JP2000323028A - プラズマパネルの製造方法 - Google Patents
プラズマパネルの製造方法Info
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、プラズマパネル製造において、よ
り簡単で、より迅速にバリアを製造する方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 お互いに対面する二枚のタイルからな
り、少なくとも一つのタイルは多くの放電セルとそのセ
ルを画成する支持バリアのアレイを形成する働きのある
電極アレイを有し、そのバリアは高くしかも開放的多孔
性をバリアに付与する材料からなり、プラズマ放電ガス
を含むプラズマパネルの製造方法であって、そのバリア
は上記材料と有機樹脂とからなるペーストを利用して単
一段階で形成されることを特徴とする方法により達成さ
れる。その製造方法によれば、バリアは上記材料と有機
樹脂とからなるペーストを利用して、単一段階で形成さ
れる。
り簡単で、より迅速にバリアを製造する方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 お互いに対面する二枚のタイルからな
り、少なくとも一つのタイルは多くの放電セルとそのセ
ルを画成する支持バリアのアレイを形成する働きのある
電極アレイを有し、そのバリアは高くしかも開放的多孔
性をバリアに付与する材料からなり、プラズマ放電ガス
を含むプラズマパネルの製造方法であって、そのバリア
は上記材料と有機樹脂とからなるペーストを利用して単
一段階で形成されることを特徴とする方法により達成さ
れる。その製造方法によれば、バリアは上記材料と有機
樹脂とからなるペーストを利用して、単一段階で形成さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマパネル
（ＰＰ）、つまりフラットディスプレイスクリーンに係
り、表示画像は多くの光放電点からなる。光放電は二枚
の絶縁タイル間に含有されたガス中で発生し、各点は少
なくとも一つのタイルに支えられた電極アレイでの交差
に対応する。本発明は、より詳細には、少なくとも一つ
のパネルのタイルのバリアの製造方法に関し、上記バリ
ア自体はＰＰの分野では周知な構造要素である。
（ＰＰ）、つまりフラットディスプレイスクリーンに係
り、表示画像は多くの光放電点からなる。光放電は二枚
の絶縁タイル間に含有されたガス中で発生し、各点は少
なくとも一つのタイルに支えられた電極アレイでの交差
に対応する。本発明は、より詳細には、少なくとも一つ
のパネルのタイルのバリアの製造方法に関し、上記バリ
ア自体はＰＰの分野では周知な構造要素である。
【０００２】
【従来の技術】ＰＰは、電極アレイの幾何学的形状の輪
郭をだどるロウとカラムに組織化されたセルの二次元マ
トリックスからなることは公知である。この場合、バリ
アはセルのロウ又はカラムを分離させる目的のレリーフ
要素である。あるパネルでは、バリアはセルのカラム及
びロウの双方をも分離し、よって、セルのチェッカーボ
ードのパターンを形成する。バリアの役割は多目的であ
る。よって、少なくともロウ若しくはカラムの方向に、
各セルの空間を区分けすることにより、バリアが存在し
て、あるセルでの放電はイオン効果による隣接するセル
での不必要な放電を誘発させない。したがって、バリア
はクロストルク（cross-torque）現象を阻止する。さら
に、バリアは隣接セル間の光学スクリーンを構成し、各
セルにて発光する放射の良好な閉じ込めを可能にする。
この役割はカラーＰＰでは特に重要であり、隣接セルは
異なる色のドットを構成し、例えば、トライアッドを構
成する。この場合、バリアは良好な色飽和を保証する。
郭をだどるロウとカラムに組織化されたセルの二次元マ
トリックスからなることは公知である。この場合、バリ
アはセルのロウ又はカラムを分離させる目的のレリーフ
要素である。あるパネルでは、バリアはセルのカラム及
びロウの双方をも分離し、よって、セルのチェッカーボ
ードのパターンを形成する。バリアの役割は多目的であ
る。よって、少なくともロウ若しくはカラムの方向に、
各セルの空間を区分けすることにより、バリアが存在し
て、あるセルでの放電はイオン効果による隣接するセル
での不必要な放電を誘発させない。したがって、バリア
はクロストルク（cross-torque）現象を阻止する。さら
に、バリアは隣接セル間の光学スクリーンを構成し、各
セルにて発光する放射の良好な閉じ込めを可能にする。
この役割はカラーＰＰでは特に重要であり、隣接セルは
異なる色のドットを構成し、例えば、トライアッドを構
成する。この場合、バリアは良好な色飽和を保証する。
【０００３】さらに、バリアはパネルタイル間のスペー
サとして、しばしば作用する。よって、バリアが二枚の
タイル間に必要な分離に対応する高さを有するという事
実が活用される。この場合、バリアを備えていないタイ
ルは、他のタイルに存在するバリアの頂部に位置する。
サとして、しばしば作用する。よって、バリアが二枚の
タイル間に必要な分離に対応する高さを有するという事
実が活用される。この場合、バリアを備えていないタイ
ルは、他のタイルに存在するバリアの頂部に位置する。
【０００４】バリアはさまざまな構造を有している。し
かしながら、仮に、バリアが支えられるようにされてい
れば、密度があり、硬い材料からなることが通常であ
る。上記支持バリアは、一方のタイルが他方のタイルに
作用するかなりの圧力に耐えなければならない。これ
は、低圧放電ガスの導入前に、二枚の対面するタイル間
を真空引きする作業の間、バリアの単位面積当たりに作
用する力は、パネル全面積に対するバリア面積の割合に
依存し、１０６パスカル（１０ｋｇ/ｃｍ２）ほどの値
であるということである。現在の技術水準では、バリア
は密度のある材料からなり、通常はガラス状相（glassy
phase）であり、十分な破壊耐性があり、二枚のタイル
間の一定空間を維持する。上記バリアは、例えば、ガラ
スフリットを含有するペーストのスクリーン印刷により
（１０〜２０回の連続層）、又はガラスフリットを含有
する層をブラストすることにより製造される。バリアの
幾何学的形状を製造した後に、上記層は４５０℃から６
００℃の間の温度（通常、５５０℃）で加熱され、その
材料の密度を上げ、機械的に強度を向上させる。しかし
ながら、密度を上げた材料は、常に、全体で多孔性を示
し、この多孔性はパネルを真空に引いている間は容易に
は真空に引くことができず、数時間持続する（一般に
は、１５０℃から３５０℃で４から１５時間）。たと
え、この多孔性が低くても、たとえ、バリアの表面が完
全にガラスに変化しても、除気はプラズマパネルの寿命
である数千時間のうちの数時間以上生じる。ＰＰでのガ
ス相の汚染により、作動電圧に関して、発光効率に、又
は発光寿命において明らかにされる作業上の変動が生じ
る。上記欠点を解消させるために、トムソンプラズマの
