
電圧Vssにダウンされ、ローアドレスビットAr1、
Ar2、Ar3のいずれか1つでも論理“ロー”であれ
ばノードN1は接地電圧Vssにダウンされない。
【0021】ラッチ部431はノードN1とノードN2
との間に接続され、ワード線イネーブル信号NWE0を
特定電圧レベルにラッチさせる。ラッチ部431はPM
OSトランジスタQ5及びNMOSトランジスタQ4を
含む。PMOSトランジスタQ5のソースには高電圧V
PPが印加され、NMOSトランジスタQ4のソースに
は接地電圧Vssが印加される。NMOSトランジスタ
Q4のゲート及びPMOSトランジスタQ5のドレイン
はノードN1に接続され、NMOSトランジスタQ4の
ドレイン及びPMOSトランジスタQ5のゲートはノー
ドN2に接続される。したがって、ノードN1が高電圧
VPPであればNMOSトランジスタQ4及びPMOS
トランジスタQ5はターンオンされるので、その結果ノ
ードN2が接地電圧Vssにラッチされる。すなわち、
ワード線イネーブル信号NWE0は接地電圧Vssに維
持されるのである。これに対し、ノードN1が接地電圧
VssであればNMOSトランジスタQ及びPMOSト
ランジスタQ5はターンオフされるのでドライバー44
1がターンオンされ、その結果ワード線イネーブル信号
NWE0は昇圧電圧レベルにイネーブルされる。
【0022】ドライバー441はノードN1の電圧によ
ってゲートされる。ドライバー441はロー制御部21
1の出力信号OUT1を受信するソース、ノードN1に
接続されるゲート、及びノードN2に接続されるドレイ
ンを有するPMOSトランジスタQ6を含む。したがっ
て、ドライバー441は、ノードN1の電圧が接地電圧
Vssであればターンオンされてロー制御部211の出
力信号OUT1をノードN2に伝達し、ノードN1の電
圧が高電圧VPPであればターンオフされてロー制御部
211の出力信号OUT1をノードN2に伝達しない。
ドライバー441がターンオフされた場合、ノードN2
の電圧レベルはラッチ部431の出力に応じて決定され
る。
【0023】内部電源電圧として2.0V以下の低電圧
を用いる半導体メモリ装置において、MOSトランジス
タQ1〜Q6のゲート幅は非常に狭く、その結果MOS
トランジスタQ1〜Q6のしきい電圧も、例えば0.5
V以下に顕著に下がる。このように、ドライバー441
に具備されるPMOSトランジスタQ6のしきい電圧が
低電圧である場合、第1ローデコーダRD1の待ち状態
時にPMOSトランジスタQ6のソースとドレインとの
間に僅かな電圧差が生じ、PMOSトランジスタQ6の
ゲートにPMOSトランジスタQ6のしきい電圧よりも
高い電圧が印加されると、PMOSトランジスタQ6に
は漏れ電流が生じる。これを防止すべく、本発明では、
第1ローデコーダRD1の待ち状態時にPMOSトラン
ジスタQ6のソース及びドレインに共に接地電圧Vss
を印加する方法を取っている。ここで、待ち状態時にロ
ー制御部211の出力信号OUT1が論理“ロー”にP
MOSトランジスタQ6のソースに印加され、PMOS
トランジスタQ6のゲートには高電圧VPPが印加され
るので、PMOSトランジスタQ6はターンオフされ、
NMOSトランジスタQ4はターンオンされて、PMO
SトランジスタQ6のドレインは接地電圧Vssとな
る。その結果、PMOSトランジスタQ6のソース及び
ドレインは共に接地電圧Vssとなる。結局として、第
1〜第mローデコーダRD1〜RDmの待ち状態時に第
1〜第mローデコーダRD1〜RDmには漏れ電流が生
じない。
【0024】雑音除去部451にはキャパシタが具備さ
れ、これによりノードN2に生じる雑音が除去される。
【0025】図3及び図4に基づき、本発明に係るロー
制御部211及び第1ローデコーダRD1の動作につい
て説明する。第1ローデコーダRD1の動作は、ノーマ
ル動作と待ち状態とに大別される。
【0026】先ず、第1ローデコーダRD1のノーマル
動作時に制御信号PDPXは論理“ロー”になる。制御
信号PDPXが論理“ロー”になるとロー制御部211
のPMOSトランジスタ311がターンオンされるの
