JP2000329463A - 塗膜の乾燥方法及び乾燥装置 - Google Patents
塗膜の乾燥方法及び乾燥装置Info
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- JP2000329463A JP2000329463A JP13423899A JP13423899A JP2000329463A JP 2000329463 A JP2000329463 A JP 2000329463A JP 13423899 A JP13423899 A JP 13423899A JP 13423899 A JP13423899 A JP 13423899A JP 2000329463 A JP2000329463 A JP 2000329463A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塗布後の乾燥工程における吹かれムラ等の故
障を回避し安定した良質の塗布乾燥製品が得られるよう
にする。 【解決手段】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥工程で、温度を制御した空気を塗布面へ吹
き付けることにより乾燥を行い、塗布面に到達する乾燥
風の風速が塗布後２０秒以内は０．１〜１０ｍ／秒とす
ることを特徴とする塗膜の乾燥方法及び装置。
障を回避し安定した良質の塗布乾燥製品が得られるよう
にする。 【解決手段】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥工程で、温度を制御した空気を塗布面へ吹
き付けることにより乾燥を行い、塗布面に到達する乾燥
風の風速が塗布後２０秒以内は０．１〜１０ｍ／秒とす
ることを特徴とする塗膜の乾燥方法及び装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は支持体に塗布された
塗膜が均一に乾燥されて仕上がるための乾燥方法及び乾
燥装置に関する。
塗膜が均一に乾燥されて仕上がるための乾燥方法及び乾
燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開平１０−６８５８７号に乾燥装置の
ノズルから吹き出す空気が被乾燥面である搬送される支
持体と１〜４５゜とすることが記載されている。
ノズルから吹き出す空気が被乾燥面である搬送される支
持体と１〜４５゜とすることが記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】塗膜を乾燥させる手段
として塗布後の支持体表面に温度を制御した空気を吹き
付けることにより乾燥させることが広く行われている
が、塗布液の粘度が比較的低く、厚い塗膜が必要な場
合、吹き付けた空気の圧力により塗膜表面に凹凸を伴っ
た吹かれムラを生じる。また、ＰＥＴ等の製膜における
流延後の乾燥でも塗膜が厚いため同様の吹かれムラを生
ずることがある。特開平１０−６８５８７号に乾燥風と
支持体のぶつかる角度を１〜４５゜とすることが記載さ
れているが、乾燥効率を上げるために風速を上げるとさ
ざ波状に塗膜表面が流動し、吹かれムラとなる。
として塗布後の支持体表面に温度を制御した空気を吹き
付けることにより乾燥させることが広く行われている
が、塗布液の粘度が比較的低く、厚い塗膜が必要な場
合、吹き付けた空気の圧力により塗膜表面に凹凸を伴っ
た吹かれムラを生じる。また、ＰＥＴ等の製膜における
流延後の乾燥でも塗膜が厚いため同様の吹かれムラを生
ずることがある。特開平１０−６８５８７号に乾燥風と
支持体のぶつかる角度を１〜４５゜とすることが記載さ
れているが、乾燥効率を上げるために風速を上げるとさ
ざ波状に塗膜表面が流動し、吹かれムラとなる。
【０００４】本発明の目的は、乾燥時の吹かれムラを抑
止することである。
止することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
（１）〜（３０）の何れか１項によって達成される。
（１）〜（３０）の何れか１項によって達成される。
【０００６】（１） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、温度を制御した空気を塗布
面へ吹き付けることにより乾燥を行い、塗布面に到達す
る乾燥風の風速が塗布後２０秒以内は０．１〜１０ｍ／
秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、温度を制御した空気を塗布
面へ吹き付けることにより乾燥を行い、塗布面に到達す
る乾燥風の風速が塗布後２０秒以内は０．１〜１０ｍ／
秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
【０００７】（２） 塗布面に到達する乾燥風の風速が
塗布後１０秒以内は０．１〜５ｍ／秒とし、１０秒から
２０秒までは０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とす
る（１）項に記載の塗膜の乾燥方法。
塗布後１０秒以内は０．１〜５ｍ／秒とし、１０秒から
２０秒までは０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とす
る（１）項に記載の塗膜の乾燥方法。
【０００８】（３） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内は赤外線
による加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは
温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けることにより乾
燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１
０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内は赤外線
による加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは
温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けることにより乾
燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１
０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
【０００９】（４） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内はマイク
ロウェーブによる加熱により乾燥を行い、１０秒から２
０秒までは温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けるこ
とにより乾燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が
０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥
方法。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内はマイク
ロウェーブによる加熱により乾燥を行い、１０秒から２
０秒までは温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けるこ
とにより乾燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が
０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥
方法。
【００１０】（５） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内は非塗布
面への加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは
温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けることにより乾
燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１
０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内は非塗布
面への加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは
温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けることにより乾
燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１
０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
【００１１】（６） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥装置で、塗布後１０秒以内は非塗布
面へ温度を制御した空気を吹き付ける加熱手段を有し、
１０秒から２０秒までは温度を制御した空気を塗布面へ
吹き付けるようにした加熱手段を有し、塗布面に到達す
る乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒に制御される制御
手段を有することを特徴とする塗膜の乾燥装置。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥装置で、塗布後１０秒以内は非塗布
面へ温度を制御した空気を吹き付ける加熱手段を有し、
１０秒から２０秒までは温度を制御した空気を塗布面へ
吹き付けるようにした加熱手段を有し、塗布面に到達す
る乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒に制御される制御
手段を有することを特徴とする塗膜の乾燥装置。
【００１２】（７） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥装置で、塗布後１０秒以内は非塗布
面に温度を制御したロールと接触させるようにした加熱
手段を有し、１０秒から２０秒までは温度を制御した空
気を塗布面へ吹き付けるようにした加熱手段を有し、塗
布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒に制
御される制御手段を有することを特徴とする塗膜の乾燥