名義による仏国特許出願第９８/１６０９３号では、実
質的に開放的多孔性を付与する材料からのバリアを製造
することを提案し、さらにその多孔性は比較的高いこと
が好ましい。この目的のため、出願人は、高い多孔性の
あるバリアが製造されれば、真空引き中に除去すること
が可能となり、実際に全ての分子を除気することが可能
であり、その後に除気をするパネルにリスクは殆ど存在
しないことになる。この技術的効果は、ＰＰの性能が影
響を受けずに、真空引き工程の持続時間が数時間から一
時間以内に、或いはたった３０分に減少し得るという点
で、顕著に現れる。
かしながら、仮に、バリアが支えられるようにされてい
れば、密度があり、硬い材料からなることが通常であ
る。上記支持バリアは、一方のタイルが他方のタイルに
作用するかなりの圧力に耐えなければならない。これ
は、低圧放電ガスの導入前に、二枚の対面するタイル間
を真空引きする作業の間、バリアの単位面積当たりに作
用する力は、パネル全面積に対するバリア面積の割合に
依存し、１０６パスカル（１０ｋｇ/ｃｍ２）ほどの値
であるということである。現在の技術水準では、バリア
は密度のある材料からなり、通常はガラス状相（glassy
phase）であり、十分な破壊耐性があり、二枚のタイル
間の一定空間を維持する。上記バリアは、例えば、ガラ
スフリットを含有するペーストのスクリーン印刷により
（１０〜２０回の連続層）、又はガラスフリットを含有
する層をブラストすることにより製造される。バリアの
幾何学的形状を製造した後に、上記層は４５０℃から６
００℃の間の温度（通常、５５０℃）で加熱され、その
材料の密度を上げ、機械的に強度を向上させる。しかし
ながら、密度を上げた材料は、常に、全体で多孔性を示
し、この多孔性はパネルを真空に引いている間は容易に
は真空に引くことができず、数時間持続する（一般に
は、１５０℃から３５０℃で４から１５時間）。たと
え、この多孔性が低くても、たとえ、バリアの表面が完
全にガラスに変化しても、除気はプラズマパネルの寿命
である数千時間のうちの数時間以上生じる。ＰＰでのガ
ス相の汚染により、作動電圧に関して、発光効率に、又
は発光寿命において明らかにされる作業上の変動が生じ
る。上記欠点を解消させるために、トムソンプラズマの
名義による仏国特許出願第９８/１６０９３号では、実
質的に開放的多孔性を付与する材料からのバリアを製造
することを提案し、さらにその多孔性は比較的高いこと
が好ましい。この目的のため、出願人は、高い多孔性の
あるバリアが製造されれば、真空引き中に除去すること
が可能となり、実際に全ての分子を除気することが可能
であり、その後に除気をするパネルにリスクは殆ど存在
しないことになる。この技術的効果は、ＰＰの性能が影
響を受けずに、真空引き工程の持続時間が数時間から一
時間以内に、或いはたった３０分に減少し得るという点
で、顕著に現れる。
【０００５】前述の特許出願第９８/１６０９３号に
て、バリアは通常の製造方法、例えば、スクリーン印
刷、ブラスティング（blasting）及び光リソグラフィー
を利用して製造される。よって、図１（Ａ）から図１
（Ｃ）に示すように、バリアはアドレス電極Ｘ１、Ｘ
２．．．Ｘ５．．．を有するタイル１に作られる。例え
ば、上記バリアは製造工程の最後に、４００μｍピッ
チ、１００μｍ幅で１８０μｍの高さを有し、プラズマ
パネルとしては、ＴＶ解像度（５６０ロウ、７００カラ
ム）のある１０６ｃｍの対角線に相当する動作領域を有
する。公知の方法で、誘電体２の厚い層と酸化マグネシ
ウム、つまりＭｇＯの薄い層は、従来の技術を利用して
アドレス電極で覆われたタイル１に堆積させる。
て、バリアは通常の製造方法、例えば、スクリーン印
刷、ブラスティング（blasting）及び光リソグラフィー
を利用して製造される。よって、図１（Ａ）から図１
（Ｃ）に示すように、バリアはアドレス電極Ｘ１、Ｘ
２．．．Ｘ５．．．を有するタイル１に作られる。例え
ば、上記バリアは製造工程の最後に、４００μｍピッ
チ、１００μｍ幅で１８０μｍの高さを有し、プラズマ
パネルとしては、ＴＶ解像度（５６０ロウ、７００カラ
ム）のある１０６ｃｍの対角線に相当する動作領域を有
する。公知の方法で、誘電体２の厚い層と酸化マグネシ
ウム、つまりＭｇＯの薄い層は、従来の技術を利用して
アドレス電極で覆われたタイル１に堆積させる。
【０００６】薄いＭｇＯ層３にスクリーン印刷により堆
積させたペースト層１０’の光リソグラフィーにより、
バリアが製造される。その層を構成したペーストの成分
は、以下のようである。
積させたペースト層１０’の光リソグラフィーにより、
バリアが製造される。その層を構成したペーストの成分
は、以下のようである。
【０００７】− 狭い粒子サイズ分布で、５ミクロンの
平均粒径を有するアルミナ粒子の形でのミネラルフィラ
ーと− アルミナ質量の１０％のレベルでの鉛ボロシリ
ケート又はビスマスボロシリケートと、ペースト体積の
５０％を構成するネガ型感光性樹脂とを含むガラス状相
とからなる。
平均粒径を有するアルミナ粒子の形でのミネラルフィラ
ーと− アルミナ質量の１０％のレベルでの鉛ボロシリ
ケート又はビスマスボロシリケートと、ペースト体積の
５０％を構成するネガ型感光性樹脂とを含むガラス状相
とからなる。
【０００８】ドクターブレード２０を利用して、ペース
ト１０’は、図１（Ａ）に説明するように、タイルの動
作領域のアスペクト比に対応する開口部を有するスクリ
ーン印刷マスク２１を介して、ＭｇＯ層３に一様に広げ
られる。ペースト１０’層は８０℃で乾燥させる。この
作業後，約２０μｍの厚さになる。
ト１０’は、図１（Ａ）に説明するように、タイルの動
作領域のアスペクト比に対応する開口部を有するスクリ
ーン印刷マスク２１を介して、ＭｇＯ層３に一様に広げ
られる。ペースト１０’層は８０℃で乾燥させる。この
作業後，約２０μｍの厚さになる。
【０００９】次に、光リソグラフィーマスク２２がペー
スト１０’層上に配置される。そのマスクは、ＭｇＯ層
３に被印刷バリアのパターンに対応する細長い開口部を
有する。マスクにより表に現れた層の部分は紫外線に露
光され、図１（Ｂ）に示すように、現像に対して抵抗を
有するようになる。
スト１０’層上に配置される。そのマスクは、ＭｇＯ層
３に被印刷バリアのパターンに対応する細長い開口部を
有する。マスクにより表に現れた層の部分は紫外線に露
光され、図１（Ｂ）に示すように、現像に対して抵抗を
有するようになる。
【００１０】続いて、前記したように露光された層１
０’は、利用した樹脂のタイプに応じて、水又は炭酸ナ
トリウムを添加した水中につけ、その後、表面はエアー
ナイフを利用して乾燥させる。
０’は、利用した樹脂のタイプに応じて、水又は炭酸ナ
トリウムを添加した水中につけ、その後、表面はエアー
ナイフを利用して乾燥させる。
【００１１】その後、図１（Ｃ）に示すように、約２０
μｍの基本的な高さを有するバリア材料１０’の第一の
層が得られる。
μｍの基本的な高さを有するバリア材料１０’の第一の