で、ロー制御部211から高電圧VPPが出力される。
ロー制御部211の出力が高電圧VPPであればプルア
ップ部411はターンオフされる。このとき、ローアド
レスビットAr1、Ar2、Ar3がいずれも論理“ハ
イ”であればノードN1は接地電圧Vssに下がり、ロ
ーアドレスビットAr1、Ar2、Ar3のいずれか1
つでも論理“ロー”であれば、ノードN1の電圧はラッ
チ部431のPMOSトランジスタQ5のドレイン電圧
に応じて決定される。もしローアドレスビットAr1、
Ar2、Ar3がいずれも論理“ハイ”であれば、ノー
ドN1は接地電圧Vssになり、ドライバー441がタ
ーンオンされてロー制御部211から出力される高電圧
VPPがノードN2に印加されるので、ワード線イネー
ブル信号NWE0は活性化される。ワード線イネーブル
信号NWE0が活性化されると、ワード線WL0が高電
圧VPPにイネーブルされる。
【0027】第1ローデコーダRD1が待ち状態になる
と、制御信号PDPXは論理“ハイ”になる。制御信号
PDPXが論理“ハイ”になるとロー制御部211のN
MOSトランジスタ321がターンオンされるので、ロ
ー制御部211の出力は接地電圧Vssに下がる。ロー
制御部211の出力が接地電圧Vssであればプルアッ
プ部411がターンオンされるので、ノードN1は高電
圧VPPに上がる。ノードN1が高電圧VPPに上がる
とラッチ部431のNMOSトランジスタQ4がターン
オンされるので、ノードN2は接地電圧Vssに下が
る。すなわち、ワード線イネーブル信号NWE0は非活
性化される。NMOSトランジスタQ4がターンオンさ
れるとラッチ部431のPMOSトランジスタQ5がタ
ーンオンされるので、ノードN1は継続して高電圧VP
Pに維持される。したがって、ワード線イネーブル信号
NWE0は継続して非活性化状態に維持される。
【0028】前述のように、本発明によると、第1ロー
デコーダRD1の待ち状態時にドライバー441に具備
されるPMOSトランジスタQ6のゲートには高電圧V
PPが印加され、PMOSトランジスタQ6のソース及
びドレイン共には接地電圧Vssが印加されるので、P
MOSトランジスタQ6には漏れ電流が生じない。すな
わち、第1〜第mローデコーダRD1〜RDmに漏れ電
流が生じない。このように、待ち状態時に第1〜第mロ
ーデコーダRD1〜RDmに漏れ電流が生じないことか
ら、半導体メモリ装置101の電力消耗が減る。
【0029】ところで、本発明によると、半導体メモリ
装置101に1つのロー制御部211がさらに追加され
る。しかし、必要とされるロー制御部211は、ローデ
コーダRD1〜RDmの数によらずに1つだけであり、
これが半導体メモリ装置101内で占める面積は極めて
僅かである。従って、半導体メモリ装置101の高集積
化が進んでもロー制御部211の占める面積は広がらな
いので、ロー制御部211の占める面積は半導体メモリ
装置101の寸法にまったく影響しない。
【0030】図5は、本発明のカラムアドレスデコーダ
500の好適な実施形態を示すものである。ここで、カ
ラムアドレスデコーダ500は図1に示されたカラムデ
コーダ151など従来のカラムアドレスデコーダに置き
換えできる。図5を参照すると、本発明の好適な実施形
態によるカラムアドレスデコーダ500は、カラム制御
部511及び第1〜第nカラムデコーダCD1〜CDn
を含む。カラム制御部511は、第1制御信号BANK
Bに応答して出力信号OUT2を発生させる。第1〜
第nカラムデコーダCD1〜CDnはいずれもカラム制
御部511に接続され、それぞれ出力信号OUT2、外
部から入力されるカラムアドレスAc、第2及び第3制
御信号PCSLPB、PCSLENに応答して多数本の
カラム選択線CSL0〜CSLn−1に対応するカラム
選択線を活性化させる。第1〜第nカラムデコーダCD
1〜CDnはそれぞれ同じ構造及び同じ機能を有する。
【0031】図6は、カラム制御部511の回路図であ
る。図6を参照すると、カラム制御部511はPMOS
トランジスタ611及びNMOSトランジスタ621を