装置。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した
塗膜を乾燥する乾燥装置で、塗布後１０秒以内は非塗布
面に温度を制御したロールと接触させるようにした加熱
手段を有し、１０秒から２０秒までは温度を制御した空
気を塗布面へ吹き付けるようにした加熱手段を有し、塗
布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒に制
御される制御手段を有することを特徴とする塗膜の乾燥
装置。
【００１３】（８） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1に
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面に
塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けること
により乾燥を行う乾燥装置において、前記支持体の両端
から外側へ１０ｃｍ以内の距離に支持体と平行となるよ
うに遮風板を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。
おいて粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗
布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面に
塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けること
により乾燥を行う乾燥装置において、前記支持体の両端
から外側へ１０ｃｍ以内の距離に支持体と平行となるよ
うに遮風板を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。
【００１４】（９） 前記遮風板の設置位置が塗布後２
０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴と
する（８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴と
する（８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００１５】（１０） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面
に塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けるこ
とにより乾燥を行う乾燥装置において、前記支持体の両
端から外側へ１０ｃｍ以内の距離に該支持体と平行とな
るように開口率が５〜８０％以下の整流板を設けたこと
を特徴とする塗膜の乾燥装置。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面
に塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けるこ
とにより乾燥を行う乾燥装置において、前記支持体の両
端から外側へ１０ｃｍ以内の距離に該支持体と平行とな
るように開口率が５〜８０％以下の整流板を設けたこと
を特徴とする塗膜の乾燥装置。
【００１６】（１１） 前記整流板がパンチ板であるこ
とを特徴とする（１０）項に記載の塗膜の乾燥装置。
とを特徴とする（１０）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００１７】（１２） 前記整流板がスリット板である
ことを特徴とする（１０）項に記載の塗膜の乾燥装置。
ことを特徴とする（１０）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００１８】（１３） 前記整流板がメッシュ板である
ことを特徴とする（１０）項に記載の塗膜の乾燥装置。
ことを特徴とする（１０）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００１９】（１４） 前記メッシュ板のメッシュが５
０番手より細かいことを特徴とする（１３）項に記載の
塗膜の乾燥装置。
０番手より細かいことを特徴とする（１３）項に記載の
塗膜の乾燥装置。
【００２０】（１５） 前記整流板の設置位置が塗布後
２０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴
とする（１０）〜（１４）項の何れか１項に記載の塗膜
の乾燥装置。
２０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴
とする（１０）〜（１４）項の何れか１項に記載の塗膜
の乾燥装置。
【００２１】（１６） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面
に塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けるこ
とにより乾燥を行う乾燥装置において、支持体の両端か
ら外側へ１０ｃｍ以内の距離に支持体と平行となるよう
に吸気口を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面
に塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けるこ
とにより乾燥を行う乾燥装置において、支持体の両端か
ら外側へ１０ｃｍ以内の距離に支持体と平行となるよう
に吸気口を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。
【００２２】（１７） 前記吸気口の設置位置が塗布後
２０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴
とする（１６）項に記載の塗膜の乾燥装置。
２０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴
とする（１６）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００２３】（１８） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面
に塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けるこ
とにより乾燥を行う乾燥装置において、乾燥風の吹き出
し口と支持体の間に吹き出し口から１０ｃｍ以上の位置
へ支持体と対向するように開口率が５〜８０％以下の整
流板を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面
に塗布した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けるこ
とにより乾燥を行う乾燥装置において、乾燥風の吹き出
し口と支持体の間に吹き出し口から１０ｃｍ以上の位置
へ支持体と対向するように開口率が５〜８０％以下の整
流板を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。
【００２４】（１９） 前記整流板がパンチ板であるこ
とを特徴とする（１８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
とを特徴とする（１８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００２５】（２０） 前記整流板がスリット板である
ことを特徴とする（１８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
ことを特徴とする（１８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００２６】（２１） 前記整流板がメッシュ板である
ことを特徴とする（１８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
ことを特徴とする（１８）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００２７】（２２） 前記メッシュ板のメッシュが５
０番手より細かいことを特徴とする（２１）項に記載の
塗膜の乾燥装置。
０番手より細かいことを特徴とする（２１）項に記載の
塗膜の乾燥装置。
【００２８】（２３） 前記整流板の設置位置が塗布後
２０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴
とする（１８）〜（２２）項の何れか１項に記載の塗膜
の乾燥装置。
２０秒以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴
とする（１８）〜（２２）項の何れか１項に記載の塗膜
の乾燥装置。
【００２９】（２４） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥工程で、該乾燥工程の機内圧が塗
布室の気圧より低いことを特徴とする塗膜の乾燥方法。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥工程で、該乾燥工程の機内圧が塗
布室の気圧より低いことを特徴とする塗膜の乾燥方法。
【００３０】（２５） 前記乾燥工程の機内圧と前記塗
布室の気圧の差が１０ｍｍＨ2Ｏ以下とすることを特徴
とする（２４）項に記載の塗膜の乾燥方法。
布室の気圧の差が１０ｍｍＨ2Ｏ以下とすることを特徴
とする（２４）項に記載の塗膜の乾燥方法。
【００３１】（２６） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥工程で、外部より乾燥工程に供給
する風量より乾燥工程より外部へ排出する排気風量の方
が多いことを特徴とする塗膜の乾燥方法。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥工程で、外部より乾燥工程に供給
する風量より乾燥工程より外部へ排出する排気風量の方
が多いことを特徴とする塗膜の乾燥方法。
【００３２】（２７） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥工程で、複数の乾燥工程を有し、
塗布工程に最も近い第１の乾燥工程の機内圧をＰ１、第
１の乾燥工程に続く第２の乾燥工程の機内圧がＰ２であ
るときＰ１−Ｐ２が−１０ｍｍＨ2Ｏ以上２０ｍｍＨ2Ｏ