層が得られる。
【００１２】前述の工程は、バリアに必要な高さが得ら
れるまで、連続して繰り返される。スクリーン印刷によ
るペースト１０’のそれぞれの新しい堆積は、形成され
たバリアの頂部を含み、タイルの動作領域を完全に覆
う。上記工程の繰返し数に依存して、スクリーン印刷マ
スク２１の垂直位置、又はそのマスクの深さは、タイル
に存在する堆積層の変動に応じて、変更される。
れるまで、連続して繰り返される。スクリーン印刷によ
るペースト１０’のそれぞれの新しい堆積は、形成され
たバリアの頂部を含み、タイルの動作領域を完全に覆
う。上記工程の繰返し数に依存して、スクリーン印刷マ
スク２１の垂直位置、又はそのマスクの深さは、タイル
に存在する堆積層の変動に応じて、変更される。
【００１３】前述の特許出願第９８/１６０９３号にて
説明した方法には、必要な高さを有するバリアを製造す
ることができるようにするためには、数多の工程が必要
である。典型的には、その方法には３から５の堆積操作
が必要である。なぜならば、個々の厚さは約１５から３
０μｍという小さな値であるからである。１５０μｍの
高さを有するバリアを堆積させるために、したがって、
少なくとも５層が必要であり、途中に乾燥工程があり、
堆積構造を安定化させ、有機化合物を焼き払うために、
最終的に４００℃から５２０℃で２０から６０分間の加
熱が必要である。
説明した方法には、必要な高さを有するバリアを製造す
ることができるようにするためには、数多の工程が必要
である。典型的には、その方法には３から５の堆積操作
が必要である。なぜならば、個々の厚さは約１５から３
０μｍという小さな値であるからである。１５０μｍの
高さを有するバリアを堆積させるために、したがって、
少なくとも５層が必要であり、途中に乾燥工程があり、
堆積構造を安定化させ、有機化合物を焼き払うために、
最終的に４００℃から５２０℃で２０から６０分間の加
熱が必要である。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の点を鑑
みてなされたものであり、より簡単で、より迅速にバリ
アを製造する方法を提供することを目的とする。
みてなされたものであり、より簡単で、より迅速にバリ
アを製造する方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、お互いに
対面する二枚のタイルからなり、少なくとも一つのタイ
ルは多くの放電セルとそのセルを画成する支持バリアの
アレイを形成する働きのある電極アレイを有し、そのバ
リアは高くしかも開放的多孔性をバリアに付与する材料
からなり、プラズマ放電ガスを含むプラズマパネルの製
造方法であって、そのバリアは前記材料と有機樹脂とか
らなるペーストを利用して単一段階で形成されることを
特徴とする方法により達成される。
対面する二枚のタイルからなり、少なくとも一つのタイ
ルは多くの放電セルとそのセルを画成する支持バリアの
アレイを形成する働きのある電極アレイを有し、そのバ
リアは高くしかも開放的多孔性をバリアに付与する材料
からなり、プラズマ放電ガスを含むプラズマパネルの製
造方法であって、そのバリアは前記材料と有機樹脂とか
らなるペーストを利用して単一段階で形成されることを
特徴とする方法により達成される。
【００１６】二つの標準方法が単一段階で、つまり、そ
の方法を構成する成形タイプ又はその方法を構成する移
動タイプによる方法が、バリアを製造するために利用さ
れた。
の方法を構成する成形タイプ又はその方法を構成する移
動タイプによる方法が、バリアを製造するために利用さ
れた。
【００１７】製造方法を構成する成形タイプに関係する
実施の第一のモードによれば、前記製造方法は以下の段
階からなる： −バリアを受けるタイルにペーストの一様な層を堆積さ
せ、 −バリアのパターンを有するモールドを前記層に適用
し、 −堆積層に前記パターンの押圧により印刷する段階から
なる。
実施の第一のモードによれば、前記製造方法は以下の段
階からなる： −バリアを受けるタイルにペーストの一様な層を堆積さ
せ、 −バリアのパターンを有するモールドを前記層に適用
し、 −堆積層に前記パターンの押圧により印刷する段階から
なる。
【００１８】この場合、ペーストに含有される有機樹脂
は、６０℃から２００℃の間に軟化温度を有することが
好ましい熱可塑性樹脂である。
は、６０℃から２００℃の間に軟化温度を有することが
好ましい熱可塑性樹脂である。
【００１９】典型的には、上記有機樹脂には、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン及びポリビニルブ
チラールから選択された化合物を含む。加えて、その樹
脂はペーストの全質量の２５から７５％を含む。さら
に、この方法では、７０℃から１５０℃の間の温度で押
圧が実行される。
ルアルコール、ポリビニルピロリドン及びポリビニルブ
チラールから選択された化合物を含む。加えて、その樹
脂はペーストの全質量の２５から７５％を含む。さら
に、この方法では、７０℃から１５０℃の間の温度で押
圧が実行される。
【００２０】製造方法を構成する移動タイプに関係する
実施の別のモードによれば、その製造方法は以下の段階
からなる： −前記ペーストにより、バリアのパターンを有するモー
ルドを充填し、 −バリアを受けるタイルの表面に前記モールドを押圧
し、 −加熱によりペーストを接着させる段階からなる。
実施の別のモードによれば、その製造方法は以下の段階
からなる： −前記ペーストにより、バリアのパターンを有するモー
ルドを充填し、 −バリアを受けるタイルの表面に前記モールドを押圧
し、 −加熱によりペーストを接着させる段階からなる。
【００２１】この場合、ペーストに含有される有機樹脂
は、８０℃から１５０℃の間の軟化温度を有する硬化可
能な化合物からなり、ビニル又はセルロース化合物から
選択される。バリアを受けるタイルの表面にペースト材
料が接着するようにするために、上記表面は８０℃から
１５０℃の温度に加熱される。
は、８０℃から１５０℃の間の軟化温度を有する硬化可
能な化合物からなり、ビニル又はセルロース化合物から
選択される。バリアを受けるタイルの表面にペースト材
料が接着するようにするために、上記表面は８０℃から
１５０℃の温度に加熱される。
【００２２】高くしかも開放的多孔性を有するバリアの
材料は、実施の両モードにて同一である。さらに、前述
の特許出願第９８/１６０９３号に開示された材料と同
一である。通常、上記材料には、１から２０μｍの平均
基本粒径を有するパウダーの形であるミネラルフィラー
を含む。そのミネラルフィラーは、アルミナとシリカか
ら選択された酸化物であることが好ましい。
材料は、実施の両モードにて同一である。さらに、前述
の特許出願第９８/１６０９３号に開示された材料と同
一である。通常、上記材料には、１から２０μｍの平均
基本粒径を有するパウダーの形であるミネラルフィラー
を含む。そのミネラルフィラーは、アルミナとシリカか
