JP2000327476A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2000327476A5 JP2000327476A5 JP1999143889A JP14388999A JP2000327476A5 JP 2000327476 A5 JP2000327476 A5 JP 2000327476A5 JP 1999143889 A JP1999143889 A JP 1999143889A JP 14388999 A JP14388999 A JP 14388999A JP 2000327476 A5 JP2000327476 A5 JP 2000327476A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- cooling
- semiconductor single
- rod
- crystal rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14388999A JP4521621B2 (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 半導体単結晶製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14388999A JP4521621B2 (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 半導体単結晶製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000327476A JP2000327476A (ja) | 2000-11-28 |
JP2000327476A5 true JP2000327476A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2006-06-01 |
JP4521621B2 JP4521621B2 (ja) | 2010-08-11 |
Family
ID=15349403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14388999A Expired - Lifetime JP4521621B2 (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 半導体単結晶製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4521621B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104264220A (zh) * | 2014-07-02 | 2015-01-07 | 洛阳金诺机械工程有限公司 | 一种用产品料直接拉制硅芯的方法 |
JP6863240B2 (ja) * | 2017-11-13 | 2021-04-21 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶の製造装置および製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1644002A1 (de) * | 1967-04-15 | 1970-04-09 | Siemens Ag | Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes,insbesondere Halbleiterstabes |
DE2227750C3 (de) * | 1972-06-07 | 1980-08-28 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines stabförmigen Körpers aus kristallinem Material, insbesondere aus Halbleitermaterial |
DE2438852C3 (de) * | 1974-08-13 | 1980-02-07 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zum Herstellen von homogen-dotierten Halbleitereinkristallstäben |
JP2845086B2 (ja) * | 1993-04-07 | 1999-01-13 | 信越半導体株式会社 | 半導体単結晶成長装置 |
JPH0940492A (ja) * | 1995-07-27 | 1997-02-10 | Hitachi Cable Ltd | 単結晶の製造方法及び製造装置 |
-
1999
- 1999-05-24 JP JP14388999A patent/JP4521621B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101909439B1 (ko) | 결정성장장치용 히이터 어셈블리 | |
JP5405063B2 (ja) | 熱伝導率を調整することによって結晶質材料のブロックを製造するための装置 | |
JP6077454B2 (ja) | 半導体を凝固及び/又は結晶化するためのシステム用の熱交換器 | |
CN105247114B (zh) | 用于控制氧的提拉坩埚和相关方法 | |
CN105229206B (zh) | 定向凝固系统和方法 | |
TW201335445A (zh) | 製造單晶矽的方法 | |
JP2013532111A (ja) | 多結晶シリコンインゴットの製造方法及び装置 | |
CN101182646A (zh) | 采用热交换法生长半球型晶体的装置及方法 | |
CN202137358U (zh) | 一种定向凝固设备 | |
JPH10139580A (ja) | 一方向凝固材の製造方法および一方向凝固装置 | |
JP2011520743A (ja) | 結晶成長装置において加熱要素を配置するためのシステムおよび方法 | |
JP2013507255A (ja) | 溶融金属供給スパウト構造物を加熱するコントロールピン及びスパウトシステム | |
JP4555677B2 (ja) | 連続的な結晶化により、所定の横断面及び柱状の多結晶構造を有する結晶ロッドを製造するための装置 | |
CN101356305A (zh) | 生产结晶材料块的装置和方法 | |
JPH0688124B2 (ja) | 溶融‐鋳造炉 | |
JP2000327476A5 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
US6464198B1 (en) | Apparatus for manufacturing workpieces or blocks from meltable materials | |
JPS61201689A (ja) | 材料処理用温度勾配炉及び温度勾配形成方法 | |
US4971652A (en) | Method and apparatus for crystal growth control | |
US10105757B2 (en) | Grain growth management system and methods of using the same | |
CN104419978A (zh) | 单晶炉的导流筒 | |
CN207016891U (zh) | 一种用于超大尺寸硅锭的多晶铸锭炉的冷却装置 | |
JPH0443849B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
KR20110028155A (ko) | 다결정 실리콘 잉곳 제조장치의 하부 구조 | |
CN207016892U (zh) | 一种用于超大尺寸硅锭的多晶铸锭炉炉体 |