JP2000333929A - Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置 - Google Patents

Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置

Info

Publication number
JP2000333929A
JP2000333929A JP11145278A JP14527899A JP2000333929A JP 2000333929 A JP2000333929 A JP 2000333929A JP 11145278 A JP11145278 A JP 11145278A JP 14527899 A JP14527899 A JP 14527899A JP 2000333929 A JP2000333929 A JP 2000333929A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic field
piece
static magnetic
measurement space
shield
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11145278A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Nakatsu
真幸 中津
Hitoshi Yoshino
仁志 吉野
Shin Hoshino
伸 星野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Healthcare Manufacturing Ltd
Original Assignee
Hitachi Medical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Medical Corp filed Critical Hitachi Medical Corp
Priority to JP11145278A priority Critical patent/JP2000333929A/ja
Publication of JP2000333929A publication Critical patent/JP2000333929A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁石重量を低減し、RFシールド上の非対称渦
電流発生を抑制した静磁場発生装置を提供する。 【解決手段】 静磁場発生装置は、測定空間5を挟んで
対向して配置された永久磁石1と、それを支持するヨー
ク3と、それを所定の間隔で支持するコラム4と、永久磁
石1の表面に取付けられた磁極2とから構成される。磁極
2は円板状のベース部6と円筒状の第1シム7から成り、
中央部に凹部8を有し、永久磁石1からの静磁場を測定空
間5に集中する。凹部8内には円板状の渦電流防止材9が
配置され、その表面に銅箔から成るRFシールド13の底部
13Aが密着配置され、底部13A上に静磁場均一度調整用の
磁石片など10が配置される。これにより磁極2の高さH2
が磁石片など10の厚さ分減少し磁石重量が低減されると
共に、RFシールド13の変形が抑制されて渦電流の発生は
対称となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気共鳴イメージ
ング装置(以下、MRI装置という)用静磁場発生装置
の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のMRI装置用静磁場発生装置の一
例を図3に示す。この従来例では、静磁場発生源に永久
磁石を使用している。図3において被検体を挿入する測
定空間5を挟んで一対の永久磁石1a、1bが上下方向に対
向して配置されている。上下の永久磁石1a、1bの測定空
間5に面する側には、永久磁石1a、1bにより発生される
静磁場を測定空間5に集中させるための磁極2a、2bが設
けられている。磁極2a、2bは、静磁場を効率良く測定空
間5に集中させるために、測定空間5に面する側の中央部
に凹部を有し、強磁性体から成っている。永久磁石1a、
1bおよび磁極2a、2bは、強磁性体から成る上下のヨーク
3a、3bに固定されて支持されている。また、上下のヨー
ク3a、3bは強磁性体から成る左右のコラム4a、4bによっ
て間隔をとって支持されている。永久磁石1a、1b、磁極
2a、2b、ヨーク3a、3bおよびコラム4a、4bは磁気的に閉
回路を形成している。以下、この磁気的な閉回路を磁気
回路MCと呼ぶ。
【0003】図4には、図3の下側の永久磁石1bの部分
の詳細断面図を示す。図4において、磁極2bは円板状の
ベース部6と円筒状の第1シム7とから構成され、第1シ
ム7の内側が磁極2bの凹部8を形成している。ベース部6
および第1シム7の材料としては主に鉄材が用いられて
いる。ベース部6の上面には円板状の渦電流防止材9が配
