JP2000327767A - 光記録媒体用成形材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 成形性および低複屈折性に優れた光記録媒体
用成形材料を提供する。 【解決手段】 1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フ
ェニルエタン、4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエチ
リデン)]ビスフェノール、及び３官能以上のフェノー
ル性水酸基を有する化合物と、炭酸エステル形成化合物
とを反応させてなる極限粘度が 0.3〜0.5 dl/gであるポ
リカーボネートからなる光記録媒体用成形材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コンパクトディス
ク、レーザーディスク、光カード、ＭＯディスクなどの
光記録媒体を製造するのに好適な成形性とともに複屈折
の低減されたポリカーボネート樹脂光記録媒体用成形材
料に関する。

【０００２】

【従来の技術】ビスフェノールＡ型ポリカーボネート
は、その透明性、耐熱性、耐加水分解性、寸法安定性な
どの特徴を生かして、最近は光ディスク用基盤材料とし
て広く用いられるようになった。しかしながら、光ディ
スク用にポリカーボネートを用いる場合いくつかの問題
点があった。

【０００３】光ディスク基盤としての性能のうち、情報
読み取り、書き込みに用いられるレーザー光線を実質的
に弱めてしまう複屈折は最も重要な問題であり、複屈折
が大きい材料ではエラーが増加し、記録媒体としての信
頼性が劣ってしまう。

【０００４】これらの複屈折低減を目的とした様々なポ
リカーボネート樹脂材料が開発されている。（特開昭６
０−２１５０２０，特開昭６２−１８１１１５）しかし
ながら、近年、高密度化が進む光ディスク分野におい
て、これらの材料では複屈折対策は十分とは言えなかっ
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた成形
性と低複屈折性を両立した光記録媒体用成形材料を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の課
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のビスフェ
ノール類より誘導された分岐化ポリカーボネート樹脂
は、低複屈折性と良好な成形性を兼ね備えた良質の光記
録媒体成形材料となることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。

【０００７】

【発明の実施の形態】即ち、本発明は、1,1-（4-ヒド
ロキシフェニル）−1-フェニルエタン、4,4'-[1,3-フ
ェニレン（1-メチルエチリデン)]ビスフェノール、及び
３官能以上のフェノール性水酸基を有する化合物と、
炭酸エステル形成化合物とを反応させてなる極限粘度が
0.3〜0.5 dl/gであるポリカーボネートからなる光記録
媒体用成形材料である。

【０００８】炭酸エステル形成化合物としては、例えば
ホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−ｐ−トリル
カーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ
−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボ
ネートなどのビスアリールカーボネートが挙げられる。
これらの化合物は２種類以上併用して使用することも可
能である。

【０００９】本発明のポリカーボネートは、ビスフェノ
ールＡ〔2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン〕
からポリカーボネートを製造する際に用いられている公
知の方法、例えばビスフェノール類とホスゲンとの直接
反応（ホスゲン法）、あるいはビスフェノール類とビス
アリールカーボネートとのエステル交換反応（エステル
交換法）などの方法を採用することができる。

【００１０】前者のホスゲン法においては、通常酸結合
剤および溶媒の存在下において、1,1-（4-ヒドロキシ
フェニル）−1-フェニルエタン、4,4'-[1,3-フェニレ
ン（1-メチルエチリデン)]ビスフェノール、及び３官
能以上のフェノール性水酸基を有する化合物と、ホスゲ
ンとを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジン
や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ
金属の水酸化物などが用いられる。また、溶媒として
は、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベン
ゼン、キシレンなどが用いられる。さらに、縮重合反応
を促進するために、トリエチルアミンのような３級アミ
ン触媒および第４級アンモニウム塩などの触媒が使用さ
れる。また、重合度調節には、フェノール、p-t-ブチル
フェノール、p-クミルフェノール等で表されるフェノー
ル類等一官能基化合物を分子量調節剤として加える。更
に、所望に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイ
トなどの酸化防止剤を小量添加してもよい。反応は、通
常０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲とするの
が適当である。反応時間は反応温度によって左右される
が、通常５分〜１０時間、好ましくは１０分〜２時間で
ある。また、反応中は、反応系のpHを１０以上に保持す
ることが望ましい。