以下とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥工程で、複数の乾燥工程を有し、
塗布工程に最も近い第１の乾燥工程の機内圧をＰ１、第
１の乾燥工程に続く第２の乾燥工程の機内圧がＰ２であ
るときＰ１−Ｐ２が−１０ｍｍＨ2Ｏ以上２０ｍｍＨ2Ｏ
以下とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
【００３３】（２８） 塗布後第１の乾燥工程を通過す
るまでに要する時間が５秒以上とすることを特徴とする
（２７）項に記載の塗膜の乾燥方法。
るまでに要する時間が５秒以上とすることを特徴とする
（２７）項に記載の塗膜の乾燥方法。
【００３４】（２９） ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥装置が、複数の乾燥工程を有し、
塗布工程に最も近い第１の乾燥工程と第１の乾燥工程に
続く第２の乾燥工程の間に塗布面と対向して吸気口を設
けることを特徴とする塗膜の乾燥装置。
において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の
塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布し
た塗膜を乾燥する乾燥装置が、複数の乾燥工程を有し、
塗布工程に最も近い第１の乾燥工程と第１の乾燥工程に
続く第２の乾燥工程の間に塗布面と対向して吸気口を設
けることを特徴とする塗膜の乾燥装置。
【００３５】（３０） 塗布後前記第１の乾燥工程を通
過するまでに要する時間が５秒以上とすることを特徴と
する（２９）項に記載の塗膜の乾燥装置。
過するまでに要する時間が５秒以上とすることを特徴と
する（２９）項に記載の塗膜の乾燥装置。
【００３６】乾燥工程で乾燥促進のために塗布面へ吹き
付ける空気の流れにより生じる吹かれムラは、低粘度で
厚膜の塗膜で顕著に発生する。本発明で問題としている
のは実質的に使用されることが多い２５℃で剪断速度が
０．１ｓ-1において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐ
ａｓ以下の塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で塗布し
たものを乾燥させる場合である。
付ける空気の流れにより生じる吹かれムラは、低粘度で
厚膜の塗膜で顕著に発生する。本発明で問題としている
のは実質的に使用されることが多い２５℃で剪断速度が
０．１ｓ-1において粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐ
ａｓ以下の塗布液をウエット膜厚５０μｍ以上で塗布し
たものを乾燥させる場合である。
【００３７】塗布後の塗膜は乾燥が進行するに伴って塗
膜中の溶媒量が減少することにより増粘し、吹かれムラ
にも強くなる。従って塗布直後から吹かれムラが起こり
にくくなるまでの期間の風速を制御することが有効であ
る。本件の第１の発明は塗膜の流動性の高い塗布後２０
秒までの期間の塗布面に当たる風速を制御するもので
０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とする方法であ
る。塗布面に当たる風速は好ましくは０．１〜５ｍ／秒
とすることであり、さらに好ましくは０．１〜１ｍ／秒
とすることである。風速が１０ｍ／秒を越えると吹かれ
ムラが顕著となり、０．１ｍ／秒より小さくなると乾燥
速度が著しく遅くなってしまう。
膜中の溶媒量が減少することにより増粘し、吹かれムラ
にも強くなる。従って塗布直後から吹かれムラが起こり
にくくなるまでの期間の風速を制御することが有効であ
る。本件の第１の発明は塗膜の流動性の高い塗布後２０
秒までの期間の塗布面に当たる風速を制御するもので
０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とする方法であ
る。塗布面に当たる風速は好ましくは０．１〜５ｍ／秒
とすることであり、さらに好ましくは０．１〜１ｍ／秒
とすることである。風速が１０ｍ／秒を越えると吹かれ
ムラが顕著となり、０．１ｍ／秒より小さくなると乾燥
速度が著しく遅くなってしまう。
【００３８】問題を解決するための第２の手段は、より
高い流動性を有する塗布後１０秒までは風速を０．１〜
５ｍ／秒とし、１０秒から２０秒までは風速を０．１〜
１０ｍ／秒となるよう２段階に乾燥風の風速を変える方
法である。好ましくは塗布後１０秒までは風速を０．１
〜２ｍ／秒とし、１０秒から２０秒までは風速を０．１
〜５ｍ／秒とすることであり、さらに好ましくは塗布後
１０秒までは風速を０．１〜０．５ｍ／秒とし、１０秒
から２０秒までは風速を０．１〜１ｍ／秒とすることで
ある。
高い流動性を有する塗布後１０秒までは風速を０．１〜
５ｍ／秒とし、１０秒から２０秒までは風速を０．１〜
１０ｍ／秒となるよう２段階に乾燥風の風速を変える方
法である。好ましくは塗布後１０秒までは風速を０．１
〜２ｍ／秒とし、１０秒から２０秒までは風速を０．１
〜５ｍ／秒とすることであり、さらに好ましくは塗布後
１０秒までは風速を０．１〜０．５ｍ／秒とし、１０秒
から２０秒までは風速を０．１〜１ｍ／秒とすることで
ある。
【００３９】第２の発明では第１の発明に比べて乾燥速
度は遅くなるため生産に要する時間は長くなる。この欠
点を改善するために塗布後１０秒までの期間に塗布面に
空気を吹き付ける加熱手段を用いることなく乾燥を促進
させる加熱手段を付加したのが第３から第７の発明であ
る。
度は遅くなるため生産に要する時間は長くなる。この欠
点を改善するために塗布後１０秒までの期間に塗布面に
空気を吹き付ける加熱手段を用いることなく乾燥を促進
させる加熱手段を付加したのが第３から第７の発明であ
る。
【００４０】第３の発明は塗布後１０秒までの期間に赤
外線による加熱方法を用いることにより乾燥を促進させ
たものである。
外線による加熱方法を用いることにより乾燥を促進させ
たものである。
【００４１】赤外線の波長領域としては０．７６μｍ〜
１ｍｍまでであるが、赤外線で物を加熱する場合、受熱
体の原子間運動を助長するエネルギー波長域、すなわち
赤外活性基準の領域の放射を用いると効率の良い加熱が
できる。受熱体の分子構造によりエネルギー線照射によ
る振動は固有の振動数を持つため最適な赤外線周波数の
選定は個々に異なるが、液体を効率よく乾燥できる波長
領域は１〜３０μｍの波長の赤外線を放出し、２〜７μ
ｍの赤外線を最も多く発生する遠赤外線ランプが塗膜乾
燥に用いるには最適である。
１ｍｍまでであるが、赤外線で物を加熱する場合、受熱
体の原子間運動を助長するエネルギー波長域、すなわち
赤外活性基準の領域の放射を用いると効率の良い加熱が
できる。受熱体の分子構造によりエネルギー線照射によ
る振動は固有の振動数を持つため最適な赤外線周波数の
選定は個々に異なるが、液体を効率よく乾燥できる波長
領域は１〜３０μｍの波長の赤外線を放出し、２〜７μ
ｍの赤外線を最も多く発生する遠赤外線ランプが塗膜乾
燥に用いるには最適である。
【００４２】図３の乾燥装置の模式図に示すように、塗
布後１０秒までの期間は、第１の乾燥工程２１Ａの遠赤
外線ランプ２５による加熱乾燥を行い、１０〜２０秒の
期間は、第２の乾燥工程２１Ｂにより塗布面に到達する
乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒となるように乾燥す
ることにより吹かれムラを生じることなく、乾燥速度を
短くすることができる。
布後１０秒までの期間は、第１の乾燥工程２１Ａの遠赤
外線ランプ２５による加熱乾燥を行い、１０〜２０秒の
期間は、第２の乾燥工程２１Ｂにより塗布面に到達する
乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒となるように乾燥す
ることにより吹かれムラを生じることなく、乾燥速度を
短くすることができる。
【００４３】同じく図３に示すように、第４の発明は塗
布後１０秒までの期間に第１の乾燥工程２１Ａのマイク
ロウェーブ照射レフランプ２６による加熱方法を用いる
ことにより乾燥を促進させたものである。
布後１０秒までの期間に第１の乾燥工程２１Ａのマイク
ロウェーブ照射レフランプ２６による加熱方法を用いる
ことにより乾燥を促進させたものである。
【００４４】マイクロウェーブによる乾燥を行う場合も
赤外線による乾燥と同様に受熱体の固有振動数に合わせ
た波長のマイクロウェーブ波を照射することが効率的で
ある。
赤外線による乾燥と同様に受熱体の固有振動数に合わせ
た波長のマイクロウェーブ波を照射することが効率的で
ある。
【００４５】塗布後１０秒までの期間はマイクロウェー
ブによる乾燥を行い、１０〜２０秒の期間は第２の乾燥
工程における塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜
１０ｍ／秒となるように乾燥することにより吹かれムラ
を生じることなく、乾燥速度を短くすることができる。
ブによる乾燥を行い、１０〜２０秒の期間は第２の乾燥
工程における塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜
１０ｍ／秒となるように乾燥することにより吹かれムラ
を生じることなく、乾燥速度を短くすることができる。
【００４６】第５の発明は図４の模式図に示すように、
塗布後１０秒までの期間に非塗布面から加熱することに
より乾燥を促進する方法である。具体的には、第６の発
明のように、供給口２３Ｄから供給される温度を制御し
た空気を非塗布面に吹き付ける加熱手段を用い、更に１
０〜２０秒は、供給口２３Ｂから供給される温度を制御
した空気を塗布面に吹き付ける加熱手段を用いることに
より支持体に熱を加え乾燥を促進させるものである。こ
の場合は吹き付ける空気の風速は０．１〜２０ｍ／秒
に、好ましくは０．１〜１０ｍ／秒に制御される制御手
段が働いて、塗布面への空気の回り込みによる吹かれム
ラが起こらないようにしてある。第７の発明は図５の模
式図に示すように、塗布後１０秒以内は加熱した加熱ロ
ール２７との接触により支持体１２に熱を与える加熱手
段を有するものであり、１０〜２０秒では、供給口２３
Ｂから供給される温度を制御した空気を塗布面へ吹き付
けるようにした加熱手段を有するものである。加熱ロー
ル２７の加熱方法は特に制約は無く、電熱、ロール内部
への温水循環などにより行うことができる。また加熱ロ
ール２７と支持体１２の接触時間を長く取りたいため、
加熱ロール２７を複数本配置することが好ましく、また