置されている。この渦電流防止材9はベース部6などの磁
極2bに渦電流が発生するのを防止するために配置するも
ので、厚さ1mm程度の四角形の珪素鋼板が多層(例えば
30層)積層されたものである。各々の珪素鋼板はエポ
キシ系接着剤などで接着され、その結果相互に絶縁され
ている。
【0004】渦電流防止材9の上面には、測定空間5の静
磁場均一度を調整するための磁石片又は鉄片10が配置さ
れている。磁石片又は鉄片10の大きさは、縦、横、高さ
が1mm〜10mmの区々の寸法のもので、これらを多数個渦
電流防止材9の上面に並べて配置して静磁場均一度の調
整を行う。磁石片は永久磁石1a、1bと同じ材質のもの
で、鉄片は磁極2a、2bと同じ材質のものである。磁石片
又は鉄片10の渦電流防止材9の面への取り付けはエポキ
シ系接着剤などで接着している。従って、図4において
この部分は円板状に記載されているが、実際の形状は円
板状ではなく、磁石片又は鉄片が接着されている部分の
み渦電流防止材9の表面から突出しており、他の部分は
空間になっている。
【0005】上記の磁気回路MCによって測定空間5に
空間的、時間的に一様な強度と方向性を持った静磁場が
作られるが、磁気共鳴(MR)画像を得るためには、高
周波(RF)照射コイル11や傾斜磁場コイル12などが必
要となる。RF照射コイル11は被検体内のプロトンの磁
気モーメントを磁気的に励起させるためにパルス状の電
磁波を被検体に照射するものであり、傾斜磁場コイル12
はMR信号に位置情報を与えるためのものである。これ
らのRF照射コイル11および傾斜磁場コイル12は図3、
図4に示す如く、永久磁石1および磁極2に対し、測定空
間5に近い側に配置される。また、傾斜磁場コイル12の
凹部8内に配置される場合もある。
【0006】RF照射コイル11によって電磁波を被検体
に照射すると、被検体以外に周囲の磁気回路MCによっ
て多量の電磁波が吸収されるため、電磁波の被検体への
照射効率が低下する。この照射効率の低下を防止するた
めに、RF照射コイル11に近接して配置された傾斜磁場
コイル12と磁石片又は鉄片10との間の空間に高周波(R
F)シールド13が配置される。このRFシールド13は厚
さ数十μmの電気良導体で、フランジ付き椀状体13であ
る。RFシールド13の材料には約30μmの厚さの銅箔が
使用されている。銅箔の両表面には塩化ビニルなどの絶
縁材料からなる薄いシート(0.2〜0.3mm厚さ)が補強と
絶縁を兼ねて貼り付けられている。銅箔の厚さに関して
は、厚すぎると渦電流の発生量が多くなり、傾斜磁場に
対し悪影響を及ぼすため、構造を維持できる限度におい
て薄いほうがよい。現状では数十μmの厚さの銅箔が使
用されている。
【0007】RFシールド13のフランジ付き椀状体は、
銅箔の円板からなる底部13Aと、銅箔シートを丸めて接
続した円筒部13Bと、大径の銅箔円板に円形の穴をあけ
たフランジ部13Cとから構成され、各々の部材の接続は
半田などつないでいる。銅箔と絶縁シートとは三層構造
になっているが、両者の間の固定は接着または挟み込み
によって行われている。
【0008】RFシールド13の支持は、底部13Aとフラ
ンジ部13Cにて行われている。底部13Aについては、ねじ
付き支柱14と長いディスタントピース(以下、Dピース
という)A15と短いDピースB16とで複数箇所支持さ
れ、フランジ部13Cについては、磁極2bの第1シム7とR
F照射コイル11とで挟んで支持されている。RFシール
ド13の底部13AはRF照射コイル11などと共にDピース
A15とDピースB16にて間隔をとってねじ付き支柱14に
よって、ベース部6に取り付けられている。ねじ付き支
柱14の材料にはステンレス鋼など、DピースA15、Dピ
ースB16の材料には絶縁物が使用されている。
【0009】RFシールド13とRF照射コイル11との間
の距離は、RF照射コイル11から照射される電磁波がR
Fシールド13に吸収されることによって生じるRF照射
効率の低下を防ぐために、極力広く確保する必要があ
る。この距離を確保するために、RFシールド13と傾斜
磁場コイル12が配置される磁極2の凹部8の深さをできる
だけ深くしていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来構造では、磁極2内の凹部8の深さが深くなることに
より、磁極2全体の厚さ(すなわち、第1シム7とベース
部6とを合わせた厚さ)H1が厚くなるために、上下の永
久磁石1a、1b間の距離が大きくなり、磁石の総重量が増
加し、磁場発生効率の低下につながっていた。このた
め、本発明での第一の目的は、RF照射コイル11の照射
効率を低下させることなく、磁極2の厚さを薄くし、そ
の分だけ上下の永久磁石1a、1b間の距離を小さくして、
磁石の総重量を低減することにより、磁場発生効率を向
上することである。
【0011】また、従来構造のRFシールド13は、厚さ
数十μm程度の薄い銅箔で構成されているため、その円
板状の底部13Aは複数箇所支持されているにもかかわら