【００１１】一方、後者のエステル交換法においては、
1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニルエタン、
4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエチリデン)]ビスフ
ェノール、及び３官能以上のフェノール性水酸基を有
する化合物と、ビスアリールカーボネートとを混合し、
減圧下で高温において反応させる。この時、p-t-ブチル
フェノール、p-クミルフェノール類等の一官能基化合物
を分子量調節剤として加えてもよい。反応は通常１５０
〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度
において行われ、また減圧度は最終的には１mmHg以下に
することが好ましく、エステル交換反応により生成した
該ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類
を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減圧度など
によって左右されるが、通常１〜６時間程度である。反
応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で行うこ
とが好ましく。また、所望に応じ、酸化防止剤を添加し
て反応を行ってもよい。

【００１２】ホスゲン法とエステル交換法では、1,1-
（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニルエタン、及び
4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエチリデン)]ビスフェ
ノールの反応性を考慮した場合、ホスゲン法の方が好ま
しい。

【００１３】更に、本発明の分子量調節剤としては、一
価フェノール類が好ましく、具体的には、ブチルフェノ
ール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、デカニ
ルフェノール、テトラデカニルフェノール、ヘプタデカ
ニルフェノール、オクタデカニルフェノール等の長鎖ア
ルキル置換フェノール；ヒドロキシ安息香酸ブチル、ヒ
ドロキシ安息香酸オクチル、ヒドロキシ安息香酸ノニ
ル、ヒドロキシ安息香酸デカニル、ヒドロキシ安息香酸
ヘプタデカニル等のヒドロキシ安息香酸長鎖アルキルエ
ステル；ブトキシフェノール、オクチルオキシフェノー
ル、ノニルオキシフェノール、デカニルオキシフェノー
ル、テトラデカニルオキシフェノール、ヘプタデカニル
オキシフェノール、オクタデカニルオキシフェノール等
の長鎖アルキルオキシフェノール類が例示される。

【００１４】本発明においてホスゲン法を採用する場合
は、ホスゲン吹き込み終了後に反応を効率よく行うため
第４級アンモニウム塩を少量添加することが好ましい。
具体的には、テトラメチルアンモニウムクロライド、ト
リメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル
ベンジルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモ
ニウムブロマイド、テトラ−n-ブチルアンモニウムアイ
オダイドなどが例示される。これらのうちトリメチルベ
ンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルア
ンモニウムクロライドが好ましい。この第四級アンモニ
ウム塩は、使用される全ビスフェノール類に対して、一
般に0.0005〜 5mol%使用されることが好ましい。第４級
アンモニウム塩の添加後、３〜１０分後に、トリエチル
アミンなどの３級アミン及び分子量調節剤を添加して重
合させることが好ましい。三級アミンの添加量は、全ビ
スフェノール類に対して、0.01〜1.0mol% である。ま
た、分子量調節剤の添加量は、全ビスフェノール類に対
して、3 〜10mol%である。