ら選択された酸化物であることが好ましい。
【００２３】任意には、バリアの材料には、ミネラルフ
ィラーの質量の１０％と同等若しくはその１０％以下の
量の硬化剤が含まれる。この硬化剤はガラス状相であ
り、ガラスの場合、処理温度以下の軟化温度である。こ
のガラス状相は鉛ボロシリケート、ビスマスシリケート
や、鉛スルフェート、鉛ホスフェート、亜鉛ホスフェー
ト、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ム、ケイ酸鉛のような化合物から選択され、上記化合物
は処理温度で化学結合を形成させることができる。
ィラーの質量の１０％と同等若しくはその１０％以下の
量の硬化剤が含まれる。この硬化剤はガラス状相であ
り、ガラスの場合、処理温度以下の軟化温度である。こ
のガラス状相は鉛ボロシリケート、ビスマスシリケート
や、鉛スルフェート、鉛ホスフェート、亜鉛ホスフェー
ト、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ム、ケイ酸鉛のような化合物から選択され、上記化合物
は処理温度で化学結合を形成させることができる。
【００２４】本発明の別の特徴によれば、バリア形成
後、スクリーン印刷又は光リソグラフィー方法のような
従来の堆積方法を利用して、蛍光物質をバリア間に堆積
させる。
後、スクリーン印刷又は光リソグラフィー方法のような
従来の堆積方法を利用して、蛍光物質をバリア間に堆積
させる。
【００２５】蛍光物質を一旦堆積させると、その後、バ
リアを有するタイルは４００℃から５００℃、好ましく
は４００℃から４５０℃の温度で最終的に加熱され、ガ
ラスからなるタイルは変形しない。これは、ガラスの寸
法安定性が４６０℃以上で維持することが難しいという
ことである。
リアを有するタイルは４００℃から５００℃、好ましく
は４００℃から４５０℃の温度で最終的に加熱され、ガ
ラスからなるタイルは変形しない。これは、ガラスの寸
法安定性が４６０℃以上で維持することが難しいという
ことである。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の特徴及び利点
は、下記の添付図を引用した説明とともに、各実施モー
ドを詳細に説明することにより、明らかとなる。
は、下記の添付図を引用した説明とともに、各実施モー
ドを詳細に説明することにより、明らかとなる。
【００２７】図面の説明を簡潔にするために、同じ要素
は同じ参照番号を有するものとする。 図２（Ａ）から
図２（Ｄ）及び図３（Ａ）から図３（Ｃ）を参照して、
二つの特定方法を説明し、単一製造段階で、高くしかも
開放的多孔性を有するバリアが製造可能となる。
は同じ参照番号を有するものとする。 図２（Ａ）から
図２（Ｄ）及び図３（Ａ）から図３（Ｃ）を参照して、
二つの特定方法を説明し、単一製造段階で、高くしかも
開放的多孔性を有するバリアが製造可能となる。
【００２８】実施のための両モードでは、フィラー及び
樹脂を含有するペーストが利用され、そのフィラーは実
施のモードがどのモードであろうとも同じタイプであ
る。フィラーは仏国特許出願第９８/１６０９３号に記
載された材料からなる。好ましくは、上記フィラーはパ
ウダーの形のミネラルフィラーであり、１から２０μｍ
の範囲内にあることが好ましい、つまり５から８μｍの
平均基本粒径を有する。これは、約５から８μｍの間に
ある狭い粒子サイズ分布が特に適し、良好な塗布密着性
を付与するということである。粒子サイズ分布の上記選
択から生じるバリアは、さらなる要素を添加することな
しに、７ｘ１０５パスカル（約７ｋｇ/ｃｍ２）までの
範囲を圧力に耐え得ることができ、最大の多孔性を有す
る。そのフィラーはアルミナ又はシリカのような酸化物
からなることが好ましい。ミネラルフィラーの質量の１
０％と同量の、若しくはそれ以下の硬化剤を含ませても
差し支えない。上記硬化剤は、鉛ボロシリケート又はビ
スマスボロシリケートのようなガラス状相から、或いは
鉛スルフェート、鉛ホスフェート、亜鉛ホスフェート、
ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム又はケイ酸リチウム
のような化合物から選択され、上記化合物は処理温度で
化学結合を形成することが可能である。例に示したよう
に、以下の実施のモードに利用されるフィラーは、５μ
ｍの平均粒径を有するアルミナと、アルミナの質量の１
０％量の鉛シリケートのような硬化剤と組合わせて利用
される。本発明の両実施モードでは、フィラーはペース
トを構成する樹脂と組合わせ、図１（Ａ）から図１
（Ｃ）にて説明した実施モードを参照して言及したよう
に、ＭｇＯ層に堆積させる。利用した製造方法に応じ
て、樹脂は６０℃から２００℃の間の軟化温度を有する
熱可塑性タイプの樹脂である。この熱可塑性タイプの樹
脂には、ポリビニルアルコール若しくはポリビニルピロ
リドン又はポリビニルブチラールのようなタイプの化合
物が含まれる。上記化合物はペーストの全質量の２５か
ら７０％を構成する。別の製造方法では、樹脂は８０℃
から１５０℃の間の軟化温度を有する硬化可能な化合物
を含む。上記樹脂はビニル又はセルロース化合物から選
択される。化合物のタイプにより基板への良好な接着が
可能となる。
樹脂を含有するペーストが利用され、そのフィラーは実
施のモードがどのモードであろうとも同じタイプであ
る。フィラーは仏国特許出願第９８/１６０９３号に記
載された材料からなる。好ましくは、上記フィラーはパ
ウダーの形のミネラルフィラーであり、１から２０μｍ
の範囲内にあることが好ましい、つまり５から８μｍの
平均基本粒径を有する。これは、約５から８μｍの間に
ある狭い粒子サイズ分布が特に適し、良好な塗布密着性
を付与するということである。粒子サイズ分布の上記選
択から生じるバリアは、さらなる要素を添加することな
しに、７ｘ１０５パスカル（約７ｋｇ/ｃｍ２）までの
範囲を圧力に耐え得ることができ、最大の多孔性を有す
る。そのフィラーはアルミナ又はシリカのような酸化物
からなることが好ましい。ミネラルフィラーの質量の１
０％と同量の、若しくはそれ以下の硬化剤を含ませても
差し支えない。上記硬化剤は、鉛ボロシリケート又はビ
スマスボロシリケートのようなガラス状相から、或いは
鉛スルフェート、鉛ホスフェート、亜鉛ホスフェート、
ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム又はケイ酸リチウム
のような化合物から選択され、上記化合物は処理温度で
化学結合を形成することが可能である。例に示したよう
に、以下の実施のモードに利用されるフィラーは、５μ
ｍの平均粒径を有するアルミナと、アルミナの質量の１
０％量の鉛シリケートのような硬化剤と組合わせて利用
される。本発明の両実施モードでは、フィラーはペース
トを構成する樹脂と組合わせ、図１（Ａ）から図１
（Ｃ）にて説明した実施モードを参照して言及したよう
に、ＭｇＯ層に堆積させる。利用した製造方法に応じ