具備してインバータの役割をする。PMOSトランジス
タ611のソースには内部電源電圧IVCが印加され、
NMOSトランジスタ621のソースには接地電圧Vs
sが印加される。したがって、カラム制御部511は第
1制御信号BANKBが論理“ロー”であれば内部電源
電圧IVCを出力し、第1制御信号BANKBが論理
“ハイ”であれば接地電圧Vssを出力する。内部電源
電圧IVCは外部から半導体メモリ装置101に印加さ
れる電源電圧Vccが半導体メモリ装置101に即した
電圧に変換された電圧である。第1〜第nカラムデコー
ダCD1〜CDnのノーマル動作時に第1制御信号BA
NKBは論理“ロー”となり、第1〜第nカラムデコー
ダCD1〜CDnの待ち状態時に第1制御信号BANK
Bは論理“ハイ”となる。
【0032】図7は、第1カラムデコーダCD1の詳細
図である。図7を参照すると、第1カラムデコーダCD
1は、プルアップ部711、デコーディング部721、
ラッチ部731、ドライバー741及び雑音除去部75
1を具備する。第1〜第nカラムデコーダCD1〜CD
nはそれぞれ同じ構造及び同じ機能を有するので、その
重複説明を避けるために、ここでは第1カラムデコーダ
CD1のみを示す。
【0033】プルアップ部711は内部電源電圧IVC
とノードN3との間に直列接続され、第2及び第3制御
信号PCSLPB、PCSLENによってゲートされる
PMOSトランジスタQ1、Q2を具備する。したがっ
て、プルアップ部711は第2及び第3制御信号PCS
LPB、PCSLENがいずれも論理“ロー”であれば
ターンオンされてノードN3を内部電源電圧IVCにプ
ルアップさせ、第2及び第3制御信号PCSLPB、P
CSLENのいずれか1つでも論理“ハイ”であればタ
ーンオフされてノードN3をプルアップさせない。第2
及び第3制御信号PCSLPB、PCSLENは第1カ
ラムデコーダCD1の特性に応じて1つまたは3つ以上
になりうる。このとき、PMOSトランジスタQ1、Q
2の数もこれに応じて変わる。
【0034】デコーディング部721は、カラムアドレ
スビットAc1、Ac2、Ac3及び第3制御信号PC
SLENに応答してノードN3を接地電圧Vssにダウ
ンさせる。カラムアドレスAcは、多数個のカラムアド
レスビットAc1、Ac2、Ac3で構成される。デコ
ーディング部721はカラムアドレスビットAc1、A
c2、Ac3及び第3制御信号PCSLENによってゲ
ートされる多数個、例えば4つのNMOSトランジスタ
Q3〜Q6を具備する。NMOSトランジスタQ3〜Q
6はノードN3と接地電圧Vssとの間に直列接続され
る。従って、デコーディング部721はカラムアドレス
ビットAc1、Ac2、Ac3及び第3制御信号PCS
LENがいずれも論理“ハイ”であればターンオンされ
てノードN3を接地電圧Vssにダウンさせ、カラムア
ドレスビットAc1、Ac2、Ac3及び第3制御信号
PCSLENのいずれか1つでも論理“ロー”であれば
ノードN3を接地電圧Vssにダウンさせない。
【0035】ラッチ部731は、ノードN3とカラム選
択線CSL0との間に接続される。ラッチ部731はP
MOSトランジスタQ7及びNMOSトランジスタQ8
を具備する。PMOSトランジスタQ7のソースには内
部電源電圧IVCが印加され、NMOSトランジスタQ
8のソースには接地電圧Vssが印加される。NMOS
トランジスタQ8のゲート及びPMOSトランジスタQ
7のドレインはノードN3に接続され、NMOSトラン
ジスタQ8のドレイン及びPMOSトランジスタQ7の
ゲートはカラム選択線CSL0に接続される。したがっ
て、ラッチ部731はノードN3の電圧が内部電源電圧
IVCであればターンオンされてカラム選択線CSL0
を接地電圧Vssにラッチさせ、ノードN3の電圧が接
地電圧Vssであればターンオフされてカラム選択線C
SL0を接地電圧Vssにラッチさせない。
【0036】ドライバー741は、ノードN3とカラム
制御部511との間に接続される。ドライバー741
は、カラム制御部511が接続されるソース、ノードN