【００１５】本発明中の分岐化剤として作用する３官能
以上のフェノール性水酸基を有する化合物としては、フ
ロログルシン、2,4,4'-トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,4,4' −トリヒドロキシフジェニルエーテル、2,2-ビ
ス（2,4-ジヒドロキシフェニル）プロパン、2,2',4,4'-
テトラヒドロキシジフェニルメタン、2,4,4'−トリヒド
ロキシジフェニルメタン、2,4,6-トリス（4-ヒドロキシ
フェニル)-2,6-ジメチル−ヘプテン-3、2,4,6-トリス
（4-ヒドロキシフェニル)-4,6-ジメチル−ヘプタン-2、
2,6-ビス（2-ヒドロキシ−5-メチルベンジル)-4-メチル
フェノール、2,6-ビス（2-ヒドロキシ−5-イソプロピル
ベンジル)-4-イソプロピルフェノール、テトラキス（4-
ヒドロキシフェニル）メタン、α，α',α"-トリス（4-
ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼ
ン、4,4'-[1-[4-[1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-メチ
ルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、1,
1,1-トリス（4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1,1-ト
リス（4-ヒドロキシフェニル）エタン、1,1,1-トリス
（4-ヒドロキシフェニル）プロパン、1,1,1-トリス（2-
メチル−4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1,1-トリス
（2-メチル−4-ヒドロキシフェニル）エタン、1,1,1-ト
リス（3-メチル−4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1,
1-トリス（3-メチル−4-ヒドロキシフェニル）エタン、
1,1,1-トリス（3,5-ジメチル−4-ヒドロキシフェニル）
メタン、1,1,1-トリス（3,5-ジメチル−4-ヒドロキシフ
ェニル）エタン、1,1,1-トリス（3-クロロ−4-ヒドロキ
シフェニル）メタン、1,1,1-トリス（3-クロロ−4-ヒド
ロキシフェニル）エタン、1,1,1-トリス（3,5-ジクロロ
−4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1,1-トリス（3,5-
ジクロロ−4-ヒドロキシフェニル）エタン、1,1,1-トリ
ス（3-ブロモ−4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1,1-
トリス（3-ブロモ−4-ヒドロキシフェニル）エタン、1,
1,1-トリス（3,5-ジブロモ−4-ヒドロキシフェニル）メ
タン、1,1,1-トリス（3,5-ジブロモ−4-ヒドロキシフェ
ニル）エタン、1,1,1-トリス（3-フルオロ−4-ヒドロキ
シフェニル）メタン、1,1,1-トリス（3-フルオロ−4-ヒ
ドロキシフェニル）エタン、1,1,1-トリス（3,5-ジフル
オロ−4-ヒドロキシフェニル）メタン、1,1,1-トリス
（3,5-ジフルオロ−4-ヒドロキシフェニル）エタン、1,
1,1-トリス（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニルメタ
ン等が例示される。そのうち、1,1,1-トリス（4-ヒドロ
キシフェニル）エタン、4,4'-[1-[4-[1-（4-ヒドロキシ
フェニル）−1-メチルエチル］フェニル］エチリデン］
ビスフェノール、及び2,4,6-トリス（4-ヒドロキシフェ
ニル）−2,6-ジメチル−3-ヘプテンが反応性や取り扱い
の容易さから最も好ましい。

【００１６】さらに、分岐化剤となる３官能以上のフェ
ノール性水酸基を有する化合物は、1,1-ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）−1-フェニルエタンと、4,4'-[1,3-
フェニレンビス（1-メチルエチリデン）］ビスフェノー
ルとの合計１００モル部に対して、３官能以上のフェノ
ール性水酸基を有する化合物を0.2 〜3.0 モル部添加す
ることが好ましい。0.2 モル部未満では流動性改善効果
が低く、3.0 モル部を超えると耐衝撃性が劣ってくる。

【００１７】また、本発明では、1,1-（4-ヒドロキシ
フェニル）−1-フェニルエタンと、4,4'-[1,3-フェニ
レン（1-メチルエチリデン)]ビスフェノールとの使用モ
ル割合は、1:9 〜9:1 が好ましい。1,1-（4-ヒドロキシ
フェニル）−1-フェニルエタンが１割未満になると、耐
熱性が低下すると同時に複屈折改善効果が不十分とな
る。また、1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニル
エタンが９割を超えると流動性が悪くなり成形が困難に
なる。

【００１８】これらの反応で合成されたポリカーボネー
ト重合体は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、光
記録媒体用成形材料としては、容易に押出、射出成形が
できることが望ましく、特に光記録媒体用の精密成形で
は極限粘度が 0.3〜0.5 dl/gの範囲であることが好まし
い。