て、樹脂は６０℃から２００℃の間の軟化温度を有する
熱可塑性タイプの樹脂である。この熱可塑性タイプの樹
脂には、ポリビニルアルコール若しくはポリビニルピロ
リドン又はポリビニルブチラールのようなタイプの化合
物が含まれる。上記化合物はペーストの全質量の２５か
ら７０％を構成する。別の製造方法では、樹脂は８０℃
から１５０℃の間の軟化温度を有する硬化可能な化合物
を含む。上記樹脂はビニル又はセルロース化合物から選
択される。化合物のタイプにより基板への良好な接着が
可能となる。
【００２９】バリアのある実施態様では、そのバリアは
成形方法を利用して製造され、具体的には図２（Ａ）か
ら図２（Ｄ）にて説明する。図２（Ａ）に示すように、
動作は、予めアドレス電極アレイＸ１、Ｘ２、．．．、
Ｘ５、．．．、Ｘ７を備えたガラスタイル１にて開始
し、上記アレイは、従来の技術を利用して、厚い誘電体
層２と酸化マグネシウム、つまりＭｇＯの薄い層３が塗
布されている。本実施例にて、バリアは前述したペース
ト層を成形させることにより製造される。よって、本発
明によれば、ペースト層３０’は、薄いＭｇＯ層３上に
スクリーン印刷することにより堆積される。この場合、
ペーストの成分は、平均基本粒径５μｍを有し、狭い粒
子サイズ分布のあるアルミナ粒子の形でのミネラルフィ
ラーと、この場合、アルミナ質量の１０％に達する鉛ボ
ロシリケートと熱可塑性樹脂、具体的には水に溶解させ
たポリビニルアルコールとを含む。
成形方法を利用して製造され、具体的には図２（Ａ）か
ら図２（Ｄ）にて説明する。図２（Ａ）に示すように、
動作は、予めアドレス電極アレイＸ１、Ｘ２、．．．、
Ｘ５、．．．、Ｘ７を備えたガラスタイル１にて開始
し、上記アレイは、従来の技術を利用して、厚い誘電体
層２と酸化マグネシウム、つまりＭｇＯの薄い層３が塗
布されている。本実施例にて、バリアは前述したペース
ト層を成形させることにより製造される。よって、本発
明によれば、ペースト層３０’は、薄いＭｇＯ層３上に
スクリーン印刷することにより堆積される。この場合、
ペーストの成分は、平均基本粒径５μｍを有し、狭い粒
子サイズ分布のあるアルミナ粒子の形でのミネラルフィ
ラーと、この場合、アルミナ質量の１０％に達する鉛ボ
ロシリケートと熱可塑性樹脂、具体的には水に溶解させ
たポリビニルアルコールとを含む。
【００３０】図２（Ａ）に示すように、ドクターブレー
ド２０を利用して、ペースト３０’をスクリーン印刷用
マスク２１を介して、層３上に一様に塗布した。そのス
クリーン印刷用マスク２１はタイルの動作領域のアスペ
クト比に対応する開口部を有している。ペーストを一旦
乾燥させると、約３０μｍの厚さになり、その厚さは被
形成バリアの体積により決定される。
ド２０を利用して、ペースト３０’をスクリーン印刷用
マスク２１を介して、層３上に一様に塗布した。そのス
クリーン印刷用マスク２１はタイルの動作領域のアスペ
クト比に対応する開口部を有している。ペーストを一旦
乾燥させると、約３０μｍの厚さになり、その厚さは被
形成バリアの体積により決定される。
【００３１】図２（Ｂ）に示すように、好ましくは、商
標登録名「テフロン」として周知であるタイプのフッ素
含有化合物のような非粘着性層を備えた金属モールド４
０が、バリアを製造するために利用される。このモール
ド４０は被形成バリアのパターンを表わす突起４１を具
備している。
標登録名「テフロン」として周知であるタイプのフッ素
含有化合物のような非粘着性層を備えた金属モールド４
０が、バリアを製造するために利用される。このモール
ド４０は被形成バリアのパターンを表わす突起４１を具
備している。
【００３２】本発明と図２（Ｃ）に示したように、約９
０℃の温度に加熱させたそのモールドは、スクリーン印
刷された層３０’を有する基板に対して押圧される。そ
の基板自体も９０℃の温度に加熱される。被形成層を有
するタイル若しくはモールド、又は双方の要素を加熱す
ることにより同じ結果を得られることは、当業者には明
白なことである。前記加熱は７０℃から１５０℃の間の
温度で実行される。バリア３０が形成された後、そのモ
ールドは除去され、蛍光物質５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂが
当業者には公知な方法により堆積される。
０℃の温度に加熱させたそのモールドは、スクリーン印
刷された層３０’を有する基板に対して押圧される。そ
の基板自体も９０℃の温度に加熱される。被形成層を有
するタイル若しくはモールド、又は双方の要素を加熱す
ることにより同じ結果を得られることは、当業者には明
白なことである。前記加熱は７０℃から１５０℃の間の
温度で実行される。バリア３０が形成された後、そのモ
ールドは除去され、蛍光物質５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂが
当業者には公知な方法により堆積される。
【００３３】したがって、各蛍光物質では、体積比１：
１の蛍光フィラーと感光性樹脂とからなるペーストが調
製される。このペーストは、スクリーン印刷によりタイ
ルの動作表面上に一様に堆積され、バリアを包み込むの
に十分な厚さの層を形成する。光リソグラフィマスクは
蛍光物質ストライプにより覆われべき領域に相当するカ
ットアウトパターンを有する。全ての蛍光物質ストライ
プが堆積されると、その集合体は有機化合物を焼き払う
ために、４２０℃で１時間加熱される。したがって、本
実施モードでは、バリアのパターンは単一段階で得られ
る。さらに、利用した樹脂のタイプに応じて、単一の最
終加熱はバリア及び蛍光物質に対して、４００℃から４
５０℃の間の温度で行われ、４５０℃以上で発生するガ
ラスの寸法変動を未然に回避することが可能となる。
１の蛍光フィラーと感光性樹脂とからなるペーストが調
製される。このペーストは、スクリーン印刷によりタイ
ルの動作表面上に一様に堆積され、バリアを包み込むの
に十分な厚さの層を形成する。光リソグラフィマスクは
蛍光物質ストライプにより覆われべき領域に相当するカ
ットアウトパターンを有する。全ての蛍光物質ストライ
プが堆積されると、その集合体は有機化合物を焼き払う
ために、４２０℃で１時間加熱される。したがって、本
実施モードでは、バリアのパターンは単一段階で得られ
る。さらに、利用した樹脂のタイプに応じて、単一の最
終加熱はバリア及び蛍光物質に対して、４００℃から４
５０℃の間の温度で行われ、４５０℃以上で発生するガ
ラスの寸法変動を未然に回避することが可能となる。
【００３４】移動タイプ方法を利用して製造されたバリ
アの実施例は、図３（Ａ）から図３（Ｃ）を参照して説
明される。図３（Ａ）に示すように、基板は、誘電材料
２の厚い層で覆われた電極アレイＸ１、Ｘ２、．．．、
Ｘ７を備えたタイル１からなり、その誘電材料２は薄い
ＭｇＯ層３により覆われている。移動タイプ方法の場
合、形成されるべきユニット６０’を有するモールド６
０が利用される。このモールドは前述したフィラーを含