ず、機械的剛性が弱く、支点以外の部分で下側に凸状に
たるんでしまうという現象が見うけられる。このよう
に、上下のRFシールド13の底部13Aが部分的に凸状にな
ると、計測空間5の中心位置を基準とした場合、上下の
RFシールド13の底部13Aは非対称に配置されているこ
とになる。RFシールド13がこのような非対称配置にな
っている状態でRF照射コイルで電磁波を照射したり、傾
斜磁場コイル12に傾斜磁場を印加したりすると、上下の
RFシールド13上に非対称に分布する渦電流が発生する
ことになり、この渦電流に起因してMR画像にゴースト
やアーチファクトを発生することがある。
【0012】このため、本発明での第二の目的は、RF
シールド13の配置を安定なもので、かつ対称的なものと
し、RFシールド上に非対称に分布する渦電流が発生す
るのを防止することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のMRI装置用静磁場発生装置は、測定空間
に磁場強度分布の均一な静磁場を供給する静磁場発生手
段と、測定空間の磁場均一度を調整するための磁石片又
は強磁性体片とを具備するMRI装置用静磁場発生装置
において、前記静磁場発生手段と前記磁石片又は強磁性
体片との間に電気良導体から成るRFシールドを配設し
たものである(請求項1)。
【0014】従来品では、電気良導体から成るRFシール
ドが測定空間と均一磁場調整用の磁石片又強磁性体片と
の間に配置されていたのに対し、この構成では、電気良
導体から成るRFシールドが静磁場発生手段と磁場均一
度調整用の磁石片又は強磁性体片との間に配設されてい
るため、RFシールドは従来品と比べ測定空間の中心か
ら磁石片又は強磁性体片の厚さ分(以下、この厚さをt
とする)だけ遠い位置に配置されていることになる。こ
のため、静磁場発生手段が同じ位置にあるならば、測定
空間を厚さ2tだけ広げることができ、測定空間を同じ
広さとするならば、静磁場発生手段を厚さtの分だけ測
定空間に近接させることができる。後者の場合、磁石の
間の距離が厚さ2tだけ小さくなるので、磁石の総重量
の低減に寄与し、磁場発生効率を向上することができ
る。
【0015】本発明のMRI装置用静磁場発生装置では
更に、前記静磁場発生手段は、測定空間を挟んで対向し
て配置された一対の永久磁石と、永久磁石が発生する静
磁場を効率良く測定空間に集中させるために永久磁石の
測定空間に面する側に配置された一対の強磁性体から成
る磁極と、永久磁石と磁極とを支持し、永久磁石の外側
に配置された一対のヨークと、ヨークを間隔をとって支
持し、永久磁石、磁極、ヨークと磁気的閉回路を形成す
るコラムとから構成され、前記磁石片又は強磁性体片は
磁極の測定空間に面する側に配置され、前記RFシール
ドが磁極と前記磁石片又は強磁性体片との間に挟持され
て配設されている(請求項2)。
【0016】この構成では、静磁場発生手段が永久磁石
を対向させた方式のもので、測定空間の両側に対向して
磁極が配置され、RFシールドは磁極と磁石片又は強磁
性体片の間に挟持されて配設されている。この結果、R
Fシールドが従来品よりも測定空間の中心から厚さtだ
け離れて配設されているために、請求項1の場合と同じ
効果が得られる。更に、RFシールドが磁極と磁石片又
は強磁性体片との間に挟持されているために、RFシー
ルドの電気良導体が変形することがなくなり、RF照射
コイルからのRF照射時または傾斜磁場印加時にRFシ
ールドに非対称な渦電流などが発生することがなくな
り、MR画像の画質向上に寄与する。
【0017】本発明のMRI装置用静磁場発生装置では
更に、前記磁極が測定空間に面する側に渦電流防止材を
具備し、前記RFシールドが渦電流防止材と前期磁石片
又は強磁性体片との間に配設されている(請求項3)。
この構成では、磁極の表面に渦電流の発生を防止するた
めに渦電流防止材が取り付けられているので、RFシー
ルドはこの渦電流防止材と磁石片又は強磁性体片との間
に配設されている。従って、この場合も、請求項2の場
合と同様な効果が得られ、上記の第1と第2の目的を達
成することができる。
【0018】本発明のMRI装置は、上記のMRI装置
用静磁場発生装置を静磁場発生装置として具備するもの
である(請求項4)。この構成のMRI装置では、静磁場
発生装置の磁石の総重量を低減させて磁場発生効率を向
上するとともに、RFシールドへの非対称な渦電流の発
生防止によりMR画像の画質向上を図ることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明のMRI装置用静磁
場発生装置について添付図面によって説明する。図1お
よび図2は、本発明のMRI装置用静磁場発生装置の一
実施例を示したものである。図1は静磁場発生装置の全
体構成図、図2はその要部拡大断面図である。本実施例
の静磁場発生装置は測定空間を中心にして上下方向にほ
ぼ対称形に構成されているので、図2には下側磁石の右
半分の拡大断面図を示している。
【0020】図1において、MRI装置用静磁場発生装