【００１９】本発明の光記録媒体用ポリカーボネート成
形材料は、射出成形で成形することが好ましく、その際
の流動性は大きすぎても小さすぎても成形性に問題が生
じる。例えば高化式フローテスター（280 ℃、160kgf/c
m²、ノズル径1mm ×10mm）測定で、15〜90×10^-2cc/sec
の範囲が好ましい。15×10^-2cc/sec未満では、流動性が
悪く金型への充填不良やフローマークが生じる場合があ
り、90×10^-2cc/secを越えると金型剥離不良やソリを生
じやすい。

【００２０】本発明の光記録媒体用ポリカーボネート成
形材料は、一般の光ディスク用ポリカーボネートと同様
に高度に精製されたものでなければならない。具体的に
は、直径５０μｍ以上のダストが実質上検出されず、直
径０．５〜５０μｍのダストが３×１０⁴ 以下、無機お
よび有機残留塩素が２ｐｐｍ以下、残留アルカリ金属が
２ｐｐｍ以下、残存水酸基２００ｐｐｍ以下、残存窒素
量５ｐｐｍ以下、残存モノマー２０ｐｐｍ以下等の基準
を可能な限り満たすように精製される。また、低分子量
体除去や溶媒除去のため抽出等の後処理が行われる場合
もある。

【００２１】光記録媒体用ポリカーボネート成形材料は
押出や射出成形時に必要な安定性や離型性を確保するた
め、所望に応じて、ヒンダードフェノール系やホスファ
イト系酸化防止剤；シリコン系、脂肪酸エステル系、脂
肪酸系、脂肪酸グリセリド系、密ろう等天然油脂などの
滑剤や離型剤；ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、ジベンゾイルメタン系、サリチレート系等の光安定
剤；ポリアルキレングリコール、脂肪酸グリセリド等帯
電防止剤などを適宜併用してよいものであり、さらには
コスト等から、一般の光記録媒体用ポリカーボネートと
性能を損なわない範囲で任意に混合して使用する事も可
能である。また、本成形材料を射出成形する場合の成形
温度は、流動性の観点から280 〜380 ℃が好ましい。

【００２２】

【実施例】次に実施例により、本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定
されるものではない。

【００２３】実施例１ 8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム水溶液58リットルに、1,1-ビ
ス（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニルエタン5.80kg
（以下BPAPと略称、20mol)、4,4'-[1,3-フェニレン（1-
メチルエチリデン)]ビスフェノール6.92kg（以下BPM と
略称、20mol)、1,1,1-トリス（4-ヒドロキシフェニル）
エタン122.4g（以下THPEと略称、0.4mol）及びハイドロ
サルファイト10g を加え溶解した。これにメチレンクロ
ライド36リットルを加え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、ホ
スゲン5kg を50分かけて吹き込んだ。吹き込み終了後、
トリエチルベンジルアンモニウムクロライド5g(0.022mo
l)を加え５分間激しく撹拌して反応液を乳化させ、次に
p-ターシャルブチルフェノール468g（以下PTBPと略称、
3.12mol)を加え、さらに20mlのトリエチルアミン(0.14m
ol) を加え、約１時間撹拌し重合させた。重合液を水相
と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液の導
電率が10μＳ以下になるまで水洗を繰り返した後、精製
樹脂液を得た。得られた精製樹脂液を、強攪拌されてい
る４５℃の温水に樹脂液をゆっくり滴下し、溶媒を除去
しつつ重合物を固形化した。固形物を濾過後、乾燥して
白色粉末状重合体を得た。この重合体は、塩化メチレン
を溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃における極
限粘度［η］は0.36dl/gであった。得られた上記重合体
を赤外線吸収スペクトルより分析した結果、1770cm^-1付
近の位置にカルボニル基による吸収が認められ、カーボ
ネート結合を有することが確認された。また、3650〜32
00cm^-1の位置に水酸基由来の吸収はほとんど認められな
かった。このポリカーボネート中のモノマーをＧＰＣ分
析で測定した場合、いずれのモノマーも20ppm 以下であ
った。