み、この場合ビニル又はセルロース化合物から選択され
た硬化可能な化合物からなる有機樹脂とを組合わせたペ
ースト７０’で充填される。ペースト材料が基板に接着
するようにさせるために、硬化可能な化合物は８０℃か
ら１５０℃の間の軟化温度を有する。
アの実施例は、図３（Ａ）から図３（Ｃ）を参照して説
明される。図３（Ａ）に示すように、基板は、誘電材料
２の厚い層で覆われた電極アレイＸ１、Ｘ２、．．．、
Ｘ７を備えたタイル１からなり、その誘電材料２は薄い
ＭｇＯ層３により覆われている。移動タイプ方法の場
合、形成されるべきユニット６０’を有するモールド６
０が利用される。このモールドは前述したフィラーを含
み、この場合ビニル又はセルロース化合物から選択され
た硬化可能な化合物からなる有機樹脂とを組合わせたペ
ースト７０’で充填される。ペースト材料が基板に接着
するようにさせるために、硬化可能な化合物は８０℃か
ら１５０℃の間の軟化温度を有する。
【００３５】図３（Ｂ）に示すように、ペースト７０’
を用意したモールドは基板の頂部表面に、つまり、Ｍｇ
Ｏ層３の表面に供給される。そのペーストを基板に接着
するようにするために、ＭｇＯ層は８０℃から１５０℃
の間の温度へ加熱させる。このようにして、図３（Ｃ）
に示すように、樹脂を硬化させてＭｇＯ層３に接着さ
せ、バリア７０を形成する。
を用意したモールドは基板の頂部表面に、つまり、Ｍｇ
Ｏ層３の表面に供給される。そのペーストを基板に接着
するようにするために、ＭｇＯ層は８０℃から１５０℃
の間の温度へ加熱させる。このようにして、図３（Ｃ）
に示すように、樹脂を硬化させてＭｇＯ層３に接着さ
せ、バリア７０を形成する。
【００３６】その後、蛍光物質は、図２（Ｄ）を参照し
て説明したのと同じ方法で堆積させる。蛍光物質が一旦
堆積すると、その集合体は、ガラス基板を変形させない
ように、４００℃から５００℃、好ましくは４００℃か
ら４５０℃の温度で最終加熱が行われる。硬化可能な化
合物は、結果として、４００℃から４５０°の間で完全
に分解する化合物である。
て説明したのと同じ方法で堆積させる。蛍光物質が一旦
堆積すると、その集合体は、ガラス基板を変形させない
ように、４００℃から５００℃、好ましくは４００℃か
ら４５０℃の温度で最終加熱が行われる。硬化可能な化
合物は、結果として、４００℃から４５０°の間で完全
に分解する化合物である。
【００３７】低加熱温度による単一段階でのバリアの製
造にて、その段階は蛍光物質の堆積後に実行され、その
製造は上記バリア製造技術により得られる。
造にて、その段階は蛍光物質の堆積後に実行され、その
製造は上記バリア製造技術により得られる。
【００３８】前述した方法は多くの他の利点を有してい
る。特に、前記方法ではブラスティングによる製造の場
合に観測された汚染残留物が発生しない。さらに、パネ
ルのポンピングは、バリアの高い多孔性のため、かなり
容易となる。加えて、利用された材料は従来の材料より
もあまり高価でなく、平面性に対する制約は、密度のあ
るバリアの場合よりも厳しくはない。なぜなら、バリア
の局部的な厚さは、ポンピングサイクル中のプラズマパ
ネルにて真空が生じる際に、材料の局部的に密にすると
こにより、バリアの平均的高さに減少させるからであ
る。
る。特に、前記方法ではブラスティングによる製造の場
合に観測された汚染残留物が発生しない。さらに、パネ
ルのポンピングは、バリアの高い多孔性のため、かなり
容易となる。加えて、利用された材料は従来の材料より
もあまり高価でなく、平面性に対する制約は、密度のあ
るバリアの場合よりも厳しくはない。なぜなら、バリア
の局部的な厚さは、ポンピングサイクル中のプラズマパ
ネルにて真空が生じる際に、材料の局部的に密にすると
こにより、バリアの平均的高さに減少させるからであ
る。
【００３９】成形又は移動方法は他のタイプのモールド
とともに利用でき、特に成形は円筒形タイプのモールド
を利用して実行でき、移動方法はローラを利用して実行
できることは、当業者には明白であろう。
とともに利用でき、特に成形は円筒形タイプのモールド
を利用して実行でき、移動方法はローラを利用して実行
できることは、当業者には明白であろう。
【図１】図１（Ａ）から図１（Ｃ）は、先行技術の方法
での主要な段階を説明する図である。
での主要な段階を説明する図である。
【図２】図２（Ａ）から図２（Ｄ）は、本発明による成
形タイプ方法での主要段階を説明する図である。
形タイプ方法での主要段階を説明する図である。
【図３】図３（Ａ）から図３（Ｃ）は、本発明による移
動タイプ方法での主要段階を説明する図である。
動タイプ方法での主要段階を説明する図である。
１ タイル ２ 誘電体層 ３ 酸化マグネシウム層 ２０ ドクターブレード ２１ スクリーン印刷用マスク ３０ バリア ３０’ ペースト層 ４０ 金属モールド ４１ 突起 ５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ 蛍光物質 ６０ モールド ７０ バリア ７０’ ペースト
Claims (17)
- 【請求項１】 互いに対面する二枚のタイルを具備し、
少なくとも一つのタイルは多くの放電セルと前記セルを
画成する支持バリアのアレイとを形成する働きのある電
極アレイを有し、前記バリアはそのバリアに高くしかも
開放的多孔性を付与する材料からなり、プラズマ放電ガ
スを含むプラズマパネルの製造方法であって、前記バリ
アは前記材料と有機樹脂とを含むペーストを利用して、
単一段階で形成されることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記方法は、 − 前記バリアを受けるタイルにペーストの一様な層を
堆積させ、 − バリアのパターンを有するモールドを前記層に供給
し、 − 堆積させた層に前記パターンを押圧することにより
印刷する段階からなることを特徴とする請求項１記載の
方法。 - 【請求項３】 前記ペーストに含有される前記有機樹脂
は熱可塑性樹脂であることを特徴とする請求項２記載の
方法。 - 【請求項４】 前記熱可塑性樹脂は６０℃から２００℃
の間の軟化温度を有することを特徴とする請求項３記載
の方法。 - 【請求項５】 前記有機樹脂はポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン及びポリビニルブチラールから選
択された化合物を含むことを特徴とする請求項３又は４
記載の方法。 - 【請求項６】 前記有機樹脂は前記ペーストの全質量の
２５から７５％含まれることを特徴とする請求項２乃至
５のうち何れか１項記載の方法。 - 【請求項７】 前記押圧は７０℃から１５０℃の間の温
度で実行されることを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項８】 前記方法は、 − 前記ペーストでバリアのパターンを有するモールド
に充填し、 − バリアを受けるタイルの表面に前記モールドを押圧