加熱ロール２７の表面材質は熱伝導度の高いものが好ま
しい。
塗布後１０秒までの期間に非塗布面から加熱することに
より乾燥を促進する方法である。具体的には、第６の発
明のように、供給口２３Ｄから供給される温度を制御し
た空気を非塗布面に吹き付ける加熱手段を用い、更に１
０〜２０秒は、供給口２３Ｂから供給される温度を制御
した空気を塗布面に吹き付ける加熱手段を用いることに
より支持体に熱を加え乾燥を促進させるものである。こ
の場合は吹き付ける空気の風速は０．１〜２０ｍ／秒
に、好ましくは０．１〜１０ｍ／秒に制御される制御手
段が働いて、塗布面への空気の回り込みによる吹かれム
ラが起こらないようにしてある。第７の発明は図５の模
式図に示すように、塗布後１０秒以内は加熱した加熱ロ
ール２７との接触により支持体１２に熱を与える加熱手
段を有するものであり、１０〜２０秒では、供給口２３
Ｂから供給される温度を制御した空気を塗布面へ吹き付
けるようにした加熱手段を有するものである。加熱ロー
ル２７の加熱方法は特に制約は無く、電熱、ロール内部
への温水循環などにより行うことができる。また加熱ロ
ール２７と支持体１２の接触時間を長く取りたいため、
加熱ロール２７を複数本配置することが好ましく、また
加熱ロール２７の表面材質は熱伝導度の高いものが好ま
しい。
【００４７】第３から第７の発明では第２の発明にある
ように塗布後１０秒までの期間に風速５ｍ／秒以下で塗
布面に空気を吹き付ける手段を併用しても良い。
ように塗布後１０秒までの期間に風速５ｍ／秒以下で塗
布面に空気を吹き付ける手段を併用しても良い。
【００４８】塗膜面を乱し、吹かれムラを発生させる空
気の流れは塗膜乾燥のために吹き付ける乾燥風の他に、
乾燥装置２０全体の空調を制御するために行う吸排気に
より発生する外乱風が挙げられる。乾燥装置２０は乾燥
により機中に放出された溶媒蒸気を機外へ放出するため
の排気口と機内温度、溶媒蒸気量を一定に保つための塗
膜に吹き付けるために供給する乾燥風の吹きだし口２８
に対し供給口２３Ｂを持つ。これらの配置は塗膜の乱れ
に影響を与えないように支持体１２の搬送方向のより下
流側に配置するなどの工夫が成されるが、外乱風を完全
に取り除くことはできない。外乱風は支持体両端から回
り込み塗膜を乱すことから、支持体１２の両端の外側に
図６、図７の模式図及びそのＡ−Ａ視図に示すように、
遮風板３１を設けたのが第８の発明である。遮風板の位
置は支持体１２の端部から１０ｃｍ以内にあることによ
りその効果が現れる。１０ｃｍより遠いと遮風板３１と
支持体１２の間に外乱風が回り込み始め、塗膜の乱れが
発生し始める。遮風板３１を取り付ける範囲は塗膜の流
動性がまだ高い塗布後２０秒間に支持体が通過する範囲
とすることが好ましく、これが第９の発明である。
気の流れは塗膜乾燥のために吹き付ける乾燥風の他に、
乾燥装置２０全体の空調を制御するために行う吸排気に
より発生する外乱風が挙げられる。乾燥装置２０は乾燥
により機中に放出された溶媒蒸気を機外へ放出するため
の排気口と機内温度、溶媒蒸気量を一定に保つための塗
膜に吹き付けるために供給する乾燥風の吹きだし口２８
に対し供給口２３Ｂを持つ。これらの配置は塗膜の乱れ
に影響を与えないように支持体１２の搬送方向のより下
流側に配置するなどの工夫が成されるが、外乱風を完全
に取り除くことはできない。外乱風は支持体両端から回
り込み塗膜を乱すことから、支持体１２の両端の外側に
図６、図７の模式図及びそのＡ−Ａ視図に示すように、
遮風板３１を設けたのが第８の発明である。遮風板の位
置は支持体１２の端部から１０ｃｍ以内にあることによ
りその効果が現れる。１０ｃｍより遠いと遮風板３１と
支持体１２の間に外乱風が回り込み始め、塗膜の乱れが
発生し始める。遮風板３１を取り付ける範囲は塗膜の流
動性がまだ高い塗布後２０秒間に支持体が通過する範囲
とすることが好ましく、これが第９の発明である。
【００４９】遮風板３１はその大きさにより塗布面乾燥
のために吹き付けられた空気を支持体表面からうまく除
去できない場合がある。第１０の発明は遮風板３１を開
口率５％以上８０％以下の整流板３２としたもので、支
持体１２の端部方向からの外乱風を支持体１２の塗布面
に到達させないことと、塗布面乾燥のために吹き付けら
れた空気を支持体１２の表面から除去する流路を与える
ことができる。開口率は２０％以上６０％以下がより好
ましい。
のために吹き付けられた空気を支持体表面からうまく除
去できない場合がある。第１０の発明は遮風板３１を開
口率５％以上８０％以下の整流板３２としたもので、支
持体１２の端部方向からの外乱風を支持体１２の塗布面
に到達させないことと、塗布面乾燥のために吹き付けら
れた空気を支持体１２の表面から除去する流路を与える
ことができる。開口率は２０％以上６０％以下がより好
ましい。
【００５０】整流板３２としてはパンチ板を用いたもの
が第１１の発明である。最適なパンチ板の穴径は乾燥風
の条件によって異なるが、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下とす
ることが好ましく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とすること
が更に好ましい。２０ｍｍより上の穴径のパンチ板を使
用すると穴部分と穴の無い部分の空気の流れの差により
塗膜面に吹かれムラを生じることがある。整流板３２の
別の形態としてスリット板を使用したものが第１２の発
明である。最適なスリット板のスリット間隙は乾燥風の
条件によって異なるが、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下とする
ことが好ましく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることが更
に好ましい。２０ｍｍより上のスリット間隙のスリット
板を使用するとスリット部分とスリットのない部分の空
気の流れの差により塗膜面に吹かれムラを生じることが
ある。整流板３２の更に別の形態としては第１３の発明
としてメッシュ板を用いることができる。最適なメッシ
ュの目の大きさは乾燥風の条件によって異なるが、第１
４の発明として５０メッシュより細かくすることが望ま
しく、好ましくは１００メッシュより細かくすることが
好ましい。５０メッシュより粗いメッシュ板を使用する
と塗膜面に吹かれムラを生じることがある。
が第１１の発明である。最適なパンチ板の穴径は乾燥風
の条件によって異なるが、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下とす
ることが好ましく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とすること
が更に好ましい。２０ｍｍより上の穴径のパンチ板を使
用すると穴部分と穴の無い部分の空気の流れの差により
塗膜面に吹かれムラを生じることがある。整流板３２の
別の形態としてスリット板を使用したものが第１２の発
明である。最適なスリット板のスリット間隙は乾燥風の
条件によって異なるが、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下とする
ことが好ましく、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることが更
に好ましい。２０ｍｍより上のスリット間隙のスリット
板を使用するとスリット部分とスリットのない部分の空
気の流れの差により塗膜面に吹かれムラを生じることが
ある。整流板３２の更に別の形態としては第１３の発明
としてメッシュ板を用いることができる。最適なメッシ
ュの目の大きさは乾燥風の条件によって異なるが、第１
４の発明として５０メッシュより細かくすることが望ま
しく、好ましくは１００メッシュより細かくすることが
好ましい。５０メッシュより粗いメッシュ板を使用する
と塗膜面に吹かれムラを生じることがある。
【００５１】第１６の発明は遮風板３１を吸気口３３と
したものである。吸気口３３は外乱風が塗膜面に達する
のを防止すると共に、塗布面乾燥のために吹き付けられ
た空気を支持体表面から効率よく、空気の乱れを起こさ
せることなく除去することができる。吸気口の取付位置
は遮風板と同様支持体の端部から１０ｃｍ以内にあるこ
とが好ましく、取り付ける範囲は、第１５及び第１７の
発明として塗膜の流動性がまだ高い塗布後２０秒間に支
持体が通過する範囲とすることが好ましく、これが第１
５及び第１７の発明である。
したものである。吸気口３３は外乱風が塗膜面に達する
のを防止すると共に、塗布面乾燥のために吹き付けられ
た空気を支持体表面から効率よく、空気の乱れを起こさ
せることなく除去することができる。吸気口の取付位置
は遮風板と同様支持体の端部から１０ｃｍ以内にあるこ
とが好ましく、取り付ける範囲は、第１５及び第１７の
発明として塗膜の流動性がまだ高い塗布後２０秒間に支
持体が通過する範囲とすることが好ましく、これが第１
５及び第１７の発明である。
【００５２】塗布面乾燥のために塗膜面に吹き付けられ
る空気をより均一で塗膜を乱れさせない流れに変えるた
めに、図８の模式図及びそのＢ−Ｂ視図である図９に示
すように、乾燥風の吹き出し口と被乾燥面である支持体
の間に、吹き出し口２８から１０ｃｍ以上の取付位置に
開口率５％以上８０％以下の整流板３２Ｈを設けたのが
第１８の発明である。乾燥風の供給口２３から供給され
吹き出し口２８から出た空気の流れは塗膜面に到達する
までに減衰してゆくが、吹き出し直後の比較的風速の速
い空気を整流板３２Ｈに通過させると乱れを生じ、かえ
って塗膜を乱してしまうことがある。整流板の取付位置
が吹き出し口２８から１０ｃｍ以上であれば吹き出し口
２８から出た空気の流速は比較的遅くなっており乱れを
生じさせることなく空気の流れを均一化することができ
る。
る空気をより均一で塗膜を乱れさせない流れに変えるた
めに、図８の模式図及びそのＢ−Ｂ視図である図９に示
すように、乾燥風の吹き出し口と被乾燥面である支持体
の間に、吹き出し口２８から１０ｃｍ以上の取付位置に
開口率５％以上８０％以下の整流板３２Ｈを設けたのが
第１８の発明である。乾燥風の供給口２３から供給され
吹き出し口２８から出た空気の流れは塗膜面に到達する
までに減衰してゆくが、吹き出し直後の比較的風速の速
い空気を整流板３２Ｈに通過させると乱れを生じ、かえ
って塗膜を乱してしまうことがある。整流板の取付位置
が吹き出し口２８から１０ｃｍ以上であれば吹き出し口
２８から出た空気の流速は比較的遅くなっており乱れを
生じさせることなく空気の流れを均一化することができ
る。