3が接続されるゲート、及びカラム選択線CSL0が接
続されるドレインを含む。したがって、ドライバー74
1はノードN3の電圧が接地電圧Vssであればターン
オンされてカラム選択線CSL0を内部電源電圧IVC
にアップさせ、ノードN3の電圧が内部電源電圧IVC
であればターンオフされてカラム選択線CSL0を内部
電源電圧IVCにアップさせない。
【0037】雑音除去部751にはキャパシタが具備さ
れ、これによりカラム選択線CSL0に発生される雑音
が除去される。
【0038】図6及び図7に基づき、第1カラムデコー
ダCD1のノーマル動作及び待ち状態について説明す
る。
【0039】第1カラムデコーダCD1のノーマル動作
時に第1制御信号BANKBは論理“ロー”になり、第
2及び第3制御信号PCSLPB、PCSLENは論理
“ハイ”になる。第1制御信号BANKBが論理“ロ
ー”であればカラム制御部511のPMOSトランジス
タ611がターンオンされるので、カラム制御部511
から内部電源電圧IVCが出力される。この状態で第2
及び第3制御信号PCSLPB、PCSLENが論理
“ハイ”であるので、プルアップ部711はターンオフ
される。このとき、カラムアドレスビットAc1、Ac
2、Ac3がいずれも論理“ハイ”であればデコーディ
ング部721がターンオンされるので、ノードN3は接
地電圧Vssに下がる。もし、ノードN3が接地電圧V
ssであれば、ラッチ部731はターンオフされドライ
バー741はターンオンされるので、カラム選択線CS
L0は内部電源電圧IVCに上がる。すなわち、カラム
選択線CSL0が活性化される。
【0040】第1カラムデコーダCD1が待ち状態にな
ると第1制御信号BANKBは論理“ハイ”になり、第
2及び第3制御信号PCSLPB、PCSLENは論理
“ロー”になる。第1制御信号BANKBが論理“ハ
イ”であればカラム制御部511のNMOSトランジス
タ621がターンオンされるので、カラム制御部511
の出力は接地電圧Vssに下がる。第2及び第3制御信
号PCSLPB、PCSLENがいずれも論理“ロー”
であるのでプルアップ部711はターンオンされ、デコ
ーディング部721はカラムアドレスビットAc1、A
c2、Ac3に寄らずにターンオフされてノードN3は
内部電源電圧IVCに上がる。ノードN3が内部電源電
圧IVCに上がると、ラッチ部731はターンオンされ
ドライバー741はターンオフされるので、カラム選択
線CSL0は継続して接地電圧Vssに維持される。す
なわち、カラム選択線CSL0は非活性化される。ラッ
チ部731がターンオンされるので、カラム選択線CS
L0は継続して接地電圧Vssに維持される。
【0041】前述のように、本発明によると、第1カラ
ムデコーダCD1の待ち状態時にドライバー741に具
備されるPMOSトランジスタQ9のゲートには内部電
源電圧IVCが印加され、PMOSトランジスタQ9の
ソース及びドレイン共に接地電圧Vssが印加されるの
で、PMOSトランジスタQ9には漏れ電流が生じな
い。すなわち、第1〜第nカラムデコーダCD1〜CD
nに漏れ電流が生じない。このように、待ち状態で第1
〜第nカラムデコーダCD1〜CDnに漏れ電流が生じ
ないことから、半導体メモリ装置101の電力消耗が減
る。
【0042】ところで、本発明によると、半導体メモリ
装置101に1つのカラム制御部511がさらに追加さ
れる。しかし、必要とされるカラム制御部511は、カ
ラムデコーダCD1〜CDnの数によらずに1つだけで
あり、これが半導体メモリ装置101内で占める面積は
極めて僅かである。従って、半導体メモリ装置101の
高集積化が進んでもカラム制御部511の占める面積は
広がらないので、カラム制御部211の占める面積は半
導体メモリ装置101の寸法にまったく影響しない。
【0043】図2及び図5に示された回路はメモリと通
常のロジック回路とが組み合わせられた半導体メモリ装
置にも適用可能である。
【0044】
【発明の効果】前述のように、本発明によると、低電圧
を内部電源電圧として用いる半導体メモリ装置におい