置は、測定空間5を挟んで上下方向に対向して配置され
た永久磁石1a、1bと、この永久磁石1a、1bを支持する鉄
などの強磁性体から成る上下のヨーク3a、3bと、ヨーク
3a、3bを間隔をとって支持する鉄などの強磁性体から成
る左右のコラム4a、4bから構成されている。上下の永久
磁石1a、1bの対向面側には鉄などの強磁性体から成る磁
極2a、2bが取り付けられ、上下の永久磁石1a、1bが発生
する静磁場を測定空間5に集中させる役割を担ってい
る。このような構成で永久磁石1a、1b、磁極2a、2b、ヨ
ーク3a、3b、コラム4a、4bはエアギャップに相当する測
定空間5を含めて磁気回路MCを形成している。
【0021】図2には、図1のヨーク3bおよびコラム4
a、4bを除いた磁石部分が示されている。図2におい
て、永久磁石1bの上面側に配置された磁極2bは鉄などの
強磁性体から成る円板状のベース部6と鉄などの強磁性
体から成る円筒状の第1シム7Aとから構成されている。
この第1シム7Aの高さは従来品と比べ磁場均一度を調整
するための磁石片又は鉄などの強磁性体片10の厚さtの
分だけ短く作られている。このため、磁極2b全体の高さ
H2も従来品の磁極の高さH1より厚さtだけ短くなってい
る。磁極2bの内側にはベース部6と第1シム7Aとで作ら
れる円形の凹部8がある。この凹部8には、円板状の渦電
流防止材9とフランジ付き椀状体のRFシールド13と磁
石片又は鉄などの強磁性体片10が配置されている。
【0022】渦電流防止材9は、ベース部6の上面に配置
され、ベース部6に渦電流が発生するのを防止するもの
である。この渦電流防止材9は、厚さ1mm程度の四角形
(一辺の長さは100mm前後)の珪素鋼板を積層して円板
状にしたもので、各々の板の間はエポキシ系接着剤など
で接着し、絶縁されている。積層板の厚さは数十mm程度
である。
【0023】RFシールド13は、RF照射コイル11から
照射される電磁波が磁極2bに吸収されるのを遮断するも
ので、厚さ数十μm(通常30μm前後)の銅箔から成る。
この材料は、銅箔に限らず、薄い電気良導体であれば他
の材料を用いてもよい。RFシールド13は、円板状の底
部13Aと、円筒部13Bと、フランジ部13Cとから構成さ
れ、各部は半田などで接続されている。銅箔は、絶縁お
よび形状保持のため、両側の表面に塩化ビニルなどの絶
縁材料から成る絶縁シートが貼り付けられている。絶縁
シートの厚さは約0.2〜0.3mmである。RFシールド13の
遮蔽効果は、円筒部13Bの高さhが高い程大きい。
【0024】図2において、RFシールド13の底部13A
は渦電流防止材9の上面に密着するように配置されてい
る。RFシールド13の底部13Aの下面と渦電流防止材9の
上面との間は接着剤で接着してもよい。RFシールド13
の底部13Aの上面には磁石片又は鉄などの強磁性体片10
が接着して載置されている。磁石片又は鉄などの強磁性
体片10は寸法が区々で、通常1〜10mmの立方体から成
り、その載置位置は静磁場の均一度調整仕様に従って決
められる。磁石片又は鉄などの強磁性体片10の層の厚さ
は前述の如く一様ではなく、この層は磁石片などが存在
する部分と存在しない部分があったり、また磁石片など
の高さも区々で、凸凹の甚だしい層となっている。従っ
て、この厚さtは、磁石片又は鉄などの強磁性体片10の
うちの最も厚いものによって決まることになる。
【0025】本実施例では、磁気回路MCを構成する永
久磁石1a、1b、ヨーク3a、3b、コラム4a、4b、磁極2a、
2bのベース部6および第1シム7、渦電流防止材9、RF
照射コイル11、傾斜磁場コイル12の構造は、図3に示し
た従来の静磁場発生装置と基本的には同じである。本実
施例によれば、RFシールド13の寸法形状を図4のまま
とする(RFシールド13の高さhが維持される)と、第
1シム7の厚さを磁石片又は鉄などの強磁性体片10の厚
さtの分だけ減らし、磁極2全体として磁石片又は鉄など
の強磁性体片10の厚さt分だけ減らすことができるの
で、その分だけ磁極2の重量を低減させることができ
る。
【0026】従って、本実施例では、上下の磁極2a、2b
間の距離、測定空間5における静磁場強度、および磁場
均一空間の広さを変えることなく、上下の永久磁石1a、
1b間の距離を磁石片又は鉄などの強磁性体片10の厚さの
2倍2tだけ短縮して、磁石総重量を低減させること(特
に、磁極重量の低減)により、磁場発生効率の向上を図
ることができる。
【0027】また、永久磁石1a、1bを同じ位置に配置し
た場合には、磁石片又は鉄などの強磁性体片10の厚さ分
だけ測定空間5を広げることも可能である。
【0028】また、本実施例では、RFシールド13の底
部13Aを剛性の強い金属の面で挟み込んで固定すること
になるので、RFシールド13の底部13Aがたわむことが
なくなり、RFシールド13の配置が安定し、かつ上下で
対称的なものになるため、RFシールド13上に発生する
渦電流の分布は対称なものとなる。その結果、RFシール