【００５３】整流板３２Ｈとしては第１９の発明として
パンチ板を用いることができる。最適なパンチ板の穴径
は乾燥風の条件によって異なるが、１ｍｍ以上２０ｍｍ
以下とすることが好ましく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下と
することが更に好ましい。２０ｍｍより上の穴径のパン
チ板を使用すると穴部分と穴の無い部分の空気の流れの
差により塗膜面に吹かれムラを生じることがある。整流
板３２Ｈの別の形態としては第２０の発明としてスリッ
ト板を使用することができる。最適なスリット板のスリ
ット間隙は乾燥風の条件によって異なるが、１ｍｍ以上
２０ｍｍ以下とすることが好ましく、１ｍｍ以上５ｍｍ
以下とすることが更に好ましい。２０ｍｍより上のスリ
ット間隙のスリット板を使用するとスリット部分とスリ
ットのない部分の空気の流れの差により塗膜面に吹かれ
ムラを生じることがある。整流板３２Ｈの更に別の形態
としては第２１の発明としてメッシュ板を用いることが
できる。最適なメッシュの目の大きさは乾燥風の条件に
よって異なるが、第２２の発明として５０メッシュより
細かくすることが望ましく、好ましくは１００メッシュ
より細かくすることが好ましい。５０メッシュより粗い
メッシュ板を使用すると塗膜面に吹かれムラを生じるこ
とがある。
パンチ板を用いることができる。最適なパンチ板の穴径
は乾燥風の条件によって異なるが、１ｍｍ以上２０ｍｍ
以下とすることが好ましく、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下と
することが更に好ましい。２０ｍｍより上の穴径のパン
チ板を使用すると穴部分と穴の無い部分の空気の流れの
差により塗膜面に吹かれムラを生じることがある。整流
板３２Ｈの別の形態としては第２０の発明としてスリッ
ト板を使用することができる。最適なスリット板のスリ
ット間隙は乾燥風の条件によって異なるが、１ｍｍ以上
２０ｍｍ以下とすることが好ましく、１ｍｍ以上５ｍｍ
以下とすることが更に好ましい。２０ｍｍより上のスリ
ット間隙のスリット板を使用するとスリット部分とスリ
ットのない部分の空気の流れの差により塗膜面に吹かれ
ムラを生じることがある。整流板３２Ｈの更に別の形態
としては第２１の発明としてメッシュ板を用いることが
できる。最適なメッシュの目の大きさは乾燥風の条件に
よって異なるが、第２２の発明として５０メッシュより
細かくすることが望ましく、好ましくは１００メッシュ
より細かくすることが好ましい。５０メッシュより粗い
メッシュ板を使用すると塗膜面に吹かれムラを生じるこ
とがある。
【００５４】整流板を取り付ける範囲は、第２３の発明
として塗膜の流動性がまだ高い塗布後２０秒間に支持体
が通過する範囲とすることが好ましい。
として塗膜の流動性がまだ高い塗布後２０秒間に支持体
が通過する範囲とすることが好ましい。
【００５５】乾燥装置２０は通常内部温度や空気の流れ
を一定とするため支持体が通過できる間隙を残してボッ
クス状に覆われており、ボックス内への空気の供給、排
気により内部圧力は外部とは異なる。このため塗布後乾
燥装置２０に入る支持体１２が通過する間隙部分では乾
燥ボックス２１内の機内圧とコータ１１が設置されてい
る塗布室の気圧との差圧により空気の流れを生じる。機
内圧が塗布室の気圧より高いと乾燥工程内の高温の空気
が支持体が通過する間隙部分から未乾燥の塗布面に沿っ
て流れるため吹かれムラを生じる。機内圧が塗布室の気
圧より低いと塗布室内の室温の空気が乾燥工程に流れ込
むことになるが乾燥装置２０内は空気の流れを制御して
いるため比較的吹かれムラを発生しにくい。第２４の発
明は乾燥工程の機内圧が塗布室の気圧より低くすること
で、塗布室内の空気が乾燥工程２０の乾燥ボックス２１
内に流れ込むようにした塗布方法である。塗布室内の空
気が乾燥装置２０に流れ込む場合でも差圧が大きすぎる
と塗膜面を乱す要因となりうる。第２５の発明として乾
燥装置２０の機内圧と塗布室の気圧の差は１０ｍｍＨ2
Ｏ以下とすることが好ましく、さらに好ましくは５ｍｍ
Ｈ2Ｏ以下とすることが好ましく、さらに好ましくは１
ｍｍＨ2Ｏ以下とすることが好ましい。
を一定とするため支持体が通過できる間隙を残してボッ
クス状に覆われており、ボックス内への空気の供給、排
気により内部圧力は外部とは異なる。このため塗布後乾
燥装置２０に入る支持体１２が通過する間隙部分では乾
燥ボックス２１内の機内圧とコータ１１が設置されてい
る塗布室の気圧との差圧により空気の流れを生じる。機
内圧が塗布室の気圧より高いと乾燥工程内の高温の空気
が支持体が通過する間隙部分から未乾燥の塗布面に沿っ
て流れるため吹かれムラを生じる。機内圧が塗布室の気
圧より低いと塗布室内の室温の空気が乾燥工程に流れ込
むことになるが乾燥装置２０内は空気の流れを制御して
いるため比較的吹かれムラを発生しにくい。第２４の発
明は乾燥工程の機内圧が塗布室の気圧より低くすること
で、塗布室内の空気が乾燥工程２０の乾燥ボックス２１
内に流れ込むようにした塗布方法である。塗布室内の空
気が乾燥装置２０に流れ込む場合でも差圧が大きすぎる
と塗膜面を乱す要因となりうる。第２５の発明として乾
燥装置２０の機内圧と塗布室の気圧の差は１０ｍｍＨ2
Ｏ以下とすることが好ましく、さらに好ましくは５ｍｍ
Ｈ2Ｏ以下とすることが好ましく、さらに好ましくは１
ｍｍＨ2Ｏ以下とすることが好ましい。
【００５６】第２６の発明として乾燥装置２０の機内圧
が塗布室の気圧より低くするには塗布室が一般的に大気
圧であることから乾燥工程内を負圧にすれば良く、具体
的には外部より乾燥工程に供給する風量より乾燥工程よ
り外部へ排出する排気風量の方を多くすることにより達
成できる。
が塗布室の気圧より低くするには塗布室が一般的に大気
圧であることから乾燥工程内を負圧にすれば良く、具体
的には外部より乾燥工程に供給する風量より乾燥工程よ
り外部へ排出する排気風量の方を多くすることにより達
成できる。
【００５７】乾燥風の吹きだし速度などの乾燥条件を順
次変更して行く場合異なる乾燥条件の境界で乾燥工程を
複数個所に分離する場合がある。この場合各工程の境界
は支持体が通過できる間隙を残して壁面により遮断され
ることが多い。この間隙には各工程の内部圧力の差によ
り支持体に沿う方向に空気の流れが生じる。塗膜面が十
分に乾燥していない状態ではこの流れが塗膜面を乱し、
吹かれムラとなる。第２７の発明は、塗布工程に最も近
い第１の乾燥工程２１Ａの機内圧をＰ１、第１の乾燥工
程に続く第２の乾燥工程２１Ｂの機内圧がＰ２であると
きＰ１−Ｐ２が−１０ｍｍＨ2Ｏ以上２０ｍｍＨ2Ｏ以下
とすることによりこの問題を解決するものである。支持
体１２は第１の乾燥工程２１Ａから第２の乾燥工程２１
Ｂへと搬送されるため、空気の流れも第１の乾燥工程２
１Ａから第２の乾燥工程２１Ｂへと流れる方が、すなわ
ちＰ１の方がＰ２より大きい方が支持体との相対速度は
小さくなる。Ｐ１−Ｐ２は−５ｍｍＨ2Ｏ以上１０ｍｍ
Ｈ2Ｏ以下であることが好ましく、−２ｍｍＨ2Ｏ以上５
ｍｍＨ2Ｏ以下であることがさらに好ましい。また、第
２８の発明は、第１の乾燥工程２１Ａで乾燥がある程度
進行し、塗膜面の流動が抑えられた状態で、各乾燥工程
の境界を通過することが望ましいことから第１の乾燥工
程２１Ａの通過には５秒以上の時間を要することが好ま
しい。
次変更して行く場合異なる乾燥条件の境界で乾燥工程を
複数個所に分離する場合がある。この場合各工程の境界
は支持体が通過できる間隙を残して壁面により遮断され
ることが多い。この間隙には各工程の内部圧力の差によ
り支持体に沿う方向に空気の流れが生じる。塗膜面が十
分に乾燥していない状態ではこの流れが塗膜面を乱し、
吹かれムラとなる。第２７の発明は、塗布工程に最も近
い第１の乾燥工程２１Ａの機内圧をＰ１、第１の乾燥工
程に続く第２の乾燥工程２１Ｂの機内圧がＰ２であると
きＰ１−Ｐ２が−１０ｍｍＨ2Ｏ以上２０ｍｍＨ2Ｏ以下
とすることによりこの問題を解決するものである。支持
体１２は第１の乾燥工程２１Ａから第２の乾燥工程２１
Ｂへと搬送されるため、空気の流れも第１の乾燥工程２
１Ａから第２の乾燥工程２１Ｂへと流れる方が、すなわ
ちＰ１の方がＰ２より大きい方が支持体との相対速度は
小さくなる。Ｐ１−Ｐ２は−５ｍｍＨ2Ｏ以上１０ｍｍ
Ｈ2Ｏ以下であることが好ましく、−２ｍｍＨ2Ｏ以上５
ｍｍＨ2Ｏ以下であることがさらに好ましい。また、第
２８の発明は、第１の乾燥工程２１Ａで乾燥がある程度
進行し、塗膜面の流動が抑えられた状態で、各乾燥工程
の境界を通過することが望ましいことから第１の乾燥工
程２１Ａの通過には５秒以上の時間を要することが好ま
しい。
【００５８】図１０の模式図に示すように第１，第２の
各乾燥工程２１Ａ，２１Ｂの境界を通過する空気の流れ
を除去することは境界部分に不要な流れを吸引する吸気
口２９を設けることで達成でき、これが第２９の発明で
ある。吸引による新たな空気の流れにより塗膜面を乱さ
ない様にするためには第１の乾燥工程２１Ａの通過には
５秒以上の時間を要することが好ましい。これが第３０
の発明である。
各乾燥工程２１Ａ，２１Ｂの境界を通過する空気の流れ
を除去することは境界部分に不要な流れを吸引する吸気
口２９を設けることで達成でき、これが第２９の発明で
ある。吸引による新たな空気の流れにより塗膜面を乱さ
ない様にするためには第１の乾燥工程２１Ａの通過には
５秒以上の時間を要することが好ましい。これが第３０
の発明である。
【００５９】
【実施例】＜塗布条件＞メチルエチルケトンに、固形分
濃度２５ｗｔ％で高分子バインダーを溶解させ粘度１５
０ｍＰａｓの塗布液を得た。この塗布液をダイコーター
により１００μｍＰＥＴの支持体上にウエット膜厚７０
μｍとなるよう塗布速度５０ｍ／ｍｉｎで均一に塗工し
た。
濃度２５ｗｔ％で高分子バインダーを溶解させ粘度１５
０ｍＰａｓの塗布液を得た。この塗布液をダイコーター
により１００μｍＰＥＴの支持体上にウエット膜厚７０
μｍとなるよう塗布速度５０ｍ／ｍｉｎで均一に塗工し
た。
【００６０】＜テスト１＞この支持体を下表の各乾燥条
件にて乾燥を行い吹かれムラの発生状況を目視により観
察評価した。風速は支持体上での風速を熱線風速計にて
測定した値である。乾燥風の温度はいずれも８０℃とし
た。
件にて乾燥を行い吹かれムラの発生状況を目視により観
察評価した。風速は支持体上での風速を熱線風速計にて
測定した値である。乾燥風の温度はいずれも８０℃とし
た。
【００６１】実施例３の遠赤外線による乾燥では図３の
乾燥装置の模式図に示すように加熱手段として１ｋＷの
遠赤外線ランプ２５を４本並べ支持体との距離を２００
ｍｍとした。
乾燥装置の模式図に示すように加熱手段として１ｋＷの