て、第1〜第mローデコーダRD1〜RDm及び第1〜
第nカラムデコーダCD1〜CDnの待ち状態時に、第
1〜第mローデコーダRD1〜RDmのドライバー及び
第1〜第nカラムデコーダCD1〜CDnのドライバー
にそれぞれ具備されるPMOSトランジスタのソース及
びドレインに共に接地電圧Vssを印加することによ
り、第1〜第mローデコーダRD1〜RDm及び第1〜
第nカラムデコーダCD1〜CDnに漏れ電流が生じな
くなる。これにより、半導体メモリ装置の電力消耗が減
る。
【0045】図面及び明細書には最適の実施形態が開示
されている。ここで、特定の用語が使用されたが、これ
は単なる例示に過ぎず、本発明を限定するものではな
い。したがって、この技術分野の通常の知識を有した者
なら、これより各種の変形及び均等な他実施形態が可能
なのは言うまでもない。よって、本発明の真の技術的保
護範囲は請求範囲の技術的思想によって定まるべきであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 通常の半導体メモリ装置の概略ブロック図で
ある。
【図2】 本発明に係るローアドレスデコーダのブロッ
ク図である。
【図3】 図2のロー制御部の回路図である。
【図4】 図2の第1ローデコーダの回路図である。
【図5】 本発明に係るカラムデコーダのブロック図で
ある。
【図6】 図5のカラム制御部の回路図である。
【図7】 図5の第1カラムデコーダの回路図である。
【符号の説明】
200 ローアドレスデコーダ 211 ロー制御部 311 PMOSトランジスタ 321 NMOSトランジスタ 411 プルアップ部 421 デコーディング部 431 ラッチ部 441 ドライバー 451 雑音除去部 500 カラムアドレスデコーダ 511 カラム制御部 611 PMOSトランジスタ 621 NMOSトランジスタ 711 プルアップ部 721 デコーディング部 731 ラッチ部 741 ドライバー 751 雑音除去部 Ac カラムアドレス Ac1、Ac2、Ac3 カラムアドレスビット Ar ローアドレス信号 Ar1、Ar2、Ar3 ローアドレスビット BANKB 第1制御信号 CD1〜CDn 第1〜第nカラムデコーダ CSL0〜CSLn−1 カラム選択線 N1、N2、N3 ノード NWE0〜NWEm−1 ワード線イネーブル信号 OUT1,OUT2 出力信号 PCSLPB 第2制御信号 PCSLEN 第3制御信号 PDPX 制御信号 Q1〜Q9 MOSトランジスタ RD1〜RDm 第1〜第mローデコーダ WL0〜WLm−1 ワード線

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数本のワード線に接続される多数個の
    メモリセルを有する半導体メモリ装置において、 前記半導体メモリ装置に印加される電源電圧を受信する
    ノードと、 ノーマル動作または待ち状態のいずれかを表わす制御信
    号に応答して出力信号を発生させるロー制御部と、 前記多数本のワード線と前記ロー制御部との間に接続さ
    れ、それぞれ前記ロー制御部の出力信号及び外部から入
    力されるローアドレス信号に応答して対応するワード線
    を活性化させる多数個のローデコーダとを具備し、 前記多数個のローデコーダのノーマル動作時に前記ロー
    制御部は高電圧を出力し、前記多数個のローデコーダの
    待ち状態時に前記ロー制御部は接地電圧を出力すること
    を特徴とする半導体メモリ装置。
  2. 【請求項2】 前記高電圧は、外部から前記半導体メモ
    リ装置に印加される電源電圧よりも高電圧であることを
    特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装置。
  3. 【請求項3】 前記多数個のローデコーダのノーマル動
    作時に前記制御信号は論理“ロー”であり、前記多数個
    のローデコーダの待ち状態時に前記制御信号は論理“ハ
    イ”であることを特徴とする請求項1に記載の半導体メ
    モリ装置。