ド13上に非対称に分布する渦電流が発生するのを低減す
ることができる。
【0029】上記の実施例においては、永久磁石1a、1b
を上下方向に対向して配置した静磁場発生装置について
説明したが、本発明はこれに限定されず、永久磁石1a、
1bを測定空間5を挟んで水平方向に左右に対向して配置
してもよい。
【0030】また、本発明の静磁場発生手段としての磁
石は、永久磁石に限定されず、超電導材料または常伝導
材料から成る線材をコイル状に巻いた超電導コイルまた
は常伝導コイルから成る磁石でもよい。
【0031】本発明の静磁場発生装置は、従来の静磁場
発生装置と同様MRI装置の静磁場発生装置として適用
することが可能である。本発明の静磁場発生装置を適用
したMRI装置では、磁石の総重量の低減によるコスト
の低減、MR画像のゴーストやアーチファクトの除去に
よる画質の向上などの効果が得られる。
【0032】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明によれば、M
RI装置用静磁場発生装置において、RF照射コイル11
とRFシールド13の間の距離を短縮することなく、磁極
2の厚さを小さくすることができるため、上下の永久磁
石1a、1b間の距離を短縮することができ、磁石の総重量
の低減と、それに伴う磁場発生効率の向上を図ることが
できる。
【0033】また、本発明によれば、RFシールド13を
剛性の強い金属の面で挟みこみ固定することにより、R
Fシールド13の配置を安定かつ対称的なものとすること
が出来るため、RFシールド13上に渦電流が非対称に分
布することにより発生していたMR像のゴーストやアー
チファクトを除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のMRI装置用静磁場発生装置の一実施
例の全体構成図。
【図2】本発明の静磁場発生装置の要部拡大断面図。
【図3】従来のMRI装置用静磁場発生装置の全体構成
図。
【図4】図3の要部拡大断面図。
【符号の説明】
1、1a、1b…永久磁石 2、2a、2b…磁極 3、3a、3b…ヨーク 4、4a、4b…コラム 5…測定空間 6…ベース部 7…第1シム 8…凹部 9…渦電流防止材 10…磁石片又は鉄などの強磁性体片 11…高周波(RF)照射コイル 12…傾斜磁場コイル 13…RFシールド 13A…底部 13B…円筒部 13C…フランジ部 14…ねじ付き支柱 15…ディスタント(D)ピースA 16…ディスタント(D)ピースB

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定空間に磁場強度分布の均一な静磁場
    を供給する静磁場発生手段と、測定空間の磁場均一度を
    調整するための磁石片又は強磁性体片とを具備するMR
    I装置用静磁場発生装置において、前記静磁場発生手段
    と前記磁石片又は強磁性体片との間に電気良導体から成
    る高周波シールドを配設したことを特徴とするMRI装
    置用静磁場発生装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のMRI装置用静磁場発
    生装置において、前記静磁場発生手段は、測定空間を挟
    んで対向して配置された一対の永久磁石と、永久磁石が
    発生する静磁場を効率良く測定空間に集中させるために
    永久磁石の測定空間に面する側に配置された一対の強磁
    性体から成る磁極と、永久磁石と磁極とを支持し、永久
    磁石の外側に配置された一対のヨークと、ヨークを間隔
    をとって支持し、永久磁石、磁極、ヨークと磁気的閉回
    路を形成するコラムとから構成され、前記磁石片又は強
    磁性体片は磁極の測定空間に面する側に配置され、前記
    高周波シールドが磁極と前記磁石片又は強磁性体片との
    間に配設されていることを特徴とするMRI装置用静磁
    場発生装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のMRI装置用静磁場発生
    装置において、前記磁極が測定空間に面する側に渦電流
    防止剤を具備し、前記高周波シールドが渦電流防止剤と
    前記磁石片又は強磁性体片との間に配設されていること
    を特徴とするMRI装置用静磁場発生装置。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3記載のMRI装置用静磁
    場発生装置を静磁場発生装置として具備することを特徴
    とするMRI装置。