し、 − 加熱することにより前記ペーストを接着させる段階
からなることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項９】 前記ペーストに含有される前記有機樹脂
は硬化可能な化合物を含むことを特徴とする請求項８記
載の方法。 - 【請求項１０】 前記硬化可能な化合物はビニル又はセ
ルロース化合物から選択されることを特徴とする請求項
９記載の方法。 - 【請求項１１】 バリアを受ける表面は前記ペーストを
接着させるために、８０℃から１５０℃の間の温度に加
熱することを特徴とする請求項８乃至１０の何れか１項
記載の方法。 - 【請求項１２】 前記バリアの材料は１から２０μｍの
間の平均基本粒径を有するパウダーの形のミネラルフィ
ラーを含むことを特徴とする請求項１乃至１１のうち何
れか１項記載の方法。 - 【請求項１３】 前記ミネラルフィラーはアルミナ及び
シリカから選択された酸化物であることを特徴とする請
求項１２記載の方法。 - 【請求項１４】 前記バリアの材料は前記ミネラルフィ
ラーの質量の１０％と同量若しくはその１０％以下の量
の硬化剤を含むことを特徴とする請求項１乃至１３のう
ち何れか１項記載の方法。 - 【請求項１５】 前記硬化剤は鉛ボロシリケート又はビ
スマスボロシリケートのようなガラス状相、若しくは鉛
シリケート、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ
酸カリウム、鉛ホスフェート、亜鉛ホスフェートのよう
な化合物であり、前記方法の残部に関係する加熱処理の
温度で化学結合を形成することが可能であることを特徴
とする請求項１４記載の方法。 - 【請求項１６】 バリア形成後、従来の堆積方法を利用
して、蛍光物質をバリア間に堆積させることを特徴とす
る請求項１乃至１５のうち何れか１項記載の方法。 - 【請求項１７】 前記バリアを有するタイルは４００℃
から５５０℃の間、好ましくは４００℃から４５０℃の
間の温度で最終加熱させることを特徴とする請求項１乃
至１６のうち何れか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9904704 | 1999-04-15 | ||
| FR9904704A FR2792454B1 (fr) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Procede de fabrication d'un panneau a plasma |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000323028A true JP2000323028A (ja) | 2000-11-24 |
| JP2000323028A5 JP2000323028A5 (ja) | 2007-05-17 |
| JP4693204B2 JP4693204B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=9544417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000110836A Expired - Fee Related JP4693204B2 (ja) | 1999-04-15 | 2000-04-12 | プラズマパネルの製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6527606B1 (ja) |
| EP (2) | EP1045420B1 (ja) |
| JP (1) | JP4693204B2 (ja) |
| KR (1) | KR100787619B1 (ja) |
| CN (1) | CN100349195C (ja) |
| DE (1) | DE60034624T2 (ja) |
| FR (1) | FR2792454B1 (ja) |
| TW (1) | TW475193B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100400370B1 (ko) * | 2001-04-02 | 2003-10-08 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 |
| JP2007523442A (ja) * | 2003-05-27 | 2007-08-16 | トムソン プラズマ エス アー エス | セメント分割隔壁を含むプラズマパネル |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6544090B1 (en) * | 2000-06-16 | 2003-04-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for forming barrier structures on a substrate and the resulting article |
| US7176492B2 (en) * | 2001-10-09 | 2007-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold and articles formed by the method |
| US7033534B2 (en) * | 2001-10-09 | 2006-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Method for forming microstructures on a substrate using a mold |
| JP4288475B2 (ja) * | 2003-06-12 | 2009-07-01 | セイコーエプソン株式会社 | ディスプレイ装置の製造方法と製造装置 |
| KR100612382B1 (ko) | 2003-11-29 | 2006-08-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
| JP2008511124A (ja) * | 2004-08-26 | 2008-04-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | テンプレートで微細構造を形成する方法 |
| US20060043638A1 (en) * | 2004-08-26 | 2006-03-02 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming microstructures with multiple discrete molds |