  4. 【請求項4】 前記電源電圧は2.0V以下であること
    を特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ装置。
  5. 【請求項5】 前記多数個のローデコーダはそれぞれ、 前記ロー制御部に接続され、前記出力信号が高電圧であ
    る時に前記高電圧を出力するプルアップ部と、 前記プルアップ部に接続され、前記ローアドレス信号を
    入力されてこれらをデコーディングするデコーディング
    部と、 前記プルアップ部と前記デコーディング部とが相互接続
    されたノードに接続され、前記ノードが第1電圧レベル
    であれば前記多数本のワード線のうち対応するワード線
    を論理“ロー”にラッチさせるラッチ部と、 前記ノード及び前記ロー制御部に接続され、前記ノード
    が第2電圧レベルであれば前記多数本のワード線のうち
    対応するワード線を前記高電圧に活性化させ、前記ノー
    ドが前記第1電圧レベルであれば前記ワード線を非活性
    化させ、前記ロー制御部の出力端に入力端が接続される
    ドライバーとを具備することを特徴とする請求項1に記
    載の半導体メモリ装置。
  6. 【請求項6】 前記第1電圧レベルは高電圧レベルであ
    り、前記第2電圧レベルは接地電圧レベルであることを
    特徴とする請求項5に記載の半導体メモリ装置。
  7. 【請求項7】 前記多数個のローデコーダはそれぞれ、 前記出力信号によってゲートされ、ドレインに前記高電
    圧が印加される第1PMOSトランジスタと、 前記第1PMOSトランジスタのドレインに接続され、
    前記ローアドレス信号によってゲートされて前記第1P
    MOSトランジスタのドレインを接地電圧レベルにダウ
    ンさせる多数個の直列接続されたNMOSトランジスタ
    と、 前記第1PMOSトランジスタのドレインに接続され、
    前記第1PMOSトランジスタのドレインに高電圧が発
    生すると、前記多数本のワード線のうち対応するワード
    線を接地電圧レベルにラッチさせるラッチ部と、 前記第1PMOSトランジスタのドレイン及び前記ロー
    制御部に接続され、前記第1PMOSトランジスタのド
    レインが接地電圧レベルであればターンオンされて前記
    出力信号を前記多数本のワード線のうち対応するワード
    線に伝達し、前記第1PMOSトランジスタのドレイン
    が高電圧レベルであればターンオフされる第2PMOS
    トランジスタとを具備し、 前記第2PMOSトランジスタがターンオフされると
    き、前記第2PMOSトランジスタのソース及びドレイ
    ンには共に接地電圧が印加されることを特徴とする請求
    項1に記載の半導体メモリ装置。
  8. 【請求項8】 前記第2PMOSトランジスタのしきい
    電圧は0.4V以下であることを特徴とする請求項7に
    記載の半導体メモリ装置。
  9. 【請求項9】 前記ロー制御部及び前記多数個のローデ
    コーダは、メモリと通常のロジック回路とが組み合わせ
    られた半導体メモリ装置にも適用できることを特徴とす
    る請求項1に記載の半導体メモリ装置。
  10. 【請求項10】 外部とデータをやり取りする多数本の
    カラム選択線に応答して対応する入出力線対に選択的に
    接続される多数本のビット線対に接続される多数個のメ
    モリセルを有する半導体メモリ装置において、 内部電源電圧を入力され、ノーマル動作または待ち状態
    のいずれかを表わす第1制御信号に応答して出力信号を
    発生させるカラム制御部と、 前記カラム制御部に接続され、それぞれノーマル動作ま
    たは待ち状態のいずれかを表わす少なくとも1つの第2
    制御信号、前記カラム制御部の出力信号及びカラムアド
    レス信号に応答して前記多数本のカラム選択線のうち対
    応するカラム選択線を活性化させる多数個のカラムデコ
    ーダとを具備し、 前記多数個のカラムデコーダのノーマル動作時に前記カ