JP11145278A 1999-05-25 1999-05-25 Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置 Pending JP2000333929A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11145278A JP2000333929A (ja) 1999-05-25 1999-05-25 Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11145278A JP2000333929A (ja) 1999-05-25 1999-05-25 Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000333929A true JP2000333929A (ja) 2000-12-05

Family

ID=15381447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11145278A Pending JP2000333929A (ja) 1999-05-25 1999-05-25 Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000333929A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1450178A2 (en) * 2003-02-21 2004-08-25 GE Medical Systems Global Technology Company LLC Grounded RF shield for an MRI system
JP2005111267A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Siemens Ag 磁気共鳴装置の時間的に可変の磁場を発生する磁場発生器および磁場発生器を有する磁気共鳴装置
JP2005261806A (ja) * 2004-03-22 2005-09-29 Hitachi Medical Corp 磁気共鳴イメージング装置
JP2008130716A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Hitachi Ltd 磁石装置および磁気共鳴撮像装置
ITGE20100008A1 (it) * 2010-01-22 2011-07-23 Esaote Spa Macchina per risonanza magnetica nucleare con mezzi per la correzione dell'omogeneità del campo magnetico
CN103654787A (zh) * 2012-09-24 2014-03-26 三星电子株式会社 磁共振成像装置及其制造方法
WO2016199640A1 (ja) * 2015-06-11 2016-12-15 株式会社日立製作所 開放型磁気共鳴イメージング装置

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1450178A3 (en) * 2003-02-21 2005-06-01 GE Medical Systems Global Technology Company LLC Grounded RF shield for an MRI system
US7157911B2 (en) 2003-02-21 2007-01-02 Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc RF shield and MRI system
EP1450178A2 (en) * 2003-02-21 2004-08-25 GE Medical Systems Global Technology Company LLC Grounded RF shield for an MRI system
CN100425198C (zh) * 2003-02-21 2008-10-15 Ge医疗系统环球技术有限公司 射频屏蔽和磁共振成像系统
JP4558434B2 (ja) * 2003-10-06 2010-10-06 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト 磁気共鳴装置の時間的に可変の磁場を発生する磁場発生器および磁場発生器を有する磁気共鳴装置
JP2005111267A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Siemens Ag 磁気共鳴装置の時間的に可変の磁場を発生する磁場発生器および磁場発生器を有する磁気共鳴装置
JP2005261806A (ja) * 2004-03-22 2005-09-29 Hitachi Medical Corp 磁気共鳴イメージング装置
JP4630261B2 (ja) * 2006-11-20 2011-02-09 株式会社日立製作所 磁石装置および磁気共鳴撮像装置
JP2008130716A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Hitachi Ltd 磁石装置および磁気共鳴撮像装置