遠赤外線ランプ２５を４本並べ支持体との距離を２００
ｍｍとした。
【００６２】実施例４のマイクロウェーブの照射装置に
よる乾燥では、やはり図３に示すように加熱手段として
マイクロウェーブ照射レフランプ２６を４基、支持体１
２との距離２００ｍｍに配置した。
よる乾燥では、やはり図３に示すように加熱手段として
マイクロウェーブ照射レフランプ２６を４基、支持体１
２との距離２００ｍｍに配置した。
【００６３】実施例６は図５の模式図に示すように温水
を通じて８０℃に加熱した金属製の加熱ロール２７を４
本を加熱手段として支持体１２の裏面に接触させた。
を通じて８０℃に加熱した金属製の加熱ロール２７を４
本を加熱手段として支持体１２の裏面に接触させた。
【００６４】乾燥後の残留溶媒量は乾燥進行度合いを確
認するために行ったもので、作成した試料中に残留する
メチルエチルケトンをガスクロマトグラフィーにより分
析した値である。
認するために行ったもので、作成した試料中に残留する
メチルエチルケトンをガスクロマトグラフィーにより分
析した値である。
【００６５】尚、本明細書における、吹かれムラ評価は
１０段階評価で１が最悪で数字が増えるにつれて次第に
良くなり１０が最良になるようにした。
１０段階評価で１が最悪で数字が増えるにつれて次第に
良くなり１０が最良になるようにした。
【００６６】結果を表１に示す。
【００６７】
【表１】
【００６８】図１の乾燥装置２０の模式図に示すよう
に、比較例１の様に乾燥風速を高くすると塗膜面に吹か
れムラを生じる。図２の乾燥装置２０の模式図に示すよ
うに、該装置を用い実施例１の様に塗布後２０秒以内に
塗布面に到達する乾燥風の風速を制御することにより塗
膜面の吹かれムラは大幅に改善される。更に実施例２の
様に供給口２３Ａより熱風を取り入れ塗布後１０秒以内
に塗布面に到達する乾燥風の風速を制御手段で制御する
ことにより塗膜面の吹かれムラは更に改善される。図２
の乾燥装置２０を用い、比較例２の様に塗布後１０秒以
内に塗布面に到達する乾燥風の風速を無くしてしまうと
外部からの制御されていない空気の流れが塗布面を乱
し、吹かれムラはかえって悪化した。
に、比較例１の様に乾燥風速を高くすると塗膜面に吹か
れムラを生じる。図２の乾燥装置２０の模式図に示すよ
うに、該装置を用い実施例１の様に塗布後２０秒以内に
塗布面に到達する乾燥風の風速を制御することにより塗
膜面の吹かれムラは大幅に改善される。更に実施例２の
様に供給口２３Ａより熱風を取り入れ塗布後１０秒以内
に塗布面に到達する乾燥風の風速を制御手段で制御する
ことにより塗膜面の吹かれムラは更に改善される。図２
の乾燥装置２０を用い、比較例２の様に塗布後１０秒以
内に塗布面に到達する乾燥風の風速を無くしてしまうと
外部からの制御されていない空気の流れが塗布面を乱
し、吹かれムラはかえって悪化した。
【００６９】実施例３では図３の模式図に示すように塗
布後１０秒以内は遠赤外線照射装置（遠赤外線ランプ）
２５による加熱手段で乾燥させることにより、吹かれム
ラを発生させることなく乾燥を促進させることができ
た。
布後１０秒以内は遠赤外線照射装置（遠赤外線ランプ）
２５による加熱手段で乾燥させることにより、吹かれム
ラを発生させることなく乾燥を促進させることができ
た。
【００７０】実施例４では同じく図３の模式図に示すよ
うに塗布後１０秒以内はマイクロウェーブ照射装置のレ
フランプ２６による加熱手段で乾燥させることにより、
吹かれムラを発生させることなく乾燥を促進させること
ができた。
うに塗布後１０秒以内はマイクロウェーブ照射装置のレ
フランプ２６による加熱手段で乾燥させることにより、
吹かれムラを発生させることなく乾燥を促進させること
ができた。
【００７１】実施例５では図４の模式図に示す乾燥装置
２０を用い、塗布後１０秒以内に支持体裏面に到達する
乾燥風の風速を制御手段で制御することにより、吹かれ
ムラを悪化させることなく乾燥を促進することができ
た。
２０を用い、塗布後１０秒以内に支持体裏面に到達する
乾燥風の風速を制御手段で制御することにより、吹かれ
ムラを悪化させることなく乾燥を促進することができ
た。
【００７２】実施例６では図５の模式図に示す乾燥装置
２０を用い、塗布後１０秒以内は加熱手段として加熱ロ
ール２７を支持体裏面に接触させることで乾燥させるこ
とにより吹かれムラを発生させることなく乾燥を促進さ
せることができた。
２０を用い、塗布後１０秒以内は加熱手段として加熱ロ
ール２７を支持体裏面に接触させることで乾燥させるこ
とにより吹かれムラを発生させることなく乾燥を促進さ
せることができた。
【００７３】＜テスト２＞塗布条件記載の塗布を行い、
実施例７から１１、比較例４〜８では図６，図７の乾燥
装置の模式図のように支持体両端から支持体両端外側へ
支持体と平行に遮風板３１、整流板３２、吸気口３３を
塗布後２０秒の期間に支持体が通過する範囲に取り付け
乾燥を行い、吹かれムラの発生状況を目視により観察評
価した。吸気口３３からの排気量は、支持体乾燥のため
に塗膜面に吹き付ける全風量の５％とし、吸い込み口で
の風速を１ｍ／秒となるようにした。
実施例７から１１、比較例４〜８では図６，図７の乾燥
装置の模式図のように支持体両端から支持体両端外側へ
支持体と平行に遮風板３１、整流板３２、吸気口３３を
塗布後２０秒の期間に支持体が通過する範囲に取り付け
乾燥を行い、吹かれムラの発生状況を目視により観察評
価した。吸気口３３からの排気量は、支持体乾燥のため
に塗膜面に吹き付ける全風量の５％とし、吸い込み口で
の風速を１ｍ／秒となるようにした。
【００７４】また、実施例１２〜１４、比較例９，１０
では図８及び図９の乾燥装置の模式図の様に乾燥風の吹
き出し口２８と支持体１２の間に整流板３２Ｈを取り付
け乾燥を行い、吹かれムラの発生状況を目視により観察
評価した。結果を表２に示す。
では図８及び図９の乾燥装置の模式図の様に乾燥風の吹
き出し口２８と支持体１２の間に整流板３２Ｈを取り付
け乾燥を行い、吹かれムラの発生状況を目視により観察
評価した。結果を表２に示す。
【００７５】尚、整流板３２，３２Ｈの種類を表３に示
す。開口率は全て５０％のものを使用した。
す。開口率は全て５０％のものを使用した。
【００７６】
【表２】
【００７７】
【表３】
【００７８】支持体両端外側に遮風板３１、整流板３
２、吸気口３３を取り付けた実施例７〜１１は図１の模
式図に示すような比較例３に比べて吹かれムラが改善し
た。遮風板３１、整流板３２の取付位置は実施例７，８
の支持体両端から７ｃｍの位置であれば吹かれムラは良
好であったが、比較例４，５の支持体両端から１５ｃｍ
の位置とすると吹かれムラの改善は小さい。整流板３２
の開口の大きさは比較例６〜８で使用したものでは改善
は十分ではない。
２、吸気口３３を取り付けた実施例７〜１１は図１の模
式図に示すような比較例３に比べて吹かれムラが改善し
た。遮風板３１、整流板３２の取付位置は実施例７，８
の支持体両端から７ｃｍの位置であれば吹かれムラは良
好であったが、比較例４，５の支持体両端から１５ｃｍ
の位置とすると吹かれムラの改善は小さい。整流板３２
の開口の大きさは比較例６〜８で使用したものでは改善
は十分ではない。
【００７９】乾燥風吹き出し口２８と支持体１２の間に
整流板３２Ｈを入れた実施例１２から１４では吹かれム
ラの改善が見られたが、比較例９で使用したパンチ板の
穴径の大きな物を使用した場合や、取付位置が実施例１
０の吹き出し口から５ｃｍの位置では吹かれムラ改善の
効果は小さい。
整流板３２Ｈを入れた実施例１２から１４では吹かれム
ラの改善が見られたが、比較例９で使用したパンチ板の
穴径の大きな物を使用した場合や、取付位置が実施例１
０の吹き出し口から５ｃｍの位置では吹かれムラ改善の
効果は小さい。
【００８０】＜テスト３＞塗布条件記載の塗布を行い、
図１の模式図に示すように乾燥装置２０の供給口２３か
ら乾燥ボックス２１内への空気の吸排気量を調整して乾
燥工程の機内圧を変化させ乾燥を行い、吹かれムラの発
生状況を目視により観察評価した。
図１の模式図に示すように乾燥装置２０の供給口２３か
ら乾燥ボックス２１内への空気の吸排気量を調整して乾
燥工程の機内圧を変化させ乾燥を行い、吹かれムラの発
生状況を目視により観察評価した。
【００８１】結果を表４に示す。
【００８２】
【表４】
【００８３】実施例１５では塗布室の気圧を乾燥工程の
機内圧より高くすることで吹かれムラが改善している。
この時乾燥装置２０の乾燥ボックスへの空気の吸排気量
は供給口２３からの供給空気量より排気空気量の方が多
かった。比較例１１では塗布室の気圧が乾燥工程の機内
圧より低い場合には吹かれムラが悪化している。この時
乾燥ボックスへの空気の吸排気量は供給空気量の方が排
気空気量より多かった。比較例１２では塗布室の気圧と
乾燥工程の機内圧の差が２０ｍｍＨ2Ｏと高く、吹かれ
ムラの改善は小さい。
機内圧より高くすることで吹かれムラが改善している。
この時乾燥装置２０の乾燥ボックスへの空気の吸排気量
は供給口２３からの供給空気量より排気空気量の方が多
かった。比較例１１では塗布室の気圧が乾燥工程の機内
圧より低い場合には吹かれムラが悪化している。この時
乾燥ボックスへの空気の吸排気量は供給空気量の方が排
気空気量より多かった。比較例１２では塗布室の気圧と
乾燥工程の機内圧の差が２０ｍｍＨ2Ｏと高く、吹かれ
ムラの改善は小さい。
【００８４】＜テスト４＞塗布条件記載の塗布を行い、
図２，図１０の模式図に示す乾燥装置の様に第１，第２
の乾燥工程２１Ａ，２１Ｂを持つ乾燥装置２０で乾燥を
行い、吹かれムラの発生状況を目視により観察評価し
た。図１０の乾燥装置２０を用いた実施例１７では、吸
気口２９からの排気量は、支持体乾燥のために塗膜面に
吹き付ける全風量の５％とし、吸い込み口での風速を１
ｍ／秒となるようにした。吸気口２９の高さは支持体か
ら１００ｍｍの位置に設置した。また各乾燥工程の機内
圧を測定し、第１の乾燥工程２１Ａの機内圧をＰ１、第
２の乾燥工程２１Ｂの機内圧をＰ２とした。結果を表５
に示す。
図２，図１０の模式図に示す乾燥装置の様に第１，第２
の乾燥工程２１Ａ，２１Ｂを持つ乾燥装置２０で乾燥を
行い、吹かれムラの発生状況を目視により観察評価し
た。図１０の乾燥装置２０を用いた実施例１７では、吸
気口２９からの排気量は、支持体乾燥のために塗膜面に
吹き付ける全風量の５％とし、吸い込み口での風速を１
ｍ／秒となるようにした。吸気口２９の高さは支持体か
ら１００ｍｍの位置に設置した。また各乾燥工程の機内
圧を測定し、第１の乾燥工程２１Ａの機内圧をＰ１、第
２の乾燥工程２１Ｂの機内圧をＰ２とした。結果を表５
に示す。
【００８５】
【表５】