| WO2006026142A1 (en) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming microstructures with a discrete mold provided on a roller |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS517872A (ja) * | 1974-05-21 | 1976-01-22 | Nippon Electric Co | |
| JPH04109536A (ja) * | 1990-08-29 | 1992-04-10 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマデイスプレイの製造方法 |
| JPH0547303A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-02-26 | Nec Corp | プラズマデイスプレイパネルの製造方法 |
| JPH10188793A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-07-21 | Hitachi Ltd | ガス放電型表示パネル、ガス放電型表示パネルの製造方法およびガス放電型表示パネルを用いた表示装置 |
| JPH10321147A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0745200A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-14 | Noritake Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| JP3684603B2 (ja) * | 1995-01-26 | 2005-08-17 | 松下電器産業株式会社 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP3472413B2 (ja) | 1996-06-28 | 2003-12-02 | 京セラ株式会社 | プラズマ表示装置用基板とこれを用いたプラズマ表示装置 |
| US5853446A (en) * | 1996-04-16 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Method for forming glass rib structures |
| KR19980040884A (ko) * | 1996-11-30 | 1998-08-17 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 격벽형성방법 |
| US6149482A (en) * | 1997-04-30 | 2000-11-21 | Kyocera Corporatin | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
| JP2958298B2 (ja) * | 1997-05-22 | 1999-10-06 | 三星電管株式會社 | プラズマ表示素子の隔壁製造方法及びその製造装置 |
| JPH10340668A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-22 | Fujitsu Ltd | 表示パネルの隔壁形成装置 |
| JP3909725B2 (ja) * | 1997-08-05 | 2007-04-25 | 株式会社タイカ | ディスプレイパネル用基板の製造方法 |
| US6247986B1 (en) * | 1998-12-23 | 2001-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold |
-
1999
- 1999-04-15 FR FR9904704A patent/FR2792454B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2000
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- 2000-02-23 DE DE60034624T patent/DE60034624T2/de not_active Expired - Lifetime
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- 2000-04-03 KR KR1020000017383A patent/KR100787619B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-04-12 JP JP2000110836A patent/JP4693204B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-04-13 US US09/550,275 patent/US6527606B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS517872A (ja) * | 1974-05-21 | 1976-01-22 | Nippon Electric Co | |
| JPH04109536A (ja) * | 1990-08-29 | 1992-04-10 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマデイスプレイの製造方法 |
| JPH0547303A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-02-26 | Nec Corp | プラズマデイスプレイパネルの製造方法 |
| JPH10188793A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-07-21 | Hitachi Ltd | ガス放電型表示パネル、ガス放電型表示パネルの製造方法およびガス放電型表示パネルを用いた表示装置 |
| JPH10321147A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100400370B1 (ko) * | 2001-04-02 | 2003-10-08 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 |
| JP2007523442A (ja) * | 2003-05-27 | 2007-08-16 | トムソン プラズマ エス アー エス | セメント分割隔壁を含むプラズマパネル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP1045420B1 (en) | 2007-05-02 |
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