    ラム制御部は内部電源電圧を出力し、前記多数個のカラ
    ムデコーダの待ち状態時に前記カラム制御部は接地電圧
    を出力することを特徴とする半導体メモリ装置。
  11. 【請求項11】 前記多数個のカラムデコーダのノーマ
    ル動作時に前記第1制御信号は論理“ロー”であり、前
    記多数個のカラムデコーダの待ち状態時に前記第1制御
    信号は論理“ハイ”であることを特徴とする請求項10
    に記載の半導体メモリ装置。
  12. 【請求項12】 前記電源電圧は2.0V以下であるこ
    とを特徴とする請求項10に記載の半導体メモリ装置。
  13. 【請求項13】 前記多数個のカラムデコーダはそれぞ
    れ、 前記少なくとも1つの第2制御信号を入力され、それが
    イネーブルされると前記内部電源電圧を出力するプルア
    ップ部と、 前記プルアップ部の出力端に接続され、前記カラムアド
    レス信号がイネーブルされると前記プルアップ部の出力
    端を接地電圧レベルにダウンさせるデコーディング部
    と、 前記プルアップ部の出力端に接続され、前記多数個のカ
    ラムデコーダの待ち状態時に前記対応するカラム選択線
    を接地電圧レベルにラッチさせるラッチ部と、 前記プルアップ部の出力端及び前記制御部に接続され、
    前記多数個のカラムデコーダのノーマル動作時に前記対
    応するカラム選択線を活性化させるドライバーとを具備
    することを特徴とする請求項10に記載の半導体メモリ
    装置。
  14. 【請求項14】 前記少なくとも1つの第2制御信号
    は、論理“ロー”時にイネーブルされることを特徴とす
    る請求項13に記載の半導体メモリ装置。
  15. 【請求項15】 前記多数個のカラムデコーダはそれぞ
    れ、 前記少なくとも1つの第2制御信号がイネーブルされる
    とゲートされて内部電源電圧を出力する少なくとも1つ
    の第1PMOSトランジスタと、 前記少なくとも1つの第1PMOSトランジスタのドレ
    インと接地電圧との間に接続され、前記カラムアドレス
    信号がイネーブルされるとゲートされて前記少なくとも
    1つの第1PMOSトランジスタのドレインを接地電圧
    レベルにダウンさせる多数個の直列接続されたNMOS
    トランジスタと、 前記少なくとも1つの第1PMOSトランジスタのドレ
    インに接続され、前記少なくとも1つの第1PMOSト
    ランジスタのドレインで前記内部電源電圧が発生すると
    ターンオンされて前記対応するカラム選択線を接地電圧
    レベルに維持させるラッチ部と、 前記少なくとも1つの第1PMOSトランジスタのドレ
    インに接続され、前記少なくとも1つの第1PMOSト
    ランジスタのドレインが接地電圧レベルに下がるとター
    ンオンされて対応するカラム選択線を前記内部電源電圧
    レベルに活性化させる第2PMOSトランジスタとを具
    備することを特徴とする請求項10に記載の半導体メモ
    リ装置。
  16. 【請求項16】 前記少なくとも1つの第2制御信号
    は、論理“ロー”時にイネーブルされることを特徴とす
    る請求項15に記載の半導体メモリ装置。
  17. 【請求項17】 前記第2PMOSトランジスタのしき
    い電圧は0.4V以下であることを特徴とする請求項1
    5に記載の半導体メモリ装置。
  18. 【請求項18】 前記デコーディング部は、前記第2制
    御信号をさらに入力されることを特徴とする請求項13
    に記載の半導体メモリ装置。
  19. 【請求項19】 前記カラム制御部及び前記多数個のカ
    ラムデコーダは、メモリと通常のロジック回路とが組み
    合わせられた半導体メモリ装置にも適用できることを特
    徴とする請求項10に記載の半導体メモリ装置。
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