【００８６】実施例１６では吹かれムラは良好である。
比較例１３、１４の様にＰ１−Ｐ２が高すぎても低すぎ
ても吹かれムラは悪化する。また比較例１５の様に第１
の乾燥工程２１Ａの通過時間が短い場合は吹かれムラの
改善は少ない。また、実施例１７ではＰ１−Ｐ２が高く
ても吹かれムラは良好である。また比較例１６の様に第
１の乾燥工程２１Ａの通過時間が短い場合は吹かれムラ
の改善は少ない。
比較例１３、１４の様にＰ１−Ｐ２が高すぎても低すぎ
ても吹かれムラは悪化する。また比較例１５の様に第１
の乾燥工程２１Ａの通過時間が短い場合は吹かれムラの
改善は少ない。また、実施例１７ではＰ１−Ｐ２が高く
ても吹かれムラは良好である。また比較例１６の様に第
１の乾燥工程２１Ａの通過時間が短い場合は吹かれムラ
の改善は少ない。
【００８７】
【発明の効果】本願各請求項の発明により塗布後の乾燥
工程における吹かれムラ等の故障が回避され安定した良
質の塗布乾燥製品が得られるようになった。
工程における吹かれムラ等の故障が回避され安定した良
質の塗布乾燥製品が得られるようになった。
【図１】乾燥ゾーンの区別のない乾燥装置の模式図。
【図２】乾燥ゾーンを支持体の搬送方向に２つに区切っ
た乾燥装置の模式図。
た乾燥装置の模式図。
【図３】２つに区切った上流側の乾燥ゾーンの塗布面側
に赤外線等の照射を行わせる乾燥装置の模式図。
に赤外線等の照射を行わせる乾燥装置の模式図。
【図４】２つに区切った上流側の乾燥ゾーンの塗布の反
対面側に加熱風を吹かせる乾燥装置の模式図。
対面側に加熱風を吹かせる乾燥装置の模式図。
【図５】２つに区切った上流側の乾燥ゾーンの塗布の反
対面側に加熱ロ−ルを取り付けた乾燥装置の模式図。
対面側に加熱ロ−ルを取り付けた乾燥装置の模式図。
【図６】上流側の乾燥ゾーンの支持体搬送面の塗布側両
サイドに整流板等を取り付けた乾燥装置の模式図。
サイドに整流板等を取り付けた乾燥装置の模式図。
【図７】図６のＡ−Ａ視図。
【図８】上流側の乾燥ゾーンの支持体搬送面の塗布面側
に整流板を取り付けた乾燥装置の模式図。
に整流板を取り付けた乾燥装置の模式図。
【図９】図８のＢ−Ｂ視図。
【図１０】乾燥ゾーンを支持体の搬送方向に２つに区切
った境界部に吸気部を設けた乾燥装置の模式図。
った境界部に吸気部を設けた乾燥装置の模式図。
１１ コータ １２ 支持体 １４ 支持ロール ２０ 乾燥装置 ２１ 乾燥ボックス ２１Ａ 第１の乾燥工程 ２１Ｂ 第２の乾燥工程 ２３，２３Ａ，２３Ｂ，２３Ｄ 供給口 ２５ 遠赤外線ランプ ２６ マイクロウェーブ照射レフランプ ２７ 加熱ロール ２８ 乾燥風の吹き出し口 ２９ 吸気口 ３１ 遮風板 ３２，３２Ｈ 整流板 ３３ 吸気口
Claims (30)
- 【請求項１】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥工程で、温度を制御した空気を塗布面へ吹
き付けることにより乾燥を行い、塗布面に到達する乾燥
風の風速が塗布後２０秒以内は０．１〜１０ｍ／秒とす
ることを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項２】 塗布面に到達する乾燥風の風速が塗布後
１０秒以内は０．１〜５ｍ／秒とし、１０秒から２０秒
までは０．１〜１０ｍ／秒とすることを特徴とする請求
項１に記載の塗膜の乾燥方法。 - 【請求項３】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内は赤外線による
加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは温度を
制御した空気を塗布面へ吹き付けることにより乾燥を行
い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／
秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項４】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内はマイクロウェ
ーブによる加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒ま
では温度を制御した空気を塗布面へ吹き付けることによ
り乾燥を行い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１
〜１０ｍ／秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項５】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥工程で、塗布後１０秒以内は非塗布面への
加熱により乾燥を行い、１０秒から２０秒までは温度を
制御した空気を塗布面へ吹き付けることにより乾燥を行
い、塗布面に到達する乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／
秒とすることを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項６】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥装置で、塗布後１０秒以内は非塗布面へ温
度を制御した空気を吹き付ける加熱手段を有し、１０秒
から２０秒までは温度を制御した空気を塗布面へ吹き付
けるようにした加熱手段を有し、塗布面に到達する乾燥
風の風速が０．１〜１０ｍ／秒に制御される制御手段を
有することを特徴とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項７】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜を
乾燥する乾燥装置で、塗布後１０秒以内は非塗布面に温
度を制御したロールと接触させるようにした加熱手段を
有し、１０秒から２０秒までは温度を制御した空気を塗
布面へ吹き付けるようにした加熱手段を有し、塗布面に
到達する乾燥風の風速が０．１〜１０ｍ／秒に制御され
る制御手段を有することを特徴とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項８】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1において
粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液を
ウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面に塗布し
た塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けることにより
乾燥を行う乾燥装置において、前記支持体の両端から外
側へ１０ｃｍ以内の距離に支持体と平行となるように遮
風板を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項９】 前記遮風板の設置位置が塗布後２０秒以
内に支持体が通過する範囲内であることを特徴とする請
求項８に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１０】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面に塗布
した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けることによ
り乾燥を行う乾燥装置において、前記支持体の両端から
外側へ１０ｃｍ以内の距離に該支持体と平行となるよう
に開口率が５〜８０％以下の整流板を設けたことを特徴
とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１１】 前記整流板がパンチ板であることを特
徴とする請求項１０に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１２】 前記整流板がスリット板であることを
特徴とする請求項１０に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１３】 前記整流板がメッシュ板であることを
特徴とする請求項１０に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１４】 前記メッシュ板のメッシュが５０番手
より細かいことを特徴とする請求項１３に記載の塗膜の
乾燥装置。 - 【請求項１５】 前記整流板の設置位置が塗布後２０秒
以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴とする
請求項１０〜１４の何れか１項に記載の塗膜の乾燥装
置。 - 【請求項１６】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面に塗布
した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けることによ
り乾燥を行う乾燥装置において、支持体の両端から外側
へ１０ｃｍ以内の距離に支持体と平行となるように吸気
口を設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１７】 前記吸気口の設置位置が塗布後２０秒
以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴とする
請求項１６に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１８】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上の塗布面に塗布
した塗膜に、温度を制御した空気を吹き付けることによ
り乾燥を行う乾燥装置において、乾燥風の吹き出し口と
支持体の間に吹き出し口から１０ｃｍ以上の位置へ支持
体と対向するように開口率が５〜８０％以下の整流板を
設けたことを特徴とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項１９】 前記整流板がパンチ板であることを特
徴とする請求項１８に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項２０】 前記整流板がスリット板であることを
特徴とする請求項１８に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項２１】 前記整流板がメッシュ板であることを