【００２４】得られたポリカーボネート粉末にステアリ
ン酸モノグリセリド300ppmを添加し、50μｍポリマーフ
ィルターを付けたベント付き５０ｍｍ押出機にて３００
℃で押出し、溶融ペレット化を行った。得られたペレッ
トを樹脂温度３５０℃で、金型温度１００℃、及び射出
圧２９．４ＭＰａの条件で、外径１２０ｍｍ、厚さ１．
２ｍｍの円盤を射出成形し、２日間室内放置後３０度斜
め入射時の複屈折を測定した。押出ペレットについて
は、流れ値（Ｑ値）を測定し、成形流動性の目安とし
た。またポリカーボネート粉末について、５０μｍ厚の
キャストフィルムを作成し、300 〜1100g の荷重をか
け、光弾性感度を測定した。結果を表１に示した。

【００２５】実施例２ BPAPを5.80kg(20mol）、BPM を6.92kg(20mol）、THPEを
244.8g（0.8mol）及びPTBPを570g（3.8mol）に変更した
以外は、実施例１と同様に行った。得られた重合体の極
限粘度［η］は0.38dl/gで、赤外吸収スペクトル分析等
よりこの重合体は分岐化度以外は、実施例１と同等の構
造を有するポリカーボネート重合体と認められた。結果
を表１に示した。

【００２６】実施例３ BPAPを8.12kg(28mol）、BPM を4.15kg(12mol）、THPEを
122.4g（0.4mol）及びPTBPを456g（3.04mol)に変更した
以外は、実施例１と同様に行った。得られた重合体の極
限粘度［η］は0.37dl/gで、赤外吸収スペクトル分析等
よりこの重合体は分岐化度以外は、実施例１と同等の構
造を有するポリカーボネート重合体と認められた。結果
を表１に示した。

【００２７】実施例４ BPAPを3.48kg(12mol）、BPM を9.69kg(28mol）、THPEを
122.4g(0.4mol)及びPTBPを432g（2.88mol)に変更した以
外は、実施例１と同様に行った。得られた重合体の極限
粘度［η］は0.34dl/gで、赤外吸収スペクトル等よりこ
の重合体は下記構造単位を有するポリカーボネート重合
体と認められた。結果を表１に示した。

【００２８】比較例１ 実施例１のポリカーボネートの代わりに、市販光記録媒
体用2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン（以下
BPA と略称）型ポリカーボネート（三菱瓦斯化学（株）
製Ｈ−４０００、［η］＝0.35dl/g）を用いて実施例１
と同様の試験を行った。結果を表１に示した。

【００２９】比較例２ BPM を用いず、BPAPのみ11.60kg(40mol)用い、PTBPを34
8g(2.32mol) に変更した以外は、実施例１と同様に行っ
た。得られた重合体の極限粘度［η］は0.36dl/gで、赤
外吸収スペクトル等よりこの重合体は下記構造単位を有
するポリカーボネート重合体と認められた。しかし、流
れ値が非常に低く、射出成形は不可であった。結果を表
１に示した。

【００３０】比較例３ BPAPを用いず、BPM のみ13.84kg(40mol)用い、PTBPを28
8g(1.92mol) に変更した以外は実施例１と同様に行っ
た。得られた重合体の極限粘度［η］は0.35dl/gで、赤
外吸収スペクトル等よりこの重合体は下記構造単位を有
するポリカーボネート重合体と認められた。結果を表１
に示した。