ITGE20100008A1 (it) * 2010-01-22 2011-07-23 Esaote Spa Macchina per risonanza magnetica nucleare con mezzi per la correzione dell'omogeneità del campo magnetico
WO2011089115A1 (en) * 2010-01-22 2011-07-28 Esaote S.P.A. Magnetic resonance imaging apparatus with means for correcting magnetic field homogeneity
US9188652B2 (en) 2010-01-22 2015-11-17 Esaote S.P.A. Magnetic resonance imaging apparatus with means for correcting magnetic field homogeneity
CN103654787A (zh) * 2012-09-24 2014-03-26 三星电子株式会社 磁共振成像装置及其制造方法
KR101417781B1 (ko) * 2012-09-24 2014-08-06 삼성전자 주식회사 자기공명영상장치 및 그 제조방법
US9482727B2 (en) 2012-09-24 2016-11-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Magnetic resonance imaging (MRI) apparatus and manufacturing method thereof
WO2016199640A1 (ja) * 2015-06-11 2016-12-15 株式会社日立製作所 開放型磁気共鳴イメージング装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5124651A (en) Nuclear magnetic resonance scanners with composite pole facings
US6842002B2 (en) C-shaped magnetic resonance imaging system
US6794973B1 (en) Magnetic field generating device for MRI
JPS62115703A (ja) 勾配フイ−ルド構造体およびその磁気共鳴イメ−ジ装置における利用方法
US5414399A (en) Open access superconducting MRI magnet having an apparatus for reducing magnetic hysteresis in superconducting MRI systems
JP2000333929A (ja) Mri装置用静磁場発生装置およびそれを用いたmri装置
US20060267715A1 (en) Magnetic field generating system applicable to nuclear magnetic resonance device
JP4360662B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JP4202564B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置用磁場発生装置
JP3747981B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JP3510544B2 (ja) 空隙内に磁界を形成するための装置
JP2566421B2 (ja) Mri用静磁場発生装置
JP6663821B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JP2014039633A (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JP2002102205A (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JP4202565B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置用磁場発生装置
JPH0394733A (ja) Mri用磁界発生装置
JPS6365848A (ja) 核磁気共鳴イメ−ジング装置
JP7410790B2 (ja) オープン型磁気共鳴イメージング装置
JP3774141B2 (ja) 核磁気共鳴イメージング装置
JP4651236B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JP5891063B2 (ja) 磁気共鳴イメージング装置
JPH0371891B2 (ja)
JP2857888B2 (ja) 永久磁石方式mri装置
JP2001149337A (ja) 磁気共鳴イメージング装置