特徴とする請求項１８に記載の塗膜の乾燥装置。 - 【請求項２２】 前記メッシュ板のメッシュが５０番手
より細かいことを特徴とする請求項２１に記載の塗膜の
乾燥装置。 - 【請求項２３】 前記整流板の設置位置が塗布後２０秒
以内に支持体が通過する範囲内であることを特徴とする
請求項１８〜２２の何れか１項に記載の塗膜の乾燥装
置。 - 【請求項２４】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜
を乾燥する乾燥工程で、該乾燥工程の機内圧が塗布室の
気圧より低いことを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項２５】 前記乾燥工程の機内圧と前記塗布室の
気圧の差が１０ｍｍＨ2Ｏ以下とすることを特徴とする
請求項２４に記載の塗膜の乾燥方法。 - 【請求項２６】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜
を乾燥する乾燥工程で、外部より乾燥工程に供給する風
量より乾燥工程より外部へ排出する排気風量の方が多い
ことを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項２７】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜
を乾燥する乾燥工程で、複数の乾燥工程を有し、塗布工
程に最も近い第１の乾燥工程の機内圧をＰ１、第１の乾
燥工程に続く第２の乾燥工程の機内圧がＰ２であるとき
Ｐ１−Ｐ２が−１０ｍｍＨ2Ｏ以上２０ｍｍＨ2Ｏ以下と
することを特徴とする塗膜の乾燥方法。 - 【請求項２８】 塗布後第１の乾燥工程を通過するまで
に要する時間が５秒以上とすることを特徴とする請求項
２７に記載の塗膜の乾燥方法。 - 【請求項２９】 ２５℃で剪断速度が０．１ｓ-1におい
て粘度が０．５ｍＰａｓ以上１００Ｐａｓ以下の塗布液
をウエット膜厚５０μｍ以上で支持体上に塗布した塗膜
を乾燥する乾燥装置が、複数の乾燥工程を有し、塗布工
程に最も近い第１の乾燥工程と第１の乾燥工程に続く第
２の乾燥工程の間に塗布面と対向して吸気口を設けるこ
とを特徴とする塗膜の乾燥装置。 - 【請求項３０】 塗布後前記第１の乾燥工程を通過する
までに要する時間が５秒以上とすることを特徴とする請
求項２９に記載の塗膜の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13423899A JP2000329463A (ja) | 1999-05-14 | 1999-05-14 | 塗膜の乾燥方法及び乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13423899A JP2000329463A (ja) | 1999-05-14 | 1999-05-14 | 塗膜の乾燥方法及び乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000329463A true JP2000329463A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=15123656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13423899A Pending JP2000329463A (ja) | 1999-05-14 | 1999-05-14 | 塗膜の乾燥方法及び乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000329463A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1354638A2 (en) * | 2002-04-15 | 2003-10-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing pattern members using webs on which coating films have been formed |
| JP2005081256A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
| US7344322B2 (en) | 2004-01-27 | 2008-03-18 | Fujifilm Corporation | Drying device and drying method |
| JP2011189251A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Fujifilm Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| JP2012030480A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | 流延装置及び溶液製膜方法 |
| CN103814266A (zh) * | 2011-08-01 | 2014-05-21 | Fmp技术有限责任公司液体测量及工程 | 干燥被施用于基底的流体膜的方法和装置 |
| JP2017156068A (ja) * | 2016-03-04 | 2017-09-07 | 日本電気株式会社 | 乾燥装置および乾燥方法 |
| JP2018013321A (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | 株式会社サーミック | 粗面化処理を施したアルミ箔の乾燥方法及び乾燥炉 |
| TWI816038B (zh) * | 2020-01-31 | 2023-09-21 | 日商Ｙｋｋ股份有限公司 | 乾燥機 |
| JP7387504B2 (ja) | 2020-03-23 | 2023-11-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥方法 |
| JP7446680B2 (ja) | 2020-03-23 | 2024-03-11 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥方法 |
| JP7453108B2 (ja) | 2020-09-18 | 2024-03-19 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 乾燥装置および乾燥方法 |
-
1999
- 1999-05-14 JP JP13423899A patent/JP2000329463A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1354638A2 (en) * | 2002-04-15 | 2003-10-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing pattern members using webs on which coating films have been formed |
| EP1354638A3 (en) * | 2002-04-15 | 2004-11-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing pattern members using webs on which coating films have been formed |
| JP2005081256A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布膜の乾燥方法及び装置 |
| JP4513293B2 (ja) * | 2003-09-09 | 2010-07-28 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法 |
| US7344322B2 (en) | 2004-01-27 | 2008-03-18 | Fujifilm Corporation | Drying device and drying method |
| JP2011189251A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Fujifilm Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| JP2012030480A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | 流延装置及び溶液製膜方法 |
| CN103814266A (zh) * | 2011-08-01 | 2014-05-21 | Fmp技术有限责任公司液体测量及工程 | 干燥被施用于基底的流体膜的方法和装置 |
| JP2017156068A (ja) * | 2016-03-04 | 2017-09-07 | 日本電気株式会社 | 乾燥装置および乾燥方法 |
| JP2018013321A (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | 株式会社サーミック | 粗面化処理を施したアルミ箔の乾燥方法及び乾燥炉 |
| TWI816038B (zh) * | 2020-01-31 | 2023-09-21 | 日商Ｙｋｋ股份有限公司 | 乾燥機 |
| JP7387504B2 (ja) | 2020-03-23 | 2023-11-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥方法 |
| JP7446680B2 (ja) | 2020-03-23 | 2024-03-11 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥方法 |
| JP7453108B2 (ja) | 2020-09-18 | 2024-03-19 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 乾燥装置および乾燥方法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20051109 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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