【００３１】

【表１】

【００３２】〔表１の説明〕 複屈折：（株）溝尻光学工業製、自動エリフ゜ソメータ-使用。
測定波長:632.8nm。 流れ値（Ｑ値）：島津製作所（株）製高化式フローテス
ター使用。280 ℃、160kgf/cm²、ノズル径1mm ×10mm条
件での単位時間あたりの流量。（単位×10^-2cc/sec） 光弾性感度：50μｍのキャストフィルムに300 〜1100g
の荷重をかけ、エリプソメーターで波長632.8mm にて、
光弾性感度を測定。 BPAP：1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニル
エタン BPM ：4,4'-[1,3-フェニレンビス（1-メチルエチリデ
ン）］ビスフェノール BPA ：2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン THPE：1,1,1-トリス（4-ヒドロキシフェニル）エタン PTBP：p-ターシャルブチルフェノール BP成分(a):BPAPの全ビスフェノールの使用量に対する割
合(mol%) BP成分(b):BPM の全ビスフェノールの使用量に対する割
合(mol%) 極限粘度：0.5g／100cc ジクロロメタン樹脂溶液を20
℃、ハギンズ定数0.45で極限粘度［η］(dl/g)を求め
た。

【００３３】

【発明の効果】本発明より、優れた成形性、低複屈折性
を両立した光記録媒体用成形材料を提供できる。特に、
高密度記録と信頼性が要求される書換可能な光ディスク
および光磁気ディスクに好適である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６Ｇ (72)発明者 本田 典昭 大阪府豊中市神州町２丁目12番地 三菱瓦 斯化学株式会社大阪工場内 Ｆターム(参考） 4J029 AA09 AB07 AC02 AD01 AE01 AE05 BB12A BB13A BB15A FA07 FC33 HC01 HC02 HC05A HC05B JC021 JC091 KB17 KB24 KE09 5D029 KA07 KC07

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フ
   ェニルエタン、4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエチ
   リデン)]ビスフェノール、及び３官能以上のフェノー
   ル性水酸基を有する化合物と、炭酸エステル形成化合物
   とを反応させてなる極限粘度が 0.3〜0.5 dl/gであるこ
   とを特徴とするポリカーボネートからなる光記録媒体用
   成形材料。
2. 【請求項２】 1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フ
   ェニルエタンと、4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエ
   チリデン)]ビスフェノールとの使用モル割合が、1:9 〜
   9:1 である請求項１記載の光記録媒体用成形材料。
3. 【請求項３】 1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フ
   ェニルエタンと、4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエ
   チリデン)]ビスフェノールの合計１００モル部に対し
   て、３官能以上のフェノール性水酸基を有する化合物
   を、0.2 〜3.0 モル部添加してなる請求項１記載の光記
   録媒体用成形材料。
4. 【請求項４】 ３官能以上のフェノール性水酸基を有
   する化合物が、1,1,1-トリス（4-ヒドロキシフェニル）
   エタン、4,4'-[1-[4-[1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-
   メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノー
   ル、及び2,4,6-トリス（4-ヒドロキシフェニル）−2,6-
   ジメチル−3-ヘプテンからなる群より選択された少なく
   とも１種類である請求項１記載の光記録媒体用成形材
   料。
5. 【請求項５】 アルカリ水溶液と有機溶媒存在下で、
   1,1-（4-ヒドロキシフェニル）−1-フェニルエタン、
   4,4'-[1,3-フェニレン（1-メチルエチリデン)]ビスフェ
   ノール、及び３官能以上のフェノール性水酸基を有す
   る化合物に、ホスゲンを吹き込んだ後、第４級アンモニ
   ウム塩を添加し重縮合反応を開始させ、次に分子量調節
   剤となる一価フェノールを添加し、更に３級アミン重合
   触媒を添加し、重縮合を促進せしめることを特徴とする
   請求項１記載の光記録媒体用成形材料の製造方法。
6. 【請求項６】 分子量調節剤と３級アミンを同時に添加
   する請求項５記載の光記録媒体用成形材料の製造方法。
7. 【請求項７】 第４級アンモニウム塩が、トリエチルベ
   ンジルアンモニウムクロライドまたはトリメチルベンジ
   ルアンモニウムクロライドである請求項５記載の光記録
   媒体用成形材料の製